JP2014134542A - 集積回路の劣化を検出するためのモニタリングシステム - Google Patents

集積回路の劣化を検出するためのモニタリングシステム Download PDF

Info

Publication number
JP2014134542A
JP2014134542A JP2014002179A JP2014002179A JP2014134542A JP 2014134542 A JP2014134542 A JP 2014134542A JP 2014002179 A JP2014002179 A JP 2014002179A JP 2014002179 A JP2014002179 A JP 2014002179A JP 2014134542 A JP2014134542 A JP 2014134542A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
degradation test
circuit
coupled
amplifier circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014002179A
Other languages
English (en)
Inventor
Zhichen Zhang
ジチェン ジャン
Chuanzheng Wang
チュアンジェン ワン
Qilin Zhang
キリン ジャン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NXP USA Inc
Original Assignee
Freescale Semiconductor Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Freescale Semiconductor Inc filed Critical Freescale Semiconductor Inc
Publication of JP2014134542A publication Critical patent/JP2014134542A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2855Environmental, reliability or burn-in testing
    • G01R31/2856Internal circuit aspects, e.g. built-in test features; Test chips; Measuring material aspects, e.g. electro migration [EM]
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2832Specific tests of electronic circuits not provided for elsewhere
    • G01R31/2836Fault-finding or characterising
    • G01R31/2849Environmental or reliability testing, e.g. burn-in or validation tests
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/27Testing of devices without physical removal from the circuit of which they form part, e.g. compensating for effects surrounding elements
    • G01R31/275Testing of devices without physical removal from the circuit of which they form part, e.g. compensating for effects surrounding elements for testing individual semiconductor components within integrated circuits

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Amplifiers (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

【課題】電極間に電圧が印加され劣化したFETを含む回路が検出されずにシステム内で動作し続けた場合、システムの確度が損なわれるおそれがある。この状態を検出するシステムが必要とされる。
【解決手段】モニタノードを有する主半導体回路と、増幅器出力端子および劣化テストトランジスタを有する増幅器回路と、モニタノードおよび増幅器回路のノードに結合される入力を有するマルチプレクサとを備える、半導体回路のストレス劣化を検出するためのシステムを提供する。マルチプレクサは動作時に劣化テストトランジスタを主半導体回路または増幅器回路のいずれかに選択的に挿入する。劣化テストトランジスタが主半導体回路に挿入されるとき、劣化テストトランジスタは主半導体回路におけるストレス劣化電圧を受け、増幅器回路に挿入されるとき、増幅器出力端子における出力信号が主半導体回路のストレス劣化を示す。
【選択図】図2

