JP2014095024A - 潤滑油組成物及び製造ラインの管理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】潤滑油が使用される製造ラインにおいて、アニリン点と40℃における動粘度とが式(1):0.4×(アニリン点)−15×log(40℃における動粘度)≧20 (1)で表される条件を満たす基油を潤滑油組成物全量基準で50質量%以上含有し、且つ、ブラックライトにより紫外線を照射したときに可視光を発光しない潤滑油組成物を用い、紫外線に対して発光性を有する物質による製品の汚染、汚損又は劣化を、該製品に紫外線を照射して看視する、製造ラインの管理方法。
【選択図】図1
Description
[1]潤滑油が使用される製造ラインにおいて、アニリン点と40℃における動粘度とが下記式(1):
0.4×(アニリン点)−15×log(40℃における動粘度)≧20 (1)
で表される条件を満たす基油を潤滑油組成物全量基準で50質量%以上含有し、且つ、ブラックライトにより紫外線を照射したときに可視光を発光しない潤滑油組成物を用い、紫外線に対して発光性を有する物質による製品の汚染、汚損又は劣化を、該製品に紫外線を照射して看視する、製造ラインの管理方法。
[2]アニリン点と40℃における動粘度とが下記式(1):
0.4×(アニリン点)−15×log(40℃における動粘度)≧20 (1)
で表される条件を満たす基油を潤滑油組成物全量基準で50質量%以上含有し、且つ、ブラックライトにより紫外線を照射したときに可視光を発光しない潤滑油組成物。
[3]前記基油が下記(A)、(B)及び(C)からなる群より選ばれる少なくとも1種である、[2]に記載の潤滑油組成物。
(A)40℃における動粘度が1〜500mm2/sである水素化精製鉱油。
(B)エチレン、プロピレン及びαオレフィンから選ばれる少なくとも1種の重合性単量体から合成される重合体。
(C)スラックワックス及び/又はフィッシャートロプシュワックスを水素化異性化して得られる潤滑油留分。
[4]紡績機、織機、編み機、食品もしくは化粧品関連製品の製造装置又は塗装ラインの潤滑に使用される、[2]又は[3]に記載の潤滑油組成物。
例えば、本発明によれば、紡績機、織機あるいは編み機による繊維、織物及びニット製品の製造ラインなど多くの製造ラインにおいて、消臭剤、ホルマリンなど合成化学薬品等の複数の汚染源を検出し製造管理することができる。また織ラベルとして蛍光繊維を織り込んだ製品の製造管理も容易になる。
また、複数の潤滑油を使用する製造ラインにおいて、汚染源が本願発明の潤滑油組成物以外の潤滑油であることを特定することができる。
0.4×(アニリン点)−15×log(40℃における動粘度)≧20 (1)
で表される条件を満たす基油を潤滑油組成物全量基準で50質量%以上含有し、且つ、ブラックライトにより紫外線を照射したときに可視光を発光しない潤滑油組成物を用い、紫外線に対して発光性を有する物質による製品の汚染、汚損又は劣化を、該製品に紫外線を照射して看視するものである。
0.4×(アニリン点)−15×log(40℃における動粘度)≧20 (1)
で表される条件を満たす基油を潤滑油組成物全量基準で50質量%以上含有し、且つ、ブラックライトにより紫外線を照射したときに可視光を発光しない潤滑油組成物である。
アルキルベンゼン等の合成炭化水素油;
モノエステル(ブチルステアレート、オクチルラウレートなど)、ジエステル(ジトリデシルグルタレート、ジ−2−エチルヘキシルアジペート、ジイソデシルアジペート、ジトリデシルアジペート、ジ−2−エチルヘキシルセパケートなど)、ポリエステル(トリメリット酸エステルなど);
ポリオールエステル(トリメチロールプロパンカプリレート、トリメチロールプロパンペラルゴネート、ペンタエリスリトール−2−エチルヘキサノエート、ペンタエリスリトールペラルゴネートなど);
ポリオキシアルキレングリコール及びその誘導体;
含フッ素化合物(パーフルオロポリエーテル、フッ素化ポリオレフィンなど);
シリコーン油;
牛脂、豚脂、大豆油、菜種油、米ぬか油、ヤシ油、パーム油、パーム核油及びこれらの水素添加物などの油脂;及び
上記の2種以上の混合物。
[式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R2は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R3は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、下記一般式(3)で表される基又は下記一般式(4)で表される基を示す。
(式中、R4は炭素数1〜6のアルキレン基を示し、R5は炭素数1〜24のアルキル基又はアルケニル基を示す。)
(式中、R6は炭素数1〜6のアルキレン基を示し、R7は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R8は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示し、nは0又は1を示す。)]
