JP2014103258A - Liquid discharge device, spray path setting method and program - Google Patents

Liquid discharge device, spray path setting method and program Download PDF

Info

Publication number
JP2014103258A
JP2014103258A JP2012254387A JP2012254387A JP2014103258A JP 2014103258 A JP2014103258 A JP 2014103258A JP 2012254387 A JP2012254387 A JP 2012254387A JP 2012254387 A JP2012254387 A JP 2012254387A JP 2014103258 A JP2014103258 A JP 2014103258A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
needle
path
movement
application
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012254387A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6240383B2 (en
Inventor
Mitsuaki Kinoshita
光昭 木下
Kenichi Kikuta
賢一 菊田
Kenichi Yokoto
賢一 横嶌
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alpha Design Co Ltd
Original Assignee
Alpha Design Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Alpha Design Co Ltd filed Critical Alpha Design Co Ltd
Priority to JP2012254387A priority Critical patent/JP6240383B2/en
Publication of JP2014103258A publication Critical patent/JP2014103258A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6240383B2 publication Critical patent/JP6240383B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Spray Control Apparatus (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To precisely discharge an application liquid to a processing object such as a circuit board.SOLUTION: A liquid discharge device comprises: a nozzle for discharging an application liquid in a fan shape or a conical shape; a needle for discharging the application liquid in a filament shape; and move means for moving the nozzle and the needle. Spray path setting processing is then performed for setting spray paths (a nozzle path and a needle path) which are moving paths of the nozzle and the needle during application work, with respect to an application processing object, and the application liquid is discharged to the application processing object while moving the nozzle and the needle by means of the move means on the basis of the set spray paths. In such a case, the nozzle path including a discharge moving path excluding at least a first application inhibition area and a non-discharge moving path in accordance with the setting of a nozzle moving height is set for the nozzle, and the needle path including a discharge moving path excluding at least a second application inhibition area and a non-discharge moving path in accordance with the setting of a needle moving height is set for the needle.

Description

本発明は、例えば電子回路基板等の処理対象物に保護膜等の薄膜をコーティングするためなどにスプレーパターン吐出を行う液体吐出装置に関する。   The present invention relates to a liquid ejection apparatus that ejects a spray pattern in order to coat a processing target such as an electronic circuit board with a thin film such as a protective film.

特公平6−59451号公報Japanese Patent Publication No. 6-59451

電子回路基板などに対しては、防湿、防錆などを目的として保護膜となる薄膜をコーティングすることが行われる。
例えば上記特許文献1には塗布液体を吐出する装置が開示されている。
An electronic circuit board or the like is coated with a thin film serving as a protective film for the purpose of moisture proofing and rust prevention.
For example, Patent Document 1 discloses an apparatus for discharging a coating liquid.

ところで電子回路基板等にコーティングを行う際には、必要箇所になるべく均一な厚みでコーティング膜が形成されるようにすることや、効率よく被膜形成できることが求められる。特に処理対象物上でコーティングを行う部分と行わない部分が存在する場合、コーティング剤の塗布位置の制御も重要である。
そこで本発明では、液体吐出装置において効率よく、かつ正確にコーティングができるようにすることを目的とする。
By the way, when coating an electronic circuit board or the like, it is required that the coating film be formed with a uniform thickness as much as possible, and that the film can be formed efficiently. In particular, when there are a portion to be coated and a portion not to be coated on the object to be treated, it is also important to control the application position of the coating agent.
Accordingly, an object of the present invention is to enable efficient and accurate coating in a liquid ejection apparatus.

本発明の液体吐出装置は、塗布液体を扇状又は円錐状に吐出するノズルと、塗布液体を細線状に吐出するニードルと、上記ノズル及び上記ニードルを移動させる移動手段と、塗布処理対象物に対する、上記ノズル及び上記ニードルの塗布作業時の移動経路であるスプレーパスを設定するスプレーパス設定処理を行うとともに、設定したスプレーパスに基づいて上記移動手段により上記ノズル及び上記ニードルを移動させながら、上記塗布処理対象物に対する塗布液体の吐出を実行させる制御手段とを備える。上記制御手段は、上記スプレーパス設定処理として、塗布処理対象物画像を取り込む処理と、上記ノズルの非吐出移動時の高さ位置であるノズル移動高さを設定する処理と、上記ニードルの非吐出移動時の高さ位置であるニードル移動高さを設定する処理と、上記塗布処理対象物画像上で、上記ノズルについての第1の塗布禁止エリアを設定する処理と、上記塗布処理対象物画像上で、上記ニードルについての第2の塗布禁止エリアを設定する処理と、上記ノズルについての上記スプレーパスとして、上記第1の塗布禁止エリアを少なくとも除いた吐出移動経路と上記ノズル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むノズルパスを作成する処理と、上記ニードルについての上記スプレーパスとして、上記第2の塗布禁止エリアを少なくとも除いた吐出移動経路と上記ニードル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むニードルパスを作成する処理とを行う。
塗布液体を扇状又は円錐状に吐出するノズルと、塗布液体を細線状に吐出するニードルとを有することで、処理対象物の状態にあわせてノズルとニードルで分担して塗布液体を吐出できる。例えば塗布エリアとしてノズルでは対応できないような幅が狭い部分があった場合や、ノズルが入り込めない位置への塗布などにはニードルを使用して対処できる。そして、ノズルパスとニードルパスは、それぞれ第1,第2の塗布禁止エリアを考慮して効率の良い経路で塗布を行うことができる。さらにノズルパス及びニードルパスは、ノズル移動高さ及びニードル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むことで、塗布過程での非吐出状態の移動が適切な高さの状態で実行できる。
The liquid discharge device of the present invention is a nozzle that discharges the application liquid in a fan shape or a conical shape, a needle that discharges the application liquid in a thin line shape, a moving means that moves the nozzle and the needle, and an object to be processed. While performing a spray path setting process for setting a spray path that is a movement path during the application operation of the nozzle and the needle, the application means while moving the nozzle and the needle by the moving means based on the set spray path And control means for executing discharge of the coating liquid onto the processing object. The control means includes, as the spray path setting process, a process for capturing an object image to be applied, a process for setting a nozzle movement height that is a height position when the nozzle is not ejected, and a non-ejection of the needle. A process of setting a needle movement height which is a height position at the time of movement, a process of setting a first application prohibited area for the nozzle on the application process object image, and a process on the application process object image In the process of setting the second application prohibited area for the needle and the spray path for the nozzle, the discharge movement path excluding at least the first application prohibited area and the nozzle movement height are set. As a process of creating a nozzle path including the non-ejection movement path according to the above, and the spray path for the needle, the second application prohibited area is at least And a process of creating a needle path including the non-ejection movement path in accordance with the setting of the ejection movement path and the needle moves height excluding.
By having the nozzle that discharges the application liquid in a fan shape or a conical shape and the needle that discharges the application liquid in a thin line shape, the application liquid can be discharged in a shared manner by the nozzle and the needle according to the state of the object to be processed. For example, when there is a narrow part that cannot be handled by the nozzle as the application area, or when the application is applied to a position where the nozzle cannot enter, a needle can be used. The nozzle path and the needle path can be applied by an efficient route in consideration of the first and second application prohibited areas, respectively. Furthermore, since the nozzle path and the needle path include a non-ejection movement path according to the setting of the nozzle movement height and the needle movement height, the movement in the non-ejection state in the application process can be executed at an appropriate height.

また上記制御手段は、上記スプレーパス設定処理において、さらに、作成したノズルパスで、ノズル移動の試行動作を実行させ、試行結果に応じてノズルパスの修正又はノズルパスの決定を行う処理と、作成したニードルパスで、ニードル移動の試行動作を実行させ、試行結果に応じてニードルパスの修正又はニードルパスの決定を行う処理とを行う。
これにより、作成したスプレーパス(ノズルパス、ニードルパス)についての実際の塗布処理対象物に応じた検証や、適切なスプレーパスへの修正ができる。
また上記ノズル移動高さ、及び上記ニードル高さは、上記塗布処理対象物に設けられた構造物の高さを越える高さに設定されるようにする。これにより塗布過程での非吐出移動時に、ノズルやニードルが構造物に衝突するような事態を避けることができる。
In the spray path setting process, the control unit further performs a process of performing a nozzle movement trial operation on the created nozzle path, and corrects the nozzle path or determines the nozzle path according to the trial result, and the created needle path. The needle movement trial operation is executed, and the needle path is corrected or the needle path is determined according to the trial result.
Thereby, verification according to the actual application | coating process object about the produced spray path (nozzle path, needle path), and correction to an appropriate spray path can be performed.
The nozzle moving height and the needle height are set to a height exceeding the height of the structure provided on the coating object. As a result, it is possible to avoid a situation in which the nozzle or the needle collides with the structure during the non-ejection movement in the coating process.

また入力手段を備え、上記制御手段は、上記第1の塗布禁止エリアを設定する処理と、上記第2の塗布禁止エリアを設定する処理の一方又は両方を、上記入力手段からの入力に基づいて行う。
これにより、オペレータの意志を反映させた塗布禁止エリア設定が可能となる。
また上記制御手段は、上記第1の塗布禁止エリアを設定する処理と、上記第2の塗布禁止エリアを設定する処理の一方又は両方を、上記塗布処理対象物画像の画像解析結果に基づいて行う。これにより、オペレータの手間をかけずに塗布禁止エリアを設定することが可能となり、工程の効率が向上する。
The control means further includes one or both of a process for setting the first application prohibited area and a process for setting the second application prohibited area based on an input from the input means. Do.
This makes it possible to set an application prohibited area that reflects the will of the operator.
Further, the control means performs one or both of a process for setting the first application prohibited area and a process for setting the second application prohibited area based on an image analysis result of the application object image. . Thereby, it becomes possible to set the application prohibition area without requiring the operator's trouble, and the efficiency of the process is improved.

また先端部が上記ノズルの先端部と略同サイズであって、弾性変形もしくは屈折可能とされ、該先端部の弾性変形もしくは屈折に応じて接触検出信号を出力するダミーノズルが、上記ノズルに取り替えて装着可能とされ、上記制御手段は、上記ダミーノズルが装着された状態で、ノズル移動の試行動作を実行させた際の、上記接触検出信号の受信に応じたノズルパスの修正を行う。
また先端部が上記ニードルの先端部と略同サイズであって、弾性変形もしくは屈折可能とされ、該先端部の弾性変形もしくは屈折に応じて接触検出信号を出力するダミーニードルが、上記ニードルに取り替えて装着可能とされ、上記制御手段は、上記ダミーニードルが装着された状態で、ニードル移動の試行動作を実行させた際の、上記接触検出信号の受信に応じたニードルパスの修正を行う。
これらにより、ノズルやニードル、或いは処理対象物側での破損、傷付き等を発生させない試行動作(ノズルパス、ニードルパスのシミュレーション)を実行できる。また試行動作により作成したノズルパス、ニードルパスを検証し、必要に応じて修正できる。
A dummy nozzle that is substantially the same size as the tip of the nozzle and can be elastically deformed or refracted and outputs a contact detection signal in accordance with the elastic deformation or refraction of the tip is replaced with the nozzle. The control means corrects the nozzle path according to the reception of the contact detection signal when the trial operation of nozzle movement is executed in a state where the dummy nozzle is mounted.
A dummy needle that is substantially the same size as the tip of the needle and can be elastically deformed or refracted and outputs a contact detection signal in accordance with the elastic deformation or refraction of the tip is replaced with the needle. The control means corrects the needle path according to the reception of the contact detection signal when the trial operation of the needle movement is executed in a state where the dummy needle is mounted.
Thus, a trial operation (nozzle pass, needle pass simulation) that does not cause breakage, damage, or the like on the nozzle or needle or the processing object side can be executed. In addition, the nozzle path and needle path created by the trial operation can be verified and corrected if necessary.

また撮像手段を備え、上記制御手段は、上記撮像手段で撮像された上記塗布処理対象物画像を取り込む処理を行う。これにより処理対象物画像を容易に取り込める。
また上記ノズル又は上記ニードルから捨て打ちとしての塗布液体の吐出を実行させる捨て打ち部が設けられている。また上記ノズル又は上記ニードルを塗布液体の希釈剤に浸け置きする浸け置き部が設けられている。捨て打ちや浸け置きにより、塗布液体の詰まりや、それによるスプレーパターンの変化等が生じないようにすることができる。
また上記ニードルは、先端部が屈曲されている。これにより、処理対象物上の上方から塗布ができないような場所にも塗布することが可能となる。
In addition, an imaging unit is provided, and the control unit performs a process of taking in the application object image picked up by the imaging unit. As a result, the processing object image can be easily captured.
In addition, a discarding unit is provided for discharging the coating liquid as a discarding from the nozzle or the needle. Further, a soaking part for soaking the nozzle or the needle in the diluent of the coating liquid is provided. It is possible to prevent clogging of the coating liquid and a change in the spray pattern due to discarding or soaking.
Further, the tip of the needle is bent. Thereby, it becomes possible to apply | coat also to the place which cannot apply | coat from the upper direction on a process target object.

本発明のスプレーパス設定方法は、塗布処理対象物画像を取り込む工程と、上記ノズルの非吐出移動時の高さ位置であるノズル移動高さを設定する工程と、上記ニードルの非吐出移動時の高さ位置であるニードル移動高さを設定する工程と、上記塗布処理対象物画像上で、上記ノズルについての第1の塗布禁止エリアを設定する工程と、上記塗布処理対象物画像上で、上記ニードルについての第2の塗布禁止エリアを設定する工程と、上記ノズルについての上記スプレーパスとして、上記第1の塗布禁止エリアを少なくとも除いた吐出移動経路と、上記ノズル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むノズルパスを作成する工程と、上記ニードルについての上記スプレーパスとして、上記第2の塗布禁止エリアを少なくとも除いた吐出移動経路と、上記ニードル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むニードルパスを作成する工程とを有する。
本発明のプログラムは、以上のスプレーパス設定方法を実現するために演算処理装置に各工程の処理を実行させるプログラムである。
The spray path setting method of the present invention includes a step of capturing a coating object image, a step of setting a nozzle moving height that is a height position during non-ejection movement of the nozzle, and a non-ejection movement of the needle. A step of setting a needle movement height which is a height position, a step of setting a first application prohibited area for the nozzle on the application processing object image, and the application processing object image According to the setting of the nozzle movement height, the step of setting the second application prohibited area for the needle, the discharge movement path excluding at least the first application prohibited area as the spray path for the nozzle A step of creating a nozzle path including a non-discharge movement path, and a discharge transfer excluding at least the second application prohibited area as the spray path for the needle. A path and, a step of creating a needle path including the non-ejection movement path in accordance with the setting of the needle movement height.
The program of the present invention is a program that causes the arithmetic processing unit to execute processing of each process in order to realize the above spray path setting method.

本発明によれば、処理対象物の形状、塗布エリアの形状や幅など、塗布を行う部分の状況に応じてノズルとニードルを分担させて、液体吐出を行うことができ、正確、精細な塗布が実現できる。またノズルパスとニードルパスをそれぞれ個別に設定することで、ノズルとニードルを併用した液体吐出動作を、正確かつ効率よく実行できる。特にノズルパスとニードルパスは、それぞれ第1,第2の塗布禁止エリアを考慮して吐出移動経路が設定され、またノズル移動高さ及びニードル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むことで、効率の良い経路で塗布を行うことができる。   According to the present invention, it is possible to perform liquid discharge by sharing a nozzle and a needle according to the situation of a portion to be coated, such as the shape of a processing object, the shape and width of a coating area, and an accurate and fine coating. Can be realized. In addition, by individually setting the nozzle path and the needle path, the liquid discharge operation using both the nozzle and the needle can be executed accurately and efficiently. In particular, the nozzle path and the needle path have discharge movement paths set in consideration of the first and second application prohibited areas, respectively, and include a non-discharge movement path according to the settings of the nozzle movement height and the needle movement height. Thus, coating can be performed by an efficient route.

本発明の実施の形態のコーティング装置の外観例の説明図である。It is explanatory drawing of the example of an external appearance of the coating apparatus of embodiment of this invention. 実施の形態のコーティング装置の吐出動作の説明図である。It is explanatory drawing of the discharge operation | movement of the coating apparatus of embodiment. 実施の形態のコーティング装置の吐出動作及びダミーノズル、ダミーニードルの説明図である。It is explanatory drawing of the discharge operation of the coating apparatus of an embodiment, a dummy nozzle, and a dummy needle. 実施の形態のスプレーパターン幅及びニードル変形例の説明図である。It is explanatory drawing of the spray pattern width | variety of embodiment, and a needle modification. 実施の形態のコーティング装置の制御構成のブロック図である。It is a block diagram of the control composition of the coating device of an embodiment. 実施の形態の禁止エリアの説明図である。It is explanatory drawing of the prohibition area of embodiment. 実施の形態の禁止エリア及びノズルパス設定の説明図である。It is explanatory drawing of the prohibition area and nozzle path setting of embodiment. 実施の形態のニードルパス設定の説明図である。It is explanatory drawing of the needle path setting of embodiment. 実施の形態のスプレーパス設定処理のフローチャートである。It is a flowchart of the spray path | pass setting process of embodiment. 実施の形態のシミュレーション動作の説明図である。It is explanatory drawing of the simulation operation | movement of embodiment. 実施の形態の他のニードル例の説明図である。It is explanatory drawing of the other example of needles of embodiment.

以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、液体吐出装置の実施の形態として、処理対象物である回路基板に薄膜を形成するためのコーティング剤を吐出するコーティング装置の例を挙げる。
説明は次の順序で行う。
<1.実施の形態のコーティング装置の構成>
<2.コーティング装置の制御構成>
<3.実施の形態のスプレーパス設定>
<4.他のニードル例>
<5.プログラム>
<6.変形例>
Embodiments of the present invention will be described below. As an embodiment of the liquid ejecting apparatus, an example of a coating apparatus that ejects a coating agent for forming a thin film on a circuit board that is a processing target is given.
The description will be given in the following order.
<1. Configuration of Coating Apparatus of Embodiment>
<2. Control configuration of coating equipment>
<3. Spray path setting of embodiment>
<4. Other needle examples>
<5. Program>
<6. Modification>

<1.実施の形態のコーティング装置の構成>
図1に本発明の液体吐出装置の実施の形態であるコーティング装置1の外観例を示す。
このコーティング装置1は、その作業台部2に載置された回路基板100に対して、ノズル3又はニードル16からコーティング剤を吐出して吹き付け、回路基板100に防湿や防錆のための保護薄膜を形成する装置である。
なお後述するが、ノズル3は塗布液体(コーティング剤)を扇状又は円錐状に吐出するノズルである。一方、ニードルとは先端が例えば針状とされて塗布液体を細線状に吐出する「ノズル」である。各ノズルを区別するために、説明上、先端部が細くされ、細線状の液体吐出パターンを有するノズルを「ニードル」と呼ぶこととしている。
<1. Configuration of Coating Apparatus of Embodiment>
FIG. 1 shows an example of the appearance of a coating apparatus 1 which is an embodiment of a liquid ejection apparatus of the present invention.
The coating apparatus 1 discharges and sprays a coating agent from a nozzle 3 or a needle 16 onto a circuit board 100 placed on the work table unit 2 to protect the circuit board 100 from moisture and rust. Is a device for forming
In addition, although mentioned later, the nozzle 3 is a nozzle which discharges application liquid (coating agent) in fan shape or cone shape. On the other hand, the needle is a “nozzle” whose tip is formed in a needle shape, for example, and discharges a coating liquid in a thin line shape. In order to distinguish each nozzle, for the sake of explanation, a nozzle having a thin tip portion and a thin line-like liquid discharge pattern is referred to as a “needle”.

図示のように、作業台部2上には基板載置台10が設けられ、この基板載置台10にコーティング処理対象物となる回路基板100が載置される。
例えばこのコーティング装置1は電子回路基板等の製造ラインの一部として使用することができ、回路基板100が図示しない搬送機構で基板載置台10上にセットされる。そしてコーティング装置1でコーティング処理が行われ、その後図示しない搬送機構で回路基板100が取り出されて次工程に移送される。これによりライン上で連続作業としてのコーティング処理が実行される。
もちろん、コーティング装置1は、このようにラインを構成するだけでなく、個別に回路基板100等の処理対象物に対してコーティングを行う機器としてもよい。
As shown in the figure, a substrate mounting table 10 is provided on the work table 2, and a circuit board 100 that is a coating object is mounted on the substrate mounting table 10.
For example, the coating apparatus 1 can be used as part of a production line for electronic circuit boards and the like, and the circuit board 100 is set on the substrate mounting table 10 by a transport mechanism (not shown). Then, a coating process is performed in the coating apparatus 1, and then the circuit board 100 is taken out by a transport mechanism (not shown) and transferred to the next process. Thereby, the coating process as a continuous operation is executed on the line.
Of course, the coating apparatus 1 may not only configure the line as described above, but also may be an apparatus that individually coats a processing target such as the circuit board 100.

