JP2014129281A - スティック状固型化粧料 - Google Patents
スティック状固型化粧料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014129281A JP2014129281A JP2012287632A JP2012287632A JP2014129281A JP 2014129281 A JP2014129281 A JP 2014129281A JP 2012287632 A JP2012287632 A JP 2012287632A JP 2012287632 A JP2012287632 A JP 2012287632A JP 2014129281 A JP2014129281 A JP 2014129281A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stick
- mass
- shaped solid
- solid cosmetic
- component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
Abstract
【解決手段】(a)パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル、(b)ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、並びに(c)イソノナン酸イソトリデシル、イソノナン酸イソノニル、トリ(カプリル/カプリン酸)グリセリル、ジカプリル酸プロピレングリコール、トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル、IOB値が0.15以上であるジメチルポリシロキサン及びシクロペンタシロキサンから選択される液状油の1種又は2種以上を含有するスティック状固型化粧料。
【選択図】なし
Description
<3>成分(a)の含有量が、スティック状固型化粧料の総量を基準として、好ましくは1〜10質量%、より好ましくは3〜6質量%である<1>〜<2>のスティック状固型化粧料。
<4>成分(b)の含有量が、スティック状固型化粧料の総量を基準として、好ましくは0.25質量%以上、より好ましくは0.75質量%以上であり、また好ましくは2.5質量%以下、より好ましくは1.5質量%以下である<1>〜<3>のいずれかのスティック状固型化粧料。
<5>成分(b)の含有量が、スティック状固型化粧料の総量を基準として、好ましくは0.25〜2.5質量%、より好ましくは0.75〜1.5質量%である<1>〜<4>のいずれかのスティック状固型化粧料。
<6>成分(a)と成分(b)の含有質量比((a)/(b))が、好ましくは1以上、より好ましくは3以上であり、また好ましくは8以下、より好ましくは6以下である<1>〜<5>のいずれかのスティック状固型化粧料。
<7>成分(a)と成分(b)との含有質量比((a)/(b))が好ましくは1〜8、より好ましくは3〜6である<1>〜<6>のいずれかのスティック状固型化粧料。
<8>成分(c)の含有量が、スティック状固型化粧料の総量を基準として、好ましくは30質量%以上、より好ましくは50質量%以上であり、また好ましくは95質量%以下、より好ましくは90質量%以下である<1>〜<7>のいずれかのスティック状固型化粧料。
<9>成分(c)の含有量が、スティック状固型化粧料を基準として、好ましくは30〜95質量%、より好ましくは50〜90質量%である<1>〜<8>のいずれかのスティック状固型化粧料。
<10>さらに、(d)25℃で固形状の油剤をスティック状固型化粧料の総量を基準として、好ましくは5質量%以上、より好ましくは7質量%以上、また好ましくは25質量%以下、より好ましくは20質量%以下含有する<1>〜<9>のいずれかのスティック状固型化粧料。
<11>さらに、25℃で固形状の油剤を、スティック状固型化粧料の総量を基準として、好ましくは5〜25質量%、より好ましくは7〜20質量%含有する<1>〜<10>のいずれかのスティック状固型化粧料。
<12>25℃で固形状の油剤が、パラフィンワックス、ポリエチレンワックス、エチレンプロピレンコポリマー、マイクロクリスタリンワックス、セレシン、オゾケライト、フィッシャートロプシュワックス等の炭化水素ワックスから選ばれる1種又は2種以上である<10>又は<11>のスティック状固型化粧料。
<13>紫外線散乱剤の含有量が、スティック状固型化粧料の総量を基準として、好ましくは0〜10質量%、より好ましくは0〜5質量%、さらに好ましくは0〜2質量%、特に好ましくは0〜1質量%である<1>〜<12>のいずれかのスティック状固型化粧料。
(1)固形油相成分を液状油相成分に95度にて均一に混合した後、(a)成分に混合溶解させた(b)又は(b’)成分を加え更に混合、均一分散させる。
(2)粉体成分を添加する際は(1)に粉体を加え均一に分散させ、3本ロールミルにて分散、それを再度加熱分散、脱泡させる。
(3)(2)を金型に流し込み、冷却、固化後、容器に収納し、スティック状固型化粧料を得た。
(1)結晶化
製造後30日後に成型品を目視評価にて、結晶の有無を確認した。
結晶なし: ○
不均一な外観: △
結晶有り: ×
実施例、比較例の化粧料を2mg/cm2の割合で樹脂板に塗布しSPFアナライザー(Labspher社、UV−1000S)を用いて紫外線防御能を測定した。
比較例5の性能を比較対照として、評価試料の性能を以下に示す基準に従って評価した。
○:比較例5よりUV−A領域防御能に優れる
×:比較例5よりUV−A領域防御能が劣る
女性パネラー20名の顔面に各試料を塗布してもらい、「塗布後白くならない」と回答した人数に従って、使用特性を評価した。評価基準は下記の通りである。
人数が 18人以上: ◎
人数が 15−17人: ○
人数が 7−14人: △
人数が 6人以下: ×
(実施例9) 透明サンケアスティック
(成分) 質量(%)
1.パラフィン*1 10.0
2.合成ワックス*6 3.0
3.マイクロクリスタリンワックス*2 5.0
4.(c)イソノナン酸イソトリデシル(IOB:0.15) 25.0
5.(c)イソノナン酸イソノニル(IOB:0.20) 20.0
6.(c)ジカプリル酸PG(IOB:0.32) 10.0
7.(c)トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル(IOB:0.35)19.9
