JP2014091663A - チャージ方法、原料、及び単結晶製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】CZ法によりサファイア単結晶を製造する際に、ルツボ14内に原料24をチャージする方法であって、前記サファイヤ単結晶を製造する装置として、前記ルツボ14内の原料を加熱するヒータ22と、前記ルツボ14を配置するメインチャンバー11と、該メインチャンバー11上にゲートバルブで仕切り可能に接続されたプルチャンバーとを備えた単結晶製造装置を用い、前記原料24のチャージにおいて、前記原料24を保持したチャージ具23を前記プルチャンバーから吊り下げて、前記原料24を前記ルツボ14内にチャージするチャージ方法。
【選択図】図2
Description
これは、発明の実施の形態に記載されているように、粉末原料が高温で熱分解し易い対策としてプレス加工原料が提案されている。サファイア単結晶原料の高純度アルミナは、高温で熱分解しないが、粉または粒原料を直接融液面または融液表層の固化面に投入すると、原料粉粒に吸着された微量の水分やガスが急激に膨張し、同様の熱分解が生じる。事前に真空置換で脱気工程を経ても、完全に水分やガスを除去することは容易でなかった。
このように、従来、サファイア単結晶の製造において、ルツボへの原料のチャージを効率的に実施できる方法はなかった。
このようなヒータとルツボを有する装置を用いることで、ルツボのコストを低減できる。
このように、嵩密度が大きいペレット材を用い、さらに、穴を設けて積層させて保持してチャージすることで、より効率的に原料のチャージが可能となる。また、ペレット材であれば、チャージする重量の調整が容易である。
このように保持することで、多数のペレット材を簡易な構造で保持することができ、さらに効率的な原料チャージが可能となる。
このようにチャージすることで、融液直上で、さらには、融液に浸漬させて、下端のペレット材、サファイア基板を溶かすことができ、より安全かつ効率的に原料をチャージすることができる。
このような止め具であれば、下端のペレット材、サファイア基板を確実に係止でき、安全に複数のペレット材を積層、保持することができる。
このような材質であれば、シャフト又はワイヤーが高温で溶けることがなく、さらに、ルツボと同じ材質とすることができるため、シャフト又はワイヤーが融液に接触した場合にも融液が汚染される恐れがない。
このようなプルチャンバーであれば、チャージ具に原料セット後、プルチャンバーをメインチャンバーと同じ炉内条件にすることができ、ヒータ電源を落とすことなく、より効率的にチャージできる。
これにより、チャージ具を、CZ法の単結晶製造装置をほとんど改造することなく用いることができ、コストをより低減できる。
このようなチャージ具であれば、吊り下げた状態で確実に原料を保持することができ、安全に原料のチャージが実施可能な装置となる。
このような止め具であれば、原料を確実に係止でき、安全に原料を保持することができる装置となる。
このような材質であれば、シャフト又はワイヤーが高温で溶けることがなく、さらに、ルツボと同じ材質とすることができるため、シャフト又はワイヤーが融液に接触した場合にも融液が汚染されることを防止できる装置となる。
図1は、本発明の単結晶製造装置において、単結晶を育成中の状態を示す概略図である。図2は、本発明の単結晶製造装置において、原料をチャージする際の状態を示す概略図である。
本発明の単結晶製造装置10は、ルツボ14内の原料を加熱するヒータ22と、ルツボ14を配置するメインチャンバー11と、該メインチャンバー11上にゲートバルブ12で仕切り可能に接続されたプルチャンバー13とを備えたものである。
このような装置10を用い、本発明では、図2に示すように、原料24のチャージにおいて、原料24を保持したチャージ具23をプルチャンバー13から吊り下げて、原料24をルツボ14内にチャージする。
本発明における装置10は、ゲートバルブ12で仕切り可能に接続されたプルチャンバー13を有するため、チャージ具23を吊り下げて原料24をチャージすることにより、ヒータ電源を落とすことなく、チャージ具23や原料24が炉内部品と接触しないように、効率的に原料24をチャージすることができる。すなわち、ゲートバルブ12を有すれば、原料チャージ後、ヒータ電源を落とすことなくゲートバルブ12を閉じて、チャージ具23を取り外し、続いてゲートバルブ12を開けて単結晶17を引上げることができる。また、原料を吊り下げるため、チャージのための断熱材16上部の開口部の径を最小限にすることができ、ホットゾーンからの放熱を小さくできるため、効率的に原料チャージを実施できる。
