JP2011099744A - Fingerprint-proof evaluation method and fingerprint-proof film - Google Patents

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JP2011099744A JP2009254074A JP2009254074A JP2011099744A JP 2011099744 A JP2011099744 A JP 2011099744A JP 2009254074 A JP2009254074 A JP 2009254074A JP 2009254074 A JP2009254074 A JP 2009254074A JP 2011099744 A JP2011099744 A JP 2011099744A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fingerprint-proof evaluation method with high objectivity and high reproducibility, for measurement by a general-purpose method. <P>SOLUTION: The fingerprint-proof evaluation method of a film includes: an initial glossiness measuring process for measuring 75 to 20-degree specular glossiness of the film formed on an object to be coated by using a glass meter to determine an initial glossiness; a fingerprint-proof evaluation liquid adhesion process for adhering a fingerprint-proof evaluation liquid on the film; a glossiness before wiping measuring process for measuring the specular glossiness of a portion on which the fingerprint-proof evaluation liquid is attached; a fingerprint-proof evaluation liquid wiping process for wiping the adhering fingerprint-proof evaluation liquid; a glossiness after wiping measuring process for measuring the specular glossiness after the fingerprint-proof evaluation liquid is wiped; and a calculation process in which the obtained measurement values are processed by the formulae: an adhesive evaluation rate (%)=(glossiness before wiping)/(initial glossiness)×100, and an after-wiping evaluation rate (%)=(glossiness after wiping)/(initial glossiness)×100, and the adhesive evaluation rate and the after-wiping evaluation rate are found. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、耐指紋性被膜の評価方法、およびこの耐指紋性評価方法においても優れた耐指紋性を示す耐指紋性被膜、に関する。   The present invention relates to a method for evaluating a fingerprint-resistant film, and a fingerprint-resistant film that exhibits excellent fingerprint resistance even in this fingerprint-resistant evaluation method.

プラスチック製品、例えばポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ABS、MS樹脂、AS樹脂などのスチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、トリアセチルセルロースなどの酢酸セルロース等の樹脂から形成される製品は、その良好な軽量性、易加工性、耐衝撃性などにより、容器、インストルメントパネル、包装材、各種ハウジング材、光デイスク基板、プラスチックレンズ、液晶デイスプレイやプラズマデイスプレイなどの表示機器の基材等に広く用いられている。   Plastic products such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, ABS, MS resin, AS resin and other styrene resins, vinyl chloride resins, triacetyl cellulose and other cellulose acetate products Is a base material for display devices such as containers, instrument panels, packaging materials, various housing materials, optical disk substrates, plastic lenses, liquid crystal displays, plasma displays, etc. Widely used.

しかしながら、これらプラスチック製品は表面硬度が低いため傷つきやすく、その樹脂が持つ本来の透明性あるいは外観が著しく損なわれ易いという欠点がある。そのため、ハードコート層を塗装して、製品表面の耐摩耗性を向上させる試みが行われている。そして近年においては、これらのハードコート層はさらに、指紋跡が付着し難いという耐指紋付着性、および付着した指紋跡を容易に拭き取ることができる、あるいは指紋跡が判別できない、という指紋拭き取り性(本明細書においてこれらをまとめて「耐指紋性」という。)が優れることも求められつつある。耐指紋性が劣ることによって製品の外観が劣ることとなったり、表示機器基材の本来の性能が発揮できなくなるといった不具合があるためである。   However, since these plastic products have low surface hardness, they are easily damaged and have the disadvantage that the original transparency or appearance of the resin is remarkably easily damaged. For this reason, attempts have been made to improve the wear resistance of the product surface by applying a hard coat layer. In recent years, these hard coat layers further have a fingerprint-resistant property that fingerprint traces are difficult to adhere, and a fingerprint wiping property that fingerprint traces can be easily wiped off or fingerprint traces cannot be identified ( In the present specification, these are collectively referred to as “fingerprint resistance”) and are also required to be excellent. This is because the appearance of the product is deteriorated due to inferior fingerprint resistance, and the original performance of the display device base material cannot be exhibited.

上記のように耐指紋性の向上が求められるにつれ、耐指紋性の評価の客観性および再現性の向上もまた重要となる。例えば、特許第3886519号明細書(特許文献1)には、擬似指紋液を用いた光情報媒体の防汚性および指紋付着性を評価する方法が記載されている。そして特許文献1においては、ヘイズ値、水接触角の変化率、ジッタ測定などにより防汚性および指紋付着性評価が行われている。しかしながらこれらの評価は何れも、製品を実際に使用する場合における官能評価との相関性が高くないという問題がある。そのため特許文献1においても、5人の被験者の目視による官能試験による評価が併用されていると考えられる。   As described above, as improvement in fingerprint resistance is required, improvement in objectivity and reproducibility of evaluation of fingerprint resistance is also important. For example, Japanese Patent No. 3886519 (Patent Document 1) describes a method for evaluating the antifouling property and fingerprint adhesion of an optical information medium using a pseudo fingerprint liquid. And in patent document 1, antifouling property and fingerprint adhesion evaluation are performed by a haze value, the rate of change of water contact angle, jitter measurement, etc. However, any of these evaluations has a problem that the correlation with the sensory evaluation when the product is actually used is not high. Therefore, also in patent document 1, it is thought that evaluation by the sensory test by visual observation of five test subjects is used together.

特開2008−064685号公報(特許文献2)には、スラブ型の光導波路分光分析法を用いた汚染性評価方法が記載されている。この評価方法は、再現性が高く微妙な汚れの差異の検出が可能であると記載されている。しかしながらスラブ型光導波路分光分析法は、基本的には透明な導波路上でしか分光解析できず、不透明な基材の測定には不向きであるという欠点がある。また、このスラブ型光導波路分光分析法は、タンパク質の配向状態または分子構造の解析といった高度な解析が可能な機器であるため、高価であり汎用性に欠けるといった不具合もある。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-066485 (Patent Document 2) describes a contamination evaluation method using a slab type optical waveguide spectroscopic analysis method. This evaluation method is described as being highly reproducible and capable of detecting subtle stain differences. However, the slab type optical waveguide spectroscopic analysis method has a drawback in that it can basically perform spectroscopic analysis only on a transparent waveguide and is not suitable for measuring an opaque substrate. Further, this slab type optical waveguide spectroscopic analysis method is a device capable of advanced analysis such as analysis of protein orientation state or molecular structure, and therefore has a problem that it is expensive and lacks versatility.

特許第3886519号明細書Japanese Patent No. 3886519 特開2008−064685号公報JP 2008-066485 A

上記の通り、耐指紋性評価の客観性および再現性は、重要視されつつあるにも関わらず、客観性および再現性を備えた耐指紋性評価の汎用的な手法は提案されていないのが現状である。これらの現状を踏まえ、本発明は、上記従来技術の問題点を解決することを課題とする。より特定すれば、本発明は、汎用的な手法によって測定することができる、客観性および再現性の高い耐指紋性評価方法を提供することを目的とする。さらに本発明は、このような耐指紋性評価が非常に高い耐指紋性被膜を提供することを目的とする。   Although the objectivity and reproducibility of fingerprint resistance evaluation are gaining importance as described above, no general-purpose method for fingerprint resistance evaluation with objectivity and reproducibility has been proposed. Currently. In light of these current situations, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art. More specifically, an object of the present invention is to provide a fingerprint resistance evaluation method with high objectivity and reproducibility that can be measured by a general-purpose method. It is another object of the present invention to provide a fingerprint-resistant film having such a high fingerprint resistance evaluation.

本発明は、
光沢計を用いて、被塗物上に形成された被膜の75〜20度鏡面光沢度を測定し初期光沢度とする、初期光沢度測定工程、
この被膜上に耐指紋評価液を付着させる、耐指紋評価液付着工程、
この耐指紋評価液が付着した部分のこの鏡面光沢度を測定する、拭き取り前光沢度測定工程、
付着した耐指紋評価液を拭き取る、耐指紋評価液拭き取り工程、
耐指紋評価液拭き取り後のこの鏡面光沢度を測定する、拭き取り後光沢度測定工程、および
得られた測定値を下記式で処理し、付着性評価率および拭き取り後評価率を求める、算出工程、
付着性評価率(%)=(拭き取り前光沢度)/(初期光沢度)×100
拭き取り後評価率(%)=(拭き取り後光沢度)/(初期光沢度)×100
を包含する、被膜の耐指紋性評価方法、を提供するものであり、これにより上記目的が達成される。
The present invention
An initial glossiness measuring step for measuring a 75 to 20 degree specular glossiness of a coating film formed on an object to be an initial glossiness by using a gloss meter;
Anti-fingerprint evaluation liquid adhering process for attaching an anti-fingerprint evaluation liquid on the coating,
Measuring the glossiness of the mirror surface of the part to which the anti-fingerprint evaluation liquid is attached, measuring the glossiness before wiping,
Wipe off the anti-fingerprint evaluation liquid, the anti-fingerprint evaluation liquid wiping process,
Measuring the specular gloss after wiping off the anti-fingerprint evaluation liquid, measuring the glossiness after wiping, and processing the obtained measured value according to the following formula to obtain the adhesion evaluation rate and the evaluation rate after wiping:
Adhesion evaluation rate (%) = (Glossiness before wiping) / (Initial glossiness) × 100
Evaluation rate after wiping (%) = (Glossiness after wiping) / (Initial glossiness) × 100
A method for evaluating the anti-fingerprint property of a film, comprising:

上記耐指紋評価液拭き取り工程における拭き取り処理が、荷重5〜50g/cmで、払拭材を1〜40回往復させて、耐指紋評価液を拭き取る処理であるのがより好ましい。 More preferably, the wiping process in the anti-fingerprint evaluation liquid wiping step is a process in which the wiping material is reciprocated 1 to 40 times with a load of 5 to 50 g / cm 2 to wipe off the anti-fingerprint evaluation liquid.

また、上記耐指紋評価液付着工程における付着処理は、
下端面部の直径13mm以上であるゴム栓のこの下端面を、織布または不織布で被覆し、この被覆部に耐指紋評価液を含浸し、
耐指紋評価液が含浸したゴム栓の下端面部を、荷重50〜300g/cmで上記被膜上に押しあてて、被膜上に耐指紋評価液を付着させる、
手順であるのがより好ましい。
In addition, the adhesion process in the anti-fingerprint evaluation liquid adhesion process is
The lower end surface of the rubber plug having a diameter of 13 mm or more at the lower end surface portion is coated with a woven fabric or a non-woven fabric, and this coating portion is impregnated with an anti-fingerprint evaluation liquid,
The lower end surface portion of the rubber plug impregnated with the anti-fingerprint evaluation liquid is pressed onto the film with a load of 50 to 300 g / cm 2 to adhere the anti-fingerprint evaluation liquid on the film.
More preferably it is a procedure.

また、上記耐指紋評価液が、高級脂肪酸、テルペン類およびこれらの誘導体から選択される少なくとも1種であるのがより好ましい。   The anti-fingerprint evaluation solution is more preferably at least one selected from higher fatty acids, terpenes, and derivatives thereof.

また、上記耐指紋性評価方法において60度鏡面光沢度を測定した場合における付着性評価率および拭き取り後評価率が、いずれも85%以上である、耐指紋性被膜であって、
この被膜が、下記成分:
両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)、
光重合性多官能化合物(B)、および
光重合開始剤(C)、
を含み、
このポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、下記式(1):

Figure 2011099744
[式中、Xは、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物の両末端の水酸基を除いた残基を示す。]
で示される構造を有し、および
このポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)の水トレランスが6.0ml以下であり、溶解性パラメータが12以下である、
耐指紋性光硬化性組成物によって形成された被膜である、耐指紋性被膜であるのが、より好ましい。 Further, in the fingerprint resistance evaluation method, the adhesion evaluation rate and the evaluation rate after wiping when the 60-degree specular gloss is measured are both 85% or more, and the anti-fingerprint film,
This coating has the following components:
Polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends,
A photopolymerizable polyfunctional compound (B), and a photopolymerization initiator (C),
Including
This polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) has the following formula (1):
Figure 2011099744
[In formula, X shows the residue except the hydroxyl group of the both ends of the polyol compound which has a polyether frame | skeleton. ]
And the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) has a water tolerance of 6.0 ml or less and a solubility parameter of 12 or less.
More preferred is a fingerprint-resistant film, which is a film formed from a fingerprint-resistant photocurable composition.

また、他の好ましい態様として、上記耐指紋性評価方法において60度鏡面光沢度を測定した場合における付着性評価率および拭き取り後評価率が、いずれも85%以上である、耐指紋性被膜であって、
この被膜が、下記成分:
(イ)分子内に活性メチレン基または活性メチン基(a)と飽和シクロアルキル基(b)とを有するアクリル樹脂、若しくは活性メチレン基または活性メチン基(a)を有するアクリル樹脂と飽和シクロアルキル基(b)を有するアクリル樹脂との混合物、
(ロ)分子内に2個以上の光硬化性官能基を有する多官能重合性化合物、
(ハ)光重合開始剤、および
(ニ)マイケル反応触媒、
を含む耐指紋性硬化性組成物によって形成された被膜である、耐指紋性被膜である態様が挙げられる。
Another preferred embodiment is a fingerprint-resistant coating film in which the adhesion evaluation rate and the evaluation rate after wiping are both 85% or more when the 60-degree specular gloss is measured in the fingerprint resistance evaluation method. And
This coating has the following components:
(A) An acrylic resin having an active methylene group or active methine group (a) and a saturated cycloalkyl group (b) in the molecule, or an acrylic resin having an active methylene group or an active methine group (a) and a saturated cycloalkyl group A mixture with an acrylic resin having (b),
(B) a polyfunctional polymerizable compound having two or more photocurable functional groups in the molecule;
(C) a photopolymerization initiator, and (d) a Michael reaction catalyst,
The aspect which is a fingerprint-resistant film | membrane which is a film formed with the fingerprint-resistant curable composition containing this is mentioned.

本発明の耐指紋性評価方法は、数値化を伴った、客観的でありかつ定量的な評価方法である。従来の目視による耐指紋評価は官能評価であるため、評価者の判断能力に依存してしまい、評価者の間でばらつきが生じ、客観性に欠けるという不具合があった。本発明の評価方法は、光沢計という一般的な機器を用いて、数値化という定量性を伴って行うことができるという利点がある。本発明の評価方法はさらに、客観性および再現性が共に高いという利点もある。   The fingerprint resistance evaluation method of the present invention is an objective and quantitative evaluation method accompanied by quantification. Conventional visual anti-fingerprint evaluation is a sensory evaluation, and thus depends on the judgment ability of the evaluator, resulting in variations among evaluators and lack of objectivity. The evaluation method of the present invention has an advantage that it can be performed with a quantitative property called quantification using a general instrument called a gloss meter. The evaluation method of the present invention is further advantageous in that both objectivity and reproducibility are high.

さらに本発明の方法は、ヘイズ値を測定する従来方法においては良好と評価された複数の被膜間においても、それらの被膜の優劣を評価することができ、より高度な評価が可能であるという利点がある。本発明の方法はさらに、ヘイズ値の測定では評価が不可能であった、不透明な被塗物上に設けられた被膜の耐指紋性評価も可能であるという利点がある。   Furthermore, the method of the present invention is capable of evaluating the superiority or inferiority of the coatings between a plurality of coatings evaluated as good in the conventional method for measuring the haze value, and is capable of performing a higher evaluation. There is. The method of the present invention is further advantageous in that it is possible to evaluate the fingerprint resistance of a film provided on an opaque object, which cannot be evaluated by measuring the haze value.

そして上記耐指紋性評価方法を用いて評価を行ったところ、特定成分を有する組成物から得られる被膜が、優れた耐指紋性を有することが見いだされた。本発明は、このような耐指紋性評価が非常に高い耐指紋性被膜も提供する。   And when it evaluated using the said fingerprint-resistant evaluation method, it was discovered that the film obtained from the composition which has a specific component has the outstanding fingerprint resistance. The present invention also provides such a fingerprint-resistant film having a very high fingerprint resistance evaluation.

耐指紋性評価方法
本発明の耐指紋性評価方法は、下記工程:
光沢計を用いて、被塗物上に形成された被膜の75〜20度鏡面光沢度を測定し初期光沢度とする、初期光沢度測定工程、
この被膜上に耐指紋評価液を付着させる、耐指紋評価液付着工程、
この耐指紋評価液が付着した部分の上記鏡面光沢度を測定する、拭き取り前光沢度測定工程、
付着した耐指紋評価液を拭き取る、耐指紋評価液拭き取り工程、
耐指紋評価液拭き取り後の上記鏡面光沢度を測定する、拭き取り後光沢度測定工程、
得られた測定値を、下記に示す数式で処理し、付着性評価率および拭き取り後評価率を求める、算出工程、
を包含する方法である。
Fingerprint resistance evaluation method The fingerprint resistance evaluation method of the present invention comprises the following steps:
An initial glossiness measuring step for measuring a 75 to 20 degree specular glossiness of a coating film formed on an object to be an initial glossiness by using a gloss meter;
Anti-fingerprint evaluation liquid adhering process for attaching an anti-fingerprint evaluation liquid on the coating,
Measuring the specular gloss of the part to which the anti-fingerprint evaluation liquid is attached, a gloss measurement step before wiping,
Wipe off the anti-fingerprint evaluation liquid, the anti-fingerprint evaluation liquid wiping process,
Measuring the specular gloss after wiping off the anti-fingerprint evaluation liquid, measuring the gloss after wiping,
The obtained measured value is processed with the following mathematical formula, and the adhesion evaluation rate and the evaluation rate after wiping are calculated, a calculation step,
It is a method including.

上記の通り、本発明の評価方法においては、光沢度の変化を用いて耐指紋性評価を行う点に特徴がある。従来の耐指紋性評価は、ヘイズ値の測定および目視評価が一般的であった(例えば特開2004−359834号公報、第0079段落などを参照)。しかしながらヘイズ値を測定する従来方法における評価結果は、評価者の目視による評価結果との相関性が悪いという事情があった。このことは、特開2004−359834号公報においても、指紋付着の確認においてヘイズ値を測定した後、拭き取り後は評価者による目視評価を用いている点からも理解される。一方で、評価者の目視による評価は官能評価であるため、評価者の判断能力に依存してしまい、評価者の間でばらつきが生じ、客観性に欠けるという不具合がある。このことはさらに再現性にも欠けることとなる。   As described above, the evaluation method of the present invention is characterized in that fingerprint resistance evaluation is performed using a change in glossiness. Conventional fingerprint resistance evaluation is generally performed by haze value measurement and visual evaluation (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-359834, paragraph 0079). However, the evaluation result in the conventional method for measuring the haze value has a bad correlation with the evaluation result visually evaluated by the evaluator. This can also be understood from Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-359834 from the point of using visual evaluation by an evaluator after wiping after measuring the haze value in confirmation of fingerprint adhesion. On the other hand, since the evaluator's visual evaluation is a sensory evaluation, it depends on the judgment ability of the evaluator, resulting in variations among evaluators and lack of objectivity. This further lacks reproducibility.

本発明の評価方法は、これまで主として目視による官能評価がなされていた耐指紋性評価を、光沢計という一般的な機器を用いて、数値化という定量性を伴って行うことができるという利点がある。本発明の評価方法はさらに、客観性および再現性が共に高いという利点もある。さらに本発明の方法は、ヘイズ値を測定する従来方法においては良好と評価された複数の被膜間においても、それらの被膜の優劣を評価することができ、より高度な評価が可能であるという利点がある。本発明の方法はさらに、ヘイズ値の測定では評価が不可能であった、不透明な被塗物上に設けられた被膜の耐指紋性評価も可能であるという利点がある。   The evaluation method of the present invention has an advantage that fingerprint resistance evaluation, which has been mainly performed by sensory evaluation by visual observation, can be performed with a quantitative property called numericalization using a general instrument called a gloss meter. is there. The evaluation method of the present invention is further advantageous in that both objectivity and reproducibility are high. Furthermore, the method of the present invention is capable of evaluating the superiority or inferiority of the coatings between a plurality of coatings evaluated as good in the conventional method for measuring the haze value, and is capable of performing a higher evaluation. There is. The method of the present invention is further advantageous in that it is possible to evaluate the fingerprint resistance of a film provided on an opaque object, which cannot be evaluated by measuring the haze value.

初期光沢度測定工程
本発明の方法は、被塗物上に形成された被膜の耐指紋性を評価する方法である。まず、光沢計を用いて、被塗物上に形成された被膜の光沢度を測定する。ここで測定する光沢度は、75〜20度鏡面光沢の範囲の任意の角度で測定することができる。具体的には、75度鏡面光沢(入射角75度における測定)、60度鏡面光沢(入射角60度における測定)、45度鏡面光沢(入射角45度における測定)、20度鏡面光沢(入射角20度における測定)、などが挙げられる。これらの鏡面光沢の測定方法は、JIS Z8741(1997)に準拠して測定することができる。なお鏡面光沢度とは、被膜の鏡面反射光の強さの度合いを測定して数値で表したものである。こうして測定された被膜の光沢度を「初期光沢度」とする。
Initial Gloss Measurement Step The method of the present invention is a method for evaluating the fingerprint resistance of a film formed on an object to be coated. First, the glossiness of the film formed on the object is measured using a gloss meter. The glossiness measured here can be measured at an arbitrary angle in the range of 75 to 20 degrees specular gloss. Specifically, 75 degree specular gloss (measured at an incident angle of 75 degrees), 60 degree specular gloss (measured at an incident angle of 60 degrees), 45 degrees specular gloss (measured at an incident angle of 45 degrees), and 20 degrees specular gloss (incident). Measurement at an angle of 20 degrees), and the like. These specular gloss measurement methods can be measured according to JIS Z8741 (1997). The specular gloss is a numerical value obtained by measuring the intensity of specular reflection light of the coating. The glossiness of the film thus measured is defined as “initial glossiness”.

耐指紋評価液付着工程
次いで、被塗物上に形成された被膜の上に、耐指紋評価液を付着させる。ここで用いられる耐指紋評価液として、耐指紋評価において一般的に用いられるものを特に制限なく用いることができる。一般に、耐指紋評価液として、人間の汗や皮脂を構成する液体および/またはそれに近い性状を有する液体が用いられる。
Anti-fingerprint evaluation liquid attaching step Next, an anti-fingerprint evaluation liquid is attached on the film formed on the object to be coated. As the anti-fingerprint evaluation liquid used here, those generally used in anti-fingerprint evaluation can be used without particular limitation. In general, a liquid constituting human sweat and sebum and / or a liquid having properties close to that is used as an anti-fingerprint evaluation liquid.

