KR20180059155A - Deposition Method for Champagne Gold Color - Google Patents

Deposition Method for Champagne Gold Color Download PDF

Info

Publication number
KR20180059155A
KR20180059155A KR1020160158385A KR20160158385A KR20180059155A KR 20180059155 A KR20180059155 A KR 20180059155A KR 1020160158385 A KR1020160158385 A KR 1020160158385A KR 20160158385 A KR20160158385 A KR 20160158385A KR 20180059155 A KR20180059155 A KR 20180059155A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plating
protective layer
sputter
plated
fingerprint
Prior art date
Application number
KR1020160158385A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
백우성
이상문
변나은
신형섭
Original Assignee
주식회사 셀코스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 셀코스 filed Critical 주식회사 셀코스
Priority to KR1020160158385A priority Critical patent/KR20180059155A/en
Priority to PCT/KR2017/011806 priority patent/WO2018097488A1/en
Publication of KR20180059155A publication Critical patent/KR20180059155A/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0015Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterized by the colour of the layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C9/00Alloys based on copper
    • C22C9/01Alloys based on copper with aluminium as the next major constituent
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/228Gas flow assisted PVD deposition
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58After-treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

The present invention relates to a method to plate a champagne gold color, using a sputter to perform plating. According to the present invention, the method to plate the champagne gold color comprises: a plating preparation step of placing an object to be plated at a plating position in the sputter, and placing a sputter target made of an alloy substance including copper and aluminum in the sputter; and a plating step of plating the object to be plated by sputtering which collides ion with the sputter target prepared in the plating preparation step to deposit a sputtered substance on the object to be plated. Accordingly, the object to be plated is able to be plated in order to represent the champagne gold color, which is represented by a color corresponding to a* = 1 to 5 and b* = 13 to 19 based on a commission internationale de l′Eclairage (CIE) color coordinate L*a*b* expression defined by CIE, thus enhancing reproducibility of the champagne gold color and preventing generation of a decoloring effect. Accordingly, disclosed is a technology capable of enhancing plating quality of an object, such as an ornament and the like, to be plated.

Description

샴페인골드 색상 도금방법{Deposition Method for Champagne Gold Color}Champagne Gold Coloring Method {Deposition Method for Champagne Gold Color}

본 발명은 앰블럼이나 장식물 등이 특정 색상을 갖도록 도금시키는 도금방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 국제조명위원회(CIE)에서 규정한 CIE 색좌표 L*a*b* 표현법에 의거하여 명도 L*는 78 내지 95 사이에 해당되고, a*는 1 내지 5 사이에 해당되고 b*는 13 내지 19 에 해당되는 색상으로 표현되는 샴페인골드 색상을 도금시키는 도금방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plating method for plating an emblem or a decorative material to have a specific color. More specifically, the brightness L * is 78 (L * a * b *) based on the CIE color coordinates L * And a * corresponds to between 1 and 5, and b * corresponds to a color corresponding to between 13 and 19. The present invention also relates to a method for plating a champagne gold color.

스마트폰, 자동차, 가전제품 등 다양한 제품들에는 미적으로 고급스러운 느낌을 주기 위하여 앰블럼이나 장식품 등과 같은 장식성 제품들이 부착되는 경우가 많다. 이러한 장식성 제품들은 대체로 사출성형 등의 방법으로 사출물을 형성시키고 금속성의 고급스러운 느낌을 주기 위하여 도금을 한다.Many products, such as smart phones, automobiles, and household appliances, often have decorative products such as ambulances and ornaments to give aesthetically pleasing feeling. These ornamental products generally are formed by injection molding or the like and are plated to give an elegant feeling of metallicity.

여기서 다양한 색상을 구현하기 위하여 다양한 도금재료와 도금방법을 적용하여 생산하고 있다. 도금방법으로는 크게 습식도금과 건식도금으로 나뉠 수 있는데 습식도금의 경우 환경상의 문제, 제조비용과 시간 등에서 건식도금에 비하여 다양한 문제점이 있다. 따라서, 주로 스퍼터장비와 같은 진공증착설비를 이용한 건식도금에 대한 기술연구개발이 많이 이루어지고 있다. Here, various plating materials and plating methods are applied to produce various colors. Plating methods can be classified into wet plating and dry plating. Wet plating has various problems compared to dry plating in environmental problems, manufacturing cost and time. Therefore, a lot of research and development on dry plating using vacuum deposition equipment such as sputter equipment has been performed.

이러한 건식도금에 관련하여 대한민국 등록특허 제 10-0646009호 (에이비에스수지 및 플라스틱 상의 건식도금 방법.) 등에서는 사출성형물인 플라스틱 등에 대한 건식도금기술이 개시되어 있다. In connection with such dry plating, Korean Patent Registration No. 10-0646009 (a method of dry-plating an epoxy resin and a plastic material) discloses a dry-plating technique for plastics as an injection-molded product.

그러나 이러한 선행기술 1 등에는 다음과 같은 문제점이 있었다. However, the prior art 1 has the following problems.

