JP4638954B2 - Fingerprint-resistant photocurable composition and painted product provided with fingerprint-resistant coating layer - Google Patents

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Description

本発明は、透明性および耐指紋性に優れた耐指紋性コーティング層を付与することができる耐指紋性光硬化性組成物、およびこの耐指紋性光硬化性組成物から形成される耐指紋性コーティング層が設けられた耐指紋性フィルムおよび塗装物に関する。   The present invention relates to a fingerprint-resistant photocurable composition capable of providing a fingerprint-resistant coating layer having excellent transparency and fingerprint resistance, and fingerprint resistance formed from this fingerprint-resistant photocurable composition The present invention relates to a fingerprint-resistant film provided with a coating layer and a painted product.

液晶表示装置(液晶ディスプレイ)は、近年、コンピュータ、ワードプロセッサ、テレビジョン、携帯電話、携帯情報端末機器、携帯型ゲーム機などといった様々な分野で使用されている。また、画面上の表示を押さえることによって機器を操作する機構を有する、いわゆるタッチパネルディスプレイが急速に普及している。このようなタッチパネルディスプレイは、例えば、銀行ATM、自動販売機、携帯情報端末(PDA)、複写機、ファクシミリ、ゲーム機、博物館およびデパートなどの施設に設置される案内表示装置、カーナビゲーション、マルチメディアステーション(コンビニエンスストアに設置される多機能端末機)、携帯電話、鉄道車両のモニタ装置などにおいて広く用いられている。   In recent years, liquid crystal display devices (liquid crystal displays) are used in various fields such as computers, word processors, televisions, mobile phones, portable information terminal devices, and portable game machines. Also, so-called touch panel displays having a mechanism for operating devices by holding down the display on the screen are rapidly spreading. Such touch panel displays are, for example, bank ATMs, vending machines, personal digital assistants (PDAs), copiers, facsimiles, game machines, museums, department stores, and other guidance display devices, car navigation, multimedia Widely used in stations (multifunctional terminals installed in convenience stores), mobile phones, railway vehicle monitoring devices, and the like.

このような、液晶表示装置、タッチパネルディスプレイなどの光学表示装置については、これらの光学表示装置の表面上に指紋跡がつかない、または指紋跡がついたとしても簡単に拭き取ることができるという、いわゆる耐指紋性が求められている。これらの光学表示装置についてはさらに、使用による擦傷跡が残らないという、耐擦傷性も求められている。特にタッチパネルディスプレイにおいては、ディスプレイ表面に指を触れることによって操作されるため、その表面に皮脂などの脂質成分による指紋跡が多く付着し、そしてこの指紋跡の付着が機器端末の視認性および操作性を妨げるという問題がある。   For such optical display devices such as liquid crystal display devices and touch panel displays, fingerprint marks are not formed on the surface of these optical display devices, or even if fingerprint marks are attached, they can be easily wiped off. Fingerprint resistance is required. These optical display devices are also required to have scratch resistance that does not leave scratch marks due to use. In particular, touch panel displays are operated by touching the display surface with a finger, so that a lot of fingerprint traces due to lipid components such as sebum adhere to the surface, and this fingerprint trace adheres to the visibility and operability of the device terminal. There is a problem of preventing.

さらに近年においては、ディスプレイ表面以外においても、耐指紋性の向上が求められている。例えば携帯電話などにおいては、意匠性およびデザイン性の向上の観点から、金属メッキ加工によるまたは金属メッキ加工がなされたような塗装による鏡面仕上げが施されたものが好まれる傾向にある。さらに家庭用電気製品、家具、室内調度品または化粧品のケースなどにおいてもまた、意匠性およびデザイン性の向上の観点から、金属メッキ加工によるまたは金属メッキ加工がなされたような塗装による鏡面仕上げが施されたものが好まれる傾向にある。これらの物品はデザイン性が高い一方で、指紋跡の付着が非常に目立つという欠点がある。そのためこれらの鏡面仕上げが施された物品においてもまた、耐指紋性の向上が求められている。   Further, in recent years, there has been a demand for improvement in fingerprint resistance other than on the display surface. For example, mobile phones and the like tend to be preferred to have a mirror finish by metal plating or painting that has been subjected to metal plating from the viewpoint of improving design and design. Furthermore, in the case of household electrical appliances, furniture, indoor furniture or cosmetic cases, mirror finishing is also applied by metal plating or painting that has been subjected to metal plating from the viewpoint of improving design and design. There is a tendency to prefer what was made. While these articles are high in design, they have the drawback that fingerprint marks are very noticeable. Therefore, an improvement in fingerprint resistance is also demanded for articles having these mirror finishes.

光学表示装置表面または鏡面仕上げが施された物品において、耐指紋性などの防汚性を向上させる方法として、シリコンオイルやフッ素ポリマーを塗布することにより、表面の防汚性(撥水・撥油性)を向上させる方法が提案されている。しかしながらこの方法は、防汚剤を表面に塗布するのみであるため、防汚剤がすぐにとれてしまい防汚性の効果が長続きしない、つまり防汚耐久性に劣る、という欠点がある。一方で、これらのシリコンオイルやフッ素ポリマーなどの添加剤を含むコーティング組成物を用いてコーティング層を設けることにより、耐指紋性などの防汚性を向上させる方法もある。しかしながら、これらの添加剤は一般にソフトブロックといわれるものであり、樹脂に可撓性を付与するという性質も併せて有している。そしてこれらを添加することによってコーティング層の表面硬度などの機械的強度が低下してしまうという欠点がある。   As a method to improve antifouling properties such as fingerprint resistance on the surface of optical display devices or mirror-finished products, the surface antifouling properties (water / oil repellency) can be applied by applying silicon oil or fluoropolymer. ) Has been proposed. However, since this method only applies the antifouling agent to the surface, the antifouling agent can be removed immediately and the antifouling effect does not last long, that is, the antifouling durability is inferior. On the other hand, there is also a method of improving antifouling properties such as fingerprint resistance by providing a coating layer using a coating composition containing additives such as silicon oil and fluoropolymer. However, these additives are generally called soft blocks, and also have the property of imparting flexibility to the resin. And there exists a fault that mechanical strength, such as the surface hardness of a coating layer, will fall by adding these.

特開2004−230562号公報(特許文献1)には、透明基材フィルムの少なくとも片面に、電離放射線感応型樹脂組成物の硬化物からなり、かつ表面の水の接触角が70°以下になるようにアルカリ性水溶液で表面処理されてなるハードコート層を設けたことを特徴とするハードコートフィルムが記載されている(請求項1)。このハードコートフィルムは、塗布した組成物を紫外線照射などにより一旦硬化させ、その後アルカリ性水溶液を用いて表面の水の接触角が70°以下になるようにアルカリ性水溶液で表面処理する方法が採用されているが、水の接触角が70°以下になるようにするためには高度な工程管理や多くの試行錯誤が要求されるため、工程が増えており煩雑である。また発生する多量のアルカリ廃液の処理コストなどの問題も含んでおり、工業化する上でいくつかの問題点を含んでいた。   In JP 2004-230562 A (Patent Document 1), at least one surface of a transparent substrate film is made of a cured product of an ionizing radiation sensitive resin composition, and the contact angle of water on the surface is 70 ° or less. Thus, a hard coat film characterized by providing a hard coat layer that is surface-treated with an alkaline aqueous solution is described (claim 1). This hard coat film is a method in which the applied composition is once cured by ultraviolet irradiation or the like, and then surface-treated with an alkaline aqueous solution using an alkaline aqueous solution so that the contact angle of water on the surface is 70 ° or less. However, in order for the contact angle of water to be 70 ° or less, advanced process management and many trials and errors are required, which increases the number of processes and is complicated. In addition, there are problems such as the cost of processing a large amount of alkaline waste liquid generated, and there are some problems in industrialization.

特開2006−43919号公報(特許文献2)には、平均表面粗さRaが0.1μm以下の剥離フィルム上に形成されたエネルギー線硬化性ハードコート組成物層に基材フィルムを貼り合わせ、加熱後、エネルギー線を照射することによって前記エネルギー線硬化性ハードコート組成物層を硬化させて前記基材フィルムにハードコート層を密着形成することを特徴とするハードコートフィルムの製造方法が記載されている(請求項1)。このハードコートフィルムは、平滑な表面を有する基材フィルムを用いることによって指紋拭き取り性の向上を図っている。またこのハードコートフィルムは、ハードコート層を剥離フィルムおよび基材フィルムの間に挟まれた状態で設けることを特徴としている。従ってこの製造方法もまた、ハードコート層を挟まれた状態にするための調製工程が必要であり、その製造工程が煩雑である。又特許文献2は指紋の拭き取り性の向上を考慮したものであり、本願とは技術的背景が異なる。   In JP-A-2006-43919 (Patent Document 2), a base film is bonded to an energy ray-curable hard coat composition layer formed on a release film having an average surface roughness Ra of 0.1 μm or less, A method for producing a hard coat film is described, wherein after heating, the energy ray curable hard coat composition layer is cured by irradiating an energy ray to form a hard coat layer in close contact with the base film. (Claim 1). This hard coat film is improving the fingerprint wiping property by using a base film having a smooth surface. The hard coat film is characterized in that the hard coat layer is provided in a state of being sandwiched between the release film and the base film. Therefore, this manufacturing method also requires a preparation process for sandwiching the hard coat layer, and the manufacturing process is complicated. Further, Patent Document 2 considers improvement of fingerprint wiping, and has a different technical background from the present application.

特開2007−34027号公報(特許文献3)には、凹凸表面を有するディスプレイ用表面材が記載されている(請求項1)。このディスプレイ用表面材は、微細な凹凸を有するため、ディスプレイ用表面材の表面に付着した指紋を形成する生体由来脂質成分が微細に形成された凹凸の凹部に速やかに入り込む結果、指紋が視認され難くなる、と記載されている([0010]段落など)。そしてこの表面剤の凹凸表面は、アルミナゾル液を塗布し、次いで温水に浸漬することにより形成されている(請求項2)。つまり、特許文献3が開示する方法によれば、別の役割を持ったいくつもの層をフィルム上に形成させる必要がある。そのように形成した表面材もまた、浸漬などといった後処理工程が必要であり、その製造工程が煩雑であり、工業化する上でいくつかの問題点を含んでいた。   Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2007-34027 (Patent Document 3) describes a display surface material having an uneven surface (Claim 1). Since the surface material for display has fine irregularities, the biological lipid component that forms the fingerprint attached to the surface of the surface material for display quickly enters the concave portions of the irregularities formed finely. As a result, the fingerprint is visually recognized. It is described that it becomes difficult (such as [0010] paragraph). And the uneven surface of this surface agent is formed by apply | coating an alumina sol liquid and then immersing in warm water (Claim 2). That is, according to the method disclosed in Patent Document 3, it is necessary to form several layers having different roles on the film. The surface material thus formed also requires a post-treatment process such as dipping, the manufacturing process is complicated, and some problems are involved in industrialization.

特開2004−230562号公報JP 2004-230562 A 特開2006−43919号公報JP 2006-43919 A 特開2007−34027号公報JP 2007-34027 A

本発明は上記従来の問題を解決するものであり、その目的とするところは、塗布などによる非常に簡便な工程によって光学表示装置表面または鏡面仕上げが施された物品の耐指紋性を向上させることができる、耐指紋性光硬化性組成物を提供することにある。   The present invention solves the above-described conventional problems, and its object is to improve the fingerprint resistance of an optical display device surface or a mirror-finished article by a very simple process such as coating. An object of the present invention is to provide a fingerprint-resistant photocurable composition that can be used.

本発明は、
両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)、
光重合性多官能化合物(B)、および
光重合開始剤(C)、
を含み、
このポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、下記式(1):

Figure 0004638954
[式中、Xは、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物の両末端の水酸基を除いた残基を示す。]
で示される構造を有し、および
このポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)の水トレランスが6.0ml以下であり、溶解性パラメータが12以下である、
耐指紋性光硬化性組成物、を提供するものであり、これにより上記目的が達成される。 The present invention
Polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends,
A photopolymerizable polyfunctional compound (B), and a photopolymerization initiator (C),
Including
This polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) has the following formula (1):
Figure 0004638954
[In formula, X shows the residue except the hydroxyl group of the both ends of the polyol compound which has a polyether frame | skeleton. ]
And the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) has a water tolerance of 6.0 ml or less and a solubility parameter of 12 or less.
A fingerprint-resistant photocurable composition is provided, whereby the above object is achieved.

上記耐指紋性光硬化性組成物はさらに、ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)を含んでもよい。   The fingerprint-resistant photocurable composition may further contain a polyether or a polyether (meth) acrylate (D).