耐指紋評価液の具体例として、例えば、下記成分を少なくとも1種含む液状物が挙げられる:
・高級脂肪酸、例えば炭素数10〜24の飽和脂肪酸および不飽和脂肪酸、より好ましくは炭素数12〜22の飽和脂肪酸および不飽和脂肪酸、さらに好ましくはオレイン酸、リノール酸、リノレン酸など、
・上記高級脂肪酸の誘導体、例えば高級脂肪酸のエステル誘導体(例えばジグリセリド、トリグリセリドなど)、
・テルペン類、例えばモノテルペン(C10)、セスキテルペン(C15)、ジテルペン(C20)、セスタテルペン(C25)、トリテルペン(C30)、テトラテルペン(C40)、およびこれらの誘導体(例えばテルペノイドなど)。
上記成分を含む耐指紋評価液は、上記成分1種をまたは2種以上の混合物をそのまま用いてもよく、あるいは上記成分を少なくとも1種含む、水溶液、アルコール溶液またはパラフィン溶液であってもよい。
Specific examples of the anti-fingerprint evaluation liquid include, for example, a liquid material containing at least one of the following components:
-Higher fatty acids, such as saturated and unsaturated fatty acids having 10 to 24 carbon atoms, more preferably saturated and unsaturated fatty acids having 12 to 22 carbon atoms, more preferably oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, etc.
-Derivatives of the above higher fatty acids, such as ester derivatives of higher fatty acids (eg diglycerides, triglycerides, etc.)
Terpenes, such as monoterpenes (C 10 ), sesquiterpenes (C 15 ), diterpenes (C 20 ), sesterterpenes (C 25 ), triterpenes (C 30 ), tetraterpenes (C 40 ), and derivatives thereof ( For example, terpenoids).
The anti-fingerprint evaluation liquid containing the above components may be one of the above components or a mixture of two or more thereof, or may be an aqueous solution, an alcohol solution or a paraffin solution containing at least one of the above components.

被塗物の被膜上に耐指紋評価液を付着させる方法は、耐指紋評価液を被膜上に滴下する方法、または特定形状を有する付着材を用いて、耐指紋評価液を被膜上に付着させる方法など、任意の方法を用いることができる。   The method of attaching the anti-fingerprint evaluation liquid onto the coating film is a method of dropping the anti-fingerprint evaluation liquid onto the film or using an adhesive having a specific shape to attach the anti-fingerprint evaluation liquid onto the film. Any method such as a method can be used.

被塗物の被膜上に耐指紋評価液を付着させる好ましい方法として、例えば、シリコーンゴム、ブタジエンゴム、ウレタンゴムなどのエラストマーからなるゴム栓などの付着材を用いて、耐指紋評価液を被膜上に付着させる方法が挙げられる。なお本明細書において、ゴム栓が有する2種の円面(円形状の端面)のうち、小さい方の円面を「下端面」という。付着材として、下端面部の直径が13mm以上であるものを用いるのが、操作性の面などからより好ましい。   As a preferable method for attaching the anti-fingerprint evaluation liquid on the coating film, for example, an anti-fingerprint evaluation liquid is applied on the film using an adhesive material such as a rubber plug made of an elastomer such as silicone rubber, butadiene rubber, or urethane rubber. The method of making it adhere to is mentioned. In this specification, the smaller one of the two types of circular surfaces (circular end surfaces) of the rubber plug is referred to as a “lower end surface”. It is more preferable from the viewpoint of operability to use an adhesive having a lower end surface portion with a diameter of 13 mm or more.

付着材の一例として、エラストマーからなるゴム栓であって、例えばJIS K2246(1994)に準拠した指紋除去性試験において用いられる、人工指紋液プリント用のゴム栓(No.10のゴム栓の下端面(直径約26mm)を、JIS R6251 またはJIS R6252 に規定するAA240の研磨材でこすって粗面化したもの)などが挙げられる。   As an example of the adhering material, a rubber plug made of an elastomer, for example, a rubber plug for printing an artificial fingerprint liquid used in a fingerprint removability test according to JIS K2246 (1994) (the lower end surface of a rubber plug of No. 10) (A diameter of about 26 mm) and a surface roughened by rubbing with an AA240 abrasive defined in JIS R6251 or JIS R6252.

付着材の他の一例として、例えば、ゴム栓の小さい方の円面(下端面)の直径が13〜25mmのゴム栓(規格No.1〜9)、より好ましくはゴム栓の小さい方の円面(下端面)の直径が16〜25mm(規格No.4〜9)のものが挙げられる。このような付着材を用いることによって、現実の指紋に近い大きさで耐指紋評価液を付着させることができるという利点がある。さらに、これらのゴム栓の下端面を、織布または不織布で被覆することによって、研磨材でこすって粗面化するという処理を行うことなく、ゴム栓を付着材としてより簡便に用いることができ、より好ましい。織布として、例えば一般的に用いられる綿ガーゼ(例えば、日本薬局方規定、タイプ1のガーゼ)などが挙げられる。また不織布として、一般的に用いられている天然繊維または化学繊維の不織布、例えばベンコット(旭化成せんい(株)社製)、キムワイプ(日本製紙クレシア(株)社製)、クラフレックス(クラレクラフレックス(株)社製)などが挙げられる。   As another example of the adhering material, for example, a rubber plug (standard No. 1-9) having a diameter of a smaller circular surface (lower end surface) of the rubber plug of 13 to 25 mm, more preferably a smaller circle of the rubber plug. The diameter of a surface (lower end surface) is 16-25 mm (standard No. 4-9). By using such an adhering material, there is an advantage that the anti-fingerprint evaluation liquid can be adhered with a size close to an actual fingerprint. Furthermore, by covering the lower end surface of these rubber plugs with a woven or non-woven fabric, the rubber plugs can be used more easily as an adhesive material without the treatment of rubbing with an abrasive to roughen the surface. More preferable. Examples of the woven fabric include cotton gauze (for example, Japanese Pharmacopoeia regulations, type 1 gauze) generally used. In addition, as a nonwoven fabric, commonly used nonwoven fabric of natural fiber or chemical fiber, such as Bencott (manufactured by Asahi Kasei Fibers Co., Ltd.), Kimwipe (manufactured by Nippon Paper Crecia Co., Ltd.), Kuraflex (Kuralek Laurex ( Etc.).

次いで、上記のような付着材に、耐指紋評価液を付着させる。例えば粗面化されたゴム栓を付着材として用いる場合は、必要に応じて織布または不織布を入れたシャーレまたはその類似物に、耐指紋評価液を満たし、そこへ付着材を一定荷重で押しあてて、耐指紋評価液を付着材に付着させる。また、例えば下端面を織布または不織布で被覆されたゴム栓を付着材として用いる場合は、上記のように耐指紋評価液を付着させることもでき、または下端面の織布または不織布上に耐指紋評価液を直接滴下して、付着させてもよい。   Next, an anti-fingerprint evaluation liquid is adhered to the adhesive material as described above. For example, when using a roughened rubber stopper as an adhesive, fill the anti-fingerprint evaluation solution into a petri dish or similar material containing a woven or non-woven fabric as necessary, and push the adhesive with a constant load. Apply the anti-fingerprint evaluation solution to the adhesive. For example, when using a rubber stopper whose lower end surface is coated with a woven or non-woven fabric as an adhesive material, the anti-fingerprint evaluation liquid can be adhered as described above, or the anti-fingerprint evaluation liquid can be adhered on the woven or non-woven fabric on the lower end surface. The fingerprint evaluation liquid may be directly dropped and adhered.

このように耐指紋評価液が付着した付着材を、被塗物上の被膜に、一定荷重で押しあてて、被膜上に耐指紋評価液を付着させる。ここでの荷重は、実際の使用における指紋付着状況を考慮して、例えば50〜300g/cmであるのが好ましい。 The adhesive material to which the anti-fingerprint evaluation liquid adheres is pressed against the coating on the object to be coated with a constant load, and the anti-fingerprint evaluation liquid is adhered to the coating. The load here is preferably, for example, 50 to 300 g / cm 2 in consideration of the state of fingerprint adhesion in actual use.

上記のように耐指紋評価液を被膜上に付着させることによって、被膜表面上に、定量的にかつ現実の指紋付着を極めて良好に模した状態で、人工的な指紋を付着させることができる。これにより、耐指紋性能を再現性よく定量化することが可能となる。   By attaching the anti-fingerprint evaluation liquid onto the film as described above, an artificial fingerprint can be attached on the surface of the film quantitatively and in a state of imitating the actual fingerprint attachment very well. This makes it possible to quantify the anti-fingerprint performance with good reproducibility.

拭き取り前光沢度測定工程
次いで、こうして耐指紋評価液が付着した部分の鏡面光沢度を、光沢計を用いて測定する。ここでの鏡面光沢度測定は、上記初期光沢度測定工程において用いた入射角と同じ入射角を用いて測定する。こうして測定された鏡面光沢度を「拭き取り前光沢度」とする。
Glossiness measurement process before wiping Next, the specular glossiness of the portion to which the anti-fingerprint evaluation liquid is thus attached is measured using a gloss meter. Here, the specular gloss measurement is performed using the same incident angle as the incident angle used in the initial gloss measurement process. The specular gloss measured in this way is defined as “gloss before wiping”.

なお、下記の算出工程において記載するように、この拭き取り前光沢度を初期光沢度で割ることによって、付着性評価率(%)が得られる。この「付着性評価率」は、被膜の指紋跡の目立ち難さの程度を示す数値となる。例えば60度鏡面光沢度を測定する場合において、この付着性評価率が90%以上である場合は、指紋跡が付着し難い、あるいは指紋跡が残存していることが判別し難い被膜であり、耐指紋性に優れているということができる。   In addition, as described in the following calculation step, the adhesion evaluation rate (%) is obtained by dividing the glossiness before wiping by the initial glossiness. This “adhesion evaluation rate” is a numerical value indicating the degree of difficulty of conspicuous fingerprint marks on the coating. For example, when measuring the 60-degree specular gloss, if the adhesion evaluation rate is 90% or more, it is a film that is difficult to distinguish fingerprint traces or fingerprint traces remain, It can be said that it has excellent fingerprint resistance.

耐指紋評価液拭き取り工程
次いで、上記耐指紋評価液付着工程において被膜上に付着させた耐指紋評価液を拭き取り、被膜上から耐指紋評価液を取り除く。この拭き取り処理は、一般的に用いられる払拭材を用いることができる。払拭材の具体例として、限定されるものではないが、例えば紙製ウェス(キムワイプ(日本製紙クレシア(株)社製)、一般的なティッシュなど)、織布(ガーゼなど)、天然繊維または化学繊維の不織布(ベンコット(旭化成せんい(株)社製)、クラフレックス(クラレクラフレックス(株)社製))などが挙げられる。
Anti-fingerprint evaluation liquid wiping step Next, the anti-fingerprint evaluation liquid adhered on the film in the anti-fingerprint evaluation liquid attaching step is wiped off, and the anti-fingerprint evaluation liquid is removed from the film. For this wiping process, a commonly used wiping material can be used. Specific examples of the wiping material include, but are not limited to, paper waste (Kimwipe (manufactured by Nippon Paper Crecia Co., Ltd.), general tissue, etc.), woven fabric (gauze, etc.), natural fiber or chemical Nonwoven fabrics of fibers (Bencot (manufactured by Asahi Kasei Fibers Co., Ltd.), Kuraflex (manufactured by Kuraray Laflex Co., Ltd.)) and the like.

被膜上の耐指紋評価液を、払拭材を用いて、一定の荷重および角度条件で拭き取る。この拭き取りは人力で行ってもよく、あるいは耐摩耗試験機などを用いて機械的に行ってもよい。拭き取りを人力で行う方法として、例えば、拭き取り荷重を一定にするため、一定の荷重下で払拭材を移動させる方法が挙げられる。耐摩耗試験機などを用いる方法として、例えば、一般的な耐摩耗試験機の圧子部位にウェスなどの払拭材を固定し、この圧子部位を被膜上で往復運動させることによって、耐指紋評価液を拭き取る方法が挙げられる。何れの拭き取り方法においても、荷重5〜50g/cmほどであるのが、現実の拭き取り操作に近い範囲であり、好ましい。 The anti-fingerprint evaluation liquid on the film is wiped off with a wiping material under a constant load and angle condition. This wiping may be performed manually or mechanically using an abrasion resistance tester or the like. As a method of performing wiping by human power, for example, in order to make the wiping load constant, a method of moving the wiping material under a constant load can be mentioned. As a method of using an abrasion resistance tester, for example, a wiping material such as a waste cloth is fixed to an indenter part of a general abrasion resistance tester, and the indenter part is reciprocated on the film to thereby apply a fingerprint resistance evaluation liquid. The method of wiping off is mentioned. In any wiping method, a load of about 5 to 50 g / cm 2 is a range close to an actual wiping operation, and is preferable.

拭き取り後光沢度測定工程
こうして耐指紋評価液を拭き取った後、耐指紋評価液を付着させた部分の鏡面光沢度を、光沢計を用いて測定する。ここでの鏡面光沢度測定は、上記初期光沢度測定工程において用いた入射角と同じ入射角を用いて測定する。こうして測定された鏡面光沢度を「拭き取り後光沢度」とする。
Glossiness measurement step after wiping After wiping off the anti-fingerprint evaluation solution in this way, the specular glossiness of the portion where the anti-fingerprint evaluation solution is adhered is measured using a gloss meter. Here, the specular gloss measurement is performed using the same incident angle as the incident angle used in the initial gloss measurement process. The specular glossiness thus measured is defined as “glossiness after wiping”.

得られた拭き取り後光沢度を用いて、下記の算出工程において記載するように、この拭き取り後光沢度を初期光沢度で割ることによって、拭き取り後評価率(%)が得られる。   By using the obtained gloss after wiping and dividing the gloss after wiping by the initial gloss as described in the following calculation step, an evaluation rate (%) after wiping is obtained.

なお、必要に応じて、上記耐指紋評価液拭き取り工程において任意回数の拭き取り処理を行った時点において拭き取り後光沢度を測定することを繰り返すことができる。これにより耐指紋性の評価項目を細分化することができる。例えば、払拭材を用いた拭き取り操作を例えば1〜5往復行った時点で拭き取り後光沢度を測定し、拭き取り後評価率を求めることによって、指紋跡の目立ち難さを評価することができる。初期の指紋跡の拭き取り工程では、指紋や耐指紋液が拭き取り面に薄く広がっていく。耐指紋液が塗膜上に均一に延び広がることにより、拭き取り後評価率が低下しない塗膜は、指紋跡の目立ち難い塗膜であると判断できる。また、払拭材を用いた拭き取り操作を例えば15〜40往復行った時点で拭き取り後光沢度を測定し、拭き取り後評価率を求めることによって、拭き取り処理後の耐指紋性を評価することができる。15〜40往復拭き取っても、拭き取り後評価率が低い塗膜は指紋跡が残っていることになり、指紋や耐指紋液が指紋の拭き取り性の悪い塗膜であると判断できる。このように耐指紋性の評価項目を細分化することによって、これまでは色々な要素をまとめて官能評価を行ってきた耐指紋性評価を、より客観的に、さらに再現性高く評価することが可能となる。   In addition, as needed, it can repeat measuring the glossiness after wiping off at the time of performing the wiping process an arbitrary number of times in the above-described anti-fingerprint evaluation liquid wiping step. Thereby, the evaluation items for fingerprint resistance can be subdivided. For example, when the wiping operation using a wiping material is performed 1 to 5 times, for example, the glossiness after wiping is measured, and the evaluation rate after wiping is obtained, whereby the difficulty of conspicuous fingerprint marks can be evaluated. In the initial fingerprint mark wiping process, fingerprints and anti-fingerprint liquid spread thinly on the wiping surface. When the anti-fingerprint liquid uniformly extends and spreads on the coating film, the coating film whose evaluation rate does not decrease after wiping can be determined to be a coating film in which fingerprint marks are hardly noticeable. Moreover, when the wiping operation using the wiping material is reciprocated 15 to 40 times, for example, the glossiness after wiping is measured, and the evaluation rate after wiping is obtained, whereby the fingerprint resistance after the wiping treatment can be evaluated. Even after 15 to 40 reciprocal wiping, a fingerprint mark remains in a coating film having a low evaluation rate after wiping, and it can be determined that a fingerprint or anti-fingerprint liquid is a coating film having poor fingerprint wiping property. By subdividing the evaluation items for fingerprint resistance in this way, it is possible to evaluate fingerprint resistance evaluation, which has been performed by sensory evaluation by combining various elements, more objectively and with higher reproducibility. It becomes possible.

算出工程
上記より得られた鏡面光沢度測定値を下記式で処理することによって、付着性評価率および拭き取り後評価率が得られる。
付着性評価率(%)=(拭き取り前光沢度)/(初期光沢度)×100
拭き取り後評価率(%)=(拭き取り後光沢度)/(初期光沢度)×100
Calculation process The specular gloss measurement value obtained from the above is processed by the following formula to obtain the adhesion evaluation rate and the post-wiping evaluation rate.
Adhesion evaluation rate (%) = (Glossiness before wiping) / (Initial glossiness) × 100
Evaluation rate after wiping (%) = (Glossiness after wiping) / (Initial glossiness) × 100

これら評価率の数値は、鏡面光沢度を測定する際の入射角によって変動する。本発明の方法においては、入射角が75〜20度(75〜20度鏡面光沢度)の範囲で測定するのが好ましく、入射角が60〜45度(60〜45度鏡面光沢度)の範囲で測定するのがより好ましい。上記範囲外である、例えば85度またはそれを超える鏡面光沢度においては、指紋跡の存在による光沢度の差が生じ難い傾向にある。また例えば20度鏡面光沢度においては、光沢度の差が大きく生じる傾向にあるものの、それに比例して誤差が生じ易い傾向にある。   The numerical values of these evaluation rates vary depending on the incident angle when measuring the specular gloss. In the method of the present invention, it is preferable to measure the incident angle in the range of 75 to 20 degrees (75 to 20 degrees specular gloss), and the incident angle is in the range of 60 to 45 degrees (60 to 45 degrees specular gloss). It is more preferable to measure by. In the case of specular glossiness that is out of the above range, for example, 85 degrees or more, a difference in glossiness due to the presence of fingerprint marks tends not to occur. For example, in the case of 20 degree specular gloss, a difference in glossiness tends to be large, but an error tends to occur in proportion thereto.

こうして得られる付着性評価率は、数値が高いほど、耐指紋性に優れていると評価される。また拭き取り後評価率は、数値が高いほど、耐指紋性に優れていると評価される。例えば60度鏡面光沢度を測定する場合において、付着性評価率および拭き取り後評価率がいずれも85%以上であれば耐指紋性が良好であり、いずれも90%以上であれば耐指紋性が特に優れていると評価することができる。   The adhesion evaluation rate obtained in this way is evaluated as being superior in fingerprint resistance as the numerical value is higher. Moreover, it is evaluated that the evaluation rate after wiping is superior in fingerprint resistance as the numerical value is higher. For example, when measuring the 60 ° specular gloss, if the adhesion evaluation rate and the evaluation rate after wiping both are 85% or more, the fingerprint resistance is good, and if both are 90% or more, the fingerprint resistance is good. It can be evaluated that it is particularly excellent.

耐指紋性被膜
上記の評価方法を用いて耐指紋性が良好な被膜の形成を実現するために、本発明者らが種々検討を行ったところ、以下に詳述する2種類の組成物から得られる被膜が優れた耐指紋性を有することが明らかになった。
Fingerprint-resistant coating In order to realize the formation of a coating with good fingerprint resistance using the above evaluation method, the present inventors have conducted various studies and obtained from two types of compositions described in detail below. It was found that the resulting coating has excellent fingerprint resistance.

耐指紋性光硬化性組成物
優れた耐指紋性を有する被膜が得られる組成物の一例として、
両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)、
光重合性多官能化合物(B)、および
光重合開始剤(C)、
を含み、
このポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、下記式(1):

Figure 2011099744
[式中、Xは、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物の両末端の水酸基を除いた残基を示す。]
で示される構造を有し、および
このポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)の水トレランスが6.0ml以下であり、溶解性パラメータが12以下である、
耐指紋性光硬化性組成物、が挙げられる。 As an example of a composition from which a film having excellent fingerprint resistance can be obtained as an anti-fingerprint photocurable composition ,
Polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends,
A photopolymerizable polyfunctional compound (B), and a photopolymerization initiator (C),
Including
This polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) has the following formula (1):
Figure 2011099744
[In formula, X shows the residue except the hydroxyl group of the both ends of the polyol compound which has a polyether frame | skeleton. ]
And the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) has a water tolerance of 6.0 ml or less and a solubility parameter of 12 or less.
Fingerprint-resistant photocurable composition.

この耐指紋性光硬化性組成物はさらに、ポリエーテル樹脂またはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)を含んでもよい。以下、この耐指紋性光硬化性組成物を構成する各成分について詳述する。   This fingerprint-resistant photocurable composition may further contain a polyether resin or a polyether (meth) acrylate (D). Hereinafter, each component which comprises this fingerprint-resistant photocurable composition is explained in full detail.

ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)
上記耐指紋性光硬化性組成物に含まれるポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、
(i)分子の両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有すること、
(ii)下記式(1):
Polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A)
The polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) contained in the fingerprint-resistant photocurable composition is
(I) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends of the molecule;
(Ii) The following formula (1):

Figure 2011099744
[式中、Xは、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物の両末端の水酸基を除いた残基を示す。]
で示される構造を有すること、および
(iii)水トレランスが6.0ml以下であり、溶解性パラメータが12以下であること、
を条件とする、ウレタン(メタ)アクリレートである。
Figure 2011099744
[In formula, X shows the residue except the hydroxyl group of the both ends of the polyol compound which has a polyether frame | skeleton. ]
(Iii) the water tolerance is 6.0 ml or less and the solubility parameter is 12 or less,
It is urethane (meth) acrylate on condition.