8.トコフェロール 0.1
9.(a)パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル 5.6
10.(b)ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル 1.4
*6:リップワックス A−4(日本ナチュラルプロダクツ社製)
(成分) 質量(%)
1.パラフィン*1 10.0
2.合成ワックス*6 4.0
3.マイクロクリスタリンワックス*2 5.0
4.(c)イソノナン酸イソトリデシル(IOB:0.15) 25.0
5.(c)ジメチルポリシロキサン(IOB:0.18)*4 2.0
6.(c)イソノナン酸イソノニル(IOB:0.20) 16.0
7.(c)ジカプリル酸PG(IOB:0.32) 10.0
8.(c)トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル(IOB:0.35)14.9
9.トコフェロール 0.1
10.(a)パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル 6.4
11.(b)ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル 1.6
12.(ジメチコン/ビニルメチコン)クロスポリマー
・ジメチルポリシロキサン混合物*7 5.0
*7:KSG−16(信越化学工業社製)
(成分) 質量(%)
1.パラフィン*1 11.0
2.ポリエチレンワックス*8 4.0
3.マイクロクリスタリンワックス*2 5.0
5.(c)ジメチルポリシロキサン(IOB:0.18)*4 2.0
6.(c)シクロペンタシロキサン(IOB:0.19)*5 15.0
7.(c)イソノナン酸イソノニル(IOB:0.20) 15.0
8.(c)ジカプリル酸PG(IOB:0.32) 10.0
9.(c)トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル(IOB:0.35) 16.9
10.トコフェロール 0.1
11.(a)パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル 4.8
12.(b)ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル 1.2
13.(ジメチコン/ビニルメチコン)クロスポリマー*7 15.0
*8:ポリエチレンワックスPW−655N(東色ピグメント社製)
Claims (4)
- (a)パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル、(b)ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、並びに(c)イソノナン酸イソトリデシル、イソノナン酸イソノニル、トリ(カプリル/カプリン酸)グリセリル、ジカプリル酸プロピレングリコール、トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル、IOB値が0.15以上であるジメチルポリシロキサン及びシクロペンタシロキサンから選択される液状油の1種又は2種以上を含有するスティック状固型化粧料。
- (d)25℃で固形状の油剤を5〜25質量%含有する請求項1記載のスティック状固型化粧料。
- 成分(a)と成分(b)との含有量比((a)/(b))が、1以上8以下である請求項1記載のスティック状固型化粧料。
- (e)紫外線散乱剤の含有量が0〜10質量%である請求項1〜3のいずれかに記載のスティック状固型化粧料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012287632A JP2014129281A (ja) | 2012-12-28 | 2012-12-28 | スティック状固型化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012287632A JP2014129281A (ja) | 2012-12-28 | 2012-12-28 | スティック状固型化粧料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014129281A true JP2014129281A (ja) | 2014-07-10 |
Family
ID=51408049
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012287632A Pending JP2014129281A (ja) | 2012-12-28 | 2012-12-28 | スティック状固型化粧料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014129281A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021112065A1 (ja) * | 2019-12-03 | 2021-06-10 | 株式会社 資生堂 | 固形化粧料 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003095851A (ja) * | 2001-09-07 | 2003-04-03 | Basf Ag | アミノ置換ヒドロキシベンゾフェノンを含むスティック形態の化粧品および皮膚用製剤 |
JP2005513093A (ja) * | 2001-12-20 | 2005-05-12 | バイヤースドルフ・アクチエンゲゼルシヤフト | ヒドロキシベンゾフェノン類及びベンズオキサゾール誘導体を含む化粧品用及び皮膚科学的光−保護配合物 |
JP2007176866A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Shiseido Co Ltd | 口唇用化粧料 |
JP2007530637A (ja) * | 2004-04-02 | 2007-11-01 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 色素沈着を防ぐためのベンゾフェノンuvフィルタの使用 |