샴페인골드 등과 같이 특정 색상을 구현하기 위하여 둘 이상의 금속성 스퍼터타겟을 함께 증착에 이용하면서 불활성가스와 여러 반응가스를 함께 사용하여야 하는 경우도 있다. 둘 이상의 스퍼터타겟과 여러 가스종류를 사용하여 건식도금을 하는 경우 동일한 조건이지만 도금 색상의 재연성이 떨어지는 문제점이 있었다. In some cases, two or more metallic sputter targets may be used together for deposition to implement a particular color, such as champagne gold, while using inert gases and multiple reaction gases. When dry plating is performed using two or more kinds of sputter targets and various kinds of gases, there is a problem that the reproducibility of the plating color is lowered under the same conditions.

본 발명의 목적은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 스퍼터장비를 이용하여 샴페인골드와 같은 특정 색상의 도금 재연성을 향상시킬 수 있는 샴페인골드 색상 도금방법을 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of coloring champagne gold which can improve the plating reproducibility of a specific color such as champagne gold by using sputter equipment.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 샴페인골드 도금방법은 도금시킬 도금대상체를 스퍼터(sputter) 내 도금위치에 위치시키고, 구리 및 알루미늄을 포함하는 합금물질로 이루어진 스퍼터타겟(sputter target)을 스퍼터 내에 위치시키는 도금준비단계; 및 상기 도금준비단계에서 준비된 상기 스퍼터타겟에 이온을 충돌시켜서 상기 도금대상체에 증착시키는 스퍼터링에 의해 상기 도금대상체를 도금시키는 도금단계;를 포함함으로써, 국제조명위원회(CIE)에서 규정한 CIE 색좌표 L*a*b* 표현법에 의거하여 a*는 1 내지 5 사이에 해당되고 b*는 13 내지 19 에 해당되는 색상으로 표현되는 샴페인골드 색상을 나타내도록 상기 도금대상체를 도금시키는 것을 하나의 특징으로 할 수도 있다. According to an aspect of the present invention, there is provided a method for plating a sputter target, the sputter target comprising a sputter target made of an alloy material including copper and aluminum, target in a sputtering process; And a plating step of plating the plating object by sputtering in which ions are collided with the sputter target prepared in the plating preparation step to deposit the plating target on the plating object, thereby obtaining the CIE color coordinate L * defined by the International Lighting Committee (CIE) According to the a * b * expression method, one may characterize that the plating object is plated to exhibit a champagne gold color represented by a * in the range of 1 to 5 and b * in the range of 13 to 19 have.

여기서, 샴페인골드 색상의 명도 L*는 78 내지 95 사이에 해당되는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Here, another characteristic may be that the brightness L * of the champagne gold color falls between 78 and 95.

여기서, 상기 도금단계에서, 소정의 진공도에서 이루어지는 상기 스퍼터링의 분위기가스로 불활성가스를 공급시켜주는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Here, in the plating step, the inert gas may be supplied to the atmospheric gas of the sputtering at a predetermined degree of vacuum.

나아가, 상기 불활성가스는 아르곤이며, 상기 분위기가스로

Figure pat00001
를 더 공급시켜주는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Further, the inert gas is argon, and the atmospheric gas
Figure pat00001
As shown in Fig.

더 나아가, 상기 분위기가스로서 공급되는 아르곤과

Figure pat00002
의 SCCM(Standard Cubic Centimeter per Minute) 비는 1 : 0.04 내지 1 : 0.15 사이에 해당되는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Further, argon supplied as the atmospheric gas and
Figure pat00002
The standard cubic centimeter per minute (SCCM) ratio of 1: 0.04 to 1: 0.15.

여기서, 상기 스퍼터타겟은 구리 및 알루미늄으로 이루어진 합금물질로서, 구리 및 알루미늄의 중량비(wt%)는 80 : 20 내지 90 : 10 사이에 해당되는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Here, the sputter target may be an alloy material made of copper and aluminum, and the weight ratio (wt%) of copper and aluminum is between 80:20 and 90:10.

여기서, 상기 도금단계에서 상기 도금대상체에 대하여 도금을 시켜서 형성된 도금층의 상측에 보호층을 형성시키는 보호층형성단계; 를 더 포함하는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Forming a protective layer on the plating layer formed by plating the plating object in the plating step; May be further included.

나아가, 상기 보호층은

Figure pat00003
인 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Furthermore,
Figure pat00003
May be another feature.

나아가, 상기 보호층형성단계에서 형성된 상기 보호층의 상측에 지문자국이 남지 않도록 안티지문(Anti-Finger print)층을 형성시키는 안티지문층형성단계; 를 더 포함하는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Forming an anti-fingerprint layer on the anti-fingerprint layer so that a fingerprint is not left on the protective layer formed in the protective layer; May be further included.

더 나아가, 상기 안티지문층형성단계에서 형성되는 상기 안티지문층은, 안티지문액을 상기 보호층 위에 스프레이 도포한 후 건조시켜서 형성되는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Further, the anti-fingerprint layer formed in the anti-fingerprint layer forming step may be further characterized in that the anti-fingerprint liquid is formed by spraying the anti-fingerprint liquid onto the protective layer and drying the anti-fingerprint liquid.

더 나아가, 상기 안티지문액에 대한 건조는 자외선을 조사하여 이루어지는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Furthermore, drying of the anti-fingerprint liquid may be performed by irradiating ultraviolet rays.

