JP2014089216A - 希釈用空気精製方法、希釈用空気精製装置、定容量サンプリング装置及び排ガスサンプリング分析システム - Google Patents

Abstract

【課題】希釈用空気中のＮ_２Ｏを除去して、当該希釈用空気によって希釈された測定対象ガス中のＮ_２Ｏ濃度に対する希釈用空気のＮ_２Ｏ濃度の割合を可及的に小さくし、測定対象ガス中のＮ_２Ｏ濃度の測定精度を向上させる。
【解決手段】測定対象ガスの希釈に用いられる希釈用空気が流れる流路上に、希釈用空気を加熱する加熱器３３、Ｐｄ触媒３４１およびＰｔ触媒３４２をこの順に配置して、Ｐｄ触媒３４１およびＰｔ触媒３４２により希釈用空気中のＮ_２ＯをＮＯ_Ｘに酸化し、またはそのＮ_２ＯをＮ_２に還元する。
【選択図】図２

Description

本発明は、エンジン排ガス等の測定対象ガスの希釈に用いられる希釈用空気を精製する希釈用空気精製方法および希釈用空気精製装置、並びにこれらを用いた定容量サンプリング装置及び排ガスサンプリング分析システムに関するものである。

従来、エンジン排ガス等の測定対象ガスの分析システムに用いられる希釈用空気精製装置としては、特許文献１又は２に示すように、酸化触媒（Ｐｄ系、Ｐｔ系等）を用いて、ＣＯ、ＨＣ、ＮＯ_Ｘ等を酸化させるとともに、ＮＯ_Ｘ除去剤によりＮＯ_Ｘを吸着除去するものである。

一方、排ガス中のＨＣ、ＣＯ、ＮＯ_Ｘ等の除去にはＰｔ触媒やＰｄ触媒（三元触媒）が用いられ、特にＮＯとＣＯの浄化は、２ＣＯ＋２ＮＯ→２ＣＯ_２＋Ｎ_２の反応（反応１）で説明される。但し、濃度バランス等の各種触媒条件によっては、ＣＯ＋２ＮＯ→ＣＯ_２＋Ｎ_２Ｏ（反応２）の副反応がしばしば起こり、Ｎ_２Ｏが生じてしまうことが知られている。なお、反応２の後、ＣＯ＋Ｎ_２Ｏ→ＣＯ_２＋Ｎ_２（反応３）が連続して生じると、上記反応１と等価の反応となる。

近年、一酸化二窒素（Ｎ_２Ｏ）が温室効果ガスとして注目されてきており、上記反応２で生じた排ガス中に含まれるＮ_２Ｏも例外ではなく、排ガス中に含まれるＮ_２Ｏの濃度を分析する必要が生じてきている。

そして、排ガスサンプリング分析システムにおける希釈サンプリング方式を用いた排ガス分析においては、希釈用空気中の成分濃度を測定すると共に、希釈された排ガス中の成分濃度を測定して、それら測定結果の差分を取ることによってバックグラウンド補正をし、排ガス中の成分濃度を算出するものである。そして、排ガス中のＮ_２Ｏ濃度を測定する場合においても同様の手法が用いられる。

しかしながら、大気から採取される希釈用空気中には、既に約３００ｐｐｂ程度のＮ_２Ｏが含まれており、排ガス中に含まれるＮ_２Ｏ濃度がそれに近い値又はそれ以下の場合には特に、希釈用空気のＮ_２Ｏ濃度の測定誤差が、バックグラウンド補正後の排ガス中のＮ_２Ｏ濃度に大きく影響してしまい、その結果、排ガス中のＮ_２Ｏ濃度の測定精度が悪くなるという問題がある。つまり、希釈された排ガス中のＮ_２Ｏ濃度に対する希釈用空気のＮ_２Ｏ濃度の割合が大きいという問題がある。