Description

本発明は集積回路に関し、より詳細には半導体集積回路の劣化を検出するためのモニタリングシステムに関する。
半導体デバイスは、ピンカウント(外部端子またはI/Oカウント)をパッケージするために一層の機能性をもって製造されている。これは一部には、ダイサイズの低減を可能にするシリコンダイの製作技法が改善されているためであり、したがって、半導体ダイは比較的小さいパッケージ内に組み立てられることができる。そのようなシリコンダイの製作技法の改善の結果として、電界効果トランジスタ(FET)などの多数のトランジスタを備えるサブミクロン半導体回路がもたらされる。
なお、テスト用回路を伴う回路構成について、特許文献1に記載されている。
米国特許第8,081,003号明細書
FETのゲート電極およびソース電極またはドレイン電極およびソース電極に掛かるように電圧が印加されると、FET内に電荷が生成されて蓄積される。これらの電荷は印加された電圧に比例し、これらの電圧が十分に大きく、かつ十分に頻繁にまたは比較的長い期間にわたって印加される場合、FETの固有の特性が変化する可能性がある。そのような固有の特性は、経時的絶縁破壊(TDDB)、ホットキャリア注入(HCI)、負バイアス不安定性(NBI)および閾値電圧絶縁破壊を含む。固有の特性の変化に起因してFETの性能に許容不可能な変化が存在する場合、FETを含む回路はストレスを受けているか、または劣化していると考えられる。このようなストレスを受けたかまたは劣化した回路は一般的に交換または再構成されるが、このようなストレスを受けたかまたは劣化した回路が検出されないままのことがあり、それらがシステム内で動作し続けた場合、システムの性能および確度が損なわれるおそれがある。
上記問題点を解決するために、本発明は、半導体回路のストレス劣化を検出するためのシステムを提供する。システムは、複数のモニタノードを有する主半導体回路と、少なくとも1つの増幅器出力端子および少なくとも1つの劣化テストトランジスタを有する増幅器回路とを含む。対応する劣化テストトランジスタの電極に結合されている出力を各々有する複数のマルチプレクサも存在する。マルチプレクサの各々は、対応するモニタノードのうちの1つおよび増幅器回路のノードに結合されている入力を有する。マルチプレクサは動作時に劣化テストトランジスタを、主半導体回路または増幅器回路のいずれかに選択的に挿入し、主半導体回路に劣化テストトランジスタが挿入されるとき、劣化テストトランジスタは主半導体回路におけるストレス劣化電圧を受ける。増幅器回路に劣化テストトランジスタが挿入されるとき、増幅器出力端子における出力信号が主半導体回路のストレス劣化を示す。
別の実施形態において、本発明は、半導体回路のストレス劣化をモニタリングするための方法を提供し、方法はプロセッサによって制御され、少なくとも1つの劣化テストトランジスタを主半導体回路に挿入することによって、劣化テストトランジスタにストレス劣化電圧を受けさせる。方法は、主半導体回路から劣化テストトランジスタを除去するステップ、および、劣化テストトランジスタを増幅器回路に挿入するステップを実行する。劣化テストトランジスタが劣化しているか否かを判定するために増幅器回路の出力端子における出力信号を解析するプロセスも実行される。解析により劣化テストトランジスタが劣化していると判定することに応答して、主半導体回路が劣化していることを示す警告信号が提供される。
本発明の好ましい実施形態に応じた、集積回路のストレス劣化を検出するためのシステムの概略ブロック図。 図1のシステムの一部分を形成するモニタリング回路の第1の好ましい実施形態に応じた構成可能増幅器回路の概略回路図。 本発明の好ましい実施形態に応じた、図1のシステムの一部分を形成するバッファモジュールの概略回路図。 本発明の好ましい実施形態に応じた、図2の回路の一部分を形成するマルチプレクサの回路の概略回路図。 図1のシステムの一部分を形成するモニタリング回路の第2の好ましい実施形態に応じた構成可能増幅器回路の概略回路図。 図1のシステムの一部分を形成するモニタリング回路の第3の好ましい実施形態に応じた構成可能増幅器回路の概略回路図。 図1のシステムの一部分を形成するモニタリング回路の第4の好ましい実施形態に応じた構成可能増幅器回路の概略回路図。 本発明の好ましい実施形態に応じた半導体回路のストレス劣化をモニタリングするための方法を示すフローチャート。
本発明は、その目的および利点とともに、以下の好ましい実施形態の説明を添付図面とともに参照することによって最良に理解されることができる。
添付図面に関連して下記に記載する詳細な説明は本発明の現在において好ましい実施形態の説明として意図されており、本発明を実践してもよい唯一の形態を表すようには意図されていない。本発明の精神および範囲内に包含されることが意図される異なる実施形態によって同一または等価な機能が達成されてもよいことを理解されたい。図面において、全体を通じて同様の参照符号は同様の要素を示すように使用されている。さらに、「備える(comprises)」、「備えている(comprising)」という用語またはそれらの任意の他の変化形は、非排他的な包含をカバーするように意図されており、それによって、要素またはステップの一連を備えるモジュール、回路、デバイス構成要素、構造および方法ステップはそれらの要素を含むだけでなく、明示的に列挙されていない、またはそのようなモジュール、回路、デバイス構成要素またはステップに内在する他の要素またはステップを含んでもよい。「〜を備える(comprises...a)」に先行される要素は、さらなる限定がなければ、その要素を備える追加の同一の要素が存在することを除外するものではない。
図1を参照すると、本発明の好ましい実施形態に応じた、半導体集積回路のストレス劣化を検出するためのシステム100のブロック図が示されている。システム100は、トランジスタT1のドレイン電極N1、ソース電極N2およびゲート電極N3である、3つのモニタノードを含む主半導体回路110を含む。システム100は、ドレイン電極N1、ソース電極N2およびゲート電極N3をモニタリング回路130に結合するバッファモジュール120を含む。より具体的には、バッファモジュール120は、それぞれドレイン電極N1、ソース電極N2およびゲート電極N3に結合されている入力I1、I2、I3を有し、出力BO1、BO2、BO3はそれぞれモニタリング回路130の入力SDI、SSIおよびSGIに結合されている。
システム100は、モニタリング回路130の制御入力ノードCTRLに結合されている制御信号出力ノードCTRLOUT、主半導体回路110の再構成ノードRECONFIGに結合されているストレス警告ノードALERT、および、モニタリング回路130の劣化信号出力ノードDSOに結合されている劣化信号入力ノード(複数の場合もあり)DSIを有するプロセッサ140も含む。なお、2つの劣化信号出力ノードDSOが示されているが、他の実施形態においては1つの劣化信号出力ノードDSOが使用されることができ、たとえば、グランドGNDまたは任意の他の基準電位に対して劣化信号出力ノードDSOからの任意の信号が参照されてもよい。また、トランジスタT1はNチャネルトランジスタとして図示されているが、トランジスタT1は必ずしもNチャネルトランジスタでなくてもよく、当業者には明らかであるようにPチャネルトランジスタであってもよい。
図2を参照すると、モニタリング回路130の第1の好ましい実施形態に応じた構成可能増幅器回路200の回路図が示されている。構成可能増幅器回路200は、カスケード式増幅器回路205を含んでおり、同カスケード式増幅器回路205は差動増幅器回路210を備え、同差動増幅器回路210は差動増幅器回路215とカスケード接続されており、同差動増幅器回路215は差動増幅器回路220とカスケード接続されている。カスケード式増幅器回路205は、劣化信号出力ノードDSOの形態の増幅器出力端子を有し、本実施形態において、カスケード式増幅器回路205はNチャネルトランジスタM1〜M6を用いて実装される。
構成可能増幅器回路200は、差動増幅器回路210の第1の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている劣化テストトランジスタM2および抵抗器R2を有する。差動増幅器回路210の第2の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている基準トランジスタM1および抵抗器R1も存在する。第1の枝部および第2の枝部の両方が、グランド端子GNDに接続されている関連する共通の抵抗器RC1を有する。基準トランジスタM1のゲート電極は電力供給線VDDに結合されており、一方で劣化テストトランジスタM2のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX1を通じて供給線に選択的に結合される。基準トランジスタM1のソース電極は共通の抵抗器RC1に結合されており、劣化テストトランジスタM2のソース電極はソースマルチプレクサSMX1を通じて共通の抵抗器RC1に選択的に結合される。また、基準トランジスタM1のドレイン電極は抵抗器R1に結合されており、劣化テストトランジスタM2のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX1を通じて抵抗器R2に選択的に結合される。