본 발명에 따른 샴페인골드 도금방법에 따르면, 국제조명위원회(CIE)에서 규정한 CIE 색좌표 L*a*b* 표현법에 의거하여 명도 L*는 78 내지 95 사이에 해당되고, a*는 1 내지 5 사이에 해당되며, b*는 13 내지 19 에 해당되는 색상으로 표현되는 샴페인골드 색상의 재연성을 증진시켜주고 이색현상 등의 발생을 억제할 수 있므로 앰블럼이나 장식물 등과 같은 도금대상체에 대한 도금품질을 향상시켜 주는 효과가 있다. According to the champagne gold plating method according to the present invention, the brightness L * corresponds to 78 to 95 in accordance with the CIE color coordinate L * a * b * expression scheme defined by the International Lighting Committee (CIE), a * , B * improves the reproducibility of the champagne gold color represented by the color corresponding to 13 to 19, and suppresses the occurrence of the dichroic phenomenon. Therefore, the plating quality for the plating object such as the ambulance or the decorative object There is an effect to improve.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 샴페인골드 색상 도금방법을 개략적으로 나타낸 순서도이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 샴페인골드 색상 도금방법에서, 아르곤 분위기가스 속에서 구리 및 알루미늄 합금물질로된 스퍼터타겟을 이용하여 증착시켰을 경우와 구리, 알루미늄 스퍼터타겟 각각을 함께 이용하여 증착시켰을 경우 도금된 색상의 색좌표 및 파장별 반사율을 개략적으로 비교해 볼 수 있도록 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 샴페인골드 색상 도금방법에서, 아르곤과 질소 분위기가스 속에서 구리 및 알루미늄의 합금물질로 된 스퍼터타겟을 이용하여 증착시켰을 경우와 구리, 알루미늄 스퍼터타겟 각각을 함께 이용하여 증착시켰을 경우 도금된 색상의 색좌표 및 파장별 반사율을 개략적으로 비교해 볼 수 있도록 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 샴페인골드 색상 도금방법에서, 증착도금된 도금층 표면을 나타낸 SEM 이미지를 개략적으로 나타낸 이미지도면이다.
도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 샴페인골드 색상 도금방법에서, 증착도금된 도금층의 표면을 나타낸 AFM 이미지 등을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 샴페인골드 색상 도금방법에서, 증착도금된 도금층의 고유성분을 그래프로 나타낸 XPS도면이다.
1 is a flowchart schematically illustrating a method of coloring champagne gold according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a graph showing the results of the deposition of the copper and aluminum sputter targets using a sputter target made of copper and an aluminum alloy material in an argon atmosphere gas in the case of the Champagne gold color plating method according to an embodiment of the present invention. The color coordinates of the plated color and the reflectance according to the wavelength can be roughly compared.
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the deposition of copper and an aluminum sputter target when a sputter target made of an alloy material of copper and aluminum is used in an atmosphere of argon and nitrogen in the method of coloring champagne gold according to an embodiment of the present invention The color coordinates of the plated color and the reflectance for each wavelength can be roughly compared with each other.
FIG. 4 is a schematic view showing an SEM image showing a surface of a plated layer deposited by vapor deposition in a champagne gold color plating method according to an embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 5 is a schematic view showing an AFM image or the like showing the surface of a plated layer deposited by vapor deposition in a champagne gold color plating method according to an embodiment of the present invention.
FIG. 6 is an XPS diagram showing the intrinsic components of a plated layer deposited by vapor deposition in a champagne gold color plating method according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수도 있고, 여러 가지 실시 예를 가질 수도 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시적으로 도시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 후술할 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수도 있다.The present invention may take various transformations and may have various embodiments, and specific embodiments are illustrated by way of example in the drawings and will be described in detail in the detailed description. The effects and features of the present invention and methods of achieving them will be apparent with reference to the following embodiments together with the drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be implemented in various forms.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응되는 구성요소는 가급적 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to the same or corresponding elements throughout.

이하의 실시 예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. In the following examples, the singular forms "a", "an" and "the" include plural referents unless the context clearly dictates otherwise.

이하의 실시 예에서, 포함한다 또는 가지다 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.In the following examples, terms such as "comprising" or "having" mean that a feature or element described in the specification is present, and does not preclude the possibility that one or more other features or components will be added.

도면에서는 설명의 편의와 이해를 돕기 위하여 구성요소들의 크기가 과장 또는 축소되어 도시될 수도 있다. 예컨대, 도면에서 나타나는 각 구성의 크기, 길이, 각도나 두께 등은 설명의 편의 및 이해를 돕기 위해 임의적으로 도시된 것이며, 설명되는 순서와 반대로 진행될 수도 있다. In the drawings, the sizes of components may be exaggerated or reduced to facilitate understanding and understanding. For example, the sizes, lengths, angles, and thicknesses of the respective components shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience and understanding of the description, and may be reversed to the order described.