また、上記ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)、ポリイソシアネート(b)および水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)を反応させることによって調製された、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートであるのが好ましい。   The polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) is prepared by reacting a polyol compound (a) having a polyether skeleton, a polyisocyanate (b), and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c). It is preferably a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate.

上記耐指紋性光硬化性組成物は、
ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)0.5〜40重量%、
光重合性多官能化合物(B)30〜99.5重量%、
ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)0〜30重量%、
(但し、上記成分(A)、(B)および(D)の総重量が100重量%となることを条件とする)、および
光重合開始剤(C)を、成分(A)、(B)および(D)の総重量100重量部に対して0.1〜20重量部、
を含むのが好ましい。
The fingerprint-resistant photocurable composition is
0.5 to 40% by weight of polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A),
30-99.5 wt% of photopolymerizable polyfunctional compound (B),
0 to 30% by weight of polyether or polyether (meth) acrylate (D),
(Provided that the total weight of the components (A), (B) and (D) is 100% by weight), and the photopolymerization initiator (C) are added to the components (A) and (B). And 0.1 to 20 parts by weight relative to 100 parts by weight of the total weight of (D),
Is preferably included.

本発明はさらに、透明基材およびコーティング層を有する耐指紋性フィルムであって、このコーティング層が上記耐指紋性光硬化性組成物によって形成されるコーティング層である、耐指紋性フィルム、も提供する。   The present invention further provides a fingerprint-resistant film having a transparent substrate and a coating layer, wherein the coating layer is a coating layer formed by the fingerprint-resistant photocurable composition. To do.

本発明はさらに、上記耐指紋性光硬化性組成物によって形成される耐指紋性コーティング層が設けられた塗装物も提供する。   The present invention further provides a coated article provided with a fingerprint-resistant coating layer formed of the fingerprint-resistant photocurable composition.

上記塗装物は、タッチパネルディスプレイ、液晶表示ディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ、蛍光ディスプレイ、プラズマディスプレイパネルまたは鏡面仕上げが施された物品であるのが好ましい。   The coated material is preferably a touch panel display, a liquid crystal display, a light emitting diode display, an electroluminescence display, a fluorescent display, a plasma display panel, or an article having a mirror finish.

本発明の耐指紋性光硬化性組成物を用いることによって、光学表示装置表面または鏡面仕上げが施された物品などに、優れた耐指紋性を有するコーティング層を、より簡便に設けることができる。本発明の耐指紋性光硬化性組成物により得られるコーティング層は、透明性にも優れており、光学表示装置表面または鏡面仕上げが施された物品の表面などにおける使用に非常に適している。本発明の耐指紋性光硬化性組成物により得られるコーティング層は、さらに、優れた耐擦傷性および表面の膜硬度を有する。本発明の耐指紋性光硬化性組成物により得られるコーティング層は、単層であっても、優れた耐指紋性、そして高い耐擦傷性および表面の膜硬度を有している。さらに本発明の耐指紋性光硬化性組成物は光硬化性であるため、このような優れた性能を有するコーティング層を、光学表示装置表面または鏡面仕上げが施された物品の上に、より簡便に形成できるという利点がある。そのため本発明の耐指紋性光硬化性組成物を用いることによって、生産効率および製造コストに優れたコーティング層およびこのコーティング層を有する耐指紋性フィルムを形成することができる。さらにこのコーティング層は、耐指紋性を長期間維持させることができ、耐指紋性耐久性にも優れているという利点を有する。   By using the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention, a coating layer having excellent fingerprint resistance can be more easily provided on an optical display device surface or an article having a mirror finish. The coating layer obtained by the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention is excellent in transparency, and is very suitable for use on the surface of an optical display device or the surface of an article having a mirror finish. The coating layer obtained by the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention further has excellent scratch resistance and surface film hardness. Even if the coating layer obtained by the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention is a single layer, it has excellent fingerprint resistance, high scratch resistance and surface film hardness. Furthermore, since the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention is photocurable, a coating layer having such excellent performance can be more easily applied on the surface of an optical display device or an article having a mirror finish. There is an advantage that it can be formed. Therefore, by using the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention, a coating layer excellent in production efficiency and manufacturing cost and a fingerprint-resistant film having this coating layer can be formed. Furthermore, this coating layer has the advantage that fingerprint resistance can be maintained for a long period of time and is excellent in fingerprint resistance durability.

本発明の耐指紋性光硬化性組成物は、
両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)、
光重合性多官能化合物(B)、および
光重合開始剤(C)、
を含む。本発明の耐指紋性光硬化性組成物はさらに、ポリエーテル樹脂またはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)を含んでもよい。
The anti-fingerprint photocurable composition of the present invention is
Polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends,
A photopolymerizable polyfunctional compound (B), and a photopolymerization initiator (C),
including. The fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention may further contain a polyether resin or a polyether (meth) acrylate (D).

ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)
本発明の耐指紋性光硬化性組成物に含まれるポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、
(i)分子の両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有すること、
(ii)下記式(1):
Polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A)
The polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) contained in the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention is
(I) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends of the molecule;
(Ii) The following formula (1):

Figure 0004638954
[式中、Xは、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物の両末端の水酸基を除いた残基を示す。]
で示される構造を有すること、および
(iii)水トレランスが6.0ml以下であり、溶解性パラメータが12以下であること、
を条件とする、ウレタン(メタ)アクリレートである。
Figure 0004638954
[In formula, X shows the residue except the hydroxyl group of the both ends of the polyol compound which has a polyether frame | skeleton. ]
(Iii) the water tolerance is 6.0 ml or less and the solubility parameter is 12 or less,
It is urethane (meth) acrylate on condition.

本発明において、成分(A)が、上記式(1)で示される、ウレタン結合を介したポリエーテル構造を有することによって、優れた耐指紋性が得られることとなる。また成分(A)が、両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有することによって、良好な耐擦傷性が得られることとなる。   In the present invention, when the component (A) has a polyether structure represented by the above formula (1) via a urethane bond, excellent fingerprint resistance can be obtained. In addition, when the component (A) has at least one (meth) acrylate group at each of both ends, good scratch resistance can be obtained.

なお成分(A)のウレタン(メタ)アクリレートは、分枝構造を有していてもよい。そしてこの場合において「両末端」とは、分子鎖が最長となる状態における両方の末端を意味する。そしてこのような分枝構造を有する場合は、分枝鎖の末端においても少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有してもよい。   In addition, the urethane (meth) acrylate of component (A) may have a branched structure. In this case, “both ends” means both ends in the state where the molecular chain is the longest. And when it has such a branched structure, you may have at least 1 (meth) acrylate group also in the terminal of a branched chain.

上記式(1)で示される構造を有する、両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有するポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)として、例えば、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)とポリイソシアネート(b)と水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)との反応物が挙げられる。   As a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends having the structure represented by the above formula (1), for example, a polyol compound having a polyether skeleton ( A reaction product of a), a polyisocyanate (b), and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c).

ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ジブチレングリコール、ポリブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ビスフェノールAポリエトキシジオール、ポリカプロラクトン、および、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイドのブロックまたはランダム共重合の少なくとも1種の構造を有する、ポリエーテルポリオール;トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ポリトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ポリペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、グリセリン、ポリグリセリン、ポリテトラメチレングリコールなどの多価アルコールをポリエーテル変性した、ポリエーテル骨格を含む多価アルコール;上記ポリエーテルポリオールと無水マレイン酸、マレイン酸、フマール酸、無水イタコン酸、イタコン酸、アジピン酸、イソフタル酸などの多塩基酸との縮合物であるポリエステルポリオール;ポリエーテルポリオールをカプロラクトン変性したカプロラクトン変性ポリオール;などが挙げられる。   Examples of the polyol compound (a) having a polyether skeleton include diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, dibutylene glycol, polybutylene glycol, 1,6-hexanediol, Polyether polyols having at least one structure of bisphenol A polyethoxydiol, polycaprolactone, polyethylene oxide, polypropylene oxide, ethylene oxide / propylene oxide block or random copolymerization; trimethylolethane, trimethylolpropane, poly Trimethylolpropane, pentaerythritol, polypentaerythritol, sorbitol, mannini Polyhydric alcohol containing a polyether skeleton obtained by polyether modification of polyol, glycerin, polyglycerin, polytetramethylene glycol or the like; the above polyether polyol and maleic anhydride, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic anhydride And polyester polyols that are condensates with polybasic acids such as itaconic acid, adipic acid, and isophthalic acid; caprolactone-modified polyols obtained by modifying polyether polyols with caprolactone; and the like.

ポリイソシアネート(b)としては、例えば、芳香族系、脂肪族系、脂環式系などのポリイソシアネートが挙げられ、中でもトリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリフェニルメタンポリイソシアネート、変性ジフェニルメタンジイソシアネート、水添化キシリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、フェニレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジントリイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートなどのポリイソシアネート或いはこれらポリイソシアネートの三量体化合物、ビューレット型ポリイソシアネート、水分散型ポリイソシアネート、またはこれらポリイソシアネートとポリオールの反応生成物などを挙げることができる。   Examples of the polyisocyanate (b) include aromatic, aliphatic and alicyclic polyisocyanates, among which tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, polyphenylmethane polyisocyanate, Modified diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, norbornene diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, phenylene diisocyanate , Lysine diisocyanate, lysine triisocyanate, naphthalene diiso Polyisocyanates or trimer compounds of these polyisocyanates such as Aneto, biuret type polyisocyanate, water-dispersible polyisocyanate or the reaction products of these polyisocyanates with polyols, and the like.

水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)は、(メタ)アクリレート基を1つ有する単官能モノマーであってもよく、(メタ)アクリレート基を2またはそれ以上有する多官能モノマーであってもよい。単官能モノマーとして、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、2−(メタ)アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、カプロラクトン変性2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどを挙げることができる。多官能モノマーとして、例えば、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートなどを挙げることができる。   The hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c) may be a monofunctional monomer having one (meth) acrylate group or a polyfunctional monomer having two or more (meth) acrylate groups. Examples of the monofunctional monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethylacryloyl phosphate, Examples include 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate and caprolactone-modified 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. Examples of the polyfunctional monomer include 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and caprolactone-modified dipentaerythritol penta (meth). ) Acrylate, caprolactone-modified pentaerythritol tri (meth) acrylate, ethylene oxide-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethylene oxide-modified pentaerythritol tri (meth) acrylate, and the like.

両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)、ポリイソシアネート(b)および水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)を反応させることによって調製することができる。この調製において、例えばポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)、ポリイソシアネート(b)および水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)を一度に反応させてもよく、あるいは、例えばポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)とポリイソシアネート(b)とを反応させた後、水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)を反応させてもよい。   A polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends is a polyol compound (a) having a polyether skeleton, a polyisocyanate (b), and a hydroxyl group-containing (meta ) It can be prepared by reacting the acrylate monomer (c). In this preparation, for example, the polyol compound (a) having a polyether skeleton, the polyisocyanate (b), and the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c) may be reacted at once, or, for example, a polyol having a polyether skeleton. After reacting the compound (a) and the polyisocyanate (b), the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c) may be reacted.

ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)とポリイソシアネート(b)との反応は、ポリオール化合物(a)の水酸基1当量に対して、ポリイソシアネート(b)のイソシアネート基1.1〜2.5当量を反応させるのが好ましく、1.3〜2.0当量を反応させるのが特に好ましい。反応温度は、70〜100℃が好ましく、反応時間は、1〜20時間程度が好ましい。このポリオール化合物(a)とポリイソシアネート(b)との反応においては、ブチルチンジラウレートのような金属系触媒または1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7のようなアミン系触媒などを用いて、反応を促進させるのがより好ましい。   The reaction between the polyol compound (a) having a polyether skeleton and the polyisocyanate (b) is 1.1 to 2.5 equivalents of the isocyanate group of the polyisocyanate (b) with respect to 1 equivalent of the hydroxyl group of the polyol compound (a). Is preferably reacted, and 1.3 to 2.0 equivalents are particularly preferably reacted. The reaction temperature is preferably 70 to 100 ° C., and the reaction time is preferably about 1 to 20 hours. In the reaction between the polyol compound (a) and the polyisocyanate (b), a metal catalyst such as butyltin dilaurate or an amine catalyst such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 It is more preferable to accelerate the reaction using

ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)、ポリイソシアネート(b)および水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)を一度に反応させる場合においては、水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)の量は、ポリイソシアネート(b)1当量に対して1.0〜1.5当量を用いるのが好ましく、1.0〜1.3当量用いるのがより好ましい。反応温度は、60〜100℃が好ましく、反応時間は、1〜20時間であるのが好ましい。   When the polyol compound (a) having a polyether skeleton, the polyisocyanate (b) and the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c) are reacted at once, the amount of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c) is: It is preferable to use 1.0-1.5 equivalent with respect to 1 equivalent of polyisocyanate (b), and it is more preferable to use 1.0-1.3 equivalent. The reaction temperature is preferably 60 to 100 ° C., and the reaction time is preferably 1 to 20 hours.

