KR20150113950A - Laminated film - Google Patents

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KR20150113950A
KR20150113950A KR1020157017110A KR20157017110A KR20150113950A KR 20150113950 A KR20150113950 A KR 20150113950A KR 1020157017110 A KR1020157017110 A KR 1020157017110A KR 20157017110 A KR20157017110 A KR 20157017110A KR 20150113950 A KR20150113950 A KR 20150113950A
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다다히코 이와야
야스시 다카다
도균 김
준지 미치조에
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도레이 카부시키가이샤
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Abstract

본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 성형성, 자기 수복성, 의장성, 광택감, 내지문성을 충족하는 적층 필름 제공하는 것이다. 본 발명의 적층 필름은, 지지 기재 중 적어도 한쪽의 면에 표면층을 갖는 적층 필름이며, 표면층이 이하의 1 내지 3의 특성을 만족하는 것을 특징으로 하는 적층 필름이다.
1. JIS Z8741(1997년)에서 규정하는 60° 경면 광택도가 60% 이상
2. 올레산의 후퇴 접촉각(θr)이 50° 이상
3. 미소 경도계 측정에 있어서 0.5mN 하중을 10초간 가했을 때의, 상기 층의 두께 방향의 최대 변위량이 1.0㎛ 이상 3.0㎛ 이하이고, 상기 층의 두께 방향의 크리프 변위량이 0.05㎛ 이상 0.5㎛ 이하이고, 하중을 0mN까지 해방했을 때의, 상기 층의 두께 방향의 영구 변위량이 0.2㎛ 이상 0.7㎛ 이하
A problem to be solved by the present invention is to provide a laminated film which satisfies formability, self-repellency, designability, glossiness, and transparency. The laminated film of the present invention is a laminated film having a surface layer on at least one surface of a supporting substrate, and the surface layer satisfies the following properties 1 to 3.
1. 60% specular gloss specified by JIS Z8741 (1997) is 60% or more
2. The receding contact angle (θ r ) of oleic acid is 50 ° or more
3. The micro-hardness meter according to claim 1, wherein a maximum displacement in the thickness direction of the layer is 1.0 占 퐉 or more and 3.0 占 퐉 or less when a 0.5 mN load is applied for 10 seconds, and the amount of creep displacement in the thickness direction of the layer is 0.05 占 퐉 or more and 0.5 占 퐉 or less , When the load is released to 0 mN, the amount of permanent displacement of the layer in the thickness direction is 0.2 탆 or more and 0.7 탆 or less

Description

적층 필름{LAMINATED FILM}Laminated film {LAMINATED FILM}

본 발명은 성형 재료에 요구되는 성형 추종성과 내찰상의 양립 외에, 의장성, 내지문성이 우수한 적층 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a laminated film excellent in designability and transparency as well as compatibility with moldability and scratch resistance required for a molding material.

장식 성형 등에 사용되는 성형 재료에서는, 성형시의 흠집 방지나 성형 후의 물품 사용 과정에서의 흠집을 방지하기 위해서 표면 경도화층이 설치된다. 그러나 표면 경도화층은, 성형에 추종하는 신장이 부족하기 때문에, 성형시에 크랙이 발생하거나, 극단적인 경우에는 필름이 파단되거나, 표면 경도화층이 박리되거나 하기 때문에, 일반적으로는 성형 후에 표면 경도화층을 형성하거나, 반경화 상태에서 성형한 후, 가열이나 활성선 조사 등으로 완전 경화시키는 등의 수단이 적용되고 있다. 그러나 성형 후의 물품은 3차원에 가공되어 있기 때문에, 후속 가공에서 표면 경도화층을 형성하는 것은 매우 곤란하고, 또한 반경화 상태에서 성형하는 경우에는, 성형 조건에 따라서는 금형의 오염을 유발하는 경우가 있다. 이상의 점에서, 성형에 추종하는 내찰상성 재료가 촉망되며, 경도의 흠집을 자신의 탄성 회복 범위의 변형을 자기 수복할 수 있는 「자기 수복 재료」 또는 「자기 치유 재료」가 주목받고 있다. In the molding material used for decorative molding or the like, a surface hardening layer is provided to prevent scratches during molding and scratches during use of the molded product. However, in the surface hardening layer, since the elongation following the forming is insufficient, cracking occurs at the time of molding, the film breaks at the extreme case, or the surface hardening layer is peeled off. Therefore, Or molding it in a semi-cured state, and then completely curing it by heating, active ray irradiation or the like is applied. However, since the molded article is processed in three dimensions, it is very difficult to form a surface hardened layer in subsequent processing. In the case of molding in a semi-hardened state, the case of causing mold contamination have. In view of the above, a "self-repairing material" or a "self-healing material" which is able to self-repair a deformation of its own elastic recovery range with scratches of hardness is attracted attention.

또한, 이러한 자기 수복 재료 중, 흠집의 수복 과정을 시인할 수 있는 재료는, 그 기능을 직접 인식할 수 있기 때문에, 외장 부재에 사용하면 성형 재료의 「의장성」을 높일 수 있어, 그 점에서도 주목받고 있다. 이상과 같은 자기 수복, 또는 자기 치유 재료로서는 특허문헌 1 및 2의 재료가 제안되어 있다.Further, among these self-restoration materials, materials capable of recognizing the repair process of scratches can directly recognize the functions thereof. Therefore, when used in an exterior member, the "designability" of the molding material can be increased, It is attracting attention. As the self-repairing or self-healing material as described above, the materials of Patent Documents 1 and 2 have been proposed.

한편, 성형 재료 중에서도, 특히 강한 광택감, 더욱 높은 반사율, 투명성이 요구되는 용도에서는, 일상 생활에서 표면에 사람의 손가락이 접촉함으로써 지문(여기서 지문이란, 손끝의 피부에 있는 땀샘의 개구부가 융기한 선(융선)에 의해 생기는 문양, 및 상기 문양이 물체의 표면에 부착된 흔적을 말함)이 시인되기 쉽고, 또한 그것을 용이하게 닦아낼 수 없으면, 외견이 오염된 것 같은 불쾌한 인상을 준다는 문제가 있다. 특히 최근에는 스마트폰·터치 패널, 키보드, 텔레비전·에어컨의 리모콘 등과 같이, 손가락으로 조작하는 전자 기기가 증가하고 있어, 예를 들어 이들 기기의 하우징을 파지함으로써 지문이 부착되고, 지문이 두드러져서 청결감이 손상된다는 문제가 있다. On the other hand, in applications where a strong luster, higher reflectance, and transparency are required particularly in molding materials, fingerprints of a human being come into contact with the surface in everyday life (here, the fingerprint is a line in which the opening of the sweat glands (A ridge formed by a ridge) and a mark attached to the surface of the object) are easily visible, and if it can not be wiped easily, there is a problem that an unpleasant impression is given that the outer appearance is contaminated. In recent years, electronic appliances operated by fingers such as smart phones, touch panels, keyboards, remote controls for television and air conditioners, and the like are increasing. For example, fingerprints are attached by gripping housings of these devices, There is a problem that it is damaged.

이러한 문제에 대하여, 물품 표면에 지문이 부착되기 어렵고, 시인되기 어렵거나, 또는 부착된 지문을 용이하게 닦아낼 수 있는 특성(상기 물성을 이후, 내지문성이라 칭함)을 갖는 부재가 특허문헌 3 및 4에 제안되어 있다.With respect to such a problem, a member having the property that the fingerprint is hardly adhered to the surface of the article, is hard to be visually recognized, or that the attached fingerprint can be easily wiped off (hereinafter referred to as " 4.

국제 공개 제2011/136042호International Publication No. 2011/136042 일본 특허 공개 평11-228905호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-228905 일본 특허 공개 제2009-122416호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-122416 일본 특허 공개 제2011-99744호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-99744

상술한 자기 수복 재료로서 제안되어 있는 특허문헌 1, 특허문헌 2의 기술에 대해서는, 본 발명자들이 확인한 결과, 성형성과 자기 수복성이 우수하지만, 내지문성이 불충분한 문제가 있었다. As a result of checking by the inventors of the inventions of Patent Documents 1 and 2 which have been proposed as the above-mentioned self-restoration materials, there is a problem that moldability and self-repairability are excellent, but insufficiency is insufficient.

또한, 상술한 특허문헌 3, 특허문헌 4의 기술에 대해서, 본 발명자들이 다양한 조건에서 내지문성을 확인한 결과, 이러한 특성을 만족하는 것만으로는 지문을 두드러지지 않게 하거나, 또는 지문을 닦아내기 쉬운 효과가 불충분하였다. 또한 이들 재료는 성형성이나 자기 수복성을 나타내는 것이 아니며, 상술한 특허문헌 1, 2의 기술과 조합하는 것이 불가능한 기술이었다. As a result of the inventors of the present invention, the inventors of the present invention have found that, by satisfying these characteristics, it is possible to prevent the fingerprints from being conspicuous or to wipe off the fingerprints Was insufficient. These materials do not show moldability or self-repellency, and they were impossible to be combined with the techniques of the above-described Patent Documents 1 and 2. [

따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 성형성, 자기 수복성, 의장성, 광택감, 내지문성을 충족하는 적층 필름을 제공하는 데 있다.Therefore, a problem to be solved by the present invention is to provide a laminated film that satisfies formability, self-repellency, designability, glossiness, and transparency.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명자들은 예의 연구를 거듭한 결과, 이하의 발명을 완성시켰다. 즉, 본 발명은 이하와 같다. Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present inventors have conducted intensive studies and, as a result, have completed the following inventions. That is, the present invention is as follows.

<1> 지지 기재 중 적어도 한쪽의 면에 표면층을 갖는 적층 필름이며, 표면층이 이하의 1 내지 3을 만족하는 것을 특징으로 하는 적층 필름. &Lt; 1 > A laminated film having a surface layer on at least one surface of a support substrate, wherein the surface layer satisfies the following 1 to 3.

1. JIS Z8741(1997년)에서 규정하는 60° 경면 광택도가 60% 이상 1. 60% specular gloss specified by JIS Z8741 (1997) is 60% or more

2. 올레산의 후퇴 접촉각(θr)이 50° 이상 2. The receding contact angle (θ r ) of oleic acid is 50 ° or more

3. 미소 경도계 측정에 있어서 0.5mN 하중을 10초간 가했을 때의, 상기 표면층의 두께 방향의 최대 변위량이 1.0㎛ 이상 3.0㎛ 이하이고, 3. The micro-hardness measurement method according to any one of claims 1 to 3, wherein a maximum displacement amount in the thickness direction of the surface layer when a 0.5 mN load is applied for 10 seconds is 1.0 占 퐉 or more and 3.0 占 퐉 or less,

상기 표면층의 두께 방향의 크리프 변위량이 0.05㎛ 이상 0.5㎛ 이하이고, The amount of creep displacement in the thickness direction of the surface layer is 0.05 탆 or more and 0.5 탆 or less,

하중을 0mN까지 해방했을 때의, 상기 표면층의 두께 방향의 영구 변위량이 0.2㎛ 이상 0.7㎛ 이하 When the load is released to 0 mN, the amount of permanent displacement of the surface layer in the thickness direction is 0.2 탆 or more and 0.7 탆 or less

<2> 상기 표면층의 올레산의 전진 접촉각(θa), 후퇴 접촉각(θr)이 하기 식 (1)을 만족하는, <1>에 기재된 적층 필름. &Lt; 2 > The laminated film according to < 1 &gt;, wherein the advancing contact angle [theta] a and the receding contact angle [theta] r of oleic acid in the surface layer satisfy the following formula (1).

ar)≤15° 식 (1) (? a - ? r )? 15? Equation (1)

<3> 상기 표면층의 올레산 흡수 계수(Ab)가 30 이상인 것을 특징으로 하는, <1> 또는 <2>에 기재된 적층 필름. <3> The laminated film according to <1> or <2>, wherein the oleic acid absorption coefficient (A b ) of the surface layer is 30 or more.

여기서, 올레산 흡수 계수(Ab)란, 상기 표면층에 올레산을 2μl 적하하여, 시린지로부터의 토출 시에 액적 형상으로부터 구한 부피(V1), 착적 시의 착적부의 면적(S1), 25℃, 무풍 상태에서 10시간 유지한 후의 부피(V2) 및 상기 표면층의 두께(T)로부터, 이하의 식 (2)에 의해 구해지는 값을 가리킴. The oleic acid absorption coefficient A b means the volume (V 1 ) determined from the droplet shape at the time of discharging oleic acid from the syringe, the area (S 1 ) of the adhered portion at the time of deposition, ( 2 ) from the volume (V 2 ) after holding for 10 hours in a no-wind condition and the thickness (T) of the surface layer.

Ab=(V1-V2)/(S1×T) 식 (2) A b = (V 1 -V 2 ) / (S 1 × T) (2)

<4> 상기 표면층에서, 비행시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 측정되는, 불소에서 유래하는 F- 프래그먼트 이온(M/Z=19)이 면내에서 균일하게 존재하고, 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온(M/Z=43)이 이하의 어느 하나로 존재하는 것을 특징으로 하는, <1> 내지 <3> 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름. <4> In the surface layer, F-fragment ions (M / Z = 19) derived from fluorine, which are measured by a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS), are uniformly present in the plane and dimethylsiloxane The laminated film according to any one of <1> to <3>, wherein the Si (CH 3 ) + fragment ion (M / Z = 43)

·섬 형상으로 존재 · Exists in island shape

·그물눈 형상으로 존재 · Exists in a net shape

·섬 형상 및 그물눈 형상으로 존재 · Exists in island shape and mesh shape

<5> 상기 표면층에서, 상기 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온이 존재하는 영역의 점유율이 30% 이상 70% 이하인 것을 특징으로 하는, <1> 내지 <4> 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름. <5> A semiconductor device according to any one of <1> to <4>, wherein the surface layer has a occupancy rate of 30% or more and 70% or less in a region where Si (CH 3 ) + fragment ions derived from the dimethylsiloxane are present &Lt; / RTI &gt;

<6> 상기 표면층에, 다음의 조건 하에서 모의 지문을 부착한 전후의 JIS Z8730(2009년) 및 JIS Z8722(2009년)에서 규정하는 정반사광포함의 색차 ΔE* ab(di:8°) Sb10W10이 0.4 이하 또한 정반사광제거의 색차 ΔE* ab(de:8°) Sb10W10이 4 이하인 <1> 내지 <5> 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름. <6> The color difference ΔE * ab (di: 8 °) Sb10W10 specified by JIS Z8730 (2009) and JIS Z8722 (2009) before and after the simulated fingerprint is attached under the following conditions 0.4 or less Further, the color difference DELTA E * ab (de: 8 DEG) of the specular reflected light removal Sb10W10 is 4 or less.

모의 지문 부착 조건: 올레산 70질량%와 수 평균 입자 직경 2㎛의 실리카 30질량%를 포함하는 분산물을, JIS B0601(2001년)에서 규정하는 Ra가 3㎛이고, JIS K6253(1997년)에서 규정하는 고무 경도 50의 실리콘 고무에 1.0g/m2 부착시키고, 이것을 대상으로 하는 면에 30kPa로 부착시킨 것. Simulated fingerprint attachment conditions: A dispersion containing 70% by mass of oleic acid and 30% by mass of silica having a number average particle diameter of 2 占 퐉 was prepared in the same manner as described in JIS K6253 (1997) with a Ra of 3 占 퐉 as defined in JIS B0601 A rubber rubber having a rubber hardness of 50 specified is attached to 1.0 g / m 2 on the silicone rubber and attached to the surface to be treated at 30 kPa.

<7> 상기 표면층이, 이하의 식 (3) 및 식 (4)를 만족하는 것을 특징으로 하는, <1> 내지 <6> 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름. <7> The laminated film according to any one of <1> to <6>, wherein the surface layer satisfies the following formulas (3) and (4).

K0 .5≤3 식 (3) K 0 .5? 3 Equation (3)

K0 .5-K10≥1 식 (4) K 0 .5 -K 10? 1 Equation (4)

여기서, here,

K0 .5=[(ΔESCI -0.5)2+(ΔESCE -0.5)2]1/2 식 (5) K 0 .5 = [(ΔE SCI -0.5) 2 + (ΔE SCE -0.5) 2] 1/2 Equation (5)

K10=[(ΔESCI -10)2+(ΔESCE -10)2]1/2 식 (6) K 10 = [(ΔE SCI -10 ) 2 + (ΔE SCE -10 ) 2 ] 1/2 (6)

ΔESCI -0.5, ΔESCE -0.5: ΔE SCI -0.5 , ΔE SCE -0.5 :

상기 표면층에 다음의 방법으로 모의 지문을 부착하기 전의 상태를 기준으로 하여, 모의 지문 부착부터 30분 후에 측정한 JIS Z8730(2009) 및 JIS Z8722(2009)에서 규정하는 ΔE* ab(di:8°) Sb10W10과, ΔE* ab(de:8°) Sb10W10을 각각 가리킴. On the basis of a state before attaching the simulated fingerprint in the following manner on the surface layer, simulated from the fingerprint adhesion was measured after 30 minutes JIS Z8730 (2009), and ΔE * ab (di specified in JIS Z8722 (2009): 8 ° ) Sb10W10, and? E * ab (de: 8 °) Sb10W10, respectively.

ΔESCI -10, ΔESCE -10: ? E SCI- 10 ,? E SCE -10 :

상기 표면층에 상기 방법으로 모의 지문을 부착하기 전의 상태를 기준으로 하여, 모의 지문 부착부터 10시간 후에 측정한 JIS Z8730(2009) 및 JIS Z8722(2009)에서 규정하는 ΔE* ab(di:8°) Sb10W10과, ΔE* ab(de:8°) Sb10W10을 각각 가리킴. On the basis of a state before attaching the simulated prints by the above method to the surface layer, ΔE * ab as specified in the JIS Z8730 (2009) and JIS Z8722 (2009) measured after the simulation 10 hours from the fingerprint adhesion (di: 8 °) Sb10W10 and? E * ab (de: 8 °) Sb10W10, respectively.

모의 지문 부착 조건: 올레산 70질량%와 수 평균 입자 직경 2㎛의 실리카 30질량%를 포함하는 분산물을, JIS B0601(2001년)에서 규정하는 Ra가 3㎛이고, JIS K6253(1997년)에서 규정하는 고무 경도 50의 실리콘 고무에 1.0g/m2 부착시키고, 이것을 대상으로 하는 면에 30kPa로 부착시킨 것. Simulated fingerprint attachment conditions: A dispersion containing 70% by mass of oleic acid and 30% by mass of silica having a number average particle diameter of 2 占 퐉 was prepared in the same manner as described in JIS K6253 (1997) with a Ra of 3 占 퐉 as defined in JIS B0601 A rubber rubber having a rubber hardness of 50 specified is attached to 1.0 g / m 2 on the silicone rubber and attached to the surface to be treated at 30 kPa.

<8> 상기 표면층에, 다음의 방법으로 모의 지문을 부착시켰을 때에 형성되는 유적의, 면적 기준 빈도 분포로부터 산출한 메디안 직경(DP)이 이하의 식 (7) 및 식 (8)을 만족하는 것을 특징으로 하는, <1> 내지 <7> 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름. (8) The median diameter (D P ) calculated from the area reference frequency distribution of the remains formed when the simulated fingerprint is attached to the surface layer in the following manner satisfies the following expressions (7) and The laminated film according to any one of < 1 > to < 7 >

DP0 .5≤80㎛ 식 (7) D P0 .5 &amp; le; 80 mu m Equation (7)

(DP0 .5-DP10)/DP0 .5≥0.5 식 (8) (D P0 .5 -D P10) / D P0 .5 ≥0.5 (8)

DP0 .5: 상기 모의 지문의 부착부터 30분 후에 측정한, 모의 지문을 구성하는 유적의 면적 기준 빈도 분포로부터 산출한 메디안 직경 D P0 .5: a median diameter calculated from the area-based frequency distribution of remains that makes up a mock fingerprint measurement after 30 minutes from the attachment of the mock fingerprint

DP10: 상기 모의 지문의 부착부터 10시간 후에 측정한, 모의 지문을 구성하는 유적의 면적 기준 빈도 분포로부터 산출한 메디안 직경 D P10 : the median diameter calculated from the area reference frequency distribution of the remains constituting the simulated fingerprint measured 10 hours after the above-mentioned simulated fingerprint is attached

모의 지문 부착 조건: 올레산 70질량%와 수 평균 입자 직경 2㎛의 실리카 30질량%를 포함하는 분산물을, JIS B0601(2001년)에서 규정하는 Ra가 3㎛이고, JIS K6253(1997년)에서 규정하는 고무 경도 50의 실리콘 고무에 1.0g/m2 부착시키고, 이것을 대상으로 하는 면에 30kPa로 부착시킨 것. Simulated fingerprint attachment conditions: A dispersion containing 70% by mass of oleic acid and 30% by mass of silica having a number average particle diameter of 2 占 퐉 was prepared in the same manner as described in JIS K6253 (1997) with a Ra of 3 占 퐉 as defined in JIS B0601 A rubber rubber having a rubber hardness of 50 specified is attached to 1.0 g / m 2 on the silicone rubber and attached to the surface to be treated at 30 kPa.

<9> 상기 표면층에 다음의 조건 하에서 모의 지문 부착 및 모의 지문 닦아내기 시험을 행하여, JIS Z8730(2009년) 및 JIS Z8722(2009년)에 따라서 구한 모의 지문 부착 전의 상태를 기준으로 한 모의 지문 닦아내기 시험 후의 정반사광포함의 색차 ΔE* ab(di:8°) Sb10W10(이후, ΔESCI -2라 함) 및 모의 지문 부착 전의 상태를 기준으로 한 모의 지문 닦아내기 시험 후의 정반사광제거의 색차 ΔE* ab(de:8°) Sb10W10(이후, ΔESCE -2라 함)이 하기 식 (9)를 만족하는 것을 특징으로 하는, <1> 내지 <8> 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름. <9> The simulated fingerprint attachment and the simulated fingerprint wipe test are performed on the surface layer under the following conditions and the simulated fingerprint is wiped based on the state before the simulated fingerprint is obtained according to JIS Z8730 (2009) and JIS Z8722 (2009) The color difference ΔE * ab (di: 8 °) Sb10W10 (hereinafter referred to as ΔE SCI- 2 ) including the regular reflection light after the stamina test and the color difference ΔE of the regular reflection light removal after the simulated fingerprint wiping test * ab (de: 8 °) Sb10W10 ( since, ΔE SCE -2 &quot;) which is characterized by satisfying the following formula (9), <1> to <8> in which the laminated film according to one of the preceding.

((ΔESCI -2)2+(ΔESCE -2)2)1/2≤2.0 식 (9) (? E SCI -2 ) 2 + (? E SCE -2 ) 2 ? 1/2? 2.0 Equation (9)

모의 지문 부착 및 모의 지문 닦아내기 시험의 조건 Condition of simulated fingerprint attachment and simulated fingerprint wipe test

·모의 지문 부착 조건: 올레산 70질량%와 수 평균 입자 직경 2㎛의 실리카 30질량%를 포함하는 분산물을, JIS B0601(2001년)에서 규정하는 Ra가 3㎛이고, JIS K6253(1997년)에서 규정하는 고무 경도 50의 실리콘 고무에 1.0g/m2 부착시키고, 이것을 대상으로 하는 면에 30kPa의 압력으로 부착시킨 것. - Simulated fingerprint attachment conditions: The dispersion containing 70% by mass of oleic acid and 30% by mass of silica having a number average particle diameter of 2 占 퐉 has a Ra of 3 占 퐉 as defined by JIS B0601 (2001), and JIS K6253 (1997) In which 1.0 g / m &lt; 2 &gt; is adhered to a silicone rubber having a rubber hardness of 50 specified in Table 1, and the surface of the silicone rubber is adhered to the surface at a pressure of 30 kPa.

·모의 지문 닦아내기 조건: 상기 조건으로 부착한 모의 지문을 부직포로 30kPa의 압력, 5cm/초의 속도로 3회 문지름· Simulated fingerprint wipe condition: The simulated fingerprint attached with the above conditions was rubbed 3 times at a pressure of 30 kPa at a rate of 5 cm / sec with a nonwoven fabric

<10> 상기 표면층에 포함되는 수지가 이하의 (1) 내지 (3)을 갖고 있는 것을 특징으로 하는, <1> 내지 <9> 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름. <10> The laminated film according to any one of <1> to <9>, wherein the resin contained in the surface layer has the following (1) to (3).

(1) (폴리)카프로락톤 세그먼트, (1) a (poly) caprolactone segment,

(2) 우레탄 결합, (2) a urethane bond,

(3) 플루오로알킬기, 플루오로옥시알킬기, 플루오로알케닐기, 플루오로알칸디일기 및 플루오로옥시알칸디일기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 세그먼트(이후, 불소 화합물 세그먼트라 함) (3) a segment containing at least one selected from the group consisting of a fluoroalkyl group, a fluorooxyalkyl group, a fluoroalkenyl group, a fluoroalkanediyl group and a fluorooxyalkanediyl group (hereinafter referred to as a fluorine compound segment)

<11> 상기 불소 화합물 세그먼트가 플루오로폴리에테르 세그먼트인 것을 특징으로 하는, <10>에 기재된 적층 필름. <11> The laminated film according to <10>, wherein the fluorine compound segment is a fluoro polyether segment.

<12> 상기 표면층에 포함되는 수지가 (4) (폴리)실록산 세그먼트 및/또는 폴리디메틸실록산 세그먼트를 갖고 있는 것을 특징으로 하는, <10> 또는 <11>에 기재된 적층 필름.<12> The laminated film according to <10> or <11>, wherein the resin contained in the surface layer has (4) a (poly) siloxane segment and / or a polydimethylsiloxane segment.

본 발명에 따르면, 성형성, 자기 수복성, 의장성, 광택감, 내지문성을 충족하는 적층 필름을 얻을 수 있다. INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, a laminated film satisfying formability, self-repellency, designability, glossiness, and transparency can be obtained.

도 1은 본 발명의 적층 필름에 대하여, 정삼각뿔을 사용해서 압입 부하/제하 시험을 행했을 때의 가중-압입 깊이 선도이다.
도 2는 본 발명의 적층 필름에 있어서, 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온(M/Z=43)이 섬 형상으로 존재하는 경우의 예이다.
도 3은 본 발명의 적층 필름에 있어서, 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온(M/Z=43)이 그물눈 형상으로 존재하는 경우의 예이다.
도 4는 본 발명의 적층 필름에 있어서, 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온(M/Z=43)이 섬 형상 및 그물눈 형상으로 존재하는 경우의 예이다.
Fig. 1 is a weighted-indentation depth chart when a press-in load / unload test is performed on a laminated film of the present invention using a regular triangular pyramid. Fig.
2 is an example of a case where Si (CH 3 ) + fragment ions (M / Z = 43) derived from dimethylsiloxane exist in an island shape in the laminated film of the present invention.
3 is an example of a case where Si (CH 3 ) + fragment ions (M / Z = 43) derived from dimethylsiloxane exist in a mesh shape in the laminated film of the present invention.
4 is an example of the case where Si (CH 3 ) + fragment ions (M / Z = 43) derived from dimethylsiloxane exist in an island shape and a net shape in the laminated film of the present invention.

상기 과제, 즉 성형성, 자기 수복성, 의장성, 광택감, 내지문성을 충족하기 위해서, 본 발명의 적층 필름은, 지지 기재 중 적어도 한쪽의 면에 표면층을 갖는 적층 필름이며, 표면층의 두께 방향의 최대 변위량, 크리프 변위량, 하중을 해방했을 때의 영구 변위량이 이하의 특정한 범위를 만족하는 것이 바람직하다. The laminated film of the present invention is a laminated film having a surface layer on at least one surface of a supporting substrate in order to satisfy the above problems, that is, the formability, self-reproductivity, designability, glossiness, It is preferable that the maximum displacement amount, the creep displacement amount, and the permanent displacement amount when releasing the load satisfy the following specific range.

성형성과 자기 수복성과 의장성의 관점에서, 본 발명의 적층 필름은 미소 경도계 측정에 있어서 0.5mN 하중을 10초간 가했을 때의, 표면층의 두께 방향의 최대 변위량이 1.0㎛ 이상 3.0㎛ 이하, 보다 바람직하게는 1.0㎛ 이상 1.7㎛ 이하이고, 표면층의 두께 방향의 크리프 변위량이 0.05㎛ 이상 0.5㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.2㎛ 이상 0.5㎛ 이하이고, 하중을 0mN까지 해방했을 때의, 표면층의 두께 방향의 영구 변위량이 0.2㎛ 이상 0.7㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.4㎛ 이상 0.65㎛ 이하이다. From the viewpoints of moldability, self-repairability, and designability, the laminated film of the present invention has a maximum displacement amount in the thickness direction of the surface layer of 1.0 m or more and 3.0 m or less when a 0.5 mN load is applied for 10 seconds in the microhardness measurement, The thickness of the surface layer in the thickness direction when the load is released to 0 mN and the amount of creep displacement in the thickness direction of the surface layer is 0.05 탆 or more and 0.5 탆 or less, more preferably 0.2 탆 or more and 0.5 탆 or less, The displacement amount is 0.2 탆 or more and 0.7 탆 or less, and more preferably 0.4 탆 or more and 0.65 탆 or less.

표면층의 두께 방향의 최대 변위량이 3.0㎛보다 크면, 표면층의 자기 수복성이 불완전하게 되는 경우가 있고, 표면층의 두께 방향의 최대 변위량이 1.0㎛보다 작으면, 표면층의 의장성, 즉 회복 과정의 시인성이 나빠지는 경우가 있다. If the maximum displacement amount in the thickness direction of the surface layer is larger than 3.0 mu m, the self-repairing property of the surface layer may become incomplete. When the maximum displacement amount in the thickness direction of the surface layer is smaller than 1.0 mu m, the designability of the surface layer, May be worse.

표면층의 두께 방향의 크리프 변위량이 0.5㎛보다 크거나 0.05㎛보다 작아도, 자기 수복성, 또는 의장성이 불완전하게 되는 경우가 있다. Even when the amount of creep displacement in the thickness direction of the surface layer is larger than 0.5 占 퐉 or smaller than 0.05 占 퐉, the self-repairing property or the design property may become incomplete.

표면층의 두께 방향의 영구 변위량이 0.7㎛보다 크면, 표면층의 자기 수복 후에도 시인 가능한 흠집이 남아 외관이 나빠지는 경우가 있다. 또한 표면층의 자기 수복성의 관점에서는, 영구 변위량은 작으면 작을수록 바람직하지만, 일반적으로 자기 수복 재료는 소성 변형하기 때문에, 본 측정 방법에서는 영구 변위량의 하한은 0.2㎛라 생각된다. 이러한 미소 경도계 측정의 두께 방향에서의 최대 변위량, 크리프 변위량, 영구 변위량의 측정 방법은 후술한다. If the permanent displacement amount in the thickness direction of the surface layer is larger than 0.7 mu m, visible scratches may occur even after self-repair of the surface layer, resulting in deterioration of the appearance. From the viewpoint of self-restorability of the surface layer, the smaller the smaller the amount of permanent displacement, the better. However, since the self-restoring material is usually subjected to plastic deformation, the lower limit of the amount of permanent displacement is considered to be 0.2 탆 in this measuring method. A method of measuring the maximum displacement amount, the creep displacement amount, and the permanent displacement amount in the thickness direction of the measurement of the microhardness meter will be described later.

광택감의 관점에서는, 본 발명의 적층 필름은 경면 광택도를 특정한 범위로 하는 것이 바람직하고, JIS Z8741(1997년)에서 규정되는 60° 경면 광택도의 측정에 의한 값으로, 60% 이상이 바람직하고, 70% 이상이 보다 바람직하고, 80% 이상이 특히 바람직하다. 경면 광택도가 60% 미만이면, 광택감이 불충분하다고 느껴지는 경우가 있다. 경면 광택도의 상한은, 재료의 굴절률에 따라 다르지만, 일반적인 재료를 사용한 경우에는 180% 정도이다. From the viewpoint of luster, the laminated film of the present invention preferably has a specular glossiness in a specific range, and is a value measured by 60 占 specular gloss specified by JIS Z8741 (1997), preferably 60% or more , More preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. If the specular gloss is less than 60%, the glossy feeling may be felt to be insufficient. The upper limit of the mirror surface gloss varies depending on the refractive index of the material, but is about 180% when a general material is used.

내지문성의 관점에서 본 발명의 적층 필름은, 상기 표면층에의 올레산의 후퇴 접촉각(θr)이 50° 이상인 것이 바람직하고, 55° 이상이 보다 바람직하고, 60° 이상이 특히 바람직하다. From the viewpoint of transparency, the laminated film of the present invention preferably has a receding contact angle? R of oleic acid to the surface layer of 50 ° or more, more preferably 55 ° or more, and particularly preferably 60 ° or more.

후퇴 접촉각의 측정 방법과 의미에 대해서는 후술하는데, 후퇴 접촉각은 높은 것에는 문제없으며, 한편 50°보다도 낮아지면 지문 성분이 서서히 부착되기 쉬워져, 내지문성이 저하되는 경우가 있다. The method and the meaning of the receding contact angle will be described later. There is no problem in that the receding contact angle is high. On the other hand, when the receding contact angle is lower than 50 deg., The fingerprint component tends to adhere slowly,

또한, 내지문성, 특히 지문 닦아냄성에 대해서는, 상기 표면층의 지문 성분의 전진 접촉각(θa)과 후퇴 접촉각(θr)의 관계가, 상술한 식 (1)을 만족하는 것이 바람직하다. It is also preferable that the relation between the advancing contact angle? A and the receding contact angle? R of the fingerprint component of the surface layer satisfies the above-mentioned formula (1), particularly regarding the emotion, particularly the fingerprint wipeability.

ar)≤15° 식 (1) (? a - ? r )? 15? Equation (1)

이것은, 지문 닦아냄성이 「지문 성분의 닦아내는 재료에의 전이 용이성」과 「표면층 위에서의 지문 성분의 이동 용이성」의 2개의 인자에 의해 지배되는 것에 착안하여, 전자를 후퇴 접촉각, 후자를 전진 접촉각으로 나타낼 수 있고, 이들을 통합한 식 (1)을 만족하면, 부착된 지문을 용이하게 닦아낼 수 있음을 의미하고 있다. This is because the fingerprint polishability is governed by two factors of "ease of transfer to the material to wipe the fingerprint composition" and "ease of movement of the fingerprint composition on the surface layer", and the former is referred to as a receding contact angle, (1), which means that the attached fingerprints can be easily wiped off.

상기 표면층의 올레산의 전진 접촉각(θa), 후퇴 접촉각(θr)이 상기 식 (1)을 만족하는 것, 즉 15° 이하인 것이 바람직하고, 12° 이하가 보다 바람직하고, 10° 이하가 특히 바람직하다. 식 (1)의 값은 0 또는 양의 값이라면 작은 것이 바람직하고, 한편 이 값이 15°보다도 커지면, 지문의 닦아냄성이 불충분하기 때문에, 내지문성이 저하되는 경우가 있다. It is preferable that the advancing contact angle? A and the receding contact angle? R of the oleic acid in the surface layer satisfy the above formula (1), that is, 15 ° or less, more preferably 12 ° or less, desirable. If the value of the formula (1) is 0 or a positive value, it is preferable that the value be smaller. On the other hand, if the value is larger than 15, the wipeability of the fingerprint is insufficient.

여기서, 상술한 후퇴 접촉각과 전진 접촉각에 대해서 설명한다. 고체 표면의 액체의 접촉각은 원래 열역학적인 양이며, 계가 정해지면 1개의 값을 취한다. 그러나 실제로는 액체가 고체 표면을 움직이는 경우에는, 진행 방향의 접촉각과 반대측(후퇴측)의 접촉각은 동일한 값을 취하지 않는 경우가 많다. 이때의 진행 방법의 접촉각을 전진 접촉각, 반대측의 접촉각을 후퇴 접촉각이라 칭한다. Here, the receding contact angle and the forward contact angle will be described. The contact angle of the liquid on the solid surface is originally a thermodynamic quantity and takes one value when the system is determined. However, in practice, when the liquid moves the solid surface, the contact angle of the advancing direction and the contact angle of the opposite side (retreat side) do not take the same value in many cases. At this time, the contact angle of the traveling method is referred to as a forward contact angle, and the contact angle on the opposite side is referred to as a backward contact angle.

이 전진 접촉각, 후퇴 접촉각의 값에는 몇 가지의 측정 방법에 의한 값이 있지만, 확장-수축법에 의한 값이 바람직하다. 다른 방법으로서 전락각법이 있지만, 이 방법은 전진 접촉각, 후퇴 접촉각의 산출에 액적의 질량을 필요로 하고, 또한 측정의 사정상, 지문 부착시의 유적 사이즈(직경 1 내지 20㎛)에 비해, 큰 유적(수 mm 이상)을 필요로 하기 때문에, 실제의 지문 부착과는 상이한 현상이 관측되어버리기 때문에 적당하지 않다. The value of the advancing contact angle and the retreating contact angle are values by several measuring methods, but the value by the expansion-contraction method is preferable. As another method, there is a tilting angle method. However, this method requires a mass of liquid droplet in the calculation of the advancing contact angle and the receding contact angle, and also requires a large remnant (the diameter is 1 to 20 mu m) (Several millimeters or more), it is not suitable because a phenomenon different from an actual fingerprint attachment is observed.

