JP2014136008A - インプラント - Google Patents

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志穂 伊藤
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Abstract

【課題】骨固定性や骨結合性の低下を防止するインプラントを提供する。
【解決手段】インプラントはマグネシウム材またはマグネシウム合金材からなる母材のほぼ全表面に陽極酸化皮膜を有するとともに、荷重が加わることとなる座面4a以外の外周面4cの一部に陽極酸化皮膜の形成されていない非陽極酸化領域3を備える。
【選択図】図2

Description

本発明は、インプラントに関するものである。
従来、マグネシウム合金材製の製品の耐食性を改善するために、製品の表面に陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理が行われている。
そして、インプラントの表面にマスキングを施して、酸化皮膜が形成される部分と形成されない部分とを設けることで、インプラントの固定性を高める技術が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
特開2011−36692号公報
しかしながら、陽極酸化処理を施す場合に、被処理材と電極との接点位置には陽極酸化皮膜が形成されないという不都合がある。そして、インプラントの母材としてマグネシウム材あるいはマグネシウム合金材を使用する場合に、陽極酸化皮膜が形成されない部分が存在すると、その部分からマグネシウム材あるいはマグネシウム合金材からなる母材が分解されて水素が発生し、発生した水素によって骨組織が排除される結果、骨固定力が低下してしまうという不都合がある。
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであって、骨固定力の低下を抑制することができるインプラントを提供することを目的としている。
上記目的を達成するために、本発明は以下の手段を提供する。
本発明の一態様は、マグネシウム材またはマグネシウム合金材からなる母材のほぼ全表面に陽極酸化皮膜を有するとともに、荷重が加わることとなる表面以外の表面の一部に陽極酸化皮膜の形成されていない非陽極酸化領域を備えるインプラントを提供する。
本態様によれば、荷重が加わることとなる表面が陽極酸化皮膜によって覆われているので、インプラントを患者の骨組織に接触状態に固定しても、母材のマグネシウム材またはマグネシウム合金材と骨組織との直接的な接触が回避され、水素の発生を抑制して、骨固定力の低下を抑制することができる。荷重が加わることとなる表面以外の表面の一部に形成された非陽極酸化領域においてインプラントへの通電のための導電部材に接触させることができ、安定した陽極酸化処理を行って、陽極酸化皮膜によるインプラントの耐食性を向上することができる。
上記態様においては、頭部およびネジ部を有するスクリュからなり、前記頭部の座面およびネジ部以外の他の領域に、1以上の前記非陽極酸化領域を備えていてもよい。
このようにすることで、一の骨組織に形成された貫通孔を通過して、他の骨組織に形成されたネジ孔にネジ部を締結し、頭部の座面によって一の骨組織の表面を押すことにより、2以上の骨組織を密着させることができる。この場合に、骨組織に接触する頭部の座面およびネジ部以外の他の領域に非陽極酸化領域を設けることで、母材のマグネシウム材またはマグネシウム合金材と骨組織との直接的な接触が回避され、水素の発生を防止して、骨固定力の低下を抑制することができる。
また、上記態様においては、前記スクリュは前記頭部と前記ネジ部との間に円筒部を備え、前記円筒部に1以上の前記非陽極酸化領域を備えていてもよい。
このようにすることで、母材のマグネシウム材またはマグネシウム合金材と骨組織との直接的な接触が回避され、水素の発生を防止して、骨固定力の低下を抑制しつつ、2以上の骨組織を密着させることができる。
また、上記態様においては、前記頭部に、頂面および該頂面に形成された工具用凹部を備え、前記頂面および前記工具用凹部のいずれかに、1以上の前記非陽極酸化領域を備えていてもよい。
このようにすることで、母材のマグネシウム材またはマグネシウム合金材と骨組織との直接的な接触が回避され、水素の発生を防止して、骨固定力の低下を抑制しつつ、2以上の骨組織を密着させることができる。