また、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)とポリイソシアネート(b)とを反応させた後、水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)を反応させる場合においては、ポリオール化合物(a)およびポリイソシアネート(b)の反応物のイソシアネート基1当量に対して、水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)の水酸基0.95〜1.5当量を反応させるのが好ましく、1.0〜1.1当量を反応させるのが特に好ましい。反応温度は、60〜100℃が好ましく、反応時間は、1〜20時間であるのが好ましい。   In the case of reacting the polyol compound (a) having a polyether skeleton with the polyisocyanate (b) and then reacting the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c), the polyol compound (a) and the polyisocyanate It is preferable to react 0.95 to 1.5 equivalents of the hydroxyl group of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c) with respect to 1 equivalent of the isocyanate group of the reaction product of (b), 1.0 to 1.1 equivalents It is particularly preferred to react. The reaction temperature is preferably 60 to 100 ° C., and the reaction time is preferably 1 to 20 hours.

両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、重量平均分子量が3000〜50000であるのがより好ましい。ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)の重量平均分子量が3000より小さい時は、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)の分子量が低下してウレタン基含有率が相対的に高くなるために製造時の粘度上昇による生産性低下の恐れがある。一方、50000を超えると、得られる耐指紋性光硬化性組成物の粘度が高まることによる耐指紋性光硬化性組成物の生産性の低下や、アクリレート基含有率が相対的に低下するために最終的に得られるコーティング層の機械的強度の低下の恐れがあり好ましくない。なおここでいう平均分子量は、重量平均分子量であり、ポリスチレンを標準として用いて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)の測定結果から算出することができる。   The polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends preferably has a weight average molecular weight of 3000 to 50000. When the weight average molecular weight of the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) is smaller than 3000, the molecular weight of the polyol compound (a) having a polyether skeleton is lowered and the urethane group content is relatively high. In addition, there is a risk of a decrease in productivity due to an increase in viscosity during production. On the other hand, if it exceeds 50,000, the viscosity of the resulting fingerprint-resistant photocurable composition is increased, resulting in a decrease in the productivity of the fingerprint-resistant photocurable composition and the relative decrease in the acrylate group content. This is not preferable because the mechanical strength of the finally obtained coating layer may be lowered. The average molecular weight here is a weight average molecular weight, and can be calculated from the measurement result of gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard.

本発明においては、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)として、水トレランスが6.0ml以下であり、溶解性パラメータが12以下であるものが用いられる。成分(A)の水トレランスが6.0ml以下であり、溶解性パラメータが12以下であることによって、良好な耐指紋性が得られることとなる。   In the present invention, a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) having a water tolerance of 6.0 ml or less and a solubility parameter of 12 or less is used. When the water tolerance of the component (A) is 6.0 ml or less and the solubility parameter is 12 or less, good fingerprint resistance can be obtained.

水トレランスとは親水性の度合を評価するものであり、その値が高いほど親水性が高いことを意味する。上記水トレランスの測定方法は、23℃の条件下で、100mlビーカー内に上記ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)0.5gをテトラヒドロフラン10mlに混合して分散させ、この混合物にビュレットを用い、イオン交換水を徐々に加え、この混合物が白濁を生じるまでに要するイオン交換水の量(ml)を測定する。このイオン交換水の量(ml)を水トレランスと定義する。   Water tolerance is to evaluate the degree of hydrophilicity, and the higher the value, the higher the hydrophilicity. The water tolerance was measured by mixing 0.5 g of the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) in 10 ml of tetrahydrofuran in a 100 ml beaker under a condition of 23 ° C., and adding a burette to this mixture. Use ion-exchange water gradually, and measure the amount (ml) of ion-exchange water required for the mixture to become cloudy. This amount of ion-exchanged water (ml) is defined as water tolerance.

溶解性パラメータ(solubility parameter、SP値と略記することもある。)とは、溶解性の尺度となるものである。SP値は数値が大きいほど極性が高く、数値が小さいほど極性が低いことを示す。なお成分(A)が2種以上の混合物である場合のSP値は、各成分の溶解性パラメータの加重平均値をSP値とする。   The solubility parameter (sometimes abbreviated as SP value) is a measure of solubility. The SP value indicates that the larger the value, the higher the polarity, and the smaller the value, the lower the polarity. In addition, SP value in case a component (A) is a 2 or more types of mixture makes SP value the weighted average value of the solubility parameter of each component.

SP値は次の方法によって実測することができる[参考文献:SUH、CLARKE、J.P.S.A−1、5、1671〜1681(1967)]。   The SP value can be measured by the following method [References: SUH, CLARKE, J. et al. P. S. A-1, 5, 1671-1681 (1967)].

測定温度:20℃
サンプル:樹脂0.5gを100mlビーカーに秤量し、良溶媒10mlをホールピペットを用いて加え、マグネティックスターラーにより溶解する。
溶媒:
良溶媒…ジオキサン、アセトンなど
貧溶媒…n−ヘキサン、イオン交換水など
濁点測定:50mlビュレットを用いて貧溶媒を滴下し、濁りが生じた点を滴下量とする。
Measurement temperature: 20 ° C
Sample: Weigh 0.5 g of resin in a 100 ml beaker, add 10 ml of good solvent using a whole pipette, and dissolve with a magnetic stirrer.
solvent:
Good solvent: poor solvent such as dioxane, acetone, etc. n-hexane, ion-exchanged water, etc. Muddy point measurement: The poor solvent is added dropwise using a 50 ml burette, and the point at which turbidity occurs is defined as the amount of addition.

成分(A)のSP値δは次式によって与えられる。   The SP value δ of component (A) is given by:

Figure 0004638954
Figure 0004638954
Figure 0004638954
Figure 0004638954
Figure 0004638954
Figure 0004638954

Vi:溶媒の分子容(ml/mol)
φi:濁点における各溶媒の体積分率
δi:溶媒のSP値
ml:低SP貧溶媒混合系
mh:高SP貧溶媒混合系
Vi: Molecular volume of the solvent (ml / mol)
φi: Volume fraction of each solvent at cloud point δi: SP value of solvent ml: Low SP poor solvent mixed system mh: High SP poor solvent mixed system

成分(A)の水トレランスが6.0ml以下であり、溶解性パラメータが12以下であることによって、良好な耐指紋性が得られることとなる理由は、理論に拘束されるものではないが以下のように考えられる。成分(A)はウレタン基を有しているため、分子内に局部的に極性が高い部分構造を持つ。一方、成分(A)は、水トレランスが6.0ml以下であることによって、分子全体としては、極性が低い化合物であるということとなる。ここで、指紋跡を構成する脂質成分は長鎖脂肪酸であるとされており、長鎖脂肪酸はアルキル基による極性が低い部分と極性が高いカルボキシル基から構成される。耐指紋性を向上させるには指紋跡を構成する脂質成分へのなじみ性を高くしてやればよいと考えられ、このことから上記のように分子内に局部的に極性が高い部位(ウレタン基)と分子全体として極性が低い性質を有する成分(A)を用いることで、良好な耐指紋性を付与できたものと考えられる。溶解性パラメータについても同様である。溶解性パラメータが12以下であることによって、極性の高いウレタン基を有する成分(A)は、分子全体としては極性の低い化合物であるということとなる。そしてこれにより、指紋跡を構成する脂質成分へのなじみ性が高くなり、耐指紋性が向上することとなると考えられる。なお、水トレランスが6.0ml以下であることと溶解性パラメータを12以下とすることはいずれも分子全体として極性が低い性質を示すものである。一方で、本発明は上記理論によって全て解明できるものではなく、水トレランスが6.0ml以下であること、溶解性パラメータが12以下であること、ならびにウレタン基をもつことによる局部的に極性が高い構造を有するという性質を、全て兼ね備えた成分(A)を用いることによって、耐指紋性の向上が達成されることとなる。そして本発明者は、上記事実を実験により見いだし、本発明を完成するに至っている。   The reason why a good fingerprint resistance is obtained when the water tolerance of the component (A) is 6.0 ml or less and the solubility parameter is 12 or less is not limited by theory. It seems like. Since the component (A) has a urethane group, the component (A) has a partial structure having a locally high polarity in the molecule. On the other hand, since the component (A) has a water tolerance of 6.0 ml or less, the molecule as a whole is a compound having low polarity. Here, the lipid component constituting the fingerprint trace is assumed to be a long chain fatty acid, and the long chain fatty acid is composed of a portion having a low polarity due to an alkyl group and a carboxyl group having a high polarity. In order to improve fingerprint resistance, it is thought that it is necessary to increase the compatibility with the lipid component that constitutes the fingerprint mark, and from this, as described above, a locally highly polar site (urethane group) and It is considered that good fingerprint resistance could be imparted by using the component (A) having a property of low polarity as a whole molecule. The same applies to the solubility parameter. When the solubility parameter is 12 or less, the component (A) having a highly polar urethane group is a compound having a low polarity as a whole molecule. As a result, it is considered that the conformability to the lipid component constituting the fingerprint mark is enhanced and the fingerprint resistance is improved. It should be noted that both the water tolerance of 6.0 ml or less and the solubility parameter of 12 or less indicate the property of low polarity as a whole molecule. On the other hand, the present invention is not completely clarified by the above theory, and has a water tolerance of 6.0 ml or less, a solubility parameter of 12 or less, and a locally high polarity due to having a urethane group. By using the component (A) that has all the properties of having a structure, the fingerprint resistance can be improved. The present inventor has found the above facts through experiments and has completed the present invention.

なお、本発明における成分(A)のより好ましい例として、例えば下記式で示されるポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートが挙げられる。   In addition, as a more preferable example of the component (A) in this invention, the polyether skeleton containing urethane (meth) acrylate shown by a following formula is mentioned, for example.

Figure 0004638954
[式中、Rは、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)の両末端の水酸基を除いた残基であり、Rはポリイソシアネート(b)の両末端のイソシアネート基を除いた残基であり、RおよびRは、同一であっても異なってよい、水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)の水酸基を除いた残基であり、およびnは1〜60の整数である。]
このポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、重量平均分子量が3000〜50000であるのがより好ましい。また上記nは1〜60の整数であるのがより好ましく、1〜30の整数であるのがより好ましい。
Figure 0004638954
[Wherein, R 1 is a residue obtained by removing hydroxyl groups at both ends of the polyol compound (a) having a polyether skeleton, and R 2 is a residue obtained by removing isocyanate groups at both ends of the polyisocyanate (b). R 3 and R 4 may be the same or different and are a residue excluding the hydroxyl group of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c), and n is an integer of 1 to 60. ]
As for this polyether frame | skeleton containing urethane (meth) acrylate (A), it is more preferable that the weight average molecular weights are 3000-50000. Further, n is more preferably an integer of 1 to 60, and more preferably an integer of 1 to 30.

光重合性多官能化合物(B)
本発明の耐指紋性光硬化性組成物はポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)を含有することを特徴としている。そして本発明の耐指紋性光硬化性組成物においては、塗膜形成成分としてさらに光重合性多官能化合物(B)が含まれる。光重合性多官能化合物(B)が含まれることによって、耐指紋性光硬化性組成物の光硬化性が向上し、また得られるコーティング層の機械的強度(耐擦傷性など)が高まることとなる。光重合性多官能化合物(B)は、一分子中に2以上の光重合性基を有する化合物である。光重合性多官能化合物(B)として、分子中に2個以上の(メタ)アクリレート基を有する化合物を用いることができる。光重合性多官能化合物(B)として、3個以上の(メタ)アクリレート基を有する化合物が好ましい。なお光重合性多官能化合物(B)として、2個以上の(メタ)アクリレート基を有する化合物であれば、モノマーであってもオリゴマーであってもよい。
Photopolymerizable polyfunctional compound (B)
The fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention is characterized by containing a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A). And in the fingerprint-resistant photocurable composition of this invention, a photopolymerizable polyfunctional compound (B) is further contained as a coating-film formation component. By including the photopolymerizable polyfunctional compound (B), the photocurability of the fingerprint-resistant photocurable composition is improved, and the mechanical strength (such as scratch resistance) of the resulting coating layer is increased. Become. The photopolymerizable polyfunctional compound (B) is a compound having two or more photopolymerizable groups in one molecule. As the photopolymerizable polyfunctional compound (B), a compound having two or more (meth) acrylate groups in the molecule can be used. As the photopolymerizable polyfunctional compound (B), a compound having three or more (meth) acrylate groups is preferable. The photopolymerizable polyfunctional compound (B) may be a monomer or an oligomer as long as it is a compound having two or more (meth) acrylate groups.

モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレートなどのアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートなどの低分子量ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートまたはそのアルキレンオキシド変成体;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジまたはトリまたはテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタまたはヘキサ(メタ)アクリレートなどのポリオールポリ(メタ)アクリレートまたはそのアルキレンオキサイド変成体;イソシアヌル酸アルキレンオキシド変成体のジまたはトリ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これら分子中に2個の(メタ)アクリレート基を有する化合物と分子中に3個以上の(メタ)アクリレート基を有する化合物の混合割合を調整して適用することで、得られるコーティング層の物性を調整することが可能である。光重合性多官能化合物(B)中において、分子中に3個以上の(メタ)アクリレート基を有する化合物の占める含有率は50〜100%が好ましく、70〜100%がより好ましい。分子中に3個以上の(メタ)アクリレート基を有する光重合性多官能化合物(B)に占める含有率が50%未満の場合、最終的に得られるフィルムの耐スチールウール性に代表される傷つき防止性、耐溶剤性、ペン摺動性が低下する恐れがあり好ましくない。   Monomers include alkylene glycol di (meth) acrylates such as ethylene glycol di (meth) acrylate and propylene glycol di (meth) acrylate; diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di ( Low molecular weight polyalkylene glycol di (meth) acrylates such as (meth) acrylates and tripropylene glycol di (meth) acrylates or their modified alkylene oxides; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol di or tri or tetra (meth) Such as acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta or hexa (meth) acrylate. Orupori (meth) acrylate or an alkylene oxide modified product; and isocyanuric acid alkylene oxide modified product of di- or tri (meth) acrylate. By adjusting and applying the mixing ratio of the compound having two (meth) acrylate groups in the molecule and the compound having three or more (meth) acrylate groups in the molecule, the physical properties of the resulting coating layer can be improved. It is possible to adjust. In the photopolymerizable polyfunctional compound (B), the content of the compound having three or more (meth) acrylate groups in the molecule is preferably 50 to 100%, and more preferably 70 to 100%. When the content of the photopolymerizable polyfunctional compound (B) having three or more (meth) acrylate groups in the molecule is less than 50%, scratches represented by the steel wool resistance of the finally obtained film Preventing property, solvent resistance, and pen slidability may decrease, which is not preferable.

オリゴマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、アクリル(メタ)アクリレートなどのオリゴマーが挙げられる。なお、光重合性多官能化合物(B)として用いることができるこれらのオリゴマーは、重量平均分子量が300〜5,000であることが好ましく、500〜3,000であることがより好ましい。5,000より大きいと高粘度になり、取り扱いが困難となる恐れがある。   Examples of the oligomer include oligomers such as polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and acrylic (meth) acrylate. In addition, these oligomers that can be used as the photopolymerizable polyfunctional compound (B) preferably have a weight average molecular weight of 300 to 5,000, and more preferably 500 to 3,000. If it is greater than 5,000, the viscosity becomes high and handling may be difficult.

これらの光重合性多官能化合物(B)は、1種を単独で用いてもよく、また2種以上を併用してもよい。   These photopolymerizable polyfunctional compounds (B) may be used alone or in combination of two or more.

光重合性多官能化合物(B)として、一分子中に3またはそれ以上の光重合性基(即ち、(メタ)アクリレート基)を有するモノマーを少なくとも一部に用いるのが好ましい。このようなモノマーを用いることによって、得られるコーティング層の機械的強度をより高めることができる。好ましい光重合性多官能化合物(B)として、例えばペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが挙げられる。   As the photopolymerizable polyfunctional compound (B), a monomer having 3 or more photopolymerizable groups (that is, (meth) acrylate groups) in one molecule is preferably used at least in part. By using such a monomer, the mechanical strength of the resulting coating layer can be further increased. Preferred examples of the photopolymerizable polyfunctional compound (B) include pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane EO-modified triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and the like.

光重合開始剤(C)
本発明の耐指紋性光硬化性組成物は、光重合開始剤(C)を含むのが好ましい。光重合開始剤(C)が存在することによって、紫外線などの活性エネルギー線照射に対する耐指紋性光硬化性組成物の重合性が向上することとなる。光重合開始剤(C)の例として、例えば、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤、オキシムエステル系重合開始剤などが挙げられる。アルキルフェノン系光重合開始剤として、例えば2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノンなどが挙げられる。アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤として、例えば2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。チタノセン系光重合開始剤として、例えば、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウムなどが挙げられる。オキシムエステル系重合開始剤として、例えば、1.2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(0−アセチルオキシム)、オキシフェニル酢酸、2−[2−オキソ−2−フェニルアセトキシエトキシ]エチルエステル、2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチルエステルなどが挙げられる。さらには、ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸メチル、2,4−ジエチルチオキサントン、2−エチルアントラキノン、カンファーキノンなどの水素引き抜き型開始剤を用いることもできる。これらの光重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、また2種以上を併用してもよい。
Photopolymerization initiator (C)
The fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator (C). The presence of the photopolymerization initiator (C) improves the polymerizability of the fingerprint-resistant photocurable composition against irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays. Examples of the photopolymerization initiator (C) include alkylphenone photopolymerization initiators, acylphosphine oxide photopolymerization initiators, titanocene photopolymerization initiators, and oxime ester polymerization initiators. Examples of alkylphenone photopolymerization initiators include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane. -1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2 -Hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2- Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl 1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone and the like. Examples of the acylphosphine oxide photopolymerization initiator include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, and the like. Examples of titanocene-based photopolymerization initiators include bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium. Is mentioned. Examples of the oxime ester polymerization initiator include 1.2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)], ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2 -Methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (0-acetyloxime), oxyphenylacetic acid, 2- [2-oxo-2-phenylacetoxyethoxy] ethyl ester, 2- (2-hydroxy And ethoxy) ethyl ester. Furthermore, hydrogen abstraction initiators such as benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl benzoylbenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2-ethylanthraquinone, camphorquinone, and the like can be used. These photoinitiators may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

上記光重合開始剤(C)のうち、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1および2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンなどがより好ましく用いられる。   Among the photopolymerization initiators (C), 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) ) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 and 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1- On or the like is more preferably used.

ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)
本発明の耐指紋性光硬化性組成物は、必要に応じて、ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)を含んでもよい。耐指紋性光硬化性組成物に、ポリエーテル樹脂またはポリエーテル(メタ)アクリレートである成分(D)が含まれることによって、耐指紋性能が向上するという利点がある。特に、成分(D)が含まれることによって、より脂質とのなじみ性が改善され、指紋拭取り性がさらに向上するといった特異的な性能が達成されることとなる。
Polyether or polyether (meth) acrylate (D)
The fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention may contain a polyether or a polyether (meth) acrylate (D) as necessary. When the component (D) which is a polyether resin or a polyether (meth) acrylate is contained in the fingerprint-resistant photocurable composition, there is an advantage that the fingerprint resistance is improved. In particular, by including the component (D), compatibility with lipids is further improved, and specific performance such as further improving the fingerprint wiping property is achieved.

成分(D)としてのポリエーテルとして、炭素数3以上であるアルキレンオキシドを含むポリエーテルジアルキルエーテル、ポリエーテルモノオールまたはポリエーテルポリオールなどが挙げられる。「炭素数3以上であるアルキレンオキシド」として、例えば、−O−CH−CH(CH)−で示されるイソプロピレンオキシドを含むプロピレンオキシド、−O−(CH−で示されるテトラメチレンオキシド、−O−CH−CH(CHCl)−で示される3−クロロプロピレンオキシド、など、炭素数3〜4のアルキレンオキシドなどが挙げられる。この「炭素数3以上であるアルキレンオキシド(d−1)」はプロピレンオキシドであるのがより好ましく、イソプロピレンオキシドであるのがさらに好ましい。ポリエーテルのアルキル基部分の炭素数が3に満たないアルキレンオキシド(d−2)も使用することができるが、耐指紋性能は「炭素数3以上であるアルキレンオキシド」が主として付与するので、炭素数3以上のアルキレンオキシドは成分(D)の少なくとも一部を構成することが好ましい。 Examples of the polyether as the component (D) include polyether dialkyl ethers, polyether monools or polyether polyols containing alkylene oxides having 3 or more carbon atoms. Examples of the “alkylene oxide having 3 or more carbon atoms” include propylene oxide including isopropylene oxide represented by —O—CH 2 —CH (CH 3 ) —, and tetra represented by —O— (CH 2 ) 4 —. Examples include methylene oxide, 3-chloropropylene oxide represented by —O—CH 2 —CH (CH 2 Cl) —, and alkylene oxides having 3 to 4 carbon atoms. The “alkylene oxide (d-1) having 3 or more carbon atoms” is more preferably propylene oxide, and even more preferably isopropylene oxide. Alkylene oxide (d-2) in which the alkyl group part of the polyether has less than 3 carbon atoms can also be used, but the fingerprint resistance is mainly imparted by “alkylene oxide having 3 or more carbon atoms”. It is preferable that the alkylene oxide of several or more comprises at least one part of a component (D).

ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)は、分子量が400以上であるのが好ましく、700以上であるのがより好ましい。なおここでいう分子量は、JIS K 1557により算出した水酸基価の測定結果から算出することができる。   The polyether or the polyether (meth) acrylate (D) preferably has a molecular weight of 400 or more, and more preferably 700 or more. The molecular weight here can be calculated from the measurement result of the hydroxyl value calculated according to JIS K1557.

ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)として、市販されているポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレートを用いてもよい。好ましく用いることができるポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレートとして、例えば、キシダ化学(株)社製ポリプロピレンシリーズおよび新中村化学(株)社製ポリエーテルジアクリレートシリーズなどが挙げられる。   A commercially available polyether or polyether (meth) acrylate may be used as the polyether or polyether (meth) acrylate (D). Examples of the polyether or polyether (meth) acrylate that can be preferably used include a polypropylene series manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd. and a polyether diacrylate series manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.

本発明の耐指紋性光硬化性組成物においては、各成分(A)、(B)および(D)の量は、
ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)0.5〜40重量%、
光重合性多官能化合物(B)30〜99.5重量%、
ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)0〜30重量%、
であるのが好ましい。
より詳しくは、成分(D)が含まれない場合は、
ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)0.5〜40重量%、より好ましくは2〜35重量%
光重合性多官能化合物(B)30〜99.5重量%、より好ましくは65〜98重量%、
であるのがより好ましい。なお上記成分(A)および(B)の総重量が100重量%となることを条件とする。
また、成分(D)が含まれる場合は、
ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)0.5〜40重量%、より好ましくは2〜35重量%、
光重合性多官能化合物(B)30〜97重量%、より好ましくは45〜95重量%、
ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)1〜30重量%、より好ましくは2〜20重量%、
であるのがより好ましい。なお上記成分(A)、(B)および(D)の総重量が100重量%となることを条件とする。さらに配合される成分(D)が炭素数3以上であるアルキレンオキシド(d−1)と炭素数3未満のアルキレンオキシド(d−2)を併せ持つ場合、当該成分(D)に含まれる(d−1)と(d−2)の合計のうち、25質量%以上は(d−1)であることが好ましい。(d−1)の構成比率が上記の好ましい下限を下回ると、得られるハードコート層の耐指紋性が低下する場合があり、好ましくない。またこの場合、成分(D)に含まれる(d−1)の上記比率の上限は100質量%である。
In the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention, the amount of each component (A), (B) and (D) is:
0.5 to 40% by weight of polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A),
30-99.5 wt% of photopolymerizable polyfunctional compound (B),
0 to 30% by weight of polyether or polyether (meth) acrylate (D),
Is preferred.
More specifically, when component (D) is not included,
Polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) 0.5 to 40% by weight, more preferably 2 to 35% by weight
30 to 99.5% by weight of the photopolymerizable polyfunctional compound (B), more preferably 65 to 98% by weight,
It is more preferable that The total weight of the components (A) and (B) is 100% by weight.
When component (D) is included,
Polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) 0.5 to 40% by weight, more preferably 2 to 35% by weight,
30 to 97% by weight of the photopolymerizable polyfunctional compound (B), more preferably 45 to 95% by weight,
1-30% by weight of polyether or polyether (meth) acrylate (D), more preferably 2-20% by weight,
It is more preferable that The total weight of the components (A), (B) and (D) is 100% by weight. Further, when the component (D) to be blended has both an alkylene oxide (d-1) having 3 or more carbon atoms and an alkylene oxide (d-2) having less than 3 carbon atoms, it is included in the component (D) (d- Of the total of 1) and (d-2), 25% by mass or more is preferably (d-1). When the component ratio of (d-1) is less than the preferable lower limit, fingerprint resistance of the obtained hard coat layer may be lowered, which is not preferable. In this case, the upper limit of the ratio of (d-1) contained in the component (D) is 100% by mass.