本発明の装置10のヒータ22としては、高周波加熱ヒータを用い、ルツボ14として、イリジウムルツボを用いることもできるが、本発明では、上記のように、安価なタングステンやモリブデンを主成分とする金属ルツボを用いることが好ましい。この場合、イリジウムに比べて耐酸化性が低いため、カーボン製の断熱材16を使用することになり、カーボンは良導体であるため、高周波加熱方式では熱効率が悪く、必然的に抵抗加熱ヒーターを使用することになる。
本発明では、図2に示すように、チャージ具23を、下端に止め具26を有するシャフト又はワイヤー25とし、原料として、穴29を設けたペレット材24を用い(図3(b))、シャフト又はワイヤー25を穴29に通して下端の止め具26で係止することで複数のペレット材24を積層させて保持することが好ましい。このとき、止め具26の材質をシャフト又はワイヤー25の材質と同様とし、タングステン、モリブデン、タンタル又はこれらの内の2以上の金属からなるものとすることが好ましい。
このような穴29を設けたペレット材24であれば、嵩密度が高いため、積層させれば見かけ上の嵩密度はサファイア結晶の密度とほとんど変わらず、効率的にチャージすることができる。特に、リチャージでは引上げた結晶重量により追加重量は変化するが、ペレット材は厚さ、外径を調節することで、容易に所定重量に調節することが可能である。一方、特許文献3のような予め用意された棒状原料では追加チャージが可能な構造としても、重量等を任意に調整することは難しい。
また、穴29の径は、なるべく小さくする必要があるが、落下をスムーズにするため、直径20mm程度が最適である。
本発明において、シャフト又はワイヤー25の下端の止め具26の幅よりも径が小さい穴29を設けたペレット材24’’(図4(a))又はサファイア基板30(図4(b))をシャフト又はワイヤー25に通して止め具26で係止し、該係止したペレット材24’’又はサファイア基板30上に、止め具26の幅よりも径が大きい穴29を設けたペレット材24’を複数積層させて保持することが好ましい。
これにより、簡易な構造で、確実にペレット材を保持することができる。
シャフト又はワイヤー25は、鍔の形状の止め具26(図4)又は下開きのテーパー形状の止め具26’(図5(a))を有するものであることが好ましい。
このような止め具であれば、原料を確実に係止でき、安全に原料を保持することができる。
これにより、より安定した保持が可能である。
このような材質であれば、シャフト又はワイヤー25がヒータ加熱により高温で溶けることがなく、さらに、ルツボ14に用いられる材質と同様であるため、シャフト又はワイヤー25が融液15に接触した場合にも融液15が汚染されることを防止できる。
ペレット材24を保持したシャフト又はワイヤー25を、例えば引上げ軸20の先端の種ホルダー21に接続することで、安定して吊り下げることができ、また、単結晶製造装置に特別な改造等の変更を加えることなく本発明のチャージを実施できるため、コストの観点でも好ましい。
上記のようにペレット材を積層させ、さらに、係止したペレット材24’’又はサファイア基板30を溶かしてチャージする方法であれば、ペレット材であるため充填率が高く、また、原料粉の舞い上がりや吹き上がりの恐れがない。このとき、下端で係止されたペレット材24’’、サファイア基板30が溶ける程度の位置、例えば、ルツボ14の上端より下の位置(融液15の直上)まで下げて溶かすことができる。または、さらに下げて、下端のペレット材24’’、サファイア基板30を融液15に浸漬させて溶かすこともできる。穴29の小さな下端のペレット材24’’、サファイア基板30が溶けることで、その上の止め具26より径の大きい穴29を設けたペレット材24’がルツボ14中に順次落下していき、チャージが完了する。
この場合も、ヒータ電源を落とさずに原料をチャージすることができる。
(実施例)
図1に示すような単結晶製造装置を用いてサファイア単結晶を育成した後、図2に示すような方法で原料の追加チャージを行った。
この結晶育成後、断熱材の上部(拡径部)と一緒に引上げ、ゲートバルブを閉めてプルチャンバーから取り出し、その後に、アルミナのドーナツ状ペレット材を保持した追加チャージ用のモリブデンシャフトを引上げ軸にセットし、プルチャンバー内をガス置換し、ゲートバルブを開けて追加チャージ用のモリブデンシャフトをプルチャンバーから降下させ、残った融液に追加チャージした。この場合、内径20mmの穴を開けた外径110mmのペレット材をシャフトに複数通して保持させると、ペレット材の合計の積層高さは323mmとなり、引上げた単結晶より73mm高くなるだけで、引上げ結晶と同等量の原料を一度で追加チャージ可能であった。この高さは、単結晶製造装置の構造から問題とならないサイズである。
13…プルチャンバー、 14…ルツボ、 15…融液、 16…断熱材、
17…サファイア単結晶、 18…黒鉛製保持具、 19…ルツボ支持軸、
20…単結晶引上げ軸、 21…種ホルダー、 22…ヒータ、
23…チャージ具、 24、24’、24’’、24’’’…原料(ペレット材)、