また、上記態様においては、長手軸を挟んで対向する位置に前記非陽極酸化領域を備えていてもよい。
このようにすることで、陽極酸化処理の際に、インプラントへの通電のための導電部材によってインプラントを挟むようにして、導電部材をインプラントに接触させて支持することができ、安定した陽極酸化処理を行って、陽極酸化皮膜によるインプラントの耐食性を向上することができる。
また、上記態様においては、骨組織の表面に密着させられる密着面を有するプレートからなり、前記密着面以外の領域に1以上の前記非陽極酸化領域を備えていてもよい。
また、上記態様においては、厚さ方向に延びる端面に前記非陽極酸化領域を備えていてもよい。
また、上記態様においては、長手軸方向に対向する位置、または長手方向に交差する方向に対向する位置に前記非陽極酸化領域を備えていてもよい。
また、上記態様においては、先端および基端を有するピンからなり、前記先端および前記基端の少なくとも1カ所に、前記非陽極酸化領域を備えていてもよい。
本発明によれば、骨固定力の低下を抑制することができるという効果を奏する。
本発明の一実施形態に係るインプラントを示す側面図である。 図1のインプラントによって骨組織を固定する場合を示す縦断面図である。 図1のインプラントにおける非陽極酸化領域の位置を示す図であり、(a)頭部の外周面に1箇所設けた場合を示す斜視図、(b)すりわりの内側面に設けた場合を示す斜視図、(c)頭部の頂面に設けた場合を示す斜視図、(d)すりわりの底面に設けた場合を示す斜視図、(e)円筒部に1箇所設けた場合を示す側面図、(f),(g)頭部の外周面に直径方向に対向する2箇所に設けた場合を示す側面図、(h),(i)非陽極酸化領域を円筒部の位置で、直径方向に対向する2箇所に設けた場合を示す側面図、(j)頭部の外周面および円筒部の位置で、直径方向に対向する2箇所の合計3箇所に設けた場合を示す側面図、(k)頭部4の外周面4cの直径方向に対向する2箇所に凹部を設け、該凹部内面に非陽極酸化領域を設けた場合を示す側面図である。 図1のインプラントの変形例を示す(a)プレートを長手方向に挟む両端の外周面に非陽極酸化領域を設けた例を示す斜視図、(b),(c)プレートを幅方向に挟む両端の外周面に非陽極酸化領域を設けた例を示す斜視図である。
本発明の一実施形態に係るインプラント1について、図面を参照して以下に説明する。
本実施形態に係るインプラント1は、図1に示されるように、すりわり付き平頭のスクリュであって、マグネシウム材またはマグネシウム合金材からなる母材の表面に陽極酸化皮膜の形成されている陽極酸化領域2と、陽極酸化皮膜の形成されていない非陽極酸化領域3とを備えている。
非陽極酸化領域3は、図1に鎖線Aで示すように、座面4aを除く頭部4の全表面、すなわち、頭部4の頂面4b、外周面4cおよびすりわりの内面4dのいずれかの位置に部分的に設けられている。例えば、非陽極酸化領域3は、直径1mm程度の円形あるいは1辺が1mm程度の矩形でよい。図1には、頭部4の外周面4cに設けた例を示す。
一方、陽極酸化領域2は、図1に破線で示すように、非陽極酸化領域3以外の全領域、すなわち、頭部4の座面4aおよび軸部5の全表面である。
軸部5には、先端部から所定長さにわたって部分的に雄ねじ5aが設けられている。
雄ねじ5aの形態は、皮質骨に係合されるようにデザインされたコーティカルスクリュでも、海綿骨に係合されるようにデザインされたキャンセラススクリュでもよい。
また、軸部5の全長にわたって雄ねじ5aが形成されていてもよい。
このように構成された本実施形態に係るインプラント1を用いて骨組織X,Yを固定するには、図2に示されるように、相互に密着させた状態に固定したい2つの骨組織X,Yの一方の骨組織Xに貫通孔Bを設け、他方の骨組織Yにネジ孔Cを設ける。そして、一方の骨組織Xの貫通孔Bを貫通させたインプラント1の雄ねじ5aを、他方の骨組織Yのネジ孔Cに締結することにより、回転力を軸方向の締結力に変換し、頭部4の座面4aによって一方の骨組織Xの表面を他方の骨組織Yの方向に押す。これにより、2つの骨組織X,Yを近接させ、相互に密着させて相互に固定することができる。
この場合において、インプラント1の外表面のうち、雄ねじ5aおよび頭部4の座面4aには陽極酸化皮膜が形成されているので、骨組織X,Yに接触状態に配置されても、陽極酸化皮膜によって母材のマグネシウム材またはマグネシウム合金材と骨組織X,Yとの直接的な接触を回避することができる。また、陽極酸化処理においてインプラント1への通電のための導電部材(図示略)に接触させるために陽極酸化皮膜が形成されない非陽極酸化領域3は、骨組織X,Yと直接的には接触しない頭部4の座面4aを除く領域のいずれかに設けられているので、こちらも母材のマグネシウム材またはマグネシウム合金材と骨組織X,Yとの直接的な接触を回避することができる。