[式中、R9及びR13は同一でも異なっていてもよく、それぞれ炭素数1〜4のアルキル基を示し、R10及びR14は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R11及びR12は同一でも異なっていてもよく、それぞれ炭素数1〜6のアルキレン基を示し、Wは炭素数1〜18のアルキレン基又は下記一般式(6)で表される基を示す。
−R15−S−R16− (6)
(式中、R15及びR16は同一でも異なっていてもよく、それぞれ炭素数1〜6のアルキレン基を示す。)]
リン酸エステルとしては、トリブチルホスフェート、トリペンチルホスフェート、トリヘキシルホスフェート、トリヘプチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリノニルホスフェート、トリデシルホスフェート、トリウンデシルホスフェート、トリドデシルホスフェート、トリトリデシルホスフェート、トリテトラデシルホスフェート、トリペンタデシルホスフェート、トリヘキサデシルホスフェート、トリヘプタデシルホスフェート、トリオクタデシルホスフェート、トリオレイルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリ(プロピルフェニル)ホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート等;
酸性リン酸エステルとしては、モノブチルアシッドホスフェート、モノペンチルアシッドホスフェート、モノヘキシルアシッドホスフェート、モノヘプチルアシッドホスフェート、モノオクチルアシッドホスフェート、モノノニルアシッドホスフェート、モノデシルアシッドホスフェート、モノウンデシルアシッドホスフェート、モノドデシルアシッドホスフェート、モノトリデシルアシッドホスフェート、モノテトラデシルアシッドホスフェート、モノペンタデシルアシッドホスフェート、モノヘキサデシルアシッドホスフェート、モノヘプタデシルアシッドホスフェート、モノオクタデシルアシッドホスフェート、モノオレイルアシッドホスフェート、ジブチルアシッドホスフェート、ジペンチルアシッドホスフェート、ジヘキシルアシッドホスフェート、ジヘプチルアシッドホスフェート、ジオクチルアシッドホスフェート、ジノニルアシッドホスフェート、ジデシルアシッドホスフェート、ジウンデシルアシッドホスフェート、ジドデシルアシッドホスフェート、ジトリデシルアシッドホスフェート、ジテトラデシルアシッドホスフェート、ジペンタデシルアシッドホスフェート、ジヘキサデシルアシッドホスフェート、ジヘプタデシルアシッドホスフェート、ジオクタデシルアシッドホスフェート、ジオレイルアシッドホスフェート等;
リン含有カルボン酸としては、下記一般式(7)で示されるβ−ジチオホスフォリル化プロピオン酸;
[式中、R15、R16は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は炭素数1〜30の炭化水素基を示し、R17、R18、R19及びR20は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は炭素数1〜4の炭化水素基を示し、R17、R18、R19及びR20の炭素数の合計は6以下である。また、好ましくは、R17、R18、R19及びR20は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基を示し、R17、R18、R19及びR20の炭素数の合計は5以下である。さらに好ましくは、R17、R18、R19及びR20は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は炭素数1又は2の炭化水素基を示し、R17、R18、R19及びR20の炭素数の合計は4以下である。特に好ましくは、R17、R18、R19及びR20は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は炭素数1〜2の炭化水素基を示し、R17、R18、R19及びR20の炭素数の合計は3以下である。最も好ましくは、R19又はR20のいずれかがメチル基であり残りの3基が水素原子である。]
塩素化リン酸エステルとしては、トリス・ジクロロプロピルホスフェート、トリス・クロロエチルホスフェート、トリス・クロロフェニルホスフェート、ポリオキシアルキレン・ビス[ジ(クロロアルキル)]ホスフェート等;
