JP2014088005A - Thermal head and thermal printer including the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermal head in which possibility of occurring displacement of a substrate is reduced.SOLUTION: A thermal head X1 includes: a substrate 7; a plurality of heating parts 9 that are provided on the substrate 7 and arranged in a row; an electrode that is provided on the substrate 7 and electrically connected to the heating parts 9; a radiator 1 on which the substrate 7 is mounted; and connection members 6 and 8 for connecting the substrate 7 with the radiator 1. On a first surface 7d that faces the radiator 1 of the substrate 7, a first coating layer 2 for coating a part of the electrode and a second coating layer 4 separated from the first coating layer 2 are provided. Between the first coating layer 2 and the second coating layer 4, the connection members 6 and 8 are arranged.

Description

本発明は、サーマルヘッドおよびこれを備えるサーマルプリンタに関する。   The present invention relates to a thermal head and a thermal printer including the same.

従来、ファクシミリあるいはビデオプリンタ等の印画デバイスとして、種々のサーマルヘッドが提案されている。サーマルヘッドは、基板と、基板上に設けられ、列状に配列された複数の発熱部と、基板上に設けられ、発熱部に電気的に接続された電極と、基板が載置される放熱体と、基板と放熱体とを接続する接続部材とを備えたものが知られている。このサーマルヘッドは、基板の放熱体側の第1面に電極の一部を被覆する第1被覆層が設けられており、第1被覆層と放熱体とが接続部材により接続されている(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, various thermal heads have been proposed as printing devices such as facsimiles and video printers. The thermal head is provided on the substrate, a plurality of heat generating portions arranged in a row, an electrode provided on the substrate and electrically connected to the heat generating portion, and heat dissipation on which the substrate is placed. The thing provided with the connection member which connects a body and a board | substrate and a heat radiator is known. In this thermal head, a first coating layer that covers a part of the electrode is provided on the first surface of the substrate on the radiator side, and the first coating layer and the radiator are connected by a connecting member (for example, Patent Document 1).

特開2001−260403号公報JP 2001-260403 A

しかしながら、上記従来のサーマルヘッドでは、第1被覆層と放熱体との接合強度が弱く、放熱体に載置した基板にずれが生じる可能性がある。   However, in the above-described conventional thermal head, the bonding strength between the first coating layer and the heat radiating body is weak, and there is a possibility that the substrate placed on the heat radiating body is displaced.

本発明の一実施形態に係るサーマルヘッドは、基板と、該基板上に設けられ、列状に配列された複数の発熱部と、前記基板上に設けられ、前記発熱部に電気的に接続された電極と、前記基板が載置される放熱体と、前記基板と前記放熱体とを接続する接続部材とを備えている。また、前記基板の前記放熱体側の第1面に、前記電極の一部を被覆する第1被覆層と、該第1被覆層と離間した第2被覆層が設けられている。また、前記第1被覆層と前記第2被覆層との間に前記接続部材が配置されている。   A thermal head according to an embodiment of the present invention includes a substrate, a plurality of heat generating units arranged on the substrate and arranged in a row, and provided on the substrate and electrically connected to the heat generating unit. And an electrode, a radiator on which the substrate is placed, and a connection member for connecting the substrate and the radiator. In addition, a first coating layer that covers a part of the electrode and a second coating layer that is separated from the first coating layer are provided on the first surface of the substrate on the radiator side. Further, the connection member is disposed between the first coating layer and the second coating layer.

また、本発明の一実施形態に係るサーマルプリンタは、上記のいずれかに記載のサーマルヘッドと、複数の発熱部上に記録媒体を搬送する搬送機構と、複数の発熱部上に記録媒体を押圧するプラテンローラとを備えている。   A thermal printer according to an embodiment of the present invention includes a thermal head according to any one of the above, a transport mechanism that transports a recording medium onto a plurality of heating units, and presses the recording medium onto the plurality of heating units. And a platen roller.

本発明によれば、放熱体と基板との接続強度を向上させることができ、基板にずれが生じる可能性を低減することができる。   According to the present invention, the connection strength between the radiator and the substrate can be improved, and the possibility that the substrate is displaced can be reduced.