이하에서는 본 발명에 대하여 보다 구체적으로 이해할 수 있도록 첨부된 도면을 참조한 바람직한 실시 예를 들어 설명하기로 한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 샴페인골드 색상 도금방법을 개략적으로 나타낸 순서도이고, 도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 샴페인골드 색상 도금방법에서, 아르곤 분위기가스 속에서 구리 및 알루미늄의 합금물질로 된 스퍼터타겟을 이용하여 증착시켰을 경우와 구리, 알루미늄 스퍼터타겟 각각을 함께 이용하여 증착시켰을 경우 도금된 색상의 색좌표 및 파장별 반사율을 개략적으로 비교해 볼 수 있도록 나타낸 도면이며, 도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 샴페인골드 색상 도금방법에서, 아르곤과 질소 분위기가스 속에서 구리 및 알루미늄 합금물질로된 스퍼터타겟을 이용하여 증착시켰을 경우와 구리, 알루미늄 스퍼터타겟 각각을 함께 이용하여 증착시켰을 경우 도금된 색상의 색좌표 및 파장별 반사율을 개략적으로 비교해 볼 수 있도록 나타낸 도면이고, 도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 샴페인골드 색상 도금방법에서, 증착도금된 도금층 표면을 나타낸 SEM 이미지를 개략적으로 나타낸 이미지도면이며, 도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 샴페인골드 색상 도금방법에서, 증착도금된 도금층의 표면을 나타낸 AFM 이미지 등을 개략적으로 나타낸 도면이다.FIG. 1 is a flow chart schematically illustrating a method of coloring champagne gold according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic view illustrating a method of coloring a champagne gold according to an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a view showing a schematic comparison of the color coordinates of the plated color and the reflectance according to the wavelength when deposition is carried out using a sputter target made of copper and an aluminum sputter target together, and FIG. In the case of depositing using a sputter target made of copper and an aluminum alloy material in a argon and nitrogen atmosphere gas and depositing using both a copper and an aluminum sputter target together in a champagne gold color plating method according to an embodiment, So that it can be compared with the color coordinates and the reflectance of each wavelength. 4 is a schematic view showing an SEM image showing a surface of a plating layer plated with a metal in a champagne gold color plating method according to an embodiment of the present invention, An AFM image or the like showing the surface of a plated layer deposited by vapor deposition in a color plating method.

먼저 도 1을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 샴페인골드 색상 도금 방법은, 국제조명위원회(CIE)에서 규정한 CIE 색좌표 L*a*b* 표현법에 의거하여 명도 L*는 78 내지 95 사이에 해당되고, a*는 1 내지 5 사이에 해당되며, b*는 13 내지 19 에 해당되는 색상으로 표현되는 샴페인골드 색상으로 도금시키는 방법으로서, 도금준비단계(S110) 및 도금단계(S120)를 포함하며, 바람직하게는 보호층형성단계(S130)를 더 포함하고, 더욱 바람직하게는 안티지문층형성단계(S140)를 더 포함하여 이루어진다. Referring to FIG. 1, the champagne gold color plating method according to an embodiment of the present invention has a brightness L * of 78 to 95 according to the CIE color coordinates L * a * b * , A * corresponds to between 1 and 5, and b * corresponds to a champagne gold color represented by a color corresponding to 13 to 19. The plating preparation step (S110) and the plating step (S120) (S130), and more preferably, forming an anti-fingerprint layer (S140).

이러한 샴페인골드 색상 도금방법은 스퍼터(sputter)장비와 같은 증착장비 내에서 이루어질 수 있으며, 본 실시 예에서는 스퍼터장비를 이용하여 증착에 의한 도금이 이루어지는 것을 예로서 설명하기로 한다. The method for plating the champagne gold may be performed in a deposition apparatus such as a sputtering apparatus. In this embodiment, plating is performed by deposition using a sputtering apparatus.

<<S110>><< S110 >>

먼저, 도금준비단계(S110)는 도금시킬 도금대상체(100)를 스퍼터(sputter)(미도시) 내 도금위치에 위치시키고, 스퍼터타겟(sputter)(미도시)을 스퍼터 내에 위치시키는 단계이다. First, a plating preparation step (S110) is a step of placing a plating target object 100 to be plated at a plating position in a sputter (not shown) and positioning a sputter target (not shown) in the sputter.

구리로 된 스퍼터타겟과 알루미늄으로된 스퍼터타겟 각각을 별도로 준비하여 스퍼터 내에 위치시키고, 도금단계(S120)에서 함께 증착(co-deposition)하는 것도 바람직하겠으나. 구리 및 알루미늄을 포함하는 합금물질인 단일 스퍼터타겟을 이용하는 것이 바람직하다. It is also preferable that the sputter target made of copper and the sputter target made of aluminum are separately prepared and placed in the sputtering and co-deposition in the plating step (S120). It is preferable to use a single sputter target which is an alloy material including copper and aluminum.

여기서, 구리 및 알루미늄으로 이루어진 합금물질로 이루어진 스퍼터타겟에서 구리 및 알루미늄의 중량비(wt%)는 80 : 20 내지 90 : 10 사이에 해당되는 것이 바람직하다.Here, the weight ratio (wt%) of copper and aluminum in the sputter target made of an alloy material of copper and aluminum is preferably between 80:20 and 90:10.

<<S120>><< S120 >>

도금단계(S120)는 도금준비단계(S110)에서 준비된 스퍼터타겟에 이온을 충돌시켜서 도금대상체(100)에 증착시키는 스퍼터링에 의해 도금대상체(100)를 도금시키는 단계이다. The plating step S120 is a step of plating the plating target body 100 by sputtering in which the ions are collided with the sputter target prepared in the plating preparation step S110 and are deposited on the plating target body 100. [

이러한 도금단계(S120)에서는 소정의 진공도에서 8족 원소인 불활성가스를 분위기가스로 하여 스퍼터링이 이루어지는 것이 바람직하다. In this plating step (S120), it is preferable that sputtering is performed using an inert gas which is a Group 8 element at a predetermined degree of vacuum as an atmospheric gas.