特開平６−３２３２号公報 特開平１０−１９７４４号公報

そこで本発明は、本願発明者の鋭意検討の結果、希釈用空気中のＮ_２Ｏの除去に適した触媒の配置およびその条件等を見出すことによってなされ、希釈用空気中のＮ_２Ｏを除去して、当該希釈用空気によって希釈された測定対象ガス中のＮ_２Ｏ濃度に対する希釈用空気のＮ_２Ｏ濃度の割合を可及的に小さくし、測定対象ガス中のＮ_２Ｏ濃度の測定精度を向上させることをその主たる所期課題とするものである。

すなわち本発明に係る希釈用空気精製方法は、測定対象ガスの希釈に用いられる希釈用空気が流れる流路上に、希釈用空気を加熱する加熱器、Ｐｄを含有するＰｄ触媒およびＰｔを含有するＰｔ触媒をこの順に配置して、前記Ｐｄ触媒および前記Ｐｔ触媒により希釈用空気中のＮ_２ＯをＮＯ_Ｘに酸化し、またはそのＮ_２ＯをＮ_２に還元することを特徴とする。

このようなものであれば、Ｐｄ触媒およびＰｔ触媒によりＮ_２ＯをＮＯ_Ｘに酸化又はＮ_２に還元しているので、希釈用空気中のＮ_２Ｏを除去することができる。したがって、希釈用空気によって希釈された測定対象ガス中のＮ_２Ｏ濃度に対する希釈用空気のＮ_２Ｏ濃度の割合を可及的に小さくし、測定対象ガス中のＮ_２Ｏ濃度の測定精度を向上させることができる。なお、従来の三元触媒に関する技術常識から言うと、希釈用空気をＰｄ触媒又はＰｔ触媒に通すと、前記反応２によるＮ_２Ｏが新たに生成して、希釈用空気に含まれるＮ_２Ｏが増加してしまうことが懸念される。ところが、本願発明者が、前記技術常識から脱却して鋭意検討をした結果、希釈用空気をＰｄ触媒又はＰｔ触媒に通すと、希釈用空気に含まれるＮ_２Ｏが増加するどころか、逆に希釈用空気に含まれる微量（約３００ｐｐｂ）のＮ_２Ｏを減少することを初めて見出した。

このときＰｄを含有するＰｄ触媒は、Ｐｔを含有するＰｔ触媒に比べてＮ_２Ｏの還元又は酸化性能が優れており、加熱器を通過した希釈用空気が先ずＰｄ触媒に接触することによって当該希釈用空気中のＮ_２Ｏを効率良く還元又は酸化することができる。また、上流側にＰｄ触媒、下流側にＰｔ触媒を配置することで、上流側のＰｄ触媒では、ＣＯ＋Ｎ_２Ｏ→Ｎ_２＋ＣＯ_２の反応（反応３）が主として生じ、Ｎ_２Ｏの大部分が還元される除去される。一方で、下流側のＰｔ触媒では、主としてメタン等の炭化水素の除去などが行われ、Ｐｄ触媒で生じたＮ_２はＮ_２Ｏに酸化されないのでＮ_２Ｏは増加しない。

Ｐｄ触媒におけるＮ_２ＯのＮＯ_２への酸化またはＮ_２への還元を促進するためには、少なくとも前記Ｐｄ触媒を４３０度以上に温度制御することが望ましい。また、Ｐｄ触媒を加熱しすぎると触媒の寿命が短くなってしまうので、Ｐｄ触媒を４３０度以上５００度以下に温度制御していることが好ましい。さらにＰｄ触媒によるＮ_２Ｏの酸化反応および還元反応によるＮＯ_２およびＮ_２への変換をより一層促進するためには、Ｐｄ触媒を４６０度以上４７０度以下に温度制御していることが好ましい。

また、本発明に係る希釈用空気精製装置は、測定対象ガスの希釈に用いられる希釈用空気を精製する希釈用空気精製装置であって、大気から採取した希釈用空気が流れる流路上に設けられたＰｄを含有するＰｄ触媒を備え、当該Ｐｄ触媒が４３０度以上に温度制御されていることを特徴とする。