作業台部2の上方には、コーティング剤を吐出するノズル3及びニードル16が位置される。
ノズル3は、筒状先端部3aがノズルベース部3bに取り付けられた構造とされている。
ニードル16は、針状先端部16aがニードルベース16bに取り付けられた構造とされている。
ノズル3及びニードル16は、ノズルホルダ4に取り付けられた状態で、作業台部2の上方空間をX方向、Y方向、Z方向に移動可能とされている。
Above the work table portion 2, the nozzle 3 and the needle 16 for discharging the coating agent are located.
The nozzle 3 has a structure in which a cylindrical tip 3a is attached to a nozzle base 3b.
The needle 16 has a structure in which a needle-like tip 16a is attached to a needle base 16b.
The nozzle 3 and the needle 16 are configured to be movable in the X direction, the Y direction, and the Z direction in the upper space of the work table 2 while being attached to the nozzle holder 4.

ノズルホルダ4は、X方向ガイド11に対して、X方向にスライド可能に取り付けられている。X方向ガイド11には、Xモータ7と、Xモータ7によって回転される駆動軸11aが配備されており、ノズルホルダ4は駆動軸11aの回転により、X方向ガイド11に沿ってX方向に移動可能とされている。このため駆動軸11aとノズルホルダ4の間では、駆動軸11aの回転がスライド移動方向に変換されるギア構成等による連結機構が採用される。   The nozzle holder 4 is attached to the X direction guide 11 so as to be slidable in the X direction. The X direction guide 11 is provided with an X motor 7 and a drive shaft 11a rotated by the X motor 7. The nozzle holder 4 moves in the X direction along the X direction guide 11 by the rotation of the drive shaft 11a. It is possible. For this reason, a connection mechanism is adopted between the drive shaft 11a and the nozzle holder 4 with a gear configuration or the like in which the rotation of the drive shaft 11a is converted into the slide movement direction.

X方向ガイド11は、ガイドホルダ13に固定されている。そしてガイドホルダ13は、Y方向ガイド12に対して、Y方向にスライド可能に取り付けられている。Y方向ガイド12には、Yモータ8と、Yモータ8によって回転される駆動軸12aが配備されており、ガイドホルダ13(即ちX方向ガイド11全体)は駆動軸12aの回転により、Y方向ガイド12に沿ってY方向に移動可能とされている。このため駆動軸12aとガイドホルダ13との間は、駆動軸12aの回転がスライド移動方向に変換されるギア構成などによる連結機構が採用される。   The X direction guide 11 is fixed to a guide holder 13. The guide holder 13 is attached to the Y-direction guide 12 so as to be slidable in the Y direction. The Y-direction guide 12 is provided with a Y motor 8 and a drive shaft 12a rotated by the Y motor 8, and the guide holder 13 (that is, the entire X-direction guide 11) is rotated by the drive shaft 12a. 12 is movable in the Y direction. For this reason, a connection mechanism is employed between the drive shaft 12a and the guide holder 13 such as a gear configuration in which the rotation of the drive shaft 12a is converted into the slide movement direction.

ノズルホルダ4には、ノズルZモータ5が配置されており、このノズルZモータ5によって、ノズル3の先端が上下(Z方向)に移動される。つまり作業台部2に対するノズル3の筒状先端部3aの高さ位置が変動される。
さらにノズルホルダ4には、ニードルZモータ15が配置されており、このニードルZモータ5によって、ニードル16の先端が上下(Z方向)に移動される。つまり作業台部2に対するニードル16の針状先端部16aの高さ位置が変動される。
以上の構成により、ノズル3及びニードル16の位置は、Xモータ7、Yモータ8、ノズルZモータ5、ニードルZモータ15によって、作業台部2の上方空間をX方向、Y方向、Z方向に移動可能となる。
X方向、Y方向、Z方向に移動することで、載置された回路基板100上の各所を移動しながらのコーティング剤のスプレーを行うことや、後述するスプレーパスのシミュレーションなどが実行可能となる。
A nozzle Z motor 5 is disposed in the nozzle holder 4, and the tip of the nozzle 3 is moved up and down (Z direction) by the nozzle Z motor 5. That is, the height position of the cylindrical tip 3a of the nozzle 3 with respect to the work table 2 is changed.
Furthermore, a needle Z motor 15 is disposed in the nozzle holder 4, and the tip of the needle 16 is moved up and down (Z direction) by the needle Z motor 5. That is, the height position of the needle-like tip portion 16a of the needle 16 with respect to the work table portion 2 is changed.
With the above configuration, the nozzle 3 and the needle 16 are positioned in the X direction, the Y direction, and the Z direction in the upper space of the work table 2 by the X motor 7, the Y motor 8, the nozzle Z motor 5, and the needle Z motor 15. It becomes possible to move.
By moving in the X direction, the Y direction, and the Z direction, it is possible to perform spraying of the coating agent while moving each place on the mounted circuit board 100, and to simulate a spray path described later. .

またさらにノズルホルダ4には、ノズル回転モータ6が取り付けられており、ノズル回転モータ6によりノズル3の回転角度位置を変化させることができる。回転角度位置とは、図2Aのθ方向の位置である。   Further, a nozzle rotation motor 6 is attached to the nozzle holder 4, and the rotation angle position of the nozzle 3 can be changed by the nozzle rotation motor 6. The rotation angle position is a position in the θ direction of FIG. 2A.

図2Aには、ノズル3が回路基板100の上方からコーティング剤(スプレーパターン90)を吐出して吹き付けている様子を拡大して示している。
また図3Aには、ニードル16が回路基板100の上方からコーティング剤(スプレーパターン91)を吐出して吹き付けている様子を拡大して示している。
図2Aに示すように、回路基板100には、抵抗、コンデンサ、ICチップ等の各種の電子部品110,111がマウントされており、その各種電子部品110,111の高さw,vや、電子部品間のサイズk,mなども多様である。本実施の形態では、例えばこのような回路基板100に対して、X方向、Y方向、Z方向にノズル3及びニードル16が移動されながら吹きつけを行うことで、回路基板100の形状や部品配置に応じた適切な薄膜形成を可能とする。
FIG. 2A shows an enlarged view of the nozzle 3 discharging and spraying a coating agent (spray pattern 90) from above the circuit board 100. FIG.
FIG. 3A shows an enlarged view of the needle 16 ejecting and spraying a coating agent (spray pattern 91) from above the circuit board 100. FIG.
As shown in FIG. 2A, various electronic components 110 and 111 such as resistors, capacitors, and IC chips are mounted on the circuit board 100. The heights w and v of the various electronic components 110 and 111, and the electronic components There are various sizes k and m between parts. In the present embodiment, for example, the shape and component arrangement of the circuit board 100 are performed by spraying such a circuit board 100 while the nozzle 3 and the needle 16 are moved in the X direction, the Y direction, and the Z direction. It is possible to form an appropriate thin film according to the conditions.

X方向、Y方向の移動制御に関しては、例えば基板載置部10の角部(隅部)を座標上の原点aとし、この原点aを中心としてノズル3及びニードル16のXY方向の移動距離が設定される。なお、基板載置部10には、例えば2箇所にピンが設けられ、また回路基板100の2箇所に当該ピンを挿入する穴が開けられている。これらの穴をピンに挿入させるように配置することで、回路基板100の角部(隅部)が原点aとなるように回路基板100が位置決め配置される。   Regarding the movement control in the X direction and the Y direction, for example, the corner (corner) of the substrate platform 10 is the origin a on the coordinates, and the movement distance of the nozzle 3 and the needle 16 in the XY direction is centered on the origin a. Is set. Note that the substrate platform 10 is provided with pins at two locations, for example, and has holes for inserting the pins at two locations on the circuit board 100. By arranging these holes so as to be inserted into the pins, the circuit board 100 is positioned and arranged so that the corner (corner) of the circuit board 100 becomes the origin a.

ノズル3の筒状先端部3aは、図2B、図2Cに示すように形成され、吐出孔3cから加圧液体のコーティング剤を吐出する。突端部3d,3dより奥まった位置に吐出孔3cが形成されていることで、吐出されるコーティング剤のスプレーパターン90は、図2Dに示すように扁平な扇状となる。図2Eには、図2Dのスプレーパターン90のa−a断面を示しているが、扇状のスプレーパターン90は、縁部近傍に、厚幅部分90aが生じ、縁部及び中央部は、厚みが比較的薄くなる。
この図2Dのようなスプレーパターン90は、a−a断面線の位置よりさらに下方にいくと、霧化状になり、コーティングに適さなくなる。霧化状のパターンで塗布したコーティング剤は塗布されない部分やピンホールが多くなり、不良品になることがある。そのため、例えばa−a断面線の位置あたりで、回路基板100の表面に達することが適切である。
図2Aでは、上述のZ方向移動によりノズル3の回路基板100の表面からの高さ位置が、距離tの状態に調整され、コーティング剤の塗布が行われている様子を示している。この場合の塗布面からの距離tは、スプレーパターン90による塗布幅が、最も効率よく塗布ができる幅hとなる高さを得る距離である。この状態でY方向に移動されることで、幅hの状態でのY方向へ帯状に進行する塗布が行われることになる。
The cylindrical tip 3a of the nozzle 3 is formed as shown in FIGS. 2B and 2C, and discharges the pressurized liquid coating agent from the discharge hole 3c. Since the discharge hole 3c is formed at a position deeper than the protrusions 3d and 3d, the spray pattern 90 of the discharged coating agent has a flat fan shape as shown in FIG. 2D. FIG. 2E shows the aa cross section of the spray pattern 90 of FIG. 2D, but the fan-shaped spray pattern 90 has a thick width portion 90a in the vicinity of the edge, and the edge and the center have a thickness. Relatively thin.
When the spray pattern 90 as shown in FIG. 2D goes further below the position of the a-a section line, it becomes atomized and becomes unsuitable for coating. The coating agent applied in an atomized pattern increases the number of unapplied parts and pinholes, which may result in a defective product. Therefore, for example, it is appropriate to reach the surface of the circuit board 100 around the position of the aa sectional line.
FIG. 2A shows a state where the height position of the nozzle 3 from the surface of the circuit board 100 is adjusted to the distance t by the above-described movement in the Z direction, and the coating agent is applied. The distance t from the application surface in this case is a distance for obtaining a height at which the application width by the spray pattern 90 is the width h at which application can be performed most efficiently. By being moved in the Y direction in this state, application is performed so as to progress in a band shape in the Y direction in the state of the width h.

また上述のようにノズル回転モータ6によりノズル3の回転角度位置を変化させることができる。例えば図2Aの状態から90°回転角度位置を変化させてX方向に移動させれば、幅hの状態でのX方向へ帯状に進行する塗布が行われることになる。
さらに回転角度位置により、進行させる塗布の帯の幅を調節することもできる。例えば図2Aの状態から45°回転角度位置を変化させてY方向に移動させれば、図示の幅hの半分の幅の状態でのY方向へ帯状に進行する塗布を行うことが可能になる。
図4A、図4B、図4Cには、各種回転角度位置θ1、θ2、θ3の場合に、例えばY方向側から見た場合のスプレーパターン90及び塗布領域92の塗布幅を示している。図のように、塗布幅を回転角度位置によって調整できる。
従って重ね塗り部分を考慮して塗布幅を調整したり、比較的狭い箇所にスプレーを行う場合などは、回転角度位置を調整して、進行方向からみたスプレーパターン幅を調整することで、適切な幅の塗布が可能となる。
Further, as described above, the rotation angle position of the nozzle 3 can be changed by the nozzle rotation motor 6. For example, if the rotation angle position is changed by 90 ° from the state shown in FIG. 2A and moved in the X direction, the application proceeds in a strip shape in the X direction in the state of the width h.
Furthermore, the width of the coating band to be advanced can be adjusted by the rotational angle position. For example, if the 45 ° rotation angle position is changed from the state of FIG. 2A and moved in the Y direction, it is possible to perform coating that progresses in a band shape in the Y direction in the state of a half width of the width h shown in the figure. .
4A, 4B, and 4C show application widths of the spray pattern 90 and the application region 92 when viewed from the Y direction side, for example, in the case of various rotation angle positions θ1, θ2, and θ3. As shown in the figure, the coating width can be adjusted by the rotation angle position.
Therefore, when adjusting the coating width in consideration of the overcoating part or spraying in a relatively narrow part, adjust the rotation angle position and adjust the spray pattern width as seen from the direction of travel. Application of width becomes possible.

一方、このようなノズル3の回転角度位置調整でも対応できない場合もある。例えば部品間のサイズmのように、かなり狭い箇所にスプレーを行う場合には、ノズル3からの扇状スプレーパターン90では、適切に塗布できない場合がある。また、狭い領域ではなくとも、背の高い電子部品110の近辺などでは、ノズル3の筒状先端部3aが電子部品110にぶつかってしまい、ノズル3が塗布面からの距離tの位置まで下降できないこともある。そのような場合、図3Aのように、細いニードル16によって細線状のスプレーパターン91によりコーティング剤のスプレーを行うようにする。
即ち本実施の形態のコーティング装置1は、塗布液体を扇状に吐出するノズル3と、塗布液体を細線状に吐出するニードル16を有することで、処理対象物(回路基板100等)の状態にあわせてノズル3とニードル16で分担して塗布液体を吐出し、塗布作業を実行できる。このため回路基板100の電子部品110配置などにフレキシブルに対応して適切なコーティングが可能である。
On the other hand, even such adjustment of the rotational angle position of the nozzle 3 may not be able to cope. For example, when spraying is performed in a considerably narrow portion such as the size m between parts, the fan-shaped spray pattern 90 from the nozzle 3 may not be applied properly. Even if the area is not a narrow area, the cylindrical tip 3a of the nozzle 3 hits the electronic component 110 in the vicinity of the tall electronic component 110, and the nozzle 3 cannot be lowered to the position of the distance t from the application surface. Sometimes. In such a case, as shown in FIG. 3A, the coating agent is sprayed by the fine needle-shaped spray pattern 91 by the fine needle 16.
That is, the coating apparatus 1 of the present embodiment includes the nozzle 3 that discharges the application liquid in a fan shape and the needle 16 that discharges the application liquid in a thin line shape, so that it matches the state of the processing object (circuit board 100 or the like). Thus, the application work can be performed by discharging the application liquid in a shared manner by the nozzle 3 and the needle 16. For this reason, it is possible to perform appropriate coating in a flexible manner corresponding to the arrangement of the electronic components 110 on the circuit board 100.

なお図1,図2,図3には示していないが、ノズル3及びニードル16に対しては、加圧液体としてのコーティング剤を吐出させるために、コーティング剤を供給する供給機構や吐出機構が設けられる。吐出機構で圧力が調節されることで、コーティング剤の吐出量やスプレーパターン幅が調整される。
コーティング剤は例えばポリオレフィン系若しくはアクリル系若しくはポリウレタン系の絶縁コーティング剤である。シンナーで希釈して液状で回路基板100に塗布した場合、10分程度乾燥させることで、回路基板100に基板遮蔽層としての薄膜が形成される。
Although not shown in FIGS. 1, 2, and 3, a supply mechanism and a discharge mechanism for supplying a coating agent are provided to the nozzle 3 and the needle 16 in order to discharge the coating agent as a pressurized liquid. Provided. The discharge amount of the coating agent and the spray pattern width are adjusted by adjusting the pressure by the discharge mechanism.
The coating agent is, for example, a polyolefin-based, acrylic-based, or polyurethane-based insulating coating agent. When diluted with thinner and applied to the circuit board 100 in a liquid state, a thin film as a substrate shielding layer is formed on the circuit board 100 by drying for about 10 minutes.

ところで本実施の形態のコーティング装置1では、ノズル3及びニードル16はノズルホルダ4から取り外しが可能とされている。そして図3B、図3Cに示すようにダミーノズル200、ダミーニードル300に交換することができる。
ダミーノズル200、ダミーニードル300は、後述するスプレーパス(ノズルパス及びニードルパス)の設定処理の際のシミュレーションに用いるものである。
ダミーノズル200は、その先端部200aがノズル3の筒状先端部3aと略同サイズであって、弾性変形もしくは屈折可能とされている。図ではスプリングによる先端部200aがダミーノズルベース部200bに取り付けられている例を示している。当該先端部200aとしてのスプリングは、その巻径及び長さがノズル3の筒状先端部3aと略同サイズである。ダミーノズルベース部200bには、先端部200aの弾性変形もしくは屈折に応じて接触検出信号を出力するセンサ機構が内蔵されている。
またダミーニードル300は、その先端部300aがニードル16の針状先端部16aと略同サイズであって、弾性変形もしくは屈折可能とされている。図ではスプリングによる先端部300aがダミーニードルベース部300bに取り付けられている例を示している。当該先端部300aとしてのスプリングは、その巻径及び長さが針状先端部16aと略同サイズである。ダミーニードルベース部300bには、先端部300aの弾性変形もしくは屈折に応じて接触検出信号を出力するセンサ機構が内蔵されている。
ダミーノズル200、ダミーニードル300は、それぞれノズルホルダ4に取り付けられた際には、ノズル3、ニードル16の場合と同様、ノズルZモータ5,ニードルZモータ15によってZ方向に移動される。即ち図3Bのようにダミーノズル200が降下された状態や、図3Cのようにダミーニードル300が降下された状態を得ることができる。
By the way, in the coating apparatus 1 of this Embodiment, the nozzle 3 and the needle 16 can be removed from the nozzle holder 4. As shown in FIGS. 3B and 3C, the dummy nozzle 200 and the dummy needle 300 can be exchanged.
The dummy nozzle 200 and the dummy needle 300 are used for simulation in setting processing of a spray pass (nozzle pass and needle pass) described later.
The dummy nozzle 200 has a tip portion 200a that is substantially the same size as the cylindrical tip portion 3a of the nozzle 3, and can be elastically deformed or refracted. In the figure, an example is shown in which a tip portion 200a by a spring is attached to a dummy nozzle base portion 200b. The spring as the tip portion 200 a has a winding diameter and a length that are substantially the same size as the cylindrical tip portion 3 a of the nozzle 3. The dummy nozzle base portion 200b incorporates a sensor mechanism that outputs a contact detection signal in accordance with elastic deformation or refraction of the tip portion 200a.
The dummy needle 300 has a tip portion 300a that is substantially the same size as the needle-like tip portion 16a of the needle 16, and can be elastically deformed or refracted. In the figure, an example is shown in which a tip portion 300a by a spring is attached to a dummy needle base portion 300b. The spring as the tip portion 300a has a winding diameter and a length that are substantially the same size as the needle-like tip portion 16a. The dummy needle base portion 300b incorporates a sensor mechanism that outputs a contact detection signal in accordance with elastic deformation or refraction of the tip portion 300a.
When each of the dummy nozzle 200 and the dummy needle 300 is attached to the nozzle holder 4, it is moved in the Z direction by the nozzle Z motor 5 and the needle Z motor 15 as in the case of the nozzle 3 and needle 16. That is, a state where the dummy nozzle 200 is lowered as shown in FIG. 3B and a state where the dummy needle 300 is lowered as shown in FIG. 3C can be obtained.

図1に示すように本実施の形態のコーティング装置1には、作業台部2上には、光センサを構成する発光部21,受光部22や、捨て打ち部23、浸け置き部24が設けられる。
光センサを構成する発光部21と受光部22は、X方向に対向するように配置されている。発光部21は例えば半導体レーザ等により構成され、例えば直径1.5mm程度のレーザ光を出力する。このレーザ光は受光部22によって受光される。受光部22では、受光光量に応じて、検出信号を出力する。
この場合、レーザ光の光線はX方向に伸びる線状となり、例えばノズル3がY方向に移動されてレーザ光の光線を横切ると、光線がノズル3によって妨げられ、受光部22に達しない。これによって受光部22では、受光光量が低下し、光量低下状態を示す検出信号を出力することとなる。
適切な塗布幅で塗布を行うために、ノズル3からの扇状のスプレーパターン90の幅を調整することが行われる。そのために、ノズル3のからスプレーパターン90を吐出させながら、センサの光線を横切る方向性でノズル3を移動させて、スプレーパターン90の幅を測定する。測定結果に応じて、コーティング剤のスプレー圧を調整することで、スプレーパターン幅を所望の幅に調整できる。
As shown in FIG. 1, the coating apparatus 1 according to the present embodiment includes a light emitting unit 21, a light receiving unit 22, a discarding unit 23, and a soaking unit 24 that constitute an optical sensor on the work table unit 2. It is done.
The light emitting unit 21 and the light receiving unit 22 constituting the optical sensor are arranged to face each other in the X direction. The light emitting unit 21 is constituted by a semiconductor laser, for example, and outputs laser light having a diameter of about 1.5 mm, for example. This laser beam is received by the light receiving unit 22. The light receiving unit 22 outputs a detection signal according to the amount of received light.
In this case, the light beam of the laser light has a linear shape extending in the X direction. For example, when the nozzle 3 is moved in the Y direction and crosses the light beam of the laser light, the light beam is blocked by the nozzle 3 and does not reach the light receiving unit 22. As a result, the light receiving unit 22 decreases the amount of received light, and outputs a detection signal indicating a light amount reduction state.
In order to perform application with an appropriate application width, the width of the fan-shaped spray pattern 90 from the nozzle 3 is adjusted. For this purpose, while discharging the spray pattern 90 from the nozzle 3, the nozzle 3 is moved in a direction across the light beam of the sensor, and the width of the spray pattern 90 is measured. Depending on the measurement result, the spray pattern width can be adjusted to a desired width by adjusting the spray pressure of the coating agent.