여기서 분위기가스라 함은 스퍼터링이 이루어지는 챔버 환경 속에서 스퍼터링을 위해 스퍼터타겟 주변에 존재하는 가스를 말한다. 따라서, 본 명세서 상에서 분위기가스는 스퍼터장비에서 방전가스와 반응가스를 총칭한다. 굳이 방전가스와 반응가스를 구분한다면, 방전가스는 불활성가스이며, 반응가스는 후술할

Figure pat00004
등과 같은 가스를 의미한다고 할 수 있다.Here, the atmospheric gas refers to a gas existing around the sputter target for sputtering in a chamber environment where sputtering is performed. Therefore, in the present specification, the atmospheric gas is collectively referred to as the discharge gas and the reactive gas in the sputtering equipment. If the discharge gas and the reactive gas are distinguished from each other, the discharge gas is an inert gas,
Figure pat00004
And the like.

그리고 불활성가스는 아르곤인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 아르곤과 소량의

Figure pat00005
를 함께 분위기가스로서 공급시켜주는 것이 바람직하다. The inert gas is preferably argon, more preferably argon and a small amount of
Figure pat00005
Are supplied together as the atmospheric gas.

여기서 분위기가스로서 공급되는 아르곤과

Figure pat00006
의 SCCM(Standard Cubic Centimeter per Minute) 비는 1 : 0.04 내지 1 : 0.15 사이에 해당되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 아르곤을 100SCCM 으로 한다면,
Figure pat00007
는 4 SCCM 내지 15 SCCM 사이에 해당되도록 설정하여 주는 것이 바람직하다는 것이다.Here, argon supplied as the atmospheric gas
Figure pat00006
The ratio of the standard cubic centimeter per minute (SCCM) is preferably between 1: 0.04 and 1: 0.15. For example, if argon is 100 SCCM,
Figure pat00007
Is preferably set to be between 4 SCCM and 15 SCCM.

이와 같은 방법으로 도금대상체(100)에 대하여 도금층(110)을 형성시켜준다.In this way, the plating layer 110 is formed on the plating target body 100.

여기서, 도 4 또는 도 5에서 참조되는 바와 같이 스퍼터타겟으로 구리와 알루미늄 각각을 따로 마련하여 함께 아르곤 분위기가스 속에서 증착시켜서 형성시킨 도금층(110)의 표면보다 구리와 알루미늄 합금물질로 된 단일한 스퍼터타겟으로 아르곤 분위기가스 속에서 증착시켜서 형성된 도금층(110)의 표면이 좀 더 고르게 형성된 것을 알 수 있다. Here, as shown in FIG. 4 or FIG. 5, a single sputter made of copper and an aluminum alloy material is formed on the surface of the plating layer 110 formed by separately depositing copper and aluminum in a sputter target and vapor- It can be seen that the surface of the plating layer 110 formed by depositing in the argon atmosphere gas as the target is formed more evenly.

그리고, 도 4에서 참조되는 바와 같이 구리와 알루미늄 합금물질로 된 단일한 스퍼터타겟으로 아르곤 분위기가스 속에서 증착시켜서 형성된 도금층(110)의 표면보다 질소와 아르곤 분위기가스 속에서 증착시켜서 형성된 도금층(110)의 표면이 더욱 고르게 형성된 것을 알 수 있다. As shown in FIG. 4, the plating layer 110 is formed by depositing in a nitrogen and argon atmosphere gas rather than the surface of the plating layer 110 formed by vapor deposition in an argon atmosphere gas with a single sputter target made of copper and an aluminum alloy material, It can be seen that the surface of the substrate is more uniformly formed.

이와 같이 도금층(110)의 표면의 고른 정도가 달리 형성되지만, 성분비는 3가지의 경우 모두 동일한 성분비를 나타나게 된다.In this way, the uniformity of the surface of the plating layer 110 is differently formed, but the composition ratios all show the same composition ratios in all three cases.

도금단계(S120)를 통해 도금층(110)을 형성시키는 것으로 마무리 지을 수도 있겠으나, 도금층(110)을 보호하기 위하여 보호층형성단계(S130)을 통하여 보호층을 형성시키는 것이 바람직하다.It is preferable to form the plating layer 110 through the plating step S120, but it is preferable to form the protective layer through the protective layer forming step S130 in order to protect the plating layer 110. [

<<S130>><< S130 >>

다음으로 보호층형성단계(S130)는 도금단계(S120)에서 도금대상체(100)에 대하여 도금을 시켜서 형성된 도금층(110)의 상측에 보호층(120)을 형성시키는 단계이다.The protective layer forming step S130 is a step of forming the protective layer 120 on the plating layer 110 formed by plating the plating target body 100 in the plating step S120.

여기서 보호층(120)은

Figure pat00008
인 것이 바람직하다. 그리고 이러한 보호층(120)은 스퍼터링 등에 의한 방법으로 형성시킬 수도 있다.Here, the protective layer 120
Figure pat00008
. The protective layer 120 may be formed by sputtering or the like.

도금층(110) 상측에

Figure pat00009
로 보호층(120)을 형성시키면, 변색 또는 이색현상이 발생되지 않도록 보호할 수 있으므로 바람직하다.On the upper side of the plating layer 110
Figure pat00009
It is preferable to form the protective layer 120 to prevent discoloration or a discoloration phenomenon from occurring.