여기에서는, 확장-수축법에 의한 측정을 설명한다. 확장-수축법에 의한 전진 접촉각의 값은, 표면층 위에 액체(올레산)를 부여해서 액적을 확장할 때, 액적의 접촉각을 연속적으로 복수회 측정하여, 접촉각이 일정해진 지점의 평균값으로 표현된다. 마찬가지로 하여 후퇴 접촉각의 값은, 표면층 위에 액체(올레산)를 부여하여 액체를 서서히 토출해서 액적을 확장한 후, 그 액적을 흡인해서 액적이 수축되는 과정에서, 액적의 접촉각을 연속적으로 복수회 측정하여, 접촉각이 일정해진 지점의 평균값으로 표현된다. 구체적으로, 예를 들어 1 내지 50μL의 사이에서 액체를 토출-흡인(액적을 확장 수축)시키는 경우에 있어서, 전진 접촉각은 액적 토출 시의 1μL부터 50μL까지의 사이, 후퇴 접촉각은 액적 흡인시의 50μL부터 1μL까지의 사이에서, 1μL의 간격으로 측정하여, 액체의 확장, 또는 수축 과정에서 액적의 접촉각이 거의 일정해진 지점의 값을 구함으로써 결정할 수 있다. 확장 수축법에 있어서의 접촉각의 측정은, 예를 들어 Drop Master(교와 가이멘 가가꾸 가부시끼가이샤 제조)를 사용하여 측정할 수 있다. Here, the measurement by the expansion-contraction method will be described. The value of the advancing contact angle by the expansion-contraction method is represented by an average value of a point at which the contact angle is fixed by continuously measuring the contact angle of the liquid droplet plural times when a liquid (oleic acid) is added to the surface layer to expand the liquid droplet. Likewise, the value of the receding contact angle is obtained by continuously applying a liquid (oleic acid) on the surface layer to gradually expand the liquid droplet to expand the liquid droplet, and then sucking the liquid droplet to shrink the liquid droplet, , And the contact angle is expressed as an average value at a predetermined point. Specifically, for example, when the liquid is ejected-sucked (droplet is shrunk) between 1 and 50 μL, the advancing contact angle is between 1 μL and 50 μL at the time of ejecting the droplet, and the receding contact angle is 50 μL To 1 μL at 1 μL intervals and determine the value at which the contact angle of the liquid droplet is almost constant during expansion or contraction of the liquid. The contact angle in the expansion shrinkage method can be measured using, for example, Drop Master (manufactured by Kyowa Chemical Co., Ltd.).

또한, 자기 수복성과 내지문성을 양립하는 관점에서, 본 발명의 적층 필름은, 상기 표면층의 올레산 흡수 계수(Ab)가 30 이상인 것이 바람직하다. From the viewpoint of achieving both self-restoration performance and good weatherability, it is preferable that the oleic acid absorption coefficient (A b ) of the surface layer of the laminated film of the present invention is 30 or more.

이것은, 상술한 후퇴 접촉각(θr)을 높게 함으로 인한 지문 성분의 부착량을 저감할 뿐 아니라, 부착된 지문 성분을 도막 내에 흡수함으로써 표면으로부터 소실시키는 것으로, 그 능력을 나타내는 지표가, 올레산 흡수 계수(Ab)이다. 구체적으로는 올레산을 부착시켰을 때, 부착 직후의 올레산 부착물의 부피 및 부착 면적과, 일정 시간 경과 후의 올레산 부착물의 부피 및 상기 성형 재료의 상기 표면층의 두께로부터 산출되는 것이며, 단위 부피당의 올레산 흡수 계수(Ab)가 30 이상인 것이 바람직하고, 40 이상이 보다 바람직하다. This not only reduces the adherence amount of the fingerprint component due to the above-mentioned height of the receding contact angle r , but also removes the adhered fingerprint component from the surface by absorbing the adhered fingerprint component. The index indicating the ability is an oleic acid absorption coefficient A b ). Specifically, it is calculated from the volume and adhesion area of the oleic acid adherent immediately after adhesion, the volume of the oleic acid adhering after a certain period of time, and the thickness of the surface layer of the molding material, and the oleic acid absorption coefficient per unit volume A b ) is preferably 30 or more, more preferably 40 or more.

한편, 상기 표면층의 올레산 흡수 계수(Ab)란 지문 성분의 흡수성의 관점에서는 높은 것이 바람직하지만, 부착량을 저감시켜, 전체적으로 내지문성을 향상시키는 관점에서는 200 이하인 것이 바람직하다. On the other hand, the oleic acid absorption coefficient (A b ) of the surface layer is preferably high in view of the water absorbency of the fingerprint component, but is preferably 200 or less from the viewpoint of reducing the adhesion amount and enhancing the overall feeling.

올레산 흡수 계수(Ab)의 구체적인 측정 방법은, 두께(T)의 상기 표면층에 올레산을 약 2μl 적하하여, 시린지로부터의 토출 시의 액적 형상으로부터 구한 부피(V1), 착적 시의 착적부의 면적(S1), 25℃, 무풍 상태에서 10시간 유지 후의 부피(V2)로부터, 이하의 식 (2)에 의해 구해지는 무차원량을 가리킨다. A specific measuring method of the oleic acid absorption coefficient (A b ) is a method of dropping about 2 μl of oleic acid into the surface layer of the thickness (T), measuring the volume (V 1 ) obtained from the droplet shape at the time of discharging from the syringe, Refers to a dimensionless amount obtained by the following formula (2) from the area (S 1 ), the volume (V 2 ) after holding at 25 ° C for 10 hours in a no-wind condition.

Ab=(V1-V2)/(S1×T) 식 (2) A b = (V 1 -V 2 ) / (S 1 × T) (2)

여기서,V1, V2, S1에는 몇 가지의 측정 방법이 있는데, 예를 들어 교와 가이멘 가가꾸 가부시끼가이샤의 접촉각 측정 장치 DM500, 및 동사 해석 소프트 DropMaster에 의해 측정할 수 있다. 측정의 자세한 수순에 대해서는 후술한다. 또한 상기 표면층의 두께(T)의 측정 방법에 대해서도 후술한다. Here, there are several measurement methods for V 1 , V 2 , and S 1. For example, the measurement can be performed by a contact angle measuring apparatus DM500 and a simulation analysis software DropMaster by Kyowa Kaimagawa Kagaku Kabushiki Kaisha. Details of the measurement will be described later. A method of measuring the thickness (T) of the surface layer will also be described later.

또한, 이러한 특성을 발현하는 표면층은, 최표면에 발유 재료와 친유 재료 양쪽이 특정한 형태로 존재하는 것이 바람직하다. 보다 구체적으로는 상기 표면층의 비행시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 측정되는, 불소에서 유래하는 F- 프래그먼트 이온(M/Z=19)이 면내에 「균일하게 존재」하고, 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온(M/Z=43)이 「섬 형상으로 존재」, 「그물눈 형상으로 존재」 또는 「섬 형상 및 그물눈 형상으로 존재」하는 것이 바람직하고, 또한 F- 프래그먼트 이온이 면내에 「균일하게 존재하고」, 또한 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온이, 「섬 형상 및 그물눈 형상으로 존재」하는 것이 보다 바람직하다. In addition, it is preferable that the surface layer expressing such characteristics exists in a specific form in both the oil-repellent material and the lipophilic material on the outermost surface. More specifically, F - fragment ions (M / Z = 19) derived from fluorine, which is measured by a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS) It is preferable that Si (CH 3 ) + fragment ions (M / Z = 43) derived from dimethylsiloxane exist in an island shape, exist in a net shape or exist in an island shape and a net shape, It is more preferable that the F - fragment ion is &quot; uniformly present &quot; in the plane and the Si (CH 3 ) + fragment ion exists in the island shape and mesh shape.

이것은, 본 발명의 표면층이, 지문 성분의 부착량을 최대한 적게, 또한 부착된 지문 성분을 도막 내에 흡수함으로써 표면으로부터 소실시키는 특성을 발현하기 위해서는, 표면층의 최표면이 불소를 포함하는 화합물에 의해 면내가 균일하게 피복됨으로써 높은 발유성을 나타냄으로써, 지문 성분의 부착량을 저감하는 동시에, 친유적인 디메틸실록산을 포함하는 화합물이 미세한 섬 형상, 또는 그물눈 형상으로 존재함으로써, 약간 표면 부착된 지문 성분이, 표면에 존재하는 섬 형상, 또는 그물눈 형상의 친유적인 부분을 통해서 최표면 및 표면층 내로 확산하고, 그 결과, 지문 오염이 소실된다고 생각하고 있다. 또한, 비행시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의한 표면층의 최표면의 측정 방법에 대해서는, 실시예의 항에서 설명한다. This is because, in order for the surface layer of the present invention to exhibit the property of minimizing the adherence amount of the fingerprint component and absorbing the attached fingerprint component from the surface by absorbing the adhered fingerprint component into the coating film, The amount of adhesion of the fingerprint component is reduced and the compound containing the dimethylsiloxane as a hydrophilic residue is present in a fine island shape or a net shape, It is thought that the fingerprint is diffused into the surface and the surface layer through a lipophilic portion existing in an island shape or a net shape present in the fingerprint image. A method for measuring the outermost surface layer of the surface layer by the time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS) will be described in the section of the embodiment.

또한, 상기 「균일하게 존재」란, 비행시간형 2차 이온 질량 분석계로, 100㎛×100㎛의 범위를 세로 128점×가로 128점으로 측정한 전체 측정점에 있어서의 2차 이온 강도의 변동 계수가 0.4 이내인 것을 가리킨다. The term &quot; uniformly present &quot; as used herein refers to a variation coefficient of the secondary ion intensity at the entire measurement point measured by a flight time type secondary ion mass spectrometer in a range of 100 μm × 100 μm at a height of 128 points × width of 128 points Is within 0.4.

「섬 형상으로 존재」란, 도 2에 도시한 바와 같이, 측정을 행한 측정점의 Si(CH3)+의 2차 이온 강도를 도시했을 때, 최대 강도의 20%에 상당하는 경계값에 미치지 않는 부분으로 둘레가 둘러싸여 있는(도면의 외주에 걸리는 것은 제외함) 것을 가리킨다. 또한 경계값의 상세에 대해서는 후술한다. 또한 섬의 크기의 상한은, 현실적으로는 비행시간형 2차 이온 질량 분석계에 의한 측정 범위 내에 수용되는 것이 조건으로 되고, 상술한 측정 조건에서는, 그 외접원의 직경이 50㎛ 이하인 것을 섬으로 한다. 한편, 크기의 하한은 상기 조건에 의해 구분할 수 있으면 특별히 없지만, 실제로는 측정기의 공간 분해능에 의존하며, 상술한 측정 조건에 있어서는 0.8㎛ 정도로 시사된다. As shown in Fig. 2, when the secondary ion intensity of the measurement point Si (CH 3 ) + is plotted, the "existence in island shape" means that the secondary ion intensity of the measurement point does not reach the boundary value corresponding to 20% (Except that it is caught on the outer periphery of the drawing). Details of the boundary values will be described later. In reality, the upper limit of the size of the islands is assumed to be accommodated within the measurement range by the flying time type secondary ion mass spectrometer. Under the measurement conditions described above, the islands having a diameter of 50 탆 or less are considered as islands. On the other hand, the lower limit of the size is not particularly limited as long as it can be distinguished by the above conditions, but it actually depends on the spatial resolution of the measuring apparatus, and is about 0.8 mu m in the above-described measurement conditions.

「그물눈 형상으로 존재」란, 도 3에 도시한 바와 같이, Si(CH3)+ 프래그먼트의 2차 이온 강도를 도시했을 때, 상술한 경계값 미만의 영역이 섬 형상으로 존재하고 있는 것을 가리킨다. As shown in FIG. 3, when the secondary ion intensity of the Si (CH 3 ) + fragment is shown, the region existing below the above-mentioned boundary value exists in an island shape.

「섬 형상 및 그물눈 형상으로 존재」란, 도 4에 도시한 바와 같이 Si(CH3)+ 프래그먼트의 2차 이온 강도를 도시했을 때, 측정 범위 내에 상기 섬 형상으로 존재하는 영역과 그물눈 형상으로 존재하는 영역이 모두 존재하고 있는 것을 가리킨다. Si(CH3)+ 프래그먼트 이온의 존재 형태로서는, 「섬 형상 및 그물눈 형상으로 존재」하는 것이 보다 바람직한데, 이것은 「섬 형상으로 존재」하는 경우와 비교하면, 지문 오염의 표면층 최표면에서의 면 방향으로의 확산성이 우수하고, 「그물눈 형상으로 존재」하는 경우와 비교하면, 지문 오염의 부착량을 저감시키는 능력이 우수하기 때문이라고 생각된다. "Present in an island shape and the mesh shape" means, when it shows a secondary ion intensity of Si (CH 3) + fragment 4, present in an area and the mesh shape is present in the island-like in the measuring range Indicates that all of the areas are present. It is more preferable that the presence of the Si (CH 3 ) + fragment ion exists in the form of islands and meshes. This is because, compared with the case of "exists in an island shape" Direction, and is superior in the capability of reducing the adhesion amount of the fingerprint contamination as compared with the case of "present in a net shape".

또한, 상기 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온이 존재하는 영역의 점유율이 30% 이상 70% 이하인 것이 바람직하고, 30% 이상 50% 이하가 보다 바람직하고, 30% 이상 40% 이하가 특히 바람직하다. 여기서, 점유율이란, 전체 측정점 중, Si(CH3)+ 프래그먼트 이온이 경계값 이상 존재하는 점의 비율을 가리킨다. 점유율의 산출 방법에 대해서는 실시예의 항에서 설명하는데, 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온이 존재하는 영역(환언하면, 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온이 존재하는 부분)이 차지하는 비율이 30% 보다 적으면, 부착된 지문 성분을 도막 내에 흡수하는 능력이 불충분하여, 지문 오염의 소실성이 저하되는 경우가 있고, 70%를 초과하면, 지문 오염의 부착량을 저감시키는 능력이 저하되는 경우가 있다. The occupancy of the region in which Si (CH 3 ) + fragment ions derived from the dimethylsiloxane is present is preferably 30% or more and 70% or less, more preferably 30% or more and 50% or less, more preferably 30% or more and 40% Is particularly preferable. Here, the occupancy rate refers to a ratio of a point where Si (CH 3 ) + fragment ions are present in a boundary value or more among all the measurement points. To describe in further embodiment for the method of calculating the share, when the Si (CH 3) + region of the fragment ions are present (in other words derived from dimethyl siloxane, which is Si (CH 3) + fragment ions derived from dimethylsiloxane present Is less than 30%, the ability to absorb the attached fingerprint component into the coating film is insufficient, and the disappearance of fingerprint contamination may be lowered. On the other hand, when the ratio exceeds 70%, the adhesion amount of fingerprint contamination is reduced May be deteriorated.

뿐만 아니라, 「맵핑 도」(Si(CH3)+ 프래그먼트의 2차 이온 강도를 도시한 도면(예를 들어 도 2나 도 3))의 변 방향에 수직 또는 평행한 임의의 일직선상에 분포하는, Si(CH3)+ 프래그먼트 이온이 존재하는 선분의 길이는, 각각 30㎛ 이하로 분할되어 있는 것이 바람직하고, 20㎛ 이하가 보다 바람직하다. 상기의 값을 상회하는 경우에는, 지문 오염의 부착량을 저감시키는 능력이 저하되는 경우가 있다. 한편 동일한 직선상에서 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온이 경계값에 미치지 못하는 선분의 길이는 각각 50㎛ 이하로 분할되어 있는 것이 바람직하고, 30㎛ 이하가 보다 바람직하다. 상기의 값을 상회하는 경우에는, 부착된 지문 성분을 도막 내에 흡수하는 능력이 불충분해서, 지문 오염의 소실성이 저하되는 경우가 있다. 또한 상기 길이의 하한에 대해서는, 상기 조건에 의해 구분할 수 있으면 특별히 없지만, 실제로는 측정기의 공간 분해능에 의존하며, 상술한 측정 조건에서는 0.8㎛ 정도로 시사된다. In addition, it is also possible to use a distribution map that is distributed on any straight line perpendicular or parallel to the direction of the sides of the diagram (for example, Figs. 2 and 3) showing the secondary ion intensity of the &quot; mapping diagram &quot; (Si (CH 3 ) , And Si (CH 3 ) + fragment ions are each preferably divided into 30 탆 or less, more preferably 20 탆 or less. If the value exceeds the above value, the ability to reduce the adhesion amount of fingerprint contamination may be lowered. On the other hand, the lengths of the line segments in which the Si (CH 3 ) + fragment ions do not reach the boundary value on the same straight line are preferably divided into 50 탆 or less, more preferably 30 탆 or less. If it exceeds the above value, the ability to absorb the attached fingerprint component into the coating film is insufficient, and the disappearance of the fingerprint contamination may be lowered in some cases. Further, the lower limit of the length is not particularly limited if it can be classified by the above conditions, but it actually depends on the spatial resolution of the measuring instrument, and is estimated to be about 0.8 mu m in the above-described measurement conditions.

한편, 본 발명의 과제를 해결하기 위해서는, 상술한 표면층의 역학적이나 표면 과학적인 물성 외에, 표면층에 이하에 나타내는 특정 조건에서 실제의 지문 조성에 가까운 모의 지문을 일정 조건 하에서 부착시켰을 때의 광학적인 특성으로서, 모의 지문의 부착 전후의 정반사광포함의 색차와 정반사광제거의 색차가 특정한 범위인 것이 바람직하다. On the other hand, in order to solve the problems of the present invention, in addition to the mechanical and surface scientific properties of the surface layer described above, the optical characteristics when the simulated fingerprints close to the actual fingerprint composition are adhered to the surface layer under certain conditions under the following specific conditions , It is preferable that the color difference including regularly reflected light before and after attachment of the simulated fingerprint and the color difference of regularly reflected light removal are within a specific range.

여기서 「정반사광포함의 색차」란, JIS Z8722(2009년)에 기재된, 「기하 조건(c)에서 시료로부터의 경면 반사가 되는 성분을 포함하는 조건」에서 측정된 색차를 가리키고, 「정반사광제거의 색차」란, 기하 조건(c)에서 시료로부터의 경면 반사가 되는 성분을 제외한 조건」에서 측정된 색차를 가리킨다. Here, the "color difference including regularly reflected light" refers to a color difference measured in "a condition including a component that becomes specular reflection from a specimen in geometric condition (c)" described in JIS Z8722 (2009) Refers to a chrominance difference measured in a condition except for a component that becomes mirror-surface reflection from the sample under the geometric condition (c).

구체적으로는, 모의 지문 부착 전후의 색차이며, JIS Z8730(2009년) 및 JIS Z8722(2009년)에서 규정하는 정반사광포함의 색차(ΔE* ab(di:8°) Sb10W10)는 0.4 이하가 바람직하고, 0.2 이하가 보다 바람직하고, 0.1 이하가 특히 바람직하다. 모의 지문 부착 전후의 색차이므로, 작을수록 바람직하지만, 동일한 조건으로 부착시킨 경우, 재료의 한계와 측정 방법의 한계로부터 0.01 정도가 하한이다. 또한, 모의 지문 부착 전후의 색차이며, JIS Z8730(2009년) 및 JIS Z8722(2009년)에서 규정하는 정반사광제거의 색차(ΔE* ab(de:8°) Sb10W10)는 4 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하고, 2 이하가 특히 바람직하다. 모의 지문 부착 전후의 색차이므로, 작을수록 바람직하지만, 동일한 조건으로 부착시킨 경우, 재료의 한계와 측정 방법의 한계로부터 0.05 정도가 하한이다. 모의 지문 부착 전후의 정반사광포함의 색차와 모의 지문 부착 전후의 정반사광제거의 색차가 각각 0.4와 4를 초과하면, 지문 부착 흔적이 명확하게 시인되게 되는 경우가 있다. 구체적인 모의 지문 전사의 수순에 대해서는 이하와 같다. Concretely, the color difference (? E * ab (di: 8 °) Sb10W10) including the regularly reflected light specified by JIS Z8730 (2009) and JIS Z8722 , More preferably 0.2 or less, and particularly preferably 0.1 or less. Since it is a color difference before and after a simulated fingerprint, it is preferable that the color difference is small, but when it is adhered under the same conditions, the lower limit is about 0.01 from the limit of the material and the limit of the measurement method. The chrominance difference (ΔE * ab (de: 8 °) Sb10W10) of the regularly reflected light removal specified in JIS Z8730 (2009) and JIS Z8722 (2009) is preferably 4 or less, More preferably 3 or less, and particularly preferably 2 or less. Since it is a color difference before and after a simulated fingerprint, it is preferable that the color difference is small, but when it is adhered under the same conditions, the lower limit is about 0.05 from the limit of the material and the limit of the measurement method. If the color difference of the regular reflection light before and after the simulated fingerprint attachment and the color difference of the regular reflection light removal before and after the simulated fingerprint attachment are 0.4 and 4 respectively, the fingerprint attachment trace may be clearly recognized. The procedure of the specific simulated fingerprint transfer is as follows.

모의 지문 부착 조건: 올레산 70질량%와 수 평균 입자 직경 2㎛의 실리카 30질량%를 포함하는 분산물을, JIS B0601(2001년)에서 규정하는 Ra가 3㎛이고, JIS K6253(1997년)에서 규정하는 고무 경도 50의 실리콘 고무에 1.0g/m2 부착시키고, 이것을 대상으로 하는 면에 30kPa로 부착시킨다. Simulated fingerprint attachment conditions: A dispersion containing 70% by mass of oleic acid and 30% by mass of silica having a number average particle diameter of 2 占 퐉 was prepared in the same manner as described in JIS K6253 (1997) with a Ra of 3 占 퐉 as defined in JIS B0601 1.0 g / m &lt; 2 &gt; is attached to a specified silicone rubber having a rubber hardness of 50, and this is attached to the surface to be treated at 30 kPa.

또한, 본 발명의 성형 재료는, 모의 지문의 부착 전, 부착 직후의 정반사광포함의 색차와 정반사광제거의 색차를 특정한 값 이하로 하고, 또한 색차의 경시 감소량을 특정한 값 이상으로 하는 것이 바람직하다. 이것은, 상술한 지문 성분을 표면층이 흡수함으로써 소실되는 효과와 대응한다. 구체적으로는 이하와 같다. In the molding material of the present invention, it is preferable that the color difference including the regularly reflected light and the regularly reflected light removed before and after the attachment of the simulated fingerprint is set to a specific value or less, and the amount of decrease in the chromatic aberration over time is set to a specific value or more . This corresponds to the effect that the surface layer absorbs the fingerprint component as described above. Specifically, it is as follows.

먼저, 모의 지문 부착 전과 부착 직후의 정반사광포함의 색차와 정반사광제거의 색차에 대해서, 이하의 식 (5)로 표현되는 파라미터 K0 .5는 3 이하가 바람직하고, 2 이하가 보다 바람직하다. 3을 초과하면 지문 부착 흔적이 시인되기 쉽고, 또한 충분한 상기 부착 지문의 침투 효과를 얻는 것이 곤란해지는 경우가 있다. First, with respect to the color difference of the simulated fingerprint adhesion before and regularly reflected light including the color difference and the regularly reflected light of the removal of the adhesion immediately after, the parameter K 0 .5 represented by the following formula (5) is more preferable than the preferred, more than 23 . If the value is more than 3, a trace of fingerprint attachment tends to be visible, and it may be difficult to obtain sufficient penetration effect of the above-mentioned fingerprint.

K0 .5=[(ΔESCI -0.5)2+(ΔESCE -0.5)2]1/2 식 (5) K 0 .5 = [(ΔE SCI -0.5) 2 + (ΔE SCE -0.5) 2] 1/2 Equation (5)

여기서, 상기 ΔESCI -0.5는, 모의 지문 부착 전후의 색차이며, JIS Z8730(2009) 및 JIS Z8722(2009)에서 규정되는 정반사광포함의 색차(ΔE* ab(di:8°) Sb10W10)를 가리키고, ΔESCE -0.5는, 모의 지문 부착 전후의 색차이며, 정반사광제거의 색차(ΔE* ab(de:8°) Sb10W10)를 가리킨다. Here, the ΔE SCI -0.5 indicates the color difference before and after attachment of the simulated fingerprint, and indicates the color difference (ΔE * ab (di: 8 °) Sb10W10) including regularly reflected light specified by JIS Z8730 (2009) and JIS Z8722 , And ΔE SCE -0.5 are the color differences before and after attachment of the simulated fingerprint, and indicate the color difference (ΔE * ab (de: 8 °) Sb10W10) of regularly reflected light removal.

ΔE* ab(di:8°) Sb10W10과 ΔE* ab(de:8°) Sb10W10은, 등가인 차원을 갖는 물리량이며, 각각의 값을 축으로 한 2차원 좌표계에 있어서 원점으로부터의 거리에 상당하는 파라미터 K0 .5를 작게 하는 것이 모의 지문 부착 전후의 지문의 시인성을 저하시키는 것에 상당한다. 또한 파라미터 K0 .5는 작을수록 지문 부착 방지성이 우수하다고 할 수 있지만, 본 발명이 과제로 하는 높은 광택감과 투명감을 갖는 재료에 있어서, 후술하는 지문의 경시 변화 효과를 인식하기 위해서는 1을 초과하는 것이 현실적이다. ? E * ab (di: 8?) Sb10W10 and? E * ab (de: 8 °) Sb10W10 are physical quantities having equivalent dimensions and correspond to distances from the origin in a two- to reduce the parameter K 0 .5 corresponds to reducing the visibility of fingerprints before and after simulated fingerprint adhesion. Also it may be said that the smaller is the parameter K 0 .5 excellent in anti-fingerprint adhesion, in the material of this invention having a high gloss and clarity to a problem, in order to recognize the change with time exceeds the effect of which will be described later prints 1 It is realistic to do.

또한, 상기 모의 지문 부착 직후란, 후술하는 모의 지문의 부착 방법에 의해 성형 재료 표면에 모의 지문을 부착하고 나서 30분 후를 가리킨다. Immediately after the above-mentioned simulated fingerprint attachment means 30 minutes after the simulated fingerprint is attached to the surface of the molding material by the following method of attaching the simulated fingerprint.

또한, 상술한 모의 지문 부착 전후의 색차의 경시 감소량은, 즉 이하의 식 (4)의 좌변의 값이, 1 이상인 것이 바람직하고, 1.2 이상이 보다 바람직하다. 이하의 식 (4)의 좌변의 값이 1을 하회하면, 지문 오염의 소실감을 얻는 것이 곤란해지는 경우가 있다. In addition, the amount of decrease in the chronological decline of the color difference before and after the above-mentioned simulated fingerprint attachment, that is, the value of the left side of the following formula (4) is preferably 1 or more, and more preferably 1.2 or more. If the value of the left side of the following formula (4) is less than 1, it may be difficult to obtain a loss of fingerprint contamination.

K0 .5-K10≥1 식 (4) K 0 .5 -K 10? 1 Equation (4)

여기서, 식 (4) 중의 K0 .5는 상술한 바와 같으며, K10은 이하의 식 (6)으로 표현된다. K 0 .5, where in the formula (4) is as described above, K 10 is expressed by equation (6) below.

K10=[(ΔESCI -10)2+(ΔESCE -10)2]1/2 식 (6) K 10 = [(ΔE SCI -10 ) 2 + (ΔE SCE -10 ) 2 ] 1/2 (6)

여기서 식 (6) 중의 ΔESCI -10은, 모의 지문 부착 전과, 모의 지문 부착 후에 25℃, 무풍 상태 하에서 10시간 정치한 후의 색차이며, JIS Z8730(2009) 및 JISZ8722(2009)에서 규정되는 정반사광포함의 색차(ΔE* ab(di:8°) Sb10W10)를 가리키고, ΔESCE -2는, 동일한 샘플의 정반사광제거의 색차(ΔE* ab(de:8°) Sb10W10)를 가리킨다. The ΔE SCI- 10 in the equation (6) is the color difference after standing for 10 hours under the condition of 25 ° C. and no wind for 10 minutes before the simulated fingerprint is attached and after the simulated fingerprint is attached, and is the regular reflection light specified by JIS Z8730 (2009) and JISZ8722 point to: (8 °) Sb10W10 ΔE * ab (di), ΔE SCE -2 , the color difference of the regular reflection of the removal of the same color difference samples including: refers to a (ΔE * ab (de 8 ° ) Sb10W10).

이러한 특성을 나타내는 표면층은, 지문 성분이 부착되었을 때 형성하는 유적이 특징적인 형상 및 경시에서의 거동을 나타낸다. 하나는 본 발명의 성형 재료 위의 상기 모의 지문을 구성하는 유적의 크기는 작게 되어 있는 것이 바람직하다. 이것은 상기 성형 재료에 있어서 표면의 유적 부착 부분이 차지하는 면적이 증가할수록 지문의 시인성이 증가하므로, 유적의 상기 성형 재료 표면 방향으로의 투영상을 사용하여, 유적 직경의 빈도 분포에 그 면적에 따른 가중치 부여를 행한 면적 기준 빈도 분포로 유적의 형상을 평가할 수 있다. 상기 면적 기준 빈도 분포에 있어서, 그 누적 빈도가 전체의 N%가 되는 직경을 DN이라 표기한다. 이 중 N이 50인 직경을 특히 메디안 직경(이하, DP)이라 칭한다. 본 발명에 있어서는, 상기 모의 지문 부착 직후의 유적 면적 기준 빈도 분포로부터 산출되는 메디안 직경(DP0 .5)이 80㎛ 이하인 것을 바람직하고, 70㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 50㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다. 이 값을 벗어나면, 유적에 의한 광의 산란으로부터 지문이 시인되기 쉬워지는 경우가 있다. DP0 .5는 그 값이 작을수록 지문이 잘 보이지 않게 되기 때문에, 지문을 보기 어렵게 한다는 관점에서는 특별히 하한값은 존재하지 않지만, 한편 수 100nm 이하가 되면, 표면 자유 에너지에 의해 유적이 응집되거나, 또는 휘발되기 때문에, 현실적으로 100nm 이하의 액적은 존재하지 않는다. The surface layer exhibiting such characteristics shows the characteristic shape and the behavior at a time when the fingerprint component is attached. One is preferable that the size of the remains constituting the simulated fingerprint on the molding material of the present invention is small. This is because the visibility of the fingerprint is increased as the area occupied by the portion of the surface of the molding material on the surface of the molding material increases. Therefore, by using the projection of the surface of the molding material in the direction of the surface of the molding material, The shape of the ruins can be evaluated with the distribution of the area reference frequency that has been applied. In the area reference frequency distribution, the diameter at which the cumulative frequency becomes N% of the whole is denoted by D N. Among them, the diameter of N = 50 is particularly called the median diameter (hereinafter referred to as D P ). In the present invention, it preferred that the median diameter (D P0 .5) calculated from the area-based frequency distribution remains immediately after the simulated fingerprint adhesion 80㎛ or less, and more preferably not more than 70㎛, particularly preferably not more than 50㎛ . If this value is exceeded, the fingerprint may be easily visible from scattering of light due to the ruins. .5 D P0 is because no visible fingerprints The smaller the value, the lower limit value does not exist, but is particularly difficult in the point of view of view of a fingerprint, while when the number is less than 100nm, the surface remains or agglomeration by the free energy, or Volatilizing, the liquid droplet of 100 nm or less is practically absent.

또한, 상기 모의 지문 부착 후, 25℃, 무풍 상태 하에서 10시간 정치한 동 재료 표면의 면적 기준 빈도 분포로부터 산출되는 유적의 메디안 직경을 DP10이라 했을 때, 메디안 직경의 시간 변화를 모의 지문 부착 직후의 메디안 직경(DP0 .5)으로 규격화한 값, (DP0 .5-DP10)/DP0 .5에는 바람직한 값이 존재한다. 구체적으로는, 이 값이 0.5 이상인 것이 바람직하고, 0.6 이상이 특히 바람직하다. 이 값이 0.5보다 작으면, 시간이 경과한 후에도 지문이 시인되는 상태 그대로 남게 되는 경우가 있다. 또한, 상술과 마찬가지로 모의 지문을 일정 조건 하에서 부착, 계속해서 닦아내기를 행하여, 부착 전, 닦아내기 후의 반사 색을 정반사광포함과 정반사광제거의 2개의 방법으로 측정하고, 부착 전의 상태를 기준으로 한 닦아내기 후의 색차가, 상술한 식 (9)를 만족하는 것이, 지문 닦아냄성의 면에서 바람직하다. 이것은, 인간의 눈이 지문, 또는 지문에 기인하는 오염을 광택감의 변화와 색감의 변화에 의해 인식하고 있다는 점에 착안하여, 광택감의 변화를 정반사광포함의 색차로, 색감의 변화를 정반사광제거의 색차로 평가하고, 이들 값을 통합한 식 (9)를 만족하는 범위에서는 지문을 시인하기 어려워지는 것을 알아냈기 때문이다. Further, after the simulated fingerprint attachment, 25 ℃, no wind, when as a 10-hour median size of the remains to be calculated from the area-based frequency distribution of a copper material surfaces value under the condition D P10, median diameter immediately after the fingerprint for the change-in-time simulation attachment the median size normalized value to (D P0 .5), (D P0 .5 -D P10) / D P0 .5 , there is a preferred value. Specifically, this value is preferably 0.5 or more, and particularly preferably 0.6 or more. If this value is less than 0.5, the fingerprint may remain in a state in which the fingerprint remains visible even after a lapse of time. In addition, the simulated fingerprints were attached and then wiped off in a similar manner as described above, and the reflection color before and after attachment was measured by two methods of regular reflection light removal and regular reflection light removal, It is preferable that the color difference after wiping satisfies the above-mentioned formula (9) in terms of fingerprint wipe. This is based on the fact that the human eye recognizes the contamination caused by the fingerprint or the fingerprint by the change of the glossiness and the change of the color and the change of the glossiness is corrected by the color difference including the regular reflection light, , And it is found that it becomes difficult to recognize the fingerprint in a range that satisfies Expression (9) in which these values are integrated.

구체적으로는, 상기 표면층에 다음의 조건 하에서 모의 지문 부착 및 모의 지문 닦아내기 시험을 행하고, JIS Z8730(2009년) 및 JIS Z8722(2009년)에 따라서 구한 모의 지문 부착 전의 상태를 기준으로 한 모의 지문 닦아내기 시험 후의 정반사광포함의 색차(ΔE* ab(di:8°) Sb10W10)=ΔESCI -2와 모의 지문 부착 전의 상태를 기준으로 한 모의 지문 닦아내기 시험 후의 정반사광제거의 색차(ΔE* ab(de:8°) Sb10W10)=ΔESCE-2는 다음의 식 (9)를 만족하는 것, 즉 식 (9)의 좌변이 2.0 이하인 것이 바람직하고, 1.7 이하가 보다 바람직하고, 1.5 이하가 특히 바람직하다. 식 (9)의 좌변의 값은 0 또는 양의 값이라면 작은 것에는 문제없으며, 한편 이 값이 2.0보다도 커지면, 지문의 닦아냄성이 불충분해서, 결과적으로 내지문성이 저하되는 경우가 있다. Specifically, the simulated fingerprint attachment and the simulated fingerprint wiping test are performed on the surface layer under the following conditions, and the simulated fingerprint based on the state before the simulated fingerprint is obtained in accordance with JIS Z8730 (2009) and JIS Z8722 (2009) wipe the color difference of the regularly reflected light after the test include: color difference (ΔE * ab (di 8 ° ) Sb10W10) = ΔE SCI -2 and simulated wiping simulating fingerprint with fingerprints attached relative to the state prior to the regularly reflected light removal after the test (ΔE * ab (de: 8 °) to satisfy the Sb10W10) = ΔE SCE-2 has the following formula (9), that is, the formula (9), the left side is larger than 2.0 is preferable, and 1.7 to less are more preferred 1.5 or less in the Particularly preferred. If the value of the left side of the equation (9) is 0 or a positive value, there is no problem to be small. On the other hand, if this value is larger than 2.0, the wipeability of the fingerprint is insufficient.

((ΔESCI -2)2+(ΔESCE -2)2)1/2≤2.0 식 (9) (? E SCI -2 ) 2 + (? E SCE -2 ) 2 ? 1/2? 2.0 Equation (9)

여기서, 모의 지문 부착 조건은 상술한 바와 같으며, 모의 지문 닦아내기 시험의 조건은 이하와 같다. Here, the simulated fingerprint attachment condition is as described above, and the conditions of the simulated fingerprint wipe test are as follows.

·모의 지문 닦아내기 조건: 상기 조건으로 부착한 모의 지문을 부직포로 30kPa의 압력, 5cm/초의 속도로 3회 문지른다.- Simulated fingerprint wiping condition: The simulated fingerprint attached with the above conditions is rubbed with nonwoven fabric three times at a pressure of 30 kPa and a speed of 5 cm / sec.

또한, 상기 역학적, 표면 과학적, 광학적인 특성 외에, 본 발명의 적층 필름의 표면층에 포함되는 수지가 이하의 (1) 내지 (3)을 갖고 있는 것이 바람직하다. In addition to the above mechanical, surface scientific and optical characteristics, it is preferable that the resin contained in the surface layer of the laminated film of the present invention has the following (1) to (3).

(1) (폴리)카프로락톤 세그먼트, (1) a (poly) caprolactone segment,

(2) 우레탄 결합, (2) a urethane bond,

(3) 플루오로알킬기, 플루오로옥시알킬기, 플루오로알케닐기, 플루오로알칸디일기 및 플루오로옥시알칸디일기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 세그먼트(이후, 불소 화합물 세그먼트라 함). 여기서 수지란 고분자 화합물로 이루어지는 물질을 가리키고, 그 범위는 중합체부터 올리고머까지의 범위를 포함한다. (3) a segment containing at least one selected from the group consisting of a fluoroalkyl group, a fluorooxyalkyl group, a fluoroalkenyl group, a fluoroalkanediyl group and a fluorooxyalkanediyl group (hereinafter referred to as a fluorine compound segment). Here, the term &quot; resin &quot; refers to a substance comprising a polymer compound, and the range includes a range from a polymer to an oligomer.

상기 (1) (폴리)카프로락톤 세그먼트는 화학식 1로 나타내는 세그먼트를 가리키고, 상기 (2) 우레탄 결합은 화학식 2로 나타내는 결합을 가리킨다. 또한 화학식 1에서 n은 1 내지 35의 정수이다. The (1) (poly) caprolactone segment indicates the segment represented by the formula (1), and the (2) urethane bond indicates the bond represented by the formula (2). And n is an integer of 1 to 35 in the general formula (1).

Figure pct00001
Figure pct00001

Figure pct00002
Figure pct00002

상기 (1) (폴리)카프로락톤 세그먼트, (2) 우레탄 결합, (3) 불소 화합물 세그먼트의 상세에 대해서는 후술하는데, (1)은 자기 수복성을 높이는 기능을 갖고, (2)는 표면층의 강인성을 향상시킴과 함께 자기 수복성을 높이는 기능을 갖고, (3)은 표면 에너지를 저하시킴으로써, 지문을 구성하는 액체의 접촉각을 상승시켜서 부착량을 저감시키는 것이다. Details of the above (1) (poly) caprolactone segment, (2) urethane bond and (3) fluorine compound segment will be described later. (1) has a function of enhancing self- (3) reduces the surface energy, thereby raising the contact angle of the liquid constituting the fingerprint to reduce the adhesion amount.