成分(A)が、上記式(1)で示される、ウレタン結合を介したポリエーテル構造を有することによって、優れた耐指紋性が得られることとなる。また成分(A)が、両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有することによって、良好な耐擦傷性が得られることとなる。   When the component (A) has a polyether structure via a urethane bond represented by the above formula (1), excellent fingerprint resistance can be obtained. In addition, when the component (A) has at least one (meth) acrylate group at each of both ends, good scratch resistance can be obtained.

なお成分(A)のウレタン(メタ)アクリレートは、分枝構造を有していてもよい。そしてこの場合において「両末端」とは、分子鎖が最長となる状態における両方の末端を意味する。そしてこのような分枝構造を有する場合は、分枝鎖の末端においても少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有してもよい。   In addition, the urethane (meth) acrylate of component (A) may have a branched structure. In this case, “both ends” means both ends in the state where the molecular chain is the longest. And when it has such a branched structure, you may have at least 1 (meth) acrylate group also in the terminal of a branched chain.

上記式(1)で示される構造を有する、両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有するポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)として、例えば、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)とポリイソシアネート(b)と水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)との反応物が挙げられる。   As a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends having the structure represented by the above formula (1), for example, a polyol compound having a polyether skeleton ( A reaction product of a), a polyisocyanate (b), and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c).

ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ジブチレングリコール、ポリブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ビスフェノールAポリエトキシジオール、ポリカプロラクトン、および、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイドのブロックまたはランダム共重合の少なくとも1種の構造を有する、ポリエーテルポリオール;トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ポリトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ポリペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、グリセリン、ポリグリセリン、ポリテトラメチレングリコールなどの多価アルコールをポリエーテル変性した、ポリエーテル骨格を含む多価アルコール;上記ポリエーテルポリオールと無水マレイン酸、マレイン酸、フマール酸、無水イタコン酸、イタコン酸、アジピン酸、イソフタル酸などの多塩基酸との縮合物であるポリエステルポリオール;ポリエーテルポリオールをカプロラクトン変性したカプロラクトン変性ポリオール;などが挙げられる。   Examples of the polyol compound (a) having a polyether skeleton include diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, dibutylene glycol, polybutylene glycol, 1,6-hexanediol, Polyether polyols having at least one structure of bisphenol A polyethoxydiol, polycaprolactone, polyethylene oxide, polypropylene oxide, ethylene oxide / propylene oxide block or random copolymerization; trimethylolethane, trimethylolpropane, poly Trimethylolpropane, pentaerythritol, polypentaerythritol, sorbitol, mannini Polyhydric alcohol containing a polyether skeleton obtained by polyether modification of polyol, glycerin, polyglycerin, polytetramethylene glycol or the like; the above polyether polyol and maleic anhydride, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic anhydride And polyester polyols that are condensates with polybasic acids such as itaconic acid, adipic acid, and isophthalic acid; caprolactone-modified polyols obtained by modifying polyether polyols with caprolactone; and the like.

ポリイソシアネート(b)としては、例えば、芳香族系、脂肪族系、脂環式系などのポリイソシアネートが挙げられ、中でもトリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリフェニルメタンポリイソシアネート、変性ジフェニルメタンジイソシアネート、水添化キシリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、フェニレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジントリイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートなどのポリイソシアネート或いはこれらポリイソシアネートの三量体化合物、ビューレット型ポリイソシアネート、水分散型ポリイソシアネート、またはこれらポリイソシアネートとポリオールの反応生成物などを挙げることができる。   Examples of the polyisocyanate (b) include aromatic, aliphatic and alicyclic polyisocyanates, among which tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, polyphenylmethane polyisocyanate, Modified diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, norbornene diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, phenylene diisocyanate , Lysine diisocyanate, lysine triisocyanate, naphthalene diiso Polyisocyanates or trimer compounds of these polyisocyanates such as Aneto, biuret type polyisocyanate, water-dispersible polyisocyanate or the reaction products of these polyisocyanates with polyols, and the like.

水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)は、(メタ)アクリレート基を1つ有する単官能モノマーであってもよく、(メタ)アクリレート基を2またはそれ以上有する多官能モノマーであってもよい。単官能モノマーとして、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、2−(メタ)アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、カプロラクトン変性2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどを挙げることができる。多官能モノマーとして、例えば、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートなどを挙げることができる。   The hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c) may be a monofunctional monomer having one (meth) acrylate group or a polyfunctional monomer having two or more (meth) acrylate groups. Examples of the monofunctional monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethylacryloyl phosphate, Examples include 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate and caprolactone-modified 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. Examples of the polyfunctional monomer include 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and caprolactone-modified dipentaerythritol penta (meth). ) Acrylate, caprolactone-modified pentaerythritol tri (meth) acrylate, ethylene oxide-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethylene oxide-modified pentaerythritol tri (meth) acrylate, and the like.

両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)、ポリイソシアネート(b)および水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)を反応させることによって調製することができる。この調製において、例えばポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)、ポリイソシアネート(b)および水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)を一度に反応させてもよく、あるいは、例えばポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)とポリイソシアネート(b)とを反応させた後、水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)を反応させてもよい。   A polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends is a polyol compound (a) having a polyether skeleton, a polyisocyanate (b), and a hydroxyl group-containing (meta ) It can be prepared by reacting the acrylate monomer (c). In this preparation, for example, the polyol compound (a) having a polyether skeleton, the polyisocyanate (b), and the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c) may be reacted at once, or, for example, a polyol having a polyether skeleton. After reacting the compound (a) and the polyisocyanate (b), the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c) may be reacted.

ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)とポリイソシアネート(b)との反応は、ポリオール化合物(a)の水酸基1当量に対して、ポリイソシアネート(b)のイソシアネート基1.1〜2.5当量を反応させるのが好ましく、1.3〜2.0当量を反応させるのが特に好ましい。反応温度は、70〜100℃が好ましく、反応時間は、1〜20時間程度が好ましい。このポリオール化合物(a)とポリイソシアネート(b)との反応においては、ブチルチンジラウレートのような金属系触媒または1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7のようなアミン系触媒などを用いて、反応を促進させるのがより好ましい。   The reaction between the polyol compound (a) having a polyether skeleton and the polyisocyanate (b) is 1.1 to 2.5 equivalents of the isocyanate group of the polyisocyanate (b) with respect to 1 equivalent of the hydroxyl group of the polyol compound (a). Is preferably reacted, and 1.3 to 2.0 equivalents are particularly preferably reacted. The reaction temperature is preferably 70 to 100 ° C., and the reaction time is preferably about 1 to 20 hours. In the reaction between the polyol compound (a) and the polyisocyanate (b), a metal catalyst such as butyltin dilaurate or an amine catalyst such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 It is more preferable to accelerate the reaction using

ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)、ポリイソシアネート(b)および水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)を一度に反応させる場合においては、水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)の量は、ポリイソシアネート(b)1当量に対して1.0〜1.5当量を用いるのが好ましく、1.0〜1.3当量用いるのがより好ましい。反応温度は、60〜100℃が好ましく、反応時間は、1〜20時間であるのが好ましい。   When the polyol compound (a) having a polyether skeleton, the polyisocyanate (b) and the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c) are reacted at once, the amount of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c) is: It is preferable to use 1.0-1.5 equivalent with respect to 1 equivalent of polyisocyanate (b), and it is more preferable to use 1.0-1.3 equivalent. The reaction temperature is preferably 60 to 100 ° C., and the reaction time is preferably 1 to 20 hours.

また、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)とポリイソシアネート(b)とを反応させた後、水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)を反応させる場合においては、ポリオール化合物(a)およびポリイソシアネート(b)の反応物のイソシアネート基1当量に対して、水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)の水酸基0.95〜1.5当量を反応させるのが好ましく、1.0〜1.1当量を反応させるのが特に好ましい。反応温度は、60〜100℃が好ましく、反応時間は、1〜20時間であるのが好ましい。   In the case of reacting the polyol compound (a) having a polyether skeleton with the polyisocyanate (b) and then reacting the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c), the polyol compound (a) and the polyisocyanate It is preferable to react 0.95 to 1.5 equivalents of the hydroxyl group of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c) with respect to 1 equivalent of the isocyanate group of the reaction product of (b), 1.0 to 1.1 equivalents It is particularly preferred to react. The reaction temperature is preferably 60 to 100 ° C., and the reaction time is preferably 1 to 20 hours.

両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、重量平均分子量が3000〜50000であるのがより好ましい。ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)の重量平均分子量が3000より小さい時は、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)の分子量が低下してウレタン基含有率が相対的に高くなるために製造時の粘度上昇による生産性低下の恐れがある。一方、50000を超えると、得られる耐指紋性光硬化性組成物の粘度が高まることによる耐指紋性光硬化性組成物の生産性の低下や、アクリレート基含有率が相対的に低下するために最終的に得られる被膜の機械的強度の低下の恐れがあり好ましくない。なおここでいう平均分子量は、重量平均分子量であり、ポリスチレンを標準として用いて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)の測定結果から算出することができる。   The polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends preferably has a weight average molecular weight of 3000 to 50000. When the weight average molecular weight of the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) is smaller than 3000, the molecular weight of the polyol compound (a) having a polyether skeleton is lowered and the urethane group content is relatively high. In addition, there is a risk of a decrease in productivity due to an increase in viscosity during production. On the other hand, if it exceeds 50000, the viscosity of the resulting fingerprint-resistant photocurable composition is increased, resulting in a decrease in the productivity of the fingerprint-resistant photocurable composition and a relative decrease in the acrylate group content. This is not preferable because the mechanical strength of the finally obtained film may be lowered. The average molecular weight here is a weight average molecular weight, and can be calculated from the measurement result of gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard.

ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)として、水トレランスが6.0ml以下であり、溶解性パラメータが12以下であるものが用いられる。成分(A)の水トレランスが6.0ml以下であり、溶解性パラメータが12以下であることによって、良好な耐指紋性が得られることとなる。   As the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A), those having a water tolerance of 6.0 ml or less and a solubility parameter of 12 or less are used. When the water tolerance of the component (A) is 6.0 ml or less and the solubility parameter is 12 or less, good fingerprint resistance can be obtained.

水トレランスとは親水性の度合を評価するものであり、その値が高いほど親水性が高いことを意味する。上記水トレランスの測定方法は、23℃の条件下で、100mlビーカー内に上記ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)0.5gをテトラヒドロフラン10mlに混合して分散させ、この混合物にビュレットを用い、イオン交換水を徐々に加え、この混合物が白濁を生じるまでに要するイオン交換水の量(ml)を測定する。このイオン交換水の量(ml)を水トレランスと定義する。   Water tolerance is to evaluate the degree of hydrophilicity, and the higher the value, the higher the hydrophilicity. The water tolerance was measured by mixing 0.5 g of the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) in 10 ml of tetrahydrofuran in a 100 ml beaker under a condition of 23 ° C., and adding a burette to this mixture. Use ion-exchange water gradually, and measure the amount (ml) of ion-exchange water required for the mixture to become cloudy. This amount of ion-exchanged water (ml) is defined as water tolerance.

溶解性パラメータ(solubility parameter、SP値と略記することもある。)とは、溶解性の尺度となるものである。SP値は数値が大きいほど極性が高く、数値が小さいほど極性が低いことを示す。なお成分(A)が2種以上の混合物である場合のSP値は、各成分の溶解性パラメータの加重平均値をSP値とする。   The solubility parameter (sometimes abbreviated as SP value) is a measure of solubility. The SP value indicates that the larger the value, the higher the polarity, and the smaller the value, the lower the polarity. In addition, SP value in case a component (A) is a 2 or more types of mixture makes SP value the weighted average value of the solubility parameter of each component.

SP値は次の方法によって実測することができる[参考文献:SUH、CLARKE、J.P.S.A−1、5、1671〜1681(1967)]。   The SP value can be measured by the following method [References: SUH, CLARKE, J. et al. P. S. A-1, 5, 1671-1681 (1967)].

測定温度:20℃
サンプル:樹脂0.5gを100mlビーカーに秤量し、良溶媒10mlをホールピペットを用いて加え、マグネティックスターラーにより溶解する。
溶媒:
良溶媒…ジオキサン、アセトンなど
貧溶媒…n−ヘキサン、イオン交換水など
濁点測定:50mlビュレットを用いて貧溶媒を滴下し、濁りが生じた点を滴下量とする。
Measurement temperature: 20 ° C
Sample: Weigh 0.5 g of resin in a 100 ml beaker, add 10 ml of good solvent using a whole pipette, and dissolve with a magnetic stirrer.
solvent:
Good solvent: poor solvent such as dioxane, acetone, etc. n-hexane, ion-exchanged water, etc. Muddy point measurement: The poor solvent is added dropwise using a 50 ml burette, and the point at which turbidity occurs is defined as the amount of addition.

成分(A)のSP値δは次式によって与えられる。   The SP value δ of component (A) is given by:

Figure 2011099744
Figure 2011099744
Figure 2011099744
Figure 2011099744
Figure 2011099744
Figure 2011099744

Vi:溶媒の分子容(ml/mol)
φi:濁点における各溶媒の体積分率
δi:溶媒のSP値
ml:低SP貧溶媒混合系
mh:高SP貧溶媒混合系
Vi: Molecular volume of the solvent (ml / mol)
φi: Volume fraction of each solvent at cloud point δi: SP value of solvent ml: Low SP poor solvent mixed system mh: High SP poor solvent mixed system

成分(A)の水トレランスが6.0ml以下であり、溶解性パラメータが12以下であることによって、良好な耐指紋性が得られることとなる理由は、理論に拘束されるものではないが以下のように考えられる。成分(A)はウレタン基を有しているため、分子内に局部的に極性が高い部分構造を持つ。一方、成分(A)は、水トレランスが6.0ml以下であることによって、分子全体としては、極性が低い化合物であるということとなる。ここで、指紋跡を構成する脂質成分は長鎖脂肪酸であるとされており、長鎖脂肪酸はアルキル基による極性が低い部分と極性が高いカルボキシル基から構成される。耐指紋性を向上させるには指紋跡を構成する脂質成分へのなじみ性を高くしてやればよいと考えられ、このことから上記のように分子内に局部的に極性が高い部位(ウレタン基)と分子全体として極性が低い性質を有する成分(A)を用いることで、良好な耐指紋性を付与できたものと考えられる。溶解性パラメータについても同様である。溶解性パラメータが12以下であることによって、極性の高いウレタン基を有する成分(A)は、分子全体としては極性の低い化合物であるということとなる。そしてこれにより、指紋跡を構成する脂質成分へのなじみ性が高くなり、耐指紋性が向上することとなると考えられる。なお、水トレランスが6.0ml以下であることと溶解性パラメータを12以下とすることはいずれも分子全体として極性が低い性質を示すものである。一方で、上記理論によって全て解明できるものではなく、水トレランスが6.0ml以下であること、溶解性パラメータが12以下であること、ならびにウレタン基をもつことによる局部的に極性が高い構造を有するという性質を、全て兼ね備えた成分(A)を用いることによって、耐指紋性の向上が達成されることとなる。   The reason why a good fingerprint resistance is obtained when the water tolerance of the component (A) is 6.0 ml or less and the solubility parameter is 12 or less is not limited by theory. It seems like. Since the component (A) has a urethane group, the component (A) has a partial structure having a locally high polarity in the molecule. On the other hand, since the component (A) has a water tolerance of 6.0 ml or less, the molecule as a whole is a compound having low polarity. Here, the lipid component constituting the fingerprint trace is assumed to be a long chain fatty acid, and the long chain fatty acid is composed of a portion having a low polarity due to an alkyl group and a carboxyl group having a high polarity. In order to improve fingerprint resistance, it is thought that it is necessary to increase the compatibility with the lipid component that constitutes the fingerprint mark, and from this, as described above, a locally highly polar site (urethane group) and It is considered that good fingerprint resistance could be imparted by using the component (A) having a property of low polarity as a whole molecule. The same applies to the solubility parameter. When the solubility parameter is 12 or less, the component (A) having a highly polar urethane group is a compound having a low polarity as a whole molecule. As a result, it is considered that the conformability to the lipid component constituting the fingerprint mark is enhanced and the fingerprint resistance is improved. It should be noted that both the water tolerance of 6.0 ml or less and the solubility parameter of 12 or less indicate the property of low polarity as a whole molecule. On the other hand, not all of the above theories can be clarified, and the water tolerance is 6.0 ml or less, the solubility parameter is 12 or less, and the structure has a locally high polarity due to having a urethane group. By using the component (A) having all the properties, fingerprint resistance can be improved.

なお、成分(A)のより好ましい例として、例えば下記式で示されるポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートが挙げられる。   In addition, as a more preferable example of a component (A), the polyether skeleton containing urethane (meth) acrylate shown by a following formula is mentioned, for example.

Figure 2011099744
[式中、Rは、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物(a)の両末端の水酸基を除いた残基であり、Rはポリイソシアネート(b)の両末端のイソシアネート基を除いた残基であり、RおよびRは、同一であっても異なってよい、水酸基含有(メタ)アクリレートモノマー(c)の水酸基を除いた残基であり、およびnは1〜60の整数である。]
このポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、重量平均分子量が3000〜50000であるのがより好ましい。また上記nは1〜60の整数であるのがより好ましく、1〜30の整数であるのがより好ましい。
Figure 2011099744
[Wherein, R 1 is a residue obtained by removing hydroxyl groups at both ends of the polyol compound (a) having a polyether skeleton, and R 2 is a residue obtained by removing isocyanate groups at both ends of the polyisocyanate (b). R 3 and R 4 may be the same or different and are a residue excluding the hydroxyl group of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer (c), and n is an integer of 1 to 60. ]
As for this polyether frame | skeleton containing urethane (meth) acrylate (A), it is more preferable that the weight average molecular weights are 3000-50000. Further, n is more preferably an integer of 1 to 60, and more preferably an integer of 1 to 30.

光重合性多官能化合物(B)
上記耐指紋性光硬化性組成物はポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)を含有することを特徴としている。そしてこの耐指紋性光硬化性組成物においては、被膜形成成分としてさらに光重合性多官能化合物(B)が含まれる。光重合性多官能化合物(B)が含まれることによって、耐指紋性光硬化性組成物の光硬化性が向上し、また得られる被膜の機械的強度(耐擦傷性など)が高まることとなる。光重合性多官能化合物(B)は、一分子中に2以上の光重合性基を有する化合物である。光重合性多官能化合物(B)として、分子中に2個以上の(メタ)アクリレート基を有する化合物を用いることができる。光重合性多官能化合物(B)として、3個以上の(メタ)アクリレート基を有する化合物が好ましい。なお光重合性多官能化合物(B)として、2個以上の(メタ)アクリレート基を有する化合物であれば、モノマーであってもオリゴマーであってもよい。
Photopolymerizable polyfunctional compound (B)
The fingerprint-resistant photocurable composition contains a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A). The fingerprint-resistant photocurable composition further contains a photopolymerizable polyfunctional compound (B) as a film forming component. By including the photopolymerizable polyfunctional compound (B), the photocurability of the fingerprint-resistant photocurable composition is improved, and the mechanical strength (such as scratch resistance) of the resulting coating is increased. . The photopolymerizable polyfunctional compound (B) is a compound having two or more photopolymerizable groups in one molecule. As the photopolymerizable polyfunctional compound (B), a compound having two or more (meth) acrylate groups in the molecule can be used. As the photopolymerizable polyfunctional compound (B), a compound having three or more (meth) acrylate groups is preferable. The photopolymerizable polyfunctional compound (B) may be a monomer or an oligomer as long as it is a compound having two or more (meth) acrylate groups.

モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレートなどのアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートなどの低分子量ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートまたはそのアルキレンオキシド変成体;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジまたはトリまたはテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタまたはヘキサ(メタ)アクリレートなどのポリオールポリ(メタ)アクリレートまたはそのアルキレンオキサイド変成体;イソシアヌル酸アルキレンオキシド変成体のジまたはトリ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これら分子中に2個の(メタ)アクリレート基を有する化合物と分子中に3個以上の(メタ)アクリレート基を有する化合物の混合割合を調整して適用することで、得られる被膜の物性を調整することが可能である。光重合性多官能化合物(B)中において、分子中に3個以上の(メタ)アクリレート基を有する化合物の占める含有率は50〜100%が好ましく、70〜100%がより好ましい。分子中に3個以上の(メタ)アクリレート基を有する光重合性多官能化合物(B)に占める含有率が50%未満の場合、最終的に得られるフィルムの耐スチールウール性に代表される傷つき防止性、耐溶剤性、ペン摺動性が低下する恐れがあり好ましくない。   Monomers include alkylene glycol di (meth) acrylates such as ethylene glycol di (meth) acrylate and propylene glycol di (meth) acrylate; diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di ( Low molecular weight polyalkylene glycol di (meth) acrylates such as (meth) acrylates and tripropylene glycol di (meth) acrylates or their modified alkylene oxides; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol di or tri or tetra (meth) Such as acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta or hexa (meth) acrylate. Orupori (meth) acrylate or an alkylene oxide modified product; etc. isocyanuric acid alkylene oxide modified product of di- or tri (meth) acrylate. The physical properties of the resulting film are adjusted by adjusting the mixing ratio of the compound having two (meth) acrylate groups in the molecule and the compound having three or more (meth) acrylate groups in the molecule. Is possible. In the photopolymerizable polyfunctional compound (B), the content of the compound having three or more (meth) acrylate groups in the molecule is preferably 50 to 100%, and more preferably 70 to 100%. When the content of the photopolymerizable polyfunctional compound (B) having three or more (meth) acrylate groups in the molecule is less than 50%, scratches represented by the steel wool resistance of the finally obtained film Preventing property, solvent resistance, and pen slidability may decrease, which is not preferable.

オリゴマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、アクリル(メタ)アクリレートなどのオリゴマーが挙げられる。なお、光重合性多官能化合物(B)として用いることができるこれらのオリゴマーは、重量平均分子量が300〜5,000であることが好ましく、500〜3,000であることがより好ましい。5,000より大きいと高粘度になり、取り扱いが困難となる恐れがある。   Examples of the oligomer include oligomers such as polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and acrylic (meth) acrylate. In addition, these oligomers that can be used as the photopolymerizable polyfunctional compound (B) preferably have a weight average molecular weight of 300 to 5,000, and more preferably 500 to 3,000. If it is greater than 5,000, the viscosity becomes high and handling may be difficult.

これらの光重合性多官能化合物(B)は、1種を単独で用いてもよく、また2種以上を併用してもよい。   These photopolymerizable polyfunctional compounds (B) may be used alone or in combination of two or more.