このようなものであれば、Ｐｄ触媒を４３０度以上に温度制御することにより、希釈用空気中のＮ_２ＯのＮＯ_２への酸化反応又はＮ_２への還元反応を促進することができるので、希釈用空気中のＮ_２Ｏを除去して、当該希釈用空気によって希釈された排ガス中のＮ_２Ｏ濃度に対する希釈用空気のＮ_２Ｏ濃度の割合を可及的に小さくし、排ガス中のＮ_２Ｏ濃度の測定精度を向上させることができる。

触媒を温度制御するだけでなく、希釈用空気も温度制御することによって、より最適な状態で酸化反応又は還元反応を生じさせるための具体的な実施の態様としては、前記Ｐｄ触媒の上流に設けられ、大気から採取した希釈用空気を４３０度以上に温度制御する加熱器と、前記Ｐｄ触媒の下流に設けられ、前記希釈用空気を酸化又は還元するＰｔを含有するＰｔ触媒と、前記Ｐｔ触媒の下流に設けられ、前記Ｐｄ触媒および前記Ｐｔ触媒によりＮ_２Ｏが酸化されて生じたＮＯ_Ｘを吸着するＮＯ_Ｘ吸着剤と、を備えることが望ましい。

このように構成した本発明によれば、希釈用空気中のＮ_２Ｏを除去して、当該希釈用空気によって希釈された排ガス中のＮ_２Ｏ濃度に対する希釈用空気のＮ_２Ｏ濃度の割合を可及的に小さくし、排ガス中のＮ_２Ｏ濃度の測定精度を向上させることができる。

本発明の一実施形態に排ガスサンプリング分析システムの模式的斜視図である。 同実施形態の希釈用空気精製装置の構成を示す図である。 希釈用空気中のＮ_２Ｏ除去の有無における補正結果を示す模式図である。 触媒器によりＮ_２Ｏの除去効率を示す実験結果である。 触媒器によりＮ_２Ｏの除去効率を示すグラフである。

以下に本発明に係る希釈用空気精製装置を用いた排ガスサンプリング分析システムの一実施形態について図面を参照して説明する。

本実施形態に係る排ガスサンプリング分析システム１００は、希釈サンプリング方式のものであり、自動車２００から採取したエンジン排ガス（以下、「排ガス」という。）を大気から精製される希釈用空気で数倍に希釈して、濃度測定を行うものである。以下、本実施形態では、排ガス全量をサンプリングして、希釈用空気で希釈して一定の既知流量にする定容量定容量希釈サンプリング方式のものについて説明する。

具体的にこのものは、図１に示すように、排ガス全量および希釈用空気を装置に導入して、それらを合わせた総流量が常に一定となるように制御して、希釈された排ガス（以下、「希釈排ガス」という。）の一部を一定流量で採取バッグに採取する定容量サンプリング装置２と、大気中の不純物を除去して精製された希釈用空気を前記定容量サンプリング装置２に供給する希釈用空気精製装置３と、前記定容量サンプリング装置２の採取バッグにより採取された希釈排ガス中の所定成分（例えば、ＨＣ、ＣＯ、Ｈ_２Ｏ、Ｎ_２Ｏなど）の濃度を分析するガス分析計４と、を備えている。

定容量サンプリング装置２は、シャシダイナモ３００に乗載された自動車２００の排気管２００Ｈに接続されるとともに、希釈用空気精製装置３の希釈用空気供給管３Ｈが導入接続された排ガス導入ライン２１と、排ガス導入ライン２１の下流に設けられ、排ガスおよび希釈用空気を攪拌混合させるサイクロン２２と、当該サイクロン２２により攪拌混合された希釈排ガスを一定流量で流す定流量機構２３１を有する希釈排ガス流通ライン２３と、この希釈排ガス流通ライン２３から希釈された排ガスを分取するための希釈排ガス採取ライン２４と、希釈用空気精製装置３の希釈用空気供給管３Ｈから希釈用空気を分取するための希釈用空気採取ライン２５と、を備えている。