더욱 바람직하게는 상기 불소 화합물 세그먼트가 플루오로폴리에테르 세그먼트이다. 상기 플루오로폴리에테르 세그먼트란, 플루오로알킬기, 옥시플루오로알킬기, 옥시플루오로알칸디일기 등을 포함하는 세그먼트이며, 화학식 3, 4로 대표되는 구조이다. More preferably, the fluorine compound segment is a fluoropolyether segment. The fluoropolyether segment is a segment including a fluoroalkyl group, an oxyfluoroalkyl group, an oxyfluoroalkanediyl group and the like, and is a structure represented by the following formulas (3) and (4).

Figure pct00003
Figure pct00003

Figure pct00004
Figure pct00004

여기서, n1은 1 내지 3의 정수, n2 내지 n5는 1 또는 2의 정수, k, m, p, s는 0 이상의 정수이고 또한 p+s는 1 이상이다. 바람직하게는, n1은 2 이상, n2 내지 n5는 1 또는 2의 정수이며, 보다 바람직하게는, n1은 3, n2와 n4는 2, n3과 n5는 1 또는 2의 정수이다. Here, n1 is an integer of 1 to 3, n2 to n5 are integers of 1 or 2, k, m, p, s are integers of 0 or more, and p + s is 1 or more. Preferably, n1 is an integer of 2 or more, and n2 to n5 are integers of 1 or 2, more preferably n1 is 3, n2 and n4 are 2, and n3 and n5 are integers of 1 or 2.

상기 플루오로폴리에테르 세그먼트의 상세에 대해서는 후술하는데, 표면층이 이것을 포함함으로써 최표면에 저표면 에너지를 나타내는 분자를 고밀도로 존재시킬 수 있다. The details of the fluoropolyether segment will be described later, and the surface layer contains the fluoropolyether segment so that molecules exhibiting low surface energy on the outermost surface can be present at a high density.

이 플루오로폴리에테르 세그먼트의 쇄 길이에는 바람직한 범위가 있어, 탄소수가, 4 이상 12 이하가 바람직하고, 4 이상 10 이하가 보다 바람직하고, 6 이상 8 이하가 특히 바람직하다. 탄소수가, 3 이하이면 표면 에너지가 충분히 저하되지 않기 때문에 발유성이 저하되는 경우가 있고, 13 이상이면 용매에의 용해성이 저하되기 때문에, 표면층의 품위가 저하되는 경우가 있다. The chain length of the fluoropolyether segment has a preferable range, and the number of carbon atoms is preferably 4 or more and 12 or less, more preferably 4 or more and 10 or less, and particularly preferably 6 or more and 8 or less. When the number of carbon atoms is 3 or less, the surface energy is not sufficiently lowered, and the oil repellency is sometimes lowered. When the number of carbon atoms is 13 or more, the solubility in a solvent is lowered.

또한, 본 발명의 적층 필름의 표면층에 포함되는 수지는 (4) (폴리)실록산 세그먼트 및/또는 폴리디메틸실록산 세그먼트를 갖고 있는 것이 바람직하다. 상기 (폴리)실록산 세그먼트란, 화학식 5로 나타내는 세그먼트를 가리킨다. 상기 (폴리)디메틸실록산 세그먼트란, 화학식 6으로 나타나는 세그먼트를 가리킨다. The resin contained in the surface layer of the laminated film of the present invention preferably has (4) a (poly) siloxane segment and / or a polydimethylsiloxane segment. The (poly) siloxane segment refers to a segment represented by the general formula (5). The (poly) dimethylsiloxane segment refers to a segment represented by the formula (6).

Figure pct00005
Figure pct00005

R1은, OH 또는 탄소수 1 내지 8의 알킬기 중 어느 하나이다. R2은, OH 또는 탄소수 1 내지 8의 알킬기 중 어느 하나이다. n은 100 내지 300의 정수이다. R 1 is either OH or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R 2 is either OH or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. and n is an integer of 100 to 300. [

Figure pct00006
Figure pct00006

m은 10 내지 300의 정수이다. m is an integer of 10 to 300;

상기 (폴리)실록산 세그먼트 및/또는 폴리디메틸실록산 세그먼트의 상세에 대해서는 후술하는데, 상기 표면층이 이들 세그먼트를 가짐으로써 내열성, 내후성의 향상이나, 표면층의 윤활성에 의한 내찰상성을 향상시킬 수 있다. 이하, 본 발명의 실시 형태를 상세하게 설명한다. The details of the (poly) siloxane segment and / or the polydimethylsiloxane segment will be described later. The surface layer has these segments, thereby improving the heat resistance and weather resistance and improving the scratch resistance due to the lubricity of the surface layer. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

[적층 필름 및 표면층] [Laminated film and surface layer]

본 발명의 적층 필름은 본 발명의 특성을 나타내는 표면층을 갖고 있으면, 평면 형상(필름, 시트, 플레이트), 3차원 형상(성형체) 중 어느 것이어도 된다. 여기서, 본 발명에서의 표면층이란, 상기 적층 필름의 표면으로부터 두께 방향(평면 형상의 경우) 또는 내부 방향(3차원 형상의 경우)을 향하여, 두께 방향 또는 내부 방향에 인접하는 부위와 원소 조성, 함유물(입자 등)의 형상, 물리 특성이 불연속인 경계면을 가짐으로써 구별할 수 있으며, 유한한 두께를 갖는 부위를 가리킨다. 보다 구체적으로는, 상기 적층 필름을 표면으로부터 두께 방향으로 각종 조성/원소 분석 장치(IR, XPS, XRF, EDAX, SIMS 등), 전자 현미경(투과형, 주사형) 또는 광학 현미경으로 단면 관찰했을 때, 상기 불연속인 경계면에 의해 구별된다. The laminated film of the present invention may be any of a plane shape (film, sheet, plate) and a three-dimensional shape (molded article) provided that it has a surface layer showing the characteristics of the present invention. Here, the surface layer in the present invention refers to a region adjacent to the thickness direction or the inward direction from the surface of the laminated film in the thickness direction (in the case of a planar shape) or inward direction (in the case of a three- It can be distinguished by having a boundary surface in which the shape and physical characteristics of water (particles, etc.) are discontinuous, and indicates a region having a finite thickness. More specifically, when the above-mentioned laminated film is observed from the surface in the thickness direction by various composition / element analysis devices (IR, XPS, XRF, EDAX, SIMS, etc.), electron microscope (transmission type, scanning type) And is distinguished by the discontinuous interface.

상기 표면층은 본 발명의 과제로 하고 있는 성형성, 의장성, 자기 수복성, 광택감, 내지문성 외에, 반사 방지, 대전 방지, 방오성, 도전성, 열선 반사, 근적외선 흡수, 전자파 차폐, 접착 용이 등의 다른 기능을 가져도 된다. The surface layer can be used for various purposes such as antireflection, antistatic, antifouling, conductivity, heat ray reflection, near-infrared ray absorption, electromagnetic wave shielding, and easy adhesion in addition to the moldability, designability, self- Function.

상기 표면층의 두께는 특별히 한정은 없지만, 5㎛ 이상 200㎛ 이하가 바람직하고, 10㎛ 이상 100㎛ 이하가 보다 바람직하고, 상술한 다른 기능에 따라서 그 두께를 선택할 수 있다. The thickness of the surface layer is not particularly limited, but is preferably from 5 탆 to 200 탆, more preferably from 10 탆 to 100 탆, and the thickness can be selected in accordance with the above-described other functions.

[도료 조성물] [Paint composition]

본 발명의 적층 필름은, 후술하는 지지 기재 위에 도료 조성물을 도포, 건조 및 경화를 포함하는 일반적인 도포 프로세스를 거쳐서, 상술한 표면층을 형성함으로써 얻을 수 있다. The laminated film of the present invention can be obtained by forming the above-described surface layer through a general coating process including coating, drying and curing the coating composition on a support substrate described later.

이 도료 조성물은, 적어도 상술한 (폴리)카프로락톤 세그먼트, 우레탄 결합, 불소 화합물 세그먼트를 포함하는 수지, 또는 도포 프로세스 내에서 그것들을 형성 가능한 재료(이후, 이것을 전구체라 칭함)를 포함하는 것이며, 후술하는 제조 방법에 당해 도료 조성물을 사용함으로써, 표면층에 포함되는 수지가 이 세그먼트를 가질 수 있다. This coating composition contains at least the above-mentioned (poly) caprolactone segment, a urethane bond, a resin containing a fluorine compound segment, or a material capable of forming them in an application process (hereinafter referred to as a precursor) , The resin contained in the surface layer may have this segment.

본 발명의 적층 필름을 얻기 위해서, 지지 기재 위에 표면층을 형성하는 데 바람직한 도료 조성물에는 다음의 2개의 타입이 있다. In order to obtain the laminated film of the present invention, there are two types of coating compositions preferable for forming the surface layer on the supporting substrate.

제1 타입은 적어도 이하의 재료를 포함하는 것이 바람직한 도료 조성물(이하, 도료 조성물 A라 함)이며, 상기 도포 프로세스의 경화 공정에서 열에 의한 경화, 또는 열에 의한 경화와 활성 에너지선에 의한 경화를 병용하는 것이 바람직한 도료 조성물이다. The first type is a coating composition (hereinafter, referred to as a coating composition A) which preferably contains at least the following materials. In the curing step of the coating process, curing by heat or curing by heat and curing by an active energy ray Is a preferred coating composition.

·불소 화합물 D · Fluorine compound D

·폴리카프로락톤폴리올 A 또는 폴리카프로락톤폴리올 공중합체 A Polycaprolactone polyol A or polycaprolactone polyol copolymer A

·이소시아네이트기를 함유하는 화합물 Compounds containing an isocyanate group

즉, 도료 조성물 A는, (폴리)카프로락톤 세그먼트로서 폴리카프로락톤폴리올 A 또는 폴리카프로락톤폴리올 공중합체 A를, 우레탄 결합을 형성하는 전구체로서 상기 폴리올과 이소시아네이트기를 함유하는 화합물을, 불소 화합물 세그먼트로서 불소 화합물 D를 포함하는 것이다. 이들 각 재료의 상세에 대해서는 후술한다. That is, the coating composition A is prepared by mixing a poly (caprolactone polyol A) or a polycaprolactone polyol copolymer A as a (poly) caprolactone segment, a compound containing the polyol and an isocyanate group as a precursor for forming a urethane bond as a fluorine compound segment And a fluorine compound D. Details of each of these materials will be described later.

또한 도료 조성물 A는, 전체 고형분 농도 100질량% 중에 상기 이소시아네이트기를 함유하는 화합물을 11질량% 이상 22질량% 이하 포함하고 있는 것이 바람직하다. 또한, 도료 조성물 A 중에는, 알콕시메틸올멜라민 등의 멜라민 가교제, 3-메틸-헥사히드로 무수 프탈산 등의 산 무수물계 가교제, 디에틸아미노프로필아민 등의 아민계 가교제 등의 다른 가교제를 포함하는 것도 가능하다. 필요에 따라 우레탄 결합의 형성 반응을 촉진시키기 위해서 디부틸 주석 디라우레이트, 디부틸 주석 디에틸헥소에이트 등의 가교 촉매를 사용해도 된다. 또한, 후술하는 폴리실록산, 폴리디메틸실록산을 포함하는 것이 바람직하고, 또한 용매나, 광중합 개시제, 레벨링제 등의 각종 첨가제를 포함해도 된다. The coating composition A preferably contains 11 mass% or more and 22 mass% or less of the isocyanate group-containing compound in a total solid concentration of 100 mass%. The coating composition A may also contain other crosslinking agents such as a melamine crosslinking agent such as alkoxymethylol melamine, an acid anhydride crosslinking agent such as 3-methyl-hexahydrophthalic anhydride, and an amine crosslinking agent such as diethylaminopropylamine Do. A crosslinking catalyst such as dibutyltin dilaurate or dibutyltin diethylhexate may be used in order to accelerate the reaction for forming a urethane bond, if necessary. Further, it is preferable to contain a polysiloxane and a polydimethylsiloxane which will be described later, and may also contain various additives such as a solvent, a photopolymerization initiator, and a leveling agent.

이어서, 제2 타입은, 적어도 이하의 재료를 포함하는 것이 바람직한 도료 조성물(이하, 도료 조성물 B라 함)이며, 상기 도포 프로세스의 경화 공정에서 활성 에너지선에 의한 경화를 사용하는 것이 바람직한 도료 조성물이며, 상술한 본 발명의 과제를 해결했을 뿐 아니라, 또한 도료 조성물 A에 비해 핸드 크림 등의 유지 성분을 포함하는 화장품에 의한 오염에의 내성(이후, 이것을 내화장품성이라 칭함)이 우수한 특징을 갖는다. The second type is a coating composition (hereinafter referred to as a coating composition B) which preferably contains at least the following materials, and is preferably a coating composition which is preferably cured by an active energy ray in the curing step of the coating process , It has not only solved the problems of the present invention described above but also has an excellent resistance to contamination by cosmetics containing a preservative component such as a hand cream and the like (hereinafter referred to as cosmetic resistance) compared to the coating composition A .

·불소 화합물 D · Fluorine compound D

·우레탄(메트)아크릴레이트 B Urethane (meth) acrylate B

·우레탄(메트)아크릴레이트 C Urethane (meth) acrylate C

즉, 도료 조성물 B는, 우레탄(메트)아크릴레이트 B, 우레탄(메트)아크릴레이트 C 중 적어도 한쪽에, 후술하는 폴리카프로락톤 세그먼트를, 양쪽이 우레탄 결합을 포함하고, 불소 화합물 D가 불소 화합물 세그먼트를 포함하는 것이다. That is, the coating composition B is a coating composition comprising at least one of urethane (meth) acrylate B and urethane (meth) acrylate C, a polycaprolactone segment described later, both of which contain a urethane bond, and the fluorine compound D is a fluorine compound segment .

상기 우레탄(메트)아크릴레이트 B는 자기 수복성이 우수하고, 우레탄(메트)아크릴레이트 C는 내화장품성이 우수한 재료이며, 구체적으로는 각각을 단독으로 경화시켜서 형성한 층(X층, Y층)이 각각 특정한 특성을 나타내는 재료이며, 이들 특성을 가짐으로써 자기 수복성과 내화장품성을 양립하고 있다. 이상의 도료 조성물의 구성 재료에 대해서는 후술한다. The urethane (meth) acrylate B is excellent in self-repellency and the urethane (meth) acrylate C is a material having excellent cosmetic resistance. Specifically, the urethane (meth) acrylate B ) Are materials exhibiting specific properties, and by having these properties, self-restoration and cosmetic resistance are both achieved. The constituent materials of the above-mentioned coating composition will be described later.

도료 조성물 B 중의 우레탄(메트)아크릴레이트 B와 우레탄(메트)아크릴레이트 C의 함유 비율: (우레탄(메트)아크릴레이트 B의 질량/우레탄(메트)아크릴레이트 C의 질량)은, 70/30 내지 30/70의 범위가 바람직하다. 우레탄(메트)아크릴레이트 B와 우레탄(메트)아크릴레이트 C의 함유 비율: (우레탄(메트)아크릴레이트 B의 질량/우레탄(메트)아크릴레이트 C의 질량)이, 70/30 내지 30/70이 범위에서 벗어나면, 자기 수복성과 내화장품성의 특성을 양립하는 것이 곤란해지는 경우가 있다. The content ratio of urethane (meth) acrylate B and urethane (meth) acrylate C in coating composition B: (mass of urethane (meth) acrylate B / mass of urethane (meth) acrylate C) A range of 30/70 is preferred. The content ratio of urethane (meth) acrylate B and urethane (meth) acrylate C: mass of urethane (meth) acrylate B / mass of urethane (meth) acrylate C is 70/30 to 30/70 Outside the range, it may be difficult to achieve both self-restoration and cosmetic properties.

상기 도료 조성물 B는, 그 밖에, 폴리실록산, 폴리디메틸실록산, 폴리알킬렌글리콜을 포함하는 것이 바람직하고, 또한 용매나, 광중합 개시제, 경화제, 촉매 등의 각종 첨가제를 포함해도 된다. The coating composition B preferably contains polysiloxane, polydimethylsiloxane, polyalkylene glycol, and may further contain various additives such as a solvent, a photopolymerization initiator, a curing agent, and a catalyst.

[지지 기재] [Supporting substrate]

본 발명의 적층 필름에 사용되는 지지 기재를 구성하는 수지는, 열가소성 수지, 열경화성 수지의 어느 것이든 되며, 호모 수지이어도 되고, 공중합 또는 2종류 이상의 블렌드이어도 된다. 보다 바람직하게는, 지지 기재를 구성하는 수지는, 성형성이 양호하기 때문에, 열가소성 수지가 바람직하다. The resin constituting the supporting substrate used in the laminated film of the present invention may be either a thermoplastic resin or a thermosetting resin, or may be homopolymerized or copolymerized or two or more blends. More preferably, the resin constituting the support base material is preferably a thermoplastic resin because of its good moldability.

열가소성 수지의 예로서는, 폴리에틸렌·폴리프로필렌·폴리스티렌·폴리메틸펜텐 등의 폴리올레핀 수지, 지환족 폴리올레핀 수지, 나일론 6·나일론 66 등의 폴리아미드 수지, 아라미드 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리카르보네이트 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리아세탈 수지, 폴리페닐렌술피드 수지, 4불화에틸렌 수지·3불화에틸렌 수지·3불화염화에틸렌 수지·4불화에틸렌-6불화프로필렌 공중합체·불화비닐리덴 수지 등의 불소 수지, 아크릴 수지, 메타크릴 수지, 폴리아세탈 수지, 폴리글리콜산 수지, 폴리락트산 수지 등을 사용할 수 있다. 열가소성 수지는, 충분한 연신성과 추종성을 구비하는 수지가 바람직하다. 열가소성 수지는, 강도·내열성·투명성의 관점에서, 특히, 폴리에스테르 수지인 것이 보다 바람직하다. Examples of the thermoplastic resin include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene and polymethylpentene, alicyclic polyolefin resins, polyamide resins such as nylon 6 and nylon 66, aramid resins, polyester resins, polycarbonate resins, A fluororesin such as a polyvinylidene fluoride resin, a polyvinylidene fluoride resin, a polyvinylidene fluoride resin, a polyvinylidene fluoride resin, a polyvinylidene fluoride resin, a polyvinylidene fluoride resin, a polyvinylidene fluoride resin, Resins, methacrylic resins, polyacetal resins, polyglycolic acid resins, polylactic acid resins, and the like can be used. The thermoplastic resin is preferably a resin having sufficient stretchability and followability. The thermoplastic resin is more preferably a polyester resin in view of strength, heat resistance and transparency.

본 발명에서의 폴리에스테르 수지란, 에스테르 결합을 주쇄의 주요한 결합 쇄로 하는 고분자의 총칭이며, 산 성분 및 그 에스테르와 디올 성분의 중축합에 의해 얻어진다. 구체예로서는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리프로필렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등을 들 수 있다. 또한 이들에 산 성분이나 디올 성분으로서 다른 디카르복실산 및 그 에스테르나 디올 성분을 공중합한 것이어도 된다. 이들 중에서 투명성, 치수 안정성, 내열성 등의 점에서 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트가 특히 바람직하다. The polyester resin in the present invention is a general term for a polymer in which an ester bond is a main binding chain of a main chain and is obtained by polycondensation of an acid component and an ester thereof and a diol component. Specific examples thereof include polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, and polybutylene terephthalate. Further, they may be copolymerized with other dicarboxylic acids and their esters or diol components as an acid component or a diol component. Of these, polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate are particularly preferable in terms of transparency, dimensional stability, heat resistance and the like.

또한, 지지 기재에는, 각종 첨가제, 예를 들어 산화 방지제, 대전 방지제, 결정 핵제, 무기 입자, 유기 입자, 감점제, 열 안정제, 활제, 적외선 흡수제, 자외선 흡수제, 굴절률 조정을 위한 도프제 등이 첨가되어 있어도 된다. 지지 기재는, 단층 구성, 적층 구성 중 어느 것이어도 된다. In addition, the supporting substrate is preferably provided with various additives such as an antioxidant, an antistatic agent, a nucleating agent, an inorganic particle, an organic particle, a scoring agent, a heat stabilizer, a lubricant, an infrared absorber, an ultraviolet absorber, . The supporting substrate may be a single layer structure or a laminated structure.

지지 기재의 표면에는, 상기 표면층을 형성하기 전에 각종 표면 처리를 실시하는 것도 가능하다. 표면 처리의 예로서는, 약품 처리, 기계적 처리, 코로나 방전 처리, 화염 처리, 자외선 조사 처리, 고주파 처리, 글로우 방전 처리, 활성 플라즈마 처리, 레이저 처리, 혼산 처리 및 오존 산화 처리를 들 수 있다. 이들 중에서도 글로우 방전 처리, 자외선 조사 처리, 코로나 방전 처리 및 화염 처리가 바람직하고, 글로우 방전 처리와 자외선 처리가 더욱 바람직하다. The surface of the support substrate may be subjected to various surface treatments before forming the surface layer. Examples of the surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment. Among these, glow discharge treatment, ultraviolet ray irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferable, and glow discharge treatment and ultraviolet ray treatment are more preferable.

[불소 화합물 세그먼트, 불소 화합물 D] [Fluorine compound segment, fluorine compound D]

본 발명에서는, 표면층에 포함되는 수지가 불소 화합물 세그먼트를 갖는 것이 바람직하다. 이 불소 화합물 세그먼트는, 플루오로알킬기, 플루오로옥시알킬기, 플루오로알케닐기, 플루오로알칸디일기 및 플루오로옥시알칸디일기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개를 포함하는 세그먼트를 가리킨다. In the present invention, it is preferable that the resin contained in the surface layer has a fluorine compound segment. The fluorine compound segment refers to a segment including at least one selected from the group consisting of a fluoroalkyl group, a fluorooxyalkyl group, a fluoroalkenyl group, a fluoroalkanediyl group, and a fluorooxyalkanediyl group.

여기서, 플루오로알킬기, 플루오로옥시알킬기, 플루오로알케닐기, 플루오로알칸디일기, 플루오로옥시알칸디일기란, 알킬기, 옥시알킬기, 알케닐기, 알칸디일기, 옥시알칸디일기가 갖는 수소의 일부, 또는 모두가 불소로 치환된 치환기이며, 모두 주로 불소 원자와 탄소 원자로 구성되는 치환기이며, 구조 중에 분기가 있어도 되고, 이들 치환기가 복수 연결된 이량체, 삼량체, 올리고머, 중합체 구조를 형성하고 있어도 된다. Here, a part of hydrogen contained in the alkyl group, oxyalkyl group, alkenyl group, alkanediyl group, oxyalkanediyl group, fluoroalkyl group, fluorooxyalkyl group, fluoroalkenyl group, fluoroalkanediyl group, fluorooxyalkanediyl group, , Or both of them are fluorine-substituted substituents, all of which are mainly substituents composed of fluorine atoms and carbon atoms, may be branched in the structure, and may form a dimer, trimer, oligomer or polymer structure in which a plurality of these substituents are connected .

또한, 상기 불소 화합물 세그먼트로서는, 플루오로폴리에테르 세그먼트가 바람직하고, 이것은 플루오로알킬기, 옥시플루오로알킬기, 옥시플루오로알칸디일기 등을 포함하는 치환기이며, 보다 바람직하게는 화학식 3, 4로 대표되는 플루오로폴리에테르 세그먼트인 것은 이미 설명한 바와 같다. As the fluorine compound segment, a fluoropolyether segment is preferable, and it is a substituent group including a fluoroalkyl group, an oxyfluoroalkyl group, an oxyfluoroalkanediyl group and the like, more preferably a fluoroalkyl group represented by the general formula The fluoropolyether segment is as described above.

이 표면층에 포함되는 수지가 불소 화합물 세그먼트를 포함하기 위해서는, 상술한 도료 조성물 A, 또는 도료 조성물 B가 불소 화합물 D를 포함하는 것이 바람직하다. 이 불소 화합물 D는 화학식 7로 나타내는 화합물이다. In order for the resin contained in the surface layer to contain the fluorine compound segment, it is preferable that the above-mentioned coating composition A or the coating composition B contains the fluorine compound D. The fluorine compound D is a compound represented by the general formula (7).

Figure pct00007
Figure pct00007

여기서, Rf1은 불소 화합물 세그먼트, R2는 알칸디일기, 알칸트리일기 및 그것들로부터 도출되는 에스테르 구조, 우레탄 구조, 에테르 구조, 트리아진 구조를, D1은 반응성 부위를 나타낸다. Here, R f1 represents a fluorine compound segment, R 2 represents an alkanediyl group, an alkanetriyl group, and an ester structure derived therefrom, a urethane structure, an ether structure and a triazine structure, and D 1 represents a reactive site.

이 반응성 부위란, 열 또는 광 등의 외부 에너지에 의해 다른 성분과 반응하는 부위를 가리킨다. 이러한 반응성 부위로서, 반응성의 관점에서 알콕시실릴기 및 알콕시실릴기가 가수분해된 실라놀기나, 카르복실기, 수산기, 에폭시기, 비닐기, 알릴기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 반응성, 핸들링성의 관점에서, 비닐기, 알릴기, 알콕시실릴기, 실릴에테르기 또는 실라놀기나, 에폭시기, 아크릴로일(메타크릴로일)기가 바람직하다. This reactive site refers to a site that reacts with other components by external energy such as heat or light. Examples of such reactive sites include a silanol group in which an alkoxysilyl group and an alkoxysilyl group are hydrolyzed, a carboxyl group, a hydroxyl group, an epoxy group, a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group, and a methacryloyl group from the viewpoint of reactivity. Among them, a vinyl group, an allyl group, an alkoxysilyl group, a silyl ether group or a silanol group, an epoxy group and an acryloyl (methacryloyl) group are preferable from the viewpoints of reactivity and handling property.

불소 화합물 D의 일례는 다음의 화학식으로 표현되는 화합물이다. 3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리에톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리이소프로폭시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리클로로실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리이소시아네이트실란, 2-퍼플루오로옥틸트리메톡시실란, 2-퍼플루오로옥틸에틸트리에톡시실란, 2-퍼플루오로옥틸에틸트리이소프로폭시실란, 2-퍼플루오로옥틸에틸트리클로로실란, 2-퍼플루오로옥틸이소시아네이트실란, 2,2,2-트리플루오로에틸아크릴레이트, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필아크릴레이트, 2-퍼플루오로부틸에틸아크릴레이트, 3-퍼플루오로부틸-2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-퍼플루오로헥실에틸아크릴레이트, 3-퍼플루오로헥실-2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-퍼플루오로옥틸에틸아크릴레이트, 3-퍼플루오로옥틸-2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-퍼플루오로데실에틸아크릴레이트, 2-퍼플루오로-3-메틸부틸에틸아크릴레이트, 3-퍼플루오로-3-메톡시부틸-2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-퍼플루오로-5-메틸헥실에틸아크릴레이트, 3-퍼플루오로-5-메틸헥실-2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-퍼플루오로-7-메틸옥틸-2-히드록시프로필아크릴레이트, 테트라플루오로프로필아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸아크릴레이트, 도데카플루오로헵틸아크릴레이트, 헥사데카플루오로노닐아크릴레이트, 헥사플루오로부틸아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸메타크릴레이트, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필메타크릴레이트, 2-퍼플루오로부틸에틸메타크릴레이트, 3-퍼플루오로부틸-2-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-퍼플루오로옥틸에틸메타크릴레이트, 3-퍼플루오로옥틸-2-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-퍼플루오로데실에틸메타크릴레이트, 2-퍼플루오로-3-메틸부틸에틸메타크릴레이트, 3-퍼플루오로-3-메틸부틸-2-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-퍼플루오로-5-메틸헥실에틸메타크릴레이트, 3-퍼플루오로-5-메틸헥실-2-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-퍼플루오로-7-메틸옥틸에틸메타크릴레이트, 3-퍼플루오로-6-메틸옥틸메타크릴레이트, 테트라플루오로프로필메타크릴레이트, 옥타플루오로펜틸메타크릴레이트, 옥타플루오로펜틸메타크릴레이트, 도데카플루오로헵틸메타크릴레이트, 헥사데카플루오로노닐메타크릴레이트, 1-트리플루오로메틸트리플루오로에틸메타크릴레이트, 헥사플루오로부틸메타크릴레이트, 트리아크릴로일-헵타데카플루오로노네닐-펜타에리트리톨 등을 들 수 있다. An example of the fluorine compound D is a compound represented by the following formula. 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltriisopropoxysilane, 3,3,3- Perfluorooctyltrimethoxysilane, 2-perfluorooctylethyltriethoxysilane, 2-perfluoroethoxy silane, 2-perfluorooctyltrimethoxysilane, 2-perfluorooctyltrimethoxysilane, 2-perfluorooctylethyltrichlorosilane, 2-perfluorooctyl isocyanate silane, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3,3-tetrafluoroethoxy silane, Perfluorobutyl acrylate, 2-perfluorobutyl acrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorohexylethyl acrylate, 3-perfluorohexyl- 2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorooctyl ethyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate Perfluoro-3-methylbutyl ethyl acrylate, 3-perfluoro-3-methoxybutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro Perfluoro-5-methylhexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-7-methyloctyl-2-hydroxypropyl acrylate, tetra Hexafluorobutyl acrylate, hexafluorobutyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, hexafluorobutyl acrylate, hexafluorobutyl acrylate, hexafluorobutyl acrylate, hexafluorobutyl acrylate, Perfluorobutyl methacrylate, 2-perfluorobutyl methacrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro Octyl ethyl methacrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl methacrylate Perfluoro-3-methylbutylethyl methacrylate, 3-perfluoro-3-methylbutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2- Perfluoro-5-methylhexylethyl methacrylate, 3-perfluoro-5-methylhexyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2- Hexafluoropentyl methacrylate, perfluoro-6-methyl octyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, dodecafluoroheptyl methacrylate, hexadecafluorononyl Methacrylate, 1-trifluoromethyltrifluoroethyl methacrylate, hexafluorobutyl methacrylate, triacryloyl-heptadecafluorononyl-pentaerythritol, and the like.

또한, 불소 화합물 D는 1 분자당 복수의 플루오로폴리에테르 세그먼트를 갖고 있어도 된다. The fluorine compound D may have a plurality of fluoropolyether segments per molecule.

상기 불소 화합물 D가 시판되고 있는 예로서는, RS-75(DIC 가부시끼가이샤), 옵툴 DAC-HP(다이킨 고교 가부시끼가이샤), C10GACRY, C8HGOL(유지 제품 가부시끼가이샤) 등을 들 수 있으며, 이들 제품을 이용할 수 있다 Examples of the fluorine compound D commercially available include RS-75 (DIC Corporation), Optol DAC-HP (Daikin Kogyo Kabushiki Kaisha), C10GACRY and C8HGOL (Yasegawa Kasei Co., Ltd.) Products are available

[(폴리)카프로락톤 세그먼트] [(Poly) caprolactone segment]

본 발명의 적층 필름에 있어서, 표면층에 포함되는 수지가 (폴리)카프로락톤 세그먼트를 갖는 것이 바람직하다. 여기에서 (폴리)카프로락톤 세그먼트란, 상술한 화학식 1로 나타내는 세그먼트를 가리킨다. 또한 (폴리)카프로락톤 세그먼트를 함유하는 수지를 포함하는 도료 조성물 A 또는 도료 조성물 B를 사용해서 표면층을 형성함으로써, 표면층은 (폴리)카프로락톤 세그먼트를 가질 수 있다. In the laminated film of the present invention, it is preferable that the resin contained in the surface layer has a (poly) caprolactone segment. Here, the (poly) caprolactone segment refers to the segment represented by the above-described formula (1). Further, the surface layer may have a (poly) caprolactone segment by forming a surface layer using a coating composition A or a coating composition B containing a resin containing a (poly) caprolactone segment.

(폴리)카프로락톤 세그먼트를 함유하는 수지는, 적어도 1 이상의 수산기(히드록실기)를 갖는 것이 바람직하다. 수산기는 (폴리)카프로락톤 세그먼트를 함유하는 수지의 말단에 있는 것이 바람직하다. The resin containing the (poly) caprolactone segment preferably has at least one hydroxyl group (hydroxyl group). The hydroxyl group is preferably located at the end of the resin containing the (poly) caprolactone segment.

(폴리)카프로락톤 세그먼트를 함유하는 수지로서는, 특히 2 내지 3관능의 수산기를 갖는 (폴리)카프로락톤이 바람직하다. 구체적으로는, 화학식 8로 나타내는 (폴리)카프로락톤디올, As the resin containing the (poly) caprolactone segment, (poly) caprolactone having a hydroxyl group of 2 to 3 functional groups is particularly preferable. Specifically, (poly) caprolactone diol represented by the general formula (8)

Figure pct00008
Figure pct00008

(여기서, m+n은 4 내지 35의 정수이고, R은 C2H4 또는 C2H4OC2H4) (Wherein m + n is an integer from 4 to 35, and R is C 2 H 4 or C 2 H 4 OC 2 H 4 )

또는 화학식 9로 나타내는 (폴리)카프로락톤트리올, (Poly) caprolactone triol represented by the formula (9)

Figure pct00009
Figure pct00009

(여기서, l+m+n은 3 내지 30의 정수이고, R은 CH2CHCH2, CH3C(CH2)3, CH3CH2C(CH2)3) (CH 2 ) 3 , CH 3 CH 2 C (CH 2 ) 3 , and the like, wherein L + m + n is an integer from 3 to 30, and R is CH 2 CHCH 2 , CH 3 C

등의 폴리카프로락톤폴리올이나 화학식 10으로 나타내는 (폴리)카프로락톤 변성 히드록시에틸(메트)아크릴레이트 (Poly) caprolactone-modified hydroxyethyl (meth) acrylate represented by Chemical Formula 10

Figure pct00010
Figure pct00010

(여기서, n은 1 내지 25의 정수이고, R은 H 또는 CH3) (Wherein, n is an integer from 1 to 25, R is H or CH 3)

등의 활성 에너지선 중합성 카프로락톤을 사용할 수 있다. Can be used as the active energy ray-polymerizable caprolactone.

여기서 활성 에너지선 중합성이란, UV, EB 등의 활성 에너지선에 의해 가교가 진행되는 성질을 말하며, (메트)아크릴레이트기 등의 관능기를 갖는 화합물이 해당한다. 다른 활성 에너지선 중합성 카프로락톤의 예로서, (폴리)카프로락톤 변성 히드록시프로필(메트)아크릴레이트, (폴리)카프로락톤 변성 히드록시부틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Herein, the term "active energy ray polymerization" refers to a property of crosslinking by an active energy ray such as UV or EB, and corresponds to a compound having a functional group such as a (meth) acrylate group. Examples of other active energy ray-polymerizable caprolactone include (poly) caprolactone-modified hydroxypropyl (meth) acrylate and (poly) caprolactone-modified hydroxybutyl (meth) acrylate.

또한 본 발명에 있어서, (폴리)카프로락톤 세그먼트를 함유하는 수지는, (폴리)카프로락톤 세그먼트 이외에, 다른 세그먼트나 단량체가 함유(또는, 공중합)되어 있어도 된다. 예를 들어, 후술하는 폴리디메틸실록산 세그먼트나 (폴리)실록산 세그먼트, 이소시아네이트 화합물을 함유하는 화합물이 함유(또는, 공중합)되어 있어도 된다. Further, in the present invention, the resin containing the (poly) caprolactone segment may contain (or be copolymerized with) other segments or monomers in addition to the (poly) caprolactone segment. For example, a polydimethylsiloxane segment, a (poly) siloxane segment, and a compound containing an isocyanate compound described later may be contained (or copolymerized).

또한, 본 발명에 있어서, (폴리)카프로락톤 세그먼트를 함유하는 수지 중의, (폴리)카프로락톤 세그먼트의 중량 평균 분자량은 500 내지 2,500인 것이 바람직하고, 보다 바람직한 중량 평균 분자량은 1,000 내지 1,500이다. (폴리)카프로락톤 세그먼트의 중량 평균 분자량이 500 내지 2,500이면, 자기 수복성의 효과가 보다 발현하고, 또한 내찰상성이 보다 향상되기 때문에 바람직하다. In the present invention, the weight average molecular weight of the (poly) caprolactone segment in the resin containing the (poly) caprolactone segment is preferably 500 to 2,500, and more preferably 1,000 to 1,500. When the weight average molecular weight of the (poly) caprolactone segment is 500 to 2,500, it is preferable because the self-restoring effect is further manifested and the scratch resistance is further improved.

(폴리)카프로락톤 세그먼트가 공중합되는 경우에도, 별도 첨가되는 경우에도, 표면층을 형성하기 위해 사용하는 도료 조성물의 전체 고형분 농도 100질량%에 있어서, (폴리)카프로락톤 세그먼트의 함유량이 5 내지 50질량%이면, 자기 수복성, 내오염성의 점에서 바람직하다. When the (poly) caprolactone segment is copolymerized or added separately, the content of the (poly) caprolactone segment in the total solid content concentration of 100 mass% of the coating composition used for forming the surface layer is 5 to 50 mass % Is preferable in terms of self-repairing property and stain resistance.

[우레탄 결합, 이소시아네이트기를 함유하는 화합물] [Compound containing urethane bond, isocyanate group]

본 발명에 있어서, 우레탄 결합이란, 상술한 화학식 2로 나타내는 결합을 가리킨다. 표면층을 형성하기 위해서 사용하는 도료 조성물이, 시판하고 있는 우레탄 변성 수지를 포함함으로써, 표면층에 포함되는 수지는 우레탄 결합을 갖는 것이 가능하게 된다. 또한, 표면층을 형성할 때 전구체로서 이소시아네이트기를 함유하는 화합물과 수산기를 함유하는 화합물을 포함하는 도료 조성물을 도포함으로써, 도포 공정에서 우레탄 결합을 생성시켜서, 표면층에 우레탄 결합을 함유시킬 수도 있다. In the present invention, the urethane bond refers to a bond represented by the above-mentioned formula (2). The coating composition used for forming the surface layer contains a commercially available urethane-modified resin, so that the resin contained in the surface layer can have a urethane bond. Further, when forming a surface layer, a urethane bond may be formed in the coating step by applying a coating composition containing a compound containing an isocyanate group and a compound containing a hydroxyl group as a precursor, so that a urethane bond can be contained in the surface layer.

