JP2014091786A - Radiation-curable composition - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-curable composition capable of easily yielding a film meeting both fingerprint wipe-off and recoatability demands and having excellent durability.SOLUTION: The provided radiation-curable composition includes: a curable resin including a (meth)acryloyl group-containing urethane oligomer possessing, as constituent units, hydrogenated MDI and/or hydrogenated XDI and a hydroxyl group-containing (meth)acrylate; and a polyoxyalkylene compound expressed by the formula (1) and/or a reaction product of this polyoxyalkylene compound and a diisocyanate: {H-(OX)ni-}mQ (1): Q is a reactive residue obtained by excluding hydrogen atoms from m-pieces of primary hydroxyl groups of a non-reducible di- or trisaccharide; OX is an oxyalkylene; ni is 0 to 100; m is 2 to 4; i is 1 to m.

Description

本発明は放射線硬化性組成物に関する。   The present invention relates to a radiation curable composition.

撥水撥油性、防汚性、耐擦傷性、耐加水分解性、塗液のレベリング性に優れた光学フィルムの提供を目的として、「透明基材フィルムの少なくとも一方の面にハードコート層を設けた光学フィルムにおいて、前記ハードコート層は、活性エネルギー線硬化型樹脂を主成分とし、かつ前記ハードコート層は、前記活性エネルギー線硬化型樹脂に対してフッ素化アルキル基を含む(メタ)アクリレートを0.02重量%以上、30重量%以下含んでなることを特徴とする光学フィルム」が知られている(特許文献1)。   For the purpose of providing an optical film with excellent water / oil repellency, antifouling properties, scratch resistance, hydrolysis resistance, and coating liquid leveling, a hard coat layer is provided on at least one surface of the transparent substrate film. In the optical film, the hard coat layer contains an active energy ray curable resin as a main component, and the hard coat layer contains (meth) acrylate containing a fluorinated alkyl group with respect to the active energy ray curable resin. An “optical film comprising 0.02% by weight or more and 30% by weight or less” is known (Patent Document 1).

特開2009−104054号公報JP 2009-104054 A

しかしながら、従来の放射線硬化性組成物では、硬化被膜の表面へのリコート性が著しく悪く、硬化塗膜表面への印刷や多層コーティングができないという問題がある。
すなわち、本発明の目的は、指紋の拭き取り性とリコート性を両立し、耐久性に優れたフィルムが容易に得られる放射線硬化性組成物を提供することである。
However, the conventional radiation curable composition has a problem that recoatability on the surface of the cured film is extremely poor, and printing on the surface of the cured coating film and multilayer coating cannot be performed.
That is, an object of the present invention is to provide a radiation curable composition that can easily obtain a film having excellent wiping property and recoating property and excellent durability.

本発明の放射線硬化性組成物の特徴は、4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート及び/又はビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサンとヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートとを構成単位としてなる(メタ)アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(A1)を含有する硬化性樹脂(A)と、
一般式(1)で表されるポリオキシアルキレン化合物(B1)、並びに/又はこのポリオキシアルキレン化合物(B1)及びジイソシアネートの反応物(B2)とを含有する点を要旨とする。
The radiation-curable composition of the present invention is characterized by 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate and / or bis (isocyanatomethyl) cyclohexane and a hydroxy group-containing (meth) acrylate as structural units. A curable resin (A) containing a urethane oligomer (A1);
The gist is that the polyoxyalkylene compound (B1) represented by the general formula (1) and / or the polyoxyalkylene compound (B1) and a reaction product (B2) of diisocyanate are contained.

本発明のプラスチックフィルムの特徴は、上記の放射線硬化性組成物をプラスチックベースフィルムにコーティングし、硬化させて得られる点を要旨とする。   The feature of the plastic film of the present invention is that it is obtained by coating the radiation curable composition on a plastic base film and curing it.

本発明の放射線硬化性組成物は、耐久性、指紋拭き取り性及びリコート性に優れている。
したがって、本発明の放射線硬化性組成物を用いると、指紋の拭き取り性とリコート性を両立し、耐久性に優れたフィルムが容易に得られる。
The radiation curable composition of the present invention is excellent in durability, fingerprint wiping property and recoating property.
Therefore, when the radiation curable composition of the present invention is used, a film having both excellent wipeability and recoatability and excellent durability can be easily obtained.

本発明のプラスチックフィルムは、上記の放射線硬化性組成物を用いているので、指紋の拭き取り性とリコート性を両立し、耐久性に優れている。   Since the above-mentioned radiation curable composition is used for the plastic film of the present invention, both the wiping property of fingerprints and the recoating property are compatible, and the durability is excellent.

本発明において、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート及び/又はメタクリレートを意味し、「(メタ)アクリロイル基」とは、アクリロイル基及び/又はメタクリロイル基を意味する。   In the present invention, “(meth) acrylate” means acrylate and / or methacrylate, and “(meth) acryloyl group” means acryloyl group and / or methacryloyl group.

<硬化性樹脂(A)>
硬化性樹脂(A)とは、放射線(好ましくは紫外線及び電子線、さらに好ましくは紫外線)により硬化する物質を意味し、(メタ)アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(A1)の他に、(メタ)アクリレート(A2)及び/又は光重合開始剤(A3)等を含むことが好ましい。
<Curable resin (A)>
The curable resin (A) means a substance that is cured by radiation (preferably ultraviolet rays and electron beams, more preferably ultraviolet rays). In addition to the (meth) acryloyl group-containing urethane oligomer (A1), (meth) acrylate It is preferable that (A2) and / or a photoinitiator (A3) etc. are included.

(メタ)アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(A1)としては、4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(水添MDI)及び/又はビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン(水添XDI)とヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートとを構成単位としていれば、ジオール及び/又は3価以上のポリオールを構成単位として含んでいてもよい。
(メタ)アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(A1)は、水添MDI、水添XDI及び/又はこれらのイソシアネート変性体と、ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートとの反応によって得られ、この反応は公知の方法{たとえば、特開2007−204567号公報に記載の方法}等が適用できる。
As the (meth) acryloyl group-containing urethane oligomer (A1), 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI) and / or bis (isocyanatomethyl) cyclohexane (hydrogenated XDI) and hydroxy group-containing (meth) acrylate As a structural unit, a diol and / or a trihydric or higher polyol may be included as a structural unit.
The (meth) acryloyl group-containing urethane oligomer (A1) is obtained by reacting hydrogenated MDI, hydrogenated XDI and / or these isocyanate-modified products with a hydroxy group-containing (meth) acrylate, and this reaction is a known method. {For example, the method described in JP 2007-204567 A} can be applied.

イソシアネート変性体とは、水添MDI又は水添XDIのヌレート体、ビュレット体又はアダクト体等;水添MDI又は水添XDIと3価以上のポリオール及び/又はジオールとの反応から得られるウレタンプレポリマー;並びに水添MDI、水添XDI、これらのヌレート体、ビューレット体又はアダクト体とモノアルコール及び/又はポリオール(ジオール及び3価以上のポリオールを含む。)との反応により生成するモノイソシアネート等が挙げられる。   Isocyanate-modified products include hydrogenated MDI or hydrogenated XDI nurate, burette or adduct, etc .; urethane prepolymer obtained from the reaction of hydrogenated MDI or hydrogenated XDI with a trivalent or higher polyol and / or diol Hydrogenated MDI, hydrogenated XDI, these nurate bodies, burette bodies or adduct bodies, and monoisocyanates produced by reaction of monoalcohols and / or polyols (including diols and trivalent or higher polyols). Can be mentioned.

3価以上のポリオールとしては、炭素数3〜15の多価アルコール(グリセリン、トリメチロールプロパン、ジメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール及びトリペンタエリスリトール等)及び炭素数3〜15の多価アルコールのアルキレンオキシド(炭素数2〜3)付加体(グリセリンのエチレンオキシド3〜100モル付加体、グリセリンのプロピレンオキシド3〜100モル付加体、トリメチロールプロパンのエチレンオキシド3〜100モル付加体、トリメチロールプロパンのプロピレンオキシド3〜100モル付加体、ジトリメチロールプロパンのエチレンオキシド4〜100モル付加体、ジメチロールプロパンのプロピレンオキシド4〜100ル付加体、ペンタエリスリトールのエチレンオキシド4〜100モル付加体、ペンタエリスリトールのプロピレンオキシド4〜16モル付加体、ジペンタエリスリトールのエチレンオキシド6〜100モル付加体、ジペンタエリスリトールのプロピレンオキシド4〜100モル付加体、トリペンタエリスリトールのエチレンオキシド8〜100モル付加体、トリペンタエリスリトールのプロピレンオキシド8〜100モル付加体、イソシアヌール酸のエチレンオキシド3〜100モル付加体及びイソシアヌール酸のプロピレンオキシド3〜100モル付加体)等が用いられる。   Examples of the trivalent or higher polyol include polyhydric alcohols having 3 to 15 carbon atoms (such as glycerin, trimethylolpropane, dimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and tripentaerythritol) and polyhydric alcohols having 3 to 15 carbon atoms. Of alkylene oxide (2 to 3 carbon atoms) adduct (3 to 100 mol adduct of glycerin ethylene oxide, 3 to 100 mol adduct of propylene oxide of glycerin, 3 to 100 mol adduct of ethylene oxide of trimethylolpropane, trimethylolpropane Propylene oxide 3 to 100 mol adduct, Ditrimethylolpropane ethylene oxide 4 to 100 mol adduct, Dimethylolpropane propylene oxide 4 to 100 mol adduct, Pentaerythritol ethylene oxide 4 100 mol adduct, propylene oxide 4-16 mol adduct of pentaerythritol, ethylene oxide 6-100 mol adduct of dipentaerythritol, propylene oxide 4-100 mol adduct of dipentaerythritol, ethylene oxide 8-100 of tripentaerythritol Mole adduct, propylene oxide 8 to 100 mol adduct of tripentaerythritol, ethylene oxide 3 to 100 mol adduct of isocyanuric acid and propylene oxide 3 to 100 mol adduct of isocyanuric acid) and the like.

ジオールとしては、ヒドロキシ基を2個有する化合物であれば制限なく使用でき、炭素数2〜10のグリコール(エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ヘキサンジオール、シクロヘキサンジオール及びシクロヘキサンジメチロール等)及び活性水素化合物(炭素数2〜10のグリコール及びビスフェノールA等)にアルキレンオキシド(炭素数2〜3)を付加したジオール(付加数1〜80)(炭素数2〜10のジオールのアルキレンオキシド付加物及びビスフェノールAのアルキレンオキシド付加物)等が用いられる。ジオールとしてこれらの他に、ジオールとジカルボン酸とから製造され、末端にヒドロキシ基を有する直鎖ポリエステル等も使用することもできる。ジカルボン酸としては、カルボキシ基を2個有する化合物であれば制限なく使用でき、炭素数2〜10のジカルボン酸等が用いられ、シュウ酸、テレフタル酸、イソフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、グルタル酸及びアゼライン酸等が挙げられる。   As the diol, any compound having two hydroxy groups can be used without limitation, and a glycol having 2 to 10 carbon atoms (ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, Diol (addition number 1 to 80) obtained by adding alkylene oxide (2 to 3 carbon atoms) to hexanediol, cyclohexanediol and cyclohexanedimethylol) and an active hydrogen compound (such as glycol having 2 to 10 carbon atoms and bisphenol A) ( An alkylene oxide adduct of a diol having 2 to 10 carbon atoms and an alkylene oxide adduct of bisphenol A). In addition to these, a linear polyester produced from a diol and a dicarboxylic acid and having a hydroxy group at the terminal can also be used as the diol. As dicarboxylic acid, if it is a compound which has two carboxy groups, it can be used without limitation, C2-C10 dicarboxylic acid etc. are used, and oxalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid , Glutaric acid and azelaic acid.

モノアルコールとしては、ヒドロキシ基を1個有する化合物であれば制限なく使用でき、炭素数1〜4のモノアルコール(メタノール、エタノール、イソプロパノール及びブタノール等)及び炭素数1〜4のアルコールに炭素数2〜4のアルキレンオキシド(エチレンオキシド、プロピレンオキシド及びブタンオキシド等)を付加させた付加物(付加数1〜10)等が挙げられる。   As the monoalcohol, any compound having one hydroxy group can be used without limitation. The monoalcohol has 1 to 4 monoalcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, etc.) and 1 to 4 alcohols with 2 carbon atoms. -4 alkylene oxides (ethylene oxide, propylene oxide, butane oxide, etc.) added to the product (addition number 1 to 10) and the like.

水添MDI又は水添XDIとジオール及び/又は3価以上のポリオールとの反応;水添MDI、水添XDI、これらのヌレート体、ビューレット体又はアダクト体とモノアルコール及び/又はポリオールとの反応は、通常の方法(反応比率、反応条件等)が適用できる。   Reaction of hydrogenated MDI or hydrogenated XDI with diol and / or trivalent or higher polyol; Reaction of hydrogenated MDI, hydrogenated XDI, their nurate body, burette body or adduct body with monoalcohol and / or polyol The usual methods (reaction ratio, reaction conditions, etc.) can be applied.

これらのうち、水添MDI、水添XDI、並びに水添MDI又は水添XDIとジオール及び/又は3価以上のポリオールとの反応から得られるウレタンプレポリマーが好ましく、さらに好ましくは水添MDI、水添XDI、並びにジオールとしてプロピレングリコールを含有するウレタンプレポリマーである。   Of these, hydrogenated MDI, hydrogenated XDI, and hydrogenated MDI or hydrogenated XDI and urethane prepolymers obtained from the reaction of diols and / or trivalent or higher polyols are preferred, and hydrogenated MDI, water are more preferred. It is a urethane prepolymer containing propylene glycol as the diol as well as XDI.

ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートとしては、1分子中にヒドロキシ基を少なくとも1個含有する(メタ)アクリレートであれば使用することができ、特開2004−352781号公報に記載されたヒドロキシ基含有(メタ)アクリレート等が使用できる。   As the hydroxy group-containing (meth) acrylate, any (meth) acrylate containing at least one hydroxy group in one molecule can be used, and the hydroxy group-containing (described in JP-A No. 2004-352781 ( A (meth) acrylate etc. can be used.