또한 이와 같이

Figure pat00010
로 보호층(120)을 형성시키면 산화방지 및 내부식성이 향상되므로 바람직하다.Also,
Figure pat00010
It is preferable to form the protective layer 120 because oxidation and corrosion resistance are improved.

이상의 보호층(120)을 형성시키는 것까지만 해도 충분할 수 있으나, 보호층(120)에 사용자의 손 등과 접촉되는 경우 지문이 묻어나는 현상을 예방 내지 억제하기 위하여 다음과 같은 안티지문형성단계(S140)을 더 포함하여 이루어지는 것 또한 바람직하다. It may be sufficient to form the protective layer 120. In order to prevent or suppress the phenomenon of the fingerprints coming into contact with the user's hand or the like on the protective layer 120, Is further preferable.

<<S140>><< S140 >>

안티지문층형성단계(S140)는 보호층형성단계(S130)에서 형성된 보호층(120)의 상측에 지문자국이 남지 않도록 안티지문(Anti-Finger print)층(130)을 형성시키는 단계이다. The anti-fingerprint layer forming step S140 is a step of forming the anti-fingerprint layer 130 so that no fingerprint is left on the protective layer 120 formed in the protective layer forming step S130.

이러한 안티지문층형성단계(S140)에서 안티지문층(130)을 형성시키기 위하여 안티지문액을 보호층(130) 위에 도포시켜준다. 여기서 안티지문액을 보호층(130) 위에 도포시키는 방법으로 다양한 방법이 있을 수 있겠으나, 스프레이 도포 또는 스핀코팅 등의 방법을 이용하는 것 또한 충분히 가능하다.In order to form the anti-fingerprint layer 130 in the anti-fingerprint layer formation step S140, the anti-fingerprint liquid is coated on the protection layer 130. [ Here, various methods can be applied to coat the anti-fingerprint liquid on the protective layer 130, but it is also possible to use a method such as spray coating or spin coating.

안티지문액을 보호층(130)위에 고르게 도포시킨 후 건조시켜서 안티지문층(130)을 형성시키게 된다. 여기서 열을 가하여 건조시키는 것도 바람직하며, 이에 더하여 자외선을 조사하여 건조시킴으로써 안티지문층(130)을 형성시키는 것 또한 바람직하다. The anti-fingerprint liquid is uniformly coated on the protective layer 130, and then dried to form the anti-fingerprint layer 130. In this case, it is also preferable to apply heat to the film, and in addition, it is also preferable to form the anti-fingerprint layer 130 by irradiating ultraviolet rays and drying the film.

이와 같이 하여 안티지문층(130)을 형성시킬 수가 있다. Thus, the anti-fingerprint layer 130 can be formed.

이와 같이 안티지문층(130)을 형성시키게 되면 상온에서 경시변화현상 또는 산화현상의 발생이 억제되며, 스크레치 발생 또한 억제될 수 있으므로 바람직하다.If the anti-fingerprint layer 130 is formed as described above, occurrence of aging change or oxidation phenomenon at room temperature can be suppressed and occurrence of scratches can be suppressed.

이상에서 설명한 바와 같은 단계들을 통하여 샴페인골드 색상으로 도금시킬 수가 있게 된다.Through the steps as described above, it is possible to perform plating with champagne gold color.

참고로 아르곤 분위기가스 속에서 구리와 알루미늄이 80 : 20 내지 90 : 10 사이의 비율로 합금물질로 된 스퍼터타겟으로 도금한 경우와 구리와 알루미늄 각각 따로 된 스퍼터타겟으로 도금한 경우의 색좌표 및 파장별 반사율을 도 2에 개략적으로 나타내었다. For reference, in the case of plating with a sputter target made of an alloy material at a ratio of copper and aluminum in the ratio of 80:20 to 90:10 in an argon atmosphere gas and a case in which plating is performed with a sputter target separately made of copper and aluminum, The reflectance is schematically shown in Fig.

그리고, 아르곤과 소량의

Figure pat00011
분위기 가스 속에서 구리와 알루미늄이 80 : 20 내지 90 : 10 사이의 비율로 합금물질로 된 스퍼터타겟을 이용하여
Figure pat00012
의 양에 따른 색좌표와 파장별 반사율을 도 3에 개략적으로 나타내었다. Then, argon and a small amount of
Figure pat00011
Using a sputter target made of alloy material in a ratio of copper and aluminum in the atmosphere gas of 80:20 to 90:10
Figure pat00012
The color coordinates and the reflectance according to wavelength are schematically shown in Fig.