25…シャフト又はワイヤー、 26、26’…止め具、
27…粒状又は粉状の原料、 28…拡径部、 29、29’…穴、
30…サファイア基板、 31…ガス導入管、 32…ガス排出管、
33…バルブ部材、 34…リチャージ管、 35…真空ポンプ。
Claims (14)
- CZ法によりサファイア単結晶を製造する際に、ルツボ内に原料をチャージする方法であって、
前記サファイヤ単結晶を製造する装置として、前記ルツボ内の原料を加熱するヒータと、前記ルツボを配置するメインチャンバーと、該メインチャンバー上にゲートバルブで仕切り可能に接続されたプルチャンバーとを備えた単結晶製造装置を用い、
前記原料のチャージにおいて、前記原料を保持したチャージ具を前記プルチャンバーから吊り下げて、前記原料を前記ルツボ内にチャージすることを特徴とするチャージ方法。 - 前記ヒータを抵抗加熱ヒータとし、前記ルツボを、タングステン又はモリブデン、あるいはタングステンとモリブデンの両方を主成分とする金属ルツボとすることを特徴とする請求項1に記載のチャージ方法。
- 前記チャージ具を、下端に止め具を有するシャフト又はワイヤーとし、前記原料として、穴を設けたペレット材を用い、前記シャフト又はワイヤーを前記穴に通して前記下端の止め具で係止することで複数の前記ペレット材を積層させて保持することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のチャージ方法。
- 前記シャフト又はワイヤーの下端の止め具の幅よりも径が小さい穴を設けたペレット材又はサファイア基板を前記シャフト又はワイヤーに通して前記止め具で係止し、該係止したペレット材又はサファイア基板上に、前記止め具の幅よりも径が大きい穴を設けたペレット材を複数積層させて保持することを特徴とする請求項3に記載のチャージ方法。
- 前記シャフト又はワイヤーに保持された前記複数のペレット材を、前記ルツボ上に位置させ、前記止め具で係止した下端に位置する前記ペレット材又はサファイア基板を溶かして、前記積層させたペレット材を前記ルツボ内にチャージすることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載のチャージ方法。
- 前記シャフト又はワイヤーの止め具を、鍔の形状又は下開きのテーパー形状とすることを特徴とする請求項3乃至請求項5のいずれか一項に記載のチャージ方法。
- 前記シャフト又はワイヤーを、タングステン、モリブデン、タンタル又はこれらの内の2以上の金属からなるものとすることを特徴とする請求項3乃至請求項6のいずれか一項に記載のチャージ方法。
- 前記プルチャンバーを、真空置換とガス置換することができる設備を備えたものとすることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載のチャージ方法。
- 前記ペレット材を保持したシャフト又はワイヤーを、ワイヤー方式又はシャフト方式の単結晶引上げ軸で吊り下げることを特徴とする請求項3乃至請求項8のいずれか一項に記載のチャージ方法。
- サファイア単結晶を製造する際に、ルツボ内にチャージされる原料であって、該原料は、穴が設けられたペレット材であることを特徴とする原料。
- CZ法により、ルツボ内で原料を加熱溶融して得られた融液からサファイア単結晶を製造する装置であって、
前記ルツボ内の原料を加熱するヒータと、前記ルツボを配置するメインチャンバーと、該メインチャンバー上にゲートバルブで仕切り可能に接続されたプルチャンバーと、前記原料の前記ルツボ内へのチャージにおいて、前記原料を保持し、前記プルチャンバーから吊り下げられるチャージ具とを備えたものであることを特徴とする単結晶製造装置。 - 前記チャージ具は、下端に止め具を有するシャフト又はワイヤーであることを特徴とする請求項11に記載の単結晶製造装置。
- 前記シャフト又はワイヤーの止め具は、鍔の形状又は下開きのテーパー形状であることを特徴とする請求項12に記載の単結晶製造装置。
- 前記シャフト又はワイヤーは、タングステン、モリブデン、タンタル又はこれらの内の2以上の金属からなるものであることを特徴とする請求項12又は請求項13に記載の単結晶製造装置。
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| JP2001163694A (ja) * | 1999-12-09 | 2001-06-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 結晶成長用縦型容器及び結晶成長方法 |
| JP2009263178A (ja) * | 2008-04-25 | 2009-11-12 | Sumco Corp | 単結晶育成装置および原料供給方法 |
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