(メタ)アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(A1)の1分子中に含まれる(メタ)アクリロイル基の数は、1〜15個が好ましく、さらに好ましくは2〜12である。なお、この(メタ)アクリロイル基の数は、本発明の放射線硬化性組成物を耐擦傷性を重視する用途に使用する場合、3〜12が好ましく、また、成形・加工性を重視する用途に使用する場合、2〜6が好ましい。   The number of (meth) acryloyl groups contained in one molecule of the (meth) acryloyl group-containing urethane oligomer (A1) is preferably 1 to 15, more preferably 2 to 12. The number of (meth) acryloyl groups is preferably 3 to 12 when the radiation curable composition of the present invention is used for applications in which scratch resistance is important, and in applications in which molding / workability is important. When using, 2-6 are preferable.

これらの(メタ)アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(A1)は1種類で用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。
硬化性樹脂(A)に、(メタ)アクリレート(A2)及び/又は光重合開始剤(A3)等を含む場合、(メタ)アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(A1)の含有量(重量%)は、硬化性樹脂(A)の重量に基づいて、3〜95が好ましく、さらに好ましくは5〜90、特に好ましくは10〜85である。この範囲にあると本発明の紫外線硬化性組成物の指紋拭き取り性及び耐久性がさらに良好となる。
These (meth) acryloyl group-containing urethane oligomers (A1) may be used alone or in combination of two or more.
When the curable resin (A) contains (meth) acrylate (A2) and / or photopolymerization initiator (A3), the content (% by weight) of the (meth) acryloyl group-containing urethane oligomer (A1) is: Based on the weight of curable resin (A), 3-95 are preferable, More preferably, it is 5-90, Most preferably, it is 10-85. When it is in this range, the fingerprint wiping property and durability of the ultraviolet curable composition of the present invention are further improved.

(メタ)アクリレート(A2)としては、特開2004−352781号公報に記載された(メタ)アクリレート等が使用できる。また、(メタ)アクリレート(A2)には、水添MDI及び/又は水添XDIを構成単位としない(メタ)アクリロイル基含有ウレタンオリゴマーが含まれる。   As (meth) acrylate (A2), the (meth) acrylate etc. which were described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-352781 can be used. The (meth) acrylate (A2) includes a (meth) acryloyl group-containing urethane oligomer that does not contain hydrogenated MDI and / or hydrogenated XDI as a structural unit.

水添MDI及び/又は水添XDIを構成単位としない(メタ)アクリロイル基含有ウレタンオリゴマーとしては、脂肪族ジイソシアネート{イソホロンジイソシアネート(IPDI)及びヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)等}を構成単位とする(メタ)アクリロイル基含有脂肪族ウレタンオリゴマー及び芳香族ジイソシアネート{トルエンジイソシアネート(TDI)及び4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)等}を構成単位とする(メタ)アクリロイル基含有芳香族ウレタンオリゴマーが含まれる。これらのうち、指紋拭き取り性の観点から、(メタ)アクリロイル基含有脂肪族ウレタンオリゴマーが好ましく、さらに好ましくはIPDIを構成単位とする(メタ)アクリロイル基含有脂肪族ウレタンオリゴマーである。   As a (meth) acryloyl group-containing urethane oligomer not containing hydrogenated MDI and / or hydrogenated XDI as a structural unit, an aliphatic diisocyanate {isophorone diisocyanate (IPDI), hexamethylene diisocyanate (HDI), etc.} is used as a structural unit (meta ) An acryloyl group-containing aliphatic urethane oligomer and an aromatic diisocyanate {toluene diisocyanate (TDI) and 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI), etc.} are included as structural units. Among these, from the viewpoint of fingerprint wiping properties, (meth) acryloyl group-containing aliphatic urethane oligomers are preferable, and (meth) acryloyl group-containing aliphatic urethane oligomers having IPDI as a structural unit are more preferable.

(メタ)アクリレート(A2)の1分子中に含まれる(メタ)アクリロイル基の数は、(メタ)アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(A1)の(メタ)アクリロイル基の数及び/又は含有量等によって適宜調整されるが、1〜10個が好ましく、さらに好ましくは2〜8個、特に好ましくは4〜6個である。この範囲であると本発明の放射線硬化性組成物の硬化性がさらに良好となる。   The number of (meth) acryloyl groups contained in one molecule of (meth) acrylate (A2) is appropriately determined depending on the number and / or content of (meth) acryloyl groups of (meth) acryloyl group-containing urethane oligomer (A1). Although adjusted, 1-10 are preferable, More preferably, it is 2-8, Most preferably, it is 4-6. Within this range, the curability of the radiation curable composition of the present invention is further improved.

(メタ)アクリレート(A2)を含む場合、耐擦傷性の観点から、(メタ)アクリレート(A2)として、(ポリ)ペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレートを含有することが好ましく、さらに好ましくはペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートを含有すること、特に好ましくはジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートを含有することである。   When (meth) acrylate (A2) is included, from the viewpoint of scratch resistance, it is preferable to contain (poly) pentaerythritol poly (meth) acrylate as (meth) acrylate (A2), more preferably pentaerythritol tris. Containing (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, particularly preferably dipentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol It contains hexa (meth) acrylate.

これらの(メタ)アクリレート(A2)は1種類で用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。
(メタ)アクリレート(A2)を含有する場合、(メタ)アクリレート(A2)の含有量(重量%)は、硬化性樹脂(A)の重量に基づいて、2〜95が好ましく、さらに好ましくは5〜90、特に好ましくは10〜85である。この範囲にあると本発明の紫外線硬化性組成物の指紋拭き取り性及び耐久性がさらに良好となる。
These (meth) acrylates (A2) may be used alone or in combination of two or more.
When (meth) acrylate (A2) is contained, the content (% by weight) of (meth) acrylate (A2) is preferably 2 to 95, more preferably 5 based on the weight of curable resin (A). ~ 90, particularly preferably 10-85. When it is in this range, the fingerprint wiping property and durability of the ultraviolet curable composition of the present invention are further improved.

光重合開始剤(A3)としては、光{好ましくは紫外線(波長200〜400nm程度)}を受けることにより硬化性樹脂(A)の重合を開始することができる化合物であれば制限なく使用でき、光を受けることによりラジカルを発生する化合物が好ましく、さらに好ましくはベンゾイル基含有ラジカル開始剤、モルフォニル基含有ラジカル開始剤、リン原子含有ラジカル開始剤及びイオウ原子含有ラジカル開始剤である。   As a photoinitiator (A3), if it is a compound which can start superposition | polymerization of curable resin (A) by receiving light {preferably ultraviolet-ray (wavelength of about 200-400 nm)}, it can be used without a restriction | limiting, A compound that generates a radical by receiving light is preferable, and a benzoyl group-containing radical initiator, a morpholinyl group-containing radical initiator, a phosphorus atom-containing radical initiator, and a sulfur atom-containing radical initiator are more preferable.

ベンゾイル基含有ラジカル開始剤としては、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−[4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)ベンジル]フェニル]−2−メチルプロパン−1−オン及びベンゾフェノン等が挙げられる。   Examples of the benzoyl group-containing radical initiator include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, Examples include 2-hydroxy-1- [4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) benzyl] phenyl] -2-methylpropan-1-one and benzophenone.

モルフォニル基含有ラジカル開始剤としては、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン及び2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン等が挙げられる。   Examples of morpholyl group-containing radical initiators include 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl). ) Butan-1-one and the like.

リン原子含有ラジカル開始剤としては、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド及び2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド等が挙げられる。   Phosphorus atom-containing radical initiators include bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide and 2,4 , 6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and the like.

イオウ原子含有ラジカル開始剤としては、2,4−ジエチルチオキサントン及びイソプロピルチオキサントン等が挙げられる。   Examples of the sulfur atom-containing radical initiator include 2,4-diethylthioxanthone and isopropylthioxanthone.

これらの光重合開始剤(A3)は1種類で用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。これらの光重合開始剤(A3)のうち、光ラジカル開始剤が好ましく、さらに好ましくはベンゾイル基含有ラジカル開始剤、モルフォニル基含有ラジカル開始剤及びリン原子含有ラジカル開始剤、特に好ましくはベンゾイル基含有ラジカル開始剤及びモルフォニル基含有ラジカル開始剤である。   These photopolymerization initiators (A3) may be used alone or in combination of two or more. Of these photopolymerization initiators (A3), a photoradical initiator is preferred, more preferably a benzoyl group-containing radical initiator, a morpholinyl group-containing radical initiator, and a phosphorus atom-containing radical initiator, particularly preferably a benzoyl group-containing radical. It is an initiator and a morphol group-containing radical initiator.

光重合開始剤(A3)を含有する場合、光重合開始剤(A3)の含有量(重量%)は、硬化性樹脂(A)の重量に基づいて、1〜15が好ましく、さらに好ましくは2〜12、特に好ましくは3〜10である。この範囲であると、放射線硬化性組成物の硬化性がさらに良好となる。   When the photopolymerization initiator (A3) is contained, the content (% by weight) of the photopolymerization initiator (A3) is preferably from 1 to 15, more preferably 2 based on the weight of the curable resin (A). -12, particularly preferably 3-10. Within this range, the curability of the radiation curable composition is further improved.

<一般式(1)で表されるポリオキシアルキレン化合物(B1)及び/又は反応物(B2)>
一般式(1)で表されるポリオキシアルキレン化合物(B1)、並びに/又はこのポリオキシアルキレン化合物(B1)及びジイソシアネートの反応物(B2)を含有すると、優れた指紋拭き取り性等を付与することができる。
<Polyoxyalkylene compound (B1) and / or reactant (B2) represented by general formula (1)>
When the polyoxyalkylene compound (B1) represented by the general formula (1) and / or the polyoxyalkylene compound (B1) and a reaction product (B2) of diisocyanate are contained, excellent fingerprint wiping properties and the like are imparted. Can do.

一般式(1)において、非還元性の二又は三糖類のm個の水酸基から水素原子を除いた反応残基(Q)を構成することができる二又は三糖類としては、蔗糖(サッカロース)、トレハロース、イソトレハロース、イソサッカロース、ゲンチアノース、ラフィノース、メレチトース及びプランテオースが含まれる。これらのうち、指紋拭き取り性の観点から、蔗糖、トレハロース、ゲンチアノース、ラフィノース及びプランテオースが好ましく、さらに好ましくはトレハロース及び蔗糖であり、供給性及びコスト等の観点から特に好ましくは蔗糖である。   In the general formula (1), the di- or trisaccharide that can constitute the reaction residue (Q) obtained by removing a hydrogen atom from m hydroxyl groups of a non-reducing di- or trisaccharide includes sucrose, Trehalose, isotrehalose, isosaccharose, gentianose, raffinose, meletitose and planteose are included. Of these, sucrose, trehalose, gentianose, raffinose and planteose are preferable from the viewpoint of fingerprint wiping properties, more preferably trehalose and sucrose, and sucrose is particularly preferable from the viewpoints of supplyability and cost.

オキシアルキレン基(OX)としては、炭素数2〜4のオキシアルキレン基が含まれ、オキシエチレン、オキシプロピレン、オキシブチレン及びこれらの混合等が挙げられる。これらのうち、指紋拭き取り性の観点から、オキシプロピレン及びオキシエチレンが好ましく、さらに好ましくはオキシプロピレンである。   The oxyalkylene group (OX) includes an oxyalkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and examples thereof include oxyethylene, oxypropylene, oxybutylene, and a mixture thereof. Of these, oxypropylene and oxyethylene are preferable from the viewpoint of fingerprint wiping properties, and oxypropylene is more preferable.

ni個のOXは、同じでも異なっていてもよく、また、m個の(OX)niは同じでも異なってもよい。(OX)ni内に複数種類のオキシアルキレン基を含む場合、これらのオキシアルキレン基の結合順序(ブロック状、ランダム状及びこれらの組合せ)及び含有割合には制限ない。   The ni OXs may be the same or different, and the m (OX) ni may be the same or different. In the case where (OX) ni includes a plurality of types of oxyalkylene groups, there is no limitation on the bonding order (block shape, random shape and combinations thereof) and the content ratio of these oxyalkylene groups.

niは、0〜100の整数が好ましく、さらに好ましくは2〜98の整数、特に好ましくは5〜95の整数、最も好ましくは7〜90の整数である。この範囲であると指紋拭き取り性がさらに良好となる。   ni is preferably an integer of 0 to 100, more preferably an integer of 2 to 98, particularly preferably an integer of 5 to 95, and most preferably an integer of 7 to 90. Within this range, the fingerprint wiping property is further improved.

mは、2〜4の整数が好ましく、さらに好ましくは3又は4、特に好ましくは3である。この範囲であると指紋拭き取り性がさらに良好となる。このmは、非還元性の二又は三糖類の1級水酸基の数に対応する。   m is preferably an integer of 2 to 4, more preferably 3 or 4, and particularly preferably 3. Within this range, the fingerprint wiping property is further improved. This m corresponds to the number of primary hydroxyl groups of the non-reducing di- or trisaccharide.

iは、1〜mの整数を表し、m個のniは同じ値でも異なった値でもよいが少なくとも1つのniは1以上である。すなわち、たとえば、m=4のとき、niは、n1、n2、n3、n4であることを意味する。   i represents an integer of 1 to m, and m ni may be the same value or different values, but at least one ni is 1 or more. That is, for example, when m = 4, ni means n1, n2, n3, and n4.

OXの総数(Σni×m)は、20〜100の整数が好ましく、さらに好ましくは20−90の整数、特に好ましくは25−85の整数、最も好ましくは35−75の整数である。この範囲であると指紋拭き取り性がさらに良好となる。   The total number of OX (Σni × m) is preferably an integer of 20 to 100, more preferably an integer of 20 to 90, particularly preferably an integer of 25 to 85, and most preferably an integer of 35 to 75. Within this range, the fingerprint wiping property is further improved.

ポリオキシアルキレン化合物(B1)としては、たとえば、国際特許出願パンフレットWO2004/101103(再公表2004−101103号公報)に記載されたもの等が好ましく例示できる。   Preferred examples of the polyoxyalkylene compound (B1) include those described in International Patent Application Pamphlet WO2004 / 101103 (Republished 2004-101103).