捨て打ち部23は、いわゆる捨て打ちとしてコーティング剤を吐出する場合などに用いられる。また浸け置き部24は、ノズル3及びニードル16の先端を希釈剤に浸け置きするために設けられている。また浸け置き部24の側壁にはブラシ26を取り付けている。
本例では、揮発性の高い溶剤で希釈されたコーティング剤を用いており、これが乾燥してノズル3の吐出孔3aやニードル16の針状先端部16aの先端(吐出孔)で硬化し、吐出するスプレーパターン90、91を変化させてしまうことがある。
そこで不使用時には、希釈剤を入れた浸け置き部24にノズル3及びニードル16の先端が浸されるようにしておく。浸け置き部24には例えばシンナー系の溶剤を入れておく。これによりノズル3やニードル16の詰まりを防ぐ。
また使用前には捨て打ち部23の上方にノズル3やニードル16を位置させた状態で、捨て打ちとしての吐出を行って硬化部分を吹き飛ばしたり、ノズル3やニードル16の先端をブラシ26に接触させるようにY方向に移動させて清掃できるようにしている。これらの作業により、実際のコーティング作業時には、安定したスプレーパターンが得られるようにしている。
The discarding unit 23 is used for discharging a coating agent as so-called discarding. The soaking part 24 is provided for soaking the tip of the nozzle 3 and the needle 16 in the diluent. A brush 26 is attached to the side wall of the soaking part 24.
In this example, a coating agent diluted with a highly volatile solvent is used, and this is dried and cured at the discharge hole 3a of the nozzle 3 or the tip (discharge hole) of the needle-like tip portion 16a of the needle 16 and discharged. The spray patterns 90 and 91 to be changed may be changed.
Therefore, when not in use, the tip of the nozzle 3 and the needle 16 is immersed in the immersion portion 24 containing the diluent. For example, a thinner solvent is placed in the soaking part 24. This prevents clogging of the nozzle 3 and the needle 16.
Prior to use, with the nozzle 3 and needle 16 positioned above the throwing-out portion 23, ejection as a throw-away is performed to blow off the cured portion, or the tip of the nozzle 3 and needle 16 is brought into contact with the brush 26 It is made to move in the Y direction so that it can be cleaned. With these operations, a stable spray pattern can be obtained during the actual coating operation.

また本例ではノズル3のからスプレーパターン90を吐出させながら、センサの光線を横切る方向性でノズル3を移動させて、スプレーパターン90の幅を測定することが行われる。
この際に、上述の浸け置き、捨て打ち、ブラシ洗浄が行われていることで、測定の際も安定したスプレーパターン90の幅の測定ができることとなる。
また、捨て打ち部23の上方は、発光部21からのレーザ光の光線位置となる。従って、後述する測定処理としてスプレーパターン90を吐出しながらノズル3を移動させる動作は、捨て打ち部23の上方で行うことができる。つまり捨て打ち部23が測定処理の際に吐出されるスプレーパターン90の受け部としても機能する。
また捨て打ち部23には図示の様に斜面が形成されており、該斜面によって捨て打ちされたコーティング剤は一定方向に飛び散るように構成されている。この図1の場合、浸け置き部24の方向にコーティング剤91が飛び散るようにされている。このため捨て打ちの際や、測定処理の際に、むやみに作業台部2上にコーティング剤が飛散することがないようにできる。
Further, in this example, while the spray pattern 90 is ejected from the nozzle 3, the nozzle 3 is moved in the direction across the light beam of the sensor, and the width of the spray pattern 90 is measured.
At this time, since the above-described immersion, disposal, and brush cleaning are performed, the width of the spray pattern 90 can be measured stably even during measurement.
Further, the position above the thrown-out portion 23 is the position of the laser beam from the light emitting portion 21. Therefore, the operation of moving the nozzle 3 while discharging the spray pattern 90 as a measurement process to be described later can be performed above the discarding portion 23. That is, the throwing-out portion 23 also functions as a receiving portion for the spray pattern 90 discharged during the measurement process.
In addition, a slope is formed in the discarding portion 23 as shown in the figure, and the coating agent discarded by the slope is configured to scatter in a certain direction. In the case of FIG. 1, the coating agent 91 is scattered in the direction of the soaking part 24. For this reason, it is possible to prevent the coating agent from being scattered on the work table portion 2 at the time of disposal and measurement processing.

図1に示すように作業台部2の上方には、撮像部25が取り付けられている。この撮像部25は、基板載置台10に載置された回路基板100を撮像することができる。
また例えば液晶パネル等により構成された表示部9が設けられている。表示部9には、タッチパネルが搭載されてオペレータが入力操作を行うことも可能とされる。
この表示部9には、撮像部25で撮像された画像(撮像画像)や撮像画像を加工した画像、操作アイコン、メッセージ表示、その他、ユーザインターフェースのための各種画像が表示される。
回路基板100の画像が表示されることで、オペレータは、画像上で、コーティングを行う部位を指定したり、あるいはコーティングを禁止する領域を指定したりすることも可能とされる。
As shown in FIG. 1, an imaging unit 25 is attached above the workbench unit 2. The imaging unit 25 can capture an image of the circuit board 100 placed on the substrate platform 10.
Further, for example, a display unit 9 constituted by a liquid crystal panel or the like is provided. The display unit 9 is equipped with a touch panel, and an operator can perform an input operation.
The display unit 9 displays an image captured by the imaging unit 25 (captured image), an image obtained by processing the captured image, operation icons, a message display, and various other images for a user interface.
By displaying the image of the circuit board 100, the operator can designate a part to be coated on the image or designate a region where coating is prohibited.

<2.コーティング装置の制御構成>
図5にコーティング装置1の制御構成を示す。なおここでは特に電気系統を示し、コーティング剤の供給、加圧制御等の流体制御系についての説明は省略する。
<2. Control configuration of coating equipment>
FIG. 5 shows a control configuration of the coating apparatus 1. Here, an electric system is particularly shown here, and description of a fluid control system such as coating agent supply and pressurization control is omitted.

主制御部30は、例えばマイクロコンピュータ(CPU:Central Processing Unit)により形成された演算処理装置であり、各部の動作制御を行う。
メモリ部34は、主制御部30が各種制御で用いるROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)、EEP−ROM(Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory)等の不揮発性メモリ等の記憶領域を総括的に示している。
なお、このメモリ部34としては、マイクロコンピュータ内部に形成される記憶領域(レジスタ、RAM、ROM、EEP−ROM等)や、マイクロコンピュータとしてのチップ外部で外付けされるメモリチップの領域の両方をまとめて示している。つまり、いずれの記憶領域が用いられても良いため区別せずに示したものである。
The main control unit 30 is an arithmetic processing unit formed by, for example, a microcomputer (CPU: Central Processing Unit), and controls the operation of each unit.
The memory unit 34 has a storage area such as a non-volatile memory such as a ROM (Read Only Memory), a RAM (Random Access Memory), and an EEP-ROM (Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory) used by the main control unit 30 for various controls. It is shown generally.
The memory unit 34 includes both a storage area (register, RAM, ROM, EEP-ROM, etc.) formed inside the microcomputer and a memory chip area external to the chip as the microcomputer. Shown together. That is, since any storage area may be used, it is shown without distinction.

メモリ部34におけるROM領域には、主制御部30としてのCPUが実行するプログラムが記憶される。
メモリ部34におけるRAM領域は、主制御部30としてのCPUが各種演算処理のためのワークメモリとして用いたり、画像データの一時的な記憶等に用いられる。
メモリ部34における不揮発性メモリ領域は、演算制御処理のための係数、定数等、必要な情報が格納される。
主制御部30は、メモリ部34に格納されるプログラムや、入力部31からのオペレータの操作入力に基づいて、或いは図示しないライン制御コンピュータ等からの指示に基づいて、必要な演算処理、制御処理を行う。
The ROM area in the memory unit 34 stores a program executed by the CPU as the main control unit 30.
The RAM area in the memory unit 34 is used by the CPU as the main control unit 30 as a work memory for various arithmetic processes, or for temporary storage of image data.
The nonvolatile memory area in the memory unit 34 stores necessary information such as coefficients and constants for arithmetic control processing.
The main control unit 30 performs necessary arithmetic processing and control processing based on a program stored in the memory unit 34, an operator's operation input from the input unit 31, or based on an instruction from a line control computer (not shown). I do.

入力部31は、オペレータが操作入力を行う部位とされる。例えば上述のように表示部9にタッチパネルが形成される場合、該タッチパネルが入力部31となる。また操作キーや、リモートコントローラ等による入力部31が設けられても良い。
入力部31からの入力情報は主制御部30に供給され、主制御部30は入力情報に応じた処理を行う。
The input unit 31 is a part where an operator inputs an operation. For example, when a touch panel is formed on the display unit 9 as described above, the touch panel becomes the input unit 31. Moreover, the input part 31 by an operation key, a remote controller, etc. may be provided.
Input information from the input unit 31 is supplied to the main control unit 30, and the main control unit 30 performs processing according to the input information.

撮像部25は、主制御部30の制御に基づいて画像撮像を行う。たとえば上述のように基板載置台10に載置された回路基板100を撮像する。撮像部25による撮像画像信号(例えば静止画撮像信号)は、画像処理部32でA/D変換処理、画像調整処理、エンコード処理などが行われ、所定フォーマットの撮像画像データとして主制御部30に受け渡される。主制御部30は、撮像画像データをメモリ部34に格納する。そして主制御部30は、必要に応じて撮像画像データを読み出して画像解析処理、拡大/縮小処理、画像編集処理、或いは外部送信処理等を行うことができる。   The imaging unit 25 captures an image based on the control of the main control unit 30. For example, the circuit board 100 mounted on the substrate mounting table 10 is imaged as described above. A captured image signal (for example, a still image captured signal) from the image capturing unit 25 is subjected to A / D conversion processing, image adjustment processing, encoding processing, and the like by the image processing unit 32, and is transmitted to the main control unit 30 as captured image data in a predetermined format. Delivered. The main control unit 30 stores the captured image data in the memory unit 34. The main control unit 30 can read out the captured image data as necessary and perform image analysis processing, enlargement / reduction processing, image editing processing, external transmission processing, or the like.

主制御部30は、表示駆動部33に表示データを供給し、表示部9での表示を実行させる。表示駆動部33は、供給された表示データに基づいて画像信号を生成し、表示部9を駆動する。
例えば主制御部30は、撮像画像データを表示駆動部33に受け渡して、撮像画像を表示部9に表示させたり、撮像画像データを編集して表示部9に表示させたりすることができる。
The main control unit 30 supplies display data to the display driving unit 33 and causes the display unit 9 to execute display. The display driving unit 33 generates an image signal based on the supplied display data and drives the display unit 9.
For example, the main control unit 30 can transfer the captured image data to the display drive unit 33 and display the captured image on the display unit 9 or edit the captured image data and display the captured image data on the display unit 9.

外部インターフェース46は外部機器との通信やネットワーク通信を行う。主制御部30は外部インターフェース46を介して、各種情報を通信により入力したり、送信出力することができる。例えばライン上の各機器がネットワークシステム化させている場合、ホスト機器や他の機器との間で通信を行うことができる。
この通信により、外部機器から撮像画像データ等の供給を受けたり、或いはバージョンアッププログラムをロードしたり、各種処理係数、定数の変更設定を受け付けたりすることができる。また主制御部30がホスト機器に対し、エラーメッセージ、ワーニング等を送信したり、撮像画像データを送信することなども可能とされる。
また、上述のように撮像部25が回路基板100の撮像を行うことで、回路基板100の撮像画像を取り込めるが、外部インターフェース46を介してホスト機器等の外部機器から、回路基板100の撮像画像を取り込むようにすることもできる。
The external interface 46 performs communication with external devices and network communication. The main control unit 30 can input and transmit various information via the external interface 46 by communication. For example, when each device on the line is networked, communication can be performed with the host device and other devices.
Through this communication, it is possible to receive captured image data and the like from an external device, load an upgrade program, and accept various processing coefficient and constant change settings. In addition, the main control unit 30 can transmit an error message, a warning, or the like to the host device, or can transmit captured image data.
In addition, as described above, the imaging unit 25 captures the circuit board 100 to capture the captured image of the circuit board 100, but the captured image of the circuit board 100 is received from an external device such as a host device via the external interface 46. You can also try to capture.

主制御部30はモータコントローラ35に対してノズル移動のコマンドを送信する。コマンド内容は、ノズル移動方向(X、Y、Z方向及び回転角度位置θ方向)、移動量、移動速度を指示する内容などとされる。
例えば主制御部30は、コーティング処理を開始する前に、回路基板100を撮像した撮像画像の解析、及びオペレータの操作入力による禁止エリア設定等に応じて、スプレーパス(後述するノズルパス及びニードルパス)を作成する処理を行う。実際のコーティング処理を開始した後は、作成したノズルパスに応じて、ノズル移動方向をモータコントローラ35に指示し、またニードルパスに応じて、ニードル移動方向をモータコントローラ35に指示していくこととなる。
また、後述するスプレーパス設定処理におけるシミュレーションの際にも、主制御部30は、モータコントローラ35に対してノズル3の所定の移動を指示する。
これらのノズル移動のコマンドに応じて、モータコントローラ35は、各モータドライバ(36,37,38,39,45)を駆動制御することとなる。
The main control unit 30 transmits a nozzle movement command to the motor controller 35. The command contents are contents for instructing the nozzle movement direction (X, Y, Z direction and rotation angle position θ direction), the movement amount, and the movement speed.
For example, before starting the coating process, the main control unit 30 performs a spray pass (a nozzle pass and a needle pass, which will be described later) in accordance with an analysis of a captured image obtained by capturing the circuit board 100 and a prohibited area setting by an operation input by an operator. Process to create. After the actual coating process is started, the nozzle movement direction is instructed to the motor controller 35 according to the created nozzle path, and the needle movement direction is instructed to the motor controller 35 according to the needle path. .
The main control unit 30 also instructs the motor controller 35 to perform a predetermined movement of the nozzle 3 during a simulation in a spray path setting process described later.
In response to these nozzle movement commands, the motor controller 35 drives and controls each motor driver (36, 37, 38, 39, 45).

Xモータドライバ36は、Xモータ7に正方向回転又は逆方向回転の駆動電流を与える。これによりXモータ7が駆動され、ノズル3(ノズルホルダ4全体)がX方向の正方向又は逆方向にスライド移動される。
Yモータドライバ38は、Yモータ8に正方向回転又は逆方向回転の駆動電流を与える。これによりYモータ7が駆動され、ノズル3(X方向ガイド11全体)がY方向の正方向又は逆方向にスライド移動される。
ノズルZモータドライバ39は、ノズルZモータ5に正方向回転又は逆方向回転の駆動電流を与える。これによりノズルZモータ5が駆動され、ノズル3が垂直方向に繰り出されたり、引き上げられたりするように移動される。
ノズル回転モータドライバ38は、ノズル回転モータ6に正方向回転又は逆方向回転の駆動電流を与える。これによりノズル3の回転角度位置を変化させる回転動作が行われる。
ニードルZモータドライバ45は、ニードルZモータ15に正方向回転又は逆方向回転の駆動電流を与える。これによりニードルZモータ15が駆動され、ニードル16が垂直方向に繰り出されたり、引き上げられたりするように移動される。
モータコントローラ35は、主制御部30からのコマンドに応じて、各モータドライバ36,37,38,39,45に指示を出し、電流印加を実行させることで、各モータが連携して、作業台部2上でのノズル3及びニードル16の移動が実行される。
The X motor driver 36 gives a driving current for forward rotation or reverse rotation to the X motor 7. As a result, the X motor 7 is driven, and the nozzle 3 (the entire nozzle holder 4) is slid in the forward or reverse direction of the X direction.
The Y motor driver 38 gives a driving current for forward rotation or reverse rotation to the Y motor 8. As a result, the Y motor 7 is driven, and the nozzle 3 (the X direction guide 11 as a whole) is slid in the forward or reverse direction of the Y direction.
The nozzle Z motor driver 39 gives a drive current for forward rotation or reverse rotation to the nozzle Z motor 5. As a result, the nozzle Z motor 5 is driven, and the nozzle 3 is moved so as to be drawn out or pulled up in the vertical direction.
The nozzle rotation motor driver 38 gives a drive current for forward rotation or reverse rotation to the nozzle rotation motor 6. As a result, a rotation operation for changing the rotation angle position of the nozzle 3 is performed.
The needle Z motor driver 45 gives a drive current for forward rotation or reverse rotation to the needle Z motor 15. Thereby, the needle Z motor 15 is driven, and the needle 16 is moved so as to be drawn out or pulled up in the vertical direction.
The motor controller 35 issues instructions to the motor drivers 36, 37, 38, 39, and 45 in response to commands from the main control unit 30, and causes the motors to cooperate with each other. The movement of the nozzle 3 and the needle 16 on the part 2 is executed.

位置検出部51は、Xモータ7により移動されるノズル3のX方向の位置を検出する。例えば作業台部2の情報空間が、X座標、Y座標、Z座標としての三次元座標空間として管理されるとする。位置検出部51は、X方向の位置をX座標値として検知し、現在のX座標値を主制御部30に通知する。
位置検出部52は、ノズル回転モータ6により回転駆動されるノズル3の回転角度位置を検出する。そして回転角度位置を主制御部30に通知する。
位置検出部53は、Yモータ8により移動されるノズル3のY方向の位置を、Y座標値として検知し、主制御部30に通知する。
位置検出部54は、ノズルZモータ5により上下移動されるノズル3のZ方向の位置を、Z座標値として検知し、主制御部30に通知する。
位置検出部55は、ニードルZモータ15により上下移動されるニードル16のZ方向の位置を、Z座標値として検知し、主制御部30に通知する。
位置検出部51,53,54,55は、それぞれX方向ガイド11,Y方向ガイド12、ノズルホルダ4に機械的或いは光学的なセンサが設けられて位置を検出するようにしても良いし、或いはXモータ7,Yモータ8,ノズルZモータ5,ニードルZモータ15がステッピングモータの場合、位置検出部51,53,54,55は、正逆方向の駆動ステップ数をアップ/ダウンカウントするカウンタとし、そのカウント値を検出位置とするものでもよい。またXモータ7,Yモータ8,ノズルZモータ5,ニードルZモータ15に取り付けられたFG(Frequency Generator)やロータリエンコーダ等の信号を用いて、現在位置を計測するものでもよい。いずれにせよ位置検出部51,53,54,55は、ノズル3及びニードル16の現在位置としてX座標値、Y座標値、Z座標値が検出できる構成であればよく、その具体的手法は問われない。
また位置検出部52も同様に、ノズル回転位置を機械的或いは光学的に検出するセンサでもよいし、例えばノズル回転モータ6のFGやロータリエンコーダ、或いはステッピングモータの場合のステップ数のアップダウンカウンタなどとしてもよい。
The position detector 51 detects the position in the X direction of the nozzle 3 moved by the X motor 7. For example, it is assumed that the information space of the workbench unit 2 is managed as a three-dimensional coordinate space as an X coordinate, a Y coordinate, and a Z coordinate. The position detection unit 51 detects the position in the X direction as an X coordinate value and notifies the main control unit 30 of the current X coordinate value.
The position detector 52 detects the rotational angle position of the nozzle 3 that is rotationally driven by the nozzle rotation motor 6. Then, the main control unit 30 is notified of the rotation angle position.
The position detection unit 53 detects the position in the Y direction of the nozzle 3 moved by the Y motor 8 as a Y coordinate value, and notifies the main control unit 30 of it.
The position detection unit 54 detects the position in the Z direction of the nozzle 3 moved up and down by the nozzle Z motor 5 as a Z coordinate value and notifies the main control unit 30 of the detected value.
The position detection unit 55 detects the position in the Z direction of the needle 16 moved up and down by the needle Z motor 15 as a Z coordinate value and notifies the main control unit 30 of the detected value.
The position detectors 51, 53, 54, and 55 may be provided with mechanical or optical sensors provided in the X direction guide 11, the Y direction guide 12, and the nozzle holder 4, respectively, or may detect the position. When the X motor 7, the Y motor 8, the nozzle Z motor 5, and the needle Z motor 15 are stepping motors, the position detectors 51, 53, 54, and 55 are counters that count up / down the number of forward and reverse drive steps. The count value may be the detection position. Alternatively, the current position may be measured using signals from an FG (Frequency Generator) or a rotary encoder attached to the X motor 7, the Y motor 8, the nozzle Z motor 5, and the needle Z motor 15. In any case, the position detectors 51, 53, 54, and 55 may be configured to detect the X coordinate value, the Y coordinate value, and the Z coordinate value as the current positions of the nozzle 3 and the needle 16. I will not.
Similarly, the position detection unit 52 may be a sensor that mechanically or optically detects the nozzle rotation position. For example, an FG of the nozzle rotation motor 6, a rotary encoder, or an up / down counter of the number of steps in the case of a stepping motor. It is good.