構成可能増幅器回路200は、差動増幅器回路215の第1の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている劣化テストトランジスタM4および抵抗器R4も有する。差動増幅器回路215の第2の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている基準トランジスタM3および抵抗器R3も存在する。差動増幅器回路215の第1の枝部および第2の枝部の両方が、グランド端子GNDに接続されている関連する共通の抵抗器RC2を有する。基準トランジスタM3のゲート電極は劣化テストトランジスタM2のドレイン電極に結合されており、一方で劣化テストトランジスタM4のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX2を通じて基準トランジスタM1のドレイン電極に選択的に結合される。基準トランジスタM3のソース電極は共通の抵抗器RC2に結合されており、劣化テストトランジスタM4のソース電極はソースマルチプレクサSMX2を通じて共通の抵抗器RC2に選択的に結合される。また、基準トランジスタM3のドレイン電極は抵抗器R3に結合されており、劣化テストトランジスタM4のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX2を通じて抵抗器R4に選択的に結合される。
構成可能増幅器回路200は、差動増幅器回路220の第1の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている劣化テストトランジスタM6および抵抗器R6をさらに含む。差動増幅器回路220の第2の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている基準トランジスタM5および抵抗器R5も存在する。差動増幅器回路220の第1の枝部および第2の枝部の両方が、グランド端子GNDに接続されている関連する共通の抵抗器RC3を有する。基準トランジスタM5のゲート電極は劣化テストトランジスタM4のドレイン電極に結合されており、一方で劣化テストトランジスタM6のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX3を通じて基準トランジスタM3のドレイン電極に選択的に結合される。基準トランジスタM5のソース電極は共通の抵抗器RC3に結合されており、劣化テストトランジスタM6のソース電極はソースマルチプレクサSMX3を通じて共通の抵抗器RC3に選択的に結合される。また、基準トランジスタM5のドレイン電極は抵抗器R5に結合されており、劣化テストトランジスタM6のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX3を通じて抵抗器R6に選択的に結合される。
差動増幅器回路210は2つの出力ノードを有し、そのうちの一方は、基準トランジスタM3のゲート電極に結合されている劣化テストトランジスタM2のドレイン電極であり、他方の出力ノードは、ゲートマルチプレクサGMX2の入力Aに結合されている基準トランジスタM1のドレイン電極である。同様に、差動増幅器回路215は2つの出力ノードを有し、そのうちの一方は、基準トランジスタM5のゲート電極に結合されている劣化テストトランジスタM4のドレイン電極であり、他方の出力ノードは、ゲートマルチプレクサGMX3の入力Aに結合されている基準トランジスタM3のドレイン電極である。さらに、差動増幅器回路220は、基準トランジスタM5および劣化テストトランジスタM6のドレイン電極である劣化信号出力ノードDSOを提供する出力ノードを有する。
劣化テストトランジスタM2のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX1の出力Cに結合されており、ゲートマルチプレクサGMX1の入力Aは電力供給線VDDに結合されている。また、劣化テストトランジスタM4、M6のゲート電極はそれぞれゲートマルチプレクサGMX2、GMX3の出力Cに結合されており、ゲートマルチプレクサGMX1、GMX2、GMX3の入力Bは入力SGIに結合されている。
劣化テストトランジスタM2、M4、M6のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX1、DMX2、DMX3のそれぞれの出力Cに結合されている。抵抗器R2、R4およびR6はドレインマルチプレクサDMX1、DMX2、DMX3のそれぞれの入力Aに結合されており、ドレインマルチプレクサDMX1、DMX2、DMX3の入力Bは入力SDIに結合されている。
劣化テストトランジスタM2、M4、M6のソース電極はソースマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3のそれぞれの出力Cに結合されている。共通の抵抗器RC1、RC2、RC3はソースマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3のそれぞれの入力Aに結合されており、ソースマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3の入力Bは入力SSIに結合されている。加えて、すべてのマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3、DMX1、DMX2、DMX3、GMX1、GMX2、GMX3の制御入力は、制御入力ノードCTRLに結合されている。
構成可能増幅器回路200は、入力電力線VSUPPを有する電圧調整器260も含む。電圧調整器260は、制御入力ノードCTRLに結合されている制御入力を有し、動作時、電圧調整器260は、電力供給線VDDおよびグランドGNDに掛かる電位差を制御する。
図3を参照すると、本発明の好ましい実施形態に応じた、バッファモジュール120の回路図が示される。バッファモジュール120は、3つのユニティ・ゲイン・バッファ310、320、330を含む。ユニティ・ゲイン・バッファ310は、入力I1に結合されている非反転入力、反転入力および出力BO1の両方に結合されている増幅器出力を有する演算増幅器312を含む。ユニティ・ゲイン・バッファ320は、入力I2に結合されている非反転入力、反転入力および出力BO2の両方に結合されている増幅器出力を有する演算増幅器322を含む。同様に、ユニティ・ゲイン・バッファ330は、入力I3に結合されている非反転入力、反転入力および出力BO3の両方に結合されている増幅器出力を有する演算増幅器332を含む。
図4は、本発明の好ましい実施形態に応じた、マルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3、DMX1、DMX2、DMX3、GMX1、GMX2、GMX3を実装するために使用されるマルチプレクサ400の回路図を示す。マルチプレクサ400は、直列結合されている相補なトランジスタTR1およびTR2を含み、それらのゲート電極は制御入力ノードCTRLに結合されている。トランジスタTR1は、ソース電極を入力Aに結合されているPチャネルトランジスタであり、トランジスタTR2は、ソース電極を入力Bに結合されているNチャネルトランジスタである。両方のトランジスタTR1およびTR2のドレイン電極は互いに結合されており、出力Cに結合されている。
図5は、モニタリング回路130の第2の好ましい実施形態に応じた構成可能増幅器回路500の回路図を示している。構成可能増幅器回路500は、カスケード式増幅器回路505を含んでおり、同カスケード式増幅器回路505は差動増幅器回路510を備え、同差動増幅器回路510は差動増幅器回路520とカスケード接続されている。カスケード式増幅器回路505は、劣化信号出力ノードDSOの形態の増幅器出力端子を有し、本実施形態において、カスケード式増幅器回路505はNチャネルトランジスタM1〜M6を用いて実装される。
構成可能増幅器回路500は、差動増幅器回路510の第1の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている劣化テストトランジスタM2および抵抗器R2を有する。差動増幅器回路510の第2の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている基準トランジスタM1および抵抗器R1も存在する。第1の枝部および第2の枝部の両方が、グランド端子GNDに接続されている関連する共通の抵抗器RC1を有する。基準トランジスタM1のゲート電極はゲートスイッチGS1の端子Xおよび端子Yを通じて電力供給線VDDに選択的に結合され、一方で劣化テストトランジスタM2のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX1を通じて供給線に選択的に結合される。基準トランジスタM1のソース電極はソーススイッチSS1の端子Xおよび端子Yを通じて共通の抵抗器RC1に選択的に結合され、劣化テストトランジスタM2のソース電極はソースマルチプレクサSMX1を通じて共通の抵抗器RC1に選択的に結合される。また、基準トランジスタM1のドレイン電極はドレインスイッチDS1の端子Xおよび端子Yを通じて抵抗器R1に選択的に結合され、劣化テストトランジスタM2のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX1を通じて抵抗器R2に選択的に結合される。