その結果、マグネシウム材またはマグネシウム合金材と骨組織X,Yとの直接接触による水素の発生を防止して、骨固定性力の低下を効果的に抑制することができるという利点がある。
また、この非陽極酸化領域3において導電部材に確実に接触させて、安定した陽極酸化処理を行い、陽極酸化皮膜によるインプラント1の耐食性を向上することができる。
なお、本実施形態においては、すりわり付き平頭のインプラント1を例示したが、これに限定されるものではなく、他の任意の形態のスクリュに適用してもよい。
ねじ頭部に外周部を有さない丸頭やなべ頭のインプラントでは、座面を除く頭部の全表面、すなわち、頭部の頂面およびすりわりの内面のいずれかの位置に非陽極酸化領域3を設けてもよい。
また、軸部5は全体を陽極酸化領域2として、全面に陽極酸化皮膜を形成したが、これに代えて、軸部5の内、荷重のかからないことになる部分(貫通孔B内に配置される部分D)に非陽極酸化領域3を設けてもよい。
非陽極酸化領域3は、図3(a)〜(k)に示されるように任意の位置に配置することができる。
図3(a)は、図1に示したように非陽極酸化領域3を頭部4の外周面4cに1箇所設けた場合を示す斜視図である。
図3(b)は、非陽極酸化領域3をすりわり4dの内側面に設けた場合を示す斜視図である。
図3(c)は、非陽極酸化領域3を頭部4の頂面4bに設けた場合を示す斜視図である。
図3(d)は、非陽極酸化領域3をすりわり4dの底面に設けた場合を示す斜視図である。
図3(e)は、非陽極酸化領域3を軸部5の円筒部Dに1箇所設けた場合を示す側面図である。
図3(f),(g)は、非陽極酸化領域3を頭部4の外周面4cに直径方向に対向する2箇所に設けた場合を示す側面図である。
図3(h),(i)は、非陽極酸化領域3を軸部5の円筒部Dの位置で、直径方向に対向する2箇所に設けた場合を示す側面図である。
図3(j)は、非陽極酸化領域3を頭部4の外周面4cおよび軸部5の円筒部Dの位置で、直径方向に対向する2箇所の合計3箇所に設けた場合を示す側面図である。
図3(k)は、頭部4の外周面4cの直径方向に対向する2箇所に凹部4eを設け、該凹部4e内面に非陽極酸化領域3を設けた場合を示す側面図である。
頭部4あるいは軸部5を直径方向に挟む2箇所以上に非陽極酸化領域3を設けることで、陽極酸化処理時には、これらの非陽極酸化領域3において導電部材によってインプラント1を挟み、導電部材を確実に接触させるとともに安定して支持し、安定した陽極酸化処理を行って、陽極酸化皮膜によるインプラント1の耐食性を向上することができるという利点がある。
また、本実施形態においては、インプラント1としてスクリュを例示して説明したが、これに代えて、図4に示されるように、圧迫プレートやロッキングプレート等のプレート10を採用してもよい。
プレート10においては、骨組織に押し付けられるのは表裏面10a,10bであるため、非陽極酸化領域3は図4に示されるように厚さ方向に延びる外周面10cのいずれかの位置であることが望ましい。
図4(a)に示す例では、外周面10cのうち、プレート10を長手方向に挟む両端に設けている。
図4(b),(c)に示す例では、外周面10cのうち、プレート10を幅方向に挟む両端に設けている。
このようにすることで、陽極酸化処理時には、これらの非陽極酸化領域3において導電部材によってプレート10を長手方向あるいは幅方向に挟み、導電部材を確実に接触させるとともに安定して支持し、安定した陽極酸化処理を行って、陽極酸化皮膜によるプレート10の耐食性を向上することができる。また、非陽極酸化領域3がプレート10の表裏面10a,10bに設けられていないので、骨組織に密着させた場合にも、マグネシウム材またはマグネシウム合金材と骨組織X,Yとの直接接触による水素の発生を防止して、骨固定力の低下を効果的に抑制することができるという利点がある。
また、ピン(図示略)からなるインプラントを採用し、該ピンの先端面または基端面の少なくとも一方に非陽極酸化領域3を設けてもよい。
X,Y 骨組織
1 インプラント
3 非陽極酸化領域
4 頭部
4a 座面
4b 頂面
4c 外周面
4d すりわり(工具用凹部)
5a ネジ部
10 プレート(インプラント)
10a,10b 表裏面(密着面)