従って位置検出部51,52,53,54,55は、モータコントローラ35の内部カウンタ等による構成となってもよいし、機械的或いは光学的な外部センサの情報をモータコントローラ35が取り込む形式で構成してもよい。
モータコントローラ35は、位置検出部51,52,53,54,55からの位置情報を監視しながら、主制御部30から求められたノズル駆動を実行することになる。
また主制御部30は、モータコントローラ35を介して位置検出部51,52,53,54,55による位置情報の通知を受けることで、ノズル3やニードル16の現在位置を把握でき、正確かつ無駄のないノズル移動制御、ニードル移動制御が実行できる。
なお、この場合、ノズル3の位置とニードル16の位置としてのX、Y座標値は、あくまでノズルホルダ4の位置として検出される。従って主制御部30は、ノズル3の塗布位置、ニードル16の塗布位置としてのそれぞれのX、Y座標値は、ノズルホルダ4の位置から所定量オフセットさせるように計算上求めるようにすればよい。
Therefore, the position detectors 51, 52, 53, 54, 55 may be configured by an internal counter or the like of the motor controller 35, or configured so that the motor controller 35 takes in information of a mechanical or optical external sensor. May be.
The motor controller 35 performs the nozzle drive obtained from the main control unit 30 while monitoring the position information from the position detection units 51, 52, 53, 54, and 55.
In addition, the main control unit 30 can receive the position information from the position detection units 51, 52, 53, 54, and 55 via the motor controller 35 so that the current position of the nozzle 3 and the needle 16 can be grasped. Nozzle movement control and needle movement control can be executed.
In this case, the X and Y coordinate values as the position of the nozzle 3 and the position of the needle 16 are only detected as the position of the nozzle holder 4. Accordingly, the main control unit 30 may calculate the X and Y coordinate values as the application position of the nozzle 3 and the application position of the needle 16 so as to be offset by a predetermined amount from the position of the nozzle holder 4.

吐出制御部40は、主制御部30の指示に応じて、ノズル3、ニードル16からのコーティング剤の吐出の実行/停止を制御する。この図では吐出機構41として、ノズル3及びニードル16へのコーティング剤の供給及び加圧・吐出を行う機構部位として概念的に示している。
また吐出制御部40は、主制御部30の指示に応じて、吐出の際の圧力を調整することで、コーティング剤のスプレーパターン90、91の幅や量を調整することもできる。
例えば吐出機構41では、コーティング剤の吐出用の空気圧の調整に電空レギュレータを使用する。吐出制御部40は電空レギュレータを制御することで、噴射圧でコーティング剤のスプレーパターン90、91の幅を調整できる。電空レギュレータによって電気信号に比例して空気圧を無段階に制御できることで、スプレーパターン90、91の幅を無段階で変化させることができる。これにより、スプレーパターン90、91の調整、あるいは設定変更などが容易に実行できる。
The discharge controller 40 controls the execution / stop of the discharge of the coating agent from the nozzle 3 and the needle 16 in accordance with an instruction from the main controller 30. In this figure, the discharge mechanism 41 is conceptually shown as a mechanism portion that supplies, pressurizes, and discharges the coating agent to the nozzle 3 and the needle 16.
The discharge control unit 40 can also adjust the width and amount of the spray pattern 90, 91 of the coating agent by adjusting the pressure at the time of discharge in accordance with an instruction from the main control unit 30.
For example, the discharge mechanism 41 uses an electropneumatic regulator to adjust the air pressure for discharging the coating agent. By controlling the electropneumatic regulator, the discharge control unit 40 can adjust the width of the spray patterns 90 and 91 of the coating agent with the injection pressure. Since the air pressure can be controlled steplessly in proportion to the electric signal by the electropneumatic regulator, the width of the spray patterns 90 and 91 can be changed steplessly. Thereby, adjustment of the spray patterns 90 and 91 or change of settings can be easily performed.

センサ駆動部42は、発光部21からのレーザ発光駆動を実行させるとともに、受光部22の受光信号を検出し、検出信号を生成する。
このセンサ駆動部42は主制御部30の指示に応じてレーザ発光駆動を行い、またその際、検出信号を主制御部30に供給することになる。
The sensor driving unit 42 executes laser light emission driving from the light emitting unit 21, detects a light reception signal of the light receiving unit 22, and generates a detection signal.
The sensor driving unit 42 performs laser emission driving in accordance with an instruction from the main control unit 30 and supplies a detection signal to the main control unit 30 at that time.

先に図3B、図3Cに示したように、ノズル3、ニードル16に代えてダミーノズル200、ダミーニードル300が取り付けられる場合がある。この場合、図5に示すように、ダミーノズルベース部200b内に設けられたダミーノズルセンサ56の検出信号が主制御部30に送られる。またダミーニードルベース300b内に設けられたダミーニードルセンサ57の検出信号が主制御部30に送られる。
後述するが、これにより図10Aのように例えばダミーノズル200が電子部品110に接触していない状態や、図10Bのように電子部品110に接触して先端部200aが弾性変形もしくは屈折した状態を検知できる。
As shown in FIGS. 3B and 3C, a dummy nozzle 200 and a dummy needle 300 may be attached instead of the nozzle 3 and the needle 16 in some cases. In this case, as shown in FIG. 5, the detection signal of the dummy nozzle sensor 56 provided in the dummy nozzle base portion 200 b is sent to the main control portion 30. Further, a detection signal of a dummy needle sensor 57 provided in the dummy needle base 300 b is sent to the main control unit 30.
As will be described later, for example, the dummy nozzle 200 is not in contact with the electronic component 110 as shown in FIG. 10A, or the tip 200a is elastically deformed or refracted in contact with the electronic component 110 as shown in FIG. 10B. It can be detected.

<3.実施の形態のスプレーパス設定>
以上の構成の本実施の形態のコーティング装置1は、ノズル3及びニードル16を併用することで、回路基板100に応じた精細な塗布を行うことができる。特にコーティングを効率よくかつ正確に行うために、実際の塗布作業の前には、ノズル3による塗布作業時の移動経路(ノズルパス)と、ニードル16による塗布作業時の移動経路(ニードルパス)を以下説明するように設定している。
<3. Spray path setting of embodiment>
The coating apparatus 1 of the present embodiment having the above configuration can perform fine coating according to the circuit board 100 by using the nozzle 3 and the needle 16 in combination. In particular, in order to perform coating efficiently and accurately, before the actual application work, the movement path (nozzle path) during the application work by the nozzle 3 and the movement path (needle path) during the application work by the needle 16 are described below. It is set to explain.

まず図6〜図8で、スプレーパス(ノズルパス及びニードルパス)設定の概要を説明する。
図6Aはコーティング処理対象物である回路基板100を示している。この回路基板100にコーティングを行うためには、図6B、図6Bのように第1禁止エリアAR1、第2禁止エリアAR2を設定する。
第1禁止エリアAR1は、ノズル3によるスプレーパターン90の吐出を行わない領域である。但し、塗布したいが、ノズル3によっては塗布できない領域も含んでいる。
第2禁止エリアAR2は、第1禁止エリア内であって、ニードル16によるスプレーパターン91の吐出を行わない領域である。即ち第2禁止エリアAR2は、第1禁止エリアAR1に含まれているが塗布を行うべき場所を除外したエリアである。換言すれば、本来、回路基板100上で塗布を行わないとすべきエリアは、第2禁止エリアAR2として表される。例えば電子部品110、111の上面などである。
First, an outline of spray path (nozzle path and needle path) setting will be described with reference to FIGS.
FIG. 6A shows a circuit board 100 that is an object to be coated. In order to coat the circuit board 100, the first prohibited area AR1 and the second prohibited area AR2 are set as shown in FIGS. 6B and 6B.
The first prohibited area AR1 is an area where the nozzle 3 does not discharge the spray pattern 90. However, it includes a region that is desired to be applied but cannot be applied depending on the nozzle 3.
The second prohibited area AR2 is an area within the first prohibited area where the spray pattern 91 is not ejected by the needle 16. That is, the second prohibited area AR2 is an area that is included in the first prohibited area AR1 but excludes places where application should be performed. In other words, the area that should not be coated on the circuit board 100 is represented as the second prohibited area AR2. For example, the upper surface of the electronic components 110 and 111.

図7、図8はこのような禁止エリア設定と、その後のスプレーパス設定を、撮像画像で示している。
図7Aは、表示部9に表示される回路基板100の撮像画像である。回路基板100や電子部品110、111等が画像として表示されている。
このような画像に対し、オペレータのタッチ入力、もしくは主制御部30の画像解析により図7Bのように第1禁止エリアAR1を設定する。主制御部30はこの第1禁止エリアAR1を考慮してノズルパスを設定する。即ち第1禁止エリアAR1を避けるようにノズル3を移動させる経路を算出する。図7Cは作成したノズルパスを表示部9に表示させている状態を示している。各パスマーカPM1がノズルパスを示す。三角形のパスマーカPM1によりノズル3の移動方向が示される。また例えば各パスマーカPM1には数字が付されており、塗布時にノズル3を移動させる経路の順序が示される。
なお各パスマーカPM1によっては、ノズル3がコーティング剤を吐出しながら移動する吐出移動経路が示される。各パスマーカPM1で示されるのが、それぞれ1つの吐出移動経路となる。或る吐出移動経路から次の吐出移動経路に移動するときは、ノズル3からの吐出を継続させながら移動できる箇所もあれば、一旦コーティング剤の吐出を停止させて移動させる場合もある。例えば図7Cで「7番」のパスマーカPM1の吐出移動経路で塗布を行った後、「8番」のパスマーカPM1の吐出移動経路での塗布に移る場合、ノズル3は非吐出状態で移動される。このような非吐出状態で移動する経路(非吐出移動経路)は、パスマーカPM1によって直接的には示されないが、実質的には塗布作業時のノズル移動経路であり、ノズルパスに含まれることになる。
7 and 8 show such a prohibited area setting and a subsequent spray pass setting as captured images.
FIG. 7A is a captured image of the circuit board 100 displayed on the display unit 9. The circuit board 100, the electronic components 110 and 111, and the like are displayed as images.
For such an image, the first prohibited area AR1 is set as shown in FIG. 7B by the touch input of the operator or the image analysis of the main control unit 30. The main control unit 30 sets the nozzle path in consideration of the first prohibited area AR1. That is, a route for moving the nozzle 3 so as to avoid the first prohibited area AR1 is calculated. FIG. 7C shows a state in which the created nozzle path is displayed on the display unit 9. Each pass marker PM1 indicates a nozzle pass. The moving direction of the nozzle 3 is indicated by a triangular path marker PM1. Further, for example, each pass marker PM1 is numbered to indicate the order of the path for moving the nozzle 3 during application.
Depending on each pass marker PM1, a discharge movement path through which the nozzle 3 moves while discharging the coating agent is shown. Each path marker PM1 indicates one discharge movement path. When moving from a certain discharge movement path to the next discharge movement path, there are places where the nozzle 3 can move while continuing discharge, and there are also cases where the discharge of the coating agent is temporarily stopped and moved. For example, in FIG. 7C, when application is performed on the ejection movement path of the “No. 7” pass marker PM1 and then the application moves on the ejection movement path of the “No. 8” pass marker PM1, the nozzle 3 is moved in a non-ejection state. . A path that moves in such a non-ejection state (non-ejection movement path) is not directly indicated by the path marker PM1, but is substantially a nozzle movement path during application work and is included in the nozzle path. .

図8Aは、第2禁止エリアAR2を示した画像例である。第2禁止エリアAR2も、撮像画像に対してのオペレータのタッチ入力、もしくは主制御部30の画像解析により設定する。
なお図8Bには、第2禁止エリアAR2に、第1禁止エリアAR1を破線で重ねて示した。この図からわかるように、第2禁止エリアAR2は、第1禁止エリアAR1内で、塗布しないエリアを示すものとなる。
主制御部30は、図8Aの第2禁止エリアAR2を考慮してニードルパスを設定する。即ち第1禁止エリアAR1内でであって、第2禁止エリアAR2に含まれない部分をニードル16で塗布するように、ニードル16を移動させる経路を算出する。図8Cは作成したニードルパスを表示部9に表示させている状態を示している。各パスマーカPM2がニードルパスを示す。三角形のパスマーカPM2により、ニードル16の移動方向が示される。また図示していないが、例えば各パスマーカPM2に対応して数字が付されて、ニードル16を移動させる経路の順序が示される。
なお各パスマーカPM2によっては、ニードル16がコーティング剤を吐出しながら移動する吐出移動経路が示される。ニードル16の場合も、或る吐出移動経路から次の吐出移動経路に移動するときは、一旦コーティング剤の吐出を停止させて移動させる場合もある。この場合の非吐出移動経路は、パスマーカPM2によって直接的には示されないが、実質的には塗布作業時のニードル移動経路であり、ニードルパスに含まれることになる。
FIG. 8A is an image example showing the second prohibited area AR2. The second prohibited area AR2 is also set by an operator's touch input on the captured image or an image analysis of the main control unit 30.
In FIG. 8B, the first prohibited area AR1 is overlapped with the second prohibited area AR2 by a broken line. As can be seen from this figure, the second prohibited area AR2 indicates an area in the first prohibited area AR1 that is not coated.
The main control unit 30 sets the needle path in consideration of the second prohibited area AR2 in FIG. 8A. That is, a path for moving the needle 16 is calculated so that a portion within the first prohibited area AR1 and not included in the second prohibited area AR2 is applied by the needle 16. FIG. 8C shows a state in which the created needle path is displayed on the display unit 9. Each path marker PM2 indicates a needle path. The moving direction of the needle 16 is indicated by the triangular path marker PM2. Although not shown, for example, a number is assigned to each path marker PM2 to indicate the order of the path for moving the needle 16.
Depending on each path marker PM2, a discharge movement path through which the needle 16 moves while discharging the coating agent is shown. In the case of the needle 16 as well, when moving from one discharge movement path to the next discharge movement path, the discharge of the coating agent may be temporarily stopped and moved. The non-ejection movement path in this case is not directly indicated by the path marker PM2, but is substantially a needle movement path at the time of application work and is included in the needle path.

以上のように主制御部30は、スプレーパス設定処理で、第1禁止エリアAR1、第2禁止エリアAR2を考慮して、ノズルパスとニードルパスを設定する。
以下、スプレーパス設定処理の具体例を図9を参照して詳細に説明する。
As described above, the main control unit 30 sets the nozzle path and the needle path in the spray path setting process in consideration of the first prohibited area AR1 and the second prohibited area AR2.
Hereinafter, a specific example of the spray pass setting process will be described in detail with reference to FIG.

スプレーパス設定処理が開始されると、まず主制御部30はステップS101で基板撮像、記憶、及び画像補正の処理を行う。この場合、主制御部30は、まず基板載置台10に載置された回路基板100を撮像部25に撮像させて、画像処理部32から撮像画像を取り込むことになる。撮像画像データはメモリ部34に記憶させる。そして撮像画像を補正して表示部9に表示させる。ここでの補正とは、回路基板100の撮像画像を実物と同じ大きさで表示部9に表示させるように、画像を縮小又は拡大する処理である。例えば表示部9の表示上の基板画像上で原点aからX方向に1cm仮想ノズルを移動させると、基板載置部10の実物の回路基板100上でも同様に原点aからX方向に1cm実際のノズル3が移動するように、画像と現物のサイズを合わせる。
なお、このステップS101としては、撮像部25による画像撮像ではなく、回路基板100の画像データを、外部インターフェース46を介して外部機器(例えばホストコンピュータ等)から取り込んでメモリ部34に記憶させても良い。もしくはスプレーパス設定処理開始前にあらかじめ取り込んで、メモリ部34に記憶させておいても良い。この場合の画像データは、解像度によって大きさが異なるので、現実の回路基板100の大きさと主制御部30が管理する縮尺とが一致するように画像補正を行うことになる。
When the spray pass setting process is started, first, the main control unit 30 performs substrate imaging, storage, and image correction processing in step S101. In this case, the main control unit 30 first causes the imaging unit 25 to image the circuit board 100 mounted on the substrate mounting table 10 and captures a captured image from the image processing unit 32. The captured image data is stored in the memory unit 34. Then, the captured image is corrected and displayed on the display unit 9. Here, the correction is a process of reducing or enlarging the image so that the captured image of the circuit board 100 is displayed on the display unit 9 with the same size as the actual object. For example, when the virtual nozzle is moved 1 cm in the X direction from the origin a on the substrate image on the display of the display unit 9, the actual 1 cm in the X direction from the origin a is also applied on the actual circuit board 100 of the substrate platform 10. The image and the actual size are matched so that the nozzle 3 moves.
As step S101, image data of the circuit board 100 may be captured from an external device (for example, a host computer) via the external interface 46 and stored in the memory unit 34 instead of image capturing by the image capturing unit 25. good. Alternatively, it may be acquired in advance and stored in the memory unit 34 before the spray pass setting process is started. Since the image data in this case varies in size depending on the resolution, image correction is performed so that the actual size of the circuit board 100 matches the scale managed by the main control unit 30.

次にステップS102で主制御部30は、撮像画像上でスプレーパス原点位置を設定する処理を行う。これは、ノズル3及びニードル16のX、Y方向移動の原点と、表示された画像の原点位置を一致させる処理である。例えばノズル3が撮像画像の原点aの位置に相当する位置にある場合の移動座標値(X方向ガイド11上の検出位置、及びY方向ガイド12上の検出位置)をノズル原点座標とし、ニードル16が撮像画像の原点aの位置に相当する位置にある場合の移動座標値をニードル原点座標とする。   Next, in step S102, the main control unit 30 performs a process of setting the spray path origin position on the captured image. This is a process of matching the origins of movement of the nozzle 3 and needle 16 in the X and Y directions with the origin positions of the displayed images. For example, the movement coordinate values (detected position on the X direction guide 11 and detected position on the Y direction guide 12) when the nozzle 3 is at a position corresponding to the position of the origin a of the captured image are set as the nozzle origin coordinates, and the needle 16 Is the coordinate value of the needle when it is at a position corresponding to the position of the origin a of the captured image.

