JP2014088291A - 酸化珪素粉末の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、無電極型の高周波誘電法により発生した高周波プラズマ12中で、二酸化珪素粉末を原料として非晶質のSiOxで表される酸化珪素粉末11を製造する方法である。上記酸化珪素粉末11の酸素含有量Xは1以上1.8以下の範囲にあり、酸化珪素粉末の不純物濃度が最大で10ppm未満である。高周波プラズマ12の発生雰囲気の圧力を0.05〜0.12MPaの範囲に調整し、かつ高周波プラズマ12の高周波出力をA(W)とし、二酸化珪素粉末の供給速度をB(kg/時)とするとき、A/Bが1.0×104(W・時/kg)以上になるように調整して、高周波プラズマ12を発生させる。
【選択図】図1
Description
先ず比表面積が30m2/gであり、平均粒径が体積基準で0.04μmであるヒュームドシリカを用意した。次に図1に示すように、無電極型の高周波プラズマ装置10を用い、表1に示す条件で高周波誘電法により高周波プラズマ12を発生させた。更にこの発生した高周波プラズマ中に上記ヒュームドシリカを投入して、非晶質の酸化珪素粉末11(SiOx)を製造した。具体的には、先ず無電極型の高周波プラズマ装置10のガス導入管18から作動ガスのアルゴンガスを表1に示す流量で導入して、プラズマトーチ13の高周波誘導コイル13bに表1に示す周波数及び出力の高周波電力を供給して石英管13a内からチャンバ内14にかけて高周波プラズマ12を発生させた。次に高周波プラズマ12が安定した後に、水素を表1に示す流量になるまで徐々に導入して、アルゴン−水素プラズマからなる高周波プラズマ12を発生させた。更にアルゴン−水素プラズマからなる高周波プラズマ12中に、上記ヒュームドシリカを投入して、非晶質の酸化珪素粉末11(SiOx)を製造した。上記高周波プラズマ12中で生成された酸化珪素粉末11(SiOx)は、回収容器16に落下し回収された。また一部の酸化珪素粉末は、排出口14aから排ガスとともに排出されて、バグフィルタ(図示せず)により回収された。上記回収容器16及びバグフィルタに回収された酸化珪素粉末11を実施例1とした。
先ず比表面積90m2/gのヒュームドシリカ1molに対して、イオン交換水13molを準備した。次いでこのイオン交換水を容器に入れて、窒素雰囲気下で温度を25℃に保持して撹拌しながら、ヒュームドシリカを添加し、その後3時間撹拌を継続して、シリカ質のゲルを調製した。次にこのシリカ質のゲルをパイレックス(コーニング社の登録商標)ガラス製の容器に入れて、アルゴン雰囲気下で200℃の温度に24時間保持して乾燥させ、ヒュームドシリカの乾燥粉を得た。更にこのヒュームドシリカの乾燥粉を、ビーズミルで粉砕して、ヒュームドシリカの造粒粉を得た。ここで、ヒュームドシリカの乾燥粉のビーズミルによる粉砕は、石英製の円筒容器に、ヒュームドシリカの乾燥粉とシリカ製のビーズを入れて、この円筒容器を30rpmの回転速度で24時間回転させることにより行った。
先ず図2に示すように、回転する複数の突片54を有する連続混練装置50の容器51に、比表面積200m2/gのヒュームドシリカを3kg/時間の速度で供給するとともに、15℃のイオン交換水を7kg/時間の速度で供給して混合し、30質量%のヒュームドシリカを含有したスラリー55を調製した。上記連続混練装置50は、底板51aを有し上面が開放された円筒状の容器51と、この底板51aの中央に鉛直方向に延びて挿通され上端が容器51内の上部に位置するように回転可能に設けられた回転軸52と、この回転軸52の上端に固着された円板状の回転板53と、この回転板53の下面に半径方向及び円周方向にそれぞれ所定の間隔をあけかつ下方に向って突設された複数の円柱状の突片54とを備える。底板51aと回転軸52との間には、容器51内のスラリー55の漏れを阻止するシール部材56と、回転軸52を底板51aに対して回転可能に保持する一対の軸受57,57とが介装される。また図2中の符号58は容器51内のスラリー55を排出するための排出管である。更に図2中の符号59は排出管58に設けられた開閉弁であり、この開閉弁59を開くと、容器51内のスラリー55が排出管58を通って排出されるようになっている。次に湿度80%以上の空気中で上記スラリーを、回転速度12500rpmで回転する直径100mmのピンディスク上に滴下しながら、スプレードライヤで200℃の熱風を吹付けて乾燥し造粒した。これによりオープンポアを有し平均粒径が体積基準で7μmである球形状のヒュームドシリカの造粒粉を得た。