亜リン酸エステルとしては、ジブチルホスファイト、ジペンチルホスファイト、ジヘキシルホスファイト、ジヘプチルホスファイト、ジオクチルホスファイト、ジノニルホスファイト、ジデシルホスファイト、ジウンデシルホスファイト、ジドデシルホスファイト、ジオレイルホスファイト、ジフェニルホスファイト、ジクレジルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリペンチルホスファイト、トリヘキシルホスファイト、トリヘプチルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリノニルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリウンデシルホスファイト、トリドデシルホスファイト、トリオレイルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリクレジルホスファイト等;
フォスフォロチオネートとしては、トリブチルフォスフォロチオネート、トリペンチルフォスフォロチオネート、トリヘキシルフォスフォロチオネート、トリヘプチルフォスフォロチオネート、トリオクチルフォスフォロチオネート、トリノニルフォスフォロチオネート、トリデシルフォスフォロチオネート、トリウンデシルフォスフォロチオネート、トリドデシルフォスフォロチオネート、トリトリデシルフォスフォロチオネート、トリテトラデシルフォスフォロチオネート、トリペンタデシルフォスフォロチオネート、トリヘキサデシルフォスフォロチオネート、トリヘプタデシルフォスフォロチオネート、トリオクタデシルフォスフォロチオネート、トリオレイルフォスフォロチオネート、トリフェニルフォスフォロチオネート、トリクレジルフォスフォロチオネート、トリキシレニルフォスフォロチオネート、クレジルジフェニルフォスフォロチオネート、キシレニルジフェニルフォスフォロチオネート、トリス(n−プロピルフェニル)フォスフォロチオネート、トリス(イソプロピルフェニル)フォスフォロチオネート、トリス(n−ブチルフェニル)フォスフォロチオネート、トリス(イソブチルフェニル)フォスフォロチオネート、トリス(s−ブチルフェニル)フォスフォロチオネート、トリス(t−ブチルフェニル)フォスフォロチオネート等;
酸性リン酸エステルのアミン塩としては、前記酸性リン酸エステルのアルキルアミンとの塩;
が挙げられる。
トリクレジルホスフェート、トリ(プロピルフェニル)ホスフェート、トリフェニルチオホスフェート、トリオクチルホスフェート、モノオクチルアシッドホスフェート、ジオクチルアシッドホスフェート及びβ−ジチオホスフォリル化プロピオン酸が好ましい。
また、トリアゾール及び/又はその誘導体の含有量は、組成物全量基準で、好ましくは1.0質量% 以下、より好ましくは0.5質量%以下である。1.0質量%を超える場合は、含有量に見合うだけの腐食防止効果が得られず、経済的に不利となるおそれがある。
具体的には、
炭素数1〜18のアルキルアクリレート、炭素数1〜18のアルキルメタクリレート、炭素数の2〜20のオレフィン、スチレン、メチルスチレン、無水マレイン酸エステル、無水マレイン酸アミド及びこれらの混合物から選ばれる1種又は2種以上のモノマーと、
ジメチルアミノメチルメタクリレート、ジエチルアミノメチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、2−メチル−5−ビニルピリジン、モルホリノメチルメタクリレート、モルホリノエチルメタクリレート、N−ビニルピロリドン及びこれらの混合物から選ばれる1種又は2種以上のモノマーと、の共重合体が好ましい。
[式中、R21は炭素数1〜30の炭化水素基を表し、aは1〜6の整数を表し、bは0〜5の整数を表す。]
[式中、R22は炭素数1〜30の炭化水素基を表し、cは1〜6の整数を表し、dは0〜5の整数を表す。]
R23O−(R24O)e−R25 (10)
[式中、R23及びR25は各々独立に水素原子又は炭素数1〜30の炭化水素基を表し、R24は炭素数2〜4のアルキレン基を表し、eは数平均分子量が100〜3500となるような整数を表す。]
A−[(R26O)f−R27]g (11)
[式中、Aは水酸基を3〜10個有する多価アルコールの水酸基の水素原子の一部又は全てを取り除いた残基を表し、R26は炭素数2〜4のアルキレン基を表し、R27は水素原子又は炭素数1〜30の炭化水素基を表し、fは数平均分子量が100〜3500となるような整数を表し、gはAの水酸基から取り除かれた水素原子の個数と同じ数を表す。]
R28−CO−NR29−(CH2)p−COOX (12)
(式中、R28は炭素数6〜30のアルキル基又は炭素数6〜30のアルケニル基、R29は炭素数1〜4のアルキル基、Xは水素原子、炭素数1〜30のアルキル基又は炭素数1〜30のアルケニル基、pは1〜4の整数を示す。)
[R30−CO−NR31−(CH2)q−COO]rY (13)
(式中、R1は炭素数6〜30のアルキル基又は炭素数6〜30のアルケニル基、R2は炭素数1〜4のアルキル基、Yはアルカリ金属又はアルカリ土類金属、qは1〜4の整数、rはYがアルカリ金属の場合は1、アルカリ土類金属の場合は2を示す。)
がエステル化されておらず水酸基のままで残っているエステルであり、その原料である多
価アルコールとしては任意のものが使用可能であるが、中でも、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール及びソルビタンからなる群より選ばれる少なくとも1種の多価アルコールを用いることが好ましく、ペンタエリスリトールを用いることがより好ましい。