ステップS103で主制御部30はコーティング条件設定を行う。ここでは例えば以下の(1)〜(9)のような設定を行う。
(1)ノズル3の扇状スプレーパターン90の幅や塗布厚の設定
扇状のスプレーパターン90の幅は加圧液体の加圧力やノズル3の種別によって異なる。スプレーパターン90の幅が異なれば効率の良いノズルパスも変わる。そこでノズルパス作成のために扇状スプレーパターン90の幅を設定する。また塗布厚の設定はノズル3の移動速度や、隣のすでに塗布された部分への重ね塗り量に関わる。
(2)重ね塗り量の設定
塗布幅hで塗布する際に、隣の既に塗布された部分にどれだけ重ねて塗布するかを設定する。通常は重ね塗りしないでノズルパスを設定しても、液化したコーティング剤の塗布後の僅かな拡張によって隣同士の塗布が合体し隙間のない塗布が完成する。しかし付着しない部分やピンホールを完全に防ぐための塗布作業ないし厚みのある塗布を必要とする場合は重ね塗り量を多く設定する必要がある。
(3)基板外周のり代の設定
回路基板100の端面までコーティング剤を塗布すると、コーティング剤が流れ落ちピンホールや付着しない部分を形成することがある。また、コーティング剤が流れ出して回路基板100の側面や裏面に付着すると粘着性が発生するともに厚みが変化し、後の搬送に支障をきたす恐れがある。また、無駄なコーティング剤の消費ともなる。そこで外周でコーティング剤を塗布しないのり代を設定できるようにしている。回路基板100の外周に数ミリ間隔の塗布しないのり代を設定すると、のり代の手前に塗布されたコーティング剤の表面張力によって、回路基板100上に塗装厚を保持しコーティング膜を作成することができる。この表面張力によってコーティング剤が流れ落ちることもない。
(4)基板厚み設定
基板の厚みを設定することによりノズル3及びニードル16の高さ(塗布時のZ座標値)が決まる。上述のように扇状のスプレーパターン90を吐出するノズル3は、効率よい塗布幅hで塗布することができる高さ位置が決まることになる。
(5)塗布方向の設定
効率的で短時間に塗布作業を完成させる為に、回路基板100の横方向(X方向)か縦方向(Y方向)のどちらに主にノズル3やニードル16を移動させたほうが良いかを設定する。
(6)塗布高さの設定
回路基板100上の電子部品110,111等の高さにも応じたノズル3及びニードル16の高さ位置の設定であって、扇状スプレーパターン90が霧化しないダブテイル状の部分を使って塗布するための高さ設定である。過去のデータが揃っていれば条件を入力するだけで自動的に効率よい塗布幅hに設定することができる。
(7)移動高さ設定
上述のように塗布作業時の移動経路であるスプレーパス(ノズルパス、ニードルパス)は、吐出移動経路と非吐出移動経路を含む。
非吐出移動経路においてコーティング剤の吐出を行わずに回路基板100上をノズル3及びニードル16が通過するときは、回路基板100上の電子部品110,111等の高さに考慮して移動しなくてはならない。そこでノズル3及びニードル16が電子部品等に当接して破損することがないように、移動高さ(ノズル移動高さ、及びニードル移動高さ)を設定する。
具体的には、非吐出状態で移動が行われる非吐出移動経路でのノズル3の高さ位置、及びニードル16の高さ位置を、ノズル移動高さ、及びニードル移動高さとして設定する。
ここでノズル移動高さ及び上記ニードル高さは、塗布処理対象物である回路基板100に設けられた構造物(電子部品110,111)の高さを越える高さに設定することで、非吐出移動経路において、ノズル3やニードル16が電子部品110,111に衝突することがないようにされる。
但しあまりにノズル移動高さ、及びニードル移動高さを高く設定すると、非吐出移動経路の移動の際にZ方向の移動に時間をとられ非効率になる。そこでノズル移動高さ、及びニードル移動高さ、電子部品110,111の高を越える高さを越えるが、高すぎないような高さに設定されることで、移動効率を確保する。
ノズル移動高さとニードル移動高さの設定値は、Z座標値として設定しても良いし、液体吐出時の高さからのZ方向(上昇方向)へのオフセット値として設定してもよい。
なおノズル移動高さとニードル移動高さは個別に設定してもよいし、同じ値としてもよい。同じ値とする場合は、ノズル移動高さとニードル移動高さを、非吐出移動経路での「移動高さ」としてまとめて設定してもよい。
またノズル移動高さ、及びニードル移動高さは、オペレータがZ座標値又はオフセット値を数値入力して設定しても良いし、主制御部30が自動設定してもよい。例えば主制御部30は、ステップS101で取り込んだ基板撮像画像の解析を行って、例えば電子部品等の構造物の種別を判定して、最も高い構造物に応じて自動設定をすることができる。さらには撮像画像を解析して、撮像部25からの被写体距離を算出して構造物の高さを判定することもできる。その高さに応じてノズル移動高さ、及びニードル移動高さを自動設定することも考えられる。
(8)塗布速度設定
ノズル3の選定と吐出圧の設定と塗布速度の設定によってコーティング剤の塗布厚が決定する。塗布速度を下げるとコーティング剤が厚く塗布され、ひび割れの原因になったり、あふれて禁止エリアAR1,AR2に入ってしまうことがある。塗布速度を早くするとコーティング剤が薄く塗布され、塗布されない箇所ができてしまうと共に、飛沫量が大きくなり、禁止エリアAR1,AR2に飛沫が飛んでしまうことがある。そこで適切な塗布速度を設定する。
なお、設定する塗布速度としては、ノズル3による直線方向塗布速度、θ回転角度に応じた塗布速度、斜め方向移動のための塗布速度、円弧移動のための塗布速度、ニードル16の塗布速度などがある。
(9)塗布タイミング設定
塗布方向にノズル3やニードル16が移動する際、停止した状態から加速して一定速度に達するまでの期間に吐出したコーティング剤は厚く塗布されてしまう。同様にノズル3やニードル16の速度が減速して停止するまでの間に吐出したコーティング剤も厚く塗布されてしまう。また、一定速度で移動していたノズル3やニードル16が停止するまでコーティング剤が吐出されると、慣性力によって停止位置よりも先にコーティング剤が塗布されてしまう。そこでノズル3及びニードル16の移動が一定速度に達してからコーティング剤を塗布するとともに、一定速度より減速するとコーティング剤の塗布を中止するように、塗布タイミングを設定する。
In step S103, the main control unit 30 performs coating condition setting. Here, for example, the following settings (1) to (9) are made.
(1) Setting the width and application thickness of the fan-shaped spray pattern 90 of the nozzle 3 The width of the fan-shaped spray pattern 90 varies depending on the pressure of the pressurized liquid and the type of the nozzle 3. If the width of the spray pattern 90 is different, the efficient nozzle path also changes. Therefore, the width of the fan-shaped spray pattern 90 is set to create a nozzle path. The setting of the coating thickness is related to the moving speed of the nozzle 3 and the overcoating amount on the adjacent already applied portion.
(2) Setting of overcoating amount When coating is performed with the coating width h, it is set how much the coating is applied to the adjacent already coated portion. Normally, even if the nozzle path is set without overcoating, adjacent applications are combined by a slight expansion after application of the liquefied coating agent, and application without gaps is completed. However, it is necessary to set a large amount of overcoating when a coating operation for completely preventing a non-adhering portion or a pinhole or a thick coating is required.
(3) Setting of margin for substrate outer periphery When the coating agent is applied to the end surface of the circuit board 100, the coating agent may flow down to form a pinhole or a portion that does not adhere. Further, when the coating agent flows out and adheres to the side surface or the back surface of the circuit board 100, adhesiveness is generated and the thickness is changed, which may hinder subsequent conveyance. In addition, useless coating agent is consumed. Therefore, a margin for applying no coating agent on the outer periphery can be set. If a paste margin not to be applied at intervals of several millimeters is set on the outer periphery of the circuit board 100, the coating thickness can be maintained on the circuit board 100 to create a coating film by the surface tension of the coating agent applied before the paste margin. it can. This surface tension does not cause the coating agent to flow down.
(4) Substrate thickness setting By setting the thickness of the substrate, the height of the nozzle 3 and the needle 16 (Z coordinate value at the time of application) is determined. As described above, the nozzle 3 that discharges the fan-shaped spray pattern 90 determines the height position at which application can be performed with an efficient application width h.
(5) Setting of application direction In order to complete the application work efficiently and in a short time, the nozzle 3 and the needle 16 are mainly moved in either the horizontal direction (X direction) or the vertical direction (Y direction) of the circuit board 100. Set whether it is better to let them.
(6) Setting of application height Dovetail in which the fan 3 spray pattern 90 is not atomized by setting the height positions of the nozzle 3 and the needle 16 according to the height of the electronic components 110, 111, etc. on the circuit board 100. It is the height setting for applying using the shaped part. If past data is available, it is possible to automatically set the application width h efficiently by simply inputting the conditions.
(7) Moving height setting As described above, the spray path (nozzle path, needle path), which is the moving path during the coating operation, includes the discharge moving path and the non-discharge moving path.
When the nozzle 3 and the needle 16 pass over the circuit board 100 without discharging the coating agent in the non-ejection movement path, the nozzle 3 and the needle 16 do not move in consideration of the height of the electronic components 110, 111, etc. on the circuit board 100. must not. Therefore, the moving heights (nozzle moving height and needle moving height) are set so that the nozzle 3 and the needle 16 do not come into contact with the electronic component and are not damaged.
Specifically, the height position of the nozzle 3 and the height position of the needle 16 in the non-ejection movement path in which movement is performed in the non-ejection state are set as the nozzle movement height and the needle movement height.
Here, the nozzle moving height and the needle height are set to a height exceeding the height of the structure (electronic components 110 and 111) provided on the circuit board 100 that is the object to be coated, so that non-ejection is performed. In the movement path, the nozzle 3 and the needle 16 are prevented from colliding with the electronic components 110 and 111.
However, if the nozzle movement height and the needle movement height are set too high, it takes time to move in the Z direction when the non-ejection movement path is moved, resulting in inefficiency. Therefore, the nozzle moving height, the needle moving height, and the height exceeding the height of the electronic components 110 and 111 are set so as not to be too high, thereby ensuring the moving efficiency.
The set values of the nozzle movement height and the needle movement height may be set as Z coordinate values, or may be set as offset values in the Z direction (upward direction) from the height during liquid ejection.
The nozzle movement height and the needle movement height may be set individually or may be the same value. In the case of the same value, the nozzle movement height and the needle movement height may be collectively set as the “movement height” in the non-ejection movement path.
Further, the nozzle moving height and the needle moving height may be set by an operator numerically inputting a Z coordinate value or an offset value, or may be automatically set by the main control unit 30. For example, the main control unit 30 can analyze the board captured image captured in step S <b> 101, determine the type of a structure such as an electronic component, and perform automatic setting according to the highest structure. Furthermore, the height of the structure can be determined by analyzing the captured image and calculating the subject distance from the imaging unit 25. It is also conceivable to automatically set the nozzle moving height and the needle moving height according to the height.
(8) Application speed setting The application thickness of the coating agent is determined by selecting the nozzle 3, setting the discharge pressure, and setting the application speed. If the coating speed is lowered, the coating agent may be applied thickly, causing cracks or overflowing and entering the prohibited areas AR1 and AR2. When the coating speed is increased, the coating agent is thinly applied, and a portion where the coating agent is not applied is formed, and the amount of splash is increased, and the splash may fly to the prohibited areas AR1 and AR2. Therefore, an appropriate application speed is set.
The application speed to be set includes a linear application speed by the nozzle 3, an application speed corresponding to the θ rotation angle, an application speed for oblique movement, an application speed for arc movement, an application speed of the needle 16, and the like. is there.
(9) Application timing setting When the nozzle 3 or the needle 16 moves in the application direction, the coating agent discharged during the period from the stop state to the acceleration and reaching a constant speed is applied thickly. Similarly, the coating agent discharged until the speed of the nozzle 3 or the needle 16 is reduced and stopped is also thickly applied. Further, when the coating agent is discharged until the nozzle 3 and the needle 16 that have moved at a constant speed are stopped, the coating agent is applied before the stop position due to inertial force. Therefore, the application timing is set so that the coating agent is applied after the movement of the nozzle 3 and the needle 16 reaches a constant speed, and the application of the coating agent is stopped when the nozzle 3 and the needle 16 are decelerated from the constant speed.

ステップS103では主制御部30は、以上の(1)〜(9)のような各種設定を、オペレータの入力、ホスト機器からの情報、或いは入力に基づいた演算などによって実行する。もちろん必要に応じて上記以外の設定も行われる。
続いてステップS104では、主制御部30は第1禁止エリアAR1の設定を行う。
上述のように回路基板100の画像が表示部9に表示されている際に、オペレータが塗布を禁止させたい領域範囲をマウスやタッチペンなどを用いて囲うなどの入力部31からの入力を行うことに応じて、主制御部30は図7Bのように禁止エリアAR1の領域を設定する。
なお、主制御部30は撮像画像を解析することで電子部品110,111の領域を判別することができる。そこで電子部品領域や、上述の設定処理で設定した塗布幅では塗布できない領域などを画像解析結果から判定し、当該箇所を第1禁止エリアAR1として自動設定するようにしてもよい。
また、自動設定した第1禁止エリアAR1を図7Bのように表示した際に、オペレータが必要に応じて修正入力を行い、それにより主制御部30は、第1禁止エリアAR1の設定を修正するようにしてもよい。
In step S103, the main control unit 30 executes various settings such as the above (1) to (9) by operator input, information from the host device, or computation based on the input. Of course, settings other than those described above are performed as necessary.
Subsequently, in step S104, the main control unit 30 sets the first prohibited area AR1.
When the image of the circuit board 100 is displayed on the display unit 9 as described above, the operator performs an input from the input unit 31 such as surrounding the area range that the operator wants to prohibit using a mouse or a touch pen. Accordingly, the main control unit 30 sets the prohibited area AR1 as shown in FIG. 7B.
Note that the main control unit 30 can determine the area of the electronic components 110 and 111 by analyzing the captured image. Therefore, an electronic component area, an area that cannot be applied with the application width set in the setting process described above, or the like may be determined from the image analysis result, and the location may be automatically set as the first prohibited area AR1.
When the automatically set first prohibited area AR1 is displayed as shown in FIG. 7B, the operator makes correction input as necessary, and the main control unit 30 corrects the setting of the first prohibited area AR1. You may do it.

ステップS105では、主制御部30は第2禁止エリアAR2の設定を行う。この場合も、オペレータが塗布を禁止させたい領域範囲をマウスやタッチペンなどを用いて囲うなどの、入力部31からの入力を行うことに応じて、主制御部30は図8Aのように禁止エリアAR2の領域を設定してもよいし、主制御部30が画像解析により自動設定してもよい。自動設定の場合はオペレータが必要に応じて修正入力を行うことができるようにすると良い。   In step S105, the main control unit 30 sets the second prohibited area AR2. Also in this case, in response to an input from the input unit 31 such as using an mouse or a touch pen to enclose a region range where the operator wants to prohibit application, the main control unit 30 displays the prohibited area as shown in FIG. 8A. The area of AR2 may be set, or the main control unit 30 may automatically set by image analysis. In the case of automatic setting, it is preferable that the operator can make correction input as necessary.

なお、この図9の処理例では、第1禁止エリアAR1、第2禁止エリアAR2を順次別個に設定するものとしているが、連動的に設定することもできる。
例えばオペレータが禁止させたい箇所を入力した場合、その領域を第2禁止エリアAR2に設定する。その上で主制御部30は、該第2禁止エリアAR2と、さらにノズル3では塗布できない幅の領域をまとめて第1禁止エリアAR1の設定を行う。このようにすれば、オペレータは、単純に、塗布させたくない領域の入力のみを行えばよいことになり作業性が向上する。
また、同様に画像解析の場合も、まず電子部品110,111等の領域を主制御部30は第2禁止エリアAR2として設定する。そして該第2禁止エリアAR2と、さらにノズル3では塗布できない幅の領域を検出して、これらをまとめて第1禁止エリアAR1として設定するようにしてもよい。第1禁止エリアAR1、第2禁止エリアAR2の両方を画像解析に基づいて主制御部30が自動設定するようにすれば作業の手間は軽減され、作業効率は大きく向上する。
In the processing example of FIG. 9, the first prohibited area AR1 and the second prohibited area AR2 are set separately and sequentially, but can be set in an interlocking manner.
For example, when the operator inputs a portion to be prohibited, the area is set as the second prohibited area AR2. Then, the main control unit 30 sets the first prohibited area AR1 by combining the second prohibited area AR2 and a region having a width that cannot be applied by the nozzle 3 together. In this way, the operator only has to input an area that is not desired to be applied, and the workability is improved.
Similarly, in the case of image analysis, first, the main control unit 30 sets a region such as the electronic components 110 and 111 as the second prohibited area AR2. Then, the second prohibited area AR2 and a region having a width that cannot be applied by the nozzle 3 may be detected, and these may be collectively set as the first prohibited area AR1. If the main control unit 30 automatically sets both the first prohibited area AR1 and the second prohibited area AR2 based on image analysis, the labor of the work is reduced and the work efficiency is greatly improved.

ステップS106で主制御部30はノズルパスの作成を行う。この場合、主制御部30はステップS103で設定した各種コーティング条件や、ステップS104で設定した第1禁止エリアAR1に基づいて塗布する経路の方向や順序を演算し、第1の塗布禁止エリアを少なくとも除いた吐出移動経路と、ノズル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むノズルパスを作成する。そして図7Cに示したようにパスマーカPM1によりノズルパスを表示部9に表示させる。なお、図7CのパスマーカPM1は、全体のノズルパスを構成する1つ1つの吐出移動経路の略中央に表示される例としている。
具体的なノズルパス作成処理は、全体の経路を設定するとともに、1つのパスマーカPM1で示される1つ1つの吐出移動経路について、開始位置、終了位置、パス長、方向、ノズル回転角度(θ)、吐出時のノズル高さ(Z座標値)、移動速度などを設定する処理となる。また非吐出移動経路のノズル移動高さもノズルパスの情報に含まれる。
このようなノズルパス設定により、ノズル3の吐出移動経路の移動が第1禁止エリアAR1を含まず、また非吐出移動経路の移動が適切な高さで行われ、さらに各種コーティング条件に応じて効率良く行われるようにする。
In step S106, the main control unit 30 creates a nozzle path. In this case, the main control unit 30 calculates the direction and order of the application route based on the various coating conditions set in step S103 and the first prohibited area AR1 set in step S104, and sets at least the first application prohibited area as the first application prohibited area. A nozzle path including the excluded ejection movement path and the non-ejection movement path according to the setting of the nozzle movement height is created. Then, as shown in FIG. 7C, the nozzle path is displayed on the display unit 9 by the path marker PM1. Note that the pass marker PM1 in FIG. 7C is an example that is displayed at approximately the center of each discharge movement path that constitutes the entire nozzle path.
The specific nozzle path creation process sets the entire path, and for each discharge movement path indicated by one path marker PM1, the start position, end position, path length, direction, nozzle rotation angle (θ), This is a process for setting the nozzle height (Z coordinate value), the moving speed, and the like during ejection. The nozzle movement height of the non-ejection movement path is also included in the nozzle path information.
By such nozzle path setting, the movement of the discharge movement path of the nozzle 3 does not include the first prohibited area AR1, the movement of the non-discharge movement path is performed at an appropriate height, and more efficiently according to various coating conditions. To be done.

ステップS107で主制御部30はニードルパスの作成を行う。主制御部30はステップS103で設定した各種コーティング条件や、ステップS105で設定した第2禁止エリアAR2に基づいて、第2禁止エリアAR2及びノズル3による塗布エリアを除いた領域について、ニードル3で塗布すべき経路の方向や順序を演算し、吐出移動経路と、ニードル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むニードルパスを作成する。
そして図8Cに示したようにパスマーカPM2によりニードルパスを表示部9に表示させる。図8CのパスマーカPM2は、全体のニードルパスを構成する1つ1つのパスの略中央に表示される例としている。
具体的なニードルパス作成処理は、全体の経路を設定するとともに、1つのパスマーカPM2で示される1つ1つのパスについて、開始位置、終了位置、パス長、方向、吐出時のニードル高さ(Z座標値)、移動速度などを設定する処理となる。また非吐出移動経路のニードル移動高さもニードルパスの情報に含まれる。
このようなニードルパス設定により、ニードル16の吐出移動経路の移動が第2禁止エリアAR2及びノズル3による塗布エリアを含まず、また非吐出移動経路の移動が適切な高さで行われ、さらに各種コーティング条件に応じて効率良く行われるようにする。
In step S107, the main control unit 30 creates a needle path. Based on the various coating conditions set in step S103 and the second prohibited area AR2 set in step S105, the main control unit 30 applies the needle 3 to the area excluding the application area by the second prohibited area AR2 and the nozzle 3. The direction and order of the path to be calculated are calculated, and a needle path including a discharge movement path and a non-discharge movement path according to the setting of the needle movement height is created.
Then, as shown in FIG. 8C, the needle path is displayed on the display unit 9 by the path marker PM2. The path marker PM2 in FIG. 8C is an example that is displayed at substantially the center of each path that constitutes the entire needle path.
The specific needle path creation process sets the entire path, and for each path indicated by one path marker PM2, the start position, end position, path length, direction, needle height during discharge (Z Coordinate value), moving speed, and the like. Further, the needle movement height of the non-ejection movement path is also included in the needle path information.
With such a needle path setting, the movement of the discharge movement path of the needle 16 does not include the second prohibited area AR2 and the application area by the nozzle 3, the movement of the non-discharge movement path is performed at an appropriate height, It should be carried out efficiently according to the coating conditions.

なお実際には、図8CのパスマーカPM2によるニードルパス表示と、図7CのパスマーカPM1によるノズルパス表示は、一画面上で同時に実行させるようにしても良いし、切り換えて個別に表示できるようにしてもよい。禁止エリアAR1,AR2の表示もまとめても良いし、切り換えられるようにしてもよい。   Actually, the needle pass display by the pass marker PM2 in FIG. 8C and the nozzle pass display by the pass marker PM1 in FIG. 7C may be executed simultaneously on one screen, or may be switched and displayed individually. Good. The display of the prohibited areas AR1 and AR2 may be collected or switched.