また配合される成分(D)が、(d−1)由来のポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D−1)と(d−2)由来のポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D−2)の混合物である場合、(D−1)と(D−2)の合計のうち、10質量%以上は(D−1)であることが好ましい。(D−1)の配合比率が上記の好ましい下限を下回ると、得られるハードコート層の耐指紋性が低下する場合があり、好ましくない。またこの場合、成分(D)に含まれる(D−1)の上記比率の上限は100質量%である。   Moreover, the component (D) mix | blended is a polyether or polyether (meth) acrylate (D-1) derived from (d-1) and a polyether or polyether (meth) acrylate (D) derived from (d-2). -2), it is preferable that 10% by mass or more of (D-1) and (D-2) is (D-1) in the total of (D-1) and (D-2). When the blending ratio of (D-1) is less than the above preferable lower limit, the fingerprint resistance of the obtained hard coat layer may be deteriorated, which is not preferable. In this case, the upper limit of the ratio of (D-1) contained in the component (D) is 100% by mass.

ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)の量が上記範囲より少ない場合は、得られる耐指紋性コーティング層の耐指紋性の低下や耐屈曲性またはカール性などが劣ることとなるおそれがある。またポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)の量が上記範囲を超える場合は、耐スチールウール性または耐溶剤性などが低下するおそれがある。光重合性多官能化合物(B)の量が30重量%より少ない場合は、耐擦傷性、表面の膜硬度などの物理的強度が劣ることとなるおそれがある。
また光重合開始剤(C)は、成分(A)、(B)および(D)の総重量100重量部に対して0.1〜20重量部含むのが好ましい。光重合開始剤(C)の量が上記範囲を外れる場合は、光硬化性が不十分となり、物理的強度が劣ることとなるおそれがある。
When the amount of the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) is less than the above range, the resulting fingerprint-resistant coating layer may be deteriorated in fingerprint resistance, inferior in bending resistance or curling property and the like. is there. Moreover, when the quantity of polyether frame | skeleton containing urethane (meth) acrylate (A) exceeds the said range, there exists a possibility that steel wool resistance or solvent resistance may fall. When the amount of the photopolymerizable polyfunctional compound (B) is less than 30% by weight, physical strength such as scratch resistance and surface film hardness may be deteriorated.
Moreover, it is preferable that 0.1-20 weight part of photoinitiators (C) are included with respect to 100 weight part of total weight of component (A), (B) and (D). When the amount of the photopolymerization initiator (C) is out of the above range, the photocurability may be insufficient and the physical strength may be deteriorated.

他の成分
本発明の耐指紋性光硬化性組成物は、必要に応じて、エチレン性不飽和基を1個有する化合物を配合することもできる。このような化合物を含めることによって、得られるコーティング液の粘度、得られるコーティング層の密着性、硬度、および柔軟性を調整することができる。エチレン性不飽和基を1個有する化合物としては、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレートなどの環状構造を有する(メタ)アクリレート化合物;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート;フェノキシエチル(メタ)アクリレートなどのフェノールのアルコキシオキシド付加物の(メタ)アクリレート化合物;エチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレーとなどのグリコールのモノ(メタ)アクリレート;N−ビニルピドリロン、N−ビニルカプロラクタムなどのビニル化合物などが挙げられる。
Other Components The anti-fingerprint photocurable composition of the present invention can be blended with a compound having one ethylenically unsaturated group, if necessary. By including such a compound, the viscosity of the resulting coating liquid, the adhesion of the resulting coating layer, the hardness, and the flexibility can be adjusted. Examples of the compound having one ethylenically unsaturated group include (meth) acrylate compounds having a cyclic structure such as cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meta ) Acrylates, hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxypropyl (meth) acrylate; (meth) acrylate compounds of alkoxy oxide adducts of phenols such as phenoxyethyl (meth) acrylate; ethylene glycol mono (meth) acrylate, methoxy Glycol mono (medium) such as ethylene glycol mono (meth) acrylate, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, and tripropylene glycol mono (meth) acrylate. ) Acrylate; N- Binirupidoriron, vinyl compounds such as N- vinyl caprolactam.

本発明の耐指紋性光硬化性組成物は、必要に応じて無機粒子または有機粒子などの充填剤を含んでもよい。無機粒子または有機粒子を含むことによって、コーティング層の耐擦傷性および表面の膜硬度をさらに向上させたり、防眩性を付与することができる。これらの無機粒子または無機粒子は、平均粒径5nm〜数μm程のものであるのがより好ましい。用いることができる無機粒子として、例えば、金属または金属の酸化物の微粒子を挙げることができる。金属としては、例えば、Si、Ti、Al、Zn、Zr、In、Sn、Sbなどが挙げられる。具体的な無機粒子として、例えばシリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニアなどが挙げられる。さらに、これらの無機粒子は、粒子表面をUV硬化可能な官能基、例えばアクリレート基で変性処理してあることがより好ましい。また、用いることができる有機粒子として、例えば、アクリル、ポリエステルなどの有機粒子が挙げられる。   The fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention may contain a filler such as inorganic particles or organic particles as necessary. By including inorganic particles or organic particles, the scratch resistance and surface film hardness of the coating layer can be further improved, or antiglare properties can be imparted. These inorganic particles or inorganic particles are more preferably those having an average particle diameter of about 5 nm to several μm. Examples of inorganic particles that can be used include fine particles of metal or metal oxide. Examples of the metal include Si, Ti, Al, Zn, Zr, In, Sn, and Sb. Specific examples of the inorganic particles include silica, alumina, zirconia, and titania. Furthermore, it is more preferable that these inorganic particles have a particle surface modified with a UV curable functional group such as an acrylate group. Examples of organic particles that can be used include organic particles such as acrylic and polyester.

なお、無機粒子または有機粒子を用いる場合は、耐指紋性光硬化性組成物の固形分重量に対して0.1〜50重量%ほど用いるのが好ましい。無機粒子または有機粒子の含有量が50重量%を超える場合は、得られるコーティング層の膜強度が弱くなるおそれがある。   In addition, when using an inorganic particle or an organic particle, it is preferable to use about 0.1 to 50 weight% with respect to the solid content weight of a fingerprint-proof photocurable composition. When the content of inorganic particles or organic particles exceeds 50% by weight, the film strength of the resulting coating layer may be weakened.

本発明の耐指紋性光硬化性組成物はさらに、必要に応じて、希釈溶媒としての有機溶媒を含んでもよい。このような有機溶媒として、例えば、用いられる溶媒の具体例としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ミネラルスピリットなどの脂肪族系溶媒;メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒;ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アニソール、フェネトールなどのエーテル系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、エチレングリコールジアセテートなどのエステル系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエーテルエステル系溶媒;メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒;ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒;などが挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよく、また混合して用いてもよい。   The fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention may further contain an organic solvent as a dilution solvent, if necessary. Examples of such organic solvents include, for example, aromatic solvents such as toluene and xylene; aliphatic solvents such as hexane, heptane, octane, and mineral spirit; methyl ethyl ketone, acetone, and methyl Ketone solvents such as isobutyl ketone and cyclohexanone; ether solvents such as diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, anisole and phenetole; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, ethylene glycol diacetate Amide solvents such as dimethylformamide, diethylformamide, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone; cellosolv solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve; ether ester systems such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate Solvents; Alcohol solvents such as methanol, ethanol and propanol; Halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane and chloroform; These solvents may be used alone or in combination.

本発明の耐指紋性光硬化性組成物はさらに、必要に応じて、光重合開始助剤、帯電防止剤、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、消泡剤、レベリング剤、顔料などの通常用いられる添加剤を含んでもよい。例えば、好ましく用いることができる光重合開始助剤として、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジブチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミンなどが挙げられる。   The anti-fingerprint photocurable composition of the present invention further comprises a photopolymerization initiation aid, an antistatic agent, a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antifoaming agent, and leveling as required. Commonly used additives such as agents and pigments may be included. Examples of photopolymerization initiation assistants that can be preferably used include ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, dibutylethanolamine, and methyldiethanolamine.

耐指紋性光硬化性組成物
本発明の耐指紋性光硬化性組成物は、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)、光重合性多官能化合物(B)および光重合開始剤(C)、そして必要に応じたポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)を含有する。そして本発明の耐指紋性光硬化性組成物を用いることによって、単層であっても耐指紋性に非常に優れ、かつ耐擦傷性、表面の膜硬度および耐指紋性耐久性にも優れたコーティング層を、形成することができる。
Fingerprint-resistant photocurable composition The fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention comprises a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A), a photopolymerizable polyfunctional compound (B), and a photopolymerization initiator (C ), And optionally polyether or polyether (meth) acrylate (D). And by using the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention, even a single layer is very excellent in fingerprint resistance, and also excellent in scratch resistance, surface film hardness and fingerprint resistance durability. A coating layer can be formed.

また、本発明の耐指紋性光硬化性組成物は光硬化性である。そのため、コーティング層を形成する際に、加熱重合させる必要がないという利点を有する。光学表示装置の中には、例えば樹脂フィルムなど耐熱性が低い部材を含んでいるものも多く含まれる。本発明の耐指紋性光硬化性組成物は、そのような耐熱性が低い部材を含む光学表示装置そして樹脂フィルムに対しても、良好にコーティング層を形成することができるという利点を有する。   The fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention is photocurable. Therefore, when forming a coating layer, it has the advantage that it is not necessary to heat-polymerize. Many optical display devices include a member having a low heat resistance such as a resin film. The fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention has an advantage that a coating layer can be satisfactorily formed even for an optical display device and a resin film including such a member having low heat resistance.

本発明の耐指紋性光硬化性組成物は、上記成分を混合することによって調製することができる。また、組成物の調製時に、必要に応じて、希釈に用いることができる有機溶媒を用いてもよい。なお、本発明の耐指紋性光硬化性組成物は、希釈して用いてもよく、また希釈することなく用いてもよい。   The fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention can be prepared by mixing the above components. Moreover, you may use the organic solvent which can be used for dilution as needed at the time of preparation of a composition. In addition, the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention may be used after being diluted or may be used without being diluted.

耐指紋性光硬化性組成物の調製方法としては、例えば、上記ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)、光重合性多官能化合物(B)および光重合開始剤(C)、そして必要に応じたポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)および添加剤、有機溶媒などを混合することによって、調製することができる。   As a method for preparing a fingerprint-resistant photocurable composition, for example, the above polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A), photopolymerizable polyfunctional compound (B) and photopolymerization initiator (C), and necessary Can be prepared by mixing a polyether or polyether (meth) acrylate (D) according to the above, an additive, an organic solvent, and the like.

なお本発明の耐指紋性光硬化性組成物は、シリコーン系添加剤およびフッ素系添加剤いずれも含まないのが好ましい。これらの添加剤は、得られるコーティング層の撥水性および撥油性を向上させ防汚性を向上させる作用がある一方、この撥水性および撥油性の向上によりコーティング層に付着した油脂成分をはじいてしまい、かえって汚れが目立ってしまうおそれがあるからである。   The fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention preferably contains neither a silicone-based additive nor a fluorine-based additive. While these additives have the effect of improving the water repellency and oil repellency of the resulting coating layer and improving the antifouling property, the improvement of the water repellency and oil repellency repels the oil and fat components adhering to the coating layer. This is because the dirt may be noticeable.

本発明の耐指紋性光硬化性組成物を用いることにより、耐指紋性フィルムを容易に調製することができる。この耐指紋性フィルムは、透明基材とコーティング層とを有する。このコーティング層は、上記の耐指紋性光硬化性組成物から形成される層であり、この層の存在によって耐指紋性が発揮されることとなる。   By using the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention, a fingerprint-resistant film can be easily prepared. This fingerprint-resistant film has a transparent substrate and a coating layer. This coating layer is a layer formed from the above-mentioned fingerprint-resistant photocurable composition, and the presence of this layer exhibits fingerprint resistance.

耐指紋性フィルムの調製に用いられる透明基材としては、各種透明プラスチックフィルム、例えばトリアセチルセルロース(TAC)フィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルムなどが使用できる。透明基材として、ポリエチレンテレフタレートを使用するのが好ましい。なお、透明基材の厚さは、用途に応じて適時選択することができるが、一般に25〜1000μm程で用いられる。   Transparent substrates used for preparing the fingerprint-resistant film include various transparent plastic films such as triacetyl cellulose (TAC) film, polyethylene terephthalate (PET) film, diacetyl cellulose film, acetate butyrate cellulose film, polyethersulfone. Films, polyacrylic resin films, polyurethane resin films, polyester films, polycarbonate films, polysulfone films, polyether films, polymethylpentene films, polyetherketone films, (meth) acrylonitrile films, and the like can be used. Polyethylene terephthalate is preferably used as the transparent substrate. In addition, although the thickness of a transparent base material can be selected timely according to a use, generally it is used at about 25-1000 micrometers.