ジイソシアネートとしては、イソシアナト基を2個有する炭素数6〜13の化合物が含まれ、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、1,5−ナフタレンジイソシアネート、水添MDI及び水添XDI等が挙げられる。ジイソシアネートとしては、これらの化合物とジオールとの反応により得られるジイソシアネートプレポリマーも使用できる。これらのうち、HDI、IPDI、水添MDI、水添XDI及びこれらの化合物とジオールとの反応により得られるジイソシアネートプレポリマーが好ましい。また、ジオールのうち、指紋拭き取り性の観点から、炭素数2〜10のジオール、炭素数2〜10のジオールのアルキレンオキシド(炭素数2〜3)付加物(付加数1〜50)が好ましく、さらに好ましくは炭素数2〜10のジオールである。   Examples of the diisocyanate include compounds having 6 to 13 carbon atoms having two isocyanato groups, hexamethylene diisocyanate (HDI), isophorone diisocyanate (IPDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), 1,5-naphthalene diisocyanate, hydrogenated MDI. And hydrogenated XDI. As the diisocyanate, diisocyanate prepolymers obtained by reaction of these compounds with diols can also be used. Of these, HDI, IPDI, hydrogenated MDI, hydrogenated XDI, and diisocyanate prepolymers obtained by reacting these compounds with diols are preferred. Of the diols, from the viewpoint of fingerprint wiping properties, a diol having 2 to 10 carbon atoms and an alkylene oxide (2 to 3 carbon atoms) adduct of a diol having 2 to 10 carbon atoms (addition number 1 to 50) are preferable. More preferred is a diol having 2 to 10 carbon atoms.

ポリオキシアルキレン化合物(B1)及びジイソシアネートの反応物(B2)において、ジイソシアネート単位の含有量(モル部)としては、ポリオキシアルキレン化合物(B1)単位1モル部に対して、0.1〜0.8が好ましく、さらに好ましくは0.15〜0.75、特に好ましくは0.2〜0.7、最も好ましくは0.25〜0.65である。   In the reaction product (B2) of the polyoxyalkylene compound (B1) and the diisocyanate, the content (mole part) of the diisocyanate unit is 0.1 to 0.0.1 with respect to 1 mol part of the polyoxyalkylene compound (B1) unit. 8, more preferably 0.15 to 0.75, particularly preferably 0.2 to 0.7, and most preferably 0.25 to 0.65.

ポリオキシアルキレン化合物(B1)及び反応物(B2)は、公知の方法{国際特許出願パンフレットWO2004/101103(再公表2004−101103号公報)、特開2007−92040号公報、特開平2004−224945号公報等}により容易に得ることができる。   The polyoxyalkylene compound (B1) and the reactant (B2) are prepared by a known method {International Patent Application Pamphlet WO 2004/101103 (Republished 2004-101103), JP 2007-92040 A, JP 2004-224945 A. Gazettes etc.} can be easily obtained.

ポリオキシアルキレン化合物(B1)及び反応物(B2)の合計含有量(重量%)は、硬化性樹脂(A)の重量に基づいて、0.01〜10が好ましく、さらに好ましくは0.1〜5、特に好ましくは0.5〜3である。この範囲であると、放射線硬化性組成物としての性能(硬化性能、耐擦傷性等)を悪化させることなく、指紋拭き取り性をさらに良好にできる。   The total content (% by weight) of the polyoxyalkylene compound (B1) and the reactant (B2) is preferably from 0.01 to 10, more preferably from 0.1 to 10, based on the weight of the curable resin (A). 5, particularly preferably 0.5 to 3. Within this range, the fingerprint wiping property can be further improved without deteriorating the performance (curing performance, scratch resistance, etc.) of the radiation curable composition.

ポリオキシアルキレン化合物(B1)及び反応物(B2)として、以上の他に、ポリオキシアルキレン化合物(B1)及び反応物(B2)に(メタ)アクリロイル基を導入した化合物{ポリオキシアルキレン化合物(B1’)及び反応物(B2’)}も使用できる。ポリオキシアルキレン化合物(B1’)及び反応物(B2’)を用いると、本発明の放射線硬化性組成物の耐久性をさらに良好にできる。   As the polyoxyalkylene compound (B1) and the reactant (B2), in addition to the above, a compound in which a (meth) acryloyl group is introduced into the polyoxyalkylene compound (B1) and the reactant (B2) {polyoxyalkylene compound (B1 ') And reactant (B2')} can also be used. When the polyoxyalkylene compound (B1 ′) and the reactant (B2 ′) are used, the durability of the radiation curable composition of the present invention can be further improved.

ポリオキシアルキレン化合物(B1)及び反応物(B2)に(メタ)アクリロイル基を導入する方法は、公知の方法が適用でき、ポリオキシアルキレン化合物(B1)又は反応物(B2)と、ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートと、ジカルボン酸(マレイン酸、フタル酸等)又はジイソシアネートとの反応{エステル化反応又はウレタン化反応}や、ポリオキシアルキレン化合物(B1)又は反応物(B2)と、(メタ)アクリル酸グリシジル又は2−アクリロイルエチルイソシアネート、1,1−(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネートとの反応による方法等が適用できる。   As a method for introducing a (meth) acryloyl group into the polyoxyalkylene compound (B1) and the reaction product (B2), a known method can be applied. The polyoxyalkylene compound (B1) or the reaction product (B2) and a hydroxy group-containing Reaction of (meth) acrylate with dicarboxylic acid (maleic acid, phthalic acid, etc.) or diisocyanate {esterification reaction or urethanization reaction}, polyoxyalkylene compound (B1) or reactant (B2), (meth) A method by a reaction with glycidyl acrylate, 2-acryloylethyl isocyanate, 1,1- (bisacryloyloxymethyl) ethyl isocyanate, or the like can be applied.

ポリオキシアルキレン化合物(B1’)及び反応物(B2’)中に含まれる(メタ)アクリロイル基の数は、1分子当たり、1〜3個が好ましい。   The number of (meth) acryloyl groups contained in the polyoxyalkylene compound (B1 ′) and the reactant (B2 ′) is preferably 1 to 3 per molecule.

<フィラー(C)>
本発明の放射線硬化性組成物には、フィラー(C)を含有することができる。フィラー(C)を含有すると、耐擦傷性をさらに良好にできる。
<Filler (C)>
The radiation curable composition of the present invention may contain a filler (C). When the filler (C) is contained, the scratch resistance can be further improved.

フィラー(C)としては、無機フィラー(C1)及び有機フィラー(C2)が含まれる。   As a filler (C), an inorganic filler (C1) and an organic filler (C2) are contained.

無機フィラー(C1)としては、シリカ、酸化チタン、タルク、クレー、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、硫酸バリウム、マイカ、珪藻土シリカ、水酸化アルミニウム、アルミナ、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化亜鉛、五酸化アンチモン、酸化インジウム及びアンチモン酸亜鉛等が挙げられる。また、これらの金属酸化物をスズ、アンチモン、リン又はガリウム等でドープしたものも使用できる。   As the inorganic filler (C1), silica, titanium oxide, talc, clay, calcium carbonate, calcium silicate, barium sulfate, mica, diatomaceous earth silica, aluminum hydroxide, alumina, zirconium oxide, zirconium hydroxide, tin oxide, zinc oxide , Antimony pentoxide, indium oxide, and zinc antimonate. Moreover, what doped these metal oxides with tin, antimony, phosphorus, gallium, etc. can also be used.

無機フィラー(C1)は、溶剤等に分散された無機フィラーゾル分散液の形態であってもよい。このような無機フィラーゾル分散液は、市場から容易に入手でき、たとえば、オルガノシリカゾルシリーズ及びセルナックスシリーズ(日産化学工業株式会社製、「セルナックス」は同社の登録商標である。)等が挙げられる。   The inorganic filler (C1) may be in the form of an inorganic filler sol dispersion dispersed in a solvent or the like. Such inorganic filler sol dispersions can be easily obtained from the market, and examples thereof include organosilica sol series and Celnax series (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., “Cellnax” is a registered trademark of the company). .

有機フィラー(C2)としては、アクリル樹脂フィラー、スチレン樹脂フィラー、アクリル・スチレン樹脂フィラー、ウレタン樹脂フィラー、ポリエチレンフィラー及びシリコーン樹脂フィラー等が挙げられる。   Examples of the organic filler (C2) include an acrylic resin filler, a styrene resin filler, an acrylic / styrene resin filler, a urethane resin filler, a polyethylene filler, and a silicone resin filler.

有機フィラー(C2)としては、分散媒に分散された分散液の形態であってもよい。このような分散液は、公知の方法{たとえば特開2007−99897号公報等}により調製できる。なお、有機フィラー(C2)は、このような分散液から分散媒を乾燥等により除去して使用することもできる。   The organic filler (C2) may be in the form of a dispersion dispersed in a dispersion medium. Such a dispersion can be prepared by a known method {for example, JP 2007-99897 A}. The organic filler (C2) can also be used after removing the dispersion medium from such a dispersion by drying or the like.

これらのフィラー(C)のうち、透明性の要求される用途の場合、無機フィラー、アクリル樹脂フィラー及びこれらの混合物が好ましく、さらに好ましくは無機フィラー、特に好ましくはシリカ、アルミナ、酸化スズ及び酸化亜鉛、最も好ましくはシリカ、酸化スズ及び酸化亜鉛である。一方、透明性の要求されない場合、無機フィラー及びアクリル樹脂フィラー、ポリエチレンフィラー及びこれらの混合物が好ましく、さらに好ましくはシリカ、アルミナ、アクリル樹脂フィラー、ポリエチレンフィラー及びこれらの混合物、特に好ましくはシリカ、アクリル樹脂フィラー、ポリエチレンフィラー及びこれらの混合物である。   Of these fillers (C), in the case of applications requiring transparency, inorganic fillers, acrylic resin fillers and mixtures thereof are preferable, more preferably inorganic fillers, particularly preferably silica, alumina, tin oxide and zinc oxide. Most preferred are silica, tin oxide and zinc oxide. On the other hand, when transparency is not required, inorganic fillers and acrylic resin fillers, polyethylene fillers and mixtures thereof are preferred, more preferably silica, alumina, acrylic resin fillers, polyethylene fillers and mixtures thereof, particularly preferably silica and acrylic resins. Fillers, polyethylene fillers and mixtures thereof.

フィラー(C)の体積平均粒子径は、1nm〜10μmが好ましく、さらに好ましくは3nm〜8μm、特に好ましくは5nm〜6μmである。この範囲であると、耐擦傷性がさらに良好となる。   The volume average particle diameter of the filler (C) is preferably 1 nm to 10 μm, more preferably 3 nm to 8 μm, and particularly preferably 5 nm to 6 μm. Within this range, the scratch resistance is further improved.

透明性が要求される用途に本発明の放射線硬化性組成物を適用する場合、フィラー(C)の体積平均粒子径(nm)は、1〜400が好ましく、さらに好ましくは5〜200、特に好ましくは10〜100である。この範囲であると、塗膜の透明性さらに良好となる。   When the radiation curable composition of the present invention is applied to a use requiring transparency, the volume average particle diameter (nm) of the filler (C) is preferably 1 to 400, more preferably 5 to 200, and particularly preferably. Is 10-100. Within this range, the transparency of the coating film is further improved.

透明性が要求されない用途に本発明の放射線硬化性組成物を適用する場合、フィラー(C)の体積平均粒子径(μm)は、0.5〜10が好ましく、さらに好ましくは1〜8、特に好ましくは2〜6である。この範囲であると、塗膜の耐擦傷性はさらに良好となる。   When the radiation curable composition of the present invention is applied to uses where transparency is not required, the volume average particle diameter (μm) of the filler (C) is preferably 0.5 to 10, more preferably 1 to 8, particularly. Preferably it is 2-6. Within this range, the scratch resistance of the coating film is further improved.

なお、体積平均粒子径は、測定試料を適当な分散媒(たとえば、水、メタノール及びこれらの混合物)に分散させ、JIS Z8825−1−2001「粒子径解析−レーザー回折法−第1部」:測定原理に記載された測定原理を有するレーザー回折式粒度分布測定装置(たとえば、株式会社島津製作所製SALD−1100、株式会社堀場製作所製LA−950、日機装株式会社製マイクロトラック粒度分布測定装置UPA−ST150、「マイクロトラック」はリーズ、アンド、ノースラップ、カンパニーの登録商標である。)等により測定される。   The volume average particle size is determined by dispersing the measurement sample in an appropriate dispersion medium (for example, water, methanol and a mixture thereof), and JIS Z8825-1-2001 “Particle Size Analysis—Laser Diffraction Method—Part 1”: Laser diffraction particle size distribution measuring apparatus having the measurement principle described in the measurement principle (for example, SALD-1100 manufactured by Shimadzu Corporation, LA-950 manufactured by Horiba, Ltd., Microtrack particle size distribution measuring apparatus UPA- manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) ST150, “Microtrack” is a registered trademark of Leeds, And, Northlap, Company).

フィラー(C)を含有する場合、フィラー(C)の含有量(重量%)は、硬化性樹脂(A)の重量に基づいて、1〜150が好ましく、さらに好ましくは3〜120、特に好ましくは5〜100である。この範囲であると、耐擦傷性がさらに良好となる。   When the filler (C) is contained, the content (% by weight) of the filler (C) is preferably 1 to 150, more preferably 3 to 120, particularly preferably based on the weight of the curable resin (A). 5-100. Within this range, the scratch resistance is further improved.

<ポリオキシアルキレン変性シリコーン(D)>
本発明の放射線硬化性組成物には、レベリング性をさらに向上させる目的で、さらにポリオキシアルキレン変性シリコーン(D)を含むことができる。ポリオキシアルキレン変性シリコーン(D)としては、分岐型ポリオキシアルキレン変性シリコーン(D1)、末端変性型ポリオキシアルキレン変性シリコーン(D2)及びブロック型ポリオキシアルキレン変性シリコーン(D3)が含まれる。
<Polyoxyalkylene-modified silicone (D)>
The radiation curable composition of the present invention may further contain a polyoxyalkylene-modified silicone (D) for the purpose of further improving the leveling property. Examples of the polyoxyalkylene-modified silicone (D) include branched polyoxyalkylene-modified silicone (D1), terminal-modified polyoxyalkylene-modified silicone (D2), and block-type polyoxyalkylene-modified silicone (D3).