構成可能増幅器回路500は、差動増幅器回路515の第1の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている劣化テストトランジスタM4および抵抗器R4も有する。差動増幅器回路515の第2の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている基準トランジスタM3および抵抗器R3も存在する。差動増幅器回路515の第1の枝部および第2の枝部の両方が、グランド端子GNDに接続されている関連する共通の抵抗器RC2を有する。基準トランジスタM3のゲート電極はゲートスイッチGS2の端子Xおよび端子Yを通じて劣化テストトランジスタM2のドレイン電極に選択的に結合され、一方で劣化テストトランジスタM4のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX2を通じて基準トランジスタM1のドレイン電極に選択的に結合される。基準トランジスタM3のソース電極はソーススイッチSS2の端子Xおよび端子Yを通じて共通の抵抗器RC2に選択的に結合され、劣化テストトランジスタM4のソース電極はソースマルチプレクサSMX2を通じて共通の抵抗器RC2に選択的に結合される。また、基準トランジスタM3のドレイン電極はドレインスイッチDS2の端子Xおよび端子Yを通じて抵抗器R3に選択的に結合され、劣化テストトランジスタM4のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX2を通じて抵抗器R4に選択的に結合される。
構成可能増幅器回路500は、差動増幅器回路520の第1の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている劣化テストトランジスタM6および抵抗器R6をさらに含む。差動増幅器回路520の第2の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている基準トランジスタM5および抵抗器R5も存在する。差動増幅器回路520の第1の枝部および第2の枝部の両方が、グランド端子GNDに接続されている関連する共通の抵抗器RC3を有する。基準トランジスタM5のゲート電極はゲートスイッチGS3の端子Xおよび端子Yを通じて劣化テストトランジスタM4のドレイン電極に選択的に結合され、一方で劣化テストトランジスタM6のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX3を通じて基準トランジスタM3のドレイン電極に選択的に結合される。基準トランジスタM5のソース電極はソーススイッチSS3の端子Xおよび端子Yを通じて共通の抵抗器RC3に選択的に結合され、劣化テストトランジスタM6のソース電極はソースマルチプレクサSMX3を通じて共通の抵抗器RC3に選択的に結合される。また、基準トランジスタM5のドレイン電極はドレインスイッチDS3の端子Xおよび端子Yを通じて抵抗器R5に選択的に結合され、劣化テストトランジスタM6のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX3を通じて抵抗器R6に選択的に結合される。
差動増幅器回路510は2つの出力ノードを有し、そのうちの一方は、ゲートスイッチGS2の端子Yに結合されている劣化テストトランジスタM2のドレイン電極であり、他方の出力ノードは、ゲートマルチプレクサGMX2の入力Aに結合されている基準トランジスタM1のドレイン電極である。同様に、差動増幅器回路515は2つの出力ノードを有し、そのうちの一方は、ゲートスイッチGS3の端子Yに結合されている劣化テストトランジスタM4のドレイン電極であり、他方の出力ノードは、ゲートマルチプレクサGMX3の入力Aに結合されている基準トランジスタM3のドレイン電極である。さらに、差動増幅器回路520は、基準トランジスタM5および劣化テストトランジスタM6のドレイン電極である劣化信号出力ノードDSOを提供する出力ノードを有する。
劣化テストトランジスタM2のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX1の出力Cに結合されており、ゲートマルチプレクサGMX1の入力Aは電力供給線VDDに結合されている。また、劣化テストトランジスタM4、M6のゲート電極はそれぞれゲートマルチプレクサGMX2、GMX3の出力Cに結合されており、ゲートマルチプレクサGMX1、GMX2、GMX3の入力Bは入力SGIに結合されている。
劣化テストトランジスタM2、M4、M6のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX1、DMX2、DMX3のそれぞれの出力Cに結合されている。抵抗器R2、R4およびR6はドレインマルチプレクサDMX1、DMX2、DMX3のそれぞれの入力Aに結合されており、ドレインマルチプレクサDMX1、DMX2、DMX3の入力Bは入力SDIに結合されている。
劣化テストトランジスタM2、M4、M6のソース電極はソースマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3のそれぞれの出力Cに結合されている。共通の抵抗器RC1、RC2、RC3はソースマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3のそれぞれの入力Aに結合されており、ソースマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3の入力Bは入力SSIに結合されている。加えて、すべてのマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3、DMX1、DMX2、DMX3、GMX1、GMX2、GMX3の制御入力は、制御入力ノードCTRLに結合されている。また、スイッチGS1、GS2、GS3、SS1、SS2、SS3、DS1、DS2、DS3の各々は、端子Xおよび端子Yを提供するドレイン電極およびソース電極、ならびに、制御入力ノードCTRLに結合されているゲート電極を有するトランジスタを含む。
図6を参照すると、モニタリング回路130の第3の好ましい実施形態に応じた構成可能増幅器回路600の回路図が示されている。構成可能増幅器回路600は、カスケード式増幅器回路605を含んでおり、同カスケード式増幅器回路605は差動増幅器回路610を備え、同差動増幅器回路610は差動増幅器回路615とカスケード接続されている。カスケード式増幅器回路605は、劣化信号出力ノードDSOの形態の増幅器出力端子を有し、本実施形態において、カスケード式増幅器回路605はPチャネルトランジスタM1〜M6を用いて実装される。
構成可能増幅器回路600は、差動増幅器回路610の第1の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている劣化テストトランジスタM2および抵抗器R2を有する。差動増幅器回路610の第2の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている基準トランジスタM1および抵抗器R1も存在する。第1の枝部および第2の枝部の両方が、グランド端子GNDに接続されている関連する共通の抵抗器RC1を有する。基準トランジスタM1のゲート電極はグランド端子GNDに結合されており、一方で劣化テストトランジスタM2のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX1を通じてグランド端子GNDに選択的に結合される。基準トランジスタM1のドレイン電極は共通の抵抗器RC1に結合されており、劣化テストトランジスタM2のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX1を通じて共通の抵抗器RC1に選択的に結合される。また、基準トランジスタM1のソース電極は抵抗器R1に結合されており、劣化テストトランジスタM2のソース電極はソースマルチプレクサSMX1を通じて抵抗器R2に選択的に結合される。
構成可能増幅器回路600は、差動増幅器回路615の第1の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている劣化テストトランジスタM4および抵抗器R4も有する。差動増幅器回路615の第2の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている基準トランジスタM3および抵抗器R3も存在する。差動増幅器回路615の第1の枝部および第2の枝部の両方が、グランド端子GNDに接続されている関連する共通の抵抗器RC2を有する。基準トランジスタM3のゲート電極は基準トランジスタM1のドレイン電極に結合されており、一方で劣化テストトランジスタM4のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX2を通じて劣化テストトランジスタM2のドレイン電極に選択的に結合される。基準トランジスタM3のドレイン電極は共通の抵抗器RC2に結合されており、劣化テストトランジスタM4のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX2を通じて共通の抵抗器RC2に選択的に結合される。また、基準トランジスタM3のソース電極は抵抗器R3に結合されており、劣化テストトランジスタM4のソース電極はソースマルチプレクサSMX2を通じて抵抗器R4に選択的に結合される。
構成可能増幅器回路600は、差動増幅器回路620の第1の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている劣化テストトランジスタM6および抵抗器R6をさらに含む。差動増幅器回路620の第2の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている基準トランジスタM5および抵抗器R5も存在する。差動増幅器回路620の第1の枝部および第2の枝部の両方が、グランド端子GNDに接続されている関連する共通の抵抗器RC3を有する。基準トランジスタM5のゲート電極は基準トランジスタM3のドレイン電極に結合されており、一方で劣化テストトランジスタM6のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX3を通じて劣化テストトランジスタM4のドレイン電極に選択的に結合される。基準トランジスタM5のドレイン電極は共通の抵抗器RC3に結合されており、劣化テストトランジスタM6のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX3を通じて共通の抵抗器RC3に選択的に結合される。また、基準トランジスタM5のソース電極は抵抗器R5に結合されており、劣化テストトランジスタM6のソース電極はソースマルチプレクサSMX3を通じて抵抗器R6に選択的に結合される。