定流量機構２３１は、希釈排ガス流通ライン２３上に設けられたベンチュリ管２３１ａと当該ベンチュリ管２３１ａの下流に設けられたターボブロア２３１ｂとから構成される。

希釈排ガス採取ライン２４は、一端が希釈排ガス流通ライン２３内に設けられた希釈排ガス採取管２４１と、この希釈排ガス採取管２４１上に設けられた希釈排ガス採取ポンプ２４２と、この希釈排ガス採取ポンプ２４２により採取された希釈排ガスを収納する希釈排ガスバッグ２４３とを備えている。なお、希釈排ガス採取管２４１は、定流量機構２３１よりも上流側に設けられている。

また、希釈用空気採取ライン２５は、一端が希釈用空気供給管３Ｈ内に設けられた希釈用空気採取管２５１と、この希釈用空気採取管２５１上に設けられた希釈用空気採取ポンプ２５２と、この希釈用空気採取ポンプ２５２により採取された希釈用空気を収納する希釈用空気バッグ２５３とを備えている。

そして、希釈排ガス採取ライン２４の希釈排ガスバッグ２４３および希釈用空気採取ライン２５の希釈用空気バッグ２５３を用いてガス分析計４によりいわゆるバッグ測定が行われる。

希釈用空気精製装置３は、排ガス分析におけるバックグラウンドの低濃度安定化を図るために、希釈用空気中のＣＯ、ＨＣ、ＮＯ_Ｘ、Ｎ_２Ｏ等を除去するものである。この希釈用空気精製装置３において、ＣＯ、ＨＣ、ＮＯ、Ｎ_２Ｏ等を除去する方法は、希釈用空気中のＣＯ、ＨＣ、ＮＯ、Ｎ_２ＯをＣＯ_２、Ｈ_２Ｏ、Ｎ_２、ＮＯ_２に変換し、また、ＮＯ、Ｎ_２Ｏが酸化されて生じたＮＯ_２をＮＯ_Ｘ吸着剤を用いて吸着処理するものである。さらに、ＮＯ_Ｘ吸着剤にも酸化剤が含まれており、未変換のＮＯをＮＯ_Ｘに酸化させて吸着処理する。

希釈用空気精製装置３の具体的な構成としては、図２に示すように、吸気フィルタ３１を介して外部から希釈用空気を装置内部に導入する吸引ポンプ３２と、当該吸引ポンプ３２により導入された希釈用空気を所定温度に加熱する加熱器３３と、当該加熱器３３により加熱された希釈用空気中のＨＣ、ＣＯ、ＮＯ_Ｘ、Ｎ_２Ｏ等をＣＯ_２、Ｈ_２Ｏ、ＮＯ_２、Ｎ_２等に変換する触媒器３４と、当該触媒器３４およびその下流に設けられた熱交換器３５および三方電磁弁３６を通過した希釈用空気を冷却する冷却器３７と、当該冷却器３７により例えば２５度に冷却された希釈用空気中のＮＯ_２を吸着除去するＮＯ_Ｘ除去部としてのＮＯ_Ｘ吸着器３８と、を備えている。そして、ＮＯ_Ｘ吸着器３８を通過した希釈用空気が希釈用空気供給管３Ｈにより定容量サンプリング装置２に供給される。

加熱器３３は、大気から採取された希釈用空気を４３０度以上に加熱するものであり、後述する触媒器３４のＰｄ触媒３４１に上記温度で流入するように希釈用空気を加熱する。

触媒器３４は、大気から採取した希釈用空気が流れる流路上に、Ｐｄを含有するＰｄ触媒３４１およびＰｔを含有するＰｔ触媒３４２を上流からこの順に配置して構成されている。そして、Ｐｄ触媒３４１は、Ｐｄをゼオライト粉末、活性炭や酸化アルミニウム等の多孔質担持体に担持させることにより構成されており、Ｐｔ触媒３４２はＰｄをゼオライト粉末に担持させることにより構成されている。