光重合性多官能化合物(B)として、一分子中に3またはそれ以上の光重合性基(即ち、(メタ)アクリレート基)を有するモノマーを少なくとも一部に用いるのが好ましい。このようなモノマーを用いることによって、得られる被膜の機械的強度をより高めることができる。好ましい光重合性多官能化合物(B)として、例えばペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが挙げられる。   As the photopolymerizable polyfunctional compound (B), a monomer having 3 or more photopolymerizable groups (that is, (meth) acrylate groups) in one molecule is preferably used at least in part. By using such a monomer, the mechanical strength of the resulting coating can be further increased. Preferred examples of the photopolymerizable polyfunctional compound (B) include pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane EO-modified triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and the like.

光重合開始剤(C)
上記耐指紋性光硬化性組成物は、光重合開始剤(C)を含むのが好ましい。光重合開始剤(C)が存在することによって、紫外線などの活性エネルギー線照射に対する耐指紋性光硬化性組成物の重合性が向上することとなる。光重合開始剤(C)の例として、例えば、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤、オキシムエステル系重合開始剤などが挙げられる。アルキルフェノン系光重合開始剤として、例えば2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノンなどが挙げられる。アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤として、例えば2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。チタノセン系光重合開始剤として、例えば、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウムなどが挙げられる。オキシムエステル系重合開始剤として、例えば、1.2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(0−アセチルオキシム)、オキシフェニル酢酸、2−[2−オキソ−2−フェニルアセトキシエトキシ]エチルエステル、2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチルエステルなどが挙げられる。さらには、ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸メチル、2,4−ジエチルチオキサントン、2−エチルアントラキノン、カンファーキノンなどの水素引き抜き型開始剤を用いることもできる。これらの光重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、また2種以上を併用してもよい。
Photopolymerization initiator (C)
The fingerprint-resistant photocurable composition preferably contains a photopolymerization initiator (C). The presence of the photopolymerization initiator (C) improves the polymerizability of the fingerprint-resistant photocurable composition against irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays. Examples of the photopolymerization initiator (C) include alkylphenone photopolymerization initiators, acylphosphine oxide photopolymerization initiators, titanocene photopolymerization initiators, and oxime ester polymerization initiators. Examples of alkylphenone photopolymerization initiators include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane. -1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2 -Hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2- Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl 1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone and the like. Examples of the acylphosphine oxide photopolymerization initiator include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, and the like. Examples of titanocene-based photopolymerization initiators include bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium. Is mentioned. Examples of the oxime ester polymerization initiator include 1.2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)], ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2 -Methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (0-acetyloxime), oxyphenylacetic acid, 2- [2-oxo-2-phenylacetoxyethoxy] ethyl ester, 2- (2-hydroxy And ethoxy) ethyl ester. Furthermore, hydrogen abstraction initiators such as benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl benzoylbenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2-ethylanthraquinone, camphorquinone, and the like can be used. These photoinitiators may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

上記光重合開始剤(C)のうち、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1および2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンなどがより好ましく用いられる。   Among the photopolymerization initiators (C), 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) ) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 and 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1- On or the like is more preferably used.

ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)
上記耐指紋性光硬化性組成物は、必要に応じて、ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)を含んでもよい。耐指紋性光硬化性組成物に、ポリエーテル樹脂またはポリエーテル(メタ)アクリレートである成分(D)が含まれることによって、耐指紋性能が向上するという利点がある。特に、成分(D)が含まれることによって、より脂質とのなじみ性が改善され、指紋拭取り性がさらに向上するといった特異的な性能が達成されることとなる。
Polyether or polyether (meth) acrylate (D)
The said fingerprint-resistant photocurable composition may contain polyether or polyether (meth) acrylate (D) as needed. When the component (D) which is a polyether resin or a polyether (meth) acrylate is contained in the fingerprint-resistant photocurable composition, there is an advantage that the fingerprint resistance is improved. In particular, by including the component (D), compatibility with lipids is further improved, and specific performance such as further improving the fingerprint wiping property is achieved.

成分(D)としてのポリエーテルとして、炭素数3以上であるアルキレンオキシドを含むポリエーテルジアルキルエーテル、ポリエーテルモノオールまたはポリエーテルポリオールなどが挙げられる。「炭素数3以上であるアルキレンオキシド」として、例えば、−O−CH−CH(CH)−で示されるイソプロピレンオキシドを含むプロピレンオキシド、−O−(CH−で示されるテトラメチレンオキシド、−O−CH−CH(CHCl)−で示される3−クロロプロピレンオキシド、など、炭素数3〜4のアルキレンオキシドなどが挙げられる。この「炭素数3以上であるアルキレンオキシド(d−1)」はプロピレンオキシドであるのがより好ましく、イソプロピレンオキシドであるのがさらに好ましい。ポリエーテルのアルキル基部分の炭素数が3に満たないアルキレンオキシド(d−2)も使用することができるが、耐指紋性能は「炭素数3以上であるアルキレンオキシド」が主として付与するので、炭素数3以上のアルキレンオキシドは成分(D)の少なくとも一部を構成することが好ましい。 Examples of the polyether as the component (D) include polyether dialkyl ethers, polyether monools or polyether polyols containing alkylene oxides having 3 or more carbon atoms. Examples of the “alkylene oxide having 3 or more carbon atoms” include propylene oxide including isopropylene oxide represented by —O—CH 2 —CH (CH 3 ) —, and tetra represented by —O— (CH 2 ) 4 —. Examples include methylene oxide, 3-chloropropylene oxide represented by —O—CH 2 —CH (CH 2 Cl) —, and alkylene oxides having 3 to 4 carbon atoms. The “alkylene oxide (d-1) having 3 or more carbon atoms” is more preferably propylene oxide, and even more preferably isopropylene oxide. Alkylene oxide (d-2) in which the alkyl group part of the polyether has less than 3 carbon atoms can also be used, but the fingerprint resistance is mainly imparted by “alkylene oxide having 3 or more carbon atoms”. It is preferable that the alkylene oxide of several or more comprises at least one part of a component (D).

ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)は、分子量が400以上であるのが好ましく、700以上であるのがより好ましい。なおここでいう分子量は、JIS K 1557により算出した水酸基価の測定結果から算出することができる。   The polyether or the polyether (meth) acrylate (D) preferably has a molecular weight of 400 or more, and more preferably 700 or more. The molecular weight here can be calculated from the measurement result of the hydroxyl value calculated according to JIS K1557.

ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)として、市販されているポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレートを用いてもよい。好ましく用いることができるポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレートとして、例えば、キシダ化学(株)社製ポリプロピレンシリーズおよび新中村化学(株)社製ポリエーテルジアクリレートシリーズなどが挙げられる。   A commercially available polyether or polyether (meth) acrylate may be used as the polyether or polyether (meth) acrylate (D). Examples of the polyether or polyether (meth) acrylate that can be preferably used include a polypropylene series manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd. and a polyether diacrylate series manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.

上記耐指紋性光硬化性組成物においては、各成分(A)、(B)および(D)の量は、
ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)0.5〜40質量%、
光重合性多官能化合物(B)30〜99.5質量%、
ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)0〜30質量%、
であるのが好ましい。
より詳しくは、成分(D)が含まれない場合は、
ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)0.5〜40質量%、より好ましくは2〜35質量%
光重合性多官能化合物(B)30〜99.5質量%、より好ましくは65〜98質量%、
であるのがより好ましい。なお上記成分(A)および(B)の総質量が100質量%となることを条件とする。
また、成分(D)が含まれる場合は、
ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)0.5〜40質量%、より好ましくは2〜35質量%、
光重合性多官能化合物(B)30〜97質量%、より好ましくは45〜95質量%、
ポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)1〜30質量%、より好ましくは2〜20質量%、
であるのがより好ましい。なお上記成分(A)、(B)および(D)の総質量が100質量%となることを条件とする。さらに配合される成分(D)が炭素数3以上であるアルキレンオキシド(d−1)と炭素数3未満のアルキレンオキシド(d−2)を併せ持つ場合、当該成分(D)に含まれる(d−1)と(d−2)の合計のうち、25質量%以上は(d−1)であることが好ましい。(d−1)の構成比率が上記の好ましい下限を下回ると、得られる被膜の耐指紋性が低下する場合があり、好ましくない。またこの場合、成分(D)に含まれる(d−1)の上記比率の上限は100質量%である。
In the above fingerprint-resistant photocurable composition, the amount of each component (A), (B) and (D) is:
0.5-40% by mass of a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A),
30-99.5 mass% of photopolymerizable polyfunctional compound (B),
0 to 30% by mass of polyether or polyether (meth) acrylate (D),
Is preferred.
More specifically, when component (D) is not included,
Polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) 0.5 to 40% by mass, more preferably 2 to 35% by mass
Photopolymerizable polyfunctional compound (B) 30 to 99.5% by mass, more preferably 65 to 98% by mass,
It is more preferable that The total mass of the components (A) and (B) is 100% by mass.
When component (D) is included,
0.5 to 40% by mass of the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A), more preferably 2 to 35% by mass,
30 to 97% by mass of the photopolymerizable polyfunctional compound (B), more preferably 45 to 95% by mass,
1-30% by weight of polyether or polyether (meth) acrylate (D), more preferably 2-20% by weight,
It is more preferable that The total mass of the components (A), (B), and (D) is 100% by mass. Furthermore, when the component (D) to be blended has both an alkylene oxide (d-1) having 3 or more carbon atoms and an alkylene oxide (d-2) having less than 3 carbon atoms, it is included in the component (D) (d- Of the total of 1) and (d-2), 25% by mass or more is preferably (d-1). When the constituent ratio of (d-1) is less than the above preferable lower limit, the fingerprint resistance of the resulting film may be lowered, which is not preferable. In this case, the upper limit of the ratio of (d-1) contained in the component (D) is 100% by mass.

また配合される成分(D)が、(d−1)由来のポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D−1)と(d−2)由来のポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D−2)の混合物である場合、(D−1)と(D−2)の合計のうち、10質量%以上は(D−1)であることが好ましい。(D−1)の配合比率が上記の好ましい下限を下回ると、得られる被膜の耐指紋性が低下する場合があり、好ましくない。またこの場合、成分(D)に含まれる(D−1)の上記比率の上限は100質量%である。   Moreover, the component (D) mix | blended is a polyether or polyether (meth) acrylate (D-1) derived from (d-1) and a polyether or polyether (meth) acrylate (D) derived from (d-2). -2), it is preferable that 10% by mass or more of (D-1) and (D-2) is (D-1) in the total of (D-1) and (D-2). When the blending ratio of (D-1) is lower than the above-mentioned preferable lower limit, the fingerprint resistance of the resulting film may be lowered, which is not preferable. In this case, the upper limit of the ratio of (D-1) contained in the component (D) is 100% by mass.

ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)の量が上記範囲より少ない場合は、得られる耐指紋性被膜の耐指紋性の低下や耐屈曲性またはカール性などが劣ることとなるおそれがある。またポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)の量が上記範囲を超える場合は、耐スチールウール性または耐溶剤性などが低下するおそれがある。光重合性多官能化合物(B)の量が30質量%より少ない場合は、耐擦傷性、表面の膜硬度などの物理的強度が劣ることとなるおそれがある。
また光重合開始剤(C)は、成分(A)、(B)および(D)の総質量100質量部に対して0.1〜20質量部含むのが好ましい。光重合開始剤(C)の量が上記範囲を外れる場合は、光硬化性が不十分となり、物理的強度が劣ることとなるおそれがある。
When the amount of the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) is less than the above range, the resulting fingerprint-resistant coating film may be deteriorated in fingerprint resistance, inferior in bending resistance or curling property, etc. . Moreover, when the quantity of polyether frame | skeleton containing urethane (meth) acrylate (A) exceeds the said range, there exists a possibility that steel wool resistance or solvent resistance may fall. When the amount of the photopolymerizable polyfunctional compound (B) is less than 30% by mass, physical strength such as scratch resistance and surface film hardness may be deteriorated.
Moreover, it is preferable that a photoinitiator (C) contains 0.1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of total mass of component (A), (B) and (D). When the amount of the photopolymerization initiator (C) is out of the above range, the photocurability may be insufficient and the physical strength may be deteriorated.

他の成分
上記耐指紋性光硬化性組成物は、必要に応じて、エチレン性不飽和基を1個有する化合物を配合することもできる。このような化合物を含めることによって、得られるコーティング液の粘度、得られる被膜の密着性、硬度、および柔軟性を調整することができる。エチレン性不飽和基を1個有する化合物としては、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレートなどの環状構造を有する(メタ)アクリレート化合物;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート;フェノキシエチル(メタ)アクリレートなどのフェノールのアルコキシオキシド付加物の(メタ)アクリレート化合物;エチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレーとなどのグリコールのモノ(メタ)アクリレート;N−ビニルピドリロン、N−ビニルカプロラクタムなどのビニル化合物などが挙げられる。
Other Components The above fingerprint-resistant photocurable composition can be blended with a compound having one ethylenically unsaturated group, if necessary. By including such a compound, it is possible to adjust the viscosity of the resulting coating liquid, the adhesion, hardness, and flexibility of the resulting film. Examples of the compound having one ethylenically unsaturated group include (meth) acrylate compounds having a cyclic structure such as cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meta ) Acrylates, hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxypropyl (meth) acrylate; (meth) acrylate compounds of alkoxy oxide adducts of phenols such as phenoxyethyl (meth) acrylate; ethylene glycol mono (meth) acrylate, methoxy Glycol mono (medium) such as ethylene glycol mono (meth) acrylate, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, and tripropylene glycol mono (meth) acrylate. ) Acrylate; N- Binirupidoriron, vinyl compounds such as N- vinyl caprolactam.

上記耐指紋性光硬化性組成物は、必要に応じて無機粒子または有機粒子などの充填剤を含んでもよい。無機粒子または有機粒子を含むことによって、被膜の耐擦傷性および表面の膜硬度をさらに向上させたり、防眩性を付与することができる。これらの無機粒子または無機粒子は、平均粒径5nm〜数μm程のものであるのがより好ましい。用いることができる無機粒子として、例えば、金属または金属の酸化物の微粒子を挙げることができる。金属としては、例えば、Si、Ti、Al、Zn、Zr、In、Sn、Sbなどが挙げられる。具体的な無機粒子として、例えばシリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニアなどが挙げられる。さらに、これらの無機粒子は、粒子表面をUV硬化可能な官能基、例えばアクリレート基で変性処理してあることがより好ましい。また、用いることができる有機粒子として、例えば、アクリル、ポリエステルなどの有機粒子が挙げられる。   The fingerprint-resistant photocurable composition may contain a filler such as inorganic particles or organic particles as necessary. By containing inorganic particles or organic particles, the scratch resistance and surface hardness of the coating can be further improved, or antiglare properties can be imparted. These inorganic particles or inorganic particles are more preferably those having an average particle diameter of about 5 nm to several μm. Examples of inorganic particles that can be used include fine particles of metal or metal oxide. Examples of the metal include Si, Ti, Al, Zn, Zr, In, Sn, and Sb. Specific examples of the inorganic particles include silica, alumina, zirconia, and titania. Furthermore, it is more preferable that these inorganic particles have a particle surface modified with a UV curable functional group such as an acrylate group. Examples of organic particles that can be used include organic particles such as acrylic and polyester.

なお、無機粒子または有機粒子を用いる場合は、耐指紋性光硬化性組成物の固形分質量に対して0.1〜50質量%ほど用いるのが好ましい。無機粒子または有機粒子の含有量が50質量%を超える場合は、得られる被膜の膜強度が弱くなるおそれがある。   In addition, when using an inorganic particle or an organic particle, it is preferable to use about 0.1-50 mass% with respect to solid content mass of a fingerprint-proof photocurable composition. When the content of inorganic particles or organic particles exceeds 50% by mass, the film strength of the obtained coating film may be weakened.

上記耐指紋性光硬化性組成物はさらに、必要に応じて、希釈溶媒としての有機溶媒を含んでもよい。このような有機溶媒として、例えば、用いられる溶媒の具体例としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ミネラルスピリットなどの脂肪族系溶媒;メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒;ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アニソール、フェネトールなどのエーテル系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、エチレングリコールジアセテートなどのエステル系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエーテルエステル系溶媒;メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒;ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒;などが挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよく、また混合して用いてもよい。   The fingerprint-resistant photocurable composition may further contain an organic solvent as a dilution solvent, if necessary. Examples of such organic solvents include, for example, aromatic solvents such as toluene and xylene; aliphatic solvents such as hexane, heptane, octane, and mineral spirit; methyl ethyl ketone, acetone, and methyl Ketone solvents such as isobutyl ketone and cyclohexanone; ether solvents such as diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, anisole, and phenetole; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, ethylene glycol diacetate Amide solvents such as dimethylformamide, diethylformamide, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone; cellosolv solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve; ether ester systems such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate Solvents; Alcohol solvents such as methanol, ethanol and propanol; Halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane and chloroform; These solvents may be used alone or in combination.

上記耐指紋性光硬化性組成物はさらに、必要に応じて、光重合開始助剤、帯電防止剤、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、消泡剤、レベリング剤、顔料などの通常用いられる添加剤を含んでもよい。例えば、好ましく用いることができる光重合開始助剤として、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジブチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミンなどが挙げられる。   The above-mentioned fingerprint-resistant photocurable composition further comprises a photopolymerization initiation aid, an antistatic agent, a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antifoaming agent, a leveling agent, if necessary. It may contain commonly used additives such as pigments. Examples of photopolymerization initiation assistants that can be preferably used include ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, dibutylethanolamine, and methyldiethanolamine.

耐指紋性光硬化性組成物の調製および被膜調製
上記耐指紋性光硬化性組成物は、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)、光重合性多官能化合物(B)および光重合開始剤(C)、そして必要に応じたポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)を含有する。そして上記耐指紋性光硬化性組成物を用いることによって、単層であっても耐指紋性に非常に優れ、かつ耐擦傷性、表面の膜硬度および耐指紋性耐久性にも優れた被膜を、形成することができる。
Preparation of fingerprint-resistant photocurable composition and coating preparation The above-mentioned fingerprint-resistant photocurable composition comprises a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A), a photopolymerizable polyfunctional compound (B), and photopolymerization initiation. It contains an agent (C) and optionally a polyether or polyether (meth) acrylate (D). And by using the above-mentioned fingerprint-resistant photocurable composition, a film having excellent fingerprint resistance even with a single layer, and excellent scratch resistance, surface film hardness and fingerprint resistance durability can be obtained. Can be formed.

また、上記耐指紋性光硬化性組成物は光硬化性である。そのため、被膜を形成する際に、加熱重合させる必要がないという利点を有する。光学表示装置の中には、例えば樹脂フィルムなど耐熱性が低い部材を含んでいるものも多く含まれる。上記耐指紋性光硬化性組成物は、そのような耐熱性が低い部材を含む光学表示装置そして樹脂フィルムに対しても、良好に被膜を形成することができるという利点を有する。   The fingerprint-resistant photocurable composition is photocurable. Therefore, when forming a film, it has the advantage that it is not necessary to carry out heat polymerization. Many optical display devices include a member having a low heat resistance such as a resin film. The fingerprint-resistant photocurable composition has an advantage that a coating film can be satisfactorily formed even on an optical display device and a resin film including such a member having low heat resistance.

上記耐指紋性光硬化性組成物は、上記成分を混合することによって調製することができる。また、組成物の調製時に、必要に応じて、希釈に用いることができる有機溶媒を用いてもよい。なお、上記耐指紋性光硬化性組成物は、希釈して用いてもよく、また希釈することなく用いてもよい。   The fingerprint-resistant photocurable composition can be prepared by mixing the above components. Moreover, you may use the organic solvent which can be used for dilution as needed at the time of preparation of a composition. In addition, the said fingerprint-resistant photocurable composition may be used diluted, and may be used without diluting.

耐指紋性光硬化性組成物の調製方法としては、例えば、上記ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)、光重合性多官能化合物(B)および光重合開始剤(C)、そして必要に応じたポリエーテルまたはポリエーテル(メタ)アクリレート(D)および添加剤、有機溶媒などを混合することによって、調製することができる。   As a method for preparing a fingerprint-resistant photocurable composition, for example, the above polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A), photopolymerizable polyfunctional compound (B) and photopolymerization initiator (C), and necessary Can be prepared by mixing a polyether or polyether (meth) acrylate (D) according to the above, an additive, an organic solvent, and the like.

なお上記耐指紋性光硬化性組成物は、シリコーン系添加剤およびフッ素系添加剤いずれも含まないのが好ましい。これらの添加剤は、得られる被膜の撥水性および撥油性を向上させ防汚性を向上させる作用がある一方、この撥水性および撥油性の向上により被膜に付着した油脂成分をはじいてしまい、かえって汚れが目立ってしまうおそれがあるからである。   In addition, it is preferable that the said fingerprint-resistant photocurable composition does not contain both a silicone type additive and a fluorine type additive. While these additives have the effect of improving the water repellency and oil repellency of the resulting coating and improving the antifouling property, the improvement in water repellency and oil repellency repels the oil and fat components adhering to the coating. This is because the dirt may be noticeable.

上記耐指紋性光硬化性組成物を用いることにより、耐指紋性フィルムを容易に調製することができる。この耐指紋性フィルムは、透明基材と被膜とを有する。この被膜は、上記の耐指紋性光硬化性組成物から形成される層であり、この層の存在によって耐指紋性が発揮されることとなる。   By using the fingerprint-resistant photocurable composition, a fingerprint-resistant film can be easily prepared. This fingerprint-resistant film has a transparent substrate and a coating. This film is a layer formed from the above-mentioned fingerprint-resistant photocurable composition, and the presence of this layer exhibits fingerprint resistance.

耐指紋性フィルムの調製に用いられる透明基材としては、各種透明プラスチックフィルム、例えばトリアセチルセルロース(TAC)フィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルムなどが使用できる。透明基材として、ポリエチレンテレフタレートを使用するのが好ましい。なお、透明基材の厚さは、用途に応じて適時選択することができるが、一般に25〜1000μm程で用いられる。   Transparent substrates used for preparing the fingerprint-resistant film include various transparent plastic films such as triacetyl cellulose (TAC) film, polyethylene terephthalate (PET) film, diacetyl cellulose film, acetate butyrate cellulose film, polyethersulfone. Films, polyacrylic resin films, polyurethane resin films, polyester films, polycarbonate films, polysulfone films, polyether films, polymethylpentene films, polyetherketone films, (meth) acrylonitrile films, and the like can be used. Polyethylene terephthalate is preferably used as the transparent substrate. In addition, although the thickness of a transparent base material can be selected timely according to a use, generally it is used at about 25-1000 micrometers.