差動増幅器回路610は2つの出力ノードを有し、そのうちの一方は、劣化テストトランジスタM2のドレイン電極であり、他方の出力ノードは、基準トランジスタM1のドレイン電極であり、使用中は差動増幅器回路615の入力に結合されている。同様に、差動増幅器回路615は2つの出力ノードを有し、そのうちの一方は、劣化テストトランジスタM4のドレイン電極であり、他方の出力ノードは、使用中は差動増幅器回路620の入力に結合されている基準トランジスタM3のドレイン電極である。さらに、差動増幅器回路620は、基準トランジスタM5および劣化テストトランジスタM6のドレイン電極である劣化信号出力ノードDSOを提供する出力ノードを有する。
劣化テストトランジスタM2のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX1の出力Cに結合されており、ゲートマルチプレクサGMX1の入力AはグランドGNDに結合されている。また、劣化テストトランジスタM4、M6のゲート電極はそれぞれゲートマルチプレクサGMX2、GMX3の出力Cに結合されており、ゲートマルチプレクサGMX1、GMX2、GMX3の入力Bは入力SGIに結合されている。
劣化テストトランジスタM2、M4、M6のソース電極はソースマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3のそれぞれの出力Cに結合されている。抵抗器R2、R4、R6はソースマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3のそれぞれの入力Aに結合されており、ソースマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3の入力Bは入力SSIに結合されている。
劣化テストトランジスタM2、M4、M6のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX1、DMX2、DMX3のそれぞれの出力Cに結合されている。共通の抵抗器RC1、RC2およびRC3はドレインマルチプレクサDMX1、DMX2、DMX3のそれぞれの入力Aに結合されており、ドレインマルチプレクサDMX1、DMX2、DMX3の入力Bは入力SDIに結合されている。加えて、すべてのマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3、DMX1、DMX2、DMX3、GMX1、GMX2、GMX3の制御入力は、制御入力ノードCTRLに結合されている。
構成可能増幅器回路600は、入力電力線VSUPPを有する電圧調整器660も含む。電圧調整器660は、制御入力ノードCTRLに結合されている制御入力を有し、動作時、電圧調整器660は、電力供給線VDDおよびグランドGNDに掛かる電位差を制御する。
図7を参照すると、モニタリング回路130の第4の好ましい実施形態に応じた構成可能増幅器回路700の概略回路図が示されている。構成可能増幅器回路700は、カスケード式増幅器回路705を含んでおり、同カスケード式増幅器回路705は差動増幅器回路710を備え、同差動増幅器回路710は差動増幅器回路715とカスケード接続されており、同差動増幅器回路715は差動増幅器回路720とカスケード接続されている。カスケード式増幅器回路705は、劣化信号出力ノードDSOの形態の増幅器出力端子を有し、本実施形態において、カスケード式増幅器回路605はPチャネルトランジスタM1〜M6を用いて実装される。
構成可能増幅器回路700は、差動増幅器回路710の第1の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている劣化テストトランジスタM2および抵抗器R2を有する。差動増幅器回路710の第2の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている基準トランジスタM1および抵抗器R1も存在する。第1の枝部および第2の枝部の両方が、グランド端子GNDに接続されている関連する共通の抵抗器RC1を有する。基準トランジスタM1のゲート電極はゲートスイッチGS1の端子Xおよび端子Yを通じてグランド端子GNDに選択的に結合され、一方で劣化テストトランジスタM2のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX1を通じてグランド端子GNDに選択的に結合される。また、基準トランジスタM1のドレイン電極はドレインスイッチDS1の端子Xおよび端子Yを通じて共通の抵抗器RC1に選択的に結合され、劣化テストトランジスタM2のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX1を通じて共通の抵抗器RC1に選択的に結合される。また、基準トランジスタM1のソース電極はソーススイッチSS1の端子Xおよび端子Yを通じて抵抗器R1に選択的に結合され、劣化テストトランジスタM2のソース電極はソースマルチプレクサSMX1を通じて抵抗器R2に選択的に結合される。
構成可能増幅器回路700は、差動増幅器回路715の第1の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている劣化テストトランジスタM4および抵抗器R4も有する。差動増幅器回路715の第2の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている基準トランジスタM3および抵抗器R3も存在する。差動増幅器回路715の第1の枝部および第2の枝部の両方が、グランド端子GNDに接続されている関連する共通の抵抗器RC2を有する。基準トランジスタM3のゲート電極はゲートスイッチGS2の端子Xおよび端子Yを通じて基準トランジスタM1のソース電極に選択的に結合され、一方で劣化テストトランジスタM4のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX2を通じて基準トランジスタM2のソース電極に選択的に結合される。また、基準トランジスタM3のドレイン電極はドレインスイッチDS2の端子Xおよび端子Yを通じて共通の抵抗器RC2に選択的に結合され、劣化テストトランジスタM4のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX2を通じて共通の抵抗器RC2に選択的に結合される。また、基準トランジスタM3のソース電極はソーススイッチSS2の端子Xおよび端子Yを通じて抵抗器R3に選択的に結合され、劣化テストトランジスタM4のソース電極はソースマルチプレクサDMX2を通じて抵抗器R4に選択的に結合される。
構成可能増幅器回路700は、差動増幅器回路720の第1の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている劣化テストトランジスタM6および抵抗器R6をさらに含む。差動増幅器回路720の第2の枝部を形成するように電力供給線VDDに結合されている基準トランジスタM5および抵抗器R5も存在する。差動増幅器回路720の第1の枝部および第2の枝部の両方が、グランド端子GNDに接続されている関連する共通の抵抗器RC3を有する。基準トランジスタM5のゲート電極はゲートスイッチGS3の端子Xおよび端子Yを通じて基準トランジスタM3のソース電極に選択的に結合され、一方で劣化テストトランジスタM6のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX3を通じて劣化テストトランジスタM4のソース電極に選択的に結合される。基準トランジスタM5のドレイン電極はドレインスイッチDS3の端子Xおよび端子Yを通じて共通の抵抗器RC3に選択的に結合され、劣化テストトランジスタM6のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX3を通じて共通の抵抗器RC3に選択的に結合される。また、基準トランジスタM5のソース電極はソーススイッチSS3の端子Xおよび端子Yを通じて抵抗器R5に選択的に結合され、劣化テストトランジスタM6のソース電極はソースマルチプレクサSMX3を通じて抵抗器R6に選択的に結合される。
差動増幅器回路710は2つの出力ノードを有し、そのうちの一方は、劣化テストトランジスタM2のドレイン電極であり、他方の出力ノードは、基準トランジスタM1のドレイン電極であり、使用中は差動増幅器回路715の入力に結合されている。同様に、差動増幅器回路715は2つの出力ノードを有し、そのうちの一方は、劣化テストトランジスタM4のドレイン電極であり、他方の出力ノードは、基準トランジスタM3のドレイン電極であり、使用中は差動増幅器回路720の入力に結合されている。さらに、差動増幅器回路720は、基準トランジスタM5および劣化テストトランジスタM6のドレイン電極である劣化信号出力ノードDSOを提供する出力ノードを有する。