耐指紋性を有するコーティング層は、透明基材上に、上記の耐指紋性光硬化性組成物を塗装することにより形成される。耐指紋性光硬化性組成物の塗装方法は、耐指紋性光硬化性組成物および塗装工程の状況に応じて適時選択することができ、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(この方法は米国特許2681294号明細書に記載される公知の方法である。)などにより塗装することができる。   The coating layer having fingerprint resistance is formed by coating the above-mentioned fingerprint-resistant photocurable composition on a transparent substrate. The coating method of the fingerprint-resistant photocurable composition can be selected as appropriate according to the fingerprint-resistant photocurable composition and the state of the coating process, such as dip coating, air knife coating, curtain coating, The coating can be performed by a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method or an extrusion coating method (this method is a known method described in US Pat. No. 2,681,294).

透明基材上に塗装された耐指紋性光硬化性組成物は、次いで活性エネルギー線の照射に曝されることによって硬化し、これにより耐指紋性のコーティング層が形成される。なお本明細書において「光硬化性」という用語は広義の意味で用いられており、遠紫外線、紫外線、近紫外線、赤外線などの光線に加えて、X線、γ線などの電磁波、電子線、プロトン線、中性子線などの活性エネルギー線を照射することによって硬化する性質を意味する。この中でも、硬化速度、照射装置の入手のし易さ、価格などの面から、紫外線照射による硬化が有利である。紫外線硬化させる方法としては、200〜500nm波長域の光を発する高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ等を用いて、100〜3000mJ/cmほど照射する方法などが挙げられる。 The fingerprint-resistant photocurable composition painted on the transparent substrate is then cured by being exposed to active energy rays, thereby forming a fingerprint-resistant coating layer. In this specification, the term “photocurability” is used in a broad sense, and in addition to rays such as far ultraviolet rays, ultraviolet rays, near ultraviolet rays, and infrared rays, electromagnetic waves such as X-rays and γ rays, electron beams, It means the property of curing when irradiated with active energy rays such as proton rays and neutron rays. Among these, curing by ultraviolet irradiation is advantageous from the viewpoint of curing speed, availability of an irradiation apparatus, price, and the like. Examples of the ultraviolet curing method include a method of irradiating about 100 to 3000 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp or the like that emits light in a wavelength range of 200 to 500 nm.

また、本発明の耐指紋性光硬化性組成物を、光学表示装置の表面上に塗装することによって、光学表示装置の表面上にコーティング層を形成することができる。本発明の耐指紋性光硬化性組成物を用いてコーティング層を設けることができる光学表示装置として、タッチパネルディスプレイ、液晶表示ディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ、蛍光ディスプレイ、プラズマディスプレイパネルなどが挙げられる。これらの光学表示装置の表面に用いられる各種透明プラスチックフィルム、透明プラスチック板およびガラスなどに、本発明の耐指紋性光硬化性組成物を塗布することによって、光学表示装置の表面上にコーティング層を形成することができる。   In addition, a coating layer can be formed on the surface of the optical display device by coating the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention on the surface of the optical display device. Examples of the optical display device that can be provided with a coating layer using the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention include a touch panel display, a liquid crystal display, a light-emitting diode display, an electroluminescence display, a fluorescent display, and a plasma display panel. Can be mentioned. By applying the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention to various transparent plastic films, transparent plastic plates and glass used on the surface of these optical display devices, a coating layer is formed on the surface of the optical display device. Can be formed.

さらに本発明の耐指紋性光硬化性組成物を、金属メッキ加工または金属メッキ加工がなされたような塗装によって鏡面仕上げが施された物品の表面上に塗装することによって、これらの物品の表面上に耐指紋性のコーティング層を形成することができる。鏡面仕上げが施された物品として、例えば、携帯情報端末、家庭用電気製品、家具、室内調度品または化粧品のケースなどが挙げられる。これらの鏡面仕上げが施された物品の表面上に、耐指紋性のコーティング層を設けることによって、指紋跡の付着を防ぐことができる。   Furthermore, by applying the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention onto the surfaces of articles that have been mirror-finished by metal plating or coating that has been subjected to metal plating, A coating layer having fingerprint resistance can be formed. Examples of the article having a mirror finish include portable information terminals, household electrical appliances, furniture, indoor furniture, and cosmetic cases. By providing a fingerprint-resistant coating layer on the surface of the article having such a mirror finish, it is possible to prevent fingerprint marks from being attached.

耐指紋性光硬化性組成物の塗装方法としては、例えば、スピンコート法、ディップコート法、グラビアコート法、スプレー法、ローラー法、はけ塗り法などが挙げられる。そして塗装する光学表示装置の種類に応じて、適した塗装方法を選択することができる。耐指紋性光硬化性組成物の塗装において、得られるコーティング層の厚さが0.1〜20μmとなるように塗装するのが好ましい。こうして塗装された耐指紋性光硬化性組成物は、上記と同様に活性エネルギー線の照射に曝されることによって硬化し、これにより耐指紋性のコーティング層が形成される。   Examples of the coating method for the fingerprint-resistant photocurable composition include a spin coating method, a dip coating method, a gravure coating method, a spray method, a roller method, and a brush coating method. A suitable coating method can be selected in accordance with the type of optical display device to be coated. In the application of the fingerprint-resistant photocurable composition, it is preferable to apply the coating layer so that the resulting coating layer has a thickness of 0.1 to 20 μm. The fingerprint-resistant photocurable composition thus coated is cured by being exposed to active energy rays in the same manner as described above, whereby a fingerprint-resistant coating layer is formed.

以下の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。実施例中、「部」および「%」は、ことわりのない限り、重量基準による。   The following examples further illustrate the present invention, but the present invention is not limited thereto. In the examples, “parts” and “%” are based on weight unless otherwise specified.

製造例1 両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A1)の調製
イソホロンジイソシアネート(IPDI)666重量部、ポリプロピレングリコール(ポリプロピレングリコール1000、キシダ化学(株)社製)2000重量部、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(混合重量比60:40)900重量部を、反応容器に加え、さらに触媒としてジブチルスズジラウレートを1000ppm、重合禁止剤としてハイドロキノンを1000ppm、および溶媒としてメチルイソブチルケトン(MIBK、固形分が40%となる量で用いた。)を加えて、空気を吹き込みながら80℃で3時間混合した。
Production Example 1 Preparation of polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A1) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends 666 parts by weight of isophorone diisocyanate (IPDI), polypropylene glycol (polypropylene glycol 1000, Kishida Chemical Co., Ltd.) 2000 parts by weight, 900 parts by weight of a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (mixing weight ratio 60:40) is added to the reaction vessel, and 1000 ppm of dibutyltin dilaurate as a catalyst, a polymerization inhibitor. Add 1000 ppm of hydroquinone, and methyl isobutyl ketone (MIBK, used in an amount of 40% solid content) as a solvent, and mix at 80 ° C. for 3 hours while blowing air. did.

こうして、両末端にアクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A1)を得た。得られたポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートのSP値および水トレランス値を測定したところ、SP値10.8および水トレランス値3.5であった。また重量平均分子量は7000であった。なお重量平均分子量はGPC測定によるポリスチレン換算値で表した。   Thus, a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A1) having an acrylate group at both ends was obtained. When the SP value and water tolerance value of the obtained polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate were measured, the SP value was 10.8 and the water tolerance value was 3.5. The weight average molecular weight was 7000. The weight average molecular weight was expressed in terms of polystyrene by GPC measurement.

製造例2 両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A2)の調製
イソホロンジイソシアネート(IPDI)44重量部、ポリプロピレングリコール(ポリプロピレングリコール4000、キシダ化学(株)社製)800重量部、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(混合重量比60:40)90重量部を、反応容器に加え、さらに触媒としてジブチルスズジラウレートを1000ppm、重合禁止剤としてハイドロキノンを1000ppm、および溶媒としてメチルイソブチルケトン(MIBK、固形分が40%となる量で用いた。)を加えて、空気を吹き込みながら80℃で3時間攪拌反応させた。
Production Example 2 Preparation of polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A2) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends 44 parts by weight of isophorone diisocyanate (IPDI), polypropylene glycol (polypropylene glycol 4000, Kishida Chemical) 800 parts by weight, 90 parts by weight of a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (mixing weight ratio 60:40) is added to the reaction vessel, and 1000 ppm of dibutyltin dilaurate as a catalyst, a polymerization inhibitor As a solvent, hydroquinone was added at 1000 ppm, and as a solvent, methyl isobutyl ketone (MIBK, used in such an amount that the solid content was 40%) was added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 3 hours while blowing air. Let

こうして、両末端にアクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A2)を得た。得られたポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートのSP値および水トレランス値を測定したところ、SP値10.7および水トレランス値3.7であった。また重量平均分子量は9000であった。なお重量平均分子量はGPC測定によるポリスチレン換算値で表した。   Thus, a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A2) having an acrylate group at both ends was obtained. When the SP value and water tolerance value of the obtained polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate were measured, the SP value was 10.7 and the water tolerance value was 3.7. The weight average molecular weight was 9000. The weight average molecular weight was expressed in terms of polystyrene by GPC measurement.

製造例3 両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A3)の調製
イソホロンジイソシアネート(IPDI)44重量部、ポリプロピレングリコール(ポリプロピレングリコール2000、キシダ化学(株)社製)400重量部、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(混合重量比60:40)90重量部を、反応容器に加え、さらに触媒としてジブチルスズジラウレートを1000ppm、重合禁止剤としてハイドロキノンを1000ppm、および溶媒としてメチルイソブチルケトン(MIBK、固形分が40%となる量で用いた。)を加えて、空気を吹き込みながら80℃で3時間攪拌反応させた。
Production Example 3 Preparation of polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A3) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends 44 parts by weight of isophorone diisocyanate (IPDI), polypropylene glycol (polypropylene glycol 2000, Kishida Chemical Co., Ltd.) 400 parts by weight, 90 parts by weight of a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (mixing weight ratio 60:40) is added to the reaction vessel, and 1000 ppm of dibutyltin dilaurate as a catalyst, a polymerization inhibitor As a solvent, hydroquinone was added at 1000 ppm, and as a solvent, methyl isobutyl ketone (MIBK, used in such an amount that the solid content was 40%) was added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 3 hours while blowing air. Let

こうして、両末端にアクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A3)を得た。得られたポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートのSP値および水トレランス値を測定したところ、SP値11.1および水トレランス値4.8であった。また重量平均分子量は8000であった。なお重量平均分子量はGPC測定によるポリスチレン換算値で表した。   Thus, a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A3) having acrylate groups at both ends was obtained. When the SP value and water tolerance value of the obtained polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate were measured, the SP value was 11.1 and the water tolerance value was 4.8. The weight average molecular weight was 8,000. The weight average molecular weight was expressed in terms of polystyrene by GPC measurement.

製造例4 両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A4)の調製
イソホロンジイソシアネート(IPDI)44重量部、ポリプロピレングリコール(Pluronic PE3100、BASFジャパン(株)社製)200重量部、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(混合重量比60:40)90重量部を、反応容器に加え、さらに触媒としてジブチルスズジラウレートを1000ppm、重合禁止剤としてハイドロキノンを1000ppm、および溶媒としてメチルイソブチルケトン(MIBK、固形分が40%となる量で用いた。)を加えて、空気を吹き込みながら80℃で3時間攪拌反応させた。
Production Example 4 Preparation of polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A4) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends 44 parts by weight of isophorone diisocyanate (IPDI), polypropylene glycol (Pluronic PE3100, BASF Japan ( 200 parts by weight, 90 parts by weight of a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (mixing weight ratio 60:40) is added to the reaction vessel, and 1000 ppm of dibutyltin dilaurate as a catalyst and a polymerization inhibitor Hydroquinone was added at 1000 ppm, and methyl isobutyl ketone (MIBK, used in an amount of 40% solid content) was added as a solvent, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 3 hours while blowing air.

こうして、両末端にアクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A4)を得た。得られたポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートのSP値および水トレランス値を測定したところ、SP値11.7および水トレランス値5.6であった。また重量平均分子量は7000であった。なお重量平均分子量はGPC測定によるポリスチレン換算値で表した。   Thus, a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A4) having acrylate groups at both ends was obtained. When the SP value and water tolerance value of the obtained polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate were measured, the SP value was 11.7 and the water tolerance value was 5.6. The weight average molecular weight was 7000. The weight average molecular weight was expressed in terms of polystyrene by GPC measurement.