본 발명에서는 바람직하게는 이소시아네이트기와 수산기를 반응시켜서 우레탄 결합을 생성시킴으로써, 표면층에 포함되는 수지는 우레탄 결합을 갖는다. 이소시아네이트기와 수산기를 반응시켜서 우레탄 결합을 생성시킴으로써, 표면층의 강인성을 향상시킴과 함께 자기 수복성을 향상시킬 수 있다. In the present invention, by reacting an isocyanate group with a hydroxyl group to form a urethane bond, the resin contained in the surface layer has a urethane bond. By reacting an isocyanate group with a hydroxyl group to form a urethane bond, the toughness of the surface layer can be improved and the self-repairing property can be improved.

또한, 상술한 (폴리)카프로락톤 세그먼트를 함유하는 수지나, 후술하는 폴리실록산 세그먼트를 함유하는 수지나 폴리디메틸실록산 세그먼트를 함유하는 수지 등이, 수산기를 갖는 경우에는, 열 등에 의해 이들 수지와 전구체로서 이소시아네이트기를 함유하는 화합물과의 사이에 우레탄 결합을 생성시키는 것도 가능하다. 이소시아네이트기를 함유하는 화합물과, 수산기를 갖는 (폴리)실록산 세그먼트를 함유하는 수지나 수산기를 갖는 폴리디메틸실록산 세그먼트를 함유하는 수지를 사용해서 표면층을 형성하면, 표면층의 강인성 및 탄성 회복성(자기 수복성) 및 표면의 미끄럼성을 높일 수 있기 때문에 바람직하다. When a resin containing the (poly) caprolactone segment described above, a resin containing a polysiloxane segment described later or a resin containing a polydimethylsiloxane segment or the like has a hydroxyl group, the resin and the precursor It is also possible to form a urethane bond with a compound containing an isocyanate group. When a surface layer is formed by using a resin containing an isocyanate group and a resin containing a (poly) siloxane segment having a hydroxyl group or a polydimethylsiloxane segment having a hydroxyl group, the surface layer may have toughness and elastic recovery properties ) And the slidability of the surface can be increased.

본 발명에 있어서, 이소시아네이트기를 함유하는 화합물이란, 이소시아네이트기를 함유하는 수지나, 이소시아네이트기를 함유하는 단량체나 올리고머를 가리킨다. 이소시아네이트기를 함유하는 화합물은, 예를 들어 메틸렌비스-4-시클로헥실이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체, 이소포론디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체, 톨릴렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체, 헥사메틸렌이소시아네이트의 뷰렛체 등의 폴리이소시아네이트 및 상기 이소시아네이트의 블록체 등을 들 수 있다. In the present invention, the compound containing an isocyanate group refers to a resin containing an isocyanate group or a monomer or oligomer containing an isocyanate group. Examples of the compound containing an isocyanate group include methylene bis-4-cyclohexyl isocyanate, trimethylol propane adduct of tolylene diisocyanate, trimethylol propane adduct of hexamethylene diisocyanate, trimethylol propane of isophorone diisocyanate An isocyanurate of isocyanurate of hexamethylene diisocyanate, a polyisocyanate of burette of hexamethylene isocyanate and the like, and a block of isocyanate, and the like.

이들 이소시아네이트기를 함유하는 화합물 중에서도, 지환족이나 방향족의 이소시아네이트에 비해 지방족의 이소시아네이트가, 자기 수복성이 높아 바람직하다. 이소시아네이트기를 함유하는 화합물은, 보다 바람직하게는, 헥사메틸렌디이소시아네이트이다. 또한, 이소시아네이트기를 함유하는 화합물은, 이소시아누레이트환을 갖는 이소시아네이트가 내열성의 점에서 특히 바람직하고, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체가 가장 바람직하다. 이소시아누레이트환을 갖는 이소시아네이트는, 자기 수복성과 내열 특성을 겸비하는 표면층을 형성한다. Among these isocyanate group-containing compounds, aliphatic isocyanates are preferred because they have higher self-repairing properties than alicyclic or aromatic isocyanates. The compound containing an isocyanate group is more preferably hexamethylene diisocyanate. Further, the isocyanate group-containing isocyanate compound is particularly preferable from the viewpoint of heat resistance, and the isocyanurate compound of hexamethylene diisocyanate is most preferable. The isocyanate having an isocyanurate ring forms a surface layer having both self-restoring property and heat-resistant property.

[우레탄(메트)아크릴레이트 B, 우레탄(메트)아크릴레이트 C] [Urethane (meth) acrylate B, urethane (meth) acrylate C]

상술한 바와 같이 자기 수복성 외에 내화장품성이라는 특성을 부여하기 위해서는, 표면층의 형성에, 자기 수복성이 우수한 우레탄(메트)아크릴레이트 B와 내화장품성이 우수한 우레탄(메트)아크릴레이트 C를 포함하는 도료 조성물 B를 사용하는 것이 바람직하다. (Meth) acrylate B, which is excellent in self-repellency, and urethane (meth) acrylate C, which is excellent in resistance to cosmetics, in order to impart the property of cosmetic resistance in addition to self- It is preferable to use the coating composition B.

우레탄(메트)아크릴레이트 B란, 분자 내에 우레탄 결합을 갖는 화합물이며, 우레탄(메트)아크릴레이트 B와 광개시제의 혼합물을, 조도 400mW/cm2의 고압 수은등에 의한 자외선으로, 두께 30㎛로 경화시킨 층(이하, X층이라고 함)의 물성이, 다음의 범위에 있는 우레탄(메트)아크릴레이트를 의미한다. Urethane (meth) acrylate B is, a compound having a urethane bond in the molecule, urethane (meth) acrylate, a mixture of B and the photoinitiator, the UV illumination by the high-pressure mercury lamp of 400mW / cm 2, a cured in a thickness 30㎛ Means a urethane (meth) acrylate whose physical properties of a layer (hereinafter referred to as X layer) fall within the following range.

1. X층 표면에 올레산을 도포해서 60℃에서 1시간 유지했을 때의 X층의 질량 증가율이 45질량% 이하 1. When oleic acid is applied to the surface of the X layer and the growth rate of the X layer is maintained at 60 占 폚 for 1 hour is not more than 45 mass%

2. 미소 경도계 측정에 있어서 0.5mN 하중을 10초간 가했을 때의 X층의 두께 방향의 최대 변위량이 1.0㎛ 이상 3.0㎛ 이하 2. The maximum displacement in the thickness direction of the X layer when a 0.5 mN load was applied for 10 seconds in the microhardness measurement was 1.0 탆 or more and 3.0 탆 or less

3. 상기 2의 미소 경도계 측정에 있어서, X층의 두께 방향의 크리프 변위량이 0.4㎛ 이상 0.7㎛ 이하. 3. The microhardness tester according to 2 above, wherein the amount of creep displacement in the thickness direction of the X layer is not less than 0.4 μm and not more than 0.7 μm.

또한, 우레탄(메트)아크릴레이트 C란, 분자 내에 우레탄 결합을 갖는 화합물이며, 우레탄(메트)아크릴레이트 C와 광개시제의 혼합물을, 조도 400mW/cm2의 고압 수은등에 의한 자외선으로, 두께 30㎛로 경화시킨 층(이하, Y층이라고 함)의 물성이, 다음의 범위에 있는 우레탄(메트)아크릴레이트를 의미한다. In addition, urethane (meth) acrylate is C, a compound having a urethane bond in the molecule, a mixture of urethane (meth) acrylate C and a photoinitiator, to ultraviolet rays by a high pressure mercury lamp light intensity of 400mW / cm 2, a thickness 30㎛ Means a urethane (meth) acrylate whose physical properties of a cured layer (hereinafter referred to as Y layer) fall within the following range.

1. Y층 표면에 올레산을 도포해서 60℃에서 1시간 유지했을 때의 Y층의 질량 증가율이 5.0질량% 이하 1. When the oleic acid is applied to the surface of the Y layer and held at 60 DEG C for 1 hour, the mass increase rate of the Y layer is 5.0 mass% or less

2. 미소 경도계 측정에 있어서 0.5mN 하중을 10초간 가했을 때의, Y층의 두께 방향의 최대 변위량이 0.2㎛ 이상 3.0㎛ 이하 2. The maximum displacement amount in the thickness direction of the Y layer when a 0.5 mN load is applied for 10 seconds in microchannel measurement is 0.2 mu m or more and 3.0 mu m or less

3. 상기 2의 미소 경도계 측정에 있어서, Y층의 두께 방향의 크리프 변위량이 0.02㎛ 이상 0.35㎛ 이하. 3. The microhardness tester according to 2 above, wherein the amount of creep displacement in the thickness direction of the Y layer is 0.02 탆 or more and 0.35 탆 or less.

또한 표면층을 형성하기 위해서 사용하는 도료 조성물이, 우레탄(메트)아크릴레이트 B 및 우레탄(메트)아크릴레이트 C를 포함하고, 해당 우레탄(메트)아크릴레이트 B가 (폴리)카프로락톤 세그먼트를 갖고, 해당 우레탄(메트)아크릴레이트 C가 (폴리)알킬렌글리콜(메트) 세그먼트를 가짐으로써, 자기 수복성과 내화장품성이 보다 우수한 표면층을 얻을 수 있다. 이것은 내화장품성이 우수한 (폴리)알킬렌글리콜 세그먼트가 표면 장력과 분자간력의 차에 의해, 경화 시에 표면에 편재되고, 자기 수복성이 우수한 (폴리)카프로락톤 세그먼트가 내층에 편재됨으로써, 효과가 보다 현저해진 것이라 생각된다. (Meth) acrylate B, and the urethane (meth) acrylate B has a (poly) caprolactone segment, and the urethane (meth) acrylate B has a When urethane (meth) acrylate C has a (poly) alkylene glycol (meth) segment, a surface layer having better self-restoration and cosmetic resistance can be obtained. This is because the (poly) alkylene glycol segment having excellent cosmetic property is localized on the surface at the time of curing due to the difference between the surface tension and the intermolecular force, and the (poly) caprolactone segment having excellent self- Is more remarkable.

특히, 표면층에 포함되는 수지 중의 (1) (폴리)알킬렌글리콜 세그먼트의 질량(m)과 표면층에 포함되는 수지 중의 (3) (폴리)카프로락톤 세그먼트의 질량(n)이, 0.3n≤m≤10n을 만족하는 것이 바람직하고, 0.3n≤m≤5n을 만족하는 것이 보다 바람직하고, 0.65n≤m≤1.20n을 만족하는 것이 더욱 바람직하다. 표면층에 포함되는 수지 중의 (1) (폴리)알킬렌글리콜 세그먼트의 질량(m)과 표면층에 포함되는 수지 중의 (3) (폴리)카프로락톤 세그먼트의 질량(n)이, 0.3n≤m≤10n을 만족하면, 상술한 경화 시에 있어서의 각 세그먼트의 편재가 보다 현저하게 일어나, 자기 수복성과 내화장품성이 더욱 우수한 표면층을 얻을 수 있다. 표면층에 포함되는 수지 중의 (1) (폴리)알킬렌글리콜 세그먼트의 질량(m)과 A층에 포함되는 수지 중의 (3) (폴리)카프로락톤 세그먼트의 질량(n)이, 0.3n≤m≤10n을 만족하지 않는 경우, 상술한 경화 시에 있어서의 각 세그먼트의 분산성이 높아져서, 편재가 약해지는 경우가 있다. Particularly, the mass (m) of the (1) (poly) alkylene glycol segment in the resin contained in the surface layer and the mass (n) of the (3) (poly) caprolactone segment in the resin contained in the surface layer satisfy 0.3n ? N, more preferably satisfies 0.3n? M? 5n, and more preferably satisfies 0.65n? M? 1.20n. The mass (m) of the (1) (poly) alkylene glycol segment in the resin contained in the surface layer and the mass (n) of the (3) (poly) caprolactone segment in the resin contained in the surface layer satisfy 0.3n &lt; , The segregation of each segment at the time of curing becomes more conspicuous and a surface layer having better self-restoration and cosmetic resistance can be obtained. The mass (m) of the (1) (poly) alkylene glycol segment in the resin contained in the surface layer and the mass (n) of the (3) (poly) caprolactone segment in the resin contained in the layer A satisfy 0.3n & 10 n is not satisfied, the dispersibility of each segment at the time of curing described above becomes high, so that the elliptical material may be weakened.

[(폴리)실록산 세그먼트] [(Poly) siloxane segment]

본 발명에서는, 표면층이 (4) (폴리)실록산 세그먼트 및/또는 폴리디메틸실록산 세그먼트를 갖는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서, (폴리)실록산 세그먼트란, 상술한 화학식 5로 나타내는 세그먼트를 가리킨다. In the present invention, it is preferable that the surface layer has (4) a (poly) siloxane segment and / or a polydimethylsiloxane segment. In the present invention, the (poly) siloxane segment refers to the segment represented by the above-mentioned formula (5).

표면층이 (4) (폴리)실록산 세그먼트를 갖기 위해서는, 표면층을 형성하기 위해서 사용하는 상술한 도료 조성물이, (폴리)실록산 세그먼트를 함유하는 수지를 포함함으로써 가능하게 된다. (4) In order for the surface layer to have (poly) siloxane segments, the above-mentioned coating composition used for forming the surface layer can be made to contain a resin containing a (poly) siloxane segment.

본 발명에서는, 가수분해성 실릴기를 함유하는 실란 화합물의 부분 가수분해물, 오르가노실리카졸 또는 해당 오르가노실리카졸에 라디칼 중합체를 갖는 가수분해성 실란 화합물을 부가시킨 도료 조성물을, 폴리실록산 세그먼트를 함유하는 수지로서 사용할 수 있다. In the present invention, a coating composition obtained by adding a partial hydrolyzate of a silane compound containing a hydrolyzable silyl group, an organosilica sol or a hydrolyzable silane compound having a radical polymer to the organosilica sol is added as a resin containing a polysiloxane segment Can be used.

(폴리)실록산 세그먼트를 함유하는 수지는, 테트라알콕시실란, 메틸트리알콕시실란, 디메틸디알콕시실란, γ-글리시독시프로필트리알콕시실란, γ-글리시독시프로필알킬디알콕시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리알콕시실란, γ-메타크릴옥시프로필알킬디알콕시실란 등의 가수분해성 실릴기를 갖는 실란 화합물의 완전 또는 부분 가수분해물이나 유기 용매에 분산시킨 오르가노실리카졸, 오르가노실리카졸의 표면에 가수분해성 실릴기의 가수분해 실란 화합물을 부가시킨 것 등을 예시할 수 있다. The resin containing the (poly) siloxane segment may be selected from the group consisting of tetraalkoxysilane, methyltrialkoxysilane, dimethyldialkoxysilane,? -Glycidoxypropyltrialkoxysilane,? -Glycidoxypropylalkyldialkoxysilane,? -Methacrylate Organosilica sol dispersed in a completely or partially hydrolyzed silane compound having a hydrolyzable silyl group such as oxypropyl trialkoxysilane and? -Methacryloxypropyl alkyl dialkoxysilane or an organic solvent, an organosilica sol dispersed in an organic solvent, And a hydrolyzed silane compound of a decomposable silyl group is added.

또한, 본 발명에 있어서, (폴리)실록산 세그먼트를 함유하는 수지는, (폴리)실록산 세그먼트 이외에, 다른 세그먼트 등이 함유(공중합)되어 있어도 된다. 예를 들어, (폴리)카프로락톤 세그먼트, 폴리디메틸실록산 세그먼트를 갖는 단량체 성분이 함유(공중합)되어 있어도 된다. In the present invention, the resin containing the (poly) siloxane segment may contain (copolymerize) other segments other than the (poly) siloxane segment. For example, a monomer component having a (poly) caprolactone segment and a polydimethylsiloxane segment may be contained (copolymerized).

본 발명에 있어서는, (폴리)실록산 세그먼트를 함유하는 수지로서, 이소시아네이트기와 반응하는 수산기를 갖는 단량체 등이 공중합되어 있는 것이 바람직하다. (폴리)실록산 세그먼트를 함유하는 수지에, 이소시아네이트기와 반응하는 수산기를 갖는 단량체 등이 공중합되면, 표면층의 강인성을 향상시킨다. In the present invention, it is preferable that a resin containing a (poly) siloxane segment is copolymerized with a monomer having a hydroxyl group reactive with an isocyanate group. When a monomer containing a hydroxyl group reactive with an isocyanate group is copolymerized with a resin containing a (poly) siloxane segment, the toughness of the surface layer is improved.

(폴리)실록산 세그먼트를 함유하는 수지가 수산기를 갖는 공중합체인 경우, 수산기를 갖는 (폴리)실록산 세그먼트를 함유하는 수지(공중합체)와 이소시아네이트기를 함유하는 화합물을 포함하는 도료 조성물을 사용해서 표면층을 형성하면, 효율적으로, (폴리)실록산 세그먼트와 우레탄 결합을 갖는 표면층으로 할 수 있다. (Poly) siloxane segment is a copolymer having a hydroxyl group, a surface layer is formed using a coating composition comprising a resin (copolymer) containing a (poly) siloxane segment having a hydroxyl group and a compound containing an isocyanate group , A surface layer having a (poly) siloxane segment and a urethane bond can be efficiently formed.

(폴리)실록산 세그먼트가, 공중합되는 경우에도, 별도 첨가되는 경우에도, 표면층을 형성하기 위해서 사용하는 도료 조성물의 전체 성분 100질량%에 있어서 (폴리)실록산 세그먼트가 1 내지 20질량%이면, 자기 수복성, 내오염성, 내후성, 내열성의 점에서 바람직하다. 도료 조성물의 전체 성분 100질량%에는, 반응에 관여하지 않는 용매는 포함하지 않는다. 반응에 관여하는 단량체 성분은 포함한다. Even when the (poly) siloxane segment is copolymerized or added separately, if the (poly) siloxane segment is contained in an amount of 1 to 20 mass% in 100 mass% of the total components of the coating composition used for forming the surface layer, Is preferable from the viewpoint of durability, stain resistance, weather resistance, and heat resistance. The 100 mass% of the total components of the coating composition does not contain a solvent that does not participate in the reaction. The monomer component involved in the reaction is included.

[폴리디메틸실록산 세그먼트] [Polydimethylsiloxane segment]

본 발명에 있어서, 폴리디메틸실록산 세그먼트란, 상술한 화학식 6으로 나타내는 세그먼트를 가리킨다. In the present invention, the polydimethylsiloxane segment refers to the segment represented by the above-described formula (6).

표면층에 포함되는 수지가, (4) 폴리디메틸실록산 세그먼트를 가지면, 폴리디메틸실록산 세그먼트가 표면층의 표면에 배위하게 된다. 폴리디메틸실록산 세그먼트가 표면층의 표면에 배위함으로써, 표면층 표면의 윤활성이 향상되고, 마찰 저항을 저감할 수 있다. 그 결과, 흠집 발생성을 억제할 수 있다. When the resin contained in the surface layer has (4) a polydimethylsiloxane segment, the polydimethylsiloxane segment is coordinated to the surface of the surface layer. When the polydimethylsiloxane segment is coordinated to the surface of the surface layer, the lubricity of the surface layer surface is improved and the frictional resistance can be reduced. As a result, the occurrence of scratches can be suppressed.

표면층이 (폴리)실록산 세그먼트 및/또는 폴리디메틸실록산 세그먼트를 갖기 위해서는, 표면층을 형성하기 위해서 사용하는 도료 조성물이, 폴리디메틸실록산 세그먼트를 함유하는 수지를 포함함으로써 가능하다. 본 발명에 있어서는, 폴리디메틸실록산 세그먼트를 함유하는 수지로서는, 폴리디메틸실록산 세그먼트에 비닐 단량체가 공중합된 공중합체를 사용하는 것이 바람직하다. In order for the surface layer to have a (poly) siloxane segment and / or a polydimethylsiloxane segment, a coating composition used for forming a surface layer can be obtained by including a resin containing a polydimethylsiloxane segment. In the present invention, as the resin containing a polydimethylsiloxane segment, it is preferable to use a copolymer in which a vinyl monomer is copolymerized with a polydimethylsiloxane segment.

표면층의 강인성을 향상시킬 목적으로, 폴리디메틸실록산 세그먼트를 함유하는 수지는, 이소시아네이트기와 반응하는 수산기를 갖는 단량체 등이 공중합되어 있는 것이 바람직하다. 폴리디메틸실록산 세그먼트를 함유하는 수지가 수산기를 갖는 공중합체인 경우, 수산기를 갖는 폴리디메틸실록산 세그먼트를 함유하는 수지(공중합체)와 이소시아네이트기를 함유하는 화합물을 포함하는 도료 조성물을 사용해서 표면층을 형성하면, 효율적으로 폴리디메틸실록산 세그먼트와 우레탄 결합을 갖는 표면층으로 할 수 있다. For the purpose of improving the toughness of the surface layer, it is preferable that the resin containing the polydimethylsiloxane segment is copolymerized with a monomer having a hydroxyl group reactive with an isocyanate group. When a resin containing a polydimethylsiloxane segment is a copolymer having a hydroxyl group and a surface layer is formed using a coating composition comprising a resin (copolymer) containing a polydimethylsiloxane segment having a hydroxyl group and a compound containing an isocyanate group, It is possible to efficiently form a surface layer having a polydimethylsiloxane segment and a urethane bond.

폴리디메틸실록산 세그먼트를 함유하는 수지가, 비닐 단량체와의 공중합체인 경우에는, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체, 랜덤 공중합체 중 어느 것이어도 된다. 폴리디메틸실록산 세그먼트를 함유하는 수지가 비닐 단량체와의 공중합체인 경우, 이것을, 폴리디메틸실록산계 공중합체라고 한다. 폴리디메틸실록산계 공중합체는, 리빙 중합법, 고분자 개시제법, 고분자 연쇄 이동법 등에 의해 제조할 수 있지만, 생산성을 고려하면 고분자 개시제법, 고분자 연쇄 이동법을 사용하는 것이 바람직하다. When the resin containing a polydimethylsiloxane segment is a copolymer with a vinyl monomer, it may be a block copolymer, a graft copolymer, or a random copolymer. When the resin containing a polydimethylsiloxane segment is a copolymer with a vinyl monomer, this is referred to as a polydimethylsiloxane copolymer. The polydimethylsiloxane copolymer can be produced by a living polymerization method, a polymer initiator method, a polymer chain transfer method or the like, but from the viewpoint of productivity, it is preferable to use a polymer initiator method and a polymer chain transfer method.

고분자 개시제법을 사용하는 경우에는 화학식 11로 나타내는 고분자 아조계 라디칼 중합 개시제 In the case of using the polymer initiator method, the polymeric azo radical polymerization initiator

Figure pct00011
Figure pct00011

(m은 10 내지 300의 정수, n은 1 내지 50의 정수) (m is an integer of 10 to 300, and n is an integer of 1 to 50)

을 사용해서 다른 비닐 단량체와 공중합시킬 수 있다. 또한 퍼옥시 단량체와 불포화 기를 갖는 폴리디메틸실록산을 저온에서 공중합시켜서 과산화물기를 측쇄에 도입한 예비 중합체를 합성하고, 해당 예비 중합체를 비닐 단량체와 공중합시키는 2단계의 중합을 행할 수도 있다. Can be copolymerized with other vinyl monomers. It is also possible to carry out a two-step polymerization in which a prepolymer obtained by copolymerizing a peroxide monomer and a polydimethylsiloxane having an unsaturated group at a low temperature and introducing a peroxide group into the side chain is synthesized and the prepolymer is copolymerized with the vinyl monomer.

고분자 연쇄 이동법을 사용하는 경우에는, 예를 들어 화학식 12에 나타내는 실리콘 오일 In the case of using the polymer chain transfer method, for example, the silicone oil represented by the general formula (12)

Figure pct00012
Figure pct00012

(m은 10 내지 300의 정수) (m is an integer of 10 to 300)

에, HS-CH2COOH나 HS-CH2CH2COOH 등을 부가해서 SH기를 갖는 화합물로 한 후, SH기의 연쇄 이동을 이용해서 해당 실리콘 화합물과 비닐 단량체를 공중합시킴으로써 블록 공중합체를 합성할 수 있다. , HS-CH 2 COOH or HS-CH 2 CH 2 COOH is added to give a compound having an SH group, followed by copolymerization of the corresponding silicone compound and the vinyl monomer using the SH group chain transfer to synthesize a block copolymer .

폴리디메틸실록산계 그래프트 공중합체를 합성하기 위해서는, 예를 들어 화학식 13에 나타내는 화합물, In order to synthesize a polydimethylsiloxane-based graft copolymer, for example, a compound represented by the formula (13)

Figure pct00013
Figure pct00013

(m은 10 내지 300의 정수) (m is an integer of 10 to 300)

즉, 폴리디메틸실록산의 메타크릴에스테르 등과 비닐 단량체를 공중합시킴으로써 용이하게 그래프트 공중합체를 얻을 수 있다. That is, a graft copolymer can be easily obtained by copolymerizing methacrylate or the like of polydimethylsiloxane with a vinyl monomer.

폴리디메틸실록산과의 공중합체에 사용되는 비닐 단량체로서는, 예를 들어 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 옥틸아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트, 스테아릴메타크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, n-프로필비닐에테르, 스티렌, α-메틸스티렌, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 아세트산비닐, 염화비닐, 염화비닐리덴, 불화비닐, 불화비닐리덴, 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 알릴글리시딜에테르, 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 크로톤산, 말레산, 무수 말레산, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N,N-디메틸아미노에틸메타크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸메타크릴레이트, 디아세티톤아크릴아미드, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 알릴알코올 등을 들 수 있다. Examples of vinyl monomers used in the copolymer with polydimethylsiloxane include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, octyl acrylate, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, stearyl methacrylate, lauryl methacrylate, methyl vinyl ether, ethyl Vinyl ether, n-propyl vinyl ether, styrene,? -Methyl styrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl acetate, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl fluoride, vinylidene fluoride, glycidyl acrylate, glycidyl Diallyl methacrylate, allyl glycidyl ether, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, maleic anhydride, acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, N, N-diethylaminoethyl methacrylate, diacetitone acrylamide, 2- Hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, allyl alcohol and the like.

또한, 폴리디메틸실록산계 공중합체는, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소계 용제, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용제, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르계 용제, 에탄올, 이소프로필알코올 등의 알코올계 용제 등을 단독 또는 혼합 용매 중에서 용액 중합법에 의해 제조되는 것이 바람직하다. Examples of the polydimethylsiloxane copolymer include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; alcohols such as ethanol, isopropyl alcohol And the like are preferably used alone or in a mixed solvent by a solution polymerization method.

필요에 따라 벤조일퍼옥시드, 아조비스이소부틸니트릴 등의 중합 개시제를 병용한다. 중합 반응은 50 내지 150℃에서 3 내지 12시간 행하는 것이 바람직하다. If necessary, a polymerization initiator such as benzoyl peroxide or azobisisobutylnitrile is used in combination. The polymerization reaction is preferably carried out at 50 to 150 DEG C for 3 to 12 hours.

본 발명에서의 폴리디메틸실록산계 공중합체 중의 폴리디메틸실록산 세그먼트의 양은, 표면층의 윤활성이나 내오염성 면에서, 폴리디메틸실록산계 공중합체의 전체 성분 100질량%에 있어서 1 내지 30질량%인 것이 바람직하다. 또한 폴리디메틸실록산 세그먼트의 중량 평균 분자량은 1,000 내지 30,000으로 하는 것이 바람직하다. The amount of the polydimethylsiloxane segment in the polydimethylsiloxane copolymer in the present invention is preferably 1 to 30% by mass based on 100% by mass of the total components of the polydimethylsiloxane copolymer in terms of lubricity and stain resistance of the surface layer . The weight average molecular weight of the polydimethylsiloxane segment is preferably 1,000 to 30,000.

폴리디메틸실록산 세그먼트가, 공중합되는 경우에도, 별도 첨가되는 경우에도, 표면층을 형성하기 위해서 사용하는 도료 조성물의 전체 성분 100질량%에 있어서 디메틸실록산 세그먼트가 1 내지 20질량%이면, 자기 수복성, 내오염성, 내후성, 내열성의 점에서 바람직하다. 도료 조성물의 전체 성분 100질량%에는, 반응에 관여하지 않는 용매는 포함하지 않는다. 반응에 관여하는 단량체 성분은 포함한다. Even when the polydimethylsiloxane segment is copolymerized or added separately, if the amount of the dimethylsiloxane segment is 1 to 20 mass% in 100 mass% of the total components of the coating composition used for forming the surface layer, It is preferable from the viewpoints of stain resistance, weather resistance, and heat resistance. The 100 mass% of the total components of the coating composition does not contain a solvent that does not participate in the reaction. The monomer component involved in the reaction is included.

본 발명에 있어서, 표면층을 형성하기 위해서 사용하는 도료 조성물로서, 폴리디메틸실록산 세그먼트를 함유하는 수지를 사용하는 경우에는, 폴리디메틸실록산 세그먼트 이외에, 다른 세그먼트 등이 함유(공중합)되어 있어도 된다. 예를 들어, (폴리)카프로락톤 세그먼트나 (폴리)실록산 세그먼트가 함유(공중합)되어 있어도 된다. In the present invention, when a resin containing a polydimethylsiloxane segment is used as the coating composition used for forming the surface layer, other segments may be contained (copolymerized) in addition to the polydimethylsiloxane segment. For example, a (poly) caprolactone segment or a (poly) siloxane segment may be contained (copolymerized).

표면층을 형성하기 위해서 사용하는 도료 조성물에는, (폴리)카프로락톤 세그먼트와 폴리디메틸실록산 세그먼트의 공중합체, (폴리)카프로락톤 세그먼트와 (폴리)실록산 세그먼트의 공중합체, (폴리)카프로락톤 세그먼트와 폴리디메틸실록산 세그먼트와 (폴리)실록산 세그먼트의 공중합체 등을 사용하는 것이 가능하다. 이러한 도료 조성물을 사용해서 얻어지는 표면층은, (폴리)카프로락톤 세그먼트와 폴리디메틸실록산 세그먼트 및/또는 (폴리)실록산 세그먼트를 갖는 것이 가능하게 된다. The coating composition used for forming the surface layer includes a copolymer of a (poly) caprolactone segment and a polydimethylsiloxane segment, a copolymer of a (poly) caprolactone segment and a (poly) siloxane segment, a (poly) caprolactone segment, It is possible to use a copolymer of a dimethylsiloxane segment and a (poly) siloxane segment. The surface layer obtained by using such a coating composition can have a (poly) caprolactone segment and a polydimethylsiloxane segment and / or a (poly) siloxane segment.

(폴리)카프로락톤 세그먼트, (폴리)실록산 세그먼트 및 폴리디메틸실록산 세그먼트를 갖는 표면층을 형성하기 위해서 사용하는 도료 조성물 중의, 폴리디메틸실록산계 공중합체, (폴리)카프로락톤 및 (폴리)실록산의 반응은, 폴리디메틸실록산계 공중합체 합성 시에, 적절히 (폴리)카프로락톤 세그먼트 및 폴리실록산 세그먼트를 첨가해서 공중합할 수 있다. The reaction of the polydimethylsiloxane copolymer, (poly) caprolactone and (poly) siloxane in the coating composition used for forming the surface layer having the (poly) caprolactone segment, the (poly) siloxane segment and the polydimethylsiloxane segment , A (poly) caprolactone segment and a polysiloxane segment may be appropriately added and copolymerized in the synthesis of a polydimethylsiloxane copolymer.

[(폴리)알킬렌글리콜 세그먼트] [(Poly) alkylene glycol segment]

본 발명에서는, 표면층이, (폴리)알킬렌글리콜 세그먼트를 갖는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서, (폴리)알킬렌글리콜 세그먼트란, 화학식 14로 나타내는 세그먼트를 가리킨다. In the present invention, it is preferable that the surface layer has a (poly) alkylene glycol segment. In the present invention, the (poly) alkylene glycol segment refers to a segment represented by the general formula (14).

Figure pct00014
Figure pct00014

단, n은 2 내지 4의 정수, m은 2 내지 11의 정수이다. Provided that n is an integer of 2 to 4 and m is an integer of 2 to 11. [

알킬렌글리콜은 그 탄소수(n)가 2 내지 4인 글리콜이다. 또한, 알킬렌글리콜의 반복 단위수(m)는 2 내지 11이며, 바람직하게는 3 내지 6이다. 알킬렌글리콜의 탄소수(n)가 4를 초과하는 경우 또는 알킬렌글리콜의 반복 단위수(m)가 11을 초과하는 경우에는, 알킬렌글리콜의 분자쇄가 길어져서 경화물의 가교 밀도가 낮아지고, 그 경도가 낮아져서 도막 강도, 내찰상성 등이 저하되는 경우가 있다. 한편, 알킬렌글리콜의 반복 단위수(m)가 2 미만이 되는 경우에는, 알킬렌글리콜의 분자쇄가 짧아져서 경화물의 가교 밀도가 높아지고, 경화물이 유연성을 상실하기 때문에, 경화물의 자기 수복성과 가공성이 저하되는 경우가 있다. The alkylene glycol is a glycol having 2 to 4 carbon atoms (n). The number (m) of repeating units of the alkylene glycol is 2 to 11, preferably 3 to 6. When the number of carbon atoms (n) of the alkylene glycol is more than 4, or when the number (m) of repeating units of the alkylene glycol is more than 11, the molecular chain of the alkylene glycol becomes long and the crosslinking density of the cured product becomes low, The hardness thereof is lowered, and the coating film strength, scratch resistance and the like may be lowered. On the other hand, when the number of recurring units (m) of the alkylene glycol is less than 2, the molecular chain of the alkylene glycol is shortened and the cross-linking density of the cured product becomes high and the cured product loses its flexibility. The workability may be lowered.

(폴리)알킬렌글리콜 세그먼트를 함유하는 수지를 포함하는 도료 조성물을 사용해서 표면층을 형성함으로써, 표면층은, (폴리)알킬렌글리콜 세그먼트를 가질 수 있다. By forming a surface layer using a coating composition comprising a resin containing a (poly) alkylene glycol segment, the surface layer can have a (poly) alkylene glycol segment.

(폴리)알킬렌글리콜 세그먼트를 함유하는 수지는, 적어도 1 이상의 수산기(히드록실기)를 갖는 것이 바람직하다. 수산기는, (폴리)알킬렌글리콜 세그먼트를 함유하는 수지의 말단에 있는 것이 바람직하다. The resin containing the (poly) alkylene glycol segment preferably has at least one hydroxyl group (hydroxyl group). The hydroxyl group is preferably at the terminal of the resin containing the (poly) alkylene glycol segment.

(폴리)알킬렌글리콜 세그먼트를 함유하는 수지로서는, 탄성을 부여하기 위해서, 말단에 아크릴레이트기를 갖는 (폴리)알킬렌글리콜(메트)아크릴레이트인 것이 바람직하다. (폴리)알킬렌글리콜(메트)아크릴레이트의 아크릴레이트 관능기(또는 메타크릴레이트 관능기) 수는 한정되지 않지만, 경화물의 자기 수복성의 점에서 단관능인 것이 가장 바람직하다. As the resin containing the (poly) alkylene glycol segment, a (poly) alkylene glycol (meth) acrylate having an acrylate group at the terminal is preferred in order to impart elasticity. The number of the acrylate functional group (or methacrylate functional group) of the (poly) alkylene glycol (meth) acrylate is not limited, but is most preferably monofilament in terms of self-restoring property of the cured product.

표면층을 형성하기 위해서 사용하는 도료 조성물 중에 함유되는 (폴리)알킬렌글리콜(메트)아크릴레이트로서는, (폴리)에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, (폴리)프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, (폴리)부틸렌글리콜(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 각각 다음의 화학식 15, 화학식 16, 화학식 17로 대표되는 구조이다. Examples of the (poly) alkylene glycol (meth) acrylate contained in the coating composition used for forming the surface layer include (poly) ethylene glycol (meth) acrylate, (poly) propylene glycol Butylene glycol (meth) acrylate. Are the structures represented by the following formulas (15), (16) and (17), respectively.

(폴리)에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트: (Poly) ethylene glycol (meth) acrylate:

Figure pct00015
Figure pct00015

(폴리)프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트: (Poly) propylene glycol (meth) acrylate:

Figure pct00016
Figure pct00016

(폴리)부틸렌글리콜(메트)아크릴레이트: (Poly) butylene glycol (meth) acrylate:

Figure pct00017
Figure pct00017

화학식 15, 화학식 16, 화학식 17에서 R은 수소(H) 또는 메틸기(-CH3), m은 2 내지 11이 되는 정수이다. In the formulas (15), (16) and (17), R is hydrogen (H) or a methyl group (-CH 3 ), and m is an integer of 2 to 11.

이들 폴리알킬렌글리콜(메트)아크릴레이트 중, 알킬렌글리콜의 탄소수(m)가 2의 에틸렌글리콜인 (폴리)에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트가 특히 바람직하다. (폴리)에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트는, 화학식 14에서의 탄소수(n)가 가장 작으므로, 얻어지는 경화물의 내화장품성과 내찰상성의 양립에 기여할 수 있다. Of these polyalkylene glycol (meth) acrylates, (poly) ethylene glycol (meth) acrylates in which the number of carbon atoms of the alkylene glycol (m) is 2 are particularly preferable. (Poly) ethylene glycol (meth) acrylate has the smallest number of carbon atoms (n) in the formula (14), it can contribute to compatibility between the cosmetic property and scratch resistance of the resulting cured product.

본 발명에서는, 바람직하게는 상술한 이소시아네이트기를 함유하는 화합물과 (폴리)알킬렌글리콜(메트)아크릴레이트의 수산기를 반응시켜서 우레탄(메트)아크릴레이트로서 표면층에 사용함으로써, 표면층이, (2) 우레탄 결합 및 (3) (폴리)알킬렌글리콜 세그먼트를 가질 수 있고, 결과적으로 표면층의 강인성을 향상시킴과 함께 자기 수복성을 향상시킬 수 있어서 바람직하다. In the present invention, preferably, the above-mentioned isocyanate group-containing compound is reacted with a hydroxyl group of (poly) alkylene glycol (meth) acrylate to form a surface layer as urethane (meth) acrylate, And (3) (poly) alkylene glycol segments. As a result, it is possible to improve the toughness of the surface layer and improve the self-repellency.