耐指紋性を有する被膜は、透明基材上に、上記の耐指紋性光硬化性組成物を塗装することにより形成される。耐指紋性光硬化性組成物の塗装方法は、耐指紋性光硬化性組成物および塗装工程の状況に応じて適時選択することができ、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(この方法は米国特許2681294号明細書に記載される公知の方法である。)などにより塗装することができる。   A film having fingerprint resistance is formed by coating the above-mentioned fingerprint-resistant photocurable composition on a transparent substrate. The coating method of the fingerprint-resistant photocurable composition can be selected as appropriate according to the fingerprint-resistant photocurable composition and the state of the coating process, such as dip coating, air knife coating, curtain coating, The coating can be performed by a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method or an extrusion coating method (this method is a known method described in US Pat. No. 2,681,294).

透明基材上に塗装された耐指紋性光硬化性組成物は、次いで活性エネルギー線の照射に曝されることによって硬化し、これにより耐指紋性の被膜が形成される。なお本明細書において「光硬化性」という用語は広義の意味で用いられており、遠紫外線、紫外線、近紫外線、赤外線などの光線に加えて、X線、γ線などの電磁波、電子線、プロトン線、中性子線などの活性エネルギー線を照射することによって硬化する性質を意味する。この中でも、硬化速度、照射装置の入手のし易さ、価格などの面から、紫外線照射による硬化が有利である。紫外線硬化させる方法としては、200〜500nm波長域の光を発する高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ等を用いて、100〜3000mJ/cmほど照射する方法などが挙げられる。 The fingerprint-resistant photocurable composition coated on the transparent substrate is then cured by being exposed to active energy rays, thereby forming a fingerprint-resistant film. In this specification, the term “photocurability” is used in a broad sense, and in addition to rays such as far ultraviolet rays, ultraviolet rays, near ultraviolet rays, and infrared rays, electromagnetic waves such as X-rays and γ rays, electron beams, It means the property of curing when irradiated with active energy rays such as proton rays and neutron rays. Among these, curing by ultraviolet irradiation is advantageous from the viewpoint of curing speed, availability of an irradiation apparatus, price, and the like. Examples of the ultraviolet curing method include a method of irradiating about 100 to 3000 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp or the like that emits light in a wavelength range of 200 to 500 nm.

また、上記耐指紋性光硬化性組成物を、光学表示装置の表面上に塗装することによって、光学表示装置の表面上に被膜を形成することができる。上記耐指紋性光硬化性組成物を用いて被膜を設けることができる光学表示装置として、タッチパネルディスプレイ、液晶表示ディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ、蛍光ディスプレイ、プラズマディスプレイパネルなどが挙げられる。これらの光学表示装置の表面に用いられる各種透明プラスチックフィルム、透明プラスチック板およびガラスなどに、上記耐指紋性光硬化性組成物を塗布することによって、光学表示装置の表面上に被膜を形成することができる。   Moreover, a film can be formed on the surface of the optical display device by coating the fingerprint-resistant photocurable composition on the surface of the optical display device. Examples of the optical display device that can be provided with a film using the fingerprint-resistant photocurable composition include a touch panel display, a liquid crystal display, a light emitting diode display, an electroluminescence display, a fluorescent display, and a plasma display panel. A film is formed on the surface of the optical display device by applying the above-mentioned fingerprint-resistant photocurable composition to various transparent plastic films, transparent plastic plates and glass used on the surface of these optical display devices. Can do.

さらに上記耐指紋性光硬化性組成物を、金属メッキ加工または金属メッキ加工がなされたような塗装によって鏡面仕上げが施された物品の表面上に塗装することによって、これらの物品の表面上に耐指紋性の被膜を形成することができる。鏡面仕上げが施された物品として、例えば、携帯情報端末、家庭用電気製品、家具、室内調度品または化粧品のケースなどが挙げられる。これらの鏡面仕上げが施された物品の表面上に、耐指紋性の被膜を設けることによって、指紋跡の付着を防ぐことができる。   Furthermore, the above-mentioned fingerprint-resistant photocurable composition is coated on the surface of articles that have been mirror-finished by metal plating or metal-plated coating. A fingerprint-like film can be formed. Examples of the article having a mirror finish include portable information terminals, household electrical appliances, furniture, indoor furniture, and cosmetic cases. By providing a fingerprint-resistant film on the surface of the article having such a mirror finish, it is possible to prevent fingerprint marks from being attached.

耐指紋性光硬化性組成物の塗装方法としては、例えば、スピンコート法、ディップコート法、グラビアコート法、スプレー法、ローラー法、はけ塗り法などが挙げられる。そして塗装する光学表示装置の種類に応じて、適した塗装方法を選択することができる。耐指紋性光硬化性組成物の塗装において、得られる被膜の厚さが0.1〜20μmとなるように塗装するのが好ましい。こうして塗装された耐指紋性光硬化性組成物は、上記と同様に活性エネルギー線の照射に曝されることによって硬化し、これにより耐指紋性の被膜が形成される。   Examples of the coating method for the fingerprint-resistant photocurable composition include a spin coating method, a dip coating method, a gravure coating method, a spray method, a roller method, and a brush coating method. A suitable coating method can be selected in accordance with the type of optical display device to be coated. In the application of the fingerprint-resistant photocurable composition, it is preferable to apply so that the thickness of the obtained film is 0.1 to 20 μm. The fingerprint-resistant photocurable composition thus coated is cured by being exposed to active energy rays in the same manner as described above, thereby forming a fingerprint-resistant film.

上記耐指紋性光硬化性組成物を用いることによって、光学表示装置表面または鏡面仕上げが施された物品などに、優れた耐指紋性を有する被膜を、より簡便に設けることができる。そして上記耐指紋性光硬化性組成物により得られる被膜は、透明性にも優れており、光学表示装置表面または鏡面仕上げが施された物品の表面などにおける使用に非常に適している。上記耐指紋性光硬化性組成物により得られる被膜は、さらに、優れた耐擦傷性および表面の膜硬度を有する。この被膜は、単層であっても、優れた耐指紋性、そして高い耐擦傷性および表面の膜硬度を有している。さらに上記耐指紋性光硬化性組成物は光硬化性であるため、このような優れた性能を有する被膜を、光学表示装置表面または鏡面仕上げが施された物品の上に、より簡便に形成できるという利点がある。そのため上記耐指紋性光硬化性組成物を用いることによって、生産効率および製造コストに優れた被膜およびこの被膜を有する耐指紋性フィルムを形成することができる。さらにこの被膜は、耐指紋性を長期間維持させることができ、耐指紋性耐久性にも優れているという利点を有する。   By using the above-mentioned fingerprint-resistant photocurable composition, it is possible to more easily provide a coating film having excellent fingerprint resistance on an optical display device surface or a mirror-finished article. The film obtained from the above fingerprint-resistant photocurable composition is also excellent in transparency, and is very suitable for use on the surface of an optical display device or the surface of an article having a mirror finish. The film obtained from the above fingerprint-resistant photocurable composition further has excellent scratch resistance and surface film hardness. Even if this film is a single layer, it has excellent fingerprint resistance, high scratch resistance and surface film hardness. Furthermore, since the above-mentioned fingerprint-resistant photocurable composition is photocurable, it is possible to more easily form a film having such excellent performance on the surface of the optical display device or an article having a mirror finish. There is an advantage. Therefore, by using the above-mentioned fingerprint-resistant photocurable composition, a film excellent in production efficiency and production cost and a fingerprint-resistant film having this film can be formed. Furthermore, this coating film has the advantage that it can maintain fingerprint resistance for a long period of time and is excellent in fingerprint resistance durability.

耐指紋性硬化性組成物
優れた耐指紋性を有する被膜が得られる組成物の他の一例として、
(イ)分子内に活性メチレン基または活性メチン基(a)と飽和シクロアルキル基(b)とを有するアクリル樹脂、若しくは活性メチレン基または活性メチン基(a)を有するアクリル樹脂と飽和シクロアルキル基(b)を有するアクリル樹脂との混合物、
(ロ)分子内に2個以上の光硬化性官能基を有する多官能重合性化合物、
(ハ)光重合開始剤、および
(ニ)マイケル反応触媒、
を含有する耐指紋性硬化性組成物、が挙げられる。以下、各成分について詳述する。
As another example of a composition for obtaining a film having excellent fingerprint resistance, an anti-fingerprint curable composition ,
(A) An acrylic resin having an active methylene group or active methine group (a) and a saturated cycloalkyl group (b) in the molecule, or an acrylic resin having an active methylene group or an active methine group (a) and a saturated cycloalkyl group A mixture with an acrylic resin having (b),
(B) a polyfunctional polymerizable compound having two or more photocurable functional groups in the molecule;
(C) a photopolymerization initiator, and (d) a Michael reaction catalyst,
The anti-fingerprint curable composition containing this. Hereinafter, each component will be described in detail.

成分(イ)
上記耐指紋性硬化性組成物の成分(イ)は、分子内に活性メチレン基または活性メチン基(a)と飽和シクロアルキル基(b)とを有するアクリル樹脂、若しくは活性メチレン基または活性メチン基(a)を有するアクリル樹脂と飽和シクロアルキル基(b)を有するアクリル樹脂との混合物である。成分(イ)のアクリル樹脂は、活性メチレン基または活性メチン基(a)を有するアクリルモノマー、飽和シクロアルキル基(b)を有するアクリルモノマー、およびその他のアクリルモノマーを共重合することにより合成される。また、その他のアクリルモノマーとして、(メタ)アクリル酸などカルボキシル基含有モノマー、グリシジル(メタ)アクリレートなどのエポキシ基含有モノマー、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピルエステル(メタ)アクリレート、プラクセルFM−1(アクリル酸2−ヒドロキシエチルとポリカプロラクトンとの付加物、ダイセル化学工業(株)製などの水酸基含有モノマー、などの反応性基を有するアクリルモノマーを共重合させたのち、付加反応などにより重合性不飽和結合をアクリル樹脂中に導入することも可能である。重合性不飽和結合は飽和シクロアルキル基(b)のみを含むアクリル樹脂を用いる場合に、このアクリル樹脂には反応性基が無く硬化性が不足するので、重合性不飽和基を導入することにより硬化度を上げることができる。
Ingredient (I)
Component (a) of the anti-fingerprint curable composition is an acrylic resin having an active methylene group or active methine group (a) and a saturated cycloalkyl group (b) in the molecule, or an active methylene group or an active methine group. It is a mixture of an acrylic resin having (a) and an acrylic resin having a saturated cycloalkyl group (b). The acrylic resin of component (a) is synthesized by copolymerizing an acrylic monomer having an active methylene group or an active methine group (a), an acrylic monomer having a saturated cycloalkyl group (b), and other acrylic monomers. . Moreover, as other acrylic monomers, carboxyl group-containing monomers such as (meth) acrylic acid, epoxy group-containing monomers such as glycidyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl ester (meth) acrylate, Plaxel FM-1 (addition of 2-hydroxyethyl acrylate and polycaprolactone, an acrylic monomer having a reactive group such as a hydroxyl group-containing monomer such as manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) and then an addition reaction It is also possible to introduce a polymerizable unsaturated bond into the acrylic resin by means of, etc. The polymerizable unsaturated bond is reactive with this acrylic resin when an acrylic resin containing only a saturated cycloalkyl group (b) is used. Since there is no group and the curability is insufficient, a polymerizable unsaturated group is introduced. It can increase the degree of cure by.

活性メチレン基は、2個のカルボニル基によって挟まれ、そのカルボニル基によって電子過剰状態にありプロトンを放出してカルボアニオンを生成しやすい状態にあるメチレン基であり、活性メチン基は、3個のカルボニル基によって挟まれ、そのカルボニル基によって電子過剰状態にありプロトンを放出してカルボアニオンを生成しやすい状態にあるメチン基である。活性メチレン基または活性メチン基は、加熱時に不飽和二重結合とマイケル付加反応をする。   An active methylene group is a methylene group sandwiched between two carbonyl groups, in an electron-excess state due to the carbonyl group, and in a state where a proton is easily released to generate a carbanion. It is a methine group that is sandwiched between carbonyl groups and is in an electron-excess state due to the carbonyl group and is likely to generate a carbanion by releasing protons. The active methylene group or active methine group undergoes a Michael addition reaction with an unsaturated double bond when heated.

活性メチレン基を有するアクリルモノマーの具体例としては、2−アセトアセトキシエチル(メタ)アクリレート、2−シアノアセトキシエチル(メタ)アクリレート、N−(2−シアノアセトキシエチル)アクリルアミド、N−(2−プロピオニルアセトキシブチル)アクリルアミド、N−(4−アセトアセトキシメチルベンジル)アクリルアミド、N−(2−アセトアセチルアミノエチル)アクリルアミド、2−(N−アセトアセチルアミノエチル)(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   Specific examples of the acrylic monomer having an active methylene group include 2-acetoacetoxyethyl (meth) acrylate, 2-cyanoacetoxyethyl (meth) acrylate, N- (2-cyanoacetoxyethyl) acrylamide, and N- (2-propionyl). Examples include acetoxybutyl) acrylamide, N- (4-acetoacetoxymethylbenzyl) acrylamide, N- (2-acetoacetylaminoethyl) acrylamide, 2- (N-acetoacetylaminoethyl) (meth) acrylate, and the like.

また、活性メチン基を有するアクリルモノマーは、EP第0310011号公報に記載されているような、メタントリカルボン酸またはこれらの誘導体と、ヒドロキシル基を有するアクリルモノマー(例えば、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、N−(2−ヒドロキシエチル)メタクリルアミドなど)との反応物が挙げられる。   An acrylic monomer having an active methine group is a methanetricarboxylic acid or a derivative thereof as described in EP 0310011 and an acrylic monomer having a hydroxyl group (for example, 2-hydroxyethyl methacrylate, N- (2-hydroxyethyl) methacrylamide and the like).

飽和シクロアルキル基(b)を有するアクリルモノマーは、飽和シクロアルキル基を有する(メタ)アクリレートであって、好ましくは炭素数6〜18、良い好ましくは炭素数6〜12の飽和シクロアルキル基を有する(メタ)アクリレートである。具体例をいくつか例示すると、たとえば、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロペンタニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロデシル(メタ)アクリレート、シクロドデシル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンモノメタノールモノ(メタ)アクリレート等をあげることができる。炭素数6未満の飽和シクロアルキル基では、親油性が十分ではないため好ましくない。また、炭素数が18を超えるシクロアルキル基では、多官能重合性化合物(ロ)との相溶性が低下し被膜が白濁するなど、外観の不具合が発生する。尚、上記組成物は、撥水基として通常使われるシリコン(主にポリジメチルシロキサン)やフッ素(主にパーフルオロアルキル基)を含まないのが望ましい。これらのモノマーは得られるコーティング層の撥水性および撥油性を向上させ防汚性を向上させる作用がある一方、この撥水性および撥油性の向上によりコーティング層に付着した油脂成分をはじいてしまい、かえって汚れが目立ってしまうおそれがあるからである。   The acrylic monomer having a saturated cycloalkyl group (b) is a (meth) acrylate having a saturated cycloalkyl group, preferably having a saturated cycloalkyl group having 6 to 18 carbon atoms, preferably 6 to 12 carbon atoms. (Meth) acrylate. Some specific examples include, for example, cyclohexyl (meth) acrylate, trimethylcyclohexyl (meth) acrylate, cyclopentanyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclodecyl (meth) acrylate, cyclododecyl (meth) acrylate, Examples include tricyclodecane monomethanol mono (meth) acrylate. A saturated cycloalkyl group having less than 6 carbon atoms is not preferred because the lipophilicity is not sufficient. Moreover, in the case of a cycloalkyl group having more than 18 carbon atoms, appearance defects such as a decrease in compatibility with the polyfunctional polymerizable compound (B) and the coating becoming cloudy occur. In addition, it is desirable that the composition does not contain silicon (mainly polydimethylsiloxane) or fluorine (mainly perfluoroalkyl group) which is usually used as a water repellent group. While these monomers have the effect of improving the water repellency and oil repellency of the resulting coating layer and improving the antifouling property, the improvement of the water repellency and oil repellency repels the oil and fat components adhering to the coating layer. This is because the dirt may be noticeable.

アクリル樹脂(イ)は上記の活性メチレン基または活性メチン基(a)を有するアクリルモノマーおよび飽和シクロアルキル基(b)を有するアクリルモノマー以外に、その他のアクリルモノマーを共重合してもよい。アクリル酸またはメタクリル酸のメチル、エチル、プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、2−エチルヘキシル、ラウリル、フェニル、ベンジルなどの官能基を有さないアクリルモノマー、2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピルエステル、プラクセルFM−1(アクリル酸2−ヒドロキシエチルとポリカプロラクトンとの付加物、ダイセル化学工業(株)製)などの水酸基を有するアクリルモノマー、グリシジル(メタ)アクリレートなどのエポキシ基を有するアクリルモノマー、アクリルアミド、およびN−メチロールアクリルアミドのようなその誘導体、アクリロニトリルなどがあり、非アクリル系モノマーとしては、スチレン、α−メチルスチレン、イタコン酸、マレイン酸、酢酸ビニルなどがあげられる。   In addition to the acrylic monomer having an active methylene group or active methine group (a) and the acrylic monomer having a saturated cycloalkyl group (b), the acrylic resin (a) may be copolymerized with other acrylic monomers. Acrylic monomers having no functional groups such as methyl, ethyl, propyl, n-butyl, i-butyl, t-butyl, 2-ethylhexyl, lauryl, phenyl, benzyl, etc. of acrylic acid or methacrylic acid, 2-hydroxyethyl, 2 -Hydroxypropyl ester, Plaxel FM-1 (addition product of 2-hydroxyethyl acrylate and polycaprolactone, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), an acrylic monomer having a hydroxyl group, and an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate Acrylic monomers having acrylamide, derivatives thereof such as N-methylolacrylamide, acrylonitrile and the like, and examples of non-acrylic monomers include styrene, α-methylstyrene, itaconic acid, maleic acid, vinyl acetate and the like.

アクリル樹脂(イ)は、上記アクリルモノマーを共重合することにより得られる。共重合は、一般に、均一性を向上させるために溶媒を使用することが好ましい。かかる溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)、イソブタノール等アルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メトキシエタノール、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸ブチル、酪酸ブチル等のカルボン酸エステル系溶媒、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMAc)、2−エトキシエチルアセタート等のエーテルエステル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の有機溶媒が使用される。また、水を、反応系の均一性が損なわれない範囲で加えてもよい。   The acrylic resin (a) is obtained by copolymerizing the above acrylic monomer. In general, it is preferable to use a solvent in the copolymerization in order to improve uniformity. Such solvents include alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol (IPA), isobutanol, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), tetrahydrofuran, dioxane, methoxyethanol, ethylene glycol mono Ether solvents such as ethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether and propylene glycol monomethyl ether, carboxylic acid ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl propionate and butyl butyrate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMAc), 2 -Ether ester solvents such as ethoxyethyl acetate, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene, dimethylform Bromide, organic solvents such as dimethylacetamide is used. Moreover, you may add water in the range which does not impair the uniformity of a reaction system.

アクリル樹脂(イ)を得るためのラジカル重合開始剤としては、一般にラジカル重合に用いられる公知の開始剤を用いることができる。代表例を挙げると、ベンゾイルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキシド、クメンヒドロパーオキサイド等の有機過酸化物、2,2'−アゾビスブチロニトリル、2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(V65)、2,2'−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ化合物が特に好適に使用される。重合液中のモノマー類の総和濃度は通常10〜60質量%であり、重合開始剤は通常単量体混合物に対し、0.1〜15質量%、好ましくは1〜10質量%の量で使用される。   As the radical polymerization initiator for obtaining the acrylic resin (a), known initiators generally used for radical polymerization can be used. Representative examples include organic peroxides such as benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, cumene hydroperoxide, 2,2′-azobisbutyronitrile, 2,2′-azobis (2,4 An azo compound such as -dimethylvaleronitrile) (V65) or 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) is particularly preferably used. The total concentration of the monomers in the polymerization solution is usually 10 to 60% by mass, and the polymerization initiator is usually used in an amount of 0.1 to 15% by mass, preferably 1 to 10% by mass, based on the monomer mixture. Is done.

好ましい重合温度は用いるラジカル重合開始剤により異なるが、重合温度は20〜150℃、重合時間は1〜72時間である。   The preferred polymerization temperature varies depending on the radical polymerization initiator used, but the polymerization temperature is 20 to 150 ° C., and the polymerization time is 1 to 72 hours.

アクリル樹脂(イ)において、活性メチレン基または活性メチン基(a)を有するアクリルモノマーは、アクリルモノマー全体の総質量に対して、10〜80質量%、好ましくは25〜70質量%の量で含有し、飽和シクロアルキル基(b)を有するアクリルモノマーはアクリルモノマー全体の総質量に対して、2〜60質量%、好ましくは15〜60質量%の量で含有する。活性メチレン基または活性メチン基(a)を有するアクリルモノマーの量が、下限より少ないと、マイケル付加反応が十分でなく耐溶剤性が不足したり、耐摩耗性が不足する。耐溶剤性が不足した皮膜を備える物品を消費者に提供した場合、当該物品をアルコールなどの溶剤を含む清掃剤で清掃した場合に当該皮膜が溶解する可能性があり好ましくない。また、飽和シクロアルキル基(b)を有するアクリルモノマーの量が下限より少ないと、耐指紋性が不足し、逆に、アクリルモノマーの量が上限より多いと、多官能重合性化合物(ロ)との相溶性が悪化し、被膜が白濁するなどの外観異常が起こる。   In the acrylic resin (A), the acrylic monomer having an active methylene group or active methine group (a) is contained in an amount of 10 to 80% by mass, preferably 25 to 70% by mass, based on the total mass of the acrylic monomer. And the acrylic monomer which has a saturated cycloalkyl group (b) contains 2-60 mass% with respect to the total mass of the whole acrylic monomer, Preferably it contains in the quantity of 15-60 mass%. If the amount of the acrylic monomer having an active methylene group or an active methine group (a) is less than the lower limit, the Michael addition reaction is not sufficient and the solvent resistance is insufficient or the wear resistance is insufficient. When an article provided with a film having insufficient solvent resistance is provided to a consumer, the film may be dissolved when the article is cleaned with a cleaning agent containing a solvent such as alcohol. Further, when the amount of the acrylic monomer having a saturated cycloalkyl group (b) is less than the lower limit, the fingerprint resistance is insufficient, and conversely, when the amount of the acrylic monomer is larger than the upper limit, the polyfunctional polymerizable compound (b) and As a result, the appearance of the coating becomes cloudy.