先ず図2に示すように、回転する複数の突片54を有する連続混練装置50の容器51に、比表面積300m2/gのヒュームドシリカを10kg/時間の速度で供給するとともに、5℃のイオン交換水を10kg/時間の速度で供給して混合し、50質量%のヒュームドシリカを含有したスラリー55を調製した。次にこのスラリーを石英製の容器に入れて、大気雰囲気下で1100℃の温度に6時間保持して乾燥させ、ヒュームドシリカの乾燥粉を得た。更にヒュームドシリカの乾燥粉を石英製の容器から取出し、ロールクラッシャを用いて粉砕した。このときロールクラッシャのロール隙間を0.2mmに調整し、ロール回転速度を50rpmに調整した。この粉砕した乾燥粉を目開き120μmの振動篩を用いて分級し、平均粒径が体積基準で56μmであるヒュームドシリカの造粒粉を得た。
先ず比表面積が300m2/gであるヒュームドシリカ100gと、比表面積が2m2/gであり純度が99.8%である金属珪素粉末50gとを、ステンレス鋼製の容器に入れ、この容器を乾式粉体混合装置に入れて回転速度30rpmで3時間混合した。次にこの混合粉末を、タングステン製の容器に入れて、100Pa以下の圧力に真空引きした後に、1300℃に加熱しこの温度に10時間保持して、酸化珪素ガスを発生させた。この酸化珪素ガスは、500℃に水冷されたステンレス鋼製の基体上に導入され、この基体上に酸化珪素が析出した。更にこの析出した酸化珪素を基体上から掻き取った後、ビーズミルにて粉砕して酸化珪素粉末を得た。具体的には、ステンレス鋼製の円筒容器に、上記掻き取った酸化珪素とステンレス鋼製のビーズを入れ、上記円筒容器を50rpmの回転速度で24時間回転させて粉砕することにより、酸化珪素粉末を得た。この酸化珪素粉末を比較例1とした。
実施例1〜4及び比較例1の酸化珪素粉末(SiOx)の酸素含有量X(酸素価数X)を、X線光電子分光分析(XPS)により測定した。また実施例1〜4及び比較例1の酸化珪素粉末の平均粒径を透過電子顕微鏡(TEM)により観察して測定した。なお、上記酸化珪素粉末(SiOx)の酸素含有量X(酸素価数X)は、X線光電子分光分析(XPS)装置(型式名:model-5600LS、ULVAC PHI社製)を用いて、酸化珪素粉末から検出された元素のナロー(Narrow)スペクトルについて定量分析を行うことにより求めた。その結果を表1に示す。
実施例1〜4及び比較例1の酸化珪素粉末に含まれる不純物の含有量を測定した。具体的には、実施例1〜4及び比較例1の酸化珪素粉末に含まれるアルミニウム(Al)、鉄(Fe)及びニッケル(Ni)の含有量をそれぞれ測定した。その結果を表2に示す。
12 高周波プラズマ
Claims (5)
- 無電極型の高周波誘電法により発生した高周波プラズマ中で、二酸化珪素粉末を原料として非晶質のSiOxで表される酸化珪素粉末を製造する方法であって、
前記酸化珪素粉末の酸素含有量Xが1以上1.8以下の範囲にあり、
前記酸化珪素粉末の不純物濃度が最大で10ppm未満である
ことを特徴とする酸化珪素粉末の製造方法。 - 前記高周波プラズマの発生雰囲気の圧力を0.05〜0.12MPaの範囲に調整し、かつ前記高周波プラズマの高周波出力をA(W)とし、前記二酸化珪素粉末の供給速度をB(kg/時)とするとき、A/Bが1.0×104(W・時/kg)以上になるように調整して、前記高周波プラズマを発生させる請求項1記載の酸化珪素粉末の製造方法。
- 前記酸化珪素粉末の平均粒径が体積基準で0.002〜1μmの範囲にある請求項1記載の酸化珪素粉末の製造方法。
- 前記二酸化珪素粉末が、ヒュームドシリカであるか、或いはこのヒュームドシリカを原料としかつ平均粒径が体積基準で0.1〜80μmの範囲にある造粒粉である請求項1記載の酸化珪素粉末の製造方法。
- 前記造粒粉が、ヒュームドシリカをスラリー化又はゲル化した後、100〜1100℃の範囲の温度で乾燥して得られる請求項4記載の酸化珪素粉末の製造方法。
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