分岐型ポリオキシアルキレン変性シリコーン(D1)としては、ジメチルシロキサン鎖の側鎖としてポリオキシアルキレン鎖が化学結合しているシリコーンであり、SH3746[HLB=10]、SH8428[HLB=0]、SH3771[HLB=14]、BY16−036[HLB=9]、BY16−027[HLB=7]、SH8400[HLB=8]、SH3749[HLB=7]、SH3748[HLB=5]、SF8410[HLB=6]、L−77[HLB=10]、L−7001[HLB=7]、L−7002[HLB=7]、L−7604[HLB=13]、Y−7006[HLB=7]、FZ−2101[HLB=9]、FZ−2104[HLB=14]、FZ−2105[HLB=11]、FZ−2110[HLB=1]、FZ−2118[HLB=12]、FZ−2120[HLB=6]、FZ−2123[HLB=8]、FZ−2130[HLB=7]、FZ−2161[HLB=18]、FZ−2162[HLB=15]、FZ−2163[HLB=13]、FZ−2164[HLB=8]、FZ−2166[HLB=5]及びFZ−2191[HLB=5]{以上、東レダウコーニング株式会社製};KF−351[HLB=12]、KF−352[HLB=7]、KF−353[HLB=10]、KF−354L[HLB=16]、KF−355A[HLB=12]、KF−615A[HLB=10]、KF−945[HLB=4]、KF−618[HLB=11]、KF−6011[HLB=12]及びKF−6015[HLB=4]{以上、信越化学工業株式会社製};TSF4440[HLB=12]、TSF4445[HLB=7]、TSF4446[HLB=7]、TSF4452[HLB=7]、TSF4453[HLB=6]及びTSF4460[HLB=1]{以上、東芝シリコーン株式会社製};並びにTEGOPREN5000シリーズ[HLB=3〜15]{以上、DEGUSSA社製}等が挙げられる。   The branched polyoxyalkylene-modified silicone (D1) is a silicone in which a polyoxyalkylene chain is chemically bonded as a side chain of a dimethylsiloxane chain, and SH3746 [HLB = 10], SH8428 [HLB = 0], SH3771 [ HLB = 14], BY16-036 [HLB = 9], BY16-027 [HLB = 7], SH8400 [HLB = 8], SH3749 [HLB = 7], SH3748 [HLB = 5], SF8410 [HLB = 6] , L-77 [HLB = 10], L-7001 [HLB = 7], L-7002 [HLB = 7], L-7604 [HLB = 13], Y-7006 [HLB = 7], FZ-2101 [ HLB = 9], FZ-2104 [HLB = 14], FZ-2105 [HLB = 11], FZ-2110 [HL = 1], FZ-2118 [HLB = 12], FZ-2120 [HLB = 6], FZ-2123 [HLB = 8], FZ-2130 [HLB = 7], FZ-2161 [HLB = 18], FZ -2162 [HLB = 15], FZ-2163 [HLB = 13], FZ-2164 [HLB = 8], FZ-2166 [HLB = 5] and FZ-2191 [HLB = 5] Made by company}; KF-351 [HLB = 12], KF-352 [HLB = 7], KF-353 [HLB = 10], KF-354L [HLB = 16], KF-355A [HLB = 12], KF -615A [HLB = 10], KF-945 [HLB = 4], KF-618 [HLB = 11], KF-6011 [HLB = 12] and KF-6015 [HLB = 4] Manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.}; TSF4440 [HLB = 12], TSF4445 [HLB = 7], TSF4446 [HLB = 7], TSF4452 [HLB = 7], TSF4453 [HLB = 6] and TSF4460 [HLB = 1] {Manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.}; and TEGOPREN 5000 series [HLB = 3-15] {manufactured by DEGUSSA}.

末端変性型ポリオキシアルキレン変性シリコーン(D2)としては、ジメチルシロキサン鎖の末端(片末端又は両末端)にポリオキシアルキレン鎖が化学結合しているシリコーンであり、L−720[HLB=7]及びFZ−2122[HLB=1]{東レダウコーニング株式会社製}等が挙げられる。   The terminal-modified polyoxyalkylene-modified silicone (D2) is a silicone in which a polyoxyalkylene chain is chemically bonded to a terminal (one terminal or both terminals) of a dimethylsiloxane chain, and L-720 [HLB = 7] and FZ-2122 [HLB = 1] {manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.} and the like.

ブロック型ポリオキシアルキレン変性シリコーン(G3)としては、ジメチルシロキサン鎖とポリオキシアルキレン鎖とがブロック状に繰り返して化学結合しているシリコーンであり、SF8427[HLB=10]及びBY16−004[HLB=0]{以上、東レダウコーニング株式会社製};KF−6004[HLB=5]{以上、信越化学工業株式会社製};FZ−2203[HLB=1]、FZ−2207[HLB=3]及びFZ−2208[HLB=7]{以上、日本ユニカー株式会社製};並びにTEGOPREN3000シリーズ[HLB=1〜5]{以上、DEGUSSA社製}等が挙げられる。   The block-type polyoxyalkylene-modified silicone (G3) is a silicone in which a dimethylsiloxane chain and a polyoxyalkylene chain are repeatedly chemically bonded in a block shape, and SF8427 [HLB = 10] and BY16-004 [HLB = 0] {above, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.}; KF-6004 [HLB = 5] {above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.}; FZ-2203 [HLB = 1], FZ-2207 [HLB = 3] and FZ-2208 [HLB = 7] {above, manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd.}; and TEGOPREN 3000 series [HLB = 1-5] {above, manufactured by DEGUSSA}.

これらのポリオキシアルキレン変性シリコーン(D)のうち、指紋の拭き取り性の観点から、分岐型ポリエーテル変性シリコーン(D1)が好ましい。これらのポリオキシアルキレン変性シリコーン(D)は1種又は2種以上の混合物として用いることができるが、2種以上の混合物として用いる場合、分岐型ポリオキシアルキレン変性シリコーン(D1)を含むことが好ましい。   Of these polyoxyalkylene-modified silicones (D), branched polyether-modified silicones (D1) are preferred from the viewpoint of fingerprint wiping properties. These polyoxyalkylene-modified silicones (D) can be used as one kind or a mixture of two or more kinds, but when used as a mixture of two or more kinds, it is preferable to include a branched polyoxyalkylene-modified silicone (D1). .

ポリオキシアルキレン変性シリコーン(D)の親水親油バランス(グリフィンのHLB)は、20以下が好ましく、さらに好ましくは15以下、特に好ましくは10以下、最も好ましくは5以下である。これらの範囲であると、指紋拭き取り性がさらに良好となり好ましい。なお、グリフィンのHLBは、新・界面活性剤入門(三洋化成工業株式会社発行)の127〜129頁に記載された界面活性剤の有機性と無機性の比から計算する方法で求められる。   The hydrophilic / lipophilic balance (HLP of Griffin) of the polyoxyalkylene-modified silicone (D) is preferably 20 or less, more preferably 15 or less, particularly preferably 10 or less, and most preferably 5 or less. Within these ranges, the fingerprint wiping property is further improved, which is preferable. In addition, the HLB of Griffin is calculated | required by the method of calculating from the organic and inorganic ratio of surfactant described in the 127-129 page of a new surfactant introduction (Sanyo Kasei Kogyo Co., Ltd. issue).

ポリオキシアルキレン変性シリコーン(D)を含有する場合、ポリオキシアルキレン変性シリコーン(D)の含有量(重量%)は、硬化性樹脂(A)の重量に基づいて、0.01〜2が好ましく、さらに好ましくは0.03〜1、特に好ましくは0.05〜0.5である。この範囲であると、指紋拭き取り性に悪影響を与えることなくレベリング性をさらに良好にできる。   When the polyoxyalkylene-modified silicone (D) is contained, the content (% by weight) of the polyoxyalkylene-modified silicone (D) is preferably 0.01 to 2 based on the weight of the curable resin (A). More preferably, it is 0.03-1, Most preferably, it is 0.05-0.5. Within this range, the leveling property can be further improved without adversely affecting the fingerprint wiping property.

<ポリマー(E)>
本発明の放射線硬化性組成物には、ポリマー(E)を含有することができる。ポリマー(E)を含有すると、耐衝撃性をさらに良好にできる。
<Polymer (E)>
The radiation curable composition of the present invention may contain a polymer (E). When the polymer (E) is contained, the impact resistance can be further improved.

ポリマー(E)としては、特開2009−114302号公報に記載されたポリマー等が使用でき、ビニルポリマー(E1)、ポリエステル(E2)及びポリウレタン(E3)が含まれる。   As a polymer (E), the polymer etc. which were described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-114302 can be used, and vinyl polymer (E1), polyester (E2), and polyurethane (E3) are contained.

ポリマーを(E)を含有する場合、ポリマー(E)の含有量(重量%)は、硬化性樹脂(A)の重量に基づいて、1〜150が好ましく、さらに好ましくは3〜100、特に好ましくは5〜50である。この範囲であると放射線硬化型組成物の成形・加工性がさらに良好となる。   When the polymer contains (E), the content (% by weight) of the polymer (E) is preferably 1 to 150, more preferably 3 to 100, particularly preferably based on the weight of the curable resin (A). Is 5-50. Within this range, the moldability / workability of the radiation curable composition is further improved.

<溶剤(F)>
本発明の放射線硬化性組成物には、取扱性(コーティング性等)をさらに向上させること等を目的として、さらに必要に応じて溶剤(F)を含有させることができる。
<Solvent (F)>
The radiation curable composition of the present invention may further contain a solvent (F) as necessary for the purpose of further improving handling properties (coating properties and the like).

溶剤(F)としては、硬化性樹脂(A)、ポリオキシアルキレン化合物(B1)、反応物(B2)、並びに必要により含有できる他の成分{ポリオキシアルキレン変性シリコーン(D)及び/又はポリマー(E)}を均一に溶解できる{他の成分としてフィラー(C)を含む場合、フィラー(C)を均一に分散できる}溶剤であればよく、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等)、グリコールエーテル(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びプロピレングリコールモノエチルエーテル等)、グリコールエステル(メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールエチルエーテルアセテート等)、アルコール(メタノール、エタノール、プロパノール及びブタノール等)及び芳香族炭化水素(トルエン及びキシレン等)が含まれる。これらの溶剤(F)は単独で又は混合して用いられる。   Examples of the solvent (F) include a curable resin (A), a polyoxyalkylene compound (B1), a reaction product (B2), and other components that can be contained if necessary {polyoxyalkylene-modified silicone (D) and / or polymer ( E)} can be dissolved uniformly {if the filler (C) is included as another component, the filler (C) can be uniformly dispersed} may be a solvent such as ketone (acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone), glycol Ethers (such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monoethyl ether), glycol esters (methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate and propylene glycol ethyl ether) Ether acetate, etc.), alcohols (methanol, ethanol, propanol and butanol) and aromatic hydrocarbons (toluene and xylene) is. These solvents (F) are used alone or in combination.

溶剤(F)を含有する場合、溶剤(F)の含有量は、放射線硬化性組成物の粘度、塗工方法、乾燥後の膜厚等によって適宜決定される。   When it contains a solvent (F), content of a solvent (F) is suitably determined by the viscosity of a radiation-curable composition, the coating method, the film thickness after drying, etc.

<光増感剤(G)>
本発明の放射線硬化性組成物には、硬化性をさらに向上させる目的で、さらに光増感剤(G)を含有できる。
<Photosensitizer (G)>
The radiation-curable composition of the present invention can further contain a photosensitizer (G) for the purpose of further improving curability.

光増感剤(G)としては、公知の光増感剤等が使用でき、アルキルアミノ光増感剤(G1)及びジアルキルアミノフェニル光増感剤(G2)が含まれる。   As a photosensitizer (G), a well-known photosensitizer etc. can be used and an alkylamino photosensitizer (G1) and a dialkylaminophenyl photosensitizer (G2) are contained.

アルキルアミノ光増感剤(G1)としては、モノアルキルアミン(n−ブチルアミン及び2−エチルヘキシルアミン等)、ジアルキルアミン(ジn−ブチルアミン、ジエタノールアミン及びメチルデシルアミン等)、トリアルキルアミン(トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン及び2−ジメチルアミノエチル安息香酸等)等が挙げられる。   Examples of the alkylamino photosensitizer (G1) include monoalkylamines (such as n-butylamine and 2-ethylhexylamine), dialkylamines (such as din-butylamine, diethanolamine, and methyldecylamine), and trialkylamines (trimethylamine, triethylamine). , Triethanolamine, triisopropanolamine, 2-dimethylaminoethylbenzoic acid and the like).

ジアルキルアミノフェニル光増感剤(G2)としては、4,4'−ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4'−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジメチルアミノ安息香酸エチル、ジメチルアミノ安息香酸2−(n−ブトキシ)エチル及びジメチルアミノ安息香酸イソアシル等が挙げられる。   As the dialkylaminophenyl photosensitizer (G2), 4,4′-dimethylaminobenzophenone, 4,4′-diethylaminobenzophenone, ethyl dimethylaminobenzoate, 2- (n-butoxy) ethyl dimethylaminobenzoate and dimethyl An aminobenzoic acid isoacyl etc. are mentioned.

光増感剤(G)として、これらの他に、トリn−ブチルホスフィン等のりん化合物も使用できる。
これらの光増感剤(G)のうち、トリアルキリアミン及びジアルキルアミノフェニル光増感剤(G2)が好ましく、さらに好ましくはジアルキルアミノフェニル光増感剤(G2)、特に好ましくは4,4'−ジアルキルアミノベンゾフェノンである。
In addition to these, phosphorus compounds such as tri-n-butylphosphine can also be used as the photosensitizer (G).
Of these photosensitizers (G), trialkylamine and dialkylaminophenyl photosensitizer (G2) are preferable, more preferably dialkylaminophenyl photosensitizer (G2), and particularly preferably 4,4 ′. -Dialkylaminobenzophenone.

光増感剤(G)を含有する場合、光増感剤(G)の含有量(重量%)は、光重合開始剤(A3)の重量に基づいて、0.1〜100が好ましく、さらに好ましくは、1〜50、特に好ましくは5〜50である。なお、光重合開始剤(A3)を含有しない場合、光増感剤(G)も含有しない。   When the photosensitizer (G) is contained, the content (% by weight) of the photosensitizer (G) is preferably 0.1 to 100 based on the weight of the photopolymerization initiator (A3). Preferably, it is 1-50, Most preferably, it is 5-50. In addition, when not containing a photoinitiator (A3), a photosensitizer (G) is also not contained.