WO2010110020A1 (ja) * | 2009-03-26 | 2010-09-30 | 株式会社資生堂 | 日焼け止め化粧料 |
JP2012193138A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Fancl Corp | 日焼け止め化粧料 |
JP2012197251A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-10-18 | Parahermosa Co Ltd | 化粧料用紫外線吸収剤組成物及び配合化粧料 |
-
2012
- 2012-12-28 JP JP2012287632A patent/JP2014129281A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003095851A (ja) * | 2001-09-07 | 2003-04-03 | Basf Ag | アミノ置換ヒドロキシベンゾフェノンを含むスティック形態の化粧品および皮膚用製剤 |
JP2005513093A (ja) * | 2001-12-20 | 2005-05-12 | バイヤースドルフ・アクチエンゲゼルシヤフト | ヒドロキシベンゾフェノン類及びベンズオキサゾール誘導体を含む化粧品用及び皮膚科学的光−保護配合物 |
JP2007530637A (ja) * | 2004-04-02 | 2007-11-01 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 色素沈着を防ぐためのベンゾフェノンuvフィルタの使用 |
JP2007176866A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Shiseido Co Ltd | 口唇用化粧料 |
WO2010110020A1 (ja) * | 2009-03-26 | 2010-09-30 | 株式会社資生堂 | 日焼け止め化粧料 |
JP2012193138A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Fancl Corp | 日焼け止め化粧料 |
JP2012197251A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-10-18 | Parahermosa Co Ltd | 化粧料用紫外線吸収剤組成物及び配合化粧料 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021112065A1 (ja) * | 2019-12-03 | 2021-06-10 | 株式会社 資生堂 | 固形化粧料 |
JP2021088517A (ja) * | 2019-12-03 | 2021-06-10 | 株式会社 資生堂 | 固形化粧料 |
JP7381313B2 (ja) | 2019-12-03 | 2023-11-15 | 株式会社 資生堂 | 固形化粧料 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6897836B2 (ja) | アシル塩基性アミノ酸誘導体および無機粉体を含有する化粧料組成物 | |
ES2950586T3 (es) | Capa final para composiciones labiales de larga duración | |
WO2012089690A2 (en) | Comfortable, long-wearing, transfer-resistant colored cosmetic compositions | |
US11266585B2 (en) | Lipophilic cosmetic compositions containing pelargonic acid esters | |
JP2015193607A (ja) | 油性固形化粧料 | |
US20100234321A1 (en) | Oily cosmetic and cosmetic product | |
JP5964049B2 (ja) | スティック状乳化化粧料 | |
JP5727754B2 (ja) | 固形粉末化粧料 | |
JP5026725B2 (ja) | 油性化粧料 | |
JP2019112384A (ja) | 油系分散体及びそれを用いた化粧料 | |
JP5303229B2 (ja) | 油性固形アイライナー組成物 | |
JP7306952B2 (ja) | 粉末化粧料およびその製造方法 | |
JP6138485B2 (ja) | 油中水型固形乳化化粧料 | |
JP7111480B2 (ja) | 粉末状化粧料 | |
JP2014129281A (ja) | スティック状固型化粧料 | |
JP6077216B2 (ja) | 油性化粧料 | |
JP2012149005A (ja) | メーキャップ化粧料 | |
JPWO2018199314A1 (ja) | 油性化粧料 | |
JP6621263B2 (ja) | 口唇化粧料 | |
KR102565530B1 (ko) | 고니오크로마틱 안료 및 백색 안료를 포함하는 메이크업용 분말형 조성물 | |
JP4895289B2 (ja) | 棒状化粧料 | |
JP2010163370A (ja) | 凹凸補正用油性化粧料 | |
JP6148856B2 (ja) | 油性化粧料 | |
JP2020164458A (ja) | 水中油型乳化化粧料 | |
JP7296592B2 (ja) | 油性固形化粧料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150929 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160725 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160802 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20160926 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161118 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20161213 |