本発明の第1の実施形態に係るサーマルヘッドを示す平面図である。1 is a plan view showing a thermal head according to a first embodiment of the present invention. (a)は図1に示すサーマルヘッドの左側面図であり、(b)は図1に示すサーマルヘッドの右側面図である。なお、本図では、蓄熱層上の保護層および第2絶縁層の図示を省略している。(A) is a left side view of the thermal head shown in FIG. 1, and (b) is a right side view of the thermal head shown in FIG. In addition, in this figure, illustration of the protective layer and 2nd insulating layer on a thermal storage layer is abbreviate | omitted. (a)は図1に示すサーマルヘッドを構成する基板7の裏面図であり、(b)は放熱体上に基板を載置した平面図である。(A) is a back view of the board | substrate 7 which comprises the thermal head shown in FIG. 1, (b) is the top view which mounted the board | substrate on the heat radiator. 図1に示すサーマルヘッドのI−I線断面図である。It is the II sectional view taken on the line of the thermal head shown in FIG. 図1に示すサーマルヘッドのII−II線断面図である。It is the II-II sectional view taken on the line of the thermal head shown in FIG. 本発明のサーマルプリンタの一実施形態の概略構成を示す概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram showing a schematic configuration of an embodiment of a thermal printer of the present invention. 本発明の他の実施形態に係るサーマルヘッドを示し、(a)はサーマルヘッドを構成する基板の裏面図、(b)は(a)のIII−III線断面図、(c)は変形例のIII−III線断面図に対応する断面図である。The thermal head which concerns on other embodiment of this invention is shown, (a) is a back view of the board | substrate which comprises a thermal head, (b) is the III-III sectional view taken on the line of (a), (c) is a modification. It is sectional drawing corresponding to a III-III sectional view. 本発明の他の実施形態に係るサーマルヘッドを示し、(a)はサーマルヘッドを構成する基板の裏面図、(b)は(a)のIV−IV線断面図、(c)は変形例のIV−IV線断面図に対応する断面図である。The thermal head which concerns on other embodiment of this invention is shown, (a) is a back view of the board | substrate which comprises a thermal head, (b) is the IV-IV sectional view taken on the line of (a), (c) is a modification. It is sectional drawing corresponding to IV-IV line sectional drawing. 本発明のさらに他の実施形態に係るサーマルヘッドを示し、(a)はサーマルヘッドを構成する基板の裏面図、(b)は(a)のV−V線断面図、(c)は変形例のV−V線断面図に対応する断面図である。The thermal head which concerns on other embodiment of this invention is shown, (a) is a back view of the board | substrate which comprises a thermal head, (b) is the VV sectional view taken on the line of (a), (c) is a modification. It is sectional drawing corresponding to the VV sectional view taken on the line. 本発明のさらに他の実施形態に係るサーマルヘッドを示し、(a)はサーマルヘッドを構成する基板の裏面図、(b)は(a)のVI−VI線断面図、(c)は変形例のVI−VI線断面図に対応する断面図である。6 shows a thermal head according to still another embodiment of the present invention, in which (a) is a rear view of a substrate constituting the thermal head, (b) is a sectional view taken along line VI-VI in (a), and (c) is a modified example. It is sectional drawing corresponding to the VI-VI sectional view taken on the line. (a)はさらに他の実施形態に係るサーマルヘッドを構成する基板の裏面図であり、(b)は放熱体上に基板を載置した平面図である。(A) is a back view of the board | substrate which comprises the thermal head concerning other embodiment, (b) is the top view which mounted the board | substrate on the heat radiator. (a)は図11に示すサーマルヘッドを構成する放熱体の平面図、(b)は(a)のVII−VII線断面図である。(A) is a top view of the heat radiator which comprises the thermal head shown in FIG. 11, (b) is the VII-VII sectional view taken on the line of (a). (a)はさらに他のサーマルヘッドを構成する放熱体の平面図、(b)は(a)のVIII−VII線断面図である。(A) is a top view of the thermal radiation body which comprises another thermal head, (b) is the VIII-VII sectional view taken on the line of (a). 本発明のサーマルヘッドの変形例を示す左側面図である。It is a left view which shows the modification of the thermal head of this invention.

<第1の実施形態>
以下、本発明の第1の実施形態に係るサーマルヘッドX1について、図面を参照しつつ説明する。図1〜5に示すように、サーマルヘッドX1は、放熱体1と、放熱体1上に載置されたヘッド基体3と、ヘッド基体3に接続されたフレキシブルプリント配線板5(以下、FPC5という)とを備えている。なお、図1では、FPC5の図示を省略し、FPC5が配置される領域を二点鎖線で示す。
<First Embodiment>
The thermal head X1 according to the first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 to 5, the thermal head X <b> 1 includes a radiator 1, a head base 3 placed on the radiator 1, and a flexible printed wiring board 5 (hereinafter referred to as FPC 5) connected to the head base 3. ). In FIG. 1, illustration of the FPC 5 is omitted, and a region where the FPC 5 is arranged is indicated by a two-dot chain line.