아울러, 본 발명의 실시 예에 따른 샴페인골드 색상 도금방법에서, 증착도금된 도금층의 고유성분을 나타낸 XPS그래프를 도 6에 도시하였다. 구리피크(WL43:Cu111,WL52:200)의 고유피크를 질소 공정가스를 두 조건으로 투입하여 WL43을 최소화 시키고 알루미늄의 WL45 피크를 단파장대로 Shift 됨을 나타내었다.FIG. 6 is an XPS graph showing the intrinsic composition of the plated layer deposited by vapor deposition in the champagne gold color plating method according to the embodiment of the present invention. The inherent peak of the copper peak (WL43: Cu111, WL52: 200) was injected under two conditions of nitrogen process gas to minimize WL43 and to shift the WL45 peak of aluminum to short wavelength.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 샴페인골드 색상 도금방법에 따르면, 국제조명위원회(CIE)에서 규정한 CIE 색좌표 L*a*b* 표현법에 의거하여 명도 L*는 78 내지 95 사이에 해당되고, a*는 1 내지 5 사이에 해당되며, b*는 13 내지 19 에 해당되는 색상으로 표현되는 샴페인골드 색상의 재연성을 증진시켜주고 이색현상 등의 발생을 억제할 수 있므로 앰블럼이나 장식물 등과 같은 도금대상체에 대한 도금품질을 향상시켜 주는 장점이 있다. As described above, according to the champagne gold color plating method according to the present invention, the brightness L * is in the range of 78 to 95 based on the CIE color coordinates L * a * b * expression method defined by the International Lighting Committee (CIE) the a * corresponds to between 1 and 5, the b * improves the reproducibility of the champagne gold color represented by the color corresponding to 13 to 19, and the occurrence of the dichromatic phenomenon can be suppressed, Thereby improving the plating quality of the object.

이상에서 설명된 바와 같이, 본 발명에 대한 구체적인 설명은 첨부된 도면을 참조한 실시 예들에 의해서 이루어졌지만, 상술한 실시 예들은 본 발명의 바람직한 실시 예를 들어 설명하였을 뿐이기 때문에, 본 발명이 상기의 실시 예에만 국한되는 것으로 이해되어져서는 아니되며, 본 발명의 권리범위는 후술하는 청구범위 및 그 등가개념으로 이해되어져야 할 것이다. While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It is to be understood that the scope of the present invention is to be construed as being limited only by the embodiments, and the scope of the present invention should be understood as the following claims and their equivalents.

100 : 도금대상체 110 : 도금층
120 : 보호층 130 : 안티지문층
100: Plating object 110: Plating layer
120: Protective layer 130: Anti-fingerprint layer

Claims (11)

도금시킬 도금대상체를 스퍼터(sputter) 내 도금위치에 위치시키고, 구리 및 알루미늄을 포함하는 합금(Alloy)물질로 이루어진 스퍼터타겟(sputter target)을 스퍼터 내에 위치시키는 도금준비단계; 및
상기 도금준비단계에서 준비된 상기 스퍼터타겟에 이온을 충돌시켜서 상기 도금대상체에 증착시키는 스퍼터링에 의해 상기 도금대상체를 도금시키는 도금단계;를 포함함으로써,
국제조명위원회(CIE)에서 규정한 CIE 색좌표 L*a*b* 표현법에 의거하여 a*는 1 내지 5 사이에 해당되고 b*는 13 내지 19 에 해당되는 색상으로 표현되는 샴페인골드 색상을 나타내도록 상기 도금대상체를 도금시키는 것을 특징으로 하는 샴페인골드 색상 도금방법.
A plating preparation step of placing a plating target to be plated in a plating position in a sputter and positioning a sputter target made of an alloy material including copper and aluminum in the sputter; And
And a plating step of plating the plating object by sputtering in which ions are collided with the sputter target prepared in the plating preparation step and deposited on the plating object,
According to the CIE color coordinates L * a * b * regulated by the International Commission on Illumination (CIE), a * corresponds to between 1 and 5 and b * corresponds to a champagne gold color expressed in colors between 13 and 19 Wherein the plating object is plated.
제 1항에 있어서,
상기 샴페인골드 색상의 명도 L*는 78 내지 95 사이에 해당되는 것을 특징으로 하는 샴페인골드 색상 도금방법.
The method according to claim 1,
Wherein the brightness L * of the champagne gold color is between 78 and 95.
제 1항에 있어서,
상기 도금단계에서,
소정의 진공도에서 이루어지는 상기 스퍼터링의 분위기가스로 불활성가스를 공급시켜주는 것을 특징으로 하는 샴페인골드 색상 도금방법.
The method according to claim 1,
In the plating step,
Wherein an inert gas is supplied to the atmospheric gas of the sputtering at a predetermined degree of vacuum.
제 3항에 있어서,
상기 불활성가스는 아르곤이며,
상기 분위기가스로
Figure pat00013
를 더 공급시켜주는 것을 특징으로 하는 샴페인골드 색상 도금방법.
The method of claim 3,
Wherein the inert gas is argon,
As the atmosphere gas
Figure pat00013
Wherein the method further comprises the steps of:
제 4항에 있어서,
상기 분위기가스로서 공급되는 아르곤과
Figure pat00014
의 SCCM(Standard Cubic Centimeter per Minute) 비는 1 : 0.04 내지 1 : 0.15 사이에 해당되는 것을 특징으로 하는 샴페인골드 색상 도금방법.
5. The method of claim 4,
Argon supplied as the atmospheric gas and
Figure pat00014
Wherein a ratio of a standard cubic centimeter per minute (SCCM) of the glass is between 1: 0.04 and 1: 0.15.
제 1항에 있어서,
상기 스퍼터타겟은 구리 및 알루미늄으로 이루어진 합금물질로서,
구리 및 알루미늄의 중량비(wt%)는 80 : 20 내지 90 : 10 사이에 해당되는 것을 특징으로 하는 샴페인골드 색상 도금방법.
The method according to claim 1,
Wherein the sputter target is an alloy material comprising copper and aluminum,
Wherein the weight ratio of copper and aluminum (wt%) is between 80:20 and 90:10.
제 1항에 있어서,
상기 도금단계에서 상기 도금대상체에 대하여 도금을 시켜서 형성된 도금층의 상측에 보호층을 형성시키는 보호층형성단계; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 샴페인골드 색상 도금방법.
The method according to claim 1,
A protective layer forming step of forming a protective layer on the plating layer formed by plating the plating object in the plating step; Further comprising the steps of:
제 7항에 있어서,
상기 보호층은
Figure pat00015
인 것을 특징으로 하는 샴페인골드 색상 도금방법.
8. The method of claim 7,
The protective layer
Figure pat00015
Wherein the method comprises the steps &lt; RTI ID = 0.0 &gt; of: &lt; / RTI &gt;
제 7항에 있어서,
상기 보호층형성단계에서 형성된 상기 보호층의 상측에 지문자국이 남지 않도록 안티지문(Anti-Finger print)층을 형성시키는 안티지문층형성단계; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 샴페인골드 색상 도금방법.
8. The method of claim 7,
Forming an anti-fingerprint layer on an upper side of the protective layer formed in the protective layer forming step to form an anti-fingerprint layer so that no fingerprint is left on the protective layer; Further comprising the steps of:
제 9항에 있어서,
상기 안티지문층형성단계에서 형성되는 상기 안티지문층은,
안티지문액을 상기 보호층 위에 스프레이 도포한 후 건조시켜서 형성되는 것을 특징으로 하는 샴페인골드 색상 도금방법.
10. The method of claim 9,
Wherein the anti-fingerprint layer formed in the anti-
Wherein the anti-fingerprint liquid is sprayed on the protective layer and then dried.
제 10항에 있어서,
상기 안티지문액에 대한 건조는 자외선을 조사하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 샴페인골드 색상 도금방법.