상술한 이소시아네이트기를 함유하는 화합물과 (폴리)알킬렌글리콜(메트)아크릴레이트와의 우레탄화 반응 시에는, 히드록시알킬(메트)아크릴레이트, 장쇄 알코올 등을 배합할 수 있다. 히드록시알킬(메트)아크릴레이트를 배합함으로써, 경화물인 표면층의 경도를 높일 수 있다. 장쇄 알코올을 배합함으로써, 경화물인 표면층의 표면 활성을 높일 수 있고, 그 결과 내찰상성을 향상시킬 수 있다. 또한, 이 장쇄 알코올은 상기 장쇄 알킬기 함유 화합물의 개념에 포함되는 화합물이다. In the urethanization reaction of the above-mentioned isocyanate group-containing compound with (poly) alkylene glycol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, long chain alcohol and the like can be compounded. By blending the hydroxyalkyl (meth) acrylate, the hardness of the surface layer as the cured product can be increased. By blending a long-chain alcohol, the surface activity of the surface layer as a cured product can be enhanced, and as a result, scratch resistance can be improved. This long-chain alcohol is a compound included in the concept of the long-chain alkyl group-containing compound.

이소시아네이트기를 함유하는 화합물과 (폴리)알킬렌글리콜(메트)아크릴레이트와의 우레탄화 반응 시에 동시에 배합하는 히드록시알킬(메트)아크릴레이트로서는, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 히드록시부틸(메트)아크릴레이트 등이 예시된다. Examples of the hydroxyalkyl (meth) acrylate which is simultaneously blended during the urethanation reaction between a compound containing an isocyanate group and (poly) alkylene glycol (meth) acrylate include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (Meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, and the like.

이소시아네이트기를 함유하는 화합물과 (폴리)알킬렌글리콜(메트)아크릴레이트와의 우레탄화 반응 시에 동시에 배합하는 장쇄 알코올로서는, 트리데칸올, 미리스틸알코올, 세틸알코올, 스테아릴알코올, 베헤닐알코올, 폴리옥시에틸렌모노스테아레이트, 폴리옥시에틸렌세틸에테르, 폴리옥시에틸렌스테아릴에테르, 글리세롤모노스테아레이트 등을 들 수 있다. 특히 바람직한 장쇄 알코올로서는, 폴리에테르 변성 세틸알코올 등의 폴리에테르 변성된 장쇄 알코올을 들 수 있다. 왜냐하면, 폴리에테르 변성된 장쇄 알코올을 사용하면, 경화물인 표면층에 대전 방지 효과를 부여할 수 있기 때문이다. Examples of long-chain alcohols that are simultaneously blended during the urethanation reaction between a compound containing an isocyanate group and (poly) alkylene glycol (meth) acrylate include tridecanol, myristyl alcohol, cetyl alcohol, stearyl alcohol, behenyl alcohol, Polyoxyethylene monostearate, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene stearyl ether, glycerol monostearate, and the like. Particularly preferred long-chain alcohols include polyether-modified long-chain alcohols such as polyether-modified cetyl alcohol. This is because use of a polyether-modified long-chain alcohol can impart an antistatic effect to the surface layer which is a cured product.

상기 이소시아네이트기를 함유하는 화합물과 (폴리)알킬렌글리콜(메트)아크릴레이트와의 우레탄화 반응은, 유기 용제 중에서 촉매, 중합 금지제 등의 존재 하에 행하여진다. 우레탄화 반응에 있어서의 반응 온도는 상온 내지 100℃가 바람직하고, 반응 시간은 1 내지 10시간이 바람직하다. 반응 온도가 상온보다 낮은 경우 또는 반응 시간이 1시간보다 짧은 경우에는, 반응의 진행이 늦어, 목적으로 하는 우레탄(메트)아크릴레이트의 수율이 저하되는 경우가 있다. 한편, 반응 온도가 100℃를 초과한 경우 또는 반응 시간이 10시간보다 긴 경우에는, 부반응이 일어나기 쉬워지는 경우가 있다. The urethane formation reaction of the compound containing an isocyanate group with the (poly) alkylene glycol (meth) acrylate is carried out in the presence of a catalyst, a polymerization inhibitor and the like in an organic solvent. The reaction temperature in the urethanization reaction is preferably from room temperature to 100 ° C, and the reaction time is preferably from 1 to 10 hours. When the reaction temperature is lower than room temperature or the reaction time is shorter than 1 hour, the progress of the reaction may be delayed and the yield of the desired urethane (meth) acrylate may be lowered. On the other hand, when the reaction temperature exceeds 100 ° C or when the reaction time is longer than 10 hours, side reactions may easily occur.

상기 이소시아네이트기를 함유하는 화합물과 (폴리)알킬렌글리콜(메트)아크릴레이트와의 우레탄화 반응에 사용하는 유기 용제의 예는, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소계 용제; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤계 용제; 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산이소부틸, 아세트산부틸 등의 에스테르계 용제를 들 수 있다. 촉매의 예로서는, 디부틸 주석 라우레이트, 디부틸 주석 디에틸헥소에이트, 디부틸 주석 술피트 등을 들 수 있다. 중합 금지제의 예로서는, 히드로퀴논모노메틸에테르 등을 들 수 있다. Examples of the organic solvent used in the urethane formation reaction between the compound containing an isocyanate group and (poly) alkylene glycol (meth) acrylate include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; And ester solvents such as ethyl acetate, propyl acetate, isobutyl acetate, and butyl acetate. Examples of the catalyst include dibutyltin laurate, dibutyltin diethylhexoate and dibutyltin sulfite. Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone monomethyl ether and the like.

[용매, 용매 E] [Solvent, solvent E]

상기 도료 조성물 A, 도료 조성물 B는 용매를 포함해도 된다. 용매의 종류수로서는 1종 이상 20종 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1종 이상 10종 이하, 더욱 바람직하게는 1종 이상 6종 이하이다. The coating composition A and the coating composition B may contain a solvent. The number of kinds of the solvent is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and still more preferably 1 or more and 6 or less.

여기서 「용매」란, 도포 후의 건조 공정에서 거의 전량을 증발시키는 것이 가능한, 상온, 상압에서 액체인 물질을 가리킨다. Here, the term &quot; solvent &quot; refers to a substance which is liquid at room temperature and normal pressure, capable of evaporating substantially the entire amount in the drying step after application.

여기서, 용매의 종류는 용매를 구성하는 분자 구조에 따라 결정된다. 즉, 동일한 원소 조성이고, 또한 관능기의 종류와 수가 동일해도 결합 관계가 상이한 것(구조 이성체), 상기 구조 이성체는 아니지만, 3차원 공간 내에서는 어떤 배좌를 취해도 완전히는 겹쳐지지 않는 것(입체 이성체)은, 종류가 상이한 용매로서 취급한다. 예를 들어, 2-프로판올과 n-프로판올은 상이한 용매로서 취급한다. Here, the type of the solvent is determined according to the molecular structure constituting the solvent. (Stereoisomer) which does not completely overlap even if it is taken in any three-dimensional space in the three-dimensional space (stereoisomer), that is, the same elemental composition and the same kind of substance and the same number of functional groups Are handled as solvents different in kind. For example, 2-propanol and n-propanol are treated as different solvents.

또한, 용매를 포함하는 경우에는 이하의 특성(조건 1)을 나타내는 용매인 것이 바람직하다. When a solvent is contained, it is preferable that the solvent exhibits the following characteristics (Condition 1).

조건 1 아세트산n-부틸을 기준으로 한 상대 증발 속도(ASTM D3539-87(2004년))가 가장 낮은 용매를 용매 E라 했을 때, 용매 E의 상대 증발 속도가 0.3 이하 Condition 1 When the relative evaporation rate of solvent E is 0.3 or less when the solvent having the lowest relative evaporation rate (ASTM D3539-87 (2004)) based on n-butyl acetate is referred to as solvent E

여기서, 용매의 아세트산n-부틸을 기준으로 한 상대 증발 속도란, ASTMD3539-87(2004년)에 준거해서 측정되는 증발 속도이다. 구체적으로는, 건조 공기 하에서 아세트산n-부틸이 90질량% 증발하는데 필요로 하는 시간을 기준으로 하는 증발 속도의 상대값으로서 정의되는 값이다. Here, the relative evaporation rate based on the n-butyl acetate of the solvent is the evaporation rate measured in accordance with ASTM D3539-87 (2004). Specifically, it is a value defined as a relative value of the evaporation rate based on the time required for 90% by mass evaporation of n-butyl acetate under dry air.

상기 용매 E의 상대 증발 속도가 0.3보다도 큰 경우에는, 불소 화합물 D의 표면에의 배향에 필요로 하는 시간이 짧아지기 때문에, 내지문성의 저하를 발생하는 경우가 있다. 또한, 상기 용매 E의 상대 증발 속도의 하한은, 건조 공정에서 증발시켜 도막으로부터 제거할 수 있는 용매라면 문제없으며, 일반적인 도포 공정에서는, 0.005 이상이면 된다. When the relative evaporation rate of the solvent E is larger than 0.3, the time required for the orientation to the surface of the fluorine compound D is shortened, resulting in deterioration of glossiness. The lower limit of the relative evaporation rate of the solvent E is not particularly limited as long as it is a solvent that can be removed from the coating film by evaporation in the drying process.

용매 E로서는, 이소부틸케톤(상대 증발 속도: 0.2), 이소포론(상대 증발 속도: 0.026), 디틸렌글리콜모노부틸에테르(상대 증발 속도: 0.004,), 디아세톤알코올(상대 증발 속도: 0.15), 올레일알코올(상대 증발 속도: 0.003), 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트(상대 증발 속도: 0.2), 노닐페녹시에탄올(상대 증발 속도: 0.25), 프로필렌글리콜모노에틸에테르(상대 증발 속도: 0.1) 등이 있다. (Relative evaporation rate: 0.25), isophorone (relative evaporation rate: 0.026), diethylene glycol monobutyl ether (relative evaporation rate: 0.004), diacetone alcohol (relative evaporation rate: 0.15) , Ethylene glycol monoethyl ether acetate (relative evaporation rate: 0.2), nonylphenoxyethanol (relative evaporation rate: 0.25), propylene glycol monoethyl ether (relative evaporation rate: 0.1) .

[다른 첨가제] [Other additives]

상기 도료 조성물 A, B에는, 중합 개시제나 경화제나 촉매를 포함하는 것이 바람직하다. 중합 개시제 및 촉매는, 표면층의 경화를 촉진하기 위해서 사용된다. 중합 개시제로서는, 도료 조성물에 포함되는 성분을 음이온, 양이온, 라디칼 중합 반응 등에 의한 중합, 축합 또는 가교 반응을 개시 또는 촉진할 수 있는 것이 바람직하다. The coating compositions A and B preferably contain a polymerization initiator, a curing agent and a catalyst. The polymerization initiator and the catalyst are used to promote curing of the surface layer. As the polymerization initiator, it is preferable that the component contained in the coating composition can initiate or accelerate polymerization, condensation or crosslinking reaction by anion, cation, radical polymerization reaction or the like.

중합 개시제, 경화제 및 촉매는 다양한 것을 사용할 수 있다. 또한, 중합 개시제, 경화제 및 촉매는 각각 단독으로 사용해도 되고, 복수의 중합 개시제, 경화제 및 촉매를 동시에 사용해도 된다. 또한, 산성 촉매나, 열 중합 개시제나 광중합 개시제를 병용해도 된다. 산성 촉매의 예로서는, 염산 수용액, 포름산, 아세트산 등을 들 수 있다. 열 중합 개시제의 예로서는, 과산화물, 아조 화합물을 들 수 있다. 또한, 광중합 개시제의 예로서는, 알킬페논계 화합물, 황 함유계 화합물, 아실포스핀옥시드계 화합물, 아민계 화합물 등을 들 수 있다. Various polymerization initiators, curing agents and catalysts may be used. The polymerization initiator, the curing agent and the catalyst may be used alone, or a plurality of polymerization initiators, a curing agent and a catalyst may be used at the same time. Further, an acidic catalyst, a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator may be used in combination. Examples of the acidic catalyst include hydrochloric acid aqueous solution, formic acid, and acetic acid. Examples of the thermal polymerization initiator include peroxides and azo compounds. Examples of the photopolymerization initiator include an alkylphenon-based compound, a sulfur-containing compound, an acylphosphine oxide-based compound, and an amine-based compound.

광중합 개시제로서는, 경화성의 관점에서, 알킬페논계 화합물이 바람직하다. 알킬페논형 화합물의 구체예로서는, 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤, 2.2-디메톡시-1.2-디페닐에탄-1-온, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-페닐)-1-부탄, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-(4-페닐)-1-부탄, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부탄, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부탄, 1-시클로헥실-페닐케톤, 2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 비스(2-페닐-2-옥소아세트산)옥시비스에틸렌 및 이들 재료를 고분자량화한 것 등을 들 수 있다. As the photopolymerization initiator, an alkylphenone-based compound is preferable from the viewpoint of curability. Specific examples of the alkylphenone-type compound include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2.2-dimethoxy-1,2-diphenylethane- 2-dimethylamino-1- (4-phenyl) -1-butane, 2- (dimethylamino) -2 - [(4-methylphenyl) methyl] -1 - (4-methylphenyl) -1-butane, 2- (dimethylamino) -2 - [(4-methylphenyl) Phenyl] -1-butane, 1-cyclohexyl-phenyl ketone, 2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2 2-methyl-1-propan-1-one, bis (2-phenyl-2-oxoacetic acid) oxybisethylene, and those obtained by high- .

또한, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위라면, 표면층을 형성하기 위해서 사용하는 도료 조성물 A, B에 레벨링제, 자외선 흡수제, 활제, 대전 방지제 등을 첨가해도 된다. 이에 의해, 표면층은 레벨링제, 자외선 흡수제, 활제, 대전 방지제 등을 함유할 수 있다. 레벨링제의 예로서는, 아크릴 공중합체 또는 실리콘계, 불소계의 레벨링제를 들 수 있다. 자외선 흡수제의 구체예로서는, 벤조페논계, 벤조트리아졸계, 옥살산아닐리드계, 트리아진계 및 힌더드아민계의 자외선 흡수제를 들 수 있다. 대전 방지제의 예로서는 리튬염, 나트륨염, 칼륨염, 루비듐염, 세슘염, 마그네슘염, 칼슘염 등의 금속염을 들 수 있다. To the extent that the effect of the present invention is not impaired, a leveling agent, an ultraviolet absorber, a lubricant, an antistatic agent and the like may be added to the coating compositions A and B used for forming the surface layer. Thus, the surface layer may contain a leveling agent, an ultraviolet absorber, a lubricant, an antistatic agent, and the like. Examples of the leveling agent include an acrylic copolymer or a silicon-based or fluorine-based leveling agent. Specific examples of ultraviolet absorbers include benzophenone, benzotriazole, oxalyl oxalate, triazine, and hindered amine ultraviolet absorbers. Examples of the antistatic agent include a metal salt such as a lithium salt, a sodium salt, a potassium salt, a rubidium salt, a cesium salt, a magnesium salt, and a calcium salt.

[적층 필름의 제조 방법] [Production method of laminated film]

본 발명의 적층 필름의 표면에 형성되는 표면층은, 상술한 도료 조성물을 상술한 지지 기재 위에 도포-건조-경화함으로써 형성하는 제조 방법을 사용하는 것이 바람직하다. The surface layer formed on the surface of the laminated film of the present invention is preferably formed by applying the above-mentioned coating composition onto the above-mentioned supporting substrate, followed by drying-curing.

도포에 의한 적층 필름의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 도료 조성물을 딥 코팅법, 롤러 코팅법, 와이어 바 코팅법, 그라비아 코팅법이나 다이 코팅법(미국 특허 제2681294호 명세서) 등에 의해 지지 기재 등에 도포함으로써 표면층을 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 이들 도포 방식 중, 그라비아 코팅법, 또는, 다이 코팅법이 도포 방법으로서 보다 바람직하다. The method for producing the laminated film by coating is not particularly limited, but the coating composition may be applied to a support substrate or the like by a dip coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method or a die coating method (US Patent No. 2681294) It is preferable to form the surface layer by coating. Among these coating methods, a gravure coating method or a die coating method is more preferable as a coating method.

계속해서, 지지 기재 등의 위에 도포된 액막을 건조한다. 얻어지는 적층 필름 내로부터 완전히 용매를 제거하는 것 외에, 도포에 의해 형성된 액막 내의 불소 화합물 D를 표면으로 이동하여, 불소 화합물 세그먼트를 표면층의 최표면에 편석시키는 관점에서도, 건조 공정에서는 액막의 가열을 수반하는 것이 바람직하다. Subsequently, the liquid film applied on the supporting substrate or the like is dried. From the viewpoint of moving the fluorine compound D in the liquid film formed by coating to the surface and segregating the fluorine compound segment on the outermost surface of the surface layer in addition to completely removing the solvent from the laminated film to be obtained, .

건조 방법에 대해서는, 전열 건조(고열 물체에의 밀착), 대류 전열(열풍), 복사 전열(적외선), 기타(마이크로파, 유도 가열) 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 본 발명의 제조 방법에서는, 정밀하게 폭 방향에서도 건조 속도를 균일하게 할 필요로부터, 대류 전열 또는 복사 전열을 사용한 방식이 바람직하다. Examples of the drying method include dry heating (close contact with a hot object), convection heating (hot wind), radiant heat (infrared), and other (microwave, induction heating). Among them, in the production method of the present invention, it is preferable to use convection heat transfer or radiation heat transfer since the drying speed must be uniform even in the width direction precisely.

건조 과정은 일반적으로 (A) 항율 건조 기간, (B) 감율 건조 기간으로 나뉘며, 전자는, 액막 표면에 있어서 용매 분자의 대기 중으로의 확산이 건조의 율속으로 되어 있기 때문에, 건조 속도는, 이 구간에서 일정하여, 건조 속도는 대기 중의 피증발 용매 분압, 풍속, 온도에 의해 지배되고, 막면 온도는 열풍 온도와 대기 중의 피증발 용매 분압에 의해 결정되는 값으로 일정해진다. 후자는, 액막 중에서의 용매의 확산이 율속으로 되어 있기 때문에, 건조 속도는 이 구간에서 일정 값을 나타내지 않고 계속해서 저하되며, 액막 내의 용매의 확산 계수에 의해 지배되고, 막면 온도는 상승한다. 여기서 건조 속도란, 단위 시간, 단위 면적당의 용매 증발량을 나타낸 것으로, g·m-2·s-1의 차원으로 이루어진다. The drying process is generally divided into (A) an expiratory drying period and (B) a decreasing rate drying period, and since the diffusion of solvent molecules into the atmosphere on the surface of the liquid film is the rate of drying, The drying rate is governed by the partial pressure of the evaporating solvent in the atmosphere, the wind speed and the temperature, and the film surface temperature is constantly determined by the hot air temperature and the partial pressure of the solvent evaporated in the atmosphere. In the latter case, since the diffusion of the solvent in the liquid film is controlled, the drying rate does not exhibit a constant value in this section, but is continuously lowered, controlled by the diffusion coefficient of the solvent in the liquid film, and the film surface temperature is raised. Here, the drying rate refers to the amount of solvent evaporation per unit time and per unit area, which is in the dimension of g · m -2 · s -1 .

상기 건조 속도에는, 바람직한 범위가 있어, 10g·m-2·s-1 이하인 것이 바람직하고, 5g·m-2·s-1 이하인 것이 보다 바람직하다. 하한값은 0.1g·m-2·s-1 이상이 바람직하다. 항율 건조 구간에서의 건조 속도를 이 범위에 함으로써, 건조 속도의 불균일함에 기인하는 얼룩을 방지할 수 있다. The drying rate is preferably in the range of 10 g · m -2 · s -1 or less, more preferably 5 g · m -2 · s -1 or less. The lower limit value is preferably 0.1 g · m -2 · s -1 or more. By setting the drying speed in the constant rate drying zone to this range, it is possible to prevent unevenness caused by nonuniform drying speed.

0.1g·m-2·s-1 이상 10g·m-2·s-1 이하의 범위의 건조 속도가 얻어지면, 특히 특정한 풍속, 온도에 한정되지 않는다. It is not particularly limited to a specific wind speed and temperature if a drying speed in the range of 0.1 gm -2 s -1 or more and 10 gm -2 s -1 or less is obtained.

본 발명의 적층 필름의 제조 방법에 있어서는, 감율 건조 기간에서는 잔존 용매의 증발과 함께, 불소 화합물 D의 배향이 행하여진다. 이 과정에서는 배향을 위한 시간을 필요로 하기 때문에, 감율 건조 기간에서의 막면 온도 상승 속도에는 바람직한 범위가 존재하여, 5℃/초 이하인 것이 바람직하고, 1℃/초 이하인 것이 보다 바람직하다. In the method for producing a laminated film of the present invention, the fluorine compound D is aligned with the evaporation of the remaining solvent in the rate drying step. Since a time for orientation is required in this process, there is a preferable range for the rate of temperature rise of the film surface in the rate-reduction drying period, preferably 5 deg. C / second or less, and more preferably 1 deg. C / second or less.

또한, 열 또는 에너지선을 조사함으로 인한 가일층의 경화 조작(경화 공정)을 행해도 된다. 경화 공정에서, 도료 조성물 A를 사용하는 경우에 열로 경화하는 경우에는, 실온 내지 200℃인 것이 바람직하고, 경화 반응의 활성화 에너지의 관점에서, 100℃ 이상 200℃ 이하가 보다 바람직하고, 130℃ 이상 200℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다. Further, a curing operation (curing process) of a further layer may be performed by irradiating heat or an energy ray. When the coating composition A is used in the curing step, it is preferably from room temperature to 200 캜, more preferably from 100 캜 or higher to 200 캜 or lower from the viewpoint of the activation energy of the curing reaction, More preferably 200 ° C or lower.

또한, 활성 에너지선에 의해 경화하는 경우에는 범용성의 점에서 전자선(EB선) 및/또는 자외선(UV선)인 것이 바람직하다. 또한 자외선에 의해 경화하는 경우에는, 산소 저해를 방지할 수 있으므로 산소 농도가 가능한 한 낮은 것이 바람직하고, 질소 분위기 하(질소 퍼지)에서 경화하는 것이 보다 바람직하다. 산소 농도가 높은 경우에는, 최표면의 경화가 저해되어, 표면의 경화가 불충분해지고, 내지문성이 불충분해지는 경우가 있다. 또한, 자외선을 조사할 때 사용하는 자외선 램프의 종류로서는, 예를 들어 방전 램프 방식, 플래시 방식, 레이저 방식, 무 전극 램프 방식 등을 들 수 있다. 방전 램프 방식인 고압 수은등을 사용해서 자외선 경화시킨 경우, 자외선의 조도가 100 내지 3,000mW/cm2, 바람직하게는 200 내지 2,000mW/cm2, 더욱 바람직하게는 300 내지 1,500mW/cm2가 되는 조건에서 자외선 조사를 행하는 것이 바람직하고, 자외선의 적산 광량이 100 내지 3,000mJ/cm2, 바람직하게 200 내지 2,000mJ/cm2, 더욱 바람직하게는 300 내지 1,500mJ/cm2가 되는 조건에서 자외선 조사를 행하는 것이 보다 바람직하다. 여기서, 자외선의 조도란, 단위 면적당 받는 조사 강도이며, 램프 출력, 발광 스펙트럼 효율, 발광 밸브의 직경, 반사경의 설계 및 피조사물과의 광원 거리에 따라 변화한다. 그러나, 반송 스피드에 따라 조도가 변화하지는 않는다. 또한, 자외선 적산 광량이란, 단위 면적당 받는 조사 에너지이며, 그 표면에 도달하는 포톤의 총량이다. 적산 광량은, 광원 하를 통과하는 조사 속도에 반비례하고, 조사 횟수와 램프등수에 비례한다. In the case of curing by an active energy ray, it is preferable to be electron beam (EB line) and / or ultraviolet ray (UV ray) in view of versatility. In the case of curing by ultraviolet rays, oxygen inhibition can be prevented, so that the oxygen concentration is preferably as low as possible, and it is more preferable to cure under a nitrogen atmosphere (nitrogen purge). When the oxygen concentration is high, the curing of the outermost surface is inhibited, the surface hardening becomes insufficient, and the transparency sometimes becomes insufficient. Examples of the ultraviolet lamp used for irradiating ultraviolet rays include a discharge lamp system, a flash system, a laser system, and an electrodeless lamp system. The case where an ultraviolet curing method using the discharge lamp is a high pressure mercury lamp, the illuminance of ultraviolet rays of 100 to 3,000mW / cm 2, preferably 200 to 2,000mW / cm 2, more preferably 300 to where the 1,500mW / cm 2 preferable to perform the UV irradiation in the conditions, the accumulated light quantity of ultraviolet light from 100 to 3,000mJ / cm 2, preferably 200 to 2,000mJ / cm 2, more preferably ultraviolet ray irradiation under the condition that 300 to 1,500mJ / cm 2 Is more preferable. Here, the illuminance of ultraviolet rays is an irradiation intensity per unit area and varies depending on the lamp output, the efficiency of the light emission spectrum, the diameter of the light emission valve, the design of the reflector, and the light source distance from the irradiated object. However, the illuminance does not change depending on the conveying speed. The ultraviolet accumulated light amount is the total amount of photons reaching the surface, which is the irradiation energy received per unit area. The accumulated light amount is inversely proportional to the irradiation speed passing through the light source, and is proportional to the number of times of irradiation and the number of lamps.

실시예Example

이어서, 실시예에 기초하여 본 발명을 설명하는데, 본 발명은 반드시 이들에 한정되는 것은 아니다. Next, the present invention will be described based on examples, but the present invention is not necessarily limited to them.

<불소 화합물 D> <Fluorine compound D>

[불소 화합물 D1] [Fluorine compound D1]

불소 화합물 D1로서 플루오로폴리에테르 세그먼트를 포함하는 아크릴레이트 화합물("메가페이스" RS-75 DIC 가부시끼가이샤 제조 고형분 농도 40질량% 용매(톨루엔 및 메틸에틸케톤) 60질량%)을 사용하였다. As the fluorine compound D1, an acrylate compound ("Megaface" RS-75 DIC, solid content concentration of 40 mass% solvent (toluene and methyl ethyl ketone) 60 mass%) containing a fluoropolyether segment was used.

[불소 화합물 D2] [Fluorine compound D2]

불소 화합물 D2로서 플루오로폴리에테르 세그먼트를 포함하는 실록산 화합물(KY-108 신에쯔 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 고형분 농도 20질량% 용매(메탄올 및 이소프로필알코올) 80질량%)을 사용하였다. As a fluorine compound D2, a siloxane compound containing a fluoropolyether segment (KY-108, solid content concentration of 20 mass% solvent (methanol and isopropyl alcohol: 80 mass%) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used.

[불소 화합물 D3] [Fluorine compound D3]

불소 화합물 D3으로서 플루오로폴리에테르 세그먼트(플루오로테트라에틸렌글리콜 세그먼트)를 포함하는 2관능 아크릴레이트 화합물(FPTMG-A 유지 제품 가부시끼가이샤 제조 고형분 농도 100질량%)을 사용하였다. A bifunctional acrylate compound (FPTMG-A retention product, solid content concentration 100% by mass) containing a fluoropolyether segment (fluorotetraethylene glycol segment) was used as the fluorine compound D3.

[불소 화합물 D4] [Fluorine compound D4]

불소 화합물 D4로서 플루오로알킬 세그먼트를 포함하는 아크릴레이트 화합물(트리아크릴로일-헵타데카플루오로노네닐-펜타에리트리톨 교에샤 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 고형분 농도 100질량%)을 사용하였다. As the fluorine compound D4, an acrylate compound containing a fluoroalkyl segment (triacryloyl-heptadecafluorononyl-pentaerythritol hexaacrylate solid content concentration: 100% by mass) was used.

[불소 화합물 D5] [Fluorine compound D5]

불소 화합물 D5로서 플루오로알킬 세그먼트를 포함하는 아크릴레이트 화합물(펜타아크릴로일-헵타데카플루오로노네닐-디펜타에리트리톨 교에샤 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 고형분 농도 100질량%)을 사용하였다. As the fluorine compound D5, an acrylate compound containing a fluoroalkyl segment (pentaacryloyl-heptadecafluorononyl-dipentaerythritol hexaacrylate solid content concentration: 100% by mass) was used.

<폴리실록산의 합성> <Synthesis of polysiloxane>

[폴리실록산(a)][Polysiloxane (a)]

교반기, 온도계, 콘덴서 및 질소 가스 도입관을 구비한 500ml 용량의 플라스크에 에탄올 106질량부, 테트라에톡시실란 320질량부, 탈이온수 21질량부 및 1질량% 염산 1질량부를 투입하고, 85℃에서 2시간 유지한 후, 승온하면서 에탄올을 회수하고, 180℃에서 3시간 유지하였다. 그 후, 냉각하여, 점조의 폴리실록산(a)을 얻었다. 106 parts by mass of ethanol, 320 parts by mass of tetraethoxysilane, 21 parts by mass of deionized water and 1 part by mass of 1% by mass hydrochloric acid were put into a 500 ml flask equipped with a stirrer, a thermometer, a condenser and a nitrogen gas introducing tube, After being maintained for 2 hours, ethanol was recovered while raising the temperature and maintained at 180 캜 for 3 hours. Thereafter, the mixture was cooled to obtain a viscous polysiloxane (a).

[폴리실록산(b)][Polysiloxane (b)]

교반기, 온도계, 콘덴서 및 질소 가스 도입관을 구비한 500ml 용량 플라스크에 에탄올 106질량부, 메틸트리메톡시실란 270질량부, γ-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란 23질량부, 탈이온수 100질량부, 1질량% 염산 1질량부 및 히드로퀴논모노메틸에테르 0.1질량부를 투입하고, 80℃에서 3시간 반응시켜, 폴리실록산(b)을 합성하였다. 이것을 메틸이소부틸케톤으로 50질량%로 조정하였다. In a 500 ml capacity flask equipped with a stirrer, a thermometer, a condenser and a nitrogen gas introducing tube, 106 parts by mass of ethanol, 270 parts by mass of methyltrimethoxysilane, 23 parts by mass of? -Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 100 parts by mass of deionized water , 1 mass part of 1 mass% hydrochloric acid and 0.1 mass part of hydroquinone monomethyl ether were charged and reacted at 80 deg. C for 3 hours to synthesize a polysiloxane (b). This was adjusted to 50 mass% with methyl isobutyl ketone.

<폴리디메틸실록산 화합물의 합성> &Lt; Synthesis of polydimethylsiloxane compound >

[폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a)][Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a)]

폴리실록산(a)의 합성과 마찬가지의 장치를 사용하여, 톨루엔 50질량부 및 메틸이소부틸케톤 50질량부, 폴리디메틸실록산계 고분자 중합 개시제(와꼬 쥰야꾸 가부시끼가이샤 제조 VPS-0501) 20질량부, 메타크릴산메틸 18질량부, 메타크릴산부틸 38질량부, 2-히드록시에틸메타크릴레이트 23질량부, 메타크릴산 1중량부 및 1-티오글리세린 0.5질량부를 투입하고, 180℃에서 8시간 반응시켜서 폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a)를 얻었다. 얻어진 블록 공중합체는, 고형분 농도 50질량%이었다(용매(톨루엔 및 메틸이소부틸케톤)가 50질량%이었다). 50 parts by mass of toluene and 50 parts by mass of methyl isobutyl ketone, 20 parts by mass of a polydimethylsiloxane-based polymer polymerization initiator (VPS-0501, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 18 parts by mass of methyl methacrylate, 38 parts by mass of butyl methacrylate, 23 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, 1 part by mass of methacrylic acid and 0.5 part by mass of 1-thioglycerol were charged, To obtain a polydimethylsiloxane-based block copolymer (a). The obtained block copolymer had a solid content concentration of 50% by mass (solvent (toluene and methyl isobutyl ketone) was 50% by mass).

[폴리디메틸실록산계 그래프트 공중합체(b)][Polydimethylsiloxane-based graft copolymer (b)]

폴리실록산(a)의 합성에 사용한 장치를 사용하여, 톨루엔 50질량부, 아세트산이소부틸 50질량부를 투입하고, 110℃까지 승온하였다. 별도로 메타크릴산메틸 20질량부, 카프로락톤메타크릴에스테르(다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 FM-5) 32질량부, 2-히드록시에틸메타크릴레이트 17질량부, 폴리실록산(b) 10질량부, 편말단 메타크릴기 폴리디메틸실록산(도아 고세 가부시끼가이샤 제조 AK-32) 20질량부 및 메타크릴산 1질량부, 1,1-아조비스시클로헥산-1-카르보니트릴 2질량부를 혼합하였다. 이 혼합 단량체를 상기의 톨루엔, 아세트산부틸의 혼합액에 2시간에 걸쳐 적하하였다. 그 후, 110℃에서 8시간 반응시켜, 고형분 농도 50질량%의 수산기를 갖는 폴리디메틸실록산계 그래프트 공중합체(b)를 얻었다. 얻어진 블록 공중합체(b)는 고형분 농도 50질량%이었다(용매(톨루엔 및 아세트산이소부틸)가 50질량%이었다). 50 parts by mass of toluene and 50 parts by mass of isobutyl acetate were charged using the apparatus used for the synthesis of the polysiloxane (a), and the temperature was elevated to 110 占 폚. Separately, 32 parts by mass of methyl methacrylate, 32 parts by mass of caprolactone methacrylate (PLACCEL FM-5, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), 17 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, , 20 parts by mass of an end-capped methacryl group-containing polydimethylsiloxane (AK-32 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 1 part by mass of methacrylic acid and 2 parts by mass of 1,1-azobiscyclohexane-1-carbonitrile . This mixed monomer was added dropwise to the above mixed solution of toluene and butyl acetate over 2 hours. Thereafter, the reaction was carried out at 110 DEG C for 8 hours to obtain a polydimethylsiloxane graft copolymer (b) having a hydroxyl group at a solid concentration of 50 mass%. The obtained block copolymer (b) had a solid concentration of 50 mass% (solvent (toluene and isobutyl acetate) was 50 mass%).

[폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(c)][Polydimethylsiloxane-based block copolymer (c)]

폴리실록산(a)의 합성과 마찬가지의 장치를 사용하여, 톨루엔 50질량부 및 메틸이소부틸케톤 50질량부, 폴리디메틸실록산계 고분자 중합 개시제(와꼬 쥰야꾸 가부시끼가이샤 제조 VPS-0501) 20질량부, 메타크릴산메틸 18질량부, 메타크릴산부틸 38질량부, 2-히드록시에틸메타크릴레이트 23질량부, 메타크릴산 1중량부 및 1-티오글리세린 0.5질량부를 투입하고, 180℃에서 8시간 반응시켜서 폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(c)를 얻었다. 얻어진 블록 공중합체(c)는 고형분 농도 50질량%이었다(용매(톨루엔 및 메틸이소부틸케톤)가 50질량%이었다). 50 parts by mass of toluene and 50 parts by mass of methyl isobutyl ketone, 20 parts by mass of a polydimethylsiloxane-based polymer polymerization initiator (VPS-0501, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 18 parts by mass of methyl methacrylate, 38 parts by mass of butyl methacrylate, 23 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, 1 part by mass of methacrylic acid and 0.5 part by mass of 1-thioglycerol were charged, To obtain a polydimethylsiloxane-based block copolymer (c). The obtained block copolymer (c) had a solid content concentration of 50 mass% (solvent (toluene and methyl isobutyl ketone) was 50 mass%).

[폴리디메틸실록산계 그래프트 공중합체(d)][Polydimethylsiloxane-based graft copolymer (d)]

단량체 조성을 메타크릴산메틸 20질량부, 메타크릴산부틸 26질량부, 2-히드록시에틸메타크릴레이트 23질량부, 폴리실록산(a) 10질량부, 메타크릴산 1질량부 및 편말단 메타크릴 변성 폴리디메틸실록산(신에쯔 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 X-22-174DX) 20질량부로 한 것 이외에, 폴리디메틸실록산계 그래프트 공중합체(b)와 마찬가지의 방법으로 폴리디메틸실록산계 그래프트 공중합체(d)를 합성하였다. 얻어진 그래프트 공중합체(d)는 고형분 농도 50질량%이었다(용매(톨루엔 및 아세트산이소부틸)가 50질량%이었다). 20 parts by mass of methyl methacrylate, 26 parts by mass of butyl methacrylate, 23 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, 10 parts by mass of polysiloxane (a), 1 part by mass of methacrylic acid, Except that 20 parts by mass of a polydimethylsiloxane-based graft copolymer (b) was used in place of 20 parts by mass of a polydimethylsiloxane-based graft copolymer (X-22-174DX, manufactured by Shinetsu Chemical Industry Co., d) was synthesized. The obtained graft copolymer (d) had a solid content concentration of 50% by mass (solvent: 50% by mass of toluene and isobutyl acetate).

[폴리디메틸실록산 화합물(e)][Polydimethylsiloxane compound (e)]

폴리디메틸실록산 화합물(e)로서, 다이셀 사이테크 가부시끼가이샤 제조, EBECRYL350(2관능, 실리콘 아크릴레이트)을 사용하였다. As the polydimethylsiloxane compound (e), EBECRYL 350 (bifunctional, silicone acrylate), manufactured by Daicel-Cytech Co., Ltd. was used.

[폴리디메틸실록산 화합물(f)][Polydimethylsiloxane compound (f)]

폴리디메틸실록산 화합물(f)로서, 다이셀 사이테크 가부시끼가이샤 제조, EBECRYL1360(6관능, 실리콘 아크릴레이트)을 사용하였다. As the polydimethylsiloxane compound (f), EBECRYL1360 (hexafunctional, silicone acrylate), manufactured by Daicel-Cytech Co., Ltd. was used.

<우레탄(메트)아크릴레이트 B의 합성> <Synthesis of urethane (meth) acrylate B>

[우레탄(메트)아크릴레이트 B1] [Urethane (meth) acrylate B1]

톨루엔 50질량부, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성 타입(미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 50질량부, (폴리)카프로락톤 변성 히드록시에틸아크릴레이트(다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 FA5) 76질량부, 디부틸 주석 라우레이트 0.02질량부 및 히드로퀴논모노메틸에테르 0.02질량부를 혼합하고, 70℃에서 5시간 유지하였다. 그 후, 톨루엔 79질량부를 첨가해서 고형분 농도 50질량%의 우레탄(메트)아크릴레이트 B1의 톨루엔 용액을 얻었다. 50 parts by mass of toluene, 50 parts by mass of an isocyanurate-modified type of hexamethylene diisocyanate (Takenate D-170N manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), 50 parts by mass of (poly) caprolactone-modified hydroxyethyl acrylate , 76 parts by mass of fulxel FA5 manufactured by Kosaka Kikai Co., Ltd., 0.02 parts by mass of dibutyltin laurate and 0.02 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether were mixed and maintained at 70 DEG C for 5 hours. Thereafter, 79 parts by mass of toluene was added to obtain a toluene solution of urethane (meth) acrylate B1 having a solid concentration of 50% by mass.