図1〜5に示すように、放熱体1は、平面視して、矩形状の板状の台部1aと、台部1aの上面上に配置され、台部1aの一方の長辺に沿って延びる突起部1bとを備えている。放熱体1は、例えば、銅、鉄、あるいはアルミニウム等の金属材料で形成されており、後述するようにヘッド基体3の発熱部9で発生した熱のうち、印画に寄与しない熱の一部を放熱する機能を有している。   As shown in FIGS. 1-5, the heat radiator 1 is arrange | positioned on the upper surface of the rectangular plate-shaped base part 1a and the base part 1a in planar view, and follows one long side of the base part 1a. And a projecting portion 1b that extends. The radiator 1 is made of, for example, a metal material such as copper, iron, or aluminum, and a part of the heat that does not contribute to printing out of the heat generated in the heat generating portion 9 of the head base 3 as described later. It has a function to dissipate heat.

図1,2に示すように、ヘッド基体3は、基板7と、基板7上に設けられた複数の発熱部9と、発熱部9の駆動を制御する駆動IC11とを備えている。基板7は、平面視して、矩形状をなしている。基板7は、第1端面7a、第2端面7b、第1主面7c、および第2主面7dを有している。第1端面7aは、第1主面7cおよび第2主面7dに隣接する面である。第2端面7bは、第1端面7aの反対側に位置する面である。第1主面7cは、第1端面7aおよび第2端面7bに隣接する面である。第2主面7dは、第1主面7cの反対側に位置する面である。発熱部9は、第1端面7a上に、基板7の長手方向に沿って列状に設けられている。駆動IC11は、第1主面7c上に複数設けられている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the head base 3 includes a substrate 7, a plurality of heat generating units 9 provided on the substrate 7, and a drive IC 11 that controls driving of the heat generating unit 9. The substrate 7 has a rectangular shape in plan view. The substrate 7 has a first end surface 7a, a second end surface 7b, a first main surface 7c, and a second main surface 7d. The first end surface 7a is a surface adjacent to the first main surface 7c and the second main surface 7d. The second end surface 7b is a surface located on the opposite side of the first end surface 7a. The first major surface 7c is a surface adjacent to the first end surface 7a and the second end surface 7b. The second main surface 7d is a surface located on the opposite side of the first main surface 7c. The heat generating portions 9 are provided in a row along the longitudinal direction of the substrate 7 on the first end surface 7a. A plurality of drive ICs 11 are provided on the first main surface 7c.

ヘッド基体3は、図1〜5に示すように、放熱体1の台部1aの上面上に配置されており、第2端面7bが、放熱体1の突起部1bに対向するように配置されている。   As shown in FIGS. 1 to 5, the head base 3 is disposed on the upper surface of the base 1 a of the radiator 1, and the second end surface 7 b is disposed so as to face the protrusion 1 b of the radiator 1. ing.

基板7は、アルミナセラミックス等の電気絶縁性材料あるいは単結晶シリコン等の半導体材料等によって形成されている。なお、基板7は、平面視して矩形状をなしているが、基板7の角部に面取り等を行ったものも、本発明における平面視して矩形状の基板に含ま
れる。
The substrate 7 is formed of an electrically insulating material such as alumina ceramic or a semiconductor material such as single crystal silicon. The substrate 7 has a rectangular shape in plan view, but the substrate 7 having a chamfered corner is also included in the rectangular substrate in plan view of the present invention.

図4,5に示すように、基板7の第1端面7a上には、蓄熱層13が形成されている。基板7の第1端面7aは断面視して凸状の曲面形状を有しており、第1端面7a上に蓄熱層13が形成されている。そのため、蓄熱層13の表面も曲面形状となっている。曲面形状である蓄熱層13は、発熱部9上に形成された後述する保護層25に印画する記録媒体を良好に押し当てるように機能する。   As shown in FIGS. 4 and 5, the heat storage layer 13 is formed on the first end surface 7 a of the substrate 7. The first end surface 7a of the substrate 7 has a convex curved surface when viewed in cross section, and the heat storage layer 13 is formed on the first end surface 7a. Therefore, the surface of the heat storage layer 13 is also curved. The heat storage layer 13 having a curved surface functions so as to satisfactorily press a recording medium to be printed on a protective layer 25 described later formed on the heat generating portion 9.