11. The method of claim 10,
Wherein the anti-fingerprint liquid is dried by irradiating ultraviolet rays.

KR1020160158385A 2016-11-25 2016-11-25 Deposition Method for Champagne Gold Color KR20180059155A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160158385A KR20180059155A (en) 2016-11-25 2016-11-25 Deposition Method for Champagne Gold Color
PCT/KR2017/011806 WO2018097488A1 (en) 2016-11-25 2017-10-25 Method for plating to express champagne gold color

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160158385A KR20180059155A (en) 2016-11-25 2016-11-25 Deposition Method for Champagne Gold Color

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20180059155A true KR20180059155A (en) 2018-06-04

Family

ID=62196219

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160158385A KR20180059155A (en) 2016-11-25 2016-11-25 Deposition Method for Champagne Gold Color

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR20180059155A (en)
WO (1) WO2018097488A1 (en)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3794719B2 (en) * 1994-03-31 2006-07-12 Tdk株式会社 Al alloy sputtering target and manufacturing method thereof
KR20010038852A (en) * 1999-10-27 2001-05-15 정민호 Method of Producing a Gold Colored Hard Coating Film for Decoration
KR20060026114A (en) * 2006-03-03 2006-03-22 김호욱 Sputtering target material for intercept the electromagnetic wave
JP4638954B2 (en) * 2008-09-16 2011-02-23 日本ペイント株式会社 Fingerprint-resistant photocurable composition and painted product provided with fingerprint-resistant coating layer
KR101287903B1 (en) * 2011-06-30 2013-07-19 한국기계연구원 A surface treatment goods having a color and method of surface treatment thereof

Also Published As

Publication number Publication date
WO2018097488A1 (en) 2018-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1994202B2 (en) Protective coating of silver
JP2011529134A (en) Method for manufacturing a layer system on a substrate and layer system
WO2007118042A3 (en) Depositing ruthenium films using ionized physical vapor deposition (ipvd)
CN107151780B (en) A kind of processing method of polymer surfaces
US20110236654A1 (en) Method of surface treatment and surface treated article provied by the same
TW201305357A (en) Coated articles and method for making the same
JP5889965B2 (en) Housing and manufacturing method thereof
EP0727506B1 (en) Golden ornament and method for production thereof
CN105671513A (en) Novel vacuum color coating process
KR20120026936A (en) Method for metallic coating on glass processed using pvd and glass processed using thereof
KR102075027B1 (en) Deposition Method for Dark Titan Color
KR20180059155A (en) Deposition Method for Champagne Gold Color
TW201311090A (en) Housing and method for making the same
JPS5920466A (en) Decoration method using metallic thin film
TW201522711A (en) Housing and manufacture method for same
EP3315265B1 (en) Brush handle and method for manufacturing same
CN102595834A (en) Shell body and manufacturing method thereof
JP3994434B2 (en) Metallic appearance multilayer coating film and method for forming the same
KR101170159B1 (en) A Door garnish mood lamp housing with light emission protect coating and manufacturing method thereof
KR100977885B1 (en) The manufacturing method for a specially-coated marble
CN104441841B (en) Gold-imitation coated glass and preparation technology thereof
TWI542716B (en) Plastic products and method for making the same
CN108359940A (en) A kind of color metal product and preparation method
JP2008162122A (en) Metal vacuum deposition workpiece and method for manufacturing it
JPS60244374A (en) Formation of film provided with embossed pattern having metal gloss

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application