さらに、Ｐｄ触媒３４１およびＰｔ触媒３４２は、図示しない加熱機構によって４３０度以上に加熱されている。Ｐｄ触媒３４１を加熱しすぎると触媒としての機能が低下してしまうので、本実施形態ではＰｄ触媒３４１を４３０度以上５００度以下に温度制御している。さらにＰｄ触媒３４１によるＮ_２Ｏの酸化反応および還元反応によるＮＯ_２およびＮ_２への変換をより一層促進するためには、Ｐｄ触媒３４１を４６０度以上４７０度以下に温度制御している。なお、前述の加熱器３３は、Ｐｄ触媒３４１の加熱温度と略同一温度に希釈用空気を加熱する。また、Ｐｔ触媒３４２は、Ｐｄ触媒３４１と一体的に構成されていることから、加熱機構によってＰｄ触媒３４１と略同一温度に加熱されている。

次に、このように構成した排ガスサンプリング分析システム１００を用いたＮ_２Ｏの濃度測定について図３を参照して説明する。

希釈用空気精製装置３にＮ_２Ｏ除去機能が無い場合、希釈用空気バッグ２５３により得られた希釈用空気中のＮ_２Ｏ濃度は約３００［ｐｐｂ］（大気中に含まれるＮ_２Ｏ濃度の平均値）である。このとき希釈排ガスバッグ２４３により得られる希釈排ガス中のＮ_２Ｏ濃度が約５６０［ｐｐｂ］であるとすると、バックグラウンド補正の結果、排ガス中に含まれるＮ_２Ｏ濃度は、約２６０［ｐｐｂ］となる。しかしながら、希釈排ガス中のＮ_２Ｏ濃度に対する希釈用空気中のＮ_２Ｏ濃度の割合が大きく、希釈用空気中のＮ_２Ｏ濃度の測定誤差が排ガス中のＮ_２Ｏ濃度に与える影響が大きくなってしまい、その結果、バックグラウンド補正により得られた排ガス中のＮ_２Ｏ濃度の測定精度が低下してしまう。

一方で、本実施形態のようにＮ_２Ｏ除去機能を設けることによって、希釈用空気バッグ２５３により得られた希釈用空気中のＮ_２Ｏ濃度が例えば約３０［ｐｐｂ］に低減されると、希釈排ガスバッグ２４３により得られる希釈排ガス中のＮ_２Ｏ濃度が約２９０［ｐｐｂ］となり、バックグラウンド補正の結果、排ガス中に含まれるＮ_２Ｏ濃度は、約２６０［ｐｐｂ］となる。このとき、希釈排ガス中のＮ_２Ｏ濃度に対する希釈用空気中のＮ_２Ｏ濃度の割合を小さくすることができ、希釈用空気中のＮ_２Ｏ濃度の測定誤差が排ガス中のＮ_２Ｏ濃度に与える影響を小さくすることができ、その結果、バックグラウンド補正により得られた排ガス中のＮ_２Ｏ濃度の測定精度を向上させることができる。

次に、上流からＰｔ触媒およびＰｄ触媒の順番に配置して構成した触媒器と、上流からＰｄ触媒３４１およびＰｔ触媒３４２の順番に配置して構成した触媒器（本実施形態）との場合において、希釈用空気及び各触媒の加熱温度を変化させた場合のＮ_２Ｏの除去効率について説明する。

実験例１は、上流からＰｔ触媒およびＰｄ触媒をこの順番に配置して構成した触媒器を用いて、当該触媒器および希釈用空気を３６０℃、４３０℃、４６０℃に加熱し、各温度において希釈用空気の流速を７．５［ｍ^３／ｍｉｎ］又は１４．６［ｍ^３／ｍｉｎ］とした場合である。

一方、実験例２は、上流からＰｄ触媒３４１およびＰｔ触媒３４２をこの順番に配置して構成した触媒器３４を用いて、当該触媒器３４および希釈用空気を３６０℃、４３０℃、４６０℃、４７０℃に加熱し、各温度において希釈用空気の流速を７．５［ｍ^３／ｍｉｎ］又は１４．６［ｍ^３／ｍｉｎ］とした場合である。