[우레탄(메트)아크릴레이트 B2] [Urethane (meth) acrylate B2]

톨루엔 50질량부, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성 타입(미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 25질량부, (폴리)카프로락톤 변성 히드록시에틸아크릴레이트(다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 FA10) 162.8질량부, 디부틸 주석 라우레이트 0.02질량부 및 히드로퀴논모노메틸에테르 0.02질량부를 혼합하고, 70℃에서 5시간 유지하였다. 그 후, 톨루엔 137.8부를 첨가해서 고형분 농도 50질량%의 우레탄(메트)아크릴레이트 B2의 톨루엔 용액을 얻었다. 또한, 이 우레탄(메트)아크릴레이트에 있어서의 아크릴레이트 단량체 잔기당 카프로락톤 단위의 반복수는 10이다. 50 parts by mass of toluene, 25 parts by mass of an isocyanurate-modified type of hexamethylene diisocyanate (Takenate D-170N manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), 25 parts by mass of (poly) caprolactone modified hydroxyethyl acrylate 162.8 parts by mass of fulxel FA10 manufactured by Kosaka Kikai Co., Ltd., 0.02 part by mass of dibutyltin laurate and 0.02 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether were mixed and maintained at 70 占 폚 for 5 hours. Thereafter, 137.8 parts of toluene was added to obtain a toluene solution of urethane (meth) acrylate B2 having a solid content concentration of 50 mass%. The repeating number of caprolactone units per acrylate monomer residue in this urethane (meth) acrylate is 10.

[우레탄(메트)아크릴레이트 B3] [Urethane (meth) acrylate B3]

톨루엔 100질량부, 메틸-2,6-디이소시아네이트헥사노에이트(교와학꼬 기린 가부시끼가이샤 제조 LDI) 50질량부 및 폴리카르보네이트디올(다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 CD-210HL) 119질량부를 혼합하고, 40℃로까지 승온해서 8시간 유지하였다. 그리고, 2-히드록시에틸아크릴레이트(교에샤 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 라이트에스테르 HOA) 28질량부, 디펜타에리스톨헥사아크릴레이트(도아 고세 가부시끼가이샤 제조 M-400) 5부, 히드로퀴논모노메틸에테르 0.02질량부를 첨가해서 70℃에서 30분간 유지한 후, 디부틸 주석 라우레이트 0.02질량부를 첨가해서 80℃에서 6시간 유지하였다. 그리고, 마지막으로 톨루엔 97질량부를 첨가해서 고형분 농도 50질량%의 우레탄(메트)아크릴레이트 B3의 톨루엔 용액을 얻었다. 50 parts by mass of toluene, 50 parts by mass of methyl-2,6-diisocyanate hexanoate (LDI, manufactured by Kyowa Hakko Kagin Co., Ltd.) and 100 parts by mass of polycarbonate diol (manufactured by Daicel Chemical Industries, 210HL) were mixed, and the temperature was raised to 40 占 폚 and held for 8 hours. Then, 28 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (Light Ester HOA, manufactured by Kyushu Chemical Industry Co., Ltd.), 5 parts by mass of dipentaerythol hexaacrylate (M-400 manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 0.02 parts by mass of methyl ether was added and the mixture was maintained at 70 占 폚 for 30 minutes. Then, 0.02 parts by mass of dibutyltin laurate was added and the mixture was maintained at 80 占 폚 for 6 hours. Finally, 97 parts by mass of toluene was added to obtain a toluene solution of urethane (meth) acrylate B3 having a solid content concentration of 50 mass%.

[우레탄(메트)아크릴레이트 B4] [Urethane (meth) acrylate B4]

톨루엔 50질량부, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성 타입(미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 50질량부, (폴리)카프로락톤 변성 히드록시에틸아크릴레이트(다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 FA5) 70질량부, 폴리디메틸실록산(신에쯔 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 X-22-160AS) 8부, 디부틸 주석 라우레이트 0.02질량부 및 히드로퀴논모노메틸에테르 0.02질량부를 혼합하고, 70℃에서 5시간 유지하였다. 그 후, 톨루엔 79질량부를 첨가해서 고형분 농도 50질량%의 우레탄(메트)아크릴레이트 B4의 톨루엔 용액을 얻었다. 50 parts by mass of toluene, 50 parts by mass of an isocyanurate-modified type of hexamethylene diisocyanate (Takenate D-170N manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), 50 parts by mass of (poly) caprolactone-modified hydroxyethyl acrylate , 8 parts of polydimethylsiloxane (X-22-160AS manufactured by Shinetsu Chemical Industry Co., Ltd.), 0.02 parts of dibutyltin laurate and 0.02 parts of hydroquinone monomethyl ether And the mixture was kept at 70 캜 for 5 hours. Thereafter, 79 parts by mass of toluene was added to obtain a toluene solution of urethane (meth) acrylate B4 having a solid content concentration of 50% by mass.

[우레탄(메트)아크릴레이트 B5] [Urethane (meth) acrylate B5]

톨루엔 50질량부, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성 타입(미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 34질량부, (폴리)카프로락톤 변성 히드록시에틸아크릴레이트(다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 FA10) 57질량부, 폴리카프로락톤 변성 히드록시에틸아크릴레이트(다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 FA3) 57질량부, 디부틸 주석 라우레이트 0.02질량부 및 히드로퀴논모노메틸에테르 0.02질량부를 혼합하고, 70℃에서 5시간 유지하였다. 그 후, 톨루엔 137.8질량부를 첨가해서 고형분 농도 50질량%의 우레탄(메트)아크릴레이트 B5의 톨루엔 용액을 얻었다. , 50 parts by mass of toluene, 34 parts by mass of an isocyanurate-modified type of hexamethylene diisocyanate (Takenate D-170N manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), (poly) caprolactone modified hydroxyethyl acrylate 57 parts by mass of Fulcell FA10 manufactured by Takara Shuzo Co., Ltd.), 57 parts by mass of polycaprolactone-modified hydroxyethyl acrylate (Fulcell FA3 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), 0.02 part by mass of dibutyltin laurate, And 0.02 parts by mass of monomethyl ether were mixed and maintained at 70 占 폚 for 5 hours. Thereafter, 137.8 parts by mass of toluene was added to obtain a toluene solution of urethane (meth) acrylate B5 having a solid content concentration of 50% by mass.

<우레탄(메트)아크릴레이트 C의 합성> <Synthesis of urethane (meth) acrylate C>

[우레탄(메트)아크릴레이트 C1] [Urethane (meth) acrylate C1]

톨루엔 50질량부, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 뷰렛 변성 타입(아사히 가세이 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 듀라네이트 24A-90CX, 불휘발분: 90질량%, 이소시아네이트 함유량: 21.2질량%) 50질량부, (폴리)카프로락톤 변성 히드록시에틸아크릴레이트(다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 FA2D) 92질량부, 디부틸 주석 라우레이트 0.02질량부 및 히드로퀴논모노메틸에테르 0.02질량부를 혼합하고, 70℃에서 5시간 유지하였다. 그 후, 톨루엔 82질량부를 첨가해서 고형분 농도 50질량%의 우레탄(메트)아크릴레이트 C1의 톨루엔 용액을 얻었다. 또한, 이 우레탄(메트)아크릴레이트에 있어서의 아크릴레이트 단량체 잔기당 카프로락톤 단위의 반복수는 2이다. 50 parts by mass of toluene, 50 parts by mass of a biuret-modified type of hexamethylene diisocyanate (Duranate 24A-90CX manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd., nonvolatile material: 90% by mass, isocyanate content: 21.2% by mass) 92 parts by mass of lactone-modified hydroxyethyl acrylate (Flaccel FA2D manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), 0.02 part by mass of dibutyltin laurate and 0.02 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether were mixed and maintained at 70 占 폚 for 5 hours Respectively. Then, 82 parts by mass of toluene was added to obtain a toluene solution of urethane (meth) acrylate C1 having a solid content concentration of 50% by mass. The repeating number of the caprolactone unit per acrylate monomer residue in this urethane (meth) acrylate is 2.

[우레탄(메트)아크릴레이트 C2] [Urethane (meth) acrylate C2]

톨루엔 50질량부, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성 타입(미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 50질량부, (폴리)카프로락톤 변성 히드록시에틸아크릴레이트(다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 FA3) 114질량부, 디부틸 주석 라우레이트 0.02질량부 및 히드로퀴논모노메틸에테르 0.02질량부를 첨가하고, 70℃에서 3시간 유지하였다. 그 후, 톨루엔 118.2질량부를 첨가해서 고형분 농도 50질량%의 우레탄(메트)아크릴레이트 C2의 톨루엔 용액을 얻었다. 또한, 이 우레탄(메트)아크릴레이트에 있어서의 아크릴레이트 단량체 잔기당 카프로락톤 단위의 반복수는 3이다. 50 parts by mass of toluene, 50 parts by mass of an isocyanurate-modified type of hexamethylene diisocyanate (Takenate D-170N manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), 50 parts by mass of (poly) caprolactone-modified hydroxyethyl acrylate 114 parts by mass of fulxel FA3 manufactured by Takara Shuzo Co., Ltd., 0.02 parts by mass of dibutyltin laurate and 0.02 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether were added, and the mixture was maintained at 70 占 폚 for 3 hours. Thereafter, 118.2 parts by mass of toluene was added to obtain a toluene solution of urethane (meth) acrylate C2 having a solid concentration of 50% by mass. The repeating number of caprolactone units per acrylate monomer residue in this urethane (meth) acrylate is 3.

[우레탄(메트)아크릴레이트 C3] [Urethane (meth) acrylate C3]

헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성체(미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N, 이소시아네이트기 함유량: 20.9질량%) 50질량부, 폴리에틸렌글리콜모노아크릴레이트(니찌유 가부시끼가이샤 제조 블렘머 AE-90, 수산기값: 332(mgKOH/g)) 42질량부, 디부틸 주석 라우레이트 0.02질량부 및 히드로퀴논모노메틸에테르 0.02질량부를 투입하였다. 그리고, 70℃에서 5시간 유지해서 반응을 행하였다. 반응 종료 후, 반응액에 메틸에틸케톤(이하, MEK라고 함) 92질량부를 첨가하여, 고형분 농도 50질량%의 우레탄(메트)아크릴레이트 C3의 톨루엔 용액을 얻었다. 50 parts by mass of an isocyanurate-modified product of hexamethylene diisocyanate (Takenate D-170N, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., content of isocyanate group: 20.9% by mass), 50 parts by mass of polyethylene glycol monoacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., , 42 parts by mass of dimmer AE-90 and a hydroxyl value of 332 (mgKOH / g), 0.02 parts by mass of dibutyltin laurate and 0.02 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether. Then, the reaction was carried out at 70 DEG C for 5 hours. After completion of the reaction, 92 parts by mass of methyl ethyl ketone (hereinafter referred to as MEK) was added to the reaction solution to obtain a toluene solution of urethane (meth) acrylate C3 having a solid concentration of 50% by mass.

[우레탄(메트)아크릴레이트 C4] [Urethane (meth) acrylate C4]

우레탄(메트)아크릴레이트 C3에 있어서, 폴리에틸렌글리콜모노아크릴레이트를 블렘머 AE-150(수산기값: 264(mgKOH/g)) 53질량부, 반응액의 MEK를 102질량부로 변경한 것 이외는, 우레탄(메트)아크릴레이트 C3과 마찬가지로 하여 우레탄(메트)아크릴레이트 C4의 톨루엔 용액을 얻었다. Except that 53 mass parts of polyethylene glycol monoacrylate was replaced with blender AE-150 (hydroxyl value: 264 (mgKOH / g)) and MEK of reaction solution was changed to 102 mass parts in urethane (meth) acrylate C3. A toluene solution of urethane (meth) acrylate C4 was obtained in the same manner as the urethane (meth) acrylate C3.

[우레탄(메트)아크릴레이트 C5] [Urethane (meth) acrylate C5]

우레탄(메트)아크릴레이트 C3에 있어서, 폴리에틸렌글리콜모노아크릴레이트를 블렘머 AE-200(수산기값: 205(mgKOH/g)) 68질량부, 반응액의 MEK를 118질량부로 변경한 것 이외는, 우레탄(메트)아크릴레이트 C3과 마찬가지로 하여 우레탄(메트)아크릴레이트 C5의 톨루엔 용액을 얻었다. Except that 68 mass parts of polyethylene glycol monoacrylate was replaced with 68 mass parts of blemish AE-200 (hydroxyl value: 205 (mgKOH / g)) and 118 mass parts of the reaction solution in urethane (meth) acrylate C3. A toluene solution of urethane (meth) acrylate C5 was obtained in the same manner as the urethane (meth) acrylate C3.

[우레탄(메트)아크릴레이트 C6] [Urethane (meth) acrylate C6]

우레탄 메타크릴레이트 C3에 있어서, 폴리에틸렌글리콜모노아크릴레이트를 블렘머 AE-400(수산기값: 98(mgKOH/g)) 142부, 반응액의 MEK를 192질량부로 변경한 것 이외는, 우레탄(메트)아크릴레이트 C3과 마찬가지로 하여 우레탄(메트)아크릴레이트 C6의 톨루엔 용액을 얻었다. (Urethane (meth) acrylate) was obtained in the same manner as in Example 1 except that 142 parts of the polyethylene glycol monoacrylate was replaced with 142 parts by mass of the blender AE-400 (hydroxyl value: 98 (mgKOH / g) ) Acrylate C3 to obtain a toluene solution of urethane (meth) acrylate C6.

[우레탄(메트)아크릴레이트 C7] [Urethane (meth) acrylate C7]

1,3-비스이소시아네이트메틸시클로헥산을 50질량부, 히드록시알킬아크릴레이트를 100질량부, 디부틸 주석 라우레이트 0.05질량부, 히드로퀴논 2질량부를 첨가하고, 70℃에서 3시간 유지하였다. 그 후 85℃에서 2시간의 숙성을 행하여, 우레탄(메트)아크릴레이트 C7의 톨루엔 용액을 얻었다. 50 parts by mass of 1,3-bisisocyanate methylcyclohexane, 100 parts by mass of hydroxyalkyl acrylate, 0.05 parts by mass of dibutyltin laurate and 2 parts by mass of hydroquinone were added, and the mixture was maintained at 70 占 폚 for 3 hours. Thereafter, aging was carried out at 85 캜 for 2 hours to obtain a toluene solution of urethane (meth) acrylate C7.

<도료 조성물 A의 조합> <Combination of Coating Composition A>

[도료 조성물 A1-1] [Coating composition A1-1]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A1-1을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A1-1 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 6 parts by mass

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308, 중량 평균 분자량 850) 15질량부 15 parts by mass of Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 15질량부 15 parts by mass of a compound having an isocyanate group (hexanediol diisocyanate isocyanurate available from Chisso Chemical Co., Ltd., Takenate D-170N)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A1-2] [Coating composition A1-2]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A1-2를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A1-2 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 2질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 2 parts by mass

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308, 중량 평균 분자량 850) 15질량부 15 parts by mass of Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 15질량부 15 parts by mass of a compound having an isocyanate group (hexanediol diisocyanate isocyanurate available from Chisso Chemical Co., Ltd., Takenate D-170N)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A1-3] [Coating composition A1-3]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A1-3을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A1-3 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 10질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 10 parts by mass

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308, 중량 평균 분자량 850) 15질량부 15 parts by mass of Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 15질량부 15 parts by mass of a compound having an isocyanate group (hexanediol diisocyanate isocyanurate available from Chisso Chemical Co., Ltd., Takenate D-170N)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A1-4] [Coating composition A1-4]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A1-4를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A1-4 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D2 용액(고형분 농도 20질량%) 12질량부 Fluorine compound D2 solution (solid concentration 20 mass%) 12 mass parts

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308, 중량 평균 분자량 850) 15질량부 15 parts by mass of Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 15질량부 15 parts by mass of a compound having an isocyanate group (hexanediol diisocyanate isocyanurate available from Chisso Chemical Co., Ltd., Takenate D-170N)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A1-5] [Coating composition A1-5]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A1-5를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A1-5 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D3 2.4질량부 Fluorine compound D3 2.4 parts by mass

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308, 중량 평균 분자량 850) 15질량부 15 parts by mass of Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 15질량부 15 parts by mass of a compound having an isocyanate group (hexanediol diisocyanate isocyanurate available from Chisso Chemical Co., Ltd., Takenate D-170N)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A1-6] [Coating composition A1-6]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A1-6을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A1-6 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D4 2.4질량부 Fluorine compound D4 2.4 parts by mass

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308, 중량 평균 분자량 850) 15질량부 15 parts by mass of Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 15질량부 15 parts by mass of a compound having an isocyanate group (hexanediol diisocyanate isocyanurate available from Chisso Chemical Co., Ltd., Takenate D-170N)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A1-7] [Coating composition A1-7]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A1-7을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A1-7 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D5 2.4질량부 Fluorine compound D5 2.4 parts by mass

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308중량 평균 분자량 850) 15질량부 Polycaprolactone polyol (polycaprolactone triol diacetate Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo K.K.) 15 parts by mass

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 15질량부 15 parts by mass of a compound having an isocyanate group (hexanediol diisocyanate isocyanurate available from Chisso Chemical Co., Ltd., Takenate D-170N)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A1-8] [Coating composition A1-8]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A1-8을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A1-8 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 6 parts by mass

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308, 중량 평균 분자량 850) 15질량부 15 parts by mass of Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 15질량부 15 parts by mass of a compound having an isocyanate group (hexanediol diisocyanate isocyanurate available from Chisso Chemical Co., Ltd., Takenate D-170N)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·프로필렌글리콜모노에틸에테르 10질량부 Propylene glycol monoethyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A1-9] [Coating composition A1-9]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A1-9를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A1-9 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 6 parts by mass

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308, 중량 평균 분자량 850) 15질량부 15 parts by mass of Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 15질량부 15 parts by mass of a compound having an isocyanate group (hexanediol diisocyanate isocyanurate available from Chisso Chemical Co., Ltd., Takenate D-170N)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A2] [Coating composition A2]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A2를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A2 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 6 parts by mass

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308, 중량 평균 분자량 850) 15질량부 15 parts by mass of Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 17질량부 17 parts by mass of a compound having an isocyanate group (manufactured by Takenate D-170N manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., isocyanurate of hexamethylene diisocyanate)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A3] [Coating composition A3]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A3을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A3 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 6 parts by mass

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308, 중량 평균 분자량 850) 15질량부 15 parts by mass of Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 8질량부 8 parts by mass of a compound having an isocyanate group (manufactured by Takenate D-170N manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., isocyanurate of hexamethylene diisocyanate)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A4] [Coating Composition A4]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A4를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A4 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 6 parts by mass

·폴리디메틸실록산계 그래프트 공중합체 (b) 100질량부 Polydimethylsiloxane-based graft copolymer (b) 100 parts by mass

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥산메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 12질량부 12 parts by mass of a compound having an isocyanate group (tocinate D-170N available from Chisso Chemical Industry Co., Ltd., isocyanurate of hexane methylene diisocyanate)

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A5] [Coating composition A5]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A5를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A5 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 6 parts by mass

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 312 중량 평균 분자량 1250) 15질량부 Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 312 manufactured by Kagaku Kogyo K.K., weight average molecular weight 1250) 15 parts by mass

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 15질량부 15 parts by mass of a compound having an isocyanate group (hexanediol diisocyanate isocyanurate available from Chisso Chemical Co., Ltd., Takenate D-170N)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A6] [Coating composition A6]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A6을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A6 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 6 parts by mass

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308, 중량 평균 분자량 850) 15질량부 15 parts by mass of Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 15질량부 15 parts by mass of a compound having an isocyanate group (hexanediol diisocyanate isocyanurate available from Chisso Chemical Co., Ltd., Takenate D-170N)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(c) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (c) solution (solid content concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A7] [Coating composition A7]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A7을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A7 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 6 parts by mass

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308, 중량 평균 분자량 850) 15질량부 15 parts by mass of Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 뷰렛체 바이엘 가부시끼가이샤 제조 데스모듀어 N3200) 15질량부 15 parts by mass of a compound having an isocyanate group (Desmodur N3200 manufactured by Buretche Bayer AG, hexamethylene diisocyanate)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A8] [Coating composition A8]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A8을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A8 having a solid content concentration of 40% by mass.

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308, 중량 평균 분자량 850) 15질량부 15 parts by mass of Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 15질량부 15 parts by mass of a compound having an isocyanate group (hexanediol diisocyanate isocyanurate available from Chisso Chemical Co., Ltd., Takenate D-170N)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부. Polysiloxane (a) 10 parts by mass.

[도료 조성물 A9] [Coating composition A9]

<원료 A8의 조합> <Combination of raw material A8>

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A9를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A9 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 6 parts by mass

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308, 중량 평균 분자량 850) 15질량부 15 parts by mass of Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 36질량부 36 parts by mass of a compound having an isocyanate group (Takenate D-170N manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., isocyanurate of hexamethylene diisocyanate)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A10] [Coating composition A10]

<원료 A9의 조합> <Combination of raw material A9>

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A10을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A10 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 6 parts by mass

·폴리카프로락톤폴리올(폴리카프로락톤트리올 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 플락셀 308, 중량 평균 분자량 850) 15질량부 15 parts by mass of Polycaprolactone polyol (Polycaprolactone triol Diacel Flaxel 308, weight average molecular weight 850, manufactured by Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 25질량부 25 parts by mass of a compound having an isocyanate group (manufactured by Takenate D-170N manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., isocyanurate of hexamethylene diisocyanate)

·폴리디메틸실록산계 블록 공중합체(a) 용액(고형분 농도 50질량%) 75질량부 Polydimethylsiloxane-based block copolymer (a) Solution (solids concentration: 50% by mass) 75 parts by mass

·폴리실록산(a) 10질량부 Polysiloxane (a) 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A11] [Coating composition A11]

<원료 B1의 조합> <Combination of raw material B1>

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A11을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A11 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 6 parts by mass

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥사메틸렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체 DIC 가부시끼가이샤 제조 버녹 DN-950, 고형분 농도: 75질량%) 12질량부 12 parts by mass of a compound having an isocyanate group (trimethylolpropane adduct of hexamethylene diisocyanate, manufactured by DIC Corporation, Bunko DN-950, solids concentration: 75% by mass)

·폴리디메틸실록산계 그래프트 공중합체 (d) 용액(고형분 농도 50질량%) 100질량부 Polydimethylsiloxane-based graft copolymer (d) Solution (solid content concentration: 50% by mass) 100 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 A12] [Coating composition A12]

<원료 A11의 조합> <Combination of raw material A11>

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 A12를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition A12 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 6 parts by mass

·폴리디메틸실록산계 그래프트 공중합체 (b) 100질량부 Polydimethylsiloxane-based graft copolymer (b) 100 parts by mass

·이소시아네이트기를 갖는 화합물(헥산메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 미쯔이 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 타케네이트 D-170N) 25질량부 25 parts by mass of a compound having an isocyanate group (tocinate D-170N available from Chisso Chemical Industry Co., Ltd., isocyanurate of hexane methylene diisocyanate)

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1질량부. 1 part by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

<도료 조성물 B의 조합> <Combination of Coating Composition B>

[도료 조성물 B1] [Coating composition B1]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B1을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B1 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.8질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.8 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·프탈산모노히드록시에틸아크릴레이트(도아 고세 가부시끼가이샤 제조 M-5400 고형분 농도 100질량%) 10질량부 10 parts by mass of phthalic acid monohydroxyethyl acrylate (M-5400, solid content concentration 100% by mass, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)

·톨루엔 10질량부 10 parts by mass of toluene

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 3질량부. 3 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals K.K.).

[도료 조성물 B2] [Coating composition B2]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B2를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B2 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.8질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.8 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B2 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B2 solution (solid content concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C2 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C2 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B3] [Coating composition B3]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B3을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B3 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.8질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.8 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B2 용액(고형분 농도 50질량%) 70질량부 Urethane (meth) acrylate B2 solution (solid content concentration 50% by mass) 70 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C2 용액(고형분 농도 50질량%) 30질량부 Urethane (meth) acrylate C2 solution (solid concentration 50% by mass) 30 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B4] [Coating composition B4]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B4를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B4 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.8질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.8 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B3 용액(고형분 농도 50질량%) 30질량부 Urethane (meth) acrylate B3 solution (solid concentration 50% by mass) 30 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C2 용액(고형분 농도 50질량%) 70질량부 Urethane (meth) acrylate C2 solution (solid content concentration 50% by mass) 70 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B5] [Coating composition B5]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B5를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B5 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.8질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.8 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B3 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B3 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B6] [Coating composition B6]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B6을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B6 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.8질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.8 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C3 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C3 solution (solid concentration 50 mass%) 50 mass parts

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B7-1] [Coating composition B7-1]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B7-1을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B7-1 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.6 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B7-2] [Coating composition B7-2]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B7-2를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B7-2 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 1.3질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 1.3 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B7-3] [Coating composition B7-3]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B7-3을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B7-3 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 6.3질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40 mass%) 6.3 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B7-4] [Coating composition B7-4]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B7-4를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B7-4 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D2 용액(고형분 농도 20질량%) 7.5질량부 Fluorine compound D2 solution (solid concentration 20% by mass) 7.5 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B7-5] [Coating composition B7-5]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B7-5를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B7-5 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D3 1.5질량부 Fluorine compound D3 1.5 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B7-6] [Coating composition B7-6]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B7-6을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B7-6 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D4 1.5질량부 Fluorine compound D4 1.5 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B7-7] [Coating composition B7-7]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B7-7을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B7-7 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D5 1.5질량부 Fluorine compound D5 1.5 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B7-8] [Coating composition B7-8]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B7-8을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B7-8 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.6 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·프로필렌글리콜모노에틸에테르 10질량부 Propylene glycol monoethyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B7-9] [Coating composition B7-9]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B7-9를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B7-9 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 50질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B7-10] [Coating composition B7-10]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B7-10을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B7-10 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 50질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·폴리디메틸실록산 화합물(e) 3질량부 Polydimethylsiloxane compound (e) 3 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B7-11] [Paint composition B7-11]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B7-11을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B7-11 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 50질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·폴리디메틸실록산 화합물(f) 3질량부 Polydimethylsiloxane compound (f) 3 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B7-12] [Coating composition B7-12]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B7-12를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B7-12 having a solid content concentration of 40% by mass.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 50질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·폴리디메틸실록산 화합물(e) 10질량부 Polydimethylsiloxane compound (e) 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B7-13] [Coating composition B7-13]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B7-13을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B7-13 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 50질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·폴리디메틸실록산 화합물(e) 25질량부 Polydimethylsiloxane compound (e) 25 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B8] [Coating composition B8]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B8을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B8 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.6 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C5 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C5 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B9] [Coating composition B9]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B9를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B9 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.6 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C6 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C6 solution (solid concentration 50 mass%) 50 mass parts

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B10] [Coating composition B10]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B10을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B10 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.6 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·에틸렌글리콜모노부틸에테르 10질량부 Ethylene glycol monobutyl ether 10 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B11] [Coating composition B11]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B11을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B11 having a solid content concentration of 40 mass%.

·우레탄(메트)아크릴레이트 B1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C4 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate C4 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B12] [Coating composition B12]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B11을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B11 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.6 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B1 용액(고형분 농도 50질량%) 100질량부 Urethane (meth) acrylate B1 solution (solid concentration 50% by mass) 100 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B13] [Coating composition B13]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B13을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B13 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.6 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B2 용액(고형분 농도 50질량%) 100질량부 Urethane (meth) acrylate B2 solution (solid content concentration 50% by mass) 100 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B14] [Coating composition B14]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B14를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B14 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.6 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B2 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B2 solution (solid content concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B1 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B1 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B15] [Coating composition B15]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B15를 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B15 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.6 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B3 용액(고형분 농도 50질량%) 80질량부 Urethane (meth) acrylate B3 solution (solid content concentration 50% by mass) 80 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C2 용액(고형분 농도 50질량%) 20질량부 Urethane (meth) acrylate C2 solution (solid concentration 50% by mass) 20 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B16] [Coating composition B16]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B16을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B16 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.6 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B3 용액(고형분 농도 50질량%) 80질량부 Urethane (meth) acrylate B3 solution (solid content concentration 50% by mass) 80 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B2 용액(고형분 농도 50질량%) 20질량부 Urethane (meth) acrylate B2 solution (solid concentration 50 mass%) 20 mass parts

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B17] [Coating composition B17]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B17을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B17 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.6 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B3 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B3 solution (solid concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 B2 용액(고형분 농도 50질량%) 50질량부 Urethane (meth) acrylate B2 solution (solid content concentration 50% by mass) 50 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 B18] [Coating composition B18]

하기 재료를 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 B18을 얻었다. The following materials were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating composition B18 having a solid content concentration of 40 mass%.

·불소 화합물 D1 용액(고형분 농도 40질량%) 3.6질량부 Fluorine compound D1 solution (solid content concentration: 40% by mass) 3.6 parts by mass

·우레탄(메트)아크릴레이트 C7 용액(고형분 농도 50질량%) 100질량부 Urethane (meth) acrylate C7 solution (solid concentration 50% by mass) 100 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

[도료 조성물 X, 도료 조성물 Y] [Coating Composition X, Coating Composition Y]

우레탄(메트)아크릴레이트 B(B1 내지 B5), 우레탄(메트)아크릴레이트 C(C1 내지 C7)의 각 조성에 대해서, 하기 비율로 혼합하고, 메틸에틸케톤을 사용해서 희석하여 고형분 농도 40질량%의 도료 조성물 X(X1 내지 X5), Y(Y1 내지 Y7)를 얻었다. The respective components of the urethane (meth) acrylate B (B1 to B5) and the urethane (meth) acrylate C (C1 to C7) were mixed in the following proportions and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a solid content concentration of 40% (X1 to X5) and Y (Y1 to Y7) were obtained.

·우레탄(메트)아크릴레이트 B 또는 C 용액(고형분 농도 50질량%) 100질량부 Urethane (meth) acrylate B or C solution (solid concentration 50% by mass) 100 parts by mass

·광 라디칼 중합 개시제(시바 스페셜티 케미컬즈 가부시끼가이샤 제조 이르가큐어 184) 1.5질량부. 1.5 parts by mass of a photo radical polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.).

<적층 필름의 제조 방법> &Lt; Method of producing laminated film &

[적층 필름의 제작 A] [Preparation of laminated film A]

지지 기재로서 폴리에틸렌테레프탈레이트(이하, 「PET」라고 칭하는 경우가 있음) 수지 필름 위에 접착 용이성 도료가 도포되어 있는 두께 100㎛의 "루미러"(등록 상표) U46(도레이 가부시끼가이샤 제조)를 사용하였다. 상기 도료 조성물 A(A1-1 내지 A12)를 슬롯다이 코터를 갖는 연속 도포 장치를 사용하여, 건조 후의 두께가 30㎛가 되도록 다이스 로트로부터의 토출 유량을 조정해서 도포하였다. 도포부터 건조, 경화까지의 동안에 액막에 적용되는 건조 공정, 경화 공정의 조건은 하기와 같다. (Registered trademark) U46 (manufactured by TORAY KABUSHIKI CO., LTD.) Having a thickness of 100 mu m on which an easy-to-adhere coating agent is applied is applied on a polyethylene terephthalate resin (hereinafter also referred to as " PET " Respectively. The above coating composition A (A1-1 to A12) was applied by using a continuous coating apparatus having a slot die coater so that the thickness after drying was adjusted to 30 占 퐉 by adjusting the discharge flow rate from the dieslot. The conditions of the drying process and the curing process applied to the liquid film during application, drying and curing are as follows.

제1 건조 공정 The first drying step

송풍 온습도 : 온도: 80℃ Blowing temperature and humidity : Temperature: 80 ° C

풍속 : 도포면측: 5m/초, 반도포면측: 5m/초 Wind velocity : Coating side: 5 m / sec, Anti-coating side: 5 m / sec

풍향 : 도포면측: 기재의 면에 대하여 평행, 반도포면측: 기재의 면에 대하여 수직 Wind direction : Coating side: parallel to the substrate side, semi-coated side: perpendicular to the substrate side

체류 시간 : 1분간 Residence time : 1 minute

제2 건조 공정 The second drying step

송풍 온습도 : 온도: 160℃ Blowing temperature and humidity : Temperature: 160 ° C

풍속 : 도포면측: 10m/초, 반도포면측: 10m/초 Wind velocity : Application side: 10 m / sec, Anti-application side: 10 m / sec

풍향 : 도포면측: 기재의 면에 대하여 수직, 반도포면측: 기재의 면에 대하여 수직 Wind direction : Coating side: perpendicular to the substrate side, semi-coated side: perpendicular to the substrate side

체류 시간 : 2분간 Residence time : 2 minutes

경화 공정 Curing process

조사 출력: 400W/cm2, 적산 광량: 120mJ/cm2 Irradiation power: 400 W / cm 2 , cumulative light quantity: 120 mJ / cm 2

산소 농도: 0.1부피%. Oxygen concentration: 0.1% by volume.

또한, 풍속, 온습도는 열선식 풍속계(니혼 카노막스가부 시끼가이샤 아네모마스터 풍속·풍량계 MODEL6034)에 의한 측정값을 사용하였다. 계속해서, 20℃에서 14일간 보관(에이징)을 행하여, 실시예 A1-1 내지 A7, 비교예 A1 내지 A5의 적층 필름을 얻었다. The wind speed and the temperature and humidity were measured by a hot wire anemometer (MODEL 6034, anemomaster air speed and air volume meter manufactured by Nihon Canon Max. Co., Ltd.). Subsequently, storage (aging) was performed at 20 占 폚 for 14 days to obtain laminated films of Examples A1-1 to A7 and Comparative Examples A1 to A5.

[적층 필름의 제작 B] [Production B of laminated film]

지지 기재로서 PET 수지 필름 위에 접착 용이성 도료가 도포되어 있는 두께 100㎛의 "루미러"(등록 상표) U46(도레이 가부시끼가이샤 제조)을 사용하였다. 상기 도료 조성물 B(B1 내지 B18), 도료 조성물 X(X1 내지 X5), 도료 조성물 Y(Y1 내지 Y7)를, 슬롯다이 코터를 갖는 연속 도포 장치를 사용하여, 건조 후의 두께가 30㎛가 되도록 다이스 로트로부터의 토출 유량을 조정해서 도포하였다. 도포부터 건조, 경화까지의 동안에 액막에 적용되는 건조풍의 조건은 하기와 같다. (Registered trademark) U46 (manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 100 mu m and an easy-to-adhere coating agent applied on a PET resin film was used as a supporting substrate. The coating compositions B (B1 to B18), the coating composition X (X1 to X5) and the coating composition Y (Y1 to Y7) were coated with a continuous coating device having a slot die coater, And the discharge flow rate from the lot was adjusted and applied. The conditions of the drying wind applied to the liquid film during application, drying and curing are as follows.

건조 공정 Drying process

송풍 온습도 : 온도: 80℃, 상대 습도: 1% 이하 Blowing temperature and humidity : Temperature: 80 ℃, Relative humidity: 1% or less

풍속 : 도포면측: 5m/초, 반도포면측: 5m/초 Wind velocity : Coating side: 5 m / sec, Anti-coating side: 5 m / sec

풍향 : 도포면측: 기재의 면에 대하여 평행, 반도포면측: 기재의 면에 대하여 수직 Wind direction : Coating side: parallel to the substrate side, semi-coated side: perpendicular to the substrate side

체류 시간 : 2분간 Residence time : 2 minutes

경화 공정 Curing process

조사 출력: 400W/cm2, 적산 광량: 120mJ/cm2 Irradiation power: 400 W / cm 2 , cumulative light quantity: 120 mJ / cm 2

산소 농도: 0.1 부피%. Oxygen concentration: 0.1% by volume.

또한, 풍속, 온습도는 열선식 풍속계(니혼 카노막스 가부시끼가이샤 제조 아네모마스터 풍속·풍량계 MODEL6034)에 의한 측정값을 사용하였다. 이상의 방법에 의해 실시예 B1 내지 B10, 비교예 B1 내지 B8 및 우레탄(메트)아크릴레이트 B(B1 내지 B5)의 특성을 평가하기 위한 적층 필름 X(X1 내지 X5), 우레탄(메트)아크릴레이트 C(C1 내지 C17)의 특성을 평가하기 위한 적층 필름 Y(Y1 내지 Y7)의 적층 필름을 제작하였다. In addition, as the wind speed and the temperature and humidity, a measured value by a hot wire anemometer (Anemomaster wind speed and air volume meter MODEL6034 manufactured by Nihon Canon Max. Co., Ltd.) was used. The laminated films X (X1 to X5), urethane (meth) acrylate C (B1) to B5 for evaluating the properties of Examples B1 to B10, Comparative Examples B1 to B8 and urethane (Y1 to Y7) for evaluating the properties of the films (C1 to C17).

<우레탄(메트)아크릴레이트 B, 우레탄(메트)아크릴레이트 C의 평가> <Evaluation of urethane (meth) acrylate B and urethane (meth) acrylate C>

[올레산 도포시의 질량 증가율] [Mass increase rate upon application of oleic acid]

상술한 방법으로 얻어진 지지 기재 위에 우레탄(메트)아크릴레이트 B, 우레탄(메트)아크릴레이트 C를 포함하는 도료 조성물을 도포한 적층 필름 X 및 Y를 200mm×200mm 길이로 잘라내어, 이 적층 필름의 질량을 A로 하였다. 베이크라이트판에 고정하고, X층 또는 Y층측의 100mm 폭×100mm 길이로 올레산을 도포하였다. 도포할 때는 플라스틱으로 울타리를 만들어, 올레산이 흘러나오지 않도록 했다(즉, 적층 필름에 흡수되는 양보다도 많은 양의 올레산을 도포했다). 이것을 60℃로 가열한 오븐에 1시간 보존하였다. 보존 후, 하이제 거즈를 사용해서 적층 필름이 투명해질 때까지 닦아내기를 행하고, 23℃의 분위기 하에서 24시간 보존했다(즉, 적층 필름에 흡수되지 않은 도료 조성물을 닦아냈다). 그 후 측정한 필름의 질량을 B로 하였다. 이때의 올레산에 의한 질량 증가율은 이하의 계산식으로부터 구하였다. 측정은 각각 3회 행하고, 그 평균값을 채용하였다. The laminated films X and Y coated with a coating composition containing urethane (meth) acrylate B and urethane (meth) acrylate C were cut out to a length of 200 mm x 200 mm on the support substrate obtained by the above-mentioned method, and the mass A. And fixed on a bakelite plate. Oleic acid was applied on the X layer or Y layer side in a length of 100 mm width x 100 mm. When applied, a plastic fence was made to prevent oleic acid from flowing out (that is, it was coated with oleic acid in an amount larger than that absorbed by the laminated film). This was stored in an oven heated to 60 DEG C for 1 hour. After storage, the laminated film was wiped off using a high-jigger until the laminated film became transparent, and the laminated film was preserved for 24 hours under an atmosphere of 23 캜 (that is, the coating composition not absorbed in the laminated film was wiped away). Then, the mass of the film was measured as B. The mass increase rate due to oleic acid at this time was obtained from the following equation. The measurement was carried out three times each, and the average value was adopted.