Claims (9)

  1. マグネシウム材またはマグネシウム合金材からなる母材のほぼ全表面に陽極酸化皮膜を有するとともに、荷重が加わることとなる表面以外の表面の一部に陽極酸化皮膜の形成されていない非陽極酸化領域を備えるインプラント。
  2. 頭部およびネジ部を有するスクリュからなり、
    前記頭部の座面およびネジ部以外の他の領域に、1以上の前記非陽極酸化領域を備える請求項1に記載のインプラント。
  3. 前記頭部と前記ネジ部との間に円筒部を有し、前記頭部の座面以外の他の領域およびまたは前記円筒部に、1以上の前記非陽極酸化領域を備える請求項2に記載のインプラント。
  4. 前記頭部に、頂面および該頂面に形成された工具用凹部を備え、
    前記頂面および前記工具用凹部のいずれかに、1以上の前記非陽極酸化領域を備える請求項2または請求項3に記載のインプラント。
  5. 長手軸を挟んで対向する位置に前記非陽極酸化領域を備える請求項2から請求項4のいずれかに記載のインプラント。
  6. 骨組織の表面に密着させられる密着面を有するプレートからなり、
    前記密着面以外の領域に1以上の前記非陽極酸化領域を備える請求項1に記載のインプラント。
  7. 厚さ方向に沿う端面に前記非陽極酸化領域を備える請求項5に記載のインプラント。
  8. 長手軸方向に対向する位置、または長手方向に交差する方向に対向する位置に前記非陽極酸化領域を備える請求項5に記載のインプラント。
  9. 先端および基端を有するピンからなり、
    前記先端および前記基端の少なくとも1カ所に、前記非陽極酸化領域を備える請求項1に記載のインプラント。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016103423A1 (ja) * 2014-12-25 2016-06-30 オリンパス株式会社 骨接合用インプラントとその製造方法
KR20200049787A (ko) * 2017-08-28 2020-05-08 보티스 비오마테리알스 게엠베하 치과용 스크류

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06304184A (ja) * 1993-04-21 1994-11-01 Nikon Corp 骨内インプラント
JPH06304186A (ja) * 1993-04-21 1994-11-01 Nikon Corp 骨内インプラント
JPH07275268A (ja) * 1994-04-07 1995-10-24 Nikon Corp 骨内インプラント
JPH119679A (ja) * 1997-06-20 1999-01-19 Nikon Corp インプラントの製造方法
JP2011072617A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Olympus Corp 移植材とその製造方法
JP5487415B2 (ja) * 2008-12-12 2014-05-07 学校法人日本大学 インプラント

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06304184A (ja) * 1993-04-21 1994-11-01 Nikon Corp 骨内インプラント
JPH06304186A (ja) * 1993-04-21 1994-11-01 Nikon Corp 骨内インプラント
JPH07275268A (ja) * 1994-04-07 1995-10-24 Nikon Corp 骨内インプラント
JPH119679A (ja) * 1997-06-20 1999-01-19 Nikon Corp インプラントの製造方法
JP5487415B2 (ja) * 2008-12-12 2014-05-07 学校法人日本大学 インプラント
JP2011072617A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Olympus Corp 移植材とその製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016103423A1 (ja) * 2014-12-25 2016-06-30 オリンパス株式会社 骨接合用インプラントとその製造方法
CN106999284A (zh) * 2014-12-25 2017-08-01 奥林巴斯株式会社 骨接合用植入物及其制造方法
JPWO2016103423A1 (ja) * 2014-12-25 2017-09-28 オリンパス株式会社 骨接合用インプラントとその製造方法
KR20200049787A (ko) * 2017-08-28 2020-05-08 보티스 비오마테리알스 게엠베하 치과용 스크류
KR102625759B1 (ko) 2017-08-28 2024-01-17 보티스 비오마테리알스 게엠베하 치과용 스크류

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