そして、上記各場合において、希釈用空気精製装置３の入口（ＤＡＲ ｉｎｌｅｔ）でのＮ_２Ｏ濃度と、希釈用空気精製装置３の出口（ＤＡＲ ｏｕｔｌｅｔ）でのＮ_２Ｏ濃度とを測定して触媒器におけるＮ_２Ｏの除去効果を測定した。

上記の各場合におけるＮ_２Ｏの除去効果を見ると、図４および図５から分かるように、実験例１においては触媒器を４３０度以上に加熱した場合には、Ｎ_２Ｏの低減効果が著しく向上していることが分かる。なお、触媒器のＳｖ値［１／ｈｒ］（＝処理ガス量［ｍ^３ｈｒ］／触媒量［ｍ^３］）の関係から希釈用空気の流速が大きくなると、Ｎ_２Ｏの除去効果が低下してしまう。

また、実験例２においては、触媒器３４を４３０度以上に加熱した場合にＮ_２Ｏの低減効果が著しく向上していることが分かり、特に４６０度および４７０度においては低減効果が顕著に表れていることが分かる。なお、実験例２における加熱温度が４６０度、希釈用空気の流速が７．５［ｍ^３／ｍｉｎ］の場合に除去効率が１００％を超えているのは測定誤差によりものである。なお、実験例２において、メタン等の炭化水素は主としてＰｔ触媒３４２により低減されている。また、上流側にＰｄ触媒、下流側にＰｔ触媒を配置した場合（実験例２）は、上流側にＰｔ触媒、下流側にＰｄ触媒を配置した場合（実験例１）に比べて上記反応２と反応３とのバランスが良くＮ_２Ｏの除去効率が良いものと考察される。

＜本実施形態の効果＞
このように構成した本実施形態に係る排ガスサンプリング分析システム１００によれば、排ガスを希釈用空気で希釈させる前に、当該希釈用空気からＮ_２Ｏを除去させることによって、希釈排ガス中のＮ_２Ｏ濃度に対する希釈用空気のＮ_２Ｏ濃度の割合を可及的に小さくすることができ、Ｎ_２Ｏ濃度のバックグラウンド変動を小さくして、排ガス中のＮ_２Ｏ濃度の測定精度を向上することができる。

このとき、希釈用空気が流れる流路上に、加熱器３３、Ｐｄ触媒３４１及びＰｔ触媒３４２をこの順に配置していることにより、加熱器３３を通過した希釈用空気が先ずＰｄ触媒に接触することによって当該希釈用空気中のＮ_２Ｏを効率良く酸化することができる。一方で、Ｐｔ触媒３４２を加熱器３３から離れた位置に設けることによって、Ｐｔ触媒３４２に接触する希釈用空気の温度が下がることになり、Ｐｔ触媒３４２により生成されるＮ_２Ｏを可及的に抑制することができる。

また、Ｐｄ触媒を４３０度以上に温度制御することにより、希釈用空気中のＮ_２ＯのＮＯ_２への酸化反応又はＮ_２への還元反応を促進することができる。

なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
例えば、前記実施形態では、定容量サンプリング装置を用いているが、その他、排ガスの一部を採取して一定比率で希釈する、バックミニダイリュータ装置を用いても良い。

また、前記実施形態では、加熱器の希釈用空気の加熱温度と、加熱機構によるＰｄ触媒の加熱温度を略同一としているが、配管による温度影響を考慮して、加熱器及び加熱機構の加熱温度を調整するようにしても良い。

さらに、前記実施形態のＰｄ触媒およびＰｔ触媒は、仕切り部材を用いて一体的に構成されているが、Ｐｄ触媒およびＰｔ触媒を独立して構成しても良い。このとき、各触媒の上流に対応する加熱器を設けて、各触媒の流入する希釈用空気の温度を調整するようにしても良いし、各触媒を独立して温度調整するようにしても良い。

加えて、前記実施形態では上流側にＰｄ触媒、下流側にＰｔ触媒を配置しているが、上流側にＰｔ触媒、下流側にＰｄ触媒を配置しても良い。下流側にＰｄ触媒を配置した場合には、Ｐｄ触媒を４３０度以上に加熱すれば前記実施形態と同様の効果を得ることができる。