劣化テストトランジスタM2のゲート電極はゲートマルチプレクサGMX1の出力Cに結合されており、ゲートマルチプレクサGMX1の入力AはグランドGNDに結合されている。また、劣化テストトランジスタM4、M6のゲート電極はそれぞれゲートマルチプレクサGMX2、GMX3の出力Cに結合されており、ゲートマルチプレクサGMX1、GMX2、GMX3の入力Bは入力SGIに結合されている。
劣化テストトランジスタM2、M4、M6のソース電極はソースマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3のそれぞれの出力Cに結合されている。抵抗器R2、R4、R6はソースマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3のそれぞれの入力Aに結合されており、ソースマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3の入力Bは入力SSIに結合されている。
劣化テストトランジスタM2、M4、M6のドレイン電極はドレインマルチプレクサDMX1、DMX2、DMX3のそれぞれの出力Cに結合されている。共通の抵抗器RC1、RC2およびRC3はドレインマルチプレクサDMX1、DMX2、DMX3のそれぞれの入力Aに結合されており、ドレインマルチプレクサDMX1、DMX2、DMX3の入力Bは入力SDIに結合されている。加えて、すべてのマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3、DMX1、DMX2、DMX3、GMX1、GMX2、GMX3の制御入力は、制御入力ノードCTRLに結合されている。また、スイッチGS1、GS2、GS3、SS1、SS2、SS3、DS1、DS2、DS3の各々は、端子Xおよび端子Yを提供するドレイン電極およびソース電極、ならびに、制御入力ノードCTRLに結合されているゲート電極を有するトランジスタを含む。
上記の実施形態の各々について、本発明が複数のマルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3、DMX1、DMX2、DMX3、GMX1、GMX2、GMX3を有し、その各々が1つ以上の劣化テストトランジスタM2、M4、M6のそれぞれの電極に結合されている出力を有することは明らかであろう。マルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3、DMX1、DMX2、DMX3、GMX1、GMX2、GMX3の各々は、モニタノードN1、N2、N3のうちの1つに結合されている入力B、および、増幅器回路205、505、605または705のそれぞれのノードに結合されている入力Aも有する。
構成可能増幅器回路200、500、600および700の上記の実施形態のすべてにおいて、マルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3、DMX1、DMX2、DMX3、GMX1、GMX2、GMX3はマルチプレクサ400を用いて実装される。さらに、これらの実施形態において、少なくとも主半導体回路110および増幅器回路の少なくとも一部分、具体的にはトランジスタM2、M4、M6は、単一の半導体基板上に形成される。
動作時、マルチプレクサSMX1、SMX2、SMX3、DMX1、DMX2、DMX3、GMX1、GMX2、GMX3は1つ以上の劣化テストトランジスタM2、M4、M6を、主半導体回路110または増幅器回路205、505、605もしくは705のいずれかに選択的に挿入する。これに関連して、プロセッサ140は、制御信号出力ノードCTRLOUTにおける制御信号をモニタリング回路130の制御入力ノードCTRLに提供する。それによって、制御信号は、劣化テストトランジスタM2、M4、M6がいつ主半導体回路に挿入されるかを制御する。主半導体回路110に挿入されると、1つ以上の劣化テストトランジスタM2、M4、M6は、主半導体回路110内のストレス劣化電圧を受ける。増幅器回路205、505、605または705に挿入されると、出力端子DSOにおける出力信号が、1つ以上の劣化テストトランジスタM2、M4、M6のストレス劣化を示す。その結果として、主半導体回路110のトランジスタT1も劣化テストトランジスタM2、M4、M6の受けるストレスストレス劣化電圧と同じストレス劣化電圧を受けているため、出力端子DSOにおける出力信号も、トランジスタT1のストレス劣化を示す。出力端子DSOにおける出力信号は、それゆえ、主半導体回路110のストレス劣化の指標として使用される。
増幅器回路200および600に関して、マルチプレクサが対応する劣化テストトランジスタM2、M4、M6の電極をバッファモジュール120を通じて主半導体回路110のノードに接続すると、電圧調整器260または660がVDDにおける電圧を低下させ、それによって、基準トランジスタM1、M3、M5はストレスを受けなくなる。したがって、動作時、劣化テストトランジスタM2、M4、M6が主半導体回路110に挿入されると、各基準トランジスタM1、M3、M5に掛かる供給電圧が低下する。
対照的に、増幅器回路500および700に関して、マルチプレクサが対応する劣化テストトランジスタM2、M4、M6の電極を主半導体回路110のノードに接続すると、スイッチGS1、GS2、GS3、SS1、SS2、SS3、DS1、DS2、DS3はトランジスタM2、M4、M6をVDDおよびグランドGNDから切り離(分離)し、それによって、これらのトランジスタはストレスを受けなくなる。したがって、動作時、劣化テストトランジスタM2、M4、M6が主半導体回路110に挿入されると、スイッチが各基準トランジスタM1、M3、M5を増幅器回路から選択的に分離する。
図8を参照すると、本発明の好ましい実施形態に応じた、半導体回路110のストレス劣化をモニタリングするための方法800を示すフローチャートが示されている。本実施形態において、方法800はプロセッサ140によって制御されており、例として、本方法を構成可能増幅器回路200に関して説明する。方法800は、開始ブロック805においてシステム100に電源が投入された後に開始する。方法800は、ブロック810において、劣化テストトランジスタM2、M4、M6を主半導体回路110に挿入することを含む。それによって、トランジスタT1がストレス劣化電圧を受けると、これは劣化テストトランジスタM2、M4、M6にそのような電圧を受けさせる。ブロック815において、劣化テストトランジスタM2、M4、M6の主半導体回路110からの除去が実行され、挿入ブロック820において、劣化テストトランジスタM2、M4、M6が増幅器回路200に挿入される。
ブロック825において、プロセッサ140は、解析ブロック825において、劣化テストトランジスタM2、M4、M6が劣化しているか否かを判定するために増幅器回路の出力端子(1つ以上の劣化信号出力ノードDSO)における出力信号の解析を実行する。プロセッサによって1つ以上の劣化信号入力ノードDSIにおいて増幅器回路の出力信号が受信され、テストブロック830において、プロセッサが、劣化テストトランジスタM2、M4、M6が劣化しているか否かを判定する。劣化テストトランジスタM2、M4、M6が劣化していないとテストブロックが判定した場合、方法はブロック810に戻る。代替的に、劣化テストトランジスタM2、M4、M6が劣化しているとテストブロックが判定した場合、方法800はブロック835に進み、主半導体回路110が劣化していることを示す警告信号を提供する。この警告信号は、劣化テストトランジスタM2、M4、M6が劣化していると解析ブロック825が判定することに応答する。
その後、プロセッサ140はテストブロック840において、主半導体回路110が以前に再構成されたか否かをチェックするためにフラグ(FLAG)をチェックする。以前に再構成されていた場合、方法800は終了ブロック850において終了し、主半導体回路110の電源を切り(電力供給VDDを除去する)、システム100は任意選択的に、主半導体回路110が劣化しており、使用することができないことを示す故障信号を提供する。代替的に、以前に再構成されていない場合、方法800は、ブロック845において、主半導体回路110の再構成を実行する。この再構成は、単純にトランジスタT1から外れるように切り換え(スイッチアウト)し、別のトランジスタにつながるように切り換え(スイッチイン)することであり得る。構成要素のスイッチインおよびアウトは当該技術分野において周知であり、同様に劣化テストトランジスタM2、M4、M6が劣化しているため、モニタリング回路130も再構成される。方法800はその後ブロック810に戻り、方法800は、適切なブロック810〜840を繰り返す前に所定の時間に渡り待機する。
有利には、本発明は、ストレスまたは劣化が検出されるとシステムの確度および性能が損なわれることがないように、ストレスを受けるか、または劣化した回路を検出することを可能にする。検出されると、再構成または電源停止を行うことができ、所要の頻度においてストレス検出トランジスタM2、M4、M6のストレス挿入が実行されてもよく、これは主半導体回路110の具体的な用途に応じてもよい。
例示および説明を目的として本発明の好ましい実施形態の説明が提示されたが、網羅的であること、または、本発明を開示されている形態に限定するようには意図されていない。その広範な発明的概念から逸脱することなく、上述の実施形態に対して変更を行い得ることは、当業者には理解されるであろう。たとえば、カスケード式差動増幅器が実施形態において使用されているが、用途によっては単一の出力端子(グランドを参照する)を有する単一段の従来の増幅器が適切であり得る。それゆえ、本発明は開示されている特定の実施形態には限定されず、添付の特許請求項によって規定されるような本発明の精神および範囲内の変更形態を包含することが理解される。