アクリル樹脂(イ)は、2種類の態様が可能である。第1は、活性メチレン基または活性メチン基(a)および飽和シクロアルキル基(b)の両方が1つのアクリル樹脂分子内に存在するアクリル樹脂を用いる場合であり、第2は活性メチレン基または活性メチン基(a)を有するアクリル樹脂(イ)と飽和シクロアルキル基(b)を有するアクリル樹脂(イ)を別々に合成して、両方のアクリル樹脂(イ+イ)を混合して用いる場合である。何れの場合でも耐指紋性効果を発揮することができる。 The acrylic resin (a) can have two types of embodiments. The first is the case of using an acrylic resin in which both the active methylene group or active methine group (a) and the saturated cycloalkyl group (b) are present in one acrylic resin molecule, and the second is the active methylene group or active acrylic resins having an acrylic resin (b 1) and a saturated cycloalkyl group (b) having a methine group (a) a (b 2) synthesized separately, mixed both acrylic resin (b 1 + b 2) Is used. In any case, the anti-fingerprint effect can be exhibited.

アクリル樹脂(イ)は、上記の何れの場合でも、好ましくは重量平均分子量5,000〜50,000、より好ましくは5,000〜15,000を有する。重量平均分子量は、ポリスチレン換算で重量平均分子量が5,000未満であると、マイケル付加反応後の耐溶剤性が不十分になり、50,000を超えると、2液混合後の増粘が激しくなり、ポットライフが短くなる場合や、多官能重合性化合物(ロ)との相溶性が低下し被膜が白濁する。ポットライフが2液混合後の8時間を下回る場合、工場での操業時間内に当該塗料を消費するように工程を変更する必要が発生する場合があり、実用上好ましくない。ただし、活性メチレン基または活性メチン基(a)を有するアクリル樹脂(イ)と飽和シクロアルキル基(b)を有するアクリル樹脂(イ)を別々に合成して、両方のアクリル樹脂(イ+イ)を混合して用いる場合、飽和シクロアルキル基(b)を有するアクリル樹脂(イ)は、マイケル付加反応に関与しないため、分子量が上記範囲内でなくても構わず、重量平均分子量は200,000を下回るものであれば特に問題がない。 The acrylic resin (A) preferably has a weight average molecular weight of 5,000 to 50,000, more preferably 5,000 to 15,000 in any of the above cases. When the weight average molecular weight is less than 5,000 in terms of polystyrene, the solvent resistance after the Michael addition reaction becomes insufficient. When the weight average molecular weight exceeds 50,000, the viscosity increases after mixing the two liquids. When the pot life is shortened, the compatibility with the polyfunctional polymerizable compound (B) is lowered, and the coating becomes cloudy. When the pot life is less than 8 hours after mixing the two liquids, it may be necessary to change the process so that the paint is consumed within the operation time in the factory, which is not preferable in practice. However, an acrylic resin having an active methylene group or active methine group (a) (b 1) an acrylic resin having a saturated cycloalkyl group (b) (i 2) synthesized separately, both of the acrylic resin (b 1 When + a 2 ) is used as a mixture, the acrylic resin (a 2 ) having a saturated cycloalkyl group (b) does not participate in the Michael addition reaction, so the molecular weight may not be within the above range. There is no particular problem if the molecular weight is less than 200,000.

成分(イ)のアクリル樹脂は、上記耐指紋性硬化性組成物中に固形分質量で好ましくは10〜50質量%、より好ましくは20〜40質量%で存在する。10質量%より少ないと、マイケル付加反応が不十分になりマイケル付加反応後の耐溶剤性が不十分になり、50質量%より多いと、多官能性重合性化合物(ロ)の量が減少するため光硬化反応が不十分になり、耐摩耗性が不足する。   The acrylic resin of component (I) is preferably present in the fingerprint-resistant curable composition in a solid content of 10 to 50% by mass, more preferably 20 to 40% by mass. When the amount is less than 10% by mass, the Michael addition reaction becomes insufficient, and the solvent resistance after the Michael addition reaction becomes insufficient. When the amount exceeds 50% by mass, the amount of the polyfunctional polymerizable compound (B) decreases. Therefore, the photocuring reaction becomes insufficient and the wear resistance is insufficient.

成分(ロ)
上記耐指紋性硬化性組成物の成分(ロ)は、分子内に2個以上の光硬化性官能基(即ち、エチレン性不飽和基)を有する多官能性重合性化合物である。多官能性重合性化合物は、具体的には多価アルコールの重合性不飽和モノカルボン酸エステル化合物(例えば、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジメタアクリレート、1,3−ブチレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、グリセロールジアクリレート、グリセロールジメタアクリレート、グリセロールアクロキシジメタアクリレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチルエタンジアクリレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチルエタンジメタアクリレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチルエタントリアクリレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチルエタントリメタアクリレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチルプロパンジアクリレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチルプロパンジメタアクリレートなど)、多塩基酸の重合性不飽和アルコールエステル化合物(例えば、ジアリルテレフタレート、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテートなど)、2個以上のビニル基で置換された芳香族化合物(例えば、ジビニルベンゼンなど)、エポキシ基含有エチレン性不飽和単量体とカルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体との付加物(例えば、グリシジルアクリレートやグリシジルメタアクリレートとアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸との反応物など)、(ポリ)ジイソシアネートとヒドロキシル基含有エチレン性不飽和単量体(例えば、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレートなど)を反応させて得られるウレタン化合物が挙げられる。
Ingredient (b)
The component (b) of the anti-fingerprint curable composition is a polyfunctional polymerizable compound having two or more photocurable functional groups (namely, ethylenically unsaturated groups) in the molecule. Specifically, the polyfunctional polymerizable compound is a polymerizable unsaturated monocarboxylic acid ester compound of a polyhydric alcohol (for example, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol diester). Methacrylate, 1,3-butylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, 1, 6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, Pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, glycerol diacrylate, Glycerol dimethacrylate, glycerol acoxydimethacrylate, 1,1,1-trishydroxymethylethane diacrylate, 1,1,1-trishydroxymethylethane dimethacrylate, 1,1,1-trishydroxymethylethanetri Acrylate, 1,1,1-trishydroxymethylethane trimethacrylic 1,1,1-trishydroxymethylpropane diacrylate, 1,1,1-trishydroxymethylpropane dimethacrylate, etc., polybasic acid polymerizable unsaturated alcohol ester compounds (eg diallyl terephthalate, diallyl) Phthalates, triallyl trimellitate, etc.) aromatic compounds substituted with two or more vinyl groups (eg divinylbenzene), epoxy group-containing ethylenically unsaturated monomers and carboxyl group-containing ethylenically unsaturated monomers Adducts with monomers (for example, reaction products of glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate and acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, etc.), (poly) diisocyanate and hydroxyl group-containing ethylenically unsaturated monomer ( For example, hydroxyethyl acrylate, hydride And urethane compounds obtained by reacting loxyethyl methacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, etc.).

これらの多官能重合性化合物は単独で、あるいは2種以上を混合して用いることができる。   These polyfunctional polymerizable compounds can be used alone or in admixture of two or more.

成分(ロ)の分子内に2個以上の光硬化性官能基を有する多官能性重合性化合物は、耐指紋性硬化性組成物中に固形分質量で好ましくは50〜90質量%、より好ましくは60〜80質量%で存在する。50質量%より少ないと、光硬化反応が不十分になり、耐摩耗性が不足し、90質量%より多いと、活性メチレン基または活性メチン基を有するアクリル樹脂(イ)の量が減少するためにマイケル付加反応が不十分になり、マイケル付加反応後の耐溶剤性が不十分になる。   The polyfunctional polymerizable compound having two or more photocurable functional groups in the molecule of the component (b) is preferably 50 to 90% by mass, more preferably in solid content in the fingerprint-resistant curable composition. Is present at 60-80% by weight. When the amount is less than 50% by mass, the photocuring reaction becomes insufficient and wear resistance is insufficient. When the amount exceeds 90% by mass, the amount of the acrylic resin (i) having an active methylene group or an active methine group decreases. In addition, the Michael addition reaction becomes insufficient, and the solvent resistance after the Michael addition reaction becomes insufficient.

成分(イ)のアクリル樹脂と、成分(ロ)の多官能性重合性化合物との固形分配合比(成分(イ)/成分(ロ))は、好ましくは10/90〜50/50、より好ましくは20/80〜40/60である。配合比が上記範囲外であると、マイケル付加反応後の耐溶剤性が不十分になったり、光硬化反応が不十分になり耐摩耗性が不足する欠点を有する。   The solid content blending ratio (component (I) / component (B)) between the acrylic resin of component (I) and the polyfunctional polymerizable compound of component (B) is preferably 10/90 to 50/50. Preferably it is 20 / 80-40 / 60. When the blending ratio is out of the above range, the solvent resistance after the Michael addition reaction becomes insufficient, or the photocuring reaction becomes insufficient, resulting in insufficient wear resistance.

成分(ハ)
成分(ハ)の光重合開始剤は、成分(ロ)の多官能重合性化合物の硬化を促進するために配合される。
Ingredient (C)
The photopolymerization initiator of component (c) is blended in order to promote curing of the polyfunctional polymerizable compound of component (b).

光重合開始剤としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチルプロパン−1−オン 、ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシド、2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、ミヒラーズケトン、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、オリゴ{2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン}等が挙げられ、これらの光重合開始剤は2種以上を適宜に併用することもできる。   Examples of photopolymerization initiators include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, diethoxyacetophenone, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2 -Hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methylpropionyl) -benzyl] phenyl} -2-methylpropan-1-one, benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzoin diphenylphosphine oxide, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, Michler's ketone, N, -Isoamyl dimethylaminobenzoate, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, oligo {2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone} and the like. Two or more photopolymerization initiators can be used in combination as appropriate.

光重合開始剤(ハ)は、成分(イ)、(ロ)、(ハ)及び(ニ)から成る耐指紋性硬化性組成物の固形分の総和の10質量%以下、好ましくは1〜5質量%の量で用いられる。1質量%より少ないと、光硬化性が不足する。10質量%を超える場合は、耐摩耗性や鉛筆硬度が低下する。   The photopolymerization initiator (c) is 10% by mass or less, preferably 1 to 5% of the total solid content of the anti-fingerprint curable composition comprising the components (a), (b), (c) and (d). Used in an amount of mass%. When it is less than 1% by mass, the photocurability is insufficient. When it exceeds 10 mass%, abrasion resistance and pencil hardness will fall.

成分(ニ)
上記耐指紋性硬化性組成物の成分(ニ)は、マイケル反応触媒である。マイケル反応触媒(ニ)は、メチレン(メチン)に隣接する2個のカルボニル基等の電子吸引基が、よりメチレン(メチン)プロトンの酸性度を高め、カルボアニオン(エノレートアニオン)を生成させるために必要とされる化合物である。マイケル反応触媒(ニ)としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物;ナトリウムメトキサイド、カリウムエトキサイドなどのアルカリ金属のアルコキシド;4級アンモニウムハライド、4級アンモニウムカーボネート、4級アンモニウムヒドロキサイド、4級アンモニウムテトラヒドロボレートなどのオニウム塩;テトラメチルグアニジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エンなどの3級アミン及びその有機酸との4級塩;グアニジン;アミジン;トリフェニルフォスフィンなどの3級ホスフィンなどが挙げられる。さらに、これらのマイケル反応触媒(ニ)の助触媒として、例えば特開平7−173262号により公知であるエポキシ化合物などを用いることもできる。
Ingredient (d)
Component (d) of the anti-fingerprint curable composition is a Michael reaction catalyst. In the Michael reaction catalyst (d), two electron-withdrawing groups such as two carbonyl groups adjacent to methylene (methine) increase the acidity of methylene (methine) protons and generate a carbanion (enolate anion). It is a compound required for. Examples of the Michael reaction catalyst (d) include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkali metal alkoxides such as sodium methoxide and potassium ethoxide; quaternary ammonium halides and quaternary ammonium carbonates. Onium salts such as quaternary ammonium hydroxide and quaternary ammonium tetrahydroborate; tetramethylguanidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, diazabicyclo [4.3.0] nona-5 -Tertiary amines such as ene and quaternary salts thereof with organic acids; guanidine; amidine; tertiary phosphines such as triphenylphosphine. Further, as a co-catalyst for these Michael reaction catalysts (d), for example, epoxy compounds known from JP-A-7-173262 can be used.

上記オニウム塩のカチオン部としては、具体的には、テトラブチルアンモニウムカチオン、テトラメチルアンモニウムカチオン、テトラプロピルアンモニウムカチオン、テトラヘキシルアンモニウムカチオン、テトラオクチルアンモニウムカチオン、テトラデシルアンモニウムカチオン、テトラヘキサデシルアンモニウムカチオン、トリエチルヘキシルアンモニウムカチオン、2−ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウム(コリン)カチオン、メチルトリオクチルアンモニウムカチオン、セチルトリメチルアンモニウムカチオン、2−クロロエチルトリメチルアンモニウムカチオン、メチルピリジニウムカチオン等の4級アンモニウムカチオン;テトラブチルホスホニウムカチオン等の4級ホスホニウムカチオン;トリメチルスルホニウムカチオン等の3級スルホニウムカチオン等を挙げることができる。様々な種類を工業的に入手することができる4級アンモニウムカチオンであることが好ましい。   As the cation part of the onium salt, specifically, tetrabutylammonium cation, tetramethylammonium cation, tetrapropylammonium cation, tetrahexylammonium cation, tetraoctylammonium cation, tetradecylammonium cation, tetrahexadecylammonium cation, Quaternary ammonium cations such as triethylhexylammonium cation, 2-hydroxylethyltrimethylammonium (choline) cation, methyltrioctylammonium cation, cetyltrimethylammonium cation, 2-chloroethyltrimethylammonium cation, and methylpyridinium cation; tetrabutylphosphonium cation, etc. Quaternary phosphonium cations; trimethylsulfonium It can be exemplified tertiary sulfonium cation and the like of the thione or the like. It is preferable that it is a quaternary ammonium cation which can obtain various kinds industrially.

また、オニウム塩のアニオン部としては、具体的には、フロライドアニオン、クロライドアニオン、ブロマイドアニオン、アイオダイドアニオン等のハライドアニオン;酢酸アニオン;安息香酸アニオン、サリチル酸アニオン、マレイン酸アニオン、フタル酸アニオン等のカルボキシレートアニオン;メタンスルホン酸アニオン、p−トルエンスルホン酸アニオン、ドデシルベンゼンスルホン酸アニオン等のスルホネートアニオン;硫酸アニオン、メト硫酸アニオン等のサルフェートアニオン;硝酸アニオン等のナイトレートアニオン;リン酸アニオン、リン酸ジ−t−ブチルアニオン等のホスフェートアニオン等をそれぞれ挙げることができる。また、ヒドロキサイドアニオン、カーボネートアニオン、テトラヒドロボレートアニオン等も挙げることができる。硬化性の観点から、上記ハライドアニオンやカルボキシレートアニオンであることが好ましい。   The anion portion of the onium salt specifically includes halide anions such as a fluoride anion, chloride anion, bromide anion, iodide anion; acetate anion; benzoate anion, salicylate anion, maleate anion, phthalate anion Carboxylate anions such as methanesulfonate anion, p-toluenesulfonate anion, dodecylbenzenesulfonate anion, etc .; sulfate anions such as sulfate anion, methosulfate anion; nitrate anions such as nitrate anion; phosphate anions And phosphate anions such as di-t-butyl phosphate anion. Moreover, a hydroxide anion, a carbonate anion, a tetrahydroborate anion, etc. can be mentioned. From the viewpoint of curability, the above halide anions and carboxylate anions are preferable.

オニウム塩として、具体的には、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムフロライド、テトラブチルアンモニウムフルオライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、ジエチルジブチルアンモニウムクロライド、オクチルトリメチルブロマイド、テトラブチルアンモニウムアセテート、ジオクチルジメチルアンモニウムサリチレート、ベンジルラウリルジメチルアンモニウムクロライド、2−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルホスホニウムクロライド、テトラエチルホスホニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウムクロライド、トリメチルスルホニウムクロライド等を挙げることができる。   Specific examples of onium salts include tetrabutylammonium chloride, tetrabutylammonium fluoride, tetrabutylammonium fluoride, tetraethylammonium bromide, diethyldibutylammonium chloride, octyltrimethylbromide, tetrabutylammonium acetate, dioctyldimethylammonium salicylate. Benzyllauryldimethylammonium chloride, 2-hydroxyethyltrimethylammonium chloride, tetraethylphosphonium chloride, tetraethylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium chloride, trimethylsulfonium chloride and the like.

マイケル反応触媒(ニ)として、上記の化合物を単独で用いてもよく、また2種以上を組合せて用いてもよい。   As the Michael reaction catalyst (d), the above compounds may be used singly or in combination of two or more.

マイケル反応触媒(ニ)は、成分(イ)、(ロ)、(ハ)及び(ニ)から成る耐指紋性硬化性組成物の固形分の総和の0.1〜10質量%、好ましくは1〜7質量%の量で用いられる。0.1質量%より少ないと、マイケル付加反応性が不足する。10質量%を超える場合は、耐摩耗性が低下する。   The Michael reaction catalyst (d) is 0.1 to 10% by mass, preferably 1 of the total solid content of the anti-fingerprint curable composition comprising the components (a), (b), (c) and (d). Used in an amount of ˜7% by weight. When it is less than 0.1% by mass, the Michael addition reactivity is insufficient. When it exceeds 10 mass%, abrasion resistance falls.

その他の成分
上記耐指紋性硬化性組成物は、必要に応じて、上述したエチレン性不飽和基を1個有する化合物、無機充填剤、有機溶媒などを含んでもよい。
Other Components The anti-fingerprint curable composition may contain a compound having one ethylenically unsaturated group as described above, an inorganic filler, an organic solvent, and the like, if necessary.

耐指紋性被膜の形成方法
上記耐指紋性硬化性組成物を用いて筐体表面に耐指紋性被膜(本明細書においてはハードコート層と言うこともある。)を形成することができる。その場合、透明フィルムに上述の硬化性樹脂組成物を塗布した後、加熱して複層透明フィルムを得て、その複層透明フィルムを筐体に貼り付けて複層透明フィルムを有する筐体を得、得られた複層透明フィルムを有する筐体に活性エネルギー線を照射することにより筐体表面に耐指紋性被膜が形成される。例えば、コンピューターや携帯電話などの筐体に貼り付ける場合は、100μm程度の膜厚では、下地が認識できる程度に透明であることが望ましく、さらに着色することも可能であるが、無色透明であることが特に好ましい。加熱プロセスと活性エネルギー線照射は順番を入れ替えても、または同時に行ってもよい。上記耐指紋性硬化性組成物を用いることによって、単層であっても耐指紋性に非常に優れ、かつ耐擦傷性、表面の膜硬度および耐指紋性にも優れた被膜(即ち、ハードコート層)を、形成することができる。
Method for Forming Fingerprint-Resistant Film Using the above-mentioned fingerprint-resistant curable composition, a fingerprint-resistant film (sometimes referred to as a hard coat layer in this specification) can be formed on the housing surface. In that case, after applying the above-mentioned curable resin composition to the transparent film, it is heated to obtain a multilayer transparent film, and the casing having the multilayer transparent film is bonded to the casing. The fingerprint-resistant film is formed on the surface of the casing by irradiating the casing having the obtained multilayer transparent film with active energy rays. For example, when pasting on a case such as a computer or a mobile phone, it is desirable that the film thickness is about 100 μm so that the base is recognizable and can be further colored, but it is colorless and transparent. It is particularly preferred. The heating process and active energy ray irradiation may be switched in order or performed simultaneously. By using the above-mentioned fingerprint-resistant curable composition, a coating (that is, a hard coat) that has excellent fingerprint resistance even in a single layer, and excellent scratch resistance, surface film hardness, and fingerprint resistance. Layer) can be formed.

上記耐指紋性硬化性組成物は、上記成分を混合することによって調製することができる。また、組成物の調製時に、必要に応じて、希釈に用いることができる有機溶媒を用いてもよい。なお、上記耐指紋性硬化性組成物は、希釈して用いてもよく、また希釈することなく用いてもよい。   The fingerprint-resistant curable composition can be prepared by mixing the above components. Moreover, you may use the organic solvent which can be used for dilution as needed at the time of preparation of a composition. In addition, the said anti-fingerprint curable composition may be used diluted, and may be used without diluting.

耐指紋性硬化性組成物の調製方法としては、例えば、上記成分(イ)〜(ニ)、そして必要に応じてその他の成分(例えば、添加剤)を混合することによって、調製することができる。   As a method for preparing the anti-fingerprint curable composition, for example, it can be prepared by mixing the above components (A) to (D) and, if necessary, other components (for example, additives). .

なお上記耐指紋性硬化性組成物は、シリコーン系添加剤およびフッ素系添加剤いずれも含まないのが好ましい。これらの添加剤は、得られるコーティング層の撥水性および撥油性を向上させ防汚性を向上させる作用がある一方、この撥水性および撥油性の向上によりコーティング層に付着した油脂成分をはじいてしまい、かえって汚れが目立ってしまうおそれがあるからである。   The fingerprint-resistant curable composition preferably contains neither a silicone-based additive nor a fluorine-based additive. While these additives have the effect of improving the water repellency and oil repellency of the resulting coating layer and improving the antifouling property, the improvement of the water repellency and oil repellency repels the oil and fat components adhering to the coating layer. This is because the dirt may be noticeable.