ここまでの処理でノズルパス及びニードルパスが作成されたわけであり、このノズルパス及びニードルパスに基づいて実際のコーティング作業が行われるようにしてもよい。
但しこの図9の例では、すぐに実際の塗布作業に移るのではなく、適切なスプレーパス設定がなされたか検証するためのシミュレーションを経て、最終的なノズルパス及びニードルパスを決定するようにしている。
コーティング作業時の実際のノズル3やニードル16の移動速度は、迅速なコーティング完了のためにかなり高速であり、またノズル3やニードル16は高精度の部品として生産されている。もし実際に移動中のノズル3やニードル16が電子部品110,111等に接触したりすると、破損、変形が起こり、交換を余儀なくされる。もちろん電子部品110,111側が破損することもある。これらのような自体は極力避けなければならない。そこでシミュレーションにより、パスの適切性を検証する。
従って図9の処理は、ノズルパス決定済みでなければステップS108→S109と進み、まずノズルパスのシミュレーションを実行することとなる。
主制御部30はステップS109のノズルパスシミュレーションとして、ステップS106で作成し、表示部9に表示させたノズルパス通りの実際のノズル移動を、モータコントローラ35に指示して実行させる。
The nozzle path and the needle path are created by the processing so far, and an actual coating operation may be performed based on the nozzle path and the needle path.
However, in the example of FIG. 9, the final nozzle path and the needle path are determined through a simulation for verifying whether an appropriate spray path setting has been made, instead of immediately moving to an actual coating operation. .
The actual moving speed of the nozzle 3 and the needle 16 at the time of the coating operation is considerably high for quick coating completion, and the nozzle 3 and the needle 16 are produced as high-precision parts. If the nozzle 3 and the needle 16 that are actually moving come into contact with the electronic components 110, 111, etc., breakage and deformation occur, and replacement is unavoidable. Of course, the electronic components 110 and 111 may be damaged. These should be avoided as much as possible. Therefore, the appropriateness of the path is verified by simulation.
Accordingly, if the nozzle path has not been determined, the process of FIG. 9 proceeds from step S108 to step S109, and first a nozzle path simulation is executed.
The main control unit 30 instructs the motor controller 35 to execute actual nozzle movement according to the nozzle path created in step S106 and displayed on the display unit 9 as the nozzle path simulation of step S109.

但し、ノズルパスシミュレーション、及び後述のステップS112のニードルパスシミュレーションを実行する前には、図3B、図3Cで説明したように、ダミーノズル200、ダミーニードル300がノズルホルダ4に装着された状態としておく。例えば図9のスプレーパス設定処理の開始前に、オペレータがノズル交換をしておく。或いは、ノズル交換がされていなければ、主制御部30はシミュレーション開始前に、ノズル交換を促すようなメッセージを表示部9に表示させ、ダミーノズル200、ダミーニードル300が装着されたことが確認された後にシミュレーションを実行するようにする。なお主制御部30はダミーノズルセンサ56、ダミーニードルセンサ57との電気的な接続状態により、ダミーノズル200、ダミーニードル300の装着状態を検知可能である。   However, before executing the nozzle path simulation and the needle path simulation in step S112 described later, the dummy nozzle 200 and the dummy needle 300 are mounted on the nozzle holder 4 as described in FIGS. 3B and 3C. deep. For example, the operator replaces the nozzle before starting the spray pass setting process of FIG. Alternatively, if the nozzle is not replaced, the main control unit 30 displays a message prompting nozzle replacement on the display unit 9 before the simulation is started, and it is confirmed that the dummy nozzle 200 and the dummy needle 300 are attached. After that, run the simulation. The main control unit 30 can detect the mounting state of the dummy nozzle 200 and the dummy needle 300 based on the electrical connection state with the dummy nozzle sensor 56 and the dummy needle sensor 57.

図3Bのようにダミーノズル200が装着された状態で、ダミーノズル200を実際のスプレー時のノズル3と同様に移動させる。即ちXモータ7、Yモータ8、ノズルZモータ5、及びノズル回転モータ6を駆動制御し、各パスマーカPM1で示される各パスの移動を、その設定された開始位置、終了位置、パス長、方向、ノズル回転角度(θ)、ノズル高さ、移動速度どおりに実行させる。そして主制御部30は、このシミュレーション移動の際に、ダミーノズルセンサ56の検出情報を監視している。   With the dummy nozzle 200 mounted as shown in FIG. 3B, the dummy nozzle 200 is moved in the same manner as the nozzle 3 during actual spraying. That is, the X motor 7, the Y motor 8, the nozzle Z motor 5, and the nozzle rotation motor 6 are driven and controlled, and the movement of each path indicated by each path marker PM1 is changed to the set start position, end position, path length, direction. The nozzle rotation angle (θ), the nozzle height, and the moving speed are executed. The main control unit 30 monitors detection information of the dummy nozzle sensor 56 during the simulation movement.

図10Aはダミーノズル200が塗布高さ位置とされてシミュレーション移動されている状態を示している。もし、作成したノズルパスが適切ではないと、図10Bに示すように先端部200aが電子部品110に接触したり、強く衝突することがある。主制御部30は、このような接触をダミーノズルセンサ56からの検出情報により確認する。
主制御部30は、ノズルパスシミュレーション中は、接触が検知された際のX、Y、Z座標を、パスに対応して記憶していく。
そして一連のノズルパスのシミュレーション移動が終了した時点で、接触箇所があったのであれば、主制御部30はステップS110からS106に戻り、ノズルパスの修正を行う。つまり接触箇所が生じないようにノズルパスを修正する。
またノズルパスの修正に伴って、ニードルパスの修正が必要になる場合もあるため、ステップS107でニードルパスの修正も行う。
これらの修正を経て、主制御部30は再びステップS108→S109と進み、再度ノズルパスシミュレーションを実行させる。
つまりノズルパスシミュレーションを必要に応じて修正しながら繰り返し、最終的にダミーノズル200の先端部200aが、電子部品110,111等に接触することがないノズルパスとする。
1回又は複数回のノズルパスシミュレーション結果として、接触の生じないノズルパスであることが確認されたら、ステップS110からS111に進み、その時点のノズルパスを実際に用いるノズルパスとして決定する。
FIG. 10A shows a state in which the dummy nozzle 200 is moved to the simulation at the application height position. If the created nozzle path is not appropriate, the tip 200a may come into contact with the electronic component 110 or collide strongly as shown in FIG. 10B. The main control unit 30 confirms such contact based on detection information from the dummy nozzle sensor 56.
During the nozzle path simulation, the main control unit 30 stores the X, Y, and Z coordinates when contact is detected, corresponding to the path.
If there is a contact point at the end of the series of nozzle path simulation movements, the main control unit 30 returns from step S110 to step S106 to correct the nozzle path. In other words, the nozzle path is corrected so that no contact portion is generated.
In addition, since the needle path may need to be corrected along with the correction of the nozzle path, the needle path is also corrected in step S107.
After these corrections, the main control unit 30 proceeds again from step S108 to step S109, and again executes the nozzle path simulation.
That is, the nozzle path simulation is repeated while correcting as necessary, and finally the nozzle path is set so that the tip end portion 200a of the dummy nozzle 200 does not contact the electronic components 110, 111, and the like.
If it is confirmed as a result of one or a plurality of nozzle path simulations that the nozzle path is not in contact, the process proceeds from step S110 to step S111, and the nozzle path at that time is determined as the nozzle path to be actually used.

なお上記説明では一連のノズルパスシミュレーション移動を完了した際に、その移動過程で接触が検出されていれば、ステップS106の修正を行うものとしたが、シミュレーション移動時に接触が検出されたら、ノズルパス移動の完了を待たずに、すぐにステップS106の修正に移るようにしてもよい。つまり1つ1つ接触箇所が見つかる毎にパスを修正するような処理としてもよい。   In the above description, when a series of nozzle path simulation movements is completed, if contact is detected in the movement process, the correction in step S106 is performed. However, if contact is detected during simulation movement, nozzle path movement is performed. Instead of waiting for completion of the above, it is possible to immediately move to the correction of step S106. That is, it is good also as a process which corrects a path | pass every time a contact location is found one by one.

ノズルパスを決定したら、主制御部30はステップS112でニードルパスシミュレーションを行う。図3Cのようにダミーニードル300が装着された状態で、ダミーニードル300を実際のスプレー時のニードル16と同様に移動させる。即ちXモータ7、Yモータ8、ニードルZモータ15を駆動制御し、各パスマーカPM2で示される各パスの移動を、その設定された開始位置、終了位置、パス長、方向、ニードル高さ、移動速度どおりに実行させる。
先に述べたダミーノズル200の場合と同様、作成したニードルパスが適切ではないとダミーニードル300の先端部300aが電子部品110,111等に接触したり衝突することがある。主制御部30は、このような接触をダミーニードルセンサ57からの検出情報により確認する。主制御部30は、ニードルパスシミュレーション中は、接触が検知された際のX、Y、Z座標を、パスに対応して記憶していく。
一連のニードルパスのシミュレーション移動が終了した時点で、接触箇所があったのであれば、主制御部30はステップS113からS107に戻り、ニードルパスの修正を行う。つまり接触箇所を避けるようにニードルパスを修正する。
この修正後は、既にノズルパスは決定済みであるため、主制御部30はステップS108→S112と進み、再度ニードルパスシミュレーションを実行させる。
つまりニードルパスシミュレーションを必要に応じて修正しながら繰り返し、最終的にダミーニードル300の先端部300aが、電子部品110,111等に接触することがないニードルパスとする。
1回又は複数回のニードルパスシミュレーション結果として、接触の生じないニードルパスであることが確認されたら、ステップS113からS114に進み、その時点のニードルパスを実際に用いるニードルパスとして決定する。
After determining the nozzle path, the main control unit 30 performs a needle path simulation in step S112. With the dummy needle 300 attached as shown in FIG. 3C, the dummy needle 300 is moved in the same manner as the needle 16 during actual spraying. That is, the X motor 7, the Y motor 8, and the needle Z motor 15 are driven and controlled, and the movement of each path indicated by each path marker PM2 is changed to the set start position, end position, path length, direction, needle height, and movement. Let it run at speed.
As in the case of the dummy nozzle 200 described above, the tip 300a of the dummy needle 300 may come into contact with or collide with the electronic components 110, 111, etc. if the created needle path is not appropriate. The main control unit 30 confirms such contact based on detection information from the dummy needle sensor 57. During the needle path simulation, the main control unit 30 stores the X, Y, and Z coordinates when contact is detected, corresponding to the path.
If there is a contact point at the end of the series of needle path simulation movements, the main control unit 30 returns from step S113 to S107 to correct the needle path. In other words, the needle path is corrected so as to avoid contact points.
After this correction, since the nozzle path has already been determined, the main control unit 30 proceeds from step S108 to step S112, and executes the needle path simulation again.
In other words, the needle path simulation is repeated while correcting as necessary, and finally the needle path 300 is a needle path in which the tip portion 300a of the dummy needle 300 does not come into contact with the electronic components 110, 111 and the like.
If it is confirmed as a result of one or more needle path simulations that the needle path does not cause contact, the process proceeds from step S113 to S114, and the needle path at that time is determined as the needle path to be actually used.

なお上記説明では一連のニードルパスシミュレーション移動を完了した際に、その移動過程で接触が検出されていれば、ステップS107の修正を行うものとしたが、シミュレーション移動時に接触が検出されたら、ニードルパス移動の完了を待たずに、すぐにステップS107の修正に移るようにしてもよい。つまり1つ1つ接触箇所が見つかる毎にパスを修正するような処理としてもよい。
また、この図9の処理例では示していないが、ニードルパスの修正に伴ってノズルパスも修正できるような処理としてもよい。即ちニードルパスシミュレーションの際に接触検出があったら、ステップS106、S107で両方の修正処理を行う処理としても良いし、ニードルパスの修正後にノズルパス修正を行うようにしてもよい。
また、そのようなニードルパスシミュレーション後にノズルパス修正を行う場合、ノズルパスシミュレーションからやり直すような処理例も考えられる。つまり、ノズルパスシミュレーション、ニードルパスシミュレーションの両方で問題が無い場合に、初めてノズルパスとニードルパスの両者が決定されるような処理としても良い。
In the above description, when a series of needle path simulation movements is completed, if contact is detected in the movement process, the correction in step S107 is performed. However, if contact is detected during simulation movement, the needle path is corrected. Instead of waiting for the completion of the movement, the correction may be immediately started in step S107. That is, it is good also as a process which corrects a path | pass every time a contact location is found one by one.
Further, although not shown in the processing example of FIG. 9, it is also possible to perform processing in which the nozzle path can be corrected as the needle path is corrected. That is, if contact is detected in the needle path simulation, both correction processes may be performed in steps S106 and S107, or the nozzle path may be corrected after the needle path is corrected.
In addition, when the nozzle path correction is performed after such a needle path simulation, a processing example in which the process is restarted from the nozzle path simulation is also conceivable. In other words, when there is no problem in both the nozzle path simulation and the needle path simulation, the process may be such that both the nozzle path and the needle path are determined for the first time.

以上のスプレーパス設定処理でノズルパス、ニードルパスが決定されたら、その後、ダミーノズル200、ダミーニードル300に代えて、ノズル3、ニードル16を装着し、実際のコーティング作業に移行できることとなる。例えばオペレータがノズル3、ニードル16の取り替えを行った後、入力部31からコーティング開始を指示する。
これにより主制御部30は回路基板100に対してコーティング剤の塗布実行の制御を行う。
例えば主制御部30は、まずノズルパスに応じた移動が実行されるようにモータコントローラ35に指示するとともに、吐出制御部40に指示してノズル3からのコーティング剤の吐出を実行させる。これによりノズルパスの経路で回路基板100上に塗布が行われていく。
ノズルパスでの塗布が完了したら、続いて主制御部30は、ニードルパスに応じた移動が実行されるようにモータコントローラ35に指示するとともに、吐出制御部40に指示してニードル16からのコーティング剤の吐出を実行させる。これによりニードルパスの経路で回路基板100上に塗布が行われていく。
以上の制御により回路基板100上でのコーティング剤の塗布が完了する。
After the nozzle path and needle path are determined by the above spray path setting process, the nozzle 3 and needle 16 are mounted instead of the dummy nozzle 200 and dummy needle 300, and the actual coating operation can be performed. For example, after the operator replaces the nozzle 3 and needle 16, the input unit 31 instructs the start of coating.
As a result, the main control unit 30 controls the execution of the coating agent coating on the circuit board 100.
For example, the main control unit 30 first instructs the motor controller 35 to execute the movement according to the nozzle path, and instructs the discharge control unit 40 to discharge the coating agent from the nozzle 3. Thereby, application | coating is performed on the circuit board 100 by the path | route of a nozzle path.
When the application in the nozzle path is completed, the main control unit 30 then instructs the motor controller 35 to perform movement according to the needle path, and also instructs the discharge control unit 40 to apply the coating agent from the needle 16. The discharge is performed. Thereby, application | coating is performed on the circuit board 100 by the path | route of a needle path.
With the above control, application of the coating agent on the circuit board 100 is completed.

このような本実施の形態の処理によれば、ノズルパスとニードルパスをそれぞれ設定することで、それぞれで効率の良い吐出移動経路で、かつ第1,第2禁止エリアAR1,AR2を考慮した塗布を行うことができる。また非吐出移動経路についてのノズル移動高さ、ニードル移動高さが設定されていることで、非吐出移動経路の移動も効率よく、かつ電子部品110,111等に衝突しないように実行できる。
しかもシミュレーション処理により、必要に応じてパスの修正が行われ、ノズル3やニードル16が電子部品110,111等と接触することがないスプレーパスとして決定されることで、機器や回路基板100に損傷等を生じさせることのない安全なスプレー塗布動作が実行できる。
According to such processing of the present embodiment, by setting the nozzle path and the needle path, respectively, the application can be performed with an efficient discharge movement path and considering the first and second prohibited areas AR1 and AR2. It can be carried out. Further, since the nozzle movement height and needle movement height for the non-ejection movement path are set, the movement of the non-ejection movement path can be performed efficiently and without colliding with the electronic components 110, 111, and the like.
Moreover, the path is corrected as necessary by the simulation process, and the nozzle 3 or the needle 16 is determined as a spray path that does not come into contact with the electronic components 110, 111, etc., thereby damaging the device and the circuit board 100. It is possible to perform a safe spray application operation that does not cause the above.

またシミュレーションにはダミーノズル200、ダミーニードル300を使用するが、その先端部200a、300aは弾性変形或いは折り曲げ可能な部材、例えばスプリング等とされている。従ってシミュレーション時に電子部品110,111等を損傷するおそれもない。
なお、先端部200aが屈折可能なダミーノズル200の例を図10C、図10Dに示した。例えば先端部200aを、ダミーノズルベース200bに軸支された棒状体とする。このような構成でも、図示のように電子部品110,111等との接触時には先端部200aが折れ曲がることで、電子部品110,111等に損傷を与えない。またダミーノズルベース200b内に設けられるダミーノズルセンサ56としては、このような折り曲げ状態を機械的、或いは光学的に検出できるようにすればよい。
もちろん、弾性変形可能な先端部200aとして、上述のスプリング以外にも、ゴム材、スポンジ材、その他の柔軟な素材を用いることが考えられる。
接触検出としては、機械的な検出や光学的な検出の他、圧電素子等の接触センサを用いることなどが考えられる。
以上の各点は、ダミーニードル300の場合も同様に変形例として考えられる。
In the simulation, the dummy nozzle 200 and the dummy needle 300 are used, and the tip portions 200a and 300a are elastically deformable or bendable members such as springs. Therefore, there is no possibility of damaging the electronic components 110, 111, etc. during the simulation.
An example of the dummy nozzle 200 that can refract the tip end portion 200a is shown in FIGS. 10C and 10D. For example, let the front-end | tip part 200a be the rod-shaped body pivotally supported by the dummy nozzle base 200b. Even in such a configuration, the tip part 200a is bent at the time of contact with the electronic parts 110, 111, etc., as shown in the figure, so that the electronic parts 110, 111, etc. are not damaged. The dummy nozzle sensor 56 provided in the dummy nozzle base 200b may be configured to detect such a bent state mechanically or optically.
Of course, it is conceivable to use a rubber material, a sponge material, or other flexible materials in addition to the above-described spring as the elastically deformable tip portion 200a.
As the contact detection, it is conceivable to use a contact sensor such as a piezoelectric element in addition to mechanical detection and optical detection.
Each of the above points can be considered as a modified example in the case of the dummy needle 300 as well.

またシミュレーションにはダミーノズル200、ダミーニードル300を使用し、実際にコーティング剤の吐出は行わないため、コーティング剤をシミュレーション時に消費することもない。特に修正しながら何度もシミュレーションを行う場合を考えると、ダミーノズル200、ダミーニードル300を使用したコーティング剤を使用しないシミュレーションは好適である。
また撮像部25を備え、主制御部30は撮像部25で撮像された回路基板100の画像を取り込む処理を行う。これにより処理対象物画像を容易に取り込むことができ、スプレーパス設定処理を効率化できる。
Further, since the dummy nozzle 200 and the dummy needle 300 are used for the simulation and the coating agent is not actually discharged, the coating agent is not consumed during the simulation. Considering the case where the simulation is performed many times with correction in particular, the simulation using the dummy nozzle 200 and the dummy needle 300 without using the coating agent is suitable.
The main control unit 30 includes an imaging unit 25 and performs processing for capturing an image of the circuit board 100 captured by the imaging unit 25. As a result, the processing object image can be easily captured, and the spray path setting process can be made more efficient.

<4.他のニードル例>
他のニードル16の例として、図11Aに示すニードル16Aのように、先端部16Aaが屈曲されているものも考えられる。例えば先端部16Aaが90°屈曲されたニードル形状を示している。
これにより、図11Bに示すように、上方から塗布ができない部品112の側面のような場所にも塗布することが可能となる。さらに同図に示すように基板100の側面を塗布することも可能となる。
<4. Other needle examples>
As another example of the needle 16, a needle 16 </ b> Aa whose bent end portion 16 </ b> Aa is bent can be considered as in the needle 16 </ b> A shown in FIG. 11A. For example, a needle shape in which the distal end portion 16Aa is bent by 90 ° is shown.
As a result, as shown in FIG. 11B, it is possible to apply to a place such as a side surface of the component 112 that cannot be applied from above. Further, it is possible to apply the side surface of the substrate 100 as shown in FIG.