<紫外線吸収剤(H)>
本発明の放射線硬化性組成物には、耐候性を向上させる目的で、紫外線吸収剤(光安定剤を含む。)(H)を含有することができる。紫外線吸収剤(H)としては、ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤(H1)、ヒンダードアミン紫外線吸収剤(H2)、ベンゾフェノン紫外線吸収剤(H3)、サリチル酸紫外線吸収剤(H4)及びトリアジン紫外線吸収剤(H5)が含まれる。
<Ultraviolet absorber (H)>
The radiation curable composition of the present invention may contain an ultraviolet absorber (including a light stabilizer) (H) for the purpose of improving the weather resistance. Examples of the ultraviolet absorber (H) include benzotriazole ultraviolet absorber (H1), hindered amine ultraviolet absorber (H2), benzophenone ultraviolet absorber (H3), salicylic acid ultraviolet absorber (H4) and triazine ultraviolet absorber (H5). included.

ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤(H1)としては、2−(2'−ヒドロキシ−5'−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール及び2−(2'−ヒドロキシ−5'−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール等が挙げられる。   Examples of the benzotriazole ultraviolet absorber (H1) include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2′-hydroxy-5′-tert-butylphenyl) benzotriazole. .

ヒンダードアミン紫外線吸収剤(H2)としては、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドリキシフェニル]メチル]ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルセバケート及びビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート等が挙げられる。   As the hindered amine ultraviolet absorber (H2), bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl) ] Butyl malonate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl sebacate and bis (2,2,6) , 6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate and the like.

ベンゾフェノン紫外線吸収剤(H3)としては、2,4−ジヒドロベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシベンゾフェノン及び2,2'−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。   Examples of the benzophenone ultraviolet absorber (H3) include 2,4-dihydrobenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone and 2,2 ′. -Dihydroxy-4-methoxybenzophenone etc. are mentioned.

サリチル酸紫外線吸収剤(H4)としては、フェニルサリシレート、p−tert−ブチルフェニルサリシレート及びp−オクチルフェニルサリシレート等が挙げられる。   Examples of the salicylic acid ultraviolet absorber (H4) include phenyl salicylate, p-tert-butylphenyl salicylate, and p-octylphenyl salicylate.

トリアジン紫外線吸収剤(H5)としては、2−[4−[(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシプロピル)オキシ]−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[4−[(2−ヒドロキシ−3−トリデシルオキシプロピル)オキシ]−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン及び2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−(2−ヒドロキシ−4−イソオクチルオキシフェニル−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。   As a triazine ultraviolet absorber (H5), 2- [4-[(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl)- 1,3,5-triazine, 2- [4-[(2-hydroxy-3-tridecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1 , 3,5-triazine and 2,4-bis (2,4-dimethylphenyl) -6- (2-hydroxy-4-isooctyloxyphenyl-1,3,5-triazine).

これらの紫外線吸収剤(H)は単独で用いてもよいし、また2種類以上を併用してもよく、2種以上併用する場合、ヒンダードアミン紫外線吸収剤(H2)とトリアジン紫外線吸収剤(H5)との併用が好ましい。これらの紫外線吸収剤(H)のうち、ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤(H1)、ヒンダードアミン紫外線吸収剤(H2)及びトリアジン紫外線吸収剤(H5)が好ましく、さらに好ましくはヒンダードアミン紫外線吸収剤(H2)及びトリアジン紫外線吸収剤(H5)である。   These ultraviolet absorbers (H) may be used alone or in combination of two or more, and when used in combination of two or more, hindered amine ultraviolet absorber (H2) and triazine ultraviolet absorber (H5). Is preferably used together. Of these ultraviolet absorbers (H), benzotriazole ultraviolet absorbers (H1), hindered amine ultraviolet absorbers (H2) and triazine ultraviolet absorbers (H5) are preferred, more preferably hindered amine ultraviolet absorbers (H2) and triazines. It is an ultraviolet absorber (H5).

紫外線吸収剤(H)を含有する場合、紫外線吸収剤(H)の含有量(重量%)は、硬化性樹脂(A)の重量に基づいて、0.1〜10が好ましく、さらに好ましくは0.3〜8、特に好ましくは0.5〜5である。   When the ultraviolet absorber (H) is contained, the content (% by weight) of the ultraviolet absorber (H) is preferably 0.1 to 10, more preferably 0, based on the weight of the curable resin (A). .3 to 8, particularly preferably 0.5 to 5.

<他の添加剤>
本発明の放射線硬化性組成物には、必要に応じて、他の添加剤(たとえば、染料、顔料、熱安定剤、密着促進剤、消泡剤、垂れ防止剤及び/又は難燃剤等)を添加することができる。
他の添加剤を含有する場合、他の添加剤の合計含有量(重量%)は、各添加剤の特性を発揮でき、本発明の効果を阻害しない範囲で添加することができ、硬化性樹脂(A)の重量に基づいて、0.01〜50が好ましく、さらに好ましくは0.05〜30、特に好ましくは0.1〜10である。
<Other additives>
The radiation curable composition of the present invention may contain other additives (for example, dyes, pigments, heat stabilizers, adhesion promoters, antifoaming agents, anti-sagging agents, and / or flame retardants) as necessary. Can be added.
When other additives are contained, the total content (% by weight) of other additives can exhibit the characteristics of each additive and can be added within a range that does not impair the effects of the present invention. Based on the weight of (A), 0.01-50 are preferable, More preferably, it is 0.05-30, Most preferably, it is 0.1-10.

本発明の放射線硬化性組成物は、各構成成分を均一混合・分散することにより容易に得られ、製造方法に制限はない。   The radiation-curable composition of the present invention can be easily obtained by uniformly mixing and dispersing the respective constituent components, and the production method is not limited.

ポリマー(E)を含有する場合、ポリマー(E)を溶剤(F)に均一溶解させてポリマー溶液を得てから、硬化性樹脂(A)、ポリオキシアルキレン化合物(B1)、反応物(B2)及び必要により他の成分{フィラー(C)、ポリオキシアルキレン変性シリコーン(D)、光増感剤(G)、紫外線吸収剤(H)及び/又は他の添加剤}とポリマー溶液とを均一混合することが好ましい。   When the polymer (E) is contained, the polymer (E) is uniformly dissolved in the solvent (F) to obtain a polymer solution, and then the curable resin (A), the polyoxyalkylene compound (B1), and the reaction product (B2). If necessary, other components {filler (C), polyoxyalkylene-modified silicone (D), photosensitizer (G), ultraviolet absorber (H) and / or other additives} and the polymer solution are uniformly mixed. It is preferable to do.

フィラー(C)を含有する場合、フィラー(C)を溶剤(F)に均一分散させてフィラー分散液を調製してから、硬化性樹脂(A)、ポリオキシアルキレン化合物(B1)、反応物(B2)及び必要により他の成分{ポリオキシアルキレン変性シリコーン(D)、ポリマー(E)、光増感剤(G)、紫外線吸収剤(H)及び/又は他の添加剤}とフィラー分散液とを均一混合することが好ましい。   When the filler (C) is contained, the filler (C) is uniformly dispersed in the solvent (F) to prepare a filler dispersion, and then the curable resin (A), the polyoxyalkylene compound (B1), the reactant ( B2) and other components {polyoxyalkylene-modified silicone (D), polymer (E), photosensitizer (G), ultraviolet absorber (H) and / or other additives} if necessary, and filler dispersion Are preferably mixed uniformly.

フィラー(C)を分散混合するための分散機としては均一に分散できれば特に制限はないが、たとえば、ディゾルバー、2軸ミキサー、3軸ミキサー、プラネタリーミキサー、3軸プラネタリーミキサー、3本ロール、ボールミル及びビーズミル等が挙げられる。これらのうち、ディゾルバー、2軸ミキサー、3軸ミキサー及び3軸プラネタリーミキサーが好ましく、さらに好ましくはディゾルバー、3軸ミキサー及び3軸プラネタリーミキサー、特に好ましくはディゾルバー及び3軸プラネタリーミキサーである。   The disperser for dispersing and mixing the filler (C) is not particularly limited as long as it can be uniformly dispersed. For example, a dissolver, a twin screw mixer, a three screw mixer, a planetary mixer, a three screw planetary mixer, three rolls, Examples thereof include a ball mill and a bead mill. Among these, a dissolver, a 2-axis mixer, a 3-axis mixer, and a 3-axis planetary mixer are preferable, a dissolver, a 3-axis mixer, and a 3-axis planetary mixer are more preferable, and a dissolver and a 3-axis planetary mixer are particularly preferable.

分散混合の温度(℃)としては均一分散できれば特に制限はないが、10〜60が好ましく、さらに好ましくは15〜50、特に好ましくは20〜40である。   The temperature (° C.) of the dispersion and mixing is not particularly limited as long as it can be uniformly dispersed, but is preferably 10 to 60, more preferably 15 to 50, and particularly preferably 20 to 40.

分散混合の時間(分)としては均一分散できれば特に制限はないが、10〜600が好ましく、さらに好ましくは20〜300、特に好ましくは30〜180である。   Although there will be no restriction | limiting in particular if it can disperse | distribute uniformly as time (minutes) of dispersion | distribution mixing, 10-600 are preferable, More preferably, it is 20-300, Most preferably, it is 30-180.

均一混合の温度(℃)としては均一混合できれば特に制限はないが、25〜60が好ましく、さらに好ましくは30〜50、特に好ましくは35〜45である。   The temperature for uniform mixing (° C.) is not particularly limited as long as uniform mixing can be performed, but is preferably 25 to 60, more preferably 30 to 50, and particularly preferably 35 to 45.

本発明の放射線硬化性組成物は、各種プラスチックの保護層に適用でき、特にタッチパネルなど、指紋が付着するプラスチックベースフィルムの保護層として好適である。
保護層は、プラスチックベースフィルムに、本発明の放射線硬化性組成物をコーティングし、必要により加熱乾燥した後、放射線を照射することにより硬化させて得ることができる。
コーティング方法としては、ロールコート法、ディップ法、スプレー法、フローコート法及びスクリーン印刷法等が適用できる。
The radiation-curable composition of the present invention can be applied to various plastic protective layers, and is particularly suitable as a protective layer for plastic base films to which fingerprints adhere, such as touch panels.
The protective layer can be obtained by coating the plastic base film with the radiation curable composition of the present invention, heating and drying it if necessary, and then irradiating it with radiation.
As a coating method, a roll coating method, a dip method, a spray method, a flow coating method, a screen printing method, or the like can be applied.

加熱乾燥する場合、加熱乾燥温度(℃)としては、30〜120程度が好ましく、さらに好ましくは40〜110、特に好ましくは50〜100である。加熱温度はこの範囲で段階的に変化(たとえば昇温)させてもかまわない。
加熱乾燥時間(分)としては、0.5〜30程度が好ましく、さらに好ましくは1〜20である。
In the case of heat drying, the heat drying temperature (° C.) is preferably about 30 to 120, more preferably 40 to 110, and particularly preferably 50 to 100. The heating temperature may be changed stepwise (for example, temperature increase) within this range.
The heat drying time (minutes) is preferably about 0.5 to 30, and more preferably 1 to 20.

放射線の照射量(mJ/cm)としては、100〜2,000程度が好ましく、さらに好ましくは200〜1,000である。 The radiation dose (mJ / cm 2 ) is preferably about 100 to 2,000, and more preferably 200 to 1,000.

本発明の放射線硬化性組成物をプラスチックベースフィルムに適用する場合、放射線硬化性組成物のコーティング層の厚み(μm)としては、0.1〜100程度が好ましく、さらに好ましくは1〜30である。   When the radiation curable composition of the present invention is applied to a plastic base film, the thickness (μm) of the coating layer of the radiation curable composition is preferably about 0.1 to 100, more preferably 1 to 30. .

プラスチックベースフィルムの材質としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース及びポリメチルメタクリレート等が挙げられる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリメチルメタクリレートが好ましい。   Examples of the material for the plastic base film include polyethylene terephthalate, polycarbonate, triacetyl cellulose, and polymethyl methacrylate. Of these, polyethylene terephthalate, polycarbonate and polymethyl methacrylate are preferred.

プラスチックベースフィルムの厚さ(μm)は、10〜5000程度が好ましく、さらに好ましくは50〜2000である。   The thickness (μm) of the plastic base film is preferably about 10 to 5000, and more preferably 50 to 2000.

本発明の放射線硬化性組成物をプラスチックベースフィルムにコーティングし、硬化させて得られるプラスチックフィルムは、タッチパネル用保護フィルム、自動車内装用フィルム及び携帯電話等の電子機器筐体用成形フィルム等に適用できる。   The plastic film obtained by coating and curing the radiation curable composition of the present invention on a plastic base film can be applied to a protective film for a touch panel, a film for automobile interior, a molded film for an electronic device casing such as a mobile phone, and the like. .

以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれに限定されない。なお、特記しない限り、部は重量部、%は重量%を意味する。
加熱残分はJIS K5601−1−2:2008に準拠して、105℃、1時間の条件で測定した(皿:直径70mm、縁の高さ15mm、循風乾燥器)。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further, this invention is not limited to this. Unless otherwise specified, “part” means “part by weight” and “%” means “% by weight”.
The heating residue was measured in accordance with JIS K5601-1-2: 2008 under the conditions of 105 ° C. and 1 hour (dish: diameter 70 mm, edge height 15 mm, circulating air dryer).