(B-A)/(100×t×d)×100 (B-A) / (100 x t x d) x 100

t: 올레산 도포 전의, X층 또는 Y층 두께(cm) t: thickness of X layer or Y layer (cm) before application of oleic acid,

d: 올레산 도포 전의, X층 또는 Y층의 비중(g/cm2). d is a specific gravity (g / cm 2 ) of the X layer or Y layer before the oleic acid application.

여기서, 상기 X층, Y층의 비중은 적층 필름으로부터 X층, Y층의 절편을 한쪽 날 나이프로 잘라내어, 브롬화나트륨 수용액을 매체로 한 밀도 구배관법(JIS K7112(1999년))에 따라 측정하였다. 이때, 측정은 5검체에 대해서 행하고, 그 평균값을 채용하였다. Here, the specific gravity of the X layer and the Y layer was measured in accordance with a density gradient tube method (JIS K7112 (1999)) using a single-blade knife to cut the sections of the X layer and the Y layer from the laminated film and using an aqueous solution of sodium bromide as a medium . At this time, the measurement was carried out on five specimens, and the average value was adopted.

얻어진 결과를 표 1, 표 2에 나타내었다. The obtained results are shown in Tables 1 and 2.

<적층 필름의 평가> &Lt; Evaluation of laminated film &

제작한 적층 필름에 대해서, 다음에 나타내는 성능 평가를 실시하고, 얻어진 결과를 표 3-1, 3-2, 4-1, 4-2, 5-1, 5-2에 나타내었다. 특별히 언급하지 않는 경우를 제외하고, 측정은 각 실시예·비교예에서 1개의 샘플에 대해 장소를 옮겨서 3회 측정을 행하고, 그 평균값을 사용하였다. The laminated films thus produced were subjected to the following performance evaluations, and the obtained results are shown in Tables 3-1, 3-2, 4-1, 4-2, 5-1 and 5-2. Unless otherwise noted, the measurement was carried out three times while shifting the position of one sample in each of the examples and the comparative examples, and the average value was used.

[표면층의 60° 경면 광택도] [Surface gloss of 60 ° mirror surface]

적층 필름의 표면층의 광택도는, 닛본 덴쇼꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 VG7000을 사용하여, 적층 필름 표면의 광택도를 JIS Z8741(1997년)에 따라서 60° 경면 광택도를 측정하고, 60% 이상을 합격으로 하였다. The degree of gloss of the surface layer of the laminated film was measured using VG7000 manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Kabushiki Kaisha, and the gloss of the surface of the laminated film was measured at 60 占 according to JIS Z8741 (1997) I was accepted.

[표면층의 올레산 전진 접촉각, 후퇴 접촉각] [Oleic acid forward contact angle of the surface layer, retreat contact angle]

전진 접촉각, 후퇴 접촉각의 측정은 확장-수축법에 의해 측정을 행하고, 교와 가이멘 가가꾸 제조 접촉각계 Drop Master DM-501을 사용하여, 동 장치의 확장-수축법 측정 매뉴얼에 따랐다. 전진 접촉각은, 구체적으로는 시린지로부터 올레산(나카라이 규격 1급 나카라이테스크 가부시끼가이샤 제조)을 액 토출 속도 8.5μL/초로 최종 액량 50μL까지 연속적으로 토출하여, 액적의 형상을 토출 개시 전부터 토출 종료 후까지 0.5초마다 30회 촬영하고, 동 화상으로부터, 동 장치 부속의 통합 해석 소프트 "FAMAS"를 사용해서 각각의 접촉각을 구하였다. 액적의 확장 과정에서의 접촉각은 최초, 확장에 따라서 변화하고, 계속해서 거의 일정해지는 거동을 나타내기 때문에, 측정순으로 접촉각 데이터를 배열하여, 그 순서대로 연속된 5점을 선택했을 때, 연속된 5점의 표준 편차가 최초로 1° 이하로 되었을 때의 평균값을 그 측정의 전진 접촉각으로 하고, 이 측정을 1 샘플에 대해서 5회 행하여, 그 평균값을 시료의 전진 접촉각으로 하였다. 또한, 토출 개시 전 및 토출 종료 후에도 일정 시간 촬영은 되지만, 해석 소프트에서 토출 개시 전 및 토출 종료 후의 촬영 데이터는 접촉각을 산출하기 위한 5점의 데이터로부터는 제외되도록 되어 있다. The advance contact angle and the retraction contact angle were measured by the expansion-contraction method, and they were subjected to the expansion-contraction method measurement manual of the device using a contact master meter, Drop Master DM-501 manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd. Specifically, oleic acid (manufactured by Nacalai Spec. No. 1, Nacalai Tesque Co., Ltd.) was continuously discharged from the syringe at a liquid discharge rate of 8.5 占 / / sec to a final liquid quantity of 50 占,, and the shape of the droplet was discharged The photographs were taken 30 times every 0.5 seconds to the end, and the respective contact angles were obtained from the image using the integrated analysis software "FAMAS" attached to the apparatus. Since the contact angle in the expansion process of the droplet initially changes according to the expansion and shows a substantially constant behavior, when the contact angle data are arranged in the order of measurement and five consecutive points are selected in that order, The average value when the standard deviation of 5 points became 1 DEG or less for the first time was taken as the forward contact angle of the measurement, and this measurement was performed five times for one sample, and the average value was defined as the forward contact angle of the sample. The photographing is performed for a predetermined period of time before the start of the discharge and after the end of the discharge. However, in the analysis software, the photographing data before the start of the discharge and after the end of the discharge are excluded from the five points of data for calculating the contact angle.

후퇴 접촉각은, 초기 액적량 50μL, 액 토출 속도 8.5μL/초로 액적을 연속적으로 흡인하여, 동 액적의 축소 과정의 형상을 흡인 개시 전부터 흡인 종료 후까지 촬영하고, 마찬가지의 방법으로 각각의 접촉각을 구하였다. 또한, 흡인 개시 전 및 흡인 종료 후에도 일정 시간 촬영은 되지만, 해석 소프트에서는 흡인 개시 전 및 흡인 종료 후의 촬영 데이터는 접촉각을 산출하기 위한 5점의 데이터로부터는 제외되도록 되어 있다. 액적의 수축 과정의 접촉각은 최초, 수축에 따라서 변화하고, 계속해서 거의 일정해지는 거동을 나타내기 때문에, 액적이 수축해 가는 방향으로 접촉각을 배열하여, 그 순서대로 연속된 5점을 선택했을 때, 연속된 5점의 표준 편차가 최초로 1° 이하로 되었을 때의 평균값을 그 측정의 후퇴 접촉각으로 하고, 이 측정을 1 샘플에 대해서 5회 행하여, 그 평균값을 시료의 후퇴 접촉각으로 하였다. 또한, 샘플에 따라서는 액적의 수축 과정의 접촉각이 일정해지지 않고, 연속적으로 계속해서 저하되는 것도 있는데, 이것에 대해서는 후퇴 접촉각을 0°로 하였다. The receding contact angle was measured by continuously drawing the droplet at an initial droplet volume of 50 μL and a liquid droplet dispensing rate of 8.5 μL / sec until the shape of the droplet size reduction process was taken from the start of suction to the end of suction, Respectively. In addition, in the analysis software, the photographing data before the suction start and after the suction end are excluded from the data of five points for calculating the contact angle, before the suction start and after the suction end. Since the contact angle of the droplet contraction process initially changes according to the contraction and continues to become substantially constant, when the contact angle is arranged in the direction in which the droplet shrinks and five consecutive points are selected in that order, The average value when the standard deviation of the continuous five points became 1 DEG or less for the first time was taken as the receding contact angle of the measurement, and this measurement was performed five times for one sample, and the average value was defined as the receding contact angle of the sample. Further, depending on the sample, the contact angle of the liquid droplet contraction process is not fixed and continuously decreased continuously. For this, the receding contact angle is set to 0 deg.

[올레산 흡수 계수] [Absorption coefficient of oleic acid]

올레산 흡수 계수의 산출에 필요한 값 중, 표면층에 착적된 올레산의 부피, 및 부착 영역의 면적의 측정에는 교와 가이멘 가가꾸 가부시끼가이샤 접촉각계 Drop Master DM-501을 사용하고, 동 장치의 정적 접촉각 측정 매뉴얼에 따랐다. 구체적으로는 시린지 선단에 올레산(나카라이 규격 1급 나카라이테스크) 2μL의 액적을 만들어, 성형 재료 표면에 착적시킨 후, 그 부착 상태의 화상을 촬영하고, 동 장치 부속의 통합 해석 소프트 "FAMAS"를 사용해서 부피 및 접촉 면적을 산출하였다. 또한 부피에 대해서는 부착 유적의 형상을 절단 구형으로서 근사해서 산출하고, 접촉 면적에 대해서는 접촉선의 길이를 진원의 직경이라 가정했을 때의 동 진원의 면적으로서 산출하였다. 또한 이 부착 유적을 25℃, 무풍 상태 하에서 10시간 정치한 후에 마찬가지의 측정에 의해 부피를 계측하였다. Among the values required for calculation of the oleic acid absorption coefficient, the volume of the oleic acid deposited on the surface layer and the area of the attachment region were measured using a Drop Master DM-501 contact angle gauge, manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd., I followed the contact angle measurement manual. Specifically, a droplet of oleic acid (Naka-Rai standard first grade nacalai tesque) of 2 μL was made at the tip of the syringe, and the droplet was deposited on the surface of the molding material. Then, an image of the attached state was photographed, and integrated analysis software "FAMAS" Were used to calculate volume and contact area. With respect to the volume, the shape of the attachment remains was calculated as a cut-out sphere, and the contact area was calculated as the area of the dynamic circle when the contact line length was assumed to be the diameter of the source circle. The adherence was allowed to stand at 25 占 폚 for 10 hours under a no-wind condition, and then the volume was measured by the same measurement.

또한, 표면층의 두께(T)에 대해서는 성형 재료 제작시의 도포 두께를 바탕으로 산출하였다. 한편, 도포 두께가 미지인 경우에는 앞서 기술한 바와 같이, 전자 현미경(투과형, 주사형) 또는 광학 현미경으로 단면 관찰했을 때, 상기 불연속인 경계면의 존재를 기초로 그 두께를 어림잡을 수 있다. The thickness (T) of the surface layer was calculated based on the coating thickness at the time of forming the molding material. On the other hand, when the coating thickness is unknown, the thickness can be estimated on the basis of the presence of the discontinuous interface when the cross section is observed with an electron microscope (transmission type, scanning type) or an optical microscope, as described above.

[비행시간형 2차 이온 질량 분석법: TOF-SIMS에 의한 F- 프래그먼트 이온(M/Z=19)과 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온의 면내에서의 분포의 측정] [Time-of-flight secondary ion mass spectrometry: Measurement of F - fragment ion (M / Z = 19) by TOF-SIMS and Si (CH 3 ) + fragment ion derived from dimethylsiloxane in-

ION TOF사 제조, 비행시간형 2차 이온 질량 분석계 TOF-SIMSV 및 동사 측정 소프트 SURFACE LAB 6을 사용하여, 적층 필름의 최표면에 대해서, 2차 이온 질량 분석법에 의해 F- 프래그먼트 이온(M/Z=19)과 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온을 측정하여, 면내에서의 각 프래그먼트 이온의 분포를 구하였다. 측정 조건은 이하와 같다. F - fragment ions (M / Z) were measured by secondary ion mass spectrometry on the outermost surface of the laminated film using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer TOF-SIMSV manufactured by ION TOF, and SURFACE LAB 6 = 19) and Si (CH 3 ) + fragment ions derived from dimethylsiloxane were measured to determine the distribution of each fragment ion in the plane. The measurement conditions are as follows.

·측정 조건 ·Measuring conditions

1차 이온종: Bi+ Primary ion species: Bi +

1차 이온 전류: 1.000pA Primary ion current: 1.000 pA

가속 전압: 25kV Acceleration voltage: 25 kV

검출 이온 극성: negative(F-), positive(Si(CH3)+) Detection Ion polarity: negative (F - ), positive (Si (CH 3 ) + )

측정 범위: 100㎛×100㎛ Measuring range: 100 탆 x 100 탆

분해능: 128×128 Resolution: 128 × 128

스캔 횟수: 36회. Scan count: 36 times.

측정 데이터의 해석에 대해서는, 먼저 2차 이온 질량 분석계에 내장되어 있는 소프트웨어를 사용하여, 상기 적층 필름의 최표면에 있어서의 2차원의 위치 정보, 및 대응하는 위치에서의 각 프래그먼트 이온의 2차 이온 강도의 정보를 추출하였다. 위치 정보에 대해서는 측정 조건으로 설정된 측정 범위를 분해능의 수치로 균등하게 분할한, 직교 좌표의 격자점으로서 출력된다. 2차 이온 강도의 변동 계수에 대해서는, 추출한 2차 이온 강도의 값을 바탕으로 산출할 수 있다. 즉, 모든 추출한 2차 이온 강도의 값을 사용하여, 2차 이온 강도의 표준 편차 및 평균값을 산출하고, (표준 편차)/(평균값)의 값을 변동 계수로 한다. In the analysis of the measurement data, first, software using the built-in secondary ion mass spectrometer is used to calculate the two-dimensional positional information on the outermost surface of the laminated film and the secondary ion of each fragment ion at the corresponding position The intensity information was extracted. For the positional information, the measurement range set as the measurement condition is output as a lattice point of rectangular coordinates obtained by evenly dividing the measurement range by the numerical value of the resolution. The coefficient of variation of the secondary ionic strength can be calculated based on the value of the extracted secondary ionic strength. That is, the standard deviation and the average value of the secondary ion intensity are calculated using the values of all extracted secondary ion intensities, and the value of (standard deviation) / (mean value) is used as the coefficient of variation.

다음으로 2차 이온 질량 분석계에 내장되어 있는 소프트웨어를 사용하여, 각각의 프래그먼트 이온에 대해서, 상술한 2차원의 위치 정보에 2차 이온 강도를 가한 3차원의 정보를, 도 2 내지 도 4와 같은 평면 분포상(맵핑상)으로 변환하였다. 이때 2차 이온 강도의 스케일은, 측정 영역에서의 최댓값, 최솟값으로부터 상기 소프트웨어에 의해 자동 설정된다. 한편, 검출 강도가 적은 부분에 대해서는, 각각 프래그먼트 이온의 유래가 되는 화학종에 기대되는 발유성 및 친유성의 효과를 충분히 얻지 못하므로, 구체적으로는 2차 이온 강도에 있어서 최댓값의 20%를 경계값으로 하여, 이 값에 미치지 않는 영역을, 착안하고 있는 화학종이 실질적으로 영향을 미치지 않는 영역이라 간주하고, 상술한 경계값 미만의 영역으로 하였다. Next, using the software built in the secondary ion mass spectrometer, three-dimensional information obtained by adding the secondary ion intensity to the above-mentioned two-dimensional position information for each fragment ion is shown in Figs. 2 to 4 Plane mapping (mapping). At this time, the scale of the secondary ion intensity is automatically set by the software from the maximum value and the minimum value in the measurement area. On the other hand, in the portion with low detection intensity, the effect of oil repellency and lipophilic property expected in the chemical species originating from the fragment ion can not be sufficiently obtained. Specifically, 20% of the maximum value in the secondary ion intensity is bounded And the area not meeting this value was regarded as a region which does not substantially affect the chemical species of interest and was set as an area below the above-mentioned boundary value.

이 결과로부터 얻어진, F- 프래그먼트 이온(M/Z=19)과, 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온의 평면 분포상 및 스케일 바를, 화상 처리 소프트 EasyAccess Ver6.7.1.23으로 화상을 그레이스케일로 변환하여, 화이트 밸런스를 최명부와 최암부가 8bit의 톤 커브에 수용되도록 조정하고, 또한 2차 이온 분포에 있어서의 상술한 경계값을 명확하게 분별할 수 있도록 스케일 바를 참조하면서 콘트라스트를 조절하였다. 계속해서 화상 해석 소프트 ImageJ 1.45s를 사용해서 상술한 경계를 경계로 화소의 2치화를 행하고, 평면 분포상만을 잘라낸 후에, 각각의 프래그먼트 이온의 분포 영역이 이루는 면적을 산출하였다. 또한 해당 영역의 면적을 측정 범위 전역의 면적으로 나눔으로써, 프래그먼트 이온이 존재하는 영역이 차지하는 비율, 점유율을 구하였다. The plane distribution and the scale bar of the F - fragment ion (M / Z = 19) and the Si (CH 3 ) + fragment ion derived from dimethylsiloxane obtained from this result were imaged with the image processing software EasyAccess Ver 6.7.1.23 And the white balance was adjusted so as to be accommodated in the tone curve of the 8-bit peak and the darkest parts, and the contrast was adjusted with reference to the scale bar so that the above-mentioned boundary value in the secondary ion distribution could be clearly discriminated . Subsequently, pixels were binarized using the image analyzing software ImageJ 1.45s with the above-described boundaries as a boundary, and only the plane distribution was cut out, and the area formed by the distribution regions of the respective fragment ions was calculated. Further, the area of the region was divided by the area across the measurement range, and the ratio and the occupancy rate of the region in which the fragment ions existed were obtained.

그리고, 비행시간형 2차 이온 질량 분석계로, 100㎛×100㎛의 범위를 세로 128점×가로 128점으로 측정한 전체 측정점에 있어서의 2차 이온 강도의 변동 계수가 0.4 이내라면, F- 프래그먼트 이온이 「균일하게 존재」한다고 판단하였다. And, a time-of-flight secondary ion mass spectrometer, if the coefficient of variation of less than 0.4 secondary ion strength in the range of 100㎛ × 100㎛ a total measuring points measured by the vertical 128 dots × 128 dots horizontally, F - fragment Ions were &quot; uniformly present &quot;.

또한, 화상을 관찰한 결과, 도 2에 도시한 바와 같이, 측정을 행한 측정점의 Si(CH3)+의 2차 이온 강도를 도시했을 때, 최대 강도의 20%에 상당하는 경계값에 미치지 않는 부분으로 둘레가 둘러싸여 있는(도면의 외주에 걸리는 것은 제외함) 경우에는, Si(CH3)+ 프래그먼트 이온이 「섬 형상으로 존재」한다고 판단하였다. Further, as a result of observation of an image, as shown in Fig. 2, when the secondary ion intensity of Si (CH 3 ) + at the measurement point at which the measurement was made is shown, (Except that it is caught on the outer periphery of the drawing), the Si (CH 3 ) + fragment ion was judged to exist in an island shape.

한편, 화상을 관찰한 결과, 도 3에 도시한 바와 같이, Si(CH3)+ 프래그먼트의 2차 이온 강도를 도시했을 때, 상술한 경계값 미만의 영역이 섬 형상으로 존재하고 있는 경우, Si(CH3)+ 프래그먼트 이온이 「그물눈 형상으로 존재」한다고 판단하였다. On the other hand, as a result of observing the image, when the secondary ion intensity of the Si (CH 3 ) + fragment is shown as shown in Fig. 3, when the region below the above-mentioned boundary value exists in an island shape, (CH 3 ) &lt; + & gt ; fragment ion existed in a net shape.

또는, 화상을 관찰한 결과, 도 4에 도시한 바와 같이 Si(CH3)+ 프래그먼트의 2차 이온 강도를 도시했을 때, 측정 범위 내에 상기 섬 형상으로 존재하는 영역과 그물눈 형상으로 존재하는 영역이 모두 존재하고 있는 경우, Si(CH3)+ 프래그먼트 이온이 「섬 형상 및 그물눈 형상으로 존재」한다고 판단하였다. Or, as a result of observing the image, when the secondary ion intensity of the Si (CH 3 ) + fragment is shown as shown in FIG. 4, the region existing in the island shape and the region existing in the mesh shape within the measurement range Si (CH 3 ) &lt; + & gt ; fragment ions exist in an island shape and a mesh-like shape.

또한 상술한 평면 분포상으로부터 상술한 위치 정보의 직교 좌표에 평행 또는 수직인, 임의의 열 또한 행의 정보를 추출하여, 이하의 라인 프로파일 해석을 실시하였다. 먼저 추출한 행 또는 열을, 상술한 2차 이온 강도의 경계값을 바탕으로, 「각 프래그먼트 이온이 존재하는 선분」과 「경계값 이하의 선분」의 2종류로 분할하였다. 계속해서 각각의 선분 길이를 산출하고, 그 평균값을 구하였다. The following line profile analysis was carried out by extracting arbitrary columns and row information parallel or perpendicular to the above-described rectangular coordinates of the position information from the plane distribution. First, the extracted row or column was divided into two types, that is, a line segment in which each fragment ion exists and a line segment below the boundary value, based on the boundary value of the secondary ion intensity described above. Subsequently, the length of each line segment was calculated, and the average value thereof was determined.

[표면층의 파괴 신도] [Breaking elongation of surface layer]

적층 필름을 10mm 폭×200mm 길이로 잘라내고, 긴 변 방향으로 연신되도록 척으로 파지하여, 인스트론형 인장 시험기(인스트론사 제조 초정밀 재료 시험기 MODEL5848)로 인장 속도 100mm/분으로 신장하였다. 이때의 측정 분위기는 23℃·65RH%이다. 신장할 때, 신장 중의 샘플을 관찰해 두어, 육안으로 크랙(균열)이 발생하면 정지한다(정지할 때의 신도는 5(%)의 정수배가 되도록 조정함). 다음부터 측정하는 샘플은, 정지 시의 신도보다, 5% 단위로 신장 신도를 낮게 해 간 샘플을 순차 채취하여, 최종적으로 육안으로 균열이 생기지 않게 되는 신도까지 행하였다. The laminated film was cut into a length of 10 mm width x 200 mm and held by a chuck so as to be elongated in the long side direction and stretched at a tensile speed of 100 mm / min by an Instron type tensile tester (MODEL 5848 manufactured by Instron Corporation). The measurement atmosphere at this time is 23 占 폚 占 65RH%. When the sample is stretched, a sample in the elongation is observed. When a crack (crack) occurs in the naked eye, the sample is stopped (the elongation at the stop is adjusted to be an integer multiple of 5 (%)). Samples to be measured from the next were taken at a rate lower than the elongation at rest by 5% in units of elongation, and the samples were sequentially picked up until the elongation at which no cracks finally occurred with the naked eye.

채취한 샘플의 크랙 부분의 단면을 잘라내어, 관찰하는 표면층의 두께가, 투과형 전자 현미경의 관찰 화면상에서, 30mm 이상이 되는 배율로 표면층을 관찰하고, 표면층의 평균 두께의 50% 이상의 크랙이 발생하는 경우를 크랙 유(표면층의 파괴 유)로 하여, 크랙 유가 된 샘플 중에서, 가장 낮은 신도를 갖는 샘플의 신도 값을 파괴 신도로 하였다. 그리고, 동일한 측정을 총 3회 행하여, 그것들의 파괴 신도의 평균값을 표면층의 파괴 신도로 해서, 30% 이상을 합격으로 하였다. The cross section of the cracked portion of the collected sample is cut out and the surface layer is observed at a magnification of 30 mm or more on the observation screen of the transmission electron microscope so that a crack of 50% or more of the average thickness of the surface layer is generated (Cracking oil of the surface layer), and the elongation value of the sample having the lowest elongation among the cracked samples was regarded as the elongation at break. Then, the same measurement was performed three times in total, and the average value of the fracture elongation was determined as the fracture elongation of the surface layer.

[표면층의 두께 방향의 최대 변위량, 크리프 변위량 및 영구 변위량] [Maximum amount of displacement of the surface layer in the thickness direction, amount of creep displacement and amount of permanent displacement]

평활한 금속판(다이스강: SKD-11)에, 도레이·다우코닝 가부시끼가이샤 제조 「하이버큠 그리스」를 1g 도포하여, 거기에 적층 필름의 지지 기재측을 하이버큠 그리스 도포 부분에 부착하고, 적층 필름의 표면층측에 여과지를 설치하여, 핸드프레스기로 공기가 들어가지 않도록 프레스하였다. 이러한 방법으로 얻어진 정치된 시료에 대하여, 정삼각뿔을 사용해서 압입 부하/제하 시험을 행하여, 가중-압입 깊이 선도(도 1 참조)를 취득하였다. 1 g of &quot; Hiberné Grease &quot; manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. was applied to a smooth metal plate (Dyse steel: SKD-11), and the support substrate side of the laminated film was attached to the high- A filter paper was provided on the side of the surface layer of the film, and pressed with a hand press to prevent air from entering. A pressurized load / unload test was performed on a stationary sample obtained by this method using a triangular pyramid to obtain a weighted-indentation depth diagram (see Fig. 1).

이 선도로부터, 하중을 가하고 나서 제하할 때까지의 두께 방향의 변위량(최대 변위량)과, 하중이 0.5mN에 달하고 나서 10초간 계속해서 유지했을 때의 두께 방향의 변위량(크리프 변위량)과, 10초간 유지하고 나서 하중을 0mN까지 해방했을 때의 두께 방향의 변위량(영구 변위량)을 구하였다. From this graph, the amount of displacement (the amount of creep displacement) in the thickness direction when the load is applied and then removed is shown in the thickness direction when the load reaches 0.5 mN and is held continuously for 10 seconds, And the amount of displacement in the thickness direction (permanent displacement amount) when the load was released to 0 mN was obtained.

장치: 다이내믹 초 미소 경도계 「DUH-201」(가부시끼가이샤 시마즈 세이사꾸쇼 제조) Apparatus: Dynamic ultra-micro-hardness meter "DUH-201" (manufactured by Shimadzu Corporation)

사용 압자: 다이아몬드제 정삼각뿔 압자(모서리간 각 115°) Used indenter: diamond-shaped triangular-pyramid indenter (115 ° angle between corners)

측정 모드: 2 Measurement mode: 2

최대 하중: 0.5mN Maximum load: 0.5mN

0.5mN 하중에 달했을 때의 유지 시간: 10초 Holding time when reaching 0.5mN load: 10 seconds

하중 속도, 제하 속도: 0.1, 422mN/초. Load speed, Unloading speed: 0.1, 422mN / sec.

[표면층의 자기 수복성] [Self-recovery property of surface layer]

온도 20℃에서 12시간 방치한 후, 동 환경에서 표면층 표면을, 놋쇠 브러시(TRUSCO 제조)에 하기의 하중을 가하여, 수평하게 5회 할퀸 뒤, 5분간 방치 후의 흠집의 회복 상태를, 다음의 기준에 준해서 육안으로 판정을 행하여, 4점 이상을 합격으로 하였다. The surface of the surface layer was subjected to the following load by applying the following load to a brass brush (manufactured by TRUSCO) in a circumferential environment at 20 캜 for 5 hours after being horizontally cleaned for 5 minutes, , And 4 or more points were judged as pass.

10점: 하중 9.8N(1kg중)에서 흠집이 남지 않는다. 10 points: There is no scratch on 9.8N (1kg) load.

7점: 하중 9.8N(1kg중)에서는 흠집이 남지만, 6.9N(700g중)에서는 흠집이 남지 않는다. 7 point: The load is 9.8N (in 1kg), but the 6.9N (700g in) is not scratched.

4점: 하중 6.9N(700g중)에서는 흠집이 남지만, 4.9N(500g중)에서는 흠집이 남지 않는다. 4 points: Scratches are left in 6.9N (700g in weight), but no scratches are left in 4.9N (in 500g).

1점: 하중 4.9N(500g중)에서 흠집이 남는다. 1 point: Scratches are left in load 4.9N (in 500g).

[표면층의 의장성] [Designability of surface layer]

온도 20℃에서 12시간 방치한 후, 동 환경에서 표면층 표면을, 놋쇠 브러시(TRUSCO 제조)에, 500g의 하중을 가하여, 수평하게 5회 할퀴었을 때의 흠집 회복 상태를, 다음의 기준에 준해서 육안으로 판정을 행하여, 4점 이상을 합격으로 하였다. The surface of the surface layer was allowed to stand for 12 hours at a temperature of 20 占 폚 and then the surface of the surface layer was subjected to a horizontal load of 500 g with a brass brush (manufactured by TRUSCO Co., Ltd.) Judgment was made by visual observation, and at least 4 points were accepted.

10점: 모든 흠집이 3초 미만으로 회복된다. 10 points: All scratches are restored to less than 3 seconds.

7점: 모든 흠집이 3초 이상 10초 미만으로 회복된다. 7 points: All scratches are restored from 3 seconds to less than 10 seconds.

4점: 모든 흠집이 10초 이상 30초 미만으로 회복된다. 4 points: All scratches are recovered from 10 seconds to less than 30 seconds.

1점: 기타(모든 흠집의 회복이 30초 이상 걸리거나, 회복되지 않는 흠집이 존재하거나, 또는, 흠집이 생기지 않는 등). 1 point: Miscellaneous (all scratches take more than 30 seconds to recover, scratches are not recovered, or scratches do not occur).

[모의 지문 부착 방법] [How to attach a simulated fingerprint]

본 발명의 적층 필름의 대상으로 하는 면에의 모의 지문의 부착은, 1. 모의 지문 시트의 제작, 2. 모의 지문의 실리콘 고무에의 전사, 3. 모의 지문의 적층 필름 표면에의 부착의 3 스텝으로 행하였다. The adhesion of the simulated fingerprint to the target surface of the laminated film of the present invention is as follows: 1. production of a simulated fingerprint sheet; 2. transfer of the simulated fingerprint to silicone rubber; and 3. adhesion of the simulated fingerprint to the laminated film surface. Step.

1. 모의 지문 시트의 제작 1. Making a simulated fingerprint sheet

하기 재료를 하기 비율로 칭량한 후, 30분간 자기 교반 막대로 교반하여, 모의 지문 시트 제작용 도료를 얻었다. The following materials were weighed in the following proportions, and stirred with a magnetic stir bar for 30 minutes to obtain a coating material for producing a simulated fingerprint sheet.

올레산 14질량부 Oleic acid 14 parts by mass

실리카 입자(수 평균 입자 직경 2㎛) 6질량부 Silica particles (number average particle diameter 2 占 퐉) 6 parts by mass

이소프로필알코올 80질량부 Isopropyl alcohol 80 parts by mass

또한, 상기 실리카 입자의 수 평균 입자 직경은, 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰, 측정하였다. 관찰 시료는 상기 실리카 입자를 분산매(이소프로필알코올)에 고형분 농도 5질량%로 혼합, 초음파로 분산시킨 후, 도전 테이프 위에 적하, 건조해서 조정하였다. 수 평균 입자 직경은, 1 시야당 1차 입자의 집합체로서의 개수가 10개 이상 50개 이하로 되는 배율로 관찰을 행하고, 얻어진 화상으로부터 1차 입자의 외접원의 직경을 구해서 이것을 입자 직경으로 하고, 관찰수를 증가시켜 1차 입자 100개에 대해서 측정한 값으로부터 수 평균 입자 직경을 구하였다. The number average particle diameter of the silica particles was observed and measured with a scanning electron microscope (SEM). The observation samples were prepared by mixing the silica particles with a dispersion medium (isopropyl alcohol) at a solid concentration of 5% by mass, dispersing them by ultrasonic waves, dropping them on a conductive tape, and drying them. The number average particle diameter is obtained by observing at a magnification that the number of primary particles per field of view is 10 or more and 50 or less, obtaining the diameter of the circumscribed circle of the primary particle from the obtained image, And the number average particle diameter was determined from the values measured for 100 primary particles.

이 「모의 지문 시트 제작용 도료」를, 지지 기재로서 PET 수지 필름 위에 접착 용이성 도료가 도포되어 있는 "루미러"(등록 상표) U46(도레이 가부시끼가이샤 제조) 위에 와이어 바(#7)를 사용해서 도포, 50℃에서 2분간 건조함으로써 이소프로필알코올을 제거하여, 필름 위에 모의 지문액(올레산 70질량%와 실리카 30질량%를 포함하는 분산물)이 균일하게 전개된 모의 지문 시트를 얻었다. This "simulated fingerprint sheet-forming coating material" was applied on a PET resin film as a supporting substrate by using a wire bar (# 7) on "Lum Mirror" U46 (TORAY KABUSHIKI CO., LTD.) Coated with an easy-to- And dried at 50 DEG C for 2 minutes to remove isopropyl alcohol to obtain a simulated fingerprint sheet in which a simulated fingerprint liquid (dispersion containing 70 mass% of oleic acid and 30 mass% of silica) uniformly spread on the film.

2. 모의 지문의 실리콘 고무에의 전사 2. Transfer of mock fingerprint to silicone rubber

JIS K6253(1997년)에서 규정하는 고무 경도 50의 실리콘 고무를 #250의 내수 페이퍼로 표면을 연마하여, JIS B0601(2001년)에서 규정하는 Ra를 3㎛로 하였다. 계속해서, 상기 내수 페이퍼로 연마한 실리콘 고무를 모의 지문 시트에 30kPa로 가압하였다. 실리콘 고무에의 모의 지문액의 부착량(g/m2)은, 실리콘 고무의 면적과 부착 전후의 질량차로부터 구한 값을 가리키고, 상기 방법으로 행한 결과, 모두 1.0g/m2이었다. The surface of the silicone rubber having a rubber hardness of 50 specified in JIS K6253 (1997) was polished with a # 250 water-resistant paper to obtain Ra of 3 m defined in JIS B0601 (2001). Subsequently, the silicone rubber polished with the water-resistant paper was pressed to the simulated fingerprint sheet at 30 kPa. The adhesion amount (g / m 2 ) of the simulated fingerprint liquid to the silicone rubber indicates the value obtained from the area difference of the silicone rubber and the difference in mass before and after adhesion, and as a result, it was 1.0 g / m 2 .

3. 모의 지문의 적층 필름 표면에의 부착 3. Attachment of simulated fingerprint to laminated film surface

2.에서 모의 지문액이 전사된 실리콘 고무를, 적층 필름 표면에 30kPa로 가압해서 적층 필름 표면에 형성된 흔적을 모의 지문으로 하였다. The simulated fingerprint was transferred to the surface of the laminated film at a pressure of 30 kPa to form a simulated fingerprint on the surface of the laminated film.

[모의 지문의 모의 닦아내기 방법] [How to wipe the mock fingerprints]

상기 방법에서 대상으로 하는 면에 모의 지문을 부착시킨 적층 필름을 평판 위에 고정하고, 적층 필름 위에서 간격이 10cm가 되도록 A점과 B점을 결정하였다. 그리고 적층 필름 위에 접은 치수가 12.5×12.5cm인 셀룰로오스 장섬유 부직포 거즈("하이제" 거즈 NT-4 카와모토 산교 가부시끼가이샤 제조)를 놓고, 그 위에 추를 얹음으로써 30kPa의 압력을 가하고, 이 추를 얹은 셀룰로오스 장섬유 부직포 거즈를, 5cm/초의 속도로 A점과 B점의 사이를 3 왕복시킴으로써 닦아내기를 행하였다. In the above method, a laminated film having a simulated fingerprint attached to a surface thereof was fixed on a flat plate, and points A and B were determined on the laminated film so that the interval was 10 cm. Then, a cellulosic long fiber nonwoven fabric gauze ("Haiza" gauze NT-4 manufactured by Matsushita Chemical Industries, Ltd.) having a size of 12.5 x 12.5 cm and a folded size was placed on the laminated film, and a pressure of 30 kPa was applied thereto. Woven fabric having a weight placed thereon was wiped off by making three reciprocations between points A and B at a speed of 5 cm / sec.

[지문 부착 전후의 정반사광포함, 정반사광제거의 색차] [Including regular reflection light before and after attaching fingerprint, color difference of clear reflection light removal]

성형 재료의 대상으로 하는 면의 반대면에 흑색 비닐 테이프를 부착하고, 상술한 모의 지문의 부착 전과 부착 후의 반사 색을 코니카 미놀타 가부시끼가이샤 제조 분광 측색계 CM-3600A를 사용하여, JIS Z8722(2009년)에 기초해서, 정반사광제거의 반사 색을 경면 반사광 트랩을 사용한 (de:8°)Sb10W10 조건에서, 정반사광포함된 반사 색을 경면 반사광 트랩을 사용하지 않는 (di:8°)Sb10W10 조건에서, JIS Z8730(2009년)에 기재된 CIE1976(L*a*b*)으로 측정하였다. 모의 지문의 부착 후의 측정은 직후, 부착부터 30분 후, 10시간 후의 3가지에 대해서 행하였다. A black vinyl tape was attached to the opposite surface of the molding material, and the reflection color before and after attachment of the above-mentioned simulated fingerprints was measured using a spectroscopic colorimeter CM-3600A manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. according to JIS Z8722 (2009 (Di: 8 °) Sb10W10 condition using the specular reflection light trapping (de: 8 °) Sb10W10 condition using the specular reflection light trap, Was measured by CIE 1976 (L * a * b * ) described in JIS Z8730 (2009). The measurement after attachment of the simulated fingerprints was carried out on three kinds of samples immediately after the application, 30 minutes after the application, and 10 hours after the application.

또한, 이 모의 지문의 부착 전의 반사 색과 모의 지문의 부착 직후의 반사 색으로부터, JIS Z8730(2009년)에 기재된 계산 방법에 의해, (ΔE* ab(di:8°) Sb10W10)과, (ΔE* ab(de:8°) Sb10W10)을 구하였다. (ΔE * ab (di: 8 °) Sb10W10) and ΔE (abbreviated as ΔE) are calculated from the reflection color before attachment of the simulated fingerprint and the reflection color immediately after attachment of the simulated fingerprint according to the calculation method described in JIS Z8730 * ab (de: 8 DEG) Sb10W10).