上記耐指紋性硬化性組成物を用いることにより、耐指紋性フィルムを容易に調製することができる。この耐指紋性フィルムは、透明基材とコーティング層とを有する。このコーティング層は、上記の耐指紋性硬化性組成物から形成される層であり、この層の存在によって耐指紋性が発揮されることとなる。このような透明基材とコーティング層を備えるフィルムを筐体に貼り付けることによって、複雑な三次元意匠を有している筐体へ容易に耐指紋性を付与できるようになる。   By using the above-mentioned fingerprint-resistant curable composition, a fingerprint-resistant film can be easily prepared. This fingerprint-resistant film has a transparent substrate and a coating layer. This coating layer is a layer formed from the above-mentioned fingerprint-resistant curable composition, and the presence of this layer exhibits fingerprint resistance. By attaching such a film including a transparent base material and a coating layer to the casing, fingerprint resistance can be easily imparted to the casing having a complicated three-dimensional design.

耐指紋性フィルムの調製に用いられる透明基材としては、各種透明プラスチックフィルム、例えばトリアセチルセルロース(TAC)フィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルム等が使用できる。透明基材として、ポリエチレンテレフタレートを使用するのが好ましい。なお、透明基材の厚さは、用途に応じて適時選択することができるが、一般に25〜1000μm程で用いられる。   Transparent substrates used for preparing the fingerprint-resistant film include various transparent plastic films such as triacetyl cellulose (TAC) film, polyethylene terephthalate (PET) film, diacetyl cellulose film, acetate butyrate cellulose film, polyethersulfone. Films, polyacrylic resin films, polyurethane resin films, polyester films, polycarbonate films, polysulfone films, polyether films, polymethylpentene films, polyetherketone films, (meth) acrylonitrile films, and the like can be used. Polyethylene terephthalate is preferably used as the transparent substrate. In addition, although the thickness of a transparent base material can be selected timely according to a use, generally it is used at about 25-1000 micrometers.

耐指紋性を有するコーティング層は、透明基材上に、上記の耐指紋性硬化性組成物を塗布することにより形成される。耐指紋性硬化性組成物の塗布方法は、耐指紋性硬化性組成物および塗装工程の状況に応じて適時選択することができ、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(この方法は米国特許2681294号明細書に記載される方法である。)などにより塗布することができる。耐指紋性硬化性組成物の塗装において、得られるコーティング層の厚さが0.1〜20μmとなるように塗装するのが好ましい。   The coating layer having fingerprint resistance is formed by applying the above-mentioned fingerprint-resistant curable composition on a transparent substrate. The application method of the anti-fingerprint curable composition can be selected as appropriate according to the anti-fingerprint curable composition and the state of the coating process, such as dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating. It can be applied by a method, a wire bar coating method, a gravure coating method, an extrusion coating method (this method is described in US Pat. No. 2,681,294). In the application of the fingerprint-resistant curable composition, it is preferable to apply the coating layer so that the resulting coating layer has a thickness of 0.1 to 20 μm.

透明基材上に塗装された耐指紋性光硬化性組成物は、一般的にまず加熱して熱硬化して複層透明フィルムを得て、次いでその複層透明フィルムを筐体に貼り付けた後、活性エネルギー線の照射することによって硬化し、これにより耐指紋性の被膜が形成される。最初の熱硬化時の加熱温度は、高温・短時間で行うのが生産性の観点から好ましいが、透明基材の軟化温度以下である必要があり、ポリエチレンテレフタレートフィルムの場合は、60〜150℃、好ましくは80〜120℃である。また、活性エネルギー線の照射は、200〜500nmの波長の光を用いて、積算光量で100〜5000mJ/cm照射するのが好ましい。積算光量が100mJ/cm以下では、光硬化反応が不十分になり耐摩耗性が不足する。また、積算光量が5000mJ/cm以上では、被膜表面の光劣化反応が起こり、耐指紋性が低下したり、被膜が黄変する。 In general, a fingerprint-resistant photocurable composition coated on a transparent substrate is first heated and thermally cured to obtain a multilayer transparent film, and then the multilayer transparent film is attached to a housing. Then, it hardens | cures by irradiation of an active energy ray, and, thereby, a fingerprint-resistant film is formed. It is preferable from the viewpoint of productivity that the heating temperature at the first thermosetting is high temperature and in a short time, but it is necessary to be not more than the softening temperature of the transparent substrate. In the case of a polyethylene terephthalate film, 60 to 150 ° C The temperature is preferably 80 to 120 ° C. Moreover, it is preferable to irradiate 100-5000 mJ / cm < 2 > by integrated light quantity using the light of a wavelength of 200-500 nm for irradiation of an active energy ray. When the integrated light quantity is 100 mJ / cm 2 or less, the photocuring reaction becomes insufficient and the wear resistance is insufficient. On the other hand, when the integrated light quantity is 5000 mJ / cm 2 or more, a photodegradation reaction occurs on the surface of the film, resulting in a decrease in fingerprint resistance or yellowing of the film.

また、耐指紋性光硬化性組成物を塗装する製品の例として、具体的には携帯電話、ノートパソコンなどの携帯端末製品が挙げられる。また、液晶表示装置、CRT(ブラウン管)表示装置、タッチパネルディスプレーなどの光学表示装置の表面に用いられる各種透明プラスチックフィルム、透明プラスチック板およびガラスなどに、上記耐指紋性硬化性組成物の熱硬化膜を有する複層透明フィルムを貼り付けることによって、光学表示装置の表面上にコーティング層を形成することができる。また、透明プラスチック板に上記耐指紋性硬化性組成物を塗布し、熱曲げ加工することによりヘルメットのシールドやスピードメータの前面保護板に加工することが可能になる。   Specific examples of products coated with the fingerprint-resistant photocurable composition include mobile terminal products such as mobile phones and notebook computers. In addition, the thermosetting film of the above-mentioned fingerprint-resistant curable composition is applied to various transparent plastic films, transparent plastic plates and glass used on the surface of optical display devices such as liquid crystal display devices, CRT (CRT) display devices and touch panel displays. By adhering a multilayer transparent film having a coating layer, a coating layer can be formed on the surface of the optical display device. Moreover, it becomes possible to apply | coat the said anti-fingerprint curable composition to a transparent plastic board, and to process it to the shield of a helmet, or the front face protection board of a speedometer by carrying out a heat bending process.

上記耐指紋性硬化性組成物は、加熱プロセスでマイケル付加反応により、アクリル樹脂(イ)の活性メチレン基または活性メチン基(a)と分子内に2個以上の光硬化性官能基を有する多官能重合性化合物(ロ)の光硬化性基が反応して架橋する。光照射プロセスでは、成分(ロ)の光重合性基が反応して架橋する。この二つの反応により、硬度と耐摩耗性が得られ、アクリル樹脂(イ)中の飽和シクロアルキル基が耐指紋性および耐指紋付着性を付与する。この2種類の硬化方法は、何れの硬化方法が先で他の方法が後であってもよく、また同時であってもよい。一般的には、熱硬化によるマイケル付加反応を最初に行って、その後光硬化により全体硬化を行う。   The above-mentioned fingerprint-resistant curable composition is a polyvalent compound having an active methylene group or active methine group (a) of acrylic resin (a) and two or more photocurable functional groups in the molecule by a Michael addition reaction in a heating process. The photocurable group of the functional polymerizable compound (b) reacts to crosslink. In the light irradiation process, the photopolymerizable group of component (b) reacts to crosslink. By these two reactions, hardness and abrasion resistance are obtained, and the saturated cycloalkyl group in the acrylic resin (a) imparts fingerprint resistance and fingerprint resistance. As for these two types of curing methods, any one of the curing methods may be performed first, and the other method may be performed later, or may be performed simultaneously. In general, the Michael addition reaction by heat curing is performed first, and then the entire curing is performed by photocuring.

上記耐指紋性硬化性組成物は、前述のように、2段階で硬化させることが可能である。従来技術のハードコート層の伸び率は著しく小さいため、熱可塑性樹脂基材表面に形成して、ハードコート層を備える熱可塑性基材を熱加工する場合に、熱可塑性樹脂基材の伸縮に追随できず、ハードコート層にクラック等が発生したり、ハードコート層が剥離する場合がある。これに対して、上記組成物は、前述の2段階で硬化すると、前硬化の段階では完全に硬化していない半硬化の状態であるので、半硬化のハードコート層は熱可塑性樹脂基材の熱加工時の伸縮に追従可能となる。また、本発明の硬化性組成物は、先に熱硬化反応を用いて半硬化膜の形成を行い、その硬化反応を調整すると、前硬化後著しく大きな伸び率を示す。即ち、最初の加熱プロセスによりマイケル付加反応で被膜を半硬化して取扱いを容易にし、この状態で被塗物(筐体)に貼り付けたり熱曲げ加工などの加工処理も同時に行い、更に活性エネルギー線照射して完全硬化して適当な硬度を持つ耐指紋性の高いハードコート層を形成する。   The fingerprint-resistant curable composition can be cured in two stages as described above. Since the elongation rate of the hard coat layer of the prior art is extremely small, it follows the expansion and contraction of the thermoplastic resin substrate when it is formed on the surface of the thermoplastic resin substrate and heat-processed with the hard coat layer. In some cases, the hard coat layer may be cracked or the hard coat layer may be peeled off. On the other hand, when the composition is cured in the above-described two stages, it is in a semi-cured state that is not completely cured in the pre-curing stage. It becomes possible to follow expansion and contraction during thermal processing. In addition, the curable composition of the present invention exhibits a remarkably large elongation after precuring when the semi-cured film is first formed using a thermosetting reaction and the curing reaction is adjusted. That is, the film is semi-cured by the Michael addition reaction in the first heating process to facilitate handling, and in this state, it is attached to the object to be coated (casing) and processing such as thermal bending is performed at the same time. A hard coat layer with high fingerprint resistance having an appropriate hardness is formed by completely irradiating with a line.

以下の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。実施例中「部」および「%」は、ことわりのない限り質量基準による。   The following examples further illustrate the present invention, but the present invention is not limited thereto. In the examples, “parts” and “%” are based on mass unless otherwise specified.

実施調製例および比較調製例 耐指紋性硬化性組成物の調製および評価用ハードコートフィルムの作製
耐指紋性に差のある硬化性組成物を作製し、得られた組成物を、PETフィルム上にバーコート塗布し、熱風乾燥機で溶媒を除去乾燥した。その後、高圧水銀灯(120W/cm)で紫外線を300mJ/cmの工ネルギーとなるように露光し、硬化させることにより、被膜を形成し、ハードコートフィルムを得た。組成物の詳細な内容は下記に示す。
Example of Preparation and Comparative Preparation Example Preparation of Fingerprint Resistant Curable Composition and Production of Hard Coat Film for Evaluation A curable composition having a difference in fingerprint resistance is produced, and the obtained composition is placed on a PET film. Bar coating was applied, and the solvent was removed by drying with a hot air dryer. Thereafter, the coating film was formed by exposing and curing ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp (120 W / cm) so as to have an energy of 300 mJ / cm 2 , thereby obtaining a hard coat film. Detailed contents of the composition are shown below.

実施調製例1 耐指紋性光硬化性組成物1の調製
製造例1
両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A1)の調製
イソホロンジイソシアネート(IPDI)666質量部、ポリプロピレングリコール(ポリプロピレングリコール1000、平均分子量1000、キシダ化学(株)社製)2000質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(混合質量比60:40)900質量部を、反応容器に加え、さらに触媒としてジブチルスズジラウレートを1000ppm、重合禁止剤としてハイドロキノンを1000ppm、および溶媒としてメチルイソブチルケトン(MIBK、固形分が40%となる量で用いた。)を加えて、空気を吹き込みながら80℃で3時間混合した。
Example of Preparation 1 Preparation of anti-fingerprint photocurable composition 1
Production Example 1
Preparation of polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A1) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends Isophorone diisocyanate (IPDI) 666 parts by mass, polypropylene glycol (polypropylene glycol 1000, average molecular weight 1000, kida Chemical Co., Ltd.) 2000 parts by weight, 900 parts by weight of a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (mixing weight ratio 60:40) is added to the reaction vessel, and 1000 ppm of dibutyltin dilaurate as a catalyst is prohibited. Hydroquinone 1000 ppm as an agent and methyl isobutyl ketone (MIBK, used in an amount that makes the solid content 40%) as a solvent were added, and 80 ° C. while blowing air. 3 hours were mixed.

こうして、両末端にアクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A1)を得た。得られたポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートのSP値および水トレランス値を測定したところ、SP値10.8および水トレランス値3.5であった。また重量平均分子量は7000であった。なお重量平均分子量はGPC測定によるポリスチレン換算値で表した。   Thus, a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A1) having an acrylate group at both ends was obtained. When the SP value and water tolerance value of the obtained polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate were measured, the SP value was 10.8 and the water tolerance value was 3.5. The weight average molecular weight was 7000. The weight average molecular weight was expressed in terms of polystyrene by GPC measurement.

耐指紋性光硬化性組成物1の調製
製造例1により得られたポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート20質量部、アロニックスM305(ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(混合質量比約60:40) 80質量部およびイルガキュア184D(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン) 3質量部を混合し、そしてMIBKを溶媒として不揮発分率が40質量%となるように調整し、耐指紋性光硬化性組成物1を得た。
Preparation of Fingerprint Resistant Photocurable Composition 1 20 parts by mass of a polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate obtained by Production Example 1, Aronix M305 (a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (mixing mass ratio of about 60:40) 80 parts by mass and 3 parts by mass of Irgacure 184D (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) were mixed, and MIBK was used as a solvent to adjust the non-volatile fraction to 40% by mass to improve fingerprint resistance. A photocurable composition 1 was obtained.

耐指紋性ハードコートフィルム1の作製
得られた組成物を、PETフィルム(厚さ100μm)上にバーコーター(No.12)にて、乾燥膜厚が5μmとなるようにバーコート塗装し、80℃で1分間加熱して溶媒を除去乾燥した。その後、高圧水銀灯(120W/cm)で紫外線を300mJ/cmの工ネルギーとなるように露光し、硬化させることにより、被膜を形成し、耐指紋性ハードコートフィルム1を得た。
Preparation of Fingerprint Resistant Hard Coat Film 1 The composition obtained was coated on a PET film (thickness: 100 μm) with a bar coater (No. 12) so as to have a dry film thickness of 5 μm. The solvent was removed by heating at 0 ° C. for 1 minute to dry. Then, a high-pressure mercury lamp (120 W / cm) was exposed to ultraviolet rays so as to have a process energy of 300 mJ / cm 2 and cured to form a film, whereby a fingerprint-resistant hard coat film 1 was obtained.

実施調製例2 耐指紋性硬化性組成物2の調製
製造例2
シクロヘキシルメタクリレート222.7g、アセトアセトキシエチルメタクリレート137.3gからなるモノマー混合物(1)を混合した。この混合液を、攪拌羽根、窒素導入管、冷却管及び滴下漏斗を備えた1000ml反応容器中の、窒素雰囲気下で120℃に加温した酢酸n−ブチル273.6gに、ターシャルブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート18.0gを含む酢酸n−ブチル54.0g混合溶液(2)と同時に3時間かけて等速で滴下し、その後、120℃で30分間反応させた。その後、ターシャルブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート1.8gを酢酸n−ブチル 28.8gの溶液を滴下し、その後2時間反応させた。数平均分子量3,000、重量平均分子量6,000のアクリル共重合体(樹脂(1))を得た。
Example of Preparation 2 Preparation of anti-fingerprint curable composition 2
Production Example 2
A monomer mixture (1) consisting of 222.7 g of cyclohexyl methacrylate and 137.3 g of acetoacetoxyethyl methacrylate was mixed. This mixed solution was added to 273.6 g of n-butyl acetate heated to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere in a 1000 ml reaction vessel equipped with a stirring blade, a nitrogen introducing tube, a cooling tube and a dropping funnel, and then tert-butyl peroxy- At the same time as a mixed solution (2) of 24.0 g of n-butyl acetate containing 18.0 g of 2-ethylhexanoate, the solution was added dropwise at a constant rate over 3 hours, and then reacted at 120 ° C. for 30 minutes. Thereafter, 1.8 g of tertiary butyl peroxy-2-ethylhexanoate was added dropwise to a solution of 28.8 g of n-butyl acetate, followed by reaction for 2 hours. An acrylic copolymer (resin (1)) having a number average molecular weight of 3,000 and a weight average molecular weight of 6,000 was obtained.

耐指紋性硬化性組成物2の調製
製造例2により得られた活性メチレン基含有アクリル共重合体(樹脂(1))30質量部、アロニックスM−402(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートおよびジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物、東亜合成(株)社製)70質量部および1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン(イルガキュア184D、チバ・ジャパン(株)社製)5質量部を混合し、そしてMEK(メチルエチルケトン)を溶媒として不揮発分率が40質量%となるように調整した後、DBU(1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン(サンアプロ(株)社製)1質量部を加え、耐指紋性硬化性組成物2を得た。
Preparation of Fingerprint Resistant Curable Composition 2 30 parts by mass of an active methylene group-containing acrylic copolymer (resin (1)) obtained by Production Example 2, Aronix M-402 (dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol penta) A mixture of acrylates, 70 parts by mass of Toa Gosei Co., Ltd.) and 5 parts by mass of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184D, Ciba Japan Co., Ltd.) are mixed, and MEK (methyl ethyl ketone) After adjusting so that a non-volatile fraction might be 40 mass%, 1 part by weight of DBU (1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (manufactured by San Apro Co., Ltd.)) was added. A fingerprint-resistant curable composition 2 was obtained.

耐指紋性ハードコートフィルム2の作製
耐指紋性硬化性組成物2を、PETフィルム(厚さ125μm)上にバーコーター(No.12)にてバーコート塗布し、100℃で2分間加熱して溶媒を除去乾燥することで光硬化性フィルムを得た。そのときの膜厚は7μmであった。その後、高圧水銀灯(120W/cm)で紫外線を300mJ/cmの工ネルギーとなるように露光し、硬化させることにより、耐指紋性ハードコートフィルム2を得た。
Preparation of fingerprint-resistant hard coat film 2 Fingerprint-resistant curable composition 2 is bar-coated on a PET film (thickness 125 μm) with a bar coater (No. 12) and heated at 100 ° C. for 2 minutes. The photocurable film was obtained by removing the solvent and drying. The film thickness at that time was 7 μm. Thereafter, an ultraviolet ray with a high pressure mercury lamp (120 W / cm) was exposed to a factory energy of 300 mJ / cm 2, by curing, to obtain a fingerprint hard coat film 2.

比較調製例1 ハードコート組成物(比1)の調整
アロニックスM−402(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートおよびジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物、東亜合成(株)社製) 100質量部、イルガキュア184D(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン) 5質量部およびTEGORAD−2200N (デグサ社製)0.1質量部を混合し、そしてMIBKを溶媒として不揮発分率が50質量%となるように調整し、光硬化性であるハードコート組成物(比1)を得た。
Comparative Preparation Example 1 Adjustment of Hard Coat Composition (Ratio 1) Aronix M-402 (mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) 100 parts by mass, Irgacure 184D (1- 5 parts by mass of hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) and 0.1 part by mass of TEGORAD-2200N (manufactured by Degussa) were mixed and adjusted so that the nonvolatile fraction was 50% by mass using MIBK as a solvent, and photocuring A hard coat composition (ratio 1) was obtained.

ハードコートフィルム(比1)の作製
得られた組成物を、PETフィルム(厚さ100μm)上にバーコーター(No.8)にて、乾燥膜厚が5μmとなるようにバーコート塗装し、80℃で1分間加熱して溶媒を除去乾燥した。その後、高圧水銀灯(120W/cm)で紫外線を300mJ/cmの工ネルギーとなるように露光し、硬化させることにより、被膜を形成し、ハードコートフィルム(比1)を得た。
Production of Hard Coat Film (Ratio 1) The obtained composition was bar coated with a bar coater (No. 8) on a PET film (thickness 100 μm) so that the dry film thickness was 5 μm. The solvent was removed by heating at 0 ° C. for 1 minute to dry. Thereafter, the coating film was formed by exposing and curing the ultraviolet ray with a high-pressure mercury lamp (120 W / cm) so as to have a working energy of 300 mJ / cm 2 to obtain a hard coat film (ratio 1).

比較調製例2 耐指紋性組成物(比2)の調整
シクロヘキシルメタクリレート 20質量部と、アロニックスM−402(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートおよびジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物、東亜合成(株)社製) 80質量部、イルガキュア184D(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン) 5質量部およびTEGORAD−2200N(デグサ社製) 0.02質量部を混合し、そしてMIBKを溶媒として不揮発分率が50質量%となるように調整し、耐指紋性光硬化性組成物(比2)を得た。
Comparative Preparation Example 2 Preparation of fingerprint-resistant composition (ratio 2) 20 parts by mass of cyclohexyl methacrylate and Aronix M-402 (mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 80 Part by mass, 5 parts by mass of Irgacure 184D (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) and 0.02 parts by mass of TEGORAD-2200N (manufactured by Degussa), and a non-volatile fraction of 50% by mass using MIBK as a solvent Thus, a fingerprint-resistant photocurable composition (ratio 2) was obtained.

耐指紋性ハードコートフィルム(比2)の作製
得られた組成物を、PETフィルム(厚さ100μm)上にバーコーター(No.8)にて、乾燥膜厚が5μmとなるようにバーコート塗装し、80℃で1分間加熱して溶媒を除去乾燥した。その後、高圧水銀灯(120W/cm)で紫外線を300mJ/cmの工ネルギーとなるように露光し、硬化させることにより、被膜を形成し、耐指紋性ハードコートフィルム(比2)を得た。
Preparation of Fingerprint Resistant Hard Coat Film (Ratio 2) The composition obtained was coated on a PET film (thickness 100 μm) with a bar coater (No. 8) so that the dry film thickness was 5 μm. And heated at 80 ° C. for 1 minute to remove the solvent and dry. Thereafter, the coating film was formed by exposing and curing the ultraviolet ray with a high-pressure mercury lamp (120 W / cm) so as to have a working energy of 300 mJ / cm 2 to obtain a fingerprint-resistant hard coat film (ratio 2).

上記方法にて作製したハードコートフィルムサンプルの耐指紋性評価を下記に従い行った。   The hard coat film sample produced by the above method was evaluated for fingerprint resistance according to the following.