<製造例1>
冷却管、撹拌装置、温度計を取り付けた反応容器に、4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(水添MDI)(商品名:デスモジュールW、住化バイエルウレタン株式会社製、「デスモジュール」はバイエル アクチエンゲゼルシヤフト社の登録商標である。)262部(1モル部)、ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレート(hm1){商品名:ライトアクリレートPE−3A、共栄社化学株式会社製、ペンタエリスリトールのテトラ−、トリ−、ジ−アクリレートの混合物(重量比でそれぞれ35:60:5)}826部(トリアクリレート1.7モル部、ジアクリレート0.2モル部、含有するヒドロキシ基2モル部)、ジブチルスズジラウレート(反応触媒)0.05部、ヒドロキノンモノメチルエーテル(重合禁止剤)0.5部及びメチルエチルケトン273部(加熱残分が80%となる理論値)を入れ30分攪拌後、徐々に環流するまで昇温した。さらにイソシアネート基含有率が0.2%となるまで環流を継続した。その後30℃以下まで冷却し、目開き45μmのステンレス製金網でろ過し、ろ液の加熱残分を測定し、80%となるようメチルエチルケトンで調整した後、アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a11)のメチルエチルケトン溶液を得た。
なお、アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a11)は、ウレタン化反応に関与しない(メタ)アクリレート(a21)(ペンタエリスリトールテトラアクリレート)を27%含有(加熱残分中)する。
また、イソシアネート基含有率はJIS K1603−1:2007「A法」に準拠して測定した。
<Production Example 1>
4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI) (trade name: Desmodur W, manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd., "Desmodur" is Bayer 262 parts (1 mole part), hydroxy group-containing (meth) acrylate (hm1) {trade name: Light acrylate PE-3A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., pentaerythritol tetra- , A mixture of tri- and di-acrylate (35: 60: 5 by weight ratio)} 826 parts (1.7 mol parts of triacrylate, 0.2 mol parts of diacrylate, 2 mol parts of hydroxy group contained), dibutyltin Dilaurate (reaction catalyst) 0.05 parts, hydroquinone monomethyl ether (polymerization inhibitor) .5 parts of methyl ethyl ketone 273 parts After 30 minutes stirring put (heating residue theoretical value of 80%) was gradually raised to refluxing. Further, the reflux was continued until the isocyanate group content became 0.2%. Thereafter, the mixture is cooled to 30 ° C. or lower, filtered through a stainless steel mesh with a mesh opening of 45 μm, the heating residue of the filtrate is measured, adjusted with methyl ethyl ketone to 80%, and then methyl ethyl ketone of the acryloyl group-containing urethane oligomer (a11). A solution was obtained.
The acryloyl group-containing urethane oligomer (a11) contains 27% (in the heating residue) of (meth) acrylate (a21) (pentaerythritol tetraacrylate) that does not participate in the urethanization reaction.
The isocyanate group content was measured in accordance with JIS K1603-1: 2007 “Method A”.

<製造例2>
「4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(水添MDI)262部(1モル部)」を「ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン(水添XDI)(商品名:タケネート600、三井化学株式会社製、「タケネート」は同社の登録商標である。)188部(1モル部)」に変更したこと以外、製造例1と同様にして(ただし、メチルエチルケトンは加熱残分で80%となる理論量を使用した。)、アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a12)のメチルエチルケトン溶液を得た。
なお、アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a12)は、ウレタン化反応に関与しない(メタ)アクリレート(a21)(ペンタエリスリトールテトラアクリレート)を29%含有(加熱残分中)する。
<Production Example 2>
“Bis (isocyanatomethyl) cyclohexane (hydrogenated XDI)” (trade name: Takenate 600, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., “262 parts (1 mole part) of 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI)” “Takenate” is a registered trademark of the same company.) 188 parts (1 mole part) ”except that it was changed to“ 188 parts (1 mole part) ”, except that methyl ethyl ketone was used in a theoretical amount of 80% in the heating residue. ), A methyl ethyl ketone solution of the acryloyl group-containing urethane oligomer (a12) was obtained.
The acryloyl group-containing urethane oligomer (a12) contains 29% (in the heating residue) of (meth) acrylate (a21) (pentaerythritol tetraacrylate) that does not participate in the urethanization reaction.

<製造例3>
4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(水添MDI)の使用量を「262部(1モル部)」から「524部(2モル部)」に変更したこと、さらに「ポリプロピレングリコール(商品名:ニューポールPP−400、三洋化成工業株式会社製、「ニューポール」は同社の登録商標である。)395部(1モル部)」を追加したこと以外、製造例1と同様にして(ただし、メチルエチルケトンは加熱残分で80%となる理論量を使用した。)、アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a13)のメチルエチルケトン溶液を得た。
なお、アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a13)は、ウレタン化反応に関与しない(メタ)アクリレート(a21)(ペンタエリスリトールテトラアクリレート)を13%含有(加熱残分中)する。
<Production Example 3>
The amount of 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI) was changed from “262 parts (1 mole part)” to “524 parts (2 mole parts)”, and “polypropylene glycol (trade name: New) Paul PP-400, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., “New Pole” is a registered trademark of the same company.) 395 parts (1 mole part) ”was added in the same manner as in Production Example 1 except that methyl ethyl ketone was used. Used a theoretical amount of 80% in the heating residue.), And a methyl ethyl ketone solution of the acryloyl group-containing urethane oligomer (a13) was obtained.
The acryloyl group-containing urethane oligomer (a13) contains 13% (in the heating residue) of (meth) acrylate (a21) (pentaerythritol tetraacrylate) that does not participate in the urethanization reaction.

<製造例4>
4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(水添MDI)の使用量を「262部(1モル部)」から「786部(3モル部)」に変更したこと、さらに「グリセリンプロピレンオキシド付加体(商品名:サンニックスGP−3000、三洋化成工業株式会社製、「サンニックス」は三洋化成工業株式会社の登録商標である。)3010部(1モル部)」を追加したこと、「ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレート(hm1)826部(含有するヒドロキシ基2モル部)」を「ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレート(hm2){ヒドロキシエチルアクリレート、商品名:HEA、大阪有機化学工業株式会社製}348部(3モル部)」に変更したこと以外、製造例1と同様にして(ただし、メチルエチルケトンは加熱残分で80%となる理論量を使用した。)、アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(c14)のメチルエチルケトン溶液を得た。
<Production Example 4>
The amount of 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI) was changed from “262 parts (1 mole part)” to “786 parts (3 mole parts)”, and “glycerin propylene oxide adduct (product) Name: SANNICS GP-3000, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., “SANNICS” is a registered trademark of Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 3010 parts (1 mole part) ”,“ hydroxy group-containing ( 826 parts (hydroxy group-containing (meth) acrylate (hm2) {hydroxyethyl acrylate, trade name: HEA, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.}) (3 parts by mole) "except that it was changed to" 3 parts by mole ", except that methyl ethyl ketone was 80% in the heating residue. The methyl ethyl ketone solution of the acryloyl group-containing urethane oligomer (c14) was obtained.

<製造例5>
「4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(水添MDI)262部(1モル部)」を「イソホロンジイソシアネート(IPDI)(商品名:IPDI、パーストープ社製)222部(1モル部)」に変更したこと以外、製造例1と同様にして(ただし、メチルエチルケトンは加熱残分で80%となる理論量を使用した。)、アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a24)のメチルエチルケトン溶液を得た。
なお、アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a24)は、ウレタン化反応に関与しない(メタ)アクリレート(a21)(ペンタエリスリトールテトラアクリレート)を28%含有(加熱残分中)する。
<Production Example 5>
"262 parts (1 mole part) of 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI)" was changed to "isophorone diisocyanate (IPDI) (trade name: IPDI, manufactured by Perstorp) 222 parts (1 mole part)" Except for this, a methyl ethyl ketone solution of the acryloyl group-containing urethane oligomer (a24) was obtained in the same manner as in Production Example 1 (however, methyl ethyl ketone was used in a theoretical amount of 80% in the heating residue).
The acryloyl group-containing urethane oligomer (a24) contains 28% (in the heating residue) of (meth) acrylate (a21) (pentaerythritol tetraacrylate) that does not participate in the urethanization reaction.

<製造例6>
加熱、攪拌、冷却、滴下、加圧及び減圧の可能な反応容器に、蔗糖{商品名;スクロース、和光純薬工業株式会社製、1級}342部(1モル部)及びジメチルホルムアミド(DMF){三菱ガス化学株式会社製}1000部を均一混合した後、窒素ガスを用いて、ゲージ圧で0.4MPaになるまで加圧し0.02MPaになるまで排出する操作(以下、この窒素ガスを用いた操作を加圧窒素置換と略する。)を3回繰り返した。その後、攪拌しつつ100℃まで昇温し、同温度にてプロピレンオキシド(PO)4350部(75モル部)を4時間かけて滴下した後、同温度にて30分間攪拌を続けて残存するPOを反応させた。次いで120℃まで加熱し、同温度に保持しながら0.01〜0.1MPaの減圧下にてDMFを留去し、次いで90℃に冷却し、イオン交換水20部を加えた後、合成無機吸着剤{キョーワード700、協和化学工業株式会社製、「キョワード」は同社の登録商標である。}100部を加え、同温度にて1時間攪拌した。次いで同温度にてNo.2濾紙{東洋濾紙株式会社製}を用いて濾過して合成無機吸着剤を取り除き、さらに0.01〜0.02MPaの減圧下120℃にて1時間脱水して、ポリオキシアルキレン化合物(b11)(蔗糖/PO75モル付加体)を得た。
<Production Example 6>
In a reaction vessel capable of heating, stirring, cooling, dripping, pressurizing and depressurizing, sucrose {trade name; sucrose, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., first grade} 342 parts (1 mol part) and dimethylformamide (DMF) {Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.} After uniformly mixing 1000 parts, using nitrogen gas, pressurize to 0.4 MPa with gauge pressure and discharge to 0.02 MPa (hereinafter, this nitrogen gas is used) The operation was abbreviated as pressurized nitrogen replacement.) Was repeated three times. Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C. while stirring, 4350 parts (75 mole parts) of propylene oxide (PO) was added dropwise at the same temperature over 4 hours, and stirring was continued for 30 minutes at the same temperature to leave the remaining PO. Was reacted. Next, the mixture was heated to 120 ° C., while maintaining the same temperature, DMF was distilled off under reduced pressure of 0.01 to 0.1 MPa, then cooled to 90 ° C., 20 parts of ion-exchanged water was added, and then synthetic inorganic Adsorbent {KYOWARD 700, manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd., "KYOWARD" is a registered trademark of the company. } 100 parts were added and stirred at the same temperature for 1 hour. Next, at the same temperature, no. 2 filter paper {manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd.} to remove the synthetic inorganic adsorbent, and further dehydrated at 120 ° C. under reduced pressure of 0.01 to 0.02 MPa for 1 hour to obtain a polyoxyalkylene compound (b11) (Sucrose / PO75 mol adduct) was obtained.

<製造例7>
製造例6と同様な反応容器に、蔗糖342部(1モル部)及びDMF1000部を均一混合した後、窒素ガスを用いて、加圧窒素置換を3回繰り返した。その後、攪拌しつつ100℃まで昇温し、同温度にてプロピレンオキシド(PO)1740部(30モル部)を4時間かけて滴下した後、同温度にて30分間攪拌を続けて残存するPOを反応させた。ついで、同温度でブチレンオキシド(BO)360部(5モル部)を2時間かけて滴下した後、4時間攪拌を続けて残存するBOを反応させた。次いで120℃まで加熱し、同温度に保持しながら0.01〜0.1MPaの減圧下にてDMFを留去し、次いで90℃に冷却し、イオン交換水20部を加えた後、合成無機吸着剤100部を加え、同温度にて1時間攪拌した。次いで同温度にてNo.2濾紙{東洋濾紙株式会社製}を用いて濾過して合成無機吸着剤を取り除き、さらに0.01〜0.02MPaの減圧下120℃にて1時間脱水して、ポリオキシアルキレン化合物(b12)(蔗糖/PO30モル・BO5モル付加体)を得た。
<Production Example 7>
In a reaction vessel similar to Production Example 6, 342 parts (1 mole part) of sucrose and 1000 parts of DMF were uniformly mixed, and then nitrogen replacement was repeated three times using nitrogen gas. Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C. with stirring, and 1740 parts (30 mole parts) of propylene oxide (PO) was added dropwise at the same temperature over 4 hours, and then stirring was continued for 30 minutes at the same temperature to leave the remaining PO. Was reacted. Subsequently, 360 parts (5 mole parts) of butylene oxide (BO) was added dropwise at the same temperature over 2 hours, and then the remaining BO was reacted by continuing stirring for 4 hours. Next, the mixture was heated to 120 ° C., while maintaining the same temperature, DMF was distilled off under reduced pressure of 0.01 to 0.1 MPa, then cooled to 90 ° C., 20 parts of ion-exchanged water was added, and then synthetic inorganic 100 parts of adsorbent was added and stirred at the same temperature for 1 hour. Next, at the same temperature, no. 2 filter paper {manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd.} to remove the synthetic inorganic adsorbent, and further dehydrated at 120 ° C. under reduced pressure of 0.01 to 0.02 MPa for 1 hour to obtain a polyoxyalkylene compound (b12) (Sucrose / PO 30 mol · BO 5 mol adduct) was obtained.

<製造例8>
加熱、冷却、攪拌及び密閉が可能な耐圧反応容器に、製造例5で得たポリオキシアルキレン化合物(b11)469部(0.1モル部)を仕込み、1.3〜2.7Paの減圧下100℃にて1時間脱水した。ついで50℃まで冷却後、ジイソシアネート(di1)12部(0.07モル部)を加え、加圧窒素置換を3回繰り返した。その後、攪拌しつつ1時間で120℃まで昇温し、同温度にて12時間攪拌を続けた後にイソシアネート基含有率が0.2%となるのを確認して、反応物(b21)を得た。
<Production Example 8>
469 parts (0.1 mol part) of the polyoxyalkylene compound (b11) obtained in Production Example 5 was charged into a pressure-resistant reaction vessel capable of heating, cooling, stirring and sealing, and the pressure was reduced from 1.3 to 2.7 Pa. Dehydrated at 100 ° C. for 1 hour. Then, after cooling to 50 ° C., 12 parts (0.07 mol part) of diisocyanate (di1) was added, and the pressure nitrogen substitution was repeated three times. Thereafter, the temperature was raised to 120 ° C. over 1 hour while stirring, and after stirring for 12 hours at the same temperature, it was confirmed that the isocyanate group content was 0.2%, and a reaction product (b21) was obtained. It was.