比較製造例1 ウレタンアクリレート(1)の調製
イソホロンジイソシアネート(IPDI)222重量部、ポリプロピレングリコール(ポリプロピレングリコール1000、キシダ化学(株)社製)1000重量部、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(混合重量比60:40)450重量部を、反応容器に加え、さらに触媒としてジブチルスズジラウレートを1000ppm、重合禁止剤としてハイドロキノンを1000ppm、および溶媒としてメチルイソブチルケトン(MIBK、固形分が40%となる量で用いた。)を加えて、空気を吹き込みながら80℃で3時間混合して、ウレタンアクリレート(1)を得た。
Comparative Production Example 1 Preparation of Urethane Acrylate (1) 222 parts by weight of isophorone diisocyanate (IPDI), 1000 parts by weight of polypropylene glycol (polypropylene glycol 1000, manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.), a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (Mixed weight ratio 60:40) 450 parts by weight is added to the reaction vessel, and further dibutyltin dilaurate is 1000 ppm as a catalyst, hydroquinone is 1000 ppm as a polymerization inhibitor, and methyl isobutyl ketone (MIBK, solid content is 40%) as a solvent. The mixture was mixed at 80 ° C. for 3 hours while blowing air to obtain urethane acrylate (1).

得られたウレタンアクリレートは、片方の末端にアクリレート基を有するものであった。また得られたウレタンアクリレートのSP値および水トレランス値を測定したところ、SP値11.2および水トレランス値5.2であった。また重量平均分子量は3000であった。なお重量平均分子量はGPC測定によるポリスチレン換算値で表した。   The obtained urethane acrylate had an acrylate group at one end. Moreover, when SP value and water tolerance value of the obtained urethane acrylate were measured, they were SP value 11.2 and water tolerance value 5.2. The weight average molecular weight was 3000. The weight average molecular weight was expressed in terms of polystyrene by GPC measurement.

比較製造例2 ウレタン化合物の調製
イソホロンジイソシアネート(IPDI)222重量部、ポリプロピレングリコール(ポリプロピレングリコール1000、キシダ化学(株)社製)2000重量部を、反応容器に加え、さらに触媒としてジブチルスズジラウレートを1000ppm、重合禁止剤としてハイドロキノンを1000ppm、および溶媒としてメチルイソブチルケトン(MIBK、固形分が40%となる量で用いた。)を加えて、空気を吹き込みながら80℃で3時間混合して、ウレタン化合物を得た。
Comparative Production Example 2 Preparation of Urethane Compound 222 parts by weight of isophorone diisocyanate (IPDI) and 2000 parts by weight of polypropylene glycol (polypropylene glycol 1000, manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) were added to the reaction vessel, and further 1000 ppm of dibutyltin dilaurate as a catalyst. Add 1000 ppm of hydroquinone as a polymerization inhibitor and methyl isobutyl ketone (MIBK, used in an amount that makes the solid content 40%) as a solvent, and mix at 80 ° C. for 3 hours while blowing air. Obtained.

また得られたウレタン化合物のSP値および水トレランス値を測定したところ、SP値11.0および水トレランス値4.7であった。また重量平均分子量は6000であった。なお重量平均分子量はGPC測定によるポリスチレン換算値で表した。   Moreover, when SP value and water tolerance value of the obtained urethane compound were measured, they were SP value 11.0 and water tolerance value 4.7. The weight average molecular weight was 6000. The weight average molecular weight was expressed in terms of polystyrene by GPC measurement.

参考例1 耐指紋性光硬化性組成物の調製
製造例1により得られたポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート 40重量部、アロニックスM305(ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(混合重量比約60:40) 60重量部およびイルガキュア184D(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン) 3重量部を混合し、そしてMIBKを溶媒として不揮発分率が40重量%となるように調整し、耐指紋性光硬化性組成物を得た。
Reference Example 1 Preparation of anti-fingerprint photocurable composition Polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate obtained by Production Example 1 40 parts by weight, Aronics M305 (mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (mixed weight) Ratio of about 60:40) 60 parts by weight and 3 parts by weight of Irgacure 184D (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) were mixed and adjusted so that the nonvolatile content was 40% by weight using MIBK as a solvent. A fingerprinting photocurable composition was obtained.

得られた組成物を、PETフィルム(厚さ100μm)上にバーコーター(No.12)にて、乾燥膜厚が5μmとなるようにバーコート塗装し、80℃で1分間加熱して溶媒を除去乾燥した。その後、高圧水銀灯(120W/cm)で紫外線を300mJ/cmの工ネルギーとなるように露光し、硬化させることにより、コーティング層を形成し、耐指紋性フィルムを得た。 The obtained composition was bar-coated on a PET film (thickness 100 μm) with a bar coater (No. 12) so that the dry film thickness was 5 μm, and heated at 80 ° C. for 1 minute to remove the solvent. Removed and dried. Thereafter, the coating layer was formed by exposing and curing ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp (120 W / cm) so as to have an energy of 300 mJ / cm 2 , thereby obtaining a fingerprint-resistant film.

実施例2〜17 耐指紋性光硬化性組成物の調製
表1〜3に示される原料を表1〜3で示される重量部で用いたこと以外は、参考例1と同様にして、耐指紋性光硬化性組成物を得た。また参考例1と同様にしてコーティング層を形成し、耐指紋性フィルムを得た。なお実施例5のみ、乾燥膜厚が3μmとなるように塗装した。
Examples 2 to 17 Preparation of anti-fingerprint photocurable composition In the same manner as in Reference Example 1 except that the raw materials shown in Tables 1 to 3 were used in parts by weight shown in Tables 1 to 3, fingerprint resistance Photocurable composition was obtained. A coating layer was formed in the same manner as in Reference Example 1 to obtain a fingerprint-resistant film. Only Example 5 was coated so that the dry film thickness was 3 μm.

比較例1〜14 光硬化性組成物の調製
表4〜5に示される原料を表4〜5で示される重量部で用いたこと以外は、参考例1と同様にして、耐指紋性光硬化性組成物を得た。また参考例1と同様にしてコーティング層を形成し、耐指紋性フィルムを得た。
Comparative Examples 1-14 Preparation of Photocurable Composition Fingerprint-resistant photocuring in the same manner as in Reference Example 1 except that the raw materials shown in Tables 4-5 were used in parts by weight shown in Tables 4-5. Sex composition was obtained. A coating layer was formed in the same manner as in Reference Example 1 to obtain a fingerprint-resistant film.

得られたコーティング層を有するサンプルの評価を下記記載のように行なった。なお、これらの評価方法により得られた結果を下記表に示す。   The samples with the resulting coating layers were evaluated as described below. The results obtained by these evaluation methods are shown in the following table.

耐指紋性評価(オレイン酸拭き取り評価)
得られたサンプルのコーティング層上に、オレイン酸を1滴垂らした。次いでクリーンワイパーを用いて10往復回数拭き取った。評価試験前および評価試験後のサンプルのヘイズを上記に従い測定し、△ヘイズ値を求めた。得られた△ヘイズ値の値に従って、下記基準によって耐指紋性評価を行った。
5点:△ヘイズが0.5未満
4点:△ヘイズが0.5以上、1.0未満
3点:△ヘイズが1.0以上、3.0未満
2点:△ヘイズが3.0以上、5.0未満
1点:△ヘイズが5.0以上
Fingerprint resistance evaluation (Oleic acid wiping evaluation)
One drop of oleic acid was dropped on the coating layer of the obtained sample. Subsequently, it wiped off 10 times using a clean wiper. The haze of the sample before and after the evaluation test was measured according to the above, and the Δ haze value was determined. According to the obtained Δhaze value, fingerprint resistance was evaluated according to the following criteria.
5 points: ΔHaze is less than 0.5 4 points: ΔHaze is 0.5 or more and less than 1.0 3 points: ΔHaze is 1.0 or more and less than 3.0 2 points: ΔHaze is 3.0 or more , Less than 5.0 1 point: ΔHaze is 5.0 or more

なおヘイズ値は、次のようにして測定した。ヘイズメーター(スガ試験機社製)を用いて、サンプルの拡散透光率(T(%))および上記全光線透過率(T(%))を測定し、ヘイズ値を算出した。なお、表中に示される全光線透過率(%)およびヘイズ(%)は、いずれも、コーティング層の調製に基材として用いられた厚さ100μmのPETフィルム部分を介在して測定された値である。 The haze value was measured as follows. Using a haze meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), the sample was measured for the diffuse transmittance (T d (%)) and the total light transmittance (T t (%)), and the haze value was calculated. The total light transmittance (%) and haze (%) shown in the table are values measured through a PET film portion having a thickness of 100 μm used as a base material for the preparation of the coating layer. It is.

Figure 0004638954
Figure 0004638954

H:ヘイズ(曇価)(%)
:拡散透光率(%)
:全光線透過率(%)
H: Haze (cloudiness value) (%)
T d : Diffuse transmittance (%)
T t : Total light transmittance (%)

耐スチールウール性の評価
得られたサンプルのコーティング層上において、#0000のスチールウールを、500g/cmの荷重下にて、100往復させた。その後、評価試験後の硬化膜表面の目視評価をおこない、下記基準によって耐スチールウール性評価を行った。
◎:キズほぼなし
○:キズ2本以下
△:キズ3本以上、10本以下
×:キズ11本以上
In the coating layer of the evaluation sample obtained in steel wool resistance, a steel wool # 0000, under a load of 500 g / cm s, was 100 reciprocating. Thereafter, visual evaluation of the surface of the cured film after the evaluation test was performed, and steel wool resistance was evaluated according to the following criteria.
◎: Almost no scratch ○: Scratch 2 or less △: Scratch 3 or more, 10 or less ×: Scratch 11 or more

耐溶剤性の評価
硬化膜表面上を、MEK(メチルエチルケトン)を含浸させた綿棒で100往復回数軽く擦りつけ、試験後の塗膜表面の状態を目視にて以下のように評価した。
○:痕跡なし
△:わずかに痕跡有り
×:白化
Evaluation of solvent resistance The cured film surface was lightly rubbed 100 times with a cotton swab impregnated with MEK (methyl ethyl ketone), and the state of the coating film surface after the test was visually evaluated as follows.
○: No trace Δ: Slight trace ×: Whitening

ペン摺動性の評価
ポリアセタール製のペン(先端の形状:0.8mmR)に200gの荷重をかけ、4万回(往復2万回)の直線摺動試験を硬化膜表面上でおこなった。この時の摺動距離は30mm、摺動速度は300mm/秒とした。この摺動耐久性試験後に、摺動部を目視によって観察した。
○:ほぼ痕跡なし
△:わずかに痕跡有り
×:白化
Evaluation of Pen Sliding Property A 200 g load was applied to a polyacetal pen (tip shape: 0.8 mmR), and a linear sliding test was performed 40,000 times (reciprocating 20,000 times) on the surface of the cured film. The sliding distance at this time was 30 mm, and the sliding speed was 300 mm / second. After this sliding durability test, the sliding portion was visually observed.
○: Almost no trace △: Slight trace present ×: Whitening

耐屈曲性の評価
硬化塗膜フィルムを、JIS K 5600に準じて円筒形マンドレル法にて測定した。塗膜にクラックが入らなかった円筒の最小直径から以下のように評価した。
○:直径13mm未満
△:直径13以上〜18mm未満
×:直径18mm以上
Evaluation of Flexibility A cured coating film was measured by a cylindrical mandrel method according to JIS K 5600. Evaluation was made as follows from the minimum diameter of the cylinder in which no cracks occurred in the coating film.
○: Less than 13 mm in diameter △: More than 13 to less than 18 mm in diameter ×: More than 18 mm in diameter

カール性の評価
硬化塗膜フィルムを10cm角の正方形に切り取り、静置時の4角の浮き上がり量の平均値(mm)で評価した。
○:10mm未満
△:10mm以上、30mm未満
×:30mm以上
Evaluation of curling property A cured coating film was cut into a 10 cm square, and evaluated by an average value (mm) of the lifted height of the four corners at the time of standing.
○: Less than 10 mm Δ: 10 mm or more, less than 30 mm ×: 30 mm or more