また、このように先端部を屈曲させる場合は、ニードル16Aについてもθ方向回転可能にニードル回転モータを設けるようにするとよい。すると図11Cに示すように、部品112,113,114,115の各側面を塗布することも可能である。なお同図は先端部16Aaの屈曲した部分のみを模式的に示している。まず、部品112の側面を塗布する。そして矢印d1で示すように部品113の付近に移動し、θ方向に90°回転させる。これによって先端部16Aaが部品113の側面に向くことになり、側面塗布を実行する。以降も、矢印d2移動→90°回転→部品114の側面塗布→矢印d3移動→90°回転→部品115側面塗布、と動作を進めていくことで、部品112,113,114,115に囲まれた狭い領域で各部品の側面塗布が実行できる。
また、狭い部分を通過して塗布することも可能である。その場合には、図11Dのように屈曲方向が狭路方向に合うようにθ回転方向位置を制御すればよい。
Further, when the tip portion is bent as described above, a needle rotation motor may be provided so that the needle 16A can also rotate in the θ direction. Then, as shown in FIG. 11C, it is also possible to apply each side surface of the parts 112, 113, 114, and 115. The figure schematically shows only the bent portion of the tip 16Aa. First, the side surface of the component 112 is applied. Then, as indicated by the arrow d1, the component moves to the vicinity of the component 113 and is rotated by 90 ° in the θ direction. As a result, the front end portion 16Aa faces the side surface of the component 113, and side surface application is executed. Thereafter, the movement of arrow d2 → 90 ° rotation → side application of component 114 → arrow d3 movement → 90 ° rotation → part 115 side application is advanced, so that the operation is continued by the parts 112, 113, 114, 115. Side application of each part can be performed in a narrow area.
It is also possible to apply through a narrow portion. In that case, the θ rotation direction position may be controlled so that the bending direction matches the narrow road direction as shown in FIG. 11D.

なお、図11では先端部16Aaが90°屈曲された例を示したが、垂直方向から30°、45°など、他の角度の屈曲されたニードルも想定される。例えば部品112の下部の隙間等を塗布したい場合などは、45°屈曲ニードルなどが好適となる場合もある。   11 shows an example in which the distal end portion 16Aa is bent by 90 °, a bent needle of another angle such as 30 ° or 45 ° from the vertical direction is also assumed. For example, when it is desired to apply a gap or the like below the component 112, a 45 ° bending needle may be suitable.

<5.プログラム>
実施の形態のプログラムは、上述の図9のスプレーパス設定処理を、例えばCPU、DSP(Digital Signal Processor)等の演算処理装置に実行させるプログラムである。
即ち塗布処理対象物の画像を取り込む処理と、ノズル3の非吐出移動時の高さ位置であるノズル移動高さを設定する処理と、ニードル16の非吐出移動時の高さ位置であるニードル移動高さを設定する処理と、塗布処理対象物画像上で、ノズル3についての第1禁止エリアAR1を設定する処理と、塗布処理対象物画像上で、ニードル16についての第2禁止エリアAR2を設定する処理と、ノズル3についてのスプレーパスとして、第1禁止エリアAR1を少なくとも除いた吐出移動経路とノズル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むノズルパスを作成するする処理と、ニードル16についてのスプレーパスとして、第2禁止エリアAR2を少なくとも除いた吐出移動経路とニードル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むニードルパスを作成する処理と、を演算処理装置に実行させるプログラムである。
さらには加えて、作成したノズルパスで、ノズル移動の試行動作を実行させ、試行結果に応じてノズルパスの修正又はノズルパスの決定を行う処理と、作成したニードルパスで、ニードル移動の試行動作を実行させ、試行結果に応じてニードルパスの修正又はニードルパスの決定を行う処理とを演算処理装置に実行させるプログラムとしてもよい。
<5. Program>
The program according to the embodiment is a program that causes an arithmetic processing device such as a CPU or a DSP (Digital Signal Processor) to execute the above-described spray path setting process of FIG.
That is, a process for capturing an image of an object to be coated, a process for setting a nozzle movement height that is a height position when the nozzle 3 is not ejected, and a needle movement that is a height position when the needle 16 is not ejected. A process for setting the height, a process for setting the first prohibited area AR1 for the nozzle 3 on the application object image, and a second prohibited area AR2 for the needle 16 on the application object image. A process of creating a nozzle path including a discharge movement path excluding at least the first prohibited area AR1 and a non-discharge movement path according to the setting of the nozzle movement height as a spray path for the nozzle 3, and a needle 16 As the spray path, a discharge movement path excluding at least the second prohibited area AR2 and a non-discharge movement path according to the setting of the needle movement height are included. A process of creating a Dorupasu a program to be executed by the processor.
In addition, a process for performing a nozzle movement trial operation on the created nozzle path and correcting the nozzle path or determining the nozzle path according to the trial result, and a needle movement trial operation on the created needle path are executed. A program for causing the arithmetic processing unit to execute a process of correcting the needle path or determining the needle path according to the trial result may be used.

このようなプログラムは、コーティング装置1に内蔵されている記録媒体としてのメモリ部34或いは、HDD(Hard Disk Drive)等や、CPUを有するマイクロコンピュータ内のROM等に予め記録しておくことができる。
あるいはまた、フレキシブルディスク、CD−ROM(Compact Disc Read Only Memory)、MO(Magneto optical)ディスク、DVD(Digital Versatile Disc)、ブルーレイディスク(Blu-ray Disc(登録商標))、磁気ディスク、半導体メモリ、メモリカードなどのリムーバブル記録媒体に、一時的あるいは永続的に格納(記録)しておくことができる。このようなリムーバブル記録媒体は、いわゆるパッケージソフトウェアとして提供することができる。
また、このようなプログラムは、リムーバブル記録媒体からパーソナルコンピュータ等にインストールする他、ダウンロードサイトから、LAN(Local Area Network)、インターネットなどのネットワークを介してダウンロードすることもできる。
またこのようなプログラムによれば、実施の形態のコーティング装置1の広範な提供に適している。
Such a program can be recorded in advance in a memory unit 34 as a recording medium built in the coating apparatus 1, an HDD (Hard Disk Drive), or a ROM in a microcomputer having a CPU. .
Alternatively, a flexible disk, CD-ROM (Compact Disc Read Only Memory), MO (Magneto optical) disk, DVD (Digital Versatile Disc), Blu-ray Disc (Blu-ray Disc (registered trademark)), magnetic disk, semiconductor memory, It can be stored (recorded) temporarily or permanently in a removable recording medium such as a memory card. Such a removable recording medium can be provided as so-called package software.
Further, such a program can be downloaded from a removable recording medium to a personal computer or the like, or downloaded from a download site via a network such as a LAN (Local Area Network) or the Internet.
Moreover, according to such a program, it is suitable for wide provision of the coating apparatus 1 of embodiment.

<6.変形例>
実施の形態では、ノズル3から扇状のスプレーパターンが吐出される例としたが、必ずしも扇状のスプレーパターンを吐出するノズルでなくともよい。
例えば円錐状に広がるスプレーパターンを吐出するノズルであっても本発明は適用できる。即ち、円錐状のスプレーパターンのノズルと、細線状のスプレーパターンのニードルを組み合わせたものでも、上述のスプレーパス設定処理に基づいて適切な塗布を行うことが想定される。
<6. Modification>
In the embodiment, an example in which a fan-shaped spray pattern is discharged from the nozzle 3 is described. However, the nozzle does not necessarily have to discharge a fan-shaped spray pattern.
For example, the present invention can be applied even to a nozzle that discharges a spray pattern spreading in a conical shape. That is, even a combination of a nozzle having a conical spray pattern and a needle having a fine line spray pattern is assumed to be appropriately applied based on the above-described spray path setting process.

また実施の形態では、ノズル3とニードル16は同じノズルホルダ4に装着されて移動されるが、ニードル16とノズル3が別体のホルダに装着され、それぞれ個別にX,Y方向に移動されるようにした構成例も考えられる。
また上述のスプレーパス設定処理では、第1、第2禁止エリアAR1、AR2の上空をノズル3及びニードル16が通過しないようなパス設定をおこなうようにするとよい。さらには、塗布中、或いは塗布後、塗布開始前などのいずれの場合も、ノズル3及びニードル16が、少なくとも第2禁止エリアAR2の上空を通過しないように制御することが好ましい。ノズル3やニードル16からの液だれにより、少なくとも第2禁止エリアAR2にコーティング剤が付着してしまうことがないようできるためである。
In the embodiment, the nozzle 3 and the needle 16 are mounted on the same nozzle holder 4 and moved. However, the needle 16 and the nozzle 3 are mounted on separate holders and moved individually in the X and Y directions. An example of such a configuration is also conceivable.
In the above-described spray path setting process, it is preferable to perform a path setting so that the nozzle 3 and the needle 16 do not pass over the first and second prohibited areas AR1 and AR2. Furthermore, it is preferable to control so that the nozzle 3 and the needle 16 do not pass at least above the second prohibited area AR2 either during application, after application, or before application starts. This is because it is possible to prevent the coating agent from adhering to at least the second prohibited area AR2 due to liquid dripping from the nozzle 3 or the needle 16.

また実施の形態のコーティング装置は、回路基板に薄膜を形成するコーティング装置に限ることなく、各種の処理対象物に対して薄膜等を形成するコーティング装置に適用できる。薄膜とは、防湿膜、防さび膜、塗装膜、着色膜など、各種の膜のコーティングに適用できる。
また本発明の液体吐出装置は、実施の形態のようなコーティング装置に限らず、膜形成、洗浄、塗装など、各種の目的で加圧液体の吐出を行う液体吐出装置、及びそのスプレーパス設定方法、もしくはそのプログラムとして、広く適用できる。
さらに本発明は、基板接着装置やレーザ加工装置などに応用することができる。
The coating apparatus according to the embodiment is not limited to a coating apparatus that forms a thin film on a circuit board, but can be applied to a coating apparatus that forms a thin film or the like on various objects to be processed. The thin film can be applied to coating various films such as a moisture-proof film, a rust-proof film, a paint film, and a colored film.
The liquid discharge apparatus of the present invention is not limited to the coating apparatus as in the embodiment, and a liquid discharge apparatus that discharges pressurized liquid for various purposes such as film formation, cleaning, and painting, and a spray path setting method thereof Or, it can be widely applied as a program.
Furthermore, the present invention can be applied to a substrate bonding apparatus and a laser processing apparatus.

また本発明は2つのノズル(ノズルとニードル)を備えた液体吐出装置としているが、以上の発明の詳細な説明から把握される発明として、以下の(1)〜(13)の様な少なくとも1つのノズルを備えた液体吐出装置、ノズルパス設定方法、プログラムも想定される。
(1)塗布液体を吐出するノズルと、
上記ノズルを移動させる移動手段と、
塗布処理対象物に対する、上記ノズルの塗布作業時の移動経路であるノズルパスを設定するノズルパス設定処理を行うとともに、設定したノズルパスに基づいて上記移動手段により上記ノズルを移動させながら、上記塗布処理対象物に対する塗布液体の吐出を実行させる制御手段と、
を備え、
上記制御手段は、上記ノズルパス設定処理として、
塗布処理対象物画像を取り込む処理と、
上記ノズルの非吐出移動時の高さ位置であるノズル移動高さを設定する処理と、
上記塗布処理対象物画像上で塗布禁止エリアを設定する処理と、
上記塗布禁止エリアを少なくとも除いた吐出移動経路と、上記ノズル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むノズルパスを作成する処理と、
を行う液体吐出装置。
(2)上記制御手段は、上記ノズルパス設定処理においてさらに、
作成したノズルパスで、ノズル移動の試行動作を実行させ、試行結果に応じてスプレーパスの修正又はスプレーパスの決定を行う上記(1)に記載の液体吐出装置。
(3)上記ノズル移動高さは、上記塗布処理対象物に設けられた構造物の高さを越える高さに設定される上記(1)に記載の液体吐出装置。
(4)入力手段を備え、
上記制御手段は、上記塗布禁止エリアを設定する処理を、上記入力手段からの入力に基づいて行う上記(1)に記載の液体吐出装置。
(5)上記制御手段は、上記塗布禁止エリアを設定する処理を、上記塗布処理対象物画像の画像解析結果に基づいて行う上記(1)に記載の液体吐出装置。
(6)先端部が上記ノズルの先端部と略同サイズであって、弾性変形もしくは屈折可能とされ、該先端部の弾性変形もしくは屈折に応じて接触検出信号を出力するダミーノズルが、上記ノズルに取り替えて装着可能とされ、
上記制御手段は、上記ダミーノズルが装着された状態で、ノズル移動の試行動作を実行させた際の上記接触検出信号の受信に応じたノズルパスの修正を行う上記(2)に記載の液体吐出装置。
(7)撮像手段を備え、
上記制御手段は、上記撮像手段で撮像された上記塗布処理対象物画像を取り込む処理を行う上記(1)に記載の液体吐出装置。
(8)上記ノズルから捨て打ちとしての塗布液体の吐出を実行させる捨て打ち部が設けられている上記(1)に記載の液体吐出装置。
(9)上記ノズルを塗布液体の希釈剤に浸け置きする浸け置き部が設けられている上記(1)に記載の液体吐出装置。
(10)
塗布液体を吐出するノズルと、
上記ノズルを移動させる移動手段と、
を備えた液体吐出装置における、塗布処理対象物に対する、上記ノズルの塗布作業時の移動経路であるノズルパスを設定するノズルパス設定方法として、
塗布処理対象物画像を取り込む工程と、
上記ノズルの非吐出移動時の高さ位置であるノズル移動高さを設定する工程と、
上記塗布処理対象物画像上で塗布禁止エリアを設定する工程と、
上記塗布禁止エリアを少なくとも除いた吐出移動経路と、上記ノズル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むノズルパスを作成する工程と、
を有するノズルパス設定方法。
(11)作成したノズルパスで、ノズル移動の試行動作を実行させ、試行結果に応じてノズルパスの修正又はノズルパスの決定を行う工程を、さらに有する上記(10)に記載のノズルパス設定方法。
(12)塗布液体を吐出するノズルと、
上記ノズルを移動させる移動手段と、
を備えた液体吐出装置の演算処理装置に、塗布処理対象物に対する、上記ノズルの塗布作業時の移動経路であるノズルパスを設定する処理を実行させるプログラムとして、
塗布処理対象物画像を取り込む処理と、
上記ノズルの非吐出移動時の高さ位置であるノズル移動高さを設定する処理と、
上記塗布処理対象物画像上で、塗布禁止エリアを設定する処理と、
上記塗布禁止エリアを少なくとも除いた吐出移動経路と、上記ノズル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むノズルパスを作成する処理と、
を実行させるプログラム。
(13)作成したノズルパスで、ノズル移動の試行動作を実行させ、試行結果に応じてノズルパスの修正又はノズルパスの決定を行う処理をさらに上記演算処理装置に実行させる上記(12)に記載のプログラム。
In addition, the present invention is a liquid ejection device provided with two nozzles (nozzle and needle), but as an invention grasped from the detailed description of the above invention, at least one of the following (1) to (13) A liquid ejection apparatus having one nozzle, a nozzle path setting method, and a program are also assumed.
(1) a nozzle for discharging a coating liquid;
Moving means for moving the nozzle;
While performing a nozzle path setting process for setting a nozzle path, which is a movement path at the time of the application of the nozzle, to the application processing object, the moving means moves the nozzle based on the set nozzle path while moving the nozzle. Control means for executing discharge of the coating liquid with respect to
With
The control means, as the nozzle path setting process,
Processing to capture an object image to be applied;
A process of setting the nozzle movement height, which is the height position at the time of non-ejection movement of the nozzle,
A process of setting an application prohibited area on the application object image;
A process of creating a nozzle path including a discharge movement path excluding at least the application prohibited area and a non-discharge movement path according to the setting of the nozzle movement height;
Liquid ejecting device that performs.
(2) In the nozzle path setting process, the control unit further includes:
The liquid ejecting apparatus according to (1), wherein a trial operation of nozzle movement is executed in the created nozzle path, and the spray path is corrected or the spray path is determined according to the trial result.
(3) The liquid ejection device according to (1), wherein the nozzle moving height is set to a height that exceeds a height of a structure provided on the coating object.
(4) Provide input means,
The liquid ejecting apparatus according to (1), wherein the control unit performs a process of setting the application prohibited area based on an input from the input unit.
(5) The liquid ejecting apparatus according to (1), wherein the control unit performs a process of setting the application prohibited area based on an image analysis result of the application object image.
(6) A dummy nozzle that has a tip portion substantially the same size as the tip portion of the nozzle and can be elastically deformed or refracted, and outputs a contact detection signal in accordance with the elastic deformation or refraction of the tip portion. It can be replaced and installed,
The liquid ejecting apparatus according to (2), wherein the control unit corrects a nozzle path according to reception of the contact detection signal when a trial operation of nozzle movement is performed in a state where the dummy nozzle is mounted. .
(7) provided with imaging means;
The liquid ejecting apparatus according to (1), wherein the control unit performs a process of capturing the application object image picked up by the image pickup unit.
(8) The liquid ejecting apparatus according to (1), wherein a discarding unit that performs discharge of the coating liquid as discarding from the nozzle is provided.
(9) The liquid ejecting apparatus according to (1), wherein a soaking part for soaking the nozzle in a diluent of the coating liquid is provided.
(10)
A nozzle for discharging a coating liquid;
Moving means for moving the nozzle;
As a nozzle path setting method for setting a nozzle path, which is a movement path at the time of the application operation of the nozzle, with respect to an object to be applied in a liquid ejection apparatus provided with:
Capturing a coating object image;
A step of setting a nozzle moving height which is a height position at the time of non-ejection movement of the nozzle;
A step of setting a coating prohibited area on the coating object image;
A step of creating a nozzle path including a discharge movement path excluding at least the application prohibited area and a non-discharge movement path according to the setting of the nozzle movement height;
A nozzle path setting method.
(11) The nozzle path setting method according to (10), further including a step of performing a nozzle movement trial operation on the created nozzle path and performing a nozzle path correction or a nozzle path determination according to the trial result.
(12) a nozzle for discharging a coating liquid;
Moving means for moving the nozzle;
As a program for causing the arithmetic processing unit of the liquid ejection apparatus including
Processing to capture an object image to be applied;
A process of setting the nozzle movement height, which is the height position at the time of non-ejection movement of the nozzle,
On the application object image, a process for setting an application prohibition area;
A process of creating a nozzle path including a discharge movement path excluding at least the application prohibited area and a non-discharge movement path according to the setting of the nozzle movement height;
A program that executes
(13) The program according to (12), further causing the arithmetic processing unit to execute a process of performing a nozzle movement trial operation on the created nozzle path and correcting the nozzle path or determining the nozzle path according to the trial result.