<製造例9>
製造例8と同様な反応容器に、ポリプロピレングリコール(商品名:サンニックスPP−1000、三洋化成工業株式会社製)50部(0.05モル部)及びIPDI24部(0.11モル部)を仕込み加圧窒素置換を3回繰り返した。その後、攪拌しつつ1時間で110℃まで昇温し、さらに5時間攪拌を続けて、ジイソシアネートプレポリマーを得た。引き続き、ジイソシアネートプレポリマーを80℃まで冷却し、製造例7で得たポリオキシアルキレン化合物(b12)(蔗糖/PO30モル・BO5モル付加体)293部(0.12モル部)を加え、攪拌しつつ1時間で120℃まで昇温し、さらに12時間攪拌を続けた後にイソシアネート基含有率が0.2%となるのを確認して、反応物(b22)を得た。
<Production Example 9>
In a reaction vessel similar to Production Example 8, 50 parts (0.05 mole part) of polypropylene glycol (trade name: Sannix PP-1000, manufactured by Sanyo Chemical Industries Ltd.) and 24 parts (0.11 mole part) of IPDI are charged. The pressurized nitrogen substitution was repeated 3 times. Then, it heated up to 110 degreeC in 1 hour, stirring, and also continued stirring for 5 hours, and obtained the diisocyanate prepolymer. Subsequently, the diisocyanate prepolymer was cooled to 80 ° C., and 293 parts (0.12 mol part) of the polyoxyalkylene compound (b12) (sucrose / PO 30 mol · BO 5 mol adduct) obtained in Production Example 7 was added and stirred. Then, the temperature was raised to 120 ° C. over 1 hour, and after further stirring for 12 hours, it was confirmed that the isocyanate group content was 0.2% to obtain a reaction product (b22).

<実施例1>
攪拌羽及びモーター付ステンレス製配合槽に、製造例1で作成したアクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a11)のメチルエチルケトン溶液50部(加熱残分として40部)、(メタ)アクリレート(a22){ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物、商品名:ネオマーDA600、三洋化成工業株式会社製(「ネオマー」は同社の登録商標である。)}55部、光重合開始剤(a31){1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、商品名:イルガキュア184、BASF社製(「イルガキュア」はチバ ホールディング インコーポレーテッド社の登録商標である。)}5部、製造例6で得たポリアキシアルキレン化合物(b11)2部、製造例7得た反応物(b21)1部及び溶剤(f1){メチルエチルケトン}143部(加熱残分が40%となる理論値)を仕込み、40℃で1時間混合し、その後、加熱残分を測定し加熱残分が40%となるよう溶剤(f1)で調整し、保留粒子径2μmのろ紙{東洋濾紙株式会社製、PF020}でろ過することにより本発明の放射線硬化性組成物(1)を得た。
<Example 1>
50 parts of methylethylketone solution of acryloyl group-containing urethane oligomer (a11) prepared in Production Example 1 (40 parts as heating residue), (meth) acrylate (a22) {dipentaerythritol Mixture of hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate, trade name: Neomer DA600, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd. (“Neomer” is a registered trademark of the same company)} 55 parts, photopolymerization initiator (a31) {1- Hydroxycyclohexyl phenyl ketone, trade name: Irgacure 184, manufactured by BASF (“Irgacure” is a registered trademark of Ciba Holding Inc.)} 5 parts, polyaxoxyalkylene compound (b11) obtained in Production Example 6 2 parts , Reaction product obtained in Production Example 7 (b21 1 part and 143 parts of a solvent (f1) {methyl ethyl ketone} (theoretical value that the heating residue becomes 40%) are mixed and mixed at 40 ° C. for 1 hour, and then the heating residue is measured and the heating residue is 40%. The radiation curable composition (1) of the present invention was obtained by adjusting with a solvent (f1) and filtering with a filter paper having a retention particle diameter of 2 μm {PF020 manufactured by Toyo Roshi Kaisha, Ltd.}.

<実施例2〜7>
「アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a11)のメチルエチルケトン溶液50部(加熱残分として40部)」「(メタ)アクリレート(a22)55部」、「光重合開始剤(a31)5部」、「ポリオキシアキシレン化合物(b11)2部」、「反応物(b21)1部」を、表1に示したもの{アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(A1)、(メタ)アクリレート(A2)、ポリオキシアルキレン化合物(B1)、反応物(B2)}及び使用量(部)にそれぞれ変更したこと、並びに実施例5〜7において表1に示したフィラー(C)の分散体及び使用量(部)(使用量は加熱残分で表示した)を使用したこと以外、実施例1と同様にして、本発明の放射線硬化性組成物(2)〜(7)を得た。また、「溶剤(f1)」に関しては、加熱残分が40%となる量を使用した。なお、表1の記載は加熱残分としての値を示した。
<Examples 2 to 7>
“Methyl ethyl ketone solution 50 parts of acryloyl group-containing urethane oligomer (a11) (40 parts as heating residue)” “55 parts of (meth) acrylate (a22)”, “5 parts of photopolymerization initiator (a31)”, “Polyoxy Axylene compound (b11) 2 parts "," reactant (b21) 1 part "shown in Table 1 {acryloyl group-containing urethane oligomer (A1), (meth) acrylate (A2), polyoxyalkylene compound ( B1), the reactant (B2)} and the amount used (parts) were changed, respectively, and the dispersion of filler (C) and the amount used (parts) shown in Table 1 in Examples 5 to 7 (the amount used was The radiation-curable compositions (2) to (7) of the present invention were obtained in the same manner as in Example 1 except that (indicated by the heating residue) was used. In addition, regarding the “solvent (f1)”, the amount that the heating residue was 40% was used. In addition, description of Table 1 showed the value as a heating residue.

<実施例8>
攪拌羽及びモーター付ステンレス製配合槽に、アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a11)のメチルエチルケトン溶液50部(加熱残分として40部)、(メタ)アクリレート(a22)55部、光重合開始剤(a31)5部、ポリアキシアルキレン化合物(b12)1部、反応物(b22)1部、ポリオキシアルキレン変性シリコーン(d1)0.1部及び溶剤(f1)143部(加熱残分が40%となる理論値)を仕込み、40℃で1時間混合し保留粒子径2μmのろ紙{東洋濾紙株式会社製、PF020}でろ過して混合物を得た。その後、この混合物を25℃に温調し、フィラー(c4){アクリルフィラー、商品名:GM−1015、体積平均粒子径2μm、アイカ工業株式会社製}10部を加えて、ディゾルバーにて15分間混合分散して分散液を得た。その後、分散液の加熱残分を測定し、加熱残分が40%となるようメチルエチルケトンで調整し、目開き45μmのステンレス製金網でろ過して、本発明の放射線硬化型組成物(8)を得た。
<Example 8>
In a mixing vessel made of stainless steel with a stirring blade and a motor, 50 parts of methylethylketone solution of acryloyl group-containing urethane oligomer (a11) (40 parts as a heating residue), 55 parts of (meth) acrylate (a22), photopolymerization initiator (a31) 5 parts, 1 part of polyaxoxyalkylene compound (b12), 1 part of reactant (b22), 0.1 part of polyoxyalkylene-modified silicone (d1) and 143 parts of solvent (f1) (theoretical heating residue is 40%) Value), mixed at 40 ° C. for 1 hour, and filtered through a filter paper with a reserved particle diameter of 2 μm (manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd., PF020) to obtain a mixture. Thereafter, the temperature of the mixture was adjusted to 25 ° C., and 10 parts of filler (c4) {acrylic filler, trade name: GM-1015, volume average particle size 2 μm, manufactured by Aika Industry Co., Ltd.} was added, and 15 minutes in a dissolver. A dispersion was obtained by mixing and dispersing. Thereafter, the heating residue of the dispersion was measured, adjusted with methyl ethyl ketone so that the heating residue was 40%, filtered through a stainless steel mesh with an opening of 45 μm, and the radiation curable composition (8) of the present invention was obtained. Obtained.

<実施例9>
「アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a11)40部」を「アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a11)40部」及び「アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a14)30部」に変更したこと、「ポリアキシアルキレン化合物(b12)1部」を「ポリアキシアルキレン化合物(b11)1部」に変更したこと、「反応物(b22)1部」を「反応物(b21)1部」に変更したこと、「フィラー(c4)10部」を「フィラー(c5)20部」に変更したこと以外、実施例8と同様にして本発明の放射線硬化性組成物(9)を得た。
<Example 9>
“Acryloyl group-containing urethane oligomer (a11) 40 parts” was changed to “acryloyl group-containing urethane oligomer (a11) 40 parts” and “acryloyl group-containing urethane oligomer (a14) 30 parts”, “polyoxyalkylene compound (b12) ) 1 part "was changed to" 1 part of polyaxoxyalkylene compound (b11) "," Reactant (b22) 1 part "was changed to" Reactant (b21) 1 part "," Filler (c4) A radiation-curable composition (9) of the present invention was obtained in the same manner as in Example 8, except that “10 parts” was changed to “20 parts of filler (c5)”.

Figure 2014091786
Figure 2014091786

表1中の各成分は以下の通りである。   Each component in Table 1 is as follows.

a11:製造例1で作成したアクリロイル基含有ウレタンオリゴマー{(メタ)アクリレート(a21)(ペンタエリスリトールペンタアクリレート)を27%含有する}
a12:製造例2で作成したアクリロイル基含有ウレタンオリゴマー{(メタ)アクリレート(a21)(ペンタエリスリトールペンタアクリレート)を29%含有する}
a13:製造例3で作成したアクリロイル基含有ウレタンオリゴマー{(メタ)アクリレート(a21)(ペンタエリスリトールペンタアクリレート)を13%含有する}
a14:製造例4で作成したアクリロイル基含有ウレタンオリゴマー
a11: Acrylyl group-containing urethane oligomer prepared in Production Example 1 {contains 27% of (meth) acrylate (a21) (pentaerythritol pentaacrylate)}
a12: Acrylyl group-containing urethane oligomer prepared in Production Example 2 {containing (meth) acrylate (a21) (pentaerythritol pentaacrylate) 29%}
a13: Acrylyl group-containing urethane oligomer prepared in Production Example 3 {containing (meth) acrylate (a21) (pentaerythritol pentaacrylate) 13%}
a14: Acrylyl group-containing urethane oligomer prepared in Production Example 4

a22:(メタ)アクリレート{ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物、三洋化成工業株式会社製ネオマーDA600}
a23:(メタ)アクリレート{トリシクロデカンジメチロールジアクリレート、共栄社化学株式会社製ライトアクリレートDCP−A}
a24:製造例5で作成した(メタ)アクリレート{水添MDI及び水添XDIを構成成分としていないアクリロイル基含有ウレタンオリゴマー、(メタ)アクリレート(a21)を28%含有する}
a22: (meth) acrylate {mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate, Neomer DA600 manufactured by Sanyo Chemical Industries Ltd.}
a23: (meth) acrylate {tricyclodecane dimethylol diacrylate, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. light acrylate DCP-A}
a24: (Meth) acrylate prepared in Production Example 5 {acryloyl group-containing urethane oligomer not containing hydrogenated MDI and hydrogenated XDI as a constituent component, containing 28% of (meth) acrylate (a21)}

a31:光重合開始剤{1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、BASF社製イルガキュア184} a31: Photopolymerization initiator {1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, Irgacure 184 manufactured by BASF Corporation}

b11:製造例6で作成したポリオキシアルキレン化合物
b12:製造例7で作成したポリオキシアルキレン化合物
b11: Polyoxyalkylene compound prepared in Production Example 6 b12: Polyoxyalkylene compound prepared in Production Example 7

b21:製造例6で作成したポリオキシアルキレン化合物(b11)と1,6−ヘキサンジイソシアネートとの反応物
b22:製造例7で作成したポリオキシアルキレン化合物(b12)、IPDI及びポリプロピレングリコールとの反応物
b21: Reaction product of polyoxyalkylene compound (b11) prepared in Preparation Example 6 and 1,6-hexane diisocyanate b22: Reaction product of polyoxyalkylene compound (b12) prepared in Preparation Example 7, IPDI and polypropylene glycol

c1:無機フィラー{シリカフィラーのメチルエチルケトン分散液(加熱残分30%)、日産化学工業株式会社製MEK−ST、体積平均粒子径15nm}
c2:無機フィラー{シリカのイソプロピルアルコール分散液(加熱残分30%)、日産化学工業株式会社製IPA−ST−Z、体積平均粒子径90nm}
c3:無機フィラー{リンドープ酸化錫フィラーのイソプロピルアルコール分散液(加熱残分20%)日産化学工業株式会社製セルナックスCX−S204IP、体積平均粒子径12n}
c4:有機フィラー{アクリルフィラー、アイカ工業株式会社製GM−1015、体積平均粒子径2μm}
c5:有機フィラー{ポリエチレンフィラー、ハネウェル社製アクミストB−6、体積平均粒子径6μm、「アクミスト」はハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド社の登録商標である。}
c1: Inorganic filler {silica filler methyl ethyl ketone dispersion (heating residue 30%), Nissan Chemical Industries, Ltd. MEK-ST, volume average particle size 15 nm}
c2: inorganic filler {silica isopropyl alcohol dispersion (heating residue 30%), IPA-ST-Z manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., volume average particle size 90 nm}
c3: Inorganic filler {Isopropyl alcohol dispersion of phosphorus-doped tin oxide filler (heated residue 20%), Cellulax CX-S204IP, Nissan Chemical Industries, Ltd., volume average particle size 12n}
c4: Organic filler {acrylic filler, GM-1015 manufactured by Aika Industry Co., Ltd., volume average particle diameter 2 μm}
c5: Organic filler {polyethylene filler, Honeywell Acumist B-6, volume average particle diameter 6 μm, “Acmist” is a registered trademark of Honeywell International Inc. }

d1:分岐型ポリオキシアルキレン変性シリコーン{東レダウコーニング株式会社製Fz−2110} d1: Branched polyoxyalkylene-modified silicone {Fz-2110 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.}

<比較例1{特開2009−104054号公報に記載された実施例に相当する例}>
攪拌羽及びモーター付ステンレス製配合槽に、製造例1で作成したアクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a11)のメチルエチルケトン溶液50部(加熱残分として40部)、(メタ)アクリレート(a22){ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物}55部、光重合開始剤(a31){1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン}5部、フッ素化アルキル基を有するアクリレート(商品名:メガファックRS−75、DIC株式会社製、加熱残分40%(メチルエチルケトン/メチルイソブチルケトン=93/7(%/%)溶液(「メガファック」は同社の登録商標である。))12.5部(加熱残分として5部)及び溶剤(f1){メチルエチルケトン}140部(加熱残分が40%となる理論値)仕込み、40℃で1時間混合し、その後加熱残分を測定し加熱残分が40%となるよう溶剤(f1)で調整し、保留粒子径2μmのろ紙{東洋濾紙株式会社製、PF020}でろ過することにより比較用の放射線硬化性組成物(H1)を得た。
<Comparative Example 1 {an example corresponding to the example described in Japanese Patent Laid-Open No. 2009-104054}>
50 parts of methylethylketone solution of acryloyl group-containing urethane oligomer (a11) prepared in Production Example 1 (40 parts as heating residue), (meth) acrylate (a22) {dipentaerythritol Mixture of hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate} 55 parts, photopolymerization initiator (a31) 5 parts of {1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone}, acrylate having a fluorinated alkyl group (trade name: Megafax RS-75, DIC) 12.5 parts of heating residue 40% (methyl ethyl ketone / methyl isobutyl ketone = 93/7 (% /%) solution (“MegaFac” is a registered trademark of the company)) manufactured by Co., Ltd. Parts) and solvent (f1) {methyl ethyl ketone} 140 parts (Theoretical value that the heat residue becomes 40%) and mixed at 40 ° C. for 1 hour, and then the heating residue is measured and adjusted with the solvent (f1) so that the heating residue becomes 40%. A comparative radiation-curable composition (H1) was obtained by filtering with filter paper {Toyo Filter Paper Co., Ltd., PF020}.