모의 지문 부착 전후의 정반사광포함의 색차(ΔE* ab(di:8°)Sb10W10)는 0.4 이하를, 모의 지문 부착 전후의 정반사광제거의 색차(ΔE* ab(de:8°) Sb10W10)는 4 이하를 합격으로 하였다. (ΔE * ab (di: 8 °) Sb10W10) before and after applying the simulated fingerprint is 0.4 or less, and the color difference (ΔE * ab (de: 8 °) 4 or less.

다음으로, 부착전과 부착부터 30분 후의 값의 반사 색으로부터, JIS Z8730(2009)에 기재된 계산 방법에 의해, (ΔE*ab(di:8°) Sb10W10, ΔESCI -0.5)와, (ΔE*ab(de:8°) Sb10W10, ΔESCE -0.5)를 구하였다. 계속해서 측정값을 바탕으로, 상술한 식 (5)에 의해 정의되는 파라미터 K0 .5를 산출하여, 2 이하를 합격으로 하였다. (ΔE * ab (di: 8 °) Sb10W10, ΔE SCI -0.5 ) and (ΔE *) by the calculation method described in JIS Z8730 (2009) from the reflection color of the values before attachment and after 30 minutes from the attachment, ab (de: 8 DEG) Sb10W10, DELTA E SCE -0.5 ). To continue on the basis of measured values, calculated parameter K 0 .5, defined by the equation (5), and a more than 2 to pass.

또한, 부착 전 및 10시간 후의 반사 색으로부터 JIS Z8730(2009)에 기재된 계산 방법에 의해, (ΔE* ab(di:8°) Sb10W10, ΔESCI -10)와, (ΔE* ab(de:8°) Sb10W10, ΔESCE-10)를 구하였다. 계속해서 측정값을 바탕으로, 상술한 식 (6)에 의해 정의되는 파라미터 K10을 산출하여, 상술한 식 (4)에 나타낸 바와 같이, 파라미터 K0 .5와의 차가 1 이하를 합격으로 하였다. (ΔE * ab (di: 8 °) Sb10W10, ΔE SCI- 10 ) and (ΔE * ab (de: 8 °)) by the calculation method described in JIS Z8730 °) Sb10W10, ΔE SCE-10 ). Subsequently, it based on the measurement, by calculating a parameter K 10, which is defined by the equation (6), and the less the difference between the parameter K 0 .5 1 to pass as shown in the equation (4).

[모의 지문 부착 전, 모의 지문 닦아내기 후의 정반사광포함, 정반사광제거의 색차] [Color difference of clear reflection light removal before and after simulated fingerprint removal, clear reflection light removal after simulated fingerprint removal]

적층 필름의 대상으로 하는 면의 반대면에 흑색 비닐 테이프를 부착하고, 상술한 모의 지문의 부착 전과 닦아내기 후의 반사 색을 코니카 미놀타 가부시끼가이샤 제조 분광 측색계 CM-3600A를 사용하여, JIS Z 8722(2009년)에 기초해서, 정반사광제거의 반사 색을 경면 반사광 트랩을 사용한 (de:8°)Sb10W10 조건에서, 정반사광포함된 반사 색을 경면 반사광 트랩을 사용하지 않는 (di:8°)Sb10W10 조건에서, JIS Z8730(2009년)에 기재된 CIE1976(L*a*b*)으로 측정하였다. A black vinyl tape was attached to the opposite surface of the laminated film, and the reflection color before and after wiping of the above-mentioned simulated fingerprints was measured using a spectroscopic colorimeter CM-3600A manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. according to JIS Z 8722 (De: 8 °) Sb10W10 using reflective mirror traps (di: 8 °), the reflection color including specularly reflected light is used as the reflection color of regular reflection light elimination (2009) (L * a * b * ) described in JIS Z8730 (2009) under the Sb10W10 condition.

또한, 이 모의 지문 부착 전, 모의 지문 닦아내기 후의 반사 색으로부터 JIS Z 8730(2009년)에 기재된 계산 방법에 의해, 모의 지문 부착 전, 모의 지문 닦아내기 후의 반사 색으로부터 (ΔE* ab(di:8°) Sb10W10)와, (ΔE* ab(de:8°) Sb10W10)를 구하여, 전자를 ΔESCI-2로, 후자를 ΔESCE-2로 하였다. (ΔE * ab (di: a)) from the reflection color after the simulated fingerprint is removed from the reflection color after the simulated fingerprint is wiped by the calculation method described in JIS Z 8730 (2009) 8 °) Sb10W10) and (ΔE * ab (de: 8 °) Sb10W10) were determined to obtain ΔE SCI-2 as the former and ΔE SCE-2 as the latter.

[유적 직경의 측정] [Measurement of diameter of ruins]

상술한 모의 지문 부착과 마찬가지의 방법으로 성형 재료 표면에 부착시킨 모의 지문을 대상으로, 이 성형 재료를 25℃에서 24시간 보관한 후에, 그 유적의 표면 투영상을, 미분 간섭 현미경을 사용해서 촬영하고, 얻어진 화상에 대하여 화상 처리 소프트를 사용해서 유적 직경(dp)을 구하여, 그 결과를 기초로 면적 기준 빈도 분포 및 그 누적 빈도의 추이를 구하였다. The simulated fingerprints attached to the surface of the molding material in the same manner as in the above-mentioned simulated fingerprint attachment were stored for 24 hours at 25 DEG C and the surface projection images of the memories were photographed using differential interference microscopy and, using the image processing software of the obtained image was determined remains diameter (d p) a, and the frequency on the basis of the result based on area distribution and changes of the cumulative frequency is obtained.

유적 직경(dp)의 구체적인 측정 수순을 이하에 기재한다. The detailed measurement procedure of the diameter d p of the ruins will be described below.

먼저 모의 지문을 부착시킨 지문 방지 성형 재료의 표면을 미분 간섭 현미경에 의해 100배의 배율로 화상을 촬영하였다. 계속해서 화상 처리 소프트 EasyAccess Ver6.7.1.23으로 화상을 그레이스케일로 변환하고, 화이트 밸런스를 최명부와 최암부가 8bit의 톤 커브에 수용되도록 조정하고, 또한 유적의 경계를 명확하게 분별할 수 있도록 콘트라스트를 조절하였다. 계속해서 화상 해석 소프트 ImageJ 1.45s를 사용해서 상술한 경계를 경계로 화소의 2치화를 행하여, 개개의 유적이 이루는 면적을 산출하고, 거기에서 해당 영역의 면적을 원형 근사했을 때의 직경으로서 유적 직경을 구하였다. First, the surface of the anti-fingerprint molding material having the simulated fingerprint attached thereto was imaged with a differential interference microscope at a magnification of 100 times. Next, the image is converted to grayscale by the image processing soft EasyAccess Ver6.7.1.23, the white balance is adjusted so that the shortest and darkest parts are accommodated in the 8-bit tone curve, and the contrast is adjusted so that the boundaries of the remains can be clearly discriminated Respectively. Subsequently, the pixels are binarized using the image analyzing software ImageJ 1.45s with the boundaries set as described above, and the area formed by the individual remains is calculated. Then, the diameter of the area Respectively.

[유적의 면적 기준 빈도 분포] [Frequency distribution of reference area of remains]

유적의 면적 기준 빈도 분포의 산출에서는, 앞서 상술한 처리에 의해 얻어진 유적 직경(dp)을 바탕으로 그 히스토그램을 작성하였다. 이때 유적 직경은 5㎛마다 구분하고, 이것에 기초하여 Microsoft Excel 2003의 히스토그램 기능을 사용해서 층별을 행하였다. 계속해서 얻어진 히스토그램에 대하여 표면 투영상의 면적에 의한 가중치 부여를 하기 위해서, 히스토그램의 각 층별의 대표 면적을 각 기수의 중심값을 대표 직경으로 한 원이라 가정해서 구하고, 이것에 각 층별의 빈도를 곱하고, 다시 총 면적으로 나눔으로써, 면적 기준 빈도 분포를 구하였다. 또한 상기 면적 기준 빈도 분포에 대해서, 종축을 빈도, 횡축을 유적 직경으로 해서 그 누적 빈도를 그래프화하여, 누적 빈도 50%에 있어서의 유적 직경의 값으로부터 메디안 직경(DP)을 구하였다. 구체적으로는, 누적 빈도 50%가 되는 점을 사이에 두는 2개의 층을 히스토그램으로부터 특정하고, 해당 층의 유적 직경의 중심값과 누적 빈도로 특정되는 2 좌표간을 직선으로 연결하여, 이 직선상에서 누적 빈도 50%가 되는 점의 유적 직경으로서 메디안 직경(DP)을 산출하였다. In the calculation of the area frequency reference distribution of the remains, the histogram was created based on the diameter d p of the remains obtained by the above-described process. At this time, the diameter of the ruins was divided every 5 탆, and based on this, the histogram function of Microsoft Excel 2003 was used to perform layering. In order to assign a weight based on the area of the surface projection image to the histogram thus obtained, it is assumed that the representative area of each layer of the histogram is a circle in which the center value of each radix is a representative diameter. And then divided by the total area to obtain the area reference frequency distribution. Further, with respect to the area reference frequency distribution, the median diameter (D P ) was obtained from the value of the diameter at the cumulative frequency of 50% by plotting the cumulative frequency with the ordinate axis frequency and the abscissa axis as the diameter of the ruins. Concretely, two layers with a cumulative frequency of 50% are specified from the histogram, and the two coordinates specified by the center value and the cumulative frequency of the diameter of the ruins of the layer are connected by a straight line, The median diameter (D P ) was calculated as the diameter of the remains at the point where the cumulative frequency was 50%.

[면적 기준 빈도 분포의 경시 변화] [Change over time of frequency distribution of area standard]

상술한 모의 지문 부착과 마찬가지의 방법으로 모의 지문을 성형 재료 표면에 부착시킨 후, 이 성형 재료를 25℃, 무풍 조건 하에서 각각 30분, 10시간 정치하였다. 계속해서 상술한 유적 직경의 측정에 의해 30분 후의 유적 직경과 10시간 후의 유적 직경을 측정하였다. 또한 거기에서 상기 면적 기준 빈도 분포에 기재된 해석에 의해 30분 후의 메디안 직경(DP0 .5) 및 10시간 후의 메디안 직경(DP10)을 산출하였다. After the simulated fingerprints were attached to the surface of the molding material in the same manner as in the above-mentioned simulated fingerprint attachment, the molding materials were left for 30 minutes and 10 hours respectively at 25 DEG C and no-wind condition. The diameter of the ruins after 30 minutes and the diameter of ruins after 10 hours were measured by measuring the diameter of the ruins described above. In addition, the median diameter was calculated (D P0 .5) and the median diameter (D P10) after 10 hours after 30 minutes by the analysis set forth in the area of the reference frequency distribution there.

[내지문성(지문 부착성)][Fingerprint (fingerprint adhesion)]

내지문성(지문 부착성)은, 적층 필름의 평가하는 면을 위로 해서 흑색 도화지 위에 놓고, 지문을 누르는 손가락(집게 손가락)과 엄지 손가락을 3회 문지른 후, 상기 표면층의 표면에 손가락(집게 손가락)을 천천히 밀어붙여, 부착된 지문의 시인성을 다음의 평가 기준으로 평가하여, 5점 이상을 합격으로 하였다. (Index fingerprint) is placed on a black screen with the side to be evaluated of the laminated film facing up, the finger (forefinger) pressing the fingerprint and the thumb are rubbed three times, and the finger (index finger) The visibility of the attached fingerprints was evaluated by the following evaluation criteria, and at least five points were determined as acceptable.

10점: 지문이 시인되지 않거나, 또는 미부착부와의 차이를 알 수 없다. 10 points: The fingerprint is not recognized or the difference between the fingerprint is not known.

7점: 지문을 거의 시인할 수 없거나, 또는 지문이라고는 인식되지 않는다. 7 point: Fingerprint can hardly be recognized, or fingerprint is not recognized.

5점: 지문이 약간 시인되지만, 거의 신경쓰이지 않는다. 5 points: Fingerprints are slightly visible, but do not bother.

3점: 지문이 시인된다. 3 points: The fingerprint is recognized.

1점: 지문이 명확하게 시인되어, 매우 신경이 쓰인다. One point: The fingerprint is clearly acknowledged, and it is very careful.

상기 평가를 10명의 대상에 대해서 행하고, 그 평균값을 구하였다. 소수점 이하에 대해서는 반올림해서 취급하였다. The above evaluation was performed on 10 subjects, and the average value was obtained. Rounded decimal places were treated as rounded.

[내지문성(지문 소실성)][Munsung (Fingerprint Lossiness)]

상기 내지문성의 평가와 마찬가지로 지문을 전사한 후에 25℃, 무풍 상태 하에서 10시간 정치한 지문의 시인성을, 상기 평가 「내지문성(지문 부착성)」에 대하여 관찰각을 0° 근방(샘플을 옆에서 바라봄)부터 90°(바로 위에서 바라봄)의 범위로 확장해서 관찰을 행하고, 10점 만점으로 평가하였다. 방치 후의 지문의 시인성을 다음의 평가 기준으로 평가하고, 7점 이상을 합격으로 하였다. As in the evaluation of the above-mentioned property, the visibility of fingerprints left to stand at 25 캜 for 10 hours under a no-wind condition after the transfer of the fingerprints was evaluated with respect to the above-mentioned evaluation " To 90 [deg.] (Looking directly above), and evaluated with a score of 10 out of 10. The visibility of the fingerprint after leaving was evaluated by the following evaluation criteria, and at least 7 points were passed.

10점: 지문이 시인되지 않거나, 또는 미부착부와의 차이를 알 수 없다. 10 points: The fingerprint is not recognized or the difference between the fingerprint is not known.

7점: 지문을 거의 시인할 수 없거나, 또는 지문이라고는 인식되지 않는다. 7 point: Fingerprint can hardly be recognized, or fingerprint is not recognized.

5점: 지문이 약간 시인되지만, 거의 신경쓰이지 않는다. 5 points: Fingerprints are slightly visible, but do not bother.

3점: 지문이 시인된다. 3 points: The fingerprint is recognized.

1점: 지문이 명확하게 시인되어, 매우 신경이 쓰인다. One point: The fingerprint is clearly acknowledged, and it is very careful.

상기 평가를 10명의 대상자에 대해서 행하고, 그 평균값을 구하였다. 소수점 이하에 대해서는 반올림해서 취급하였다. The evaluation was performed on 10 subjects, and the average value was obtained. Rounded decimal places were treated as rounded.

[내지문성(지문 닦아냄성)][Myeongseong (fingerprint polishability)]

상술한 방법으로, 지문을 부착시킨 후, 계속해서, 접은 치수가 12.5×12.5cm인 셀룰로오스 장섬유 부직포 거즈("하이제" 거즈 NT-4 카와모토 산교 가부시끼가이샤 제조)를 사용해서 닦아내기를 행하였다. 지문 닦아냄성은, 이 닦아내는 방법으로 닦은 후의 시인성을 다음의 평가 기준으로 평가하여, 5점 이상을 합격으로 하였다. After the fingerprint was attached in the above-described manner, wiping was performed by using a cellulose long-fiber nonwoven fabric gauze having a folded size of 12.5 x 12.5 cm ("Haiza" gauze NT-4 manufactured by Moto Sanayaku Kagaku Co., Ltd.) Respectively. The fingerprint polishability was evaluated by visibility after wiping with a wiping method by the following evaluation criteria, and at least 5 points were passed.

10점: 1회 닦으면, 거의 시인할 수 없게 된다. 10 points: If you wipe it once, you can hardly see it.

7점: 1회 닦으면, 거의 신경쓰이지 않을 정도가 된다. 7 points: If you wipe it once, it will be almost unimportant.

5점: 1회 또는 2회 닦은 것만으로는 오염이 남지만, 3회 닦으면, 거의 시인할 수 없게 된다. 5 points: Only one or two wipes will be contaminated, but if you wipe three times, you will hardly be able to see.

3점: 5회 닦으면, 거의 신경쓰이지 않을 정도가 된다. 3 points: If you wipe 5 times, it will be almost unimportant.

1점: 5회 이상 닦아도 오염이 남는다. 1 point: Pollution remains even if wiped more than 5 times.

상기 평가를 10명의 대상지에 대해서 행하고, 그 평균값을 구하였다. 소수점 이하에 대해서는 반올림해서 취급하였다. The evaluation was carried out for ten subjects, and the average value was obtained. Rounded decimal places were treated as rounded.

[내화장품성] [My cosmetic property]

5cm 사각으로 잘라낸 시료에 가오 가부시끼가이샤 제조 아트릭스 「핸드 크림 A」(NO413)를 0.5g 도포하고, 온도 60℃, 상대 습도 95%의 분위기 하에서 6시간 방치한 후, 25℃ 상대 습도 65%의 분위기 하에서 30분간 방치하여, 표면을 거즈로 깨끗이 닦아낸다. 온도 25℃, 상대 습도 65%의 분위기 하에서 24시간 방치한 후, 표면의 상태를 관찰하여, 다음의 기준에 준해서 판정을 행하고, 4점 이상을 합격으로 하였다. 0.5 g of Atrix &quot; Hand Cream A &quot; (NO413) manufactured by Kao Corporation was applied to a sample cut in a square of 5 cm and left for 6 hours in an atmosphere at a temperature of 60 DEG C and a relative humidity of 95% Leave under the atmosphere for 30 minutes to wipe the surface clean with gauze. After standing for 24 hours in an atmosphere at a temperature of 25 占 폚 and a relative humidity of 65%, the state of the surface was observed, and determination was made according to the following criteria.

10점: 백반의 발생 없음. 10 points: No occurrence of algae.

7점: 백반의 발생이 거의 없음. 7 points: Almost no occurrence of algae.

4점: 백반이 발생하지만, 닦아내면 깨끗해진다. 4 points: It occurs when it is white, but it is clean when wiped.

1점: 백반이 발생한다. 닦아내도 온도 25℃, 상대 습도 65%의 분위기 하에서 24시간 방치 후에 다시 발생한다. 1 point: Whitehead occurs. Even after wiping, it occurs again after standing for 24 hours in an atmosphere at a temperature of 25 ° C and a relative humidity of 65%.

표 1, 2에 우레탄 아크릴레이트 B, C의 물성을 평가하기 위해서 형성한 X층, Y층을 갖는 적층 필름 X, Y의 물성을, 표 3-1, 3-2, 4-1, 4-2, 5-1, 5-2에 최종적으로 얻어진 적층 필름의 평가 결과 등을 정리하였다. 평가 항목(60° 경면 광택도, 파괴 신도, 자기 수복성, 의장성, 내화장품성, 모의 지문 부착 전후의 색차, K0.5, K0.5-K10, 내지문성(지문 부착성), 내지문성(지문 소실성), 및 내지문성(지문 닦아내기성))에 있어서 1 항목이라도 합격하지 못한 것에 대해서, 과제 미달성이라고 판단하였다. The physical properties of the laminated films X and Y having the X layer and Y layer formed for evaluating the physical properties of the urethane acrylates B and C are shown in Tables 1 and 2 in Tables 3-1, 3-2, 4-1 and 4- 2, 5-1, and 5-2 were summarized. Evaluation items (60 ° mirror gloss, breaking strength, self-repellency, designability, cosmetic resistance, color difference before and after a simulated fingerprint, K 0.5 , K 0.5 -K 10 , Fingerprint disappearance), and fading (fingerprint wiping)), it was judged that the problem was not met.

[표 1] [Table 1]

Figure pct00018
Figure pct00018

[표 2][Table 2]

Figure pct00019
Figure pct00019

[표 3-1-A][Table 3-1-A]

Figure pct00020
Figure pct00020

[표 3-1-B][Table 3-1-B]

Figure pct00021
Figure pct00021

[표 3-2-A] [Table 3-2-A]

Figure pct00022
Figure pct00022

[표 3-2-B] [Table 3-2-B]

Figure pct00023
Figure pct00023

[표 4-1-A] [Table 4-1-A]

Figure pct00024
Figure pct00024

[표 4-1-B] [Table 4-1-B]

Figure pct00025
Figure pct00025

[표 4-2-A] [Table 4-2-A]

Figure pct00026
Figure pct00026

[표 4-2-B][Table 4-2-B]

Figure pct00027
Figure pct00027

[표 4-2-C][Table 4-2-C]

Figure pct00028
Figure pct00028

[표 4-2-D][Table 4-2-D]

Figure pct00029
Figure pct00029

[표 5-1-A] [Table 5-1-A]

Figure pct00030
Figure pct00030

[표 5-1-B] [Table 5-1-B]

Figure pct00031
Figure pct00031

[표 5-1-C] [Table 5-1-C]

Figure pct00032
Figure pct00032

[표 5-2-A] [Table 5-2-A]

Figure pct00033
Figure pct00033

[표 5-2-B] [Table 5-2-B]

Figure pct00034
Figure pct00034

[표 5-2-C] [Table 5-2-C]

Figure pct00035
Figure pct00035

[표 5-2-D][Table 5-2-D]

Figure pct00036
Figure pct00036

[표 5-2-E] [Table 5-2-E]

Figure pct00037
Figure pct00037

[표 5-2-F] [Table 5-2-F]

Figure pct00038
Figure pct00038

1 : 최대 변위량 2 : 크리프 변위량
3 : 영구 변위량 4 : 두께 방향의 변위량(h(㎛))
5 : 하중(P(mN)) 6 : 가중 공정
7 : 유지 공정 8 : 제하 공정
9, 11, 13 : 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온(M/Z=43)이 존재하는 영역
10, 12, 14 : 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온(M/Z=43)이 경계값 미만인 영역
[산업상 이용가능성]
본 발명에 따른 적층 필름은, 플라스틱 성형품, 가전 제품, 건축물이나 차량 내장품 및 다양한 인쇄물의 각각의 표면에 마찬가지의 기능을 부여하기 위해서도 사용할 수 있다.
1: maximum displacement 2: creep displacement
3: Permanent displacement amount 4: Displacement amount in the thickness direction (h (탆))
5: Load (P (mN)) 6: Weighted process
7: Holding process 8: Removal process
9, 11 and 13: regions in which Si (CH 3 ) + fragment ions (M / Z = 43) derived from dimethylsiloxane exist
10, 12, 14: Si (CH 3 ) + fragment ions derived from dimethylsiloxane (M / Z = 43)
[Industrial applicability]
The laminated film according to the present invention can also be used for imparting similar functions to respective surfaces of plastic molded articles, household appliances, buildings, automobile interior parts, and various printed materials.

Claims (12)

지지 기재 중 적어도 한쪽의 면에 표면층을 갖는 적층 필름이며, 표면층이 이하의 1 내지 3을 만족하는 것을 특징으로 하는 적층 필름.
1. JIS Z8741(1997년)에서 규정하는 60° 경면 광택도가 60% 이상
2. 올레산의 후퇴 접촉각(θr)이 50° 이상
3. 미소 경도계 측정에 있어서 0.5mN 하중을 10초간 가했을 때의, 상기 표면층의 두께 방향의 최대 변위량이 1.0㎛ 이상 3.0㎛ 이하이고,
상기 표면층의 두께 방향의 크리프 변위량이 0.05㎛ 이상 0.5㎛ 이하이고,
하중을 0mN까지 해방했을 때의, 상기 표면층의 두께 방향의 영구 변위량이 0.2㎛ 이상 0.7㎛ 이하
A laminated film having a surface layer on at least one surface of a support substrate, wherein the surface layer satisfies the following 1 to 3:
1. 60% specular gloss specified by JIS Z8741 (1997) is 60% or more
2. The receding contact angle (θ r ) of oleic acid is 50 ° or more
3. The micro-hardness measurement method according to any one of claims 1 to 3, wherein a maximum displacement amount in the thickness direction of the surface layer when a 0.5 mN load is applied for 10 seconds is 1.0 占 퐉 or more and 3.0 占 퐉 or less,
The amount of creep displacement in the thickness direction of the surface layer is 0.05 탆 or more and 0.5 탆 or less,
When the load is released to 0 mN, the amount of permanent displacement of the surface layer in the thickness direction is 0.2 탆 or more and 0.7 탆 or less
제1항에 있어서, 상기 표면층의 올레산의 전진 접촉각(θa), 후퇴 접촉각(θr)이 하기 식 (1)을 만족하는 적층 필름.
ar)≤15° 식 (1)
The laminated film according to claim 1, wherein the advancing contact angle (? A ) and the receding contact angle (? R ) of oleic acid in the surface layer satisfy the following formula (1).
(? a - ? r )? 15? Equation (1)
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 표면층의 올레산 흡수 계수(Ab)가 30 이상인 것을 특징으로 하는 적층 필름.
여기서, 올레산 흡수 계수(Ab)란, 상기 표면층에 올레산을 2μl 적하하고, 시린지로부터의 토출 시에 액적 형상으로부터 구한 부피(V1), 착적 시의 착적부의 면적(S1), 25℃, 무풍 상태에서 10시간 유지한 후의 부피(V2) 및 상기 표면층의 두께(T)로부터, 이하의 식 (2)에 의해 구해지는 값을 가리킴.
Ab=(V1-V2)/(S1×T) 식 (2)
The laminated film according to claim 1 or 2, wherein the oleic acid absorption coefficient (A b ) of the surface layer is 30 or more.
Here, the oleic acid absorption coefficient (A b ) refers to the volume (V 1 ) determined from the droplet shape at the time of discharging oleic acid from the syringe, the area (S 1 ) of the adhered portion at the time of deposition, ( 2 ) from the volume (V 2 ) after holding for 10 hours in a no-wind condition and the thickness (T) of the surface layer.
A b = (V 1 -V 2 ) / (S 1 × T) (2)
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 표면층에서 비행시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 측정되는, 불소에서 유래하는 F- 프래그먼트 이온(M/Z=19)이 면내에서 균일하게 존재하고, 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온(M/Z=43)이 이하의 어느 하나로 존재하는 것을 특징으로 하는 적층 필름.
·섬 형상으로 존재
·그물눈 형상으로 존재
·섬 형상 및 그물눈 형상으로 존재
4. The method according to any one of claims 1 to 3, wherein F - fragment ions (M / Z = 19) derived from fluorine, measured by a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF- SIMS) , And Si (CH 3 ) + fragment ions (M / Z = 43) derived from dimethylsiloxane exist uniformly in this plane and exist in any one of the following.
· Exists in island shape
· Exists in a net shape
· Exists in island shape and mesh shape
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 표면층에서, 상기 디메틸실록산에서 유래하는 Si(CH3)+ 프래그먼트 이온이 존재하는 영역의 점유율이 30% 이상 70% 이하인 것을 특징으로 하는 적층 필름. 5. The semiconductor device according to any one of claims 1 to 4, wherein occupancy of a region where Si (CH 3 ) + fragment ions derived from dimethylsiloxane is present in the surface layer is 30% or more and 70% or less film. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 표면층에, 다음의 조건 하에서 모의 지문을 부착시킨 전후의 JIS Z8730(2009년) 및 JIS Z8722(2009년)에서 규정하는 정반사광포함의 색차 ΔE* ab(di:8°) Sb10W10이 0.4 이하, 또한 정반사광제거의 색차 ΔE* ab(de:8°) Sb10W10이 4 이하인 적층 필름.
모의 지문 부착 조건: 올레산 70질량%와 수 평균 입자 직경 2㎛의 실리카 30질량%를 포함하는 분산물을, JIS B0601(2001년)에서 규정하는 Ra가 3㎛이고, JIS K6253(1997년)에서 규정하는 고무 경도 50의 실리콘 고무에 1.0g/m2 부착시키고, 이것을 대상으로 하는 면에 30kPa로 부착시킨 것.
The image display device according to any one of claims 1 to 5, characterized in that the surface layer is provided with a color difference including regular reflection light specified in JIS Z8730 (2009) and JIS Z8722 (2009) before and after a simulated fingerprint is attached under the following conditions ? E * ab (di: 8) Sb10W10 is 0.4 or less, and the color difference? E * ab (de: 8 deg.) Of regularly reflected light is Sb10W10 is 4 or less.
Simulated fingerprint attachment conditions: A dispersion containing 70% by mass of oleic acid and 30% by mass of silica having a number average particle diameter of 2 占 퐉 was prepared in the same manner as described in JIS K6253 (1997) with a Ra of 3 占 퐉 as defined in JIS B0601 A rubber rubber having a rubber hardness of 50 specified is attached to 1.0 g / m 2 on the silicone rubber and attached to the surface to be treated at 30 kPa.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 표면층이, 이하의 식 (3) 및 식 (4)를 만족하는 것을 특징으로 하는 적층 필름.
K0 .5≤3 식 (3)
K0 .5-K10≥1 식 (4)
여기서,
K0 .5=[(ΔESCI -0.5)2+(ΔESCE -0.5)2]1/2 식 (5)
K10=[(ΔESCI -10)2+(ΔESCE -10)2]1/2 식 (6)
ΔESCI -0.5, ΔESCE -0.5:
상기 표면층에 다음의 방법으로 모의 지문을 부착시키기 전의 상태를 기준으로 하여, 모의 지문 부착부터 30분 후에 측정한 JIS Z8730(2009) 및 JIS Z8722(2009)에서 규정하는 ΔE* ab(di:8°) Sb10W10과, ΔE* ab(de:8°) Sb10W10을 각각 가리킴.
ΔESCI -10, ΔESCE -10:
상기 표면층에 다음의 방법으로 모의 지문을 부착시키기 전의 상태를 기준으로 하여, 모의 지문 부착부터 10시간 후에 측정한 JIS Z8730(2009) 및 JIS Z8722(2009)에서 규정하는 ΔE* ab(di:8°) Sb10W10과, ΔE* ab(de:8°) Sb10W10을 각각 가리킴.
모의 지문 부착 조건: 올레산 70질량%와 수 평균 입자 직경 2㎛의 실리카 30질량%를 포함하는 분산물을, JIS B0601(2001년)에서 규정하는 Ra가 3㎛이고, JIS K6253(1997년)에서 규정하는 고무 경도 50의 실리콘 고무에 1.0g/m2 부착시키고, 이것을 대상으로 하는 면에 30kPa로 부착시킨 것.
The laminated film according to any one of claims 1 to 6, wherein the surface layer satisfies the following formulas (3) and (4).
K 0 .5? 3 Equation (3)
K 0 .5 -K 10? 1 Equation (4)
here,
K 0 .5 = [(ΔE SCI -0.5) 2 + (ΔE SCE -0.5) 2] 1/2 Equation (5)
K 10 = [(ΔE SCI -10 ) 2 + (ΔE SCE -10 ) 2 ] 1/2 (6)
ΔE SCI -0.5 , ΔE SCE -0.5 :
On the basis of a state before attaching the simulated fingerprint in the following manner on the surface layer, simulated from the fingerprint adhesion was measured after 30 minutes JIS Z8730 (2009), and ΔE * ab (di specified in JIS Z8722 (2009): 8 ° ) Sb10W10, and? E * ab (de: 8 °) Sb10W10, respectively.
? E SCI- 10 ,? E SCE -10 :
On the basis of a state before attaching the simulated fingerprint in the following manner on the surface layer, simulated from the fingerprint adhesion was measured after 10 hours JIS Z8730 (2009), and ΔE * ab (di specified in JIS Z8722 (2009): 8 ° ) Sb10W10, and? E * ab (de: 8 °) Sb10W10, respectively.
Simulated fingerprint attachment conditions: A dispersion containing 70% by mass of oleic acid and 30% by mass of silica having a number average particle diameter of 2 占 퐉 was prepared in the same manner as described in JIS K6253 (1997) with a Ra of 3 占 퐉 as defined in JIS B0601 A rubber rubber having a rubber hardness of 50 specified is attached to 1.0 g / m 2 on the silicone rubber and attached to the surface to be treated at 30 kPa.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 표면층에, 다음의 방법으로 모의 지문을 부착시켰을 때에 형성되는 유적의, 면적 기준 빈도 분포로부터 산출한 메디안 직경(DP)이 이하의 식 (7) 및 식 (8)을 만족하는 것을 특징으로 하는 적층 필름.
DP0 .5≤80㎛ 식 (7)
(DP0 .5-DP10)/DP0 .5≥0.5 식 (8)
DP0 .5: 상기 모의 지문의 부착부터 30분 후에 측정한, 모의 지문을 구성하는 유적의 면적 기준 빈도 분포로부터 산출한 메디안 직경
DP10: 상기 모의 지문의 부착부터 10시간 후에 측정한, 모의 지문을 구성하는 유적의 면적 기준 빈도 분포로부터 산출한 메디안 직경
모의 지문 부착 조건: 올레산 70질량%와 수 평균 입자 직경 2㎛의 실리카 30질량%를 포함하는 분산물을, JIS B0601(2001년)에서 규정하는 Ra가 3㎛이고, JIS K6253(1997년)에서 규정하는 고무 경도 50의 실리콘 고무에 1.0g/m2 부착시키고, 이것을 대상으로 하는 면에 30kPa로 부착시킨 것.
8. The method according to any one of claims 1 to 7, wherein the median diameter (D P ) calculated from the area reference frequency distribution of the remains formed when the simulated fingerprint is attached to the surface layer in the following manner is expressed by the following expression (7) and (8).
D P0 .5 &amp; le; 80 mu m Equation (7)
(D P0 .5 -D P10) / D P0 .5 ≥0.5 (8)
D P0 .5: a median diameter calculated from the area-based frequency distribution of remains that makes up a mock fingerprint measurement after 30 minutes from the attachment of the mock fingerprint
D P10 : the median diameter calculated from the area reference frequency distribution of the remains constituting the simulated fingerprint measured 10 hours after the above-mentioned simulated fingerprint is attached
Simulated fingerprint attachment conditions: A dispersion containing 70% by mass of oleic acid and 30% by mass of silica having a number average particle diameter of 2 占 퐉 was prepared in the same manner as described in JIS K6253 (1997) with a Ra of 3 占 퐉 as defined in JIS B0601 A rubber rubber having a rubber hardness of 50 specified is attached to 1.0 g / m 2 on the silicone rubber and attached to the surface to be treated at 30 kPa.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 표면층에 다음의 조건 하에서 모의 지문 부착 및 모의 지문 닦아내기 시험을 행하여, JIS Z8730(2009년) 및 JIS Z8722(2009년)에 따라서 구한 모의 지문 부착 전의 상태를 기준으로 한 모의 지문 닦아내기 시험 후의 정반사광포함의 색차 ΔE* ab(di:8°) Sb10W10(이후, ΔESCI -2라 함) 및 모의 지문 부착 전의 상태를 기준으로 한 모의 지문 닦아내기 시험 후의 정반사광제거의 색차 ΔE* ab(de:8°) Sb10W10(이후, ΔESCE-2라 함)이 하기 식 (9)를 만족하는 것을 특징으로 하는 적층 필름.
((ΔESCI -2)2+(ΔESCE -2)2)1/2≤2.0 식 (9)
모의 지문 부착 및 모의 지문 닦아내기 시험의 조건
·모의 지문 부착 조건: 올레산 70질량%와 수 평균 입자 직경 2㎛의 실리카 30질량%를 포함하는 분산물을, JIS B0601(2001년)에서 규정하는 Ra가 3㎛이고, JIS K6253(1997년)에서 규정하는 고무 경도 50의 실리콘 고무에 1.0g/m2 부착시키고, 이것을 대상으로 하는 면에 30kPa의 압력으로 부착시킨 것.
·모의 지문 닦아내기 조건: 상기 조건으로 부착한 모의 지문을 부직포로 30kPa의 압력, 5cm/초의 속도로 3회 문지름.
9. The method according to any one of claims 1 to 8, wherein the surface layer is subjected to a simulated fingerprint adhesion test and a simulated fingerprint polish test under the following conditions, and the simulation obtained in accordance with JIS Z8730 (2009) and JIS Z8722 (2009) The color difference ΔE * ab (di: 8 °) Sb10W10 (hereinafter referred to as ΔE SCI -2 ) including the specular reflection light after the simulated fingerprint wiping test based on the state before the fingerprint is attached and the simulation Wherein the color difference DELTA E * ab (de: 8 DEG) Sb10W10 (hereinafter referred to as DELTA E SCE-2 ) of the regularly reflected light removed after the fingerprint polish test satisfies the following formula (9).
(? E SCI -2 ) 2 + (? E SCE -2 ) 2 ? 1/2? 2.0 Equation (9)
Condition of simulated fingerprint attachment and simulated fingerprint wipe test
- Simulated fingerprint attachment conditions: The dispersion containing 70% by mass of oleic acid and 30% by mass of silica having a number average particle diameter of 2 占 퐉 has a Ra of 3 占 퐉 as defined by JIS B0601 (2001), and JIS K6253 (1997) In which 1.0 g / m &lt; 2 &gt; is adhered to a silicone rubber having a rubber hardness of 50 specified in Table 1, and the surface of the silicone rubber is adhered to the surface at a pressure of 30 kPa.
· Simulated fingerprint wipe condition: The simulated fingerprint attached with the above conditions is rubbed 3 times with a nonwoven fabric at a pressure of 30 kPa and a speed of 5 cm / sec.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 표면층에 포함되는 수지가 이하의 (1) 내지 (3)을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 적층 필름.
(1) (폴리)카프로락톤 세그먼트,
(2) 우레탄 결합,
(3) 플루오로알킬기, 플루오로옥시알킬기, 플루오로알케닐기, 플루오로알칸디일기 및 플루오로옥시알칸디일기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 세그먼트(이후, 불소 화합물 세그먼트라 함)
10. The laminated film according to any one of claims 1 to 9, wherein the resin contained in the surface layer has the following (1) to (3).
(1) a (poly) caprolactone segment,
(2) a urethane bond,
(3) a segment containing at least one selected from the group consisting of a fluoroalkyl group, a fluorooxyalkyl group, a fluoroalkenyl group, a fluoroalkanediyl group and a fluorooxyalkanediyl group (hereinafter referred to as a fluorine compound segment)
제10항에 있어서, 상기 불소 화합물 세그먼트가 플루오로폴리에테르 세그먼트인 것을 특징으로 하는 적층 필름. The laminated film according to claim 10, wherein the fluorine compound segment is a fluoro polyether segment. 제10항 또는 제11항에 있어서, 상기 표면층에 포함되는 수지가 (4) (폴리)실록산 세그먼트 및/또는 폴리디메틸실록산 세그먼트를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 적층 필름.The laminated film according to claim 10 or 11, wherein the resin contained in the surface layer (4) has a (poly) siloxane segment and / or a polydimethylsiloxane segment.
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