Claims (20)

  1. 半導体回路のストレス劣化を検出するためのシステムであって、
    複数のモニタノードを有する主半導体回路と、
    少なくとも1つの増幅器出力端子および少なくとも1つの劣化テストトランジスタを有する増幅器回路と、
    対応する前記劣化テストトランジスタの電極に結合されている出力を各々有する複数のマルチプレクサであって、該マルチプレクサの各々は、対応する前記モニタノードのうちの1つおよび前記増幅器回路のノードに結合されている入力を有する、マルチプレクサとを備え、
    前記マルチプレクサは動作時に前記劣化テストトランジスタを、前記主半導体回路または前記増幅器回路のいずれかに選択的に挿入し、前記主半導体回路に前記劣化テストトランジスタが挿入されるとき、前記劣化テストトランジスタは前記主半導体回路におけるストレス劣化電圧を受け、前記増幅器回路に前記劣化テストトランジスタが挿入されるとき、前記増幅器出力端子における出力信号が前記主半導体回路のストレス劣化を示す、システム。
  2. 前記増幅器回路はカスケード式増幅器回路である、請求項1に記載のシステム。
  3. 前記増幅器回路は差動増幅器回路を含む、請求項1に記載のシステム。
  4. 前記劣化テストトランジスタは差動増幅器の第1の枝部の一部分を形成し、差動増幅器の第2の枝部の一部分は基準トランジスタによって形成される、請求項3に記載のシステム。
  5. 前記差動増幅器は複数のカスケード式差動増幅器のうちの1つであり、該差動増幅器の各々は前記劣化テストトランジスタおよび前記基準トランジスタを含む、請求項4に記載のシステム。
  6. 前記劣化テストトランジスタが前記主半導体回路に挿入されるとき、前記基準トランジスタのそれぞれを動作時に前記増幅器回路から選択的に分離するための複数のスイッチが存在する、請求項4に記載のシステム。
  7. 前記劣化テストトランジスタが前記主半導体回路に挿入されるとき、前記基準トランジスタのそれぞれに掛かる供給電圧が動作時に低下する、請求項4に記載のシステム。
  8. 前記少なくとも1つの増幅器出力端子は、カスケード式差動増幅器の差動出力ノードを含む、請求項4に記載のシステム。
  9. 前記劣化テストトランジスタがいつ前記主半導体回路に挿入されるかを制御するための制御信号を提供するためのプロセッサをさらに含む、請求項1に記載のシステム。
  10. 前記プロセッサの入力は前記増幅器出力端子に結合されている、請求項9に記載のシステム。
  11. 前記主半導体回路と、前記増幅器回路の少なくとも一部分とが単一の半導体基板上に形成されている、請求項1に記載のシステム。
  12. 前記モニタノードはトランジスタのゲート電極、ドレイン電極およびソース電極である、請求項1に記載のシステム。
  13. 前記モニタノードはユニティ・ゲイン・バッファを通じて前記増幅器回路に結合されている、請求項1に記載のシステム。
  14. 半導体回路のストレス劣化をモニタリングするための方法であって、該方法はプロセッサによって制御され、
    少なくとも1つの劣化テストトランジスタを主半導体回路に挿入することによって、前記劣化テストトランジスタにストレス劣化電圧を受けさせる、挿入するステップと、
    前記主半導体回路から前記劣化テストトランジスタを除去するステップと、
    前記劣化テストトランジスタを増幅器回路に挿入するステップと、
    前記劣化テストトランジスタが劣化しているか否かを判定するために前記増幅器回路の出力端子における出力信号を解析するステップと、
    前記解析により前記劣化テストトランジスタが劣化していると判定することに応答して、前記主半導体回路が劣化していることを示す警告信号を提供するステップとを備える、方法。
  15. 前記警告信号が提供されるとき前記主半導体回路から電力供給を除去するステップをさらに含む、請求項14に記載の方法。
  16. 前記警告信号が提供されるとき前記主半導体回路を再構成するステップをさらに含む、請求項14に記載の方法。
  17. 前記増幅器回路は差動増幅器回路を含む、請求項14に記載の方法。
  18. 基準トランジスタをさらに備え、前記劣化テストトランジスタは差動増幅器の第1の枝部を形成し、前記基準トランジスタは差動増幅器の第2の枝部を形成する、請求項17に記載の方法。
  19. 前記劣化テストトランジスタが前記主半導体回路に挿入されるとき、前記基準トランジスタに掛かる供給電圧が低下する、請求項18に記載の方法。
  20. 前記劣化テストトランジスタが前記主半導体回路に挿入されるとき、前記基準トランジスタを動作時に前記増幅器回路から選択的に分離するための複数のスイッチが存在する、請求項18に記載の方法。
JP2014002179A 2013-01-09 2014-01-09 集積回路の劣化を検出するためのモニタリングシステム Pending JP2014134542A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310006802.9A CN103913694B (zh) 2013-01-09 2013-01-09 用于检测集成电路的劣化的监视系统
CN201310006802.9 2013-01-09