1…コーティング装置
2…作業台部
3…ノズル
4…ノズルホルダ
5…ノズルZモータ
6…ノズル回転モータ
7…Xモータ
8…Yモータ
9…表示部
10…基板載置台
11…X方向ガイド
12…Y方向ガイド
15…ニードルZモータ
16…ニードル
21…発光部
22…受光部
23…捨て打ち部
24…浸け置き部
25…撮像部
26…ブラシ
27…ミラー
30…制御部
31…入力部
32…画像処理部
33…表示駆動部
34…メモリ部
35…モータコントローラ
42…センサ駆動部
46…外部インターフェース
51,52,53,54,55…位置検出部
56…ダミーノズルセンサ
57…ダミーニードルセンサ
200…ダミーノズル
300…ダミーニードル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Coating apparatus 2 ... Worktable part 3 ... Nozzle 4 ... Nozzle holder 5 ... Nozzle Z motor 6 ... Nozzle rotation motor 7 ... X motor 8 ... Y motor 9 ... Display part 10 ... Substrate mounting table 11 ... X direction guide 12 ... Y direction guide 15 ... Needle Z motor 16 ... Needle 21 ... Light emitting part 22 ... Light receiving part 23 ... Discarding part 24 ... Soaking part 25 ... Imaging part 26 ... Brush 27 ... Mirror 30 ... Control part 31 ... Input part 32 ... Image Processing unit 33: Display drive unit 34 ... Memory unit 35 ... Motor controller 42 ... Sensor drive unit 46 ... External interface 51, 52, 53, 54, 55 ... Position detection unit 56 ... Dummy nozzle sensor 57 ... Dummy needle sensor 200 ... Dummy Nozzle 300 ... Dummy needle

Claims (15)

塗布液体を扇状又は円錐状に吐出するノズルと、
塗布液体を細線状に吐出するニードルと、
上記ノズル及び上記ニードルを移動させる移動手段と、
塗布処理対象物に対する、上記ノズル及び上記ニードルの塗布作業時の移動経路であるスプレーパスを設定するスプレーパス設定処理を行うとともに、設定したスプレーパスに基づいて上記移動手段により上記ノズル及び上記ニードルを移動させながら、上記塗布処理対象物に対する塗布液体の吐出を実行させる制御手段と、
を備え、
上記制御手段は、上記スプレーパス設定処理として、
塗布処理対象物画像を取り込む処理と、
上記ノズルの非吐出移動時の高さ位置であるノズル移動高さを設定する処理と、
上記ニードルの非吐出移動時の高さ位置であるニードル移動高さを設定する処理と、
上記塗布処理対象物画像上で、上記ノズルについての第1の塗布禁止エリアを設定する処理と、
上記塗布処理対象物画像上で、上記ニードルについての第2の塗布禁止エリアを設定する処理と、
上記ノズルについての上記スプレーパスとして、上記第1の塗布禁止エリアを少なくとも除いた吐出移動経路と、上記ノズル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むノズルパスを作成する処理と、
上記ニードルについての上記スプレーパスとして、上記第2の塗布禁止エリアを少なくとも除いた吐出移動経路と、上記ニードル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むニードルパスを作成する処理と、を行う
液体吐出装置。
A nozzle for discharging the application liquid in a fan shape or a conical shape;
A needle for discharging the coating liquid into a thin line;
Moving means for moving the nozzle and the needle;
A spray path setting process for setting a spray path, which is a movement path during the application operation of the nozzle and the needle, is performed on an object to be coated, and the nozzle and the needle are moved by the moving means based on the set spray path. Control means for causing the application liquid to be discharged onto the object to be applied while being moved;
With
The control means, as the spray path setting process,
Processing to capture an object image to be applied;
A process of setting the nozzle movement height, which is the height position at the time of non-ejection movement of the nozzle,
Processing for setting the needle moving height which is the height position at the time of non-ejection movement of the needle;
A process of setting a first application prohibited area for the nozzle on the application object image;
A process for setting a second application prohibited area for the needle on the application object image;
As the spray path for the nozzle, a process for creating a nozzle path including a discharge movement path excluding at least the first application prohibited area and a non-discharge movement path according to the setting of the nozzle movement height;
A process of creating a needle path including a discharge movement path excluding at least the second application prohibition area and a non-discharge movement path according to the setting of the needle movement height as the spray path for the needle. Perform liquid ejection device.
上記制御手段は、上記スプレーパス設定処理において、さらに、
作成したノズルパスで、ノズル移動の試行動作を実行させ、試行結果に応じてノズルパスの修正又はノズルパスの決定を行う処理と、
作成したニードルパスで、ニードル移動の試行動作を実行させ、試行結果に応じてニードルパスの修正又はニードルパスの決定を行う処理と、
を行う請求項1に記載の液体吐出装置。
In the spray path setting process, the control means further includes:
A process of performing a nozzle movement trial operation on the created nozzle path and correcting the nozzle path or determining the nozzle path according to the trial result;
In the created needle path, a process for performing a needle movement trial operation and correcting the needle path or determining the needle path according to the trial result; and
The liquid ejecting apparatus according to claim 1, wherein
上記ノズル移動高さ、及び上記ニードル高さは、上記塗布処理対象物に設けられた構造物の高さを越える高さに設定される請求項1に記載の液体吐出装置。   The liquid ejecting apparatus according to claim 1, wherein the nozzle moving height and the needle height are set to a height that exceeds a height of a structure provided on the coating object. 入力手段を備え、
上記制御手段は、
上記第1の塗布禁止エリアを設定する処理と、上記第2の塗布禁止エリアを設定する処理の一方又は両方を、上記入力手段からの入力に基づいて行う請求項1に記載の液体吐出装置。
With input means,
The control means includes
2. The liquid ejection apparatus according to claim 1, wherein one or both of the process of setting the first application prohibited area and the process of setting the second application prohibited area is performed based on an input from the input unit.
上記制御手段は、
上記第1の塗布禁止エリアを設定する処理と、上記第2の塗布禁止エリアを設定する処理の一方又は両方を、上記塗布処理対象物画像の画像解析結果に基づいて行う請求項1に記載の液体吐出装置。
The control means includes
The one or both of the process which sets the said 1st application prohibition area and the process which sets the said 2nd application prohibition area are performed based on the image analysis result of the said application | coating process target image. Liquid ejection device.
先端部が上記ノズルの先端部と略同サイズであって、弾性変形もしくは屈折可能とされ、該先端部の弾性変形もしくは屈折に応じて接触検出信号を出力するダミーノズルが、上記ノズルに取り替えて装着可能とされ、
上記制御手段は、上記ダミーノズルが装着された状態で、ノズル移動の試行動作を実行させた際の上記接触検出信号の受信に応じたノズルパスの修正を行う請求項2に記載の液体吐出装置。
The tip is substantially the same size as the tip of the nozzle and can be elastically deformed or refracted, and a dummy nozzle that outputs a contact detection signal according to the elastic deformation or refraction of the tip is replaced with the nozzle. It can be installed,
The liquid ejecting apparatus according to claim 2, wherein the control unit corrects a nozzle path according to reception of the contact detection signal when a trial operation of nozzle movement is executed in a state where the dummy nozzle is mounted.
先端部が上記ニードルの先端部と略同サイズであって、弾性変形もしくは屈折可能とされ、該先端部の弾性変形もしくは屈折に応じて接触検出信号を出力するダミーニードルが、上記ニードルに取り替えて装着可能とされ、
上記制御手段は、上記ダミーニードルが装着された状態で、ニードル移動の試行動作を実行させた際の、上記接触検出信号の受信に応じたニードルパスの修正を行う請求項2に記載の液体吐出装置。
The tip of the needle is approximately the same size as the tip of the needle and can be elastically deformed or refracted, and a dummy needle that outputs a contact detection signal in accordance with the elastic deformation or refraction of the tip is replaced with the needle. It can be installed,
3. The liquid ejection according to claim 2, wherein the control unit corrects a needle path in response to reception of the contact detection signal when a trial operation of needle movement is executed in a state where the dummy needle is mounted. apparatus.
撮像手段を備え、
上記制御手段は、上記撮像手段で撮像された上記塗布処理対象物画像を取り込む処理を行う請求項1に記載の液体吐出装置。
Comprising imaging means,
The liquid ejecting apparatus according to claim 1, wherein the control unit performs a process of taking in the application object image captured by the imaging unit.
上記ノズル又は上記ニードルから捨て打ちとしての塗布液体の吐出を実行させる捨て打ち部が設けられている請求項1に記載の液体吐出装置。   The liquid ejection apparatus according to claim 1, further comprising a discarding unit that discharges the coating liquid as the discarding from the nozzle or the needle. 上記ノズル又は上記ニードルを塗布液体の希釈剤に浸け置きする浸け置き部が設けられている請求項1に記載の液体吐出装置。   The liquid ejection apparatus according to claim 1, further comprising a soaking part for immersing the nozzle or the needle in a diluent of a coating liquid. 上記ニードルは、先端部が屈曲されている請求項1に記載の液体吐出装置。   The liquid ejecting apparatus according to claim 1, wherein the needle has a bent tip. 塗布液体を扇状又は円錐状に吐出するノズルと、
塗布液体を細線状に吐出するニードルと、
上記ノズル及び上記ニードルを移動させる移動手段と、
を備えた液体吐出装置における、塗布処理対象物に対する、上記ノズル及び上記ニードルの塗布作業時の移動経路であるスプレーパスを設定するスプレーパス設定方法として、
塗布処理対象物画像を取り込む工程と、
上記ノズルの非吐出移動時の高さ位置であるノズル移動高さを設定する工程と、
上記ニードルの非吐出移動時の高さ位置であるニードル移動高さを設定する工程と、
上記塗布処理対象物画像上で、上記ノズルについての第1の塗布禁止エリアを設定する工程と、
上記塗布処理対象物画像上で、上記ニードルについての第2の塗布禁止エリアを設定する工程と、
上記ノズルについての上記スプレーパスとして、上記第1の塗布禁止エリアを少なくとも除いた吐出移動経路と、上記ノズル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むノズルパスを作成する工程と、
上記ニードルについての上記スプレーパスとして、上記第2の塗布禁止エリアを少なくとも除いた吐出移動経路と、上記ニードル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むニードルパスを作成する工程と、
を有するスプレーパス設定方法。
A nozzle for discharging the application liquid in a fan shape or a conical shape;
A needle for discharging the coating liquid into a thin line;
Moving means for moving the nozzle and the needle;
As a spray path setting method for setting a spray path, which is a movement path at the time of the application work of the nozzle and the needle, with respect to the object to be applied in the liquid ejection apparatus provided with
Capturing a coating object image;
A step of setting a nozzle moving height which is a height position at the time of non-ejection movement of the nozzle;
A step of setting a needle moving height which is a height position at the time of non-ejection movement of the needle,
Setting a first application prohibited area for the nozzle on the application object image;
Setting a second application prohibited area for the needle on the application object image;
Creating a nozzle path including a discharge movement path excluding at least the first application prohibition area and a non-discharge movement path according to the setting of the nozzle movement height as the spray path for the nozzle;
Creating a needle path including a discharge movement path excluding at least the second application prohibition area and a non-discharge movement path according to the setting of the needle movement height as the spray path for the needle;
A spray path setting method.
作成したノズルパスで、ノズル移動の試行動作を実行させ、試行結果に応じてノズルパスの修正又はノズルパスの決定を行う工程と、
作成したニードルパスで、ニードル移動の試行動作を実行させ、試行結果に応じてニードルパスの修正又はニードルパスの決定を行う工程と、をさらに有する
請求項12に記載のスプレーパス設定方法。
A step of performing a nozzle movement trial operation on the created nozzle path, and correcting the nozzle path or determining the nozzle path according to the trial result; and
The spray path setting method according to claim 12, further comprising a step of executing a trial operation of needle movement with the created needle path and correcting the needle path or determining the needle path according to the trial result.
塗布液体を扇状又は円錐状に吐出するノズルと、
塗布液体を細線状に吐出するニードルと、
上記ノズル及び上記ニードルを移動させる移動手段と、
を備えた液体吐出装置の演算処理装置に、塗布処理対象物に対する、上記ノズル及び上記ニードルの塗布作業時の移動経路であるスプレーパスを設定する処理を実行させるプログラムとして、
塗布処理対象物画像を取り込む処理と、
上記ノズルの非吐出移動時の高さ位置であるノズル移動高さを設定する処理と、
上記ニードルの非吐出移動時の高さ位置であるニードル移動高さを設定する処理と、
上記塗布処理対象物画像上で、上記ノズルについての第1の塗布禁止エリアを設定する処理と、
上記塗布処理対象物画像上で、上記ニードルについての第2の塗布禁止エリアを設定する処理と、
上記ノズルについての上記スプレーパスとして、上記第1の塗布禁止エリアを少なくとも除いた吐出移動経路と、上記ノズル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むノズルパスを作成する処理と、
上記ニードルについての上記スプレーパスとして、上記第2の塗布禁止エリアを少なくとも除いた吐出移動経路と、上記ニードル移動高さの設定に従った非吐出移動経路を含むニードルパスを作成する処理と、を実行させる
プログラム。
A nozzle for discharging the application liquid in a fan shape or a conical shape;
A needle for discharging the coating liquid into a thin line;
Moving means for moving the nozzle and the needle;
As a program for causing the arithmetic processing unit of the liquid ejection apparatus provided with a process for setting a spray path, which is a movement path during the application operation of the nozzle and the needle, to the application processing object,
Processing to capture an object image to be applied;
A process of setting the nozzle movement height, which is the height position at the time of non-ejection movement of the nozzle,
Processing for setting the needle moving height which is the height position at the time of non-ejection movement of the needle;
A process of setting a first application prohibited area for the nozzle on the application object image;
A process for setting a second application prohibited area for the needle on the application object image;
As the spray path for the nozzle, a process for creating a nozzle path including a discharge movement path excluding at least the first application prohibited area and a non-discharge movement path according to the setting of the nozzle movement height;
A process of creating a needle path including a discharge movement path excluding at least the second application prohibition area and a non-discharge movement path according to the setting of the needle movement height as the spray path for the needle. The program to be executed.
作成したノズルパスで、ノズル移動の試行動作を実行させ、試行結果に応じてノズルパスの修正又はノズルパスの決定を行う処理と、
作成したニードルパスで、ニードル移動の試行動作を実行させ、試行結果に応じてニードルパスの修正又はニードルパスの決定を行う処理と、をさらに上記演算処理装置に実行させる
請求項14に記載のプログラム。
A process of performing a nozzle movement trial operation on the created nozzle path and correcting the nozzle path or determining the nozzle path according to the trial result;
The program according to claim 14, further comprising: causing the arithmetic processing device to further execute a process of executing a needle movement trial operation on the created needle path and correcting the needle path or determining the needle path according to the trial result. .
JP2012254387A 2012-11-20 2012-11-20 Liquid ejection device, spray path setting method, program Active JP6240383B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012254387A JP6240383B2 (en) 2012-11-20 2012-11-20 Liquid ejection device, spray path setting method, program

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012254387A JP6240383B2 (en) 2012-11-20 2012-11-20 Liquid ejection device, spray path setting method, program

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014103258A true JP2014103258A (en) 2014-06-05
JP6240383B2 JP6240383B2 (en) 2017-11-29

Family

ID=51025510

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012254387A Active JP6240383B2 (en) 2012-11-20 2012-11-20 Liquid ejection device, spray path setting method, program

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6240383B2 (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105478299A (en) * 2015-12-24 2016-04-13 深圳市轴心自控技术有限公司 Dispensing device and dispensing machine with dispensing device
CN106042640A (en) * 2015-04-10 2016-10-26 万润科技股份有限公司 Cross beam structure and jet printing device using same
JP2016215177A (en) * 2015-05-26 2016-12-22 アルファーデザイン株式会社 Liquid discharge device, spray path setting method, and program
JP2017070928A (en) * 2015-10-09 2017-04-13 株式会社セス・ジャパン Resin coating device
CN108375927A (en) * 2017-01-31 2018-08-07 阿尔法设计株式会社 Jet path setting method, program, arithmetic processing apparatus
CN108372080A (en) * 2017-01-31 2018-08-07 阿尔法设计株式会社 Apparatus for coating, information processing unit, information processing method, program
CN109068492A (en) * 2018-10-31 2018-12-21 永康市泉承工贸有限公司 A kind of integrated circuit board processing machine
KR20190015752A (en) * 2016-06-08 2019-02-14 노드슨 코포레이션 Systems and methods for dispensing liquid or viscous material onto a substrate
JP7059775B2 (en) 2018-04-24 2022-04-26 株式会社リコー Automatic spray painting equipment
KR20220160912A (en) * 2021-05-28 2022-12-06 주식회사 엠브이솔루션 Apparatus for dispensing path estimation using image analysis

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61178959U (en) * 1985-04-29 1986-11-08
JPH08206561A (en) * 1995-02-01 1996-08-13 Toshiba Corp Adhesive applying device
JPH1015462A (en) * 1996-07-05 1998-01-20 Hitachi Ltd Nozzle for dispenser
JP2004089762A (en) * 2002-08-29 2004-03-25 Shinko Electric Ind Co Ltd Apparatus and method for applying liquid material
JP2005045154A (en) * 2003-07-25 2005-02-17 Fuji Photo Film Co Ltd Nozzle for dispensers, dispenser, and manufacturing method of single layer or multilayer board
JP2005138013A (en) * 2003-11-05 2005-06-02 Seiko Epson Corp Control method of liquid droplet discharge device and liquid droplet discharge device
JP2007000690A (en) * 2005-06-21 2007-01-11 Anest Iwata Corp Paint spraying-pressure control method, and paint spraying-pressure control device
JP2011050835A (en) * 2009-09-01 2011-03-17 Rexxam Co Ltd Substrate coating apparatus and program

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61178959U (en) * 1985-04-29 1986-11-08
JPH08206561A (en) * 1995-02-01 1996-08-13 Toshiba Corp Adhesive applying device
JPH1015462A (en) * 1996-07-05 1998-01-20 Hitachi Ltd Nozzle for dispenser
JP2004089762A (en) * 2002-08-29 2004-03-25 Shinko Electric Ind Co Ltd Apparatus and method for applying liquid material
JP2005045154A (en) * 2003-07-25 2005-02-17 Fuji Photo Film Co Ltd Nozzle for dispensers, dispenser, and manufacturing method of single layer or multilayer board
JP2005138013A (en) * 2003-11-05 2005-06-02 Seiko Epson Corp Control method of liquid droplet discharge device and liquid droplet discharge device
JP2007000690A (en) * 2005-06-21 2007-01-11 Anest Iwata Corp Paint spraying-pressure control method, and paint spraying-pressure control device
JP2011050835A (en) * 2009-09-01 2011-03-17 Rexxam Co Ltd Substrate coating apparatus and program

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106042640A (en) * 2015-04-10 2016-10-26 万润科技股份有限公司 Cross beam structure and jet printing device using same
JP2016215177A (en) * 2015-05-26 2016-12-22 アルファーデザイン株式会社 Liquid discharge device, spray path setting method, and program
JP2017070928A (en) * 2015-10-09 2017-04-13 株式会社セス・ジャパン Resin coating device
CN105478299A (en) * 2015-12-24 2016-04-13 深圳市轴心自控技术有限公司 Dispensing device and dispensing machine with dispensing device
KR20190015752A (en) * 2016-06-08 2019-02-14 노드슨 코포레이션 Systems and methods for dispensing liquid or viscous material onto a substrate
KR102389974B1 (en) * 2016-06-08 2022-04-26 노드슨 코포레이션 Systems and methods for dispensing a liquid or viscous material onto a substrate
JP7028562B2 (en) 2017-01-31 2022-03-02 アルファーデザイン株式会社 Spray path setting method, program, and arithmetic processing unit
JP2018122229A (en) * 2017-01-31 2018-08-09 アルファーデザイン株式会社 Spray path setting method, program and arithmetic processing unit
JP2018122228A (en) * 2017-01-31 2018-08-09 アルファーデザイン株式会社 Coating application device, information processing device, information processing method and program
CN108375927B (en) * 2017-01-31 2021-01-26 阿尔法设计株式会社 Method for setting ejection path, recording medium, and arithmetic processing device
CN108372080A (en) * 2017-01-31 2018-08-07 阿尔法设计株式会社 Apparatus for coating, information processing unit, information processing method, program
CN108375927A (en) * 2017-01-31 2018-08-07 阿尔法设计株式会社 Jet path setting method, program, arithmetic processing apparatus
JP7059775B2 (en) 2018-04-24 2022-04-26 株式会社リコー Automatic spray painting equipment
CN109068492A (en) * 2018-10-31 2018-12-21 永康市泉承工贸有限公司 A kind of integrated circuit board processing machine
CN109068492B (en) * 2018-10-31 2020-11-24 江苏盛凡信息服务有限公司 Integrated circuit board processing machine
KR20220160912A (en) * 2021-05-28 2022-12-06 주식회사 엠브이솔루션 Apparatus for dispensing path estimation using image analysis
KR102643248B1 (en) * 2021-05-28 2024-03-06 주식회사 엠브이솔루션 Apparatus for dispensing path estimation using image analysis

Also Published As

Publication number Publication date
JP6240383B2 (en) 2017-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6240383B2 (en) Liquid ejection device, spray path setting method, program
JP6587832B2 (en) Liquid ejection device, spray path setting method, program
JP6875136B2 (en) Coating device, information processing device, information processing method, program
KR102304494B1 (en) Automatically controlling a liquid spray pattern
CN105914165B (en) Substrate board treatment, base plate processing system and substrate processing method using same
TW201429557A (en) Work device having a position correction function, and work method
TW201819050A (en) Working apparatus and working method
JP5477822B2 (en) Substrate shielding layer forming method, apparatus and program
JP6122271B2 (en) Liquid ejection device, spray pattern width measuring method, program
CN108376410B (en) Information processing apparatus, information processing method, and recording medium
CN108372081B (en) Coating device, coating method, and recording medium
CN108375927B (en) Method for setting ejection path, recording medium, and arithmetic processing device
JP6305707B2 (en) Liquid ejection device
TW201731594A (en) Film pattern writing method, coating film base material, and coating device
JP7465648B2 (en) Adhesive application device, adhesive application method, and rotor manufacturing method
JP2008238143A (en) Liquid droplet delivery apparatus and method for replacing liquid droplet delivery head
JP2849320B2 (en) Paste coating machine
JP2015039666A (en) Liquid discharge apparatus, liquid discharge method, and program
JP6294163B2 (en) Solder application equipment
JP2013000706A (en) Method, device, and program for forming substrate shielding layer
JP2002186892A (en) Applicator
JP2003039001A (en) Paste coating machine and pattern coating method
JP6050624B2 (en) Application tool, application mechanism, application device and application method
JPH0750467A (en) Paste coater
JP3507033B2 (en) Paste coating machine

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20151117

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160927

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161004

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161202

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161220

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170213

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20170711

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171004

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20171013

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20171031

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20171106

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6240383

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250