上記実施例1〜16および比較例1〜14の配合および評価結果を下記表にまとめて示す。なお表中の記号は下記内容を示すものである。
・UV−6100B:日本合成化学(株)社製、両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有するポリエーテル骨格含有ウレタンアクリレート、重量平均分子量5000
・UV−3700B:日本合成化学(株)社製、両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有するポリエーテル骨格含有ウレタンアクリレート、重量平均分子量41000
・UA−47:東邦化学(株)社製、両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有するポリエーテル骨格含有ウレタンアクリレート、重量平均分子量2000
・U−324A:新中村化学(株)社製、ウレタンアクリレート
・DPHA−40H:日本化薬(株)社製、ウレタンアクリレート
・アロニックスM305:東亞合成(株)社製、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(混合重量比約60:40)
・アロニックスM309:東亞合成(株)社製、トリメチロールプロパントリアクリレート
・アロニックスM350:東亞合成(株)社製、トリメチロールプロパン3EO変性トリアクリレート
・アロニックスM450:東亞合成(株)社製、ペンタエリスリトールテトラアクリレート
・イルガキュア184D:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
・イルガキュア907:2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリフォリノプロパン−1−オン
・ポリプロピレングリコール400:キシダ化学(株)社製、ポリプロピレングリコール、平均分子量400
・ポリプロピレングリコール700:キシダ化学(株)社製、ポリプロピレングリコール、平均分子量700
・ポリプロピレングリコール1000:キシダ化学(株)社製、ポリプロピレングリコール、平均分子量1000
・PE−3100:Pluronic PE3100、BASFジャパン(株)社製、ポリプロピレングリコール90%、ポリエチレングリコール10%のブロックポリマー、分子量1000
・PE−61:三洋化成工業(株)社製、ポリプロピレングリコール86%、ポリエチレングリコール14%のブロックポリマー、分子量2000
・APG−700:新中村化学(株)社製、ポリエーテルジアクリレート
・UX−5000:日本化薬(株)社製、ポリエステルアクリレート
・UX−5001T:日本化薬(株)社製、ポリエステルアクリレート
・エポキシエステル70PA:共栄社化学(株)社製、エポキシアクリレート
・エポキシエステル80MFA:共栄社化学(株)社製、エポキシアクリレート
・BYK320:ビッグケミージャパン(株)社製、シリコン系表面調整剤
The composition and evaluation results of Examples 1 to 16 and Comparative Examples 1 to 14 are summarized in the following table. The symbols in the table indicate the following contents.
UV-6100B: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., polyether skeleton-containing urethane acrylate having at least one (meth) acrylate group at each end, weight average molecular weight 5000
UV-3700B: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., polyether skeleton-containing urethane acrylate having at least one (meth) acrylate group at each end, weight average molecular weight 41000
UA-47: manufactured by Toho Chemical Co., Ltd., polyether skeleton-containing urethane acrylate having at least one (meth) acrylate group at each of both ends, weight average molecular weight 2000
U-324A: Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., urethane acrylate DPHA-40H: Nippon Kayaku Co., Ltd., urethane acrylate Aronix M305: Toagosei Co., Ltd., pentaerythritol triacrylate and penta Mixture of erythritol tetraacrylate (mixing weight ratio about 60:40)
・ Aronix M309: manufactured by Toagosei Co., Ltd., trimethylolpropane triacrylate ・ Aronix M350: manufactured by Toagosei Co., Ltd., trimethylolpropane 3EO modified triacrylate ・ Aronix M450: manufactured by Toagosei Co., Ltd., pentaerythritol Tetraacrylate Irgacure 184D: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone Irgacure 907: 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one polypropylene glycol 400: Kishida chemistry Co., Ltd., polypropylene glycol, average molecular weight 400
Polypropylene glycol 700: manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd., polypropylene glycol, average molecular weight 700
Polypropylene glycol 1000: manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd., polypropylene glycol, average molecular weight 1000
PE-3100: Pluronic PE3100, manufactured by BASF Japan Ltd., 90% polypropylene glycol, 10% polyethylene glycol block polymer, molecular weight 1000
PE-61: Sanyo Chemical Industries, Ltd., 86% polypropylene glycol, 14% polyethylene glycol block polymer, molecular weight 2000
APG-700: Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., polyether diacrylate, UX-5000: Nippon Kayaku Co., Ltd., polyester acrylate, UX-5001T: Nippon Kayaku Co., Ltd., polyester acrylate Epoxy ester 70PA: manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., epoxy acrylateEpoxy ester 80MFA: manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., epoxy acrylate BYK320: manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd., silicon-based surface conditioner

Figure 0004638954
Figure 0004638954

Figure 0004638954
Figure 0004638954

Figure 0004638954
Figure 0004638954

Figure 0004638954
Figure 0004638954

Figure 0004638954

*上記表中、比較製造例1のウレタンアクリレート(1)は、片方の末端にのみアクレート基を有するものであり、比較製造例2は、末端にアクリレート基を有しないウレタン化合物である。
Figure 0004638954

* In the above table, the urethane acrylate (1) of Comparative Production Example 1 has an acrylate group only at one end, and Comparative Production Example 2 is a urethane compound having no acrylate group at the end.

上記表に示されるように、実施例の耐指紋性光硬化性組成物により得られた耐指紋性フィルムはいずれも、耐指紋性、耐スチールウール性、耐溶剤性、ペン摺動性、耐屈曲性、カール性の何れも優れるものであることが確認できた。
比較例1は、片方の末端にアクリレート基を有するウレタンアクリレートを用いた実験例である。この場合は、耐指紋性は優れる一方で、耐スチールウール性および耐溶剤性などが劣るものであった。
比較例2は、末端にアクリレート基を有さないウレタン化合物を用いた実験例である。この場合は、耐指紋性は優れる一方で、耐スチールウール性および耐溶剤性などが大きく劣るものである。
比較例3〜4は、SP値または水トレランス値が、本発明の範囲外であるウレタンアクリレートを用いた実験例である。この場合は、耐指紋性が劣ることが確認された。
比較例5および6は、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)の代わりにポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)を用いた実験例である。この場合は、耐スチールウール性およびペン摺動性が劣ることが確認された。
比較例7および8は、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)の代わりにポリエステルアクリレートを用いた実験例である。この場合は、耐指紋性が発現しないことが確認された。
比較例9および10は、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)の代わりにエポキシアクリレートを用いた実験例である。この場合もまた、耐指紋性が発現しないことが確認された。
比較例11〜14は、光重合性多官能化合物(B)のみで調製した実験例である。この場合もまた、耐指紋性が発現しないことが確認された。
As shown in the above table, all of the anti-fingerprint films obtained from the anti-fingerprint photocurable compositions of the examples are anti-fingerprint, anti-steel wool, solvent resistance, pen sliding, It was confirmed that both flexibility and curling properties were excellent.
Comparative Example 1 is an experimental example using urethane acrylate having an acrylate group at one end. In this case, while fingerprint resistance was excellent, steel wool resistance and solvent resistance were inferior.
Comparative Example 2 is an experimental example using a urethane compound having no acrylate group at the terminal. In this case, fingerprint resistance is excellent, but steel wool resistance and solvent resistance are greatly inferior.
Comparative Examples 3 to 4 are experimental examples using urethane acrylate whose SP value or water tolerance value is outside the scope of the present invention. In this case, it was confirmed that the fingerprint resistance was inferior.
Comparative Examples 5 and 6 are experimental examples using polyether or polyether (meth) acrylate (D) in place of the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A). In this case, it was confirmed that the steel wool resistance and the pen sliding property were inferior.
Comparative Examples 7 and 8 are experimental examples using polyester acrylate instead of the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A). In this case, it was confirmed that fingerprint resistance does not appear.
Comparative Examples 9 and 10 are experimental examples using epoxy acrylate instead of the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A). Also in this case, it was confirmed that the fingerprint resistance was not exhibited.
Comparative Examples 11-14 are experimental examples prepared only with the photopolymerizable polyfunctional compound (B). Also in this case, it was confirmed that the fingerprint resistance was not exhibited.

本発明の耐指紋性光硬化性組成物を用いることによって、光学表示装置などの表面に、優れた耐指紋性を有するコーティング層を、より簡便に設けることができる。本発明の耐指紋性光硬化性組成物により得られるコーティング層は、透明性にも優れており、光学表示装置などの表面における使用に非常に適している。本発明の耐指紋性光硬化性組成物により得られるコーティング層は、さらに、優れた耐擦傷性および表面の膜硬度を有する。さらに本発明の耐指紋性光硬化性組成物は光硬化性であるため、このような優れた性能を有するコーティング層を、光学表示装置の表面上により簡便に形成できる。本発明の耐指紋性光硬化性組成物を用いることによって、生産効率および製造コストに優れたコーティング層を形成することができるという産業上の利点を有する。さらにこのコーティング層は、耐指紋性を長期間維持させることができ、耐指紋性耐久性にも優れている。   By using the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention, a coating layer having excellent fingerprint resistance can be more easily provided on the surface of an optical display device or the like. The coating layer obtained by the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention has excellent transparency and is very suitable for use on the surface of an optical display device or the like. The coating layer obtained by the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention further has excellent scratch resistance and surface film hardness. Furthermore, since the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention is photocurable, a coating layer having such excellent performance can be more easily formed on the surface of the optical display device. By using the fingerprint-resistant photocurable composition of the present invention, there is an industrial advantage that a coating layer excellent in production efficiency and production cost can be formed. Furthermore, this coating layer can maintain fingerprint resistance for a long period of time, and is excellent in fingerprint resistance durability.

本発明の耐指紋性フィルムの断面該略図である。1 is a cross-sectional schematic view of a fingerprint-resistant film of the present invention.

1…耐指紋性フィルム、3…コーティング層、5…透明基材。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Fingerprint-resistant film, 3 ... Coating layer, 5 ... Transparent base material.

Claims (5)

両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)0.5〜40重量%、
光重合性多官能化合物(B)6598重量%、および
光重合開始剤(C)を、成分(A)および(B)の総重量100重量部に対して0.1〜20重量部、
含み、
該ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)、ポリイソシアネート(b)および水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)を反応させることによって調製されるものであって、
下記式(1):
Figure 0004638954
[式中、Xは、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物の両末端の水酸基を除いた残基を示す。]
で示される構造を有する、重量平均分子量3000〜9000のポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートであって、および
該ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)の水トレランスが6.0ml以下であり、溶解性パラメータが12以下である、
耐指紋性光硬化性組成物。
0.5 to 40% by weight of a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends,
65 to 98 % by weight of the photopolymerizable polyfunctional compound (B), and 0.1 to 20 parts by weight of the photopolymerization initiator (C) with respect to 100 parts by weight of the total weight of the components (A) and (B),
Including
The polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) is prepared by reacting a polyol compound (a) having a polyether skeleton, a polyisocyanate (b), and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c). And
Following formula (1):
Figure 0004638954
[In formula, X shows the residue except the hydroxyl group of the both ends of the polyol compound which has a polyether frame | skeleton. ]
A polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate having a weight average molecular weight of 3000 to 9000 and a water tolerance of the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) of 6.0 ml or less. Yes, the solubility parameter is 12 or less,
Fingerprint-resistant photocurable composition.
さらに、ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)を含み、
ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)0.5〜40重量%、
光重合性多官能化合物(B)65〜89重量%、
ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)2〜20重量%、
(但し、上記成分(A)、(B)および(D)の総重量が100重量%となることを条件とする)、および
光重合開始剤(C)を、成分(A)、(B)および(D)の総重量100重量部に対して0.1〜20重量部、
を含む、
請求項1記載の耐指紋性光硬化性組成物。
In addition, polyether or polyether (meth) acrylate (D),
0.5 to 40% by weight of polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A),
65 to 89% by weight of the photopolymerizable polyfunctional compound (B),
Polyethers or polyether (meth) acrylate (D). 2 to 20 wt%,
(Provided that the total weight of the components (A), (B) and (D) is 100% by weight), and the photopolymerization initiator (C) are added to the components (A) and (B). And 0.1 to 20 parts by weight relative to 100 parts by weight of the total weight of (D),
including,
The fingerprint-resistant photocurable composition according to claim 1.
透明基材およびコーティング層を有する耐指紋性フィルムであって、該コーティング層が請求項1または2記載の耐指紋性光硬化性組成物によって形成されるコーティング層である、耐指紋性フィルム。   A fingerprint-resistant film having a transparent substrate and a coating layer, wherein the coating layer is a coating layer formed by the fingerprint-resistant photocurable composition according to claim 1 or 2. 請求項1または2記載の耐指紋性光硬化性組成物によって形成される耐指紋性コーティング層が設けられた塗装物。   A coated article provided with a fingerprint-resistant coating layer formed of the fingerprint-resistant photocurable composition according to claim 1 or 2. 前記塗装物が、タッチパネルディスプレイ、液晶表示ディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ、蛍光ディスプレイ、プラズマディスプレイパネルまたは鏡面仕上げが施された物品である、請求項4記載の塗装物。   The coated article according to claim 4, wherein the painted article is a touch panel display, a liquid crystal display, a light emitting diode display, an electroluminescence display, a fluorescent display, a plasma display panel, or an article having a mirror finish.
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