その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。

１００・・・排ガスサンプリング測定システム
２ ・・・定容量サンプリング装置
３ ・・・希釈用空気精製装置
３３ ・・・加熱器
３４ ・・・触媒器
３４１・・・Ｐｄ触媒
３４２・・・Ｐｔ触媒
３８ ・・・ＮＯ_Ｘ除去部

Claims (5)

1. エンジン排ガスの希釈に用いられる希釈用空気が流れる流路上に、希釈用空気を加熱する加熱器、Ｐｄを含有するＰｄ触媒およびＰｔを含有するＰｔ触媒をこの順に配置して、前記Ｐｄ触媒および前記Ｐｔ触媒により希釈用空気中のＮ_２ＯをＮＯ_Ｘに酸化し、またはそのＮ_２ＯをＮ_２に還元することを特徴とする希釈用空気精製方法。
2. エンジン排ガスの希釈に用いられる希釈用空気を精製する希釈用空気精製装置であって、
   前記希釈用空気が流れる流路上に設けられ、Ｐｄを含有するＰｄ触媒と、
   前記流路における前記Ｐｄ触媒の下流側に設けられ、Ｐｔを含有するＰｔ触媒とを備え、
   前記Ｐｄ触媒および前記Ｐｔ触媒により希釈用空気中のＮ_２ＯをＮＯ_Ｘに酸化し、またはそのＮ_２ＯをＮ_２に還元することを特徴とする希釈用空気精製装置。
3. 前記Ｐｄ触媒の下流に設けられ、前記Ｐｄ触媒および前記Ｐｔ触媒によりＮ_２Ｏが酸化されて生じたＮＯ_Ｘを吸着除去するＮＯ_Ｘ除去部としてのＮＯ_Ｘ吸着器を備える請求項２記載の希釈用空気精製装置。
4. エンジンの排気管に接続されるとともに、希釈用空気精製装置の希釈用空気供給管が接続された排ガス導入ラインと、
   前記エンジンからの排ガスと前記希釈用空気精製装置からの希釈用空気との混合ガスである希釈排ガスを一定流量で流す定流量機構を有する希釈排ガス流通ラインと、
   前記希釈排ガス流通ラインから前記希釈排ガスを分取するための希釈排ガス採取ラインとを備える定容量サンプリング装置において、
   前記希釈用空気精製装置が、
   前記希釈用空気が流れる流路上に設けられ、Ｐｄを含有するＰｄ触媒と、
   前記流路における前記Ｐｄ触媒の下流側に設けられ、Ｐｔを含有するＰｔ触媒とを備え、
   前記Ｐｄ触媒および前記Ｐｔ触媒により希釈用空気中のＮ_２ＯをＮＯ_Ｘに酸化し、またはそのＮ_２ＯをＮ_２に還元することを特徴とする定容量サンプリング装置。
5. エンジンの排気管に接続されるとともに、希釈用空気精製装置の希釈用空気供給管が接続された排ガス導入ラインと、
   前記エンジンからの排ガスと前記希釈用空気精製装置からの希釈用空気との混合ガスである希釈排ガスを流通させる希釈排ガス流通ラインと、
   前記希釈排ガス流通ラインから前記希釈排ガスを分取するための希釈排ガス採取ラインと、
   前記分取した希釈排ガスの所定成分を分析するガス分析計とを備える排ガスサンプリング分析システムにおいて、
   前記希釈用空気精製装置が、
   前記希釈用空気が流れる流路上に設けられ、Ｐｄを含有するＰｄ触媒と、
   前記流路における前記Ｐｄ触媒の下流側に設けられ、Ｐｔを含有するＰｔ触媒とを備え、
   前記Ｐｄ触媒および前記Ｐｔ触媒により希釈用空気中のＮ_２ＯをＮＯ_Ｘに酸化し、またはそのＮ_２ＯをＮ_２に還元することを特徴とする排ガスサンプリング分析システム。