鏡面光沢度の測定
光沢計MALUTI GROSS 268(コニカミノルタセンシング(株)社製)を用いて、サンプルの入射角20度、60度、85度の鏡面光沢度を測定した。
また、入射角75度の鏡面光沢度は、VG2000(日本電色工業(株)社製)を用いて測定した。
これらの測定器を用いて、得られたハードコートフィルムサンプルの光沢度を測定し、初期光沢度とした。
Measurement of Specular Gloss Using a gloss meter MALUTI GROSS 268 (manufactured by Konica Minolta Sensing Co., Ltd.), specular gloss at an incident angle of 20, 60, and 85 degrees was measured.
The specular gloss at an incident angle of 75 degrees was measured using VG2000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
Using these measuring instruments, the glossiness of the obtained hard coat film sample was measured and used as the initial glossiness.

耐指紋評価液付着工程および拭き取り前光沢度測定工程
耐指紋評価液であるオレイン酸をしみ込ませた布地を用意した。シリコーンゴム栓No.4の下端面(直径16mm)を、不織布ウェス(旭化成工業社製ベンコットM−1)で被覆した。ウェスのシリコーンゴム栓端面付近を覆う部分を、オレイン酸をしみ込ませた布地(スタンプ台)に荷重300gの錘をのせて押し当ててオレイン酸を含浸させたのち、得られたサンプルの被膜上にシリコーンゴム栓を300gの錘をのせて押し当て、耐指紋評価液(オレイン酸)を付着させた。
次いで耐指紋評価液が付着した部分の鏡面光沢度を測定し、拭き取り前光沢度とした。
Anti-fingerprint evaluation liquid adhesion process and pre-wipe gloss measurement process A cloth impregnated with oleic acid, which is an anti-fingerprint evaluation liquid, was prepared. Silicone rubber stopper No. The lower end face (diameter 16 mm) of No. 4 was coated with a nonwoven fabric waste (Bencot M-1 manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.). The part covering the vicinity of the end of the silicone rubber plug of Wes was impregnated with oleic acid by placing a weight of 300 g on a cloth (stamp base) impregnated with oleic acid and impregnating it with oleic acid. A silicone rubber stopper was pressed against a weight of 300 g to attach an anti-fingerprint evaluation solution (oleic acid).
Subsequently, the specular glossiness of the part to which the anti-fingerprint evaluation liquid adhered was measured and used as the glossiness before wiping.

耐指紋評価液拭き取り工程および拭き取り後光沢度測定工程
各ハードコートフィルムについて、耐指紋評価液付着後、ウエス(旭化成工業社製ベンコットM−1)の上に直径45mm、荷重300gの錘をのせて耐指紋評価液を拭き取った。拭き取り回数が5回後、10回後、15回後、20回後のそれぞれの時点で鏡面光沢度(拭き取り後光沢度)を測定した。
Anti-fingerprint evaluation liquid wiping process and post-wiping gloss measurement process For each hard coat film, after attaching the anti-fingerprint evaluation liquid, a weight of 45 mm in diameter and 300 g load is placed on the waste (Bencot M-1 manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.). The anti-fingerprint evaluation solution was wiped off. The specular glossiness (glossiness after wiping) was measured at each time point after wiping times of 5, 10, 15, and 20 times.

鏡面光沢度を用いた耐指紋性評価
上記より測定された、初期光沢度、拭き取り前光沢度および拭き取り後光沢度を用いて、下記式より、付着性評価率(%)および拭き取り後評価率(%)を求めた。
付着性評価率(%)=(拭き取り前光沢度)/(初期光沢度)×100
拭き取り後評価率(%)=(拭き取り後光沢度)/(初期光沢度)×100
なお、下記表中、付着性評価率(%)は「拭き取り回数 0回」として記載しており、拭き取り後評価率(%)は「拭き取り回数 5回、10回、20回」として記載している。
Evaluation of anti-fingerprint using specular glossiness Using the initial glossiness, glossiness before wiping and glossiness after wiping measured as described above, the adhesion evaluation rate (%) and the evaluation rate after wiping ( %).
Adhesion evaluation rate (%) = (Glossiness before wiping) / (Initial glossiness) × 100
Evaluation rate after wiping (%) = (Glossiness after wiping) / (Initial glossiness) × 100
In the table below, the adhesion evaluation rate (%) is described as “wipe count 0 times”, and the post-wipe evaluation rate (%) is described as “wipe count 5 times, 10 times, 20 times”. Yes.

得られた付着性評価率(%)および拭き取り後評価率(%)を用いて、下記基準に従い耐指紋性を評価した。付着性評価率(%)は、数値が高いほど、指紋跡が付き難く、耐指紋性が良好である、ということができる。また拭き取り後評価率(%)は、いずれも数値が高いほど、油脂成分の拭き取り性が良好であり、耐指紋性が良好である、ということができる。   Using the obtained adhesive evaluation rate (%) and post-wiping evaluation rate (%), fingerprint resistance was evaluated according to the following criteria. It can be said that the higher the numerical value of the adhesion evaluation rate (%), the harder a fingerprint mark is and the better the fingerprint resistance. Moreover, the evaluation rate (%) after wiping can be said that the higher the numerical value, the better the wiping property of the oil and fat component and the better the fingerprint resistance.

20度鏡面光沢度での評価
拭き取り回数5〜20回の拭き取り率で最も低い値が
◎:拭き取り率が85%以上
○:拭き取り率が75%以上〜85%未満
△:拭き取り率が65%以上〜75%未満
×:拭き取り率が65%未満
Evaluation with 20-degree specular gloss The lowest value is 5 to 20 times of wiping.
◎: Wiping rate is 85% or more ○: Wiping rate is 75% or more to less than 85% Δ: Wiping rate is 65% or more to less than 75% ×: Wiping rate is less than 65%

60度〜85度鏡面光沢度での評価
拭き取り回数5〜20回の拭き取り率で最も低い値が
◎:拭き取り率が95%以上
○:拭き取り率が90%以上〜95%未満
△:拭き取り率が80%以上〜90%未満
×:拭き取り率が80%未満
Evaluation with 60-85 degree specular gloss The lowest value is the wiping rate of 5-20 wipes.
A: The wiping rate is 95% or more. B: The wiping rate is 90% to less than 95%. Δ: The wiping rate is 80% to less than 90%. X: The wiping rate is less than 80%.

比較評価例1 ヘイズ値を用いた耐指紋性評価1
得られたハードコートフィルムサンプルのヘイズ値を測定した。次いで、耐指紋評価液であるオレイン酸を、シリコーンゴム栓No.4を用いて、上記と同様にして付着させた。各サンプルについて、耐指紋評価液付着後、次いでウエス(旭化成工業社製ベンコットM−1)の上に直径45mm、荷重300gの錘をのせて耐指紋評価液を拭き取り、拭き取り回数が5回後、10回後、20回後のそれぞれの時点で、サンプルのヘイズを下記に従い測定した。耐指紋評価液付着前と、耐指紋評価液付着後または耐指紋評価液拭き取り後とのヘイズ値の差としてΔヘイズ値を求めた。得られたΔヘイズ値と評価結果を表に示す。このΔヘイズ値の値が小さいほど、油脂成分の拭き取り性が良好である、つまり耐指紋性が良好である、ということができる。
Comparative Evaluation Example 1 Fingerprint resistance evaluation 1 using haze value
The haze value of the obtained hard coat film sample was measured. Next, oleic acid, which is an anti-fingerprint evaluation solution, was added with silicone rubber stopper No. 4 was applied in the same manner as described above. For each sample, after attaching the anti-fingerprint evaluation solution, then wipe the anti-fingerprint evaluation solution on a rag (Bencot M-1 manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) with a diameter of 45 mm and a load of 300 g, and the number of times of wiping was 5 times. At each time point after 10 times and after 20 times, the haze of the sample was measured according to the following. The Δhaze value was determined as the difference between the haze values before adhesion of the anti-fingerprint evaluation liquid and after adhesion of the anti-fingerprint evaluation liquid or after wiping off the anti-fingerprint evaluation liquid. The obtained Δhaze value and evaluation results are shown in the table. It can be said that the smaller the Δhaze value, the better the wiping property of the fat and oil component, that is, the better the fingerprint resistance.

ヘイズ(曇価)および全光線透過率の測定
ヘイズメーター(スガ試験機社製)を用いて、サンプルの拡散透光率(Td(%))および上記全光線透過率(Tt(%))を測定し、ヘイズ値を算出した。
H=Td/Tt×100
H:ヘイズ(曇価)(%)
Td:拡散透光率(%)
Tt:全光線透過率(%)
Measurement of haze (cloudiness value) and total light transmittance Using a haze meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), the diffuse light transmittance (Td (%)) of the sample and the total light transmittance (Tt (%)) were determined. Measured and calculated haze value.
H = Td / Tt × 100
H: Haze (cloudiness value) (%)
Td: Diffuse light transmittance (%)
Tt: Total light transmittance (%)

耐指紋性の評価(ヘイズ値での評価)
拭き取り回数5〜20回におけるΔヘイズ値のうち、最も高い値を求め下記の基準によって耐指紋性を評価した。
◎:Δヘイズが0.5以下
○:Δヘイズが1.0以下〜0.5未満
△:Δヘイズが5.0以下〜1.0未満
×:Δヘイズが5.0以上
Evaluation of fingerprint resistance (evaluation based on haze value)
The highest value was calculated | required among the (DELTA) haze value in the frequency | count of wiping 5-20 times, and fingerprint resistance was evaluated by the following reference | standard.
◎: Δ haze is 0.5 or less ○: Δ haze is 1.0 or less to less than 0.5 Δ: Δ haze is 5.0 or less to less than 1.0 ×: Δ haze is 5.0 or more

比較評価例2 ヘイズ値を用いた耐指紋性評価2
得られたサンプルの被膜上に、オレイン酸を1滴垂らした。次いでウェス(旭化成工業社製ベンコットM−1)を用いて1回、10回、20回および30回拭き取った。評価試験前および拭き取り後のヘイズ値を測定し、Δヘイズ値を求めた。得られたΔヘイズ値と評価結果を表に示す。このΔヘイズ値の値が小さいほど、油脂成分の拭き取り性が良好である、つまり耐指紋性が良好である、ということができる。
Comparative Evaluation Example 2 Fingerprint Resistance Evaluation 2 Using Haze Value
One drop of oleic acid was dropped on the film of the obtained sample. Subsequently, it was wiped once, 10 times, 20 times and 30 times using Wes (Bencot M-1 manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.). The haze value before the evaluation test and after wiping was measured to obtain the Δ haze value. The obtained Δhaze value and evaluation results are shown in the table. It can be said that the smaller the Δhaze value, the better the wiping property of the fat and oil component, that is, the better the fingerprint resistance.

耐指紋性の評価(ヘイズ値での評価)
拭き取り回数1〜30回におけるΔヘイズ値のうち、最も高い値を求め下記の基準によって耐指紋性を評価した。
◎:Δヘイズが0.5以下
○:Δヘイズが1.0以下〜0.5未満
△:Δヘイズが5.0以下〜1.0未満
×:Δヘイズが5.0以上
Evaluation of fingerprint resistance (evaluation based on haze value)
The highest value was calculated | required among (DELTA) haze value in the frequency | count of wiping 1-30 times, and fingerprint resistance was evaluated by the following reference | standard.
◎: Δ haze is 0.5 or less ○: Δ haze is 1.0 or less to less than 0.5 Δ: Δ haze is 5.0 or less to less than 1.0 ×: Δ haze is 5.0 or more

参考評価:目視評価
被膜に指紋を付け、クリーンワイパーを用いて軽く10回拭き取り、拭き取り時の指紋および拭き取り跡の目立ちやすさや、指紋が拭き取れたかどうか目視評価にて下記の基準で評価した。
◎:拭き取り時に指紋が目立ちにくく、指紋の拭き取り跡が残らない
○:拭き取り時に指紋が少し目立つが、指紋の拭き取り跡が残らない。
△:拭き取り時に指紋が少し目立ち、僅かに拭き取り跡が残る。
×:拭き取り時に指紋が目立ち、拭き取れ跡が残り容易に拭き取れない。
Reference evaluation: Visual evaluation A fingerprint was attached to the coating, and it was wiped lightly 10 times with a clean wiper. The visibility of the fingerprint and the wiping trace at the time of wiping and whether the fingerprint was wiped off were evaluated by the following criteria by visual evaluation.
◎: Fingerprints do not stand out easily when wiping off, and no fingerprint trace remains. ○: Fingerprints are slightly noticeable when wiping off, but no fingerprint trace remains.
Δ: Fingerprints are slightly conspicuous at the time of wiping, and a slight trace of wiping remains.
X: Fingerprints are conspicuous at the time of wiping, and a trace of wiping remains and cannot be easily wiped off.

上記評価結果を下記表にまとめる。但し下記表中の「実施評価例」における「85度鏡面光沢」は参考評価である。   The evaluation results are summarized in the following table. However, “85 degree specular gloss” in “Example of evaluation” in the table below is a reference evaluation.

Figure 2011099744
Figure 2011099744

実施評価例および比較評価例に示されるとおり、入射角20〜75度での鏡面光沢度を用いた耐指紋性評価は、従来より行われている目視評価との相関性が高いことが確認された。
一方で、入射角85度での鏡面光沢度を用いた耐指紋性評価は、比較調製例2も良好な結果となっており、入射角20〜75度のものと比較して目視評価との相関性に欠けることがわかる。
Δヘイズを用いた比較評価例1、2はいずれも、実施調製例1、2と比較調製例2との明確な評価差が生じておらず、目視評価との相関性に欠けることがわかる。
As shown in the practical evaluation examples and comparative evaluation examples, it has been confirmed that the fingerprint resistance evaluation using the specular gloss at an incident angle of 20 to 75 degrees has a high correlation with the conventional visual evaluation. It was.
On the other hand, the anti-fingerprint evaluation using the specular gloss at an incident angle of 85 degrees is also a good result in Comparative Preparation Example 2, which is compared with the visual evaluation as compared with the incident angle of 20 to 75 degrees. It can be seen that there is a lack of correlation.
In Comparative Evaluation Examples 1 and 2 using Δhaze, there is no clear difference in evaluation between Example Preparation Examples 1 and 2 and Comparative Preparation Example 2, indicating that there is a lack of correlation with visual evaluation.

また、実施調製例1、2の組成物を用いて得られたハードコートサンプルは、比較調製例1、2の組成物を用いて得られたハードコートサンプルと比較して、優れた耐指紋性を有することも確認できた。   In addition, the hard coat samples obtained using the compositions of Example Preparation Examples 1 and 2 have superior fingerprint resistance compared to the hard coat samples obtained using the compositions of Comparative Preparation Examples 1 and 2. It was also confirmed that it has.

本発明の耐指紋性評価方法は、今まで目視での官能評価に対して定量的な評価が可能となる。この評価方法は、従来のヘイズ値を測定する方法が光の透過性の差を評価するのに対し、光の反射の差を利用した評価方法であり、目視評価時の角度依存性も考慮にいれた評価方法である。本発明の耐指紋評価方法はまた、種々の被評価物に応用可能であり、特にヘイズ値による評価が不可能である、不透明な筐体の表面のハードコート層(耐指紋性被膜)の耐指紋性の評価にも用いることができるという利点がある。   The fingerprint resistance evaluation method of the present invention can quantitatively evaluate the sensory evaluation visually. This evaluation method is an evaluation method using the difference in light reflection, while the conventional method of measuring the haze value evaluates the difference in light transmission, and also considers the angle dependency during visual evaluation. This is the evaluation method. The fingerprint resistance evaluation method of the present invention can also be applied to various objects to be evaluated, and in particular, the resistance of a hard coat layer (fingerprint resistance film) on the surface of an opaque housing that cannot be evaluated by a haze value. There is an advantage that it can also be used for evaluation of fingerprint property.

Claims (6)

光沢計を用いて、被塗物上に形成された被膜の75〜20度鏡面光沢度を測定し初期光沢度とする、初期光沢度測定工程、
該被膜上に耐指紋評価液を付着させる、耐指紋評価液付着工程、
該耐指紋評価液が付着した部分の該鏡面光沢度を測定する、拭き取り前光沢度測定工程、
付着した耐指紋評価液を拭き取る、耐指紋評価液拭き取り工程、
耐指紋評価液拭き取り後の該鏡面光沢度を測定する、拭き取り後光沢度測定工程、および
得られた測定値を下記式で処理し、付着性評価率および拭き取り後評価率を求める、算出工程、
付着性評価率(%)=(拭き取り前光沢度)/(初期光沢度)×100
拭き取り後評価率(%)=(拭き取り後光沢度)/(初期光沢度)×100
を包含する、被膜の耐指紋性評価方法。
An initial glossiness measuring step for measuring a 75 to 20 degree specular glossiness of a coating film formed on an object to be an initial glossiness by using a gloss meter;
An anti-fingerprint evaluation liquid adhering step for attaching an anti-fingerprint evaluation liquid on the coating;
Measuring the glossiness of the specular surface of the part to which the anti-fingerprint evaluation liquid is adhered, a glossiness measuring step before wiping,
Wipe off the anti-fingerprint evaluation liquid, the anti-fingerprint evaluation liquid wiping process,
Measuring the specular gloss after wiping off the anti-fingerprint evaluation liquid, measuring the gloss after the wiping process, and processing the obtained measured value according to the following formula to obtain the adhesion evaluation rate and the evaluation rate after wiping:
Adhesion evaluation rate (%) = (Glossiness before wiping) / (Initial glossiness) × 100
Evaluation rate after wiping (%) = (Glossiness after wiping) / (Initial glossiness) × 100
A method for evaluating fingerprint resistance of a coating, comprising:
前記耐指紋評価液拭き取り工程における拭き取り処理が、荷重5〜50g/cmで、払拭材を1〜40回往復させて、耐指紋評価液を拭き取る処理である、請求項1記載の被膜の耐指紋性評価方法。 The wiping process in the said anti-fingerprint evaluation liquid wiping process is a process which reciprocates a wiping material 1-40 times by a load of 5-50 g / cm < 2 >, and wipes off the anti-fingerprint evaluation liquid of Claim 1. Fingerprint evaluation method. 前記耐指紋評価液付着工程における付着処理は、
下端面部の直径13mm以上であるゴム栓の該下端面を、織布または不織布で被覆し、該被覆部に耐指紋評価液を含浸し、
耐指紋評価液が含浸したゴム栓の下端面部を、荷重50〜300g/cmで前記被膜上に押しあてて、被膜上に耐指紋評価液を付着させる、
手順である、請求項1または2記載の被膜の耐指紋性評価方法。
The adhesion process in the fingerprint resistance evaluation liquid adhesion process is as follows:
The lower end surface of the rubber stopper having a diameter of 13 mm or more at the lower end surface portion is coated with a woven fabric or a non-woven fabric, and the coating portion is impregnated with an anti-fingerprint evaluation liquid,
The lower end surface portion of the rubber stopper impregnated with the anti-fingerprint evaluation liquid is pressed onto the film with a load of 50 to 300 g / cm 2 to adhere the anti-fingerprint evaluation liquid on the film.
The method for evaluating fingerprint resistance of a coating according to claim 1 or 2, which is a procedure.
前記耐指紋評価液が、高級脂肪酸、テルペン類およびこれらの誘導体から選択される少なくとも1種である、請求項1〜3いずれかに記載の被膜の耐指紋性評価方法。   The method for evaluating fingerprint resistance of a coating film according to any one of claims 1 to 3, wherein the fingerprint resistance evaluation liquid is at least one selected from higher fatty acids, terpenes and derivatives thereof. 請求項1〜4いずれかに記載の耐指紋性評価方法において60度鏡面光沢度を測定した場合における付着性評価率および拭き取り後評価率が、いずれも85%以上である、耐指紋性被膜であって、
該被膜が、下記成分:
両末端それぞれに少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有する、ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)、
光重合性多官能化合物(B)、および
光重合開始剤(C)、
を含み、
該ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、下記式(1):
Figure 2011099744
[式中、Xは、ポリエーテル骨格を有するポリオール化合物の両末端の水酸基を除いた残基を示す。]
で示される構造を有し、および
該ポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレート(A)の水トレランスが6.0ml以下であり、溶解性パラメータが12以下である、
耐指紋性光硬化性組成物によって形成された被膜である、耐指紋性被膜。
An anti-fingerprint film having an adhesion evaluation rate and a post-wiping evaluation rate of 85% or more when the 60 ° specular gloss is measured in the fingerprint resistance evaluation method according to claim 1. There,
The coating has the following components:
Polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) having at least one (meth) acrylate group at each of both ends,
A photopolymerizable polyfunctional compound (B), and a photopolymerization initiator (C),
Including
The polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) has the following formula (1):
Figure 2011099744
[In formula, X shows the residue except the hydroxyl group of the both ends of the polyol compound which has a polyether frame | skeleton. ]
And the polyether skeleton-containing urethane (meth) acrylate (A) has a water tolerance of 6.0 ml or less and a solubility parameter of 12 or less.
A fingerprint-resistant film, which is a film formed from a fingerprint-resistant photocurable composition.
請求項1〜4いずれかに記載の耐指紋性評価方法において60度鏡面光沢度を測定した場合における付着性評価率および拭き取り後評価率が、いずれも85%以上である、耐指紋性被膜であって、
該被膜が、下記成分:
(イ)分子内に活性メチレン基または活性メチン基(a)と飽和シクロアルキル基(b)とを有するアクリル樹脂、若しくは活性メチレン基または活性メチン基(a)を有するアクリル樹脂と飽和シクロアルキル基(b)を有するアクリル樹脂との混合物、
(ロ)分子内に2個以上の光硬化性官能基を有する多官能重合性化合物、
(ハ)光重合開始剤、および
(ニ)マイケル反応触媒、
を含む耐指紋性硬化性組成物によって形成された被膜である、耐指紋性被膜。
An anti-fingerprint film having an adhesion evaluation rate and a post-wiping evaluation rate of 85% or more when the 60 ° specular gloss is measured in the fingerprint resistance evaluation method according to claim 1. There,
The coating has the following components:
(A) An acrylic resin having an active methylene group or active methine group (a) and a saturated cycloalkyl group (b) in the molecule, or an acrylic resin having an active methylene group or an active methine group (a) and a saturated cycloalkyl group A mixture with an acrylic resin having (b),
(B) a polyfunctional polymerizable compound having two or more photocurable functional groups in the molecule;
(C) a photopolymerization initiator, and (d) a Michael reaction catalyst,
A fingerprint-resistant coating film, which is a coating formed by a fingerprint-resistant curable composition comprising:
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