<比較例2、3>
「アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(a11)のメチルエチルケトン溶液50部」「(メタ)アクリレート(a22)55部」、「光重合開始剤(a31)5部」、「反応物(b21)2部」を、表2に示したもの及び使用量(部)に変更したこと以外、実施例1と同様にして、比較用の放射線硬化性組成物(2)(3)を得た。
溶剤(f1)に関しては、加熱残分が40%となる量を使用した。
なお、表2の記載は加熱残分としての値を示した。
<Comparative Examples 2 and 3>
“50 parts of methyl ethyl ketone solution of acryloyl group-containing urethane oligomer (a11)”, “55 parts of (meth) acrylate (a22)”, “5 parts of photopolymerization initiator (a31)”, “2 parts of reactant (b21)” Comparative radiation curable compositions (2) and (3) were obtained in the same manner as in Example 1 except that the amounts shown in Table 2 and the amounts used (parts) were changed.
With respect to the solvent (f1), an amount such that the heating residue was 40% was used.
In addition, description of Table 2 showed the value as a heating residue.

Figure 2014091786
Figure 2014091786

実施例及び比較例で得た放射線硬化性組成物について、以下のようにして、指紋拭き取り性、リコート性及び耐久性について評価し、これらの評価結果を表3に示した。   The radiation curable compositions obtained in Examples and Comparative Examples were evaluated for fingerprint wiping property, recoatability and durability as follows, and the evaluation results are shown in Table 3.

<評価用試料の調製>
易接着処理ポリエステルフィルム{東洋紡績株式会社製、品番A4100、厚み100μm}を30cm(縦)×15cm(横)角に切り出し、塗工面をイソプロピルアルコールで拭き取り、イソプロピルアルコールを乾燥して、被塗工用のプラスチックベースフィルムを用意した。次いで、JIS K5101−4:2004「顔料試験方法−第4部:隠ぺい力−隠ぺい率試験紙法−4.装置及び器具、(d)バーコーター」と同等のバーコーター(No.12:ステンレス綱径0.30mm)を用いて、評価試料(放射線硬化性組成物)を被塗工用のプラスチックベースフィルムに、テスター産業株式会社製自動塗工装置PI−1210を用い、100mm/秒の塗工速度で、プラスチックベースフィルムの縦方向へ塗工した後、塗工面が水平になるようにして塗工フィルムを、循風式乾燥機内で80℃で1分間加熱乾燥し、塗工面に紫外線(高圧水銀灯、300mJ/cm)を塗工面に対して垂直に照射した。
その後、指紋拭き取り性、リコート性及び耐久性の評価用として、10cm×10cm角に切り出し、評価用試料を調製した。
<Preparation of sample for evaluation>
Easy-adhesion-treated polyester film {manufactured by Toyobo Co., Ltd., product number A4100, thickness 100 μm} is cut into 30 cm (length) x 15 cm (width) corners, the coated surface is wiped with isopropyl alcohol, isopropyl alcohol is dried, and coating is performed. A plastic base film was prepared. Next, a bar coater equivalent to JIS K5101-4: 2004 “Pigment test method—Part 4: Hiding power—Hiding rate test paper method—4. Apparatus and instrument, (d) Bar coater” (No. 12: Stainless steel Using an automatic coating apparatus PI-1210 manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd., an evaluation sample (radiation curable composition) is applied to a plastic base film for coating using a diameter 0.30 mm). After coating in the longitudinal direction of the plastic base film at a high speed, the coated film is heated and dried at 80 ° C. for 1 minute in a circulating drier so that the coated surface is horizontal, and ultraviolet light (high pressure) is applied to the coated surface. A mercury lamp, 300 mJ / cm 2 ) was irradiated perpendicularly to the coated surface.
Then, for evaluation of fingerprint wiping property, recoating property and durability, a 10 cm × 10 cm square was cut out to prepare an evaluation sample.

<指紋拭き取り性>
評価用試料(各5枚)の塗工面に、無作為に5人の試験者の親指を押しつけて塗工面に指紋を付着させた後(1人/1枚)、指紋の付いた試料を試料台に取り付け、付着した指紋を株式会社井元製作所製ラビングテスターB1052の加重腕に日本薬局タイプIの脱脂綿を取り付け、500g/cmの荷重をかけながら試料台を移動させてて拭き取り、指紋の跡が見えなくなるまで試料台の往復回数を測定し、評価用試料5枚の算術平均を指紋拭き取り性とした(拭き取り性が30以上の場合は回数の欄に『−』で表示した。)。数値が小さいほど指紋拭き取り性に優れることを意味する。
<Fingerprint wiping>
Randomly press the thumbs of five testers against the coated surface of the sample for evaluation (5 sheets each) to attach a fingerprint to the coated surface (1 person / sheet), then sample the sample with the fingerprint. Attached to the table, the attached fingerprint is attached to a weighted arm of a rubbing tester B1052 manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd. A Japanese pharmacy type I absorbent cotton is attached, and the sample stage is moved while applying a load of 500 g / cm 2 and wiped off. The number of reciprocations of the sample stage was measured until no longer visible, and the arithmetic average of the five samples for evaluation was defined as the fingerprint wiping property (when the wiping property was 30 or more, “−” was displayed in the number column). The smaller the value, the better the fingerprint wiping property.

指紋拭き取り性の評価は以下でおこない、評価は◎、○、△及び×で記載した。
◎:10回以下(指紋拭き取り性に非常に優れる)
○:11〜15回(指紋拭き取り性に優れる)
△:16〜30回(指紋拭き取り性がやや劣る)
×:30回を超える(指紋拭き取り性に劣る)
The fingerprint wiping property was evaluated as follows, and the evaluation was indicated by ◎, ○, Δ, and ×.
◎: 10 times or less (very good fingerprint wiping performance)
○: 11-15 times (Excellent fingerprint wiping)
Δ: 16-30 times (fingerprint wiping property is slightly inferior)
×: More than 30 times (inferior to fingerprint wiping)

<リコート性>
ゼブラ(株)製ハイマッキー(油性マーカー、6mm巾、4色;黒、赤、青及び黄色)を用いて、評価用試料の塗工面に直線を5cmの長さ、約1.5cm間隔で各色1本づつ引き、この直線について、次の基準に従って評価した。
<Recoatability>
Using Zebra Co., Ltd. Himacky (oil-based marker, 6 mm wide, 4 colors; black, red, blue and yellow), a straight line is 5 cm long and approximately 1.5 cm apart on the coated surface of the sample for evaluation. Each line was drawn, and this straight line was evaluated according to the following criteria.

◎: はじきがない(リコート性に非常に優れる)
○: 1〜2ヶ所にはじきを確認できた(リコート性に優れる)
△: 3ヶ所以上にはじき又は線の端の一部欠けていた(リコート性がやや劣る)
▲: 線の端が全て欠けていた(リコート性に劣る)
×: 線として残っていなかった(リコート性に著しく劣る)
A: No repelling (excellent recoatability)
○: Repelling could be confirmed at one or two places (excellent recoatability)
Δ: Flick or part of line end was missing at 3 or more locations (recoatability is slightly inferior)
▲: All ends of the line were missing (inferior in recoatability)
×: Not remained as a line (remarkably inferior in recoatability)

<耐久性>
評価用試料(各5枚)を、60℃×95RH%環境下96時間保管し、上述の指紋拭き取り試験を実施した(拭き取り性が60以上の場合は『−』を表示した。)。
指紋拭き取り性試験と比較して、往復回数(算術平均)の増加回数で評価した。
<Durability>
Samples for evaluation (5 sheets each) were stored for 96 hours in an environment of 60 ° C. × 95 RH%, and the above-described fingerprint wiping test was performed (“−” was displayed when the wiping property was 60 or more).
Compared with the fingerprint wiping property test, the number of times of reciprocation (arithmetic mean) was increased.

耐久性の評価は以下でおこない、評価は◎、○、△、▲及び×で記載した。
◎:増加回数が2回以下(耐久性が非常に優れる)
○:増加回数が3〜5回(耐久性が優れる)
△:増加回数が6〜10回(耐久性がやや劣る)
▲:増加回数が11〜20回(耐久性が劣る)
×:増加回数が20回を超える(耐久性が不良)
The durability was evaluated as follows, and the evaluation was indicated by ◎, ○, Δ, ▲ and ×.
A: Increased number of times is 2 or less (excellent durability)
○: Increased 3 to 5 times (excellent durability)
Δ: Increased 6 to 10 times (durability is slightly inferior)
▲: Increased 11 to 20 times (durability is inferior)
X: Increase number exceeds 20 times (durability is poor)

総合評価として、以下の評価をおこなった。
全ての評価が◎及び○であり、
◎が2〜3個のものを、非常に優れる(◎)
◎が1〜0個のものを、優れる(○)
評価に▲及び×があるものは、劣る(×)とした。
The following evaluation was performed as a comprehensive evaluation.
All evaluations are ◎ and ○,
◎ is very good with 2 or 3 (◎)
Excellent ◎ is 1 to 0 (○)
Those with ▲ and × in the evaluation were considered inferior (×).

Figure 2014091786
Figure 2014091786

本発明の放射線硬化性組成物(実施例1〜9)は、比較例1の放射線硬化性組成物に比べリコート性に優れ、比較例2及び3の放射線硬化性組成物に比べ耐久性が優れ、比較例3の放射線硬化性組成物に比べ指紋拭き取り性が優れていた。   The radiation curable compositions of the present invention (Examples 1 to 9) are superior in recoatability compared to the radiation curable composition of Comparative Example 1, and superior in durability to the radiation curable compositions of Comparative Examples 2 and 3. The fingerprint wiping property was superior to the radiation curable composition of Comparative Example 3.

本発明の放射線硬化性組成物は、木材、石、ガラス、コンクリート、金属、プラスチック及び金属蒸着プラスチック等のコーティング剤として使用することができる。さらに、3次元造形用硬化性コーティング組成物として成形体にすることもできる。これらのうち、プラスチック及び金属蒸着プラスチック等のコーティング剤として適しており、特にプラスチックのコーティング剤として好適である。プラスチックのコーティング剤のうち、指紋の拭き取り性に優れたプラスチックフィルム用コーティング剤として最適である。
The radiation curable composition of the present invention can be used as a coating agent for wood, stone, glass, concrete, metal, plastic, metal-deposited plastic and the like. Furthermore, it can also be set as a molded object as a three-dimensional modeling curable coating composition. Among these, it is suitable as a coating agent for plastics and metal-deposited plastics, and is particularly suitable as a coating agent for plastics. Among plastic coating agents, it is optimal as a coating agent for plastic films with excellent fingerprint wiping properties.

Claims (4)

4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート及び/又はビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサンとヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートとを構成単位としてなる(メタ)アクリロイル基含有ウレタンオリゴマー(A1)を含有する硬化性樹脂(A)と、
一般式(1)で表されるポリオキシアルキレン化合物(B1)、並びに/又はこのポリオキシアルキレン化合物(B1)及びジイソシアネートの反応物(B2)と
を含有してなることを特徴とする放射線硬化性組成物。

{H-(OX)ni-}mQ (1)

Qは非還元性の二又は三糖類のm個の1級水酸基から水素原子を除いた反応残基、OXはオキシアルキレン基、Hは水素原子、niは0〜100の整数、mは2〜4の整数、iは1〜mの整数を表し、m個のniは同じでも異なってもよいが少なくとも1個は1以上であり、OXの総数(Σni×m)は20〜100の整数である。
A curable resin containing a (meth) acryloyl group-containing urethane oligomer (A1) comprising 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate and / or bis (isocyanatomethyl) cyclohexane and a hydroxy group-containing (meth) acrylate as structural units ( A) and
A radiation curable product comprising the polyoxyalkylene compound (B1) represented by the general formula (1) and / or a reaction product (B2) of the polyoxyalkylene compound (B1) and diisocyanate. Composition.

{H- (OX) ni-} mQ (1)

Q is a reaction residue obtained by removing a hydrogen atom from m primary hydroxyl groups of a non-reducing di- or trisaccharide, OX is an oxyalkylene group, H is a hydrogen atom, ni is an integer of 0 to 100, m is 2 to 2 An integer of 4, i represents an integer of 1 to m, and m ni may be the same or different, but at least one is 1 or more, and the total number of OX (Σni × m) is an integer of 20 to 100 is there.
さらに、フィラー(C)を含有する請求項1に記載の放射線硬化性組成物。 Furthermore, the radiation curable composition of Claim 1 containing a filler (C). さらに、ポリオキシアルキレン変性シリコーン(D)を含有する請求項1又は2に記載の放射線硬化性組成物。 Furthermore, the radiation curable composition of Claim 1 or 2 containing polyoxyalkylene modified silicone (D). 請求項1〜3のいずれかに記載の放射線硬化性組成物をプラスチックベースフィルムにコーティングし、硬化させて得られることを特徴とするプラスチックフィルム。 A plastic film obtained by coating the radiation curable composition according to claim 1 on a plastic base film and curing the composition.
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