酸化ワックス塩が金属塩である場合、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、鉛等が挙げられる。
実施例1〜11及び比較例1〜3においては、それぞれ以下に示す成分を用いて、表2、3に示す組成を有する潤滑油組成物を調製した。
基油1:水素化精製鉱油(40℃における動粘度19.47mm2/s、アニリン点115.4℃)
基油2:水素化精製鉱油(40℃における動粘度36.47mm2/s、アニリン点121.2℃)
基油3:ポリα−オレフィン(40℃における動粘度412mm2/s)
基油4:ワックスの水素化異性化により得られた潤滑油基油(40℃における動粘度15.75mm2/s)
基油5:溶剤精製鉱油(40℃における動粘度50.62mm2/s、アニリン点99℃)
基油1〜5の性状を表1に示す。
A1:炭素数4及び8の2個の分枝アルキル基を有するジアルキルジフェニルアミン
A2:炭素数12の分枝アルキル基を有するアルキルフェニルα−ナフチルアミン
<極圧剤>
B1:トリクレジルホスフェート
B2:硫化エステル(オレイン酸エステルの硫化物、硫黄含有量10質量%)
B3:オレイル酸性亜燐酸エステルとラウリルアミンとの中和物
<腐食防止剤>
C:N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル−メチルベンゾトリアゾール
<さび止め剤>
D:ノニルフェノキシ酢酸
<その他の添加剤>
E:分散型ポリマー(炭素数1〜18のアルキルメタクリレート(90mol%)とベンゾイルアミノメタクリレート(10mol%)との共重合体(数平均分子量:70,000))
F:ジメチルシリコーン
ブラックライトは、AS ONE社製のHandy UV Lamp SLUV−6を使用し、紫外線の波長が365nmに特性ピークを有するモードで測定した。
試験は、潤滑油組成物としての試料油をろ紙に0.03g付着させ、水平にして5分間放置して試料油とろ紙とを馴染ませた後、暗室内でブラックライトを照射して目視にて発光の有無ないしは強度を判定した。
評価は、目視により全く発光が認められなかったものをA,極僅かに認められたものをB、明らかに認められたものをC、と評価した。また、その中間の場合をA−BあるいはB−Cと評価した。得られた結果を表2、3に示す。また、評価A,B及びCに相当する発光状態の写真を図1〜3に示す。
試料油40gを50mLビーカーに採取し、銅触媒共存下で、120℃、20日間保持後のスラッジ量を定量した。スラッジの定量は、ポアサイズ0.8μmのセルロースフィルタにより試験後の試料油をろ過し、スラッジを捕集し、フィルターに残存する試料油をn−ヘキサンで洗浄した後、スラッジを定量した。評価は、以下の通りスラッジの量によりA,B及びCのランクとした。得られた結果を表2、3に示す。
A:1mg以下
B:1mgを超え、5mg以下
C:5mgを超える
試験は、JPI−5S−40−93 潤滑油の耐荷重能試験方法(シェル四球式)に準拠して行った。測定は、1200rpm、294Nで30分間行い、試験後の試験片の摩耗痕径を測定した。評価は、摩耗痕径により以下A,B及びCのランクとした。得られた結果を表2、3に示す。
A:0.45mm以下
B:0.45mmを越え、0.65mm以下
C:0.6mmを越える
Claims (4)
- 潤滑油が使用される製造ラインにおいて、アニリン点と40℃における動粘度とが下記式(1):
0.4×(アニリン点)−15×log(40℃における動粘度)≧20 (1)
で表される条件を満たす基油を潤滑油組成物全量基準で50質量%以上含有し、且つ、ブラックライトにより紫外線を照射したときに可視光を発光しない潤滑油組成物を用い、紫外線に対して発光性を有する物質による製品の汚染、汚損又は劣化を、該製品に紫外線を照射して看視する、製造ラインの管理方法。 - アニリン点と40℃における動粘度とが下記式(1):
0.4×(アニリン点)−15×log(40℃における動粘度)≧20 (1)
で表される条件を満たす基油を潤滑油組成物全量基準で50質量%以上含有し、且つ、ブラックライトにより紫外線を照射したときに可視光を発光しない潤滑油組成物。 - 前記基油が下記(A)、(B)及び(C)からなる群より選ばれる少なくとも1種である、請求項2に記載の潤滑油組成物。
(A)40℃における動粘度が1〜500mm2/sである水素化精製鉱油。
(B)エチレン、プロピレン及びαオレフィンから選ばれる少なくとも1種の重合性単量体から合成される重合体。
(C)スラックワックス及び/又はフィッシャートロプシュワックスを水素化異性化して得られる潤滑油留分。 - 紡績機、織機、編み機、食品もしくは化粧品関連製品の製造装置又は塗装ラインの潤滑に使用される、請求項2又は3に記載の潤滑油組成物。
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