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2014134542A true JP2014134542A (ja) 2014-07-24

Family

ID=51039526

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014002179A Pending JP2014134542A (ja) 2013-01-09 2014-01-09 集積回路の劣化を検出するためのモニタリングシステム

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9222968B2 (ja)
JP (1) JP2014134542A (ja)
CN (1) CN103913694B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190068493A (ko) * 2016-04-19 2019-06-18 아날로그 디바이시즈 글로벌 언리미티드 컴퍼니 마모 모니터 디바이스
US10794950B2 (en) 2016-04-19 2020-10-06 Analog Devices Global Wear-out monitor device

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105895619B (zh) * 2015-01-23 2021-06-25 恩智浦美国有限公司 用于监测集成电路上金属退化的电路
KR102413192B1 (ko) * 2017-11-03 2022-06-24 삼성전자주식회사 Nbti 또는 pbit를 모니터링하는 테스트 회로

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4327332A (en) * 1980-01-31 1982-04-27 Rca Corporation Circuit arrangement useful in developing decoupled operating voltages for IF amplifier stages of an integrated circuit
US5625288A (en) * 1993-10-22 1997-04-29 Sandia Corporation On-clip high frequency reliability and failure test structures
US5905855A (en) * 1997-02-28 1999-05-18 Transmeta Corporation Method and apparatus for correcting errors in computer systems
US6587994B1 (en) * 1999-03-09 2003-07-01 Fujitsu Limited Hot-carrier degradation simulation of a semiconductor device
JP2002116237A (ja) * 2000-10-10 2002-04-19 Texas Instr Japan Ltd 半導体集積回路
US6731179B2 (en) * 2002-04-09 2004-05-04 International Business Machines Corporation System and method for measuring circuit performance degradation due to PFET negative bias temperature instability (NBTI)
US7271608B1 (en) * 2002-11-25 2007-09-18 Ridgetop Group, Inc. Prognostic cell for predicting failure of integrated circuits
ATE391926T1 (de) * 2003-02-20 2008-04-15 Ibm Testverfahren für integrierte schaltungen mit verwendung modifikation von well-spannungen
US7026838B2 (en) * 2004-06-18 2006-04-11 Texas Instruments Incorporated Versatile system for accelerated stress characterization of semiconductor device structures
US7205830B2 (en) * 2005-01-04 2007-04-17 International Business Machines Corporation Analog MOS circuits having reduced voltage stress
US7338817B2 (en) * 2005-03-31 2008-03-04 Intel Corporation Body bias compensation for aged transistors
US7486098B2 (en) * 2005-06-16 2009-02-03 International Business Machines Corporation Integrated circuit testing method using well bias modification
US8994381B2 (en) * 2005-09-27 2015-03-31 Ronald Quan Method and apparatus to measure differential phase and frequency modulation distortions for audio equipment
US7504847B2 (en) * 2006-10-19 2009-03-17 International Business Machines Corporation Mechanism for detection and compensation of NBTI induced threshold degradation
US7974595B2 (en) * 2007-12-31 2011-07-05 Texas Instruments Incorporated Methodology for assessing degradation due to radio frequency excitation of transistors
US8081003B2 (en) * 2009-02-02 2011-12-20 Infineon Technologies Ag Circuit arrangement with a test circuit and a reference circuit and corresponding method
US8674774B2 (en) * 2009-09-07 2014-03-18 Nec Corporation Aging diagnostic device, aging diagnostic method
US8248095B2 (en) * 2009-10-30 2012-08-21 Apple Inc. Compensating for aging in integrated circuits
JP5319641B2 (ja) * 2010-10-14 2013-10-16 株式会社東芝 診断回路および半導体集積回路
US20120259575A1 (en) * 2011-04-07 2012-10-11 International Business Machines Corporation Integrated circuit chip incorporating a test circuit that allows for on-chip stress testing in order to model or monitor device performance degradation
US8693271B2 (en) * 2011-08-10 2014-04-08 Texas Instruments Incorporated Method of stressing static random access memories for pass transistor defects
US8729908B2 (en) * 2012-02-29 2014-05-20 International Business Machines Corporation Static noise margin monitoring circuit and method

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190068493A (ko) * 2016-04-19 2019-06-18 아날로그 디바이시즈 글로벌 언리미티드 컴퍼니 마모 모니터 디바이스
JP2019518326A (ja) * 2016-04-19 2019-06-27 アナログ・デヴァイシズ・グローバル 摩耗モニタデバイス
US10794950B2 (en) 2016-04-19 2020-10-06 Analog Devices Global Wear-out monitor device
KR102172350B1 (ko) 2016-04-19 2020-11-02 아날로그 디바이시즈 글로벌 언리미티드 컴퍼니 마모 모니터 디바이스
US11269006B2 (en) 2016-04-19 2022-03-08 Analog Devices International Unlimited Company Exposure monitor device
US11686763B2 (en) 2016-04-19 2023-06-27 Analog Devices International Unlimited Company Exposure monitor device
US11988708B2 (en) 2016-04-19 2024-05-21 Analog Devices International Unlimited Company Exposure monitor device

Also Published As

Publication number Publication date
CN103913694A (zh) 2014-07-09
CN103913694B (zh) 2018-03-27
US20140191777A1 (en) 2014-07-10
US9222968B2 (en) 2015-12-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7548117B2 (en) Differential amplifier having an improved slew rate
JP2014134542A (ja) 集積回路の劣化を検出するためのモニタリングシステム
CN109150143B (zh) 高电压比较器
JP2010268350A (ja) 終端抵抗調整回路
KR101223481B1 (ko) 오버드라이빙 회로를 포함하는 연산증폭기
KR100832187B1 (ko) 반도체 집적회로
US7755392B1 (en) Level shift circuit without high voltage stress of transistors and operating at low voltages
TWI251733B (en) Reference voltage circuit and electronic device
CN107810421B (zh) 电压监测器
TWI582787B (zh) 電源壓降偵測電路及其操作方法
JP2011041280A (ja) 電子回路の作動の監視
EP3214760A2 (en) Feed-forward filtering device and associated method
CN109959837B (zh) 一种漏电检测电路
KR20160032158A (ko) 공급 초과 전압을 지원하는 스위치
US9086865B2 (en) Power napping technique for accelerated negative bias temperature instability (NBTI) and/or positive bias temperature instability (PBTI) recovery
US8988146B1 (en) Voltage amplifier for capacitive sensing devices using very high impedance
KR100195680B1 (ko) 비정상 전류를 이용하는 고장 블럭 검출 시스템
US9772365B2 (en) Detection circuit
JP2011507477A (ja) Dc−dcコンバータを有する集積回路
TWI648951B (zh) 電源電壓監視電路、及具備該電源電壓監視電路的電子電路
JP2004318748A (ja) クロック信号検出回路及びそれを用いた半導体集積回路
JP5504283B2 (ja) 積層集積回路デバイス中のティアツーティア結合を検出するための回路
US20170122997A1 (en) Semiconductor device and method of inspecting a semiconductor device
US9312860B1 (en) Gated differential logic circuit
WO2013160715A1 (en) Electronic device having a pin for setting its mode of operation and method to set a mode of operation for an electronic device having a pin