蓄熱層13は、例えば、ガラスにより形成されており、発熱部9で発生する熱の一部を一時的に蓄積する。なお、ガラスは、熱伝導性の低いガラスであることが好ましい。そのため、印画時において、発熱部9の温度を上昇させるのに要する時間を短くし、サーマルヘッドX1の熱応答特性を高めることができる。なお、本実施形態では、図4に示すように蓄熱層13が基板7の第1端面7a上にのみ形成されており、発熱部9に近い位置で蓄熱することができる。そのため、サーマルヘッドX1の熱応答特性をより効果的に向上させることできる。なお、蓄熱層13は、ガラス粉末に適当な有機溶剤を混合して得た所定のガラスペーストを従来周知のスクリーン印刷等によって基板7の第1端面7a上に塗布し、これを焼成することにより形成することができる。   The heat storage layer 13 is made of, for example, glass, and temporarily stores part of the heat generated in the heat generating unit 9. In addition, it is preferable that glass is glass with low heat conductivity. Therefore, at the time of printing, the time required to raise the temperature of the heat generating portion 9 can be shortened, and the thermal response characteristics of the thermal head X1 can be improved. In the present embodiment, as shown in FIG. 4, the heat storage layer 13 is formed only on the first end surface 7 a of the substrate 7, and heat can be stored at a position close to the heat generating portion 9. Therefore, the thermal response characteristics of the thermal head X1 can be improved more effectively. The heat storage layer 13 is obtained by applying a predetermined glass paste obtained by mixing a glass powder with an appropriate organic solvent onto the first end surface 7a of the substrate 7 by screen printing or the like, and baking it. Can be formed.

図4,5に示すように、基板7の第1主面7c上、蓄熱層13上、基板7の第2主面7d上および第2端面7b上には、電気抵抗層15が設けられている。電気抵抗層15は、基板7および蓄熱層13と、後述する共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21との間に介在している。   As shown in FIGS. 4 and 5, an electric resistance layer 15 is provided on the first main surface 7 c of the substrate 7, on the heat storage layer 13, on the second main surface 7 d of the substrate 7 and on the second end surface 7 b. Yes. The electrical resistance layer 15 is interposed between the substrate 7 and the heat storage layer 13 and a common electrode 17, an individual electrode 19, and an IC-FPC connection electrode 21 described later.

基板7の第1主面7c上に位置する電気抵抗層15の領域は、図1に示すように平面視して、共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21と同形状に形成されている。   The region of the electrical resistance layer 15 located on the first main surface 7c of the substrate 7 is formed in the same shape as the common electrode 17, the individual electrode 19 and the IC-FPC connection electrode 21 in plan view as shown in FIG. Has been.

蓄熱層13上に位置する電気抵抗層15の領域は、図2に示すように側面視して、共通電極17および個別電極19と同形状に形成された領域と、共通電極17と個別電極19との間から露出した複数の露出領域とを有している。   As shown in FIG. 2, the region of the electric resistance layer 15 located on the heat storage layer 13 is a region formed in the same shape as the common electrode 17 and the individual electrode 19 as viewed from the side, and the common electrode 17 and the individual electrode 19. And a plurality of exposed regions exposed from between.

基板7の第2主面7d上に位置する電気抵抗層15の領域は、詳細には図示しないが、図4,5に示すように、基板7の第2主面7dの全体にわたって設けられており、共通電極17と同形状に形成されている。   Although not shown in detail, the region of the electric resistance layer 15 located on the second main surface 7d of the substrate 7 is provided over the entire second main surface 7d of the substrate 7 as shown in FIGS. It is formed in the same shape as the common electrode 17.

このように電気抵抗層15の各領域が形成されているため、図1では、電気抵抗層15は、共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21で覆われており、図示していない。また、図2では、電気抵抗層15は、共通電極17および個別電極19で覆われており、露出領域のみ図示されている。   Since each region of the electrical resistance layer 15 is formed in this way, in FIG. 1, the electrical resistance layer 15 is covered with the common electrode 17, the individual electrode 19, and the IC-FPC connection electrode 21, and is illustrated. Absent. In FIG. 2, the electric resistance layer 15 is covered with the common electrode 17 and the individual electrode 19, and only the exposed region is illustrated.

電気抵抗層15の各露出領域は、上記の発熱部9を形成している。そして、複数の露出領域が、図2に示すように、蓄熱層13上に列状に配置されている。複数の発熱部9は、図2では簡略化して示しているが、例えば、180dpi〜2400dpi(dot per inch)等の密度で配置される。また、図2に示すように、発熱部9は、蓄熱層13上で、基板7の厚さ方向の略中央部に設けられている。   Each exposed region of the electrical resistance layer 15 forms the heat generating portion 9 described above. A plurality of exposed regions are arranged in a row on the heat storage layer 13 as shown in FIG. The plurality of heat generating portions 9 are illustrated in a simplified manner in FIG. 2, but are arranged with a density of 180 dpi to 2400 dpi (dot per inch), for example. Further, as shown in FIG. 2, the heat generating portion 9 is provided on the heat storage layer 13 at a substantially central portion in the thickness direction of the substrate 7.

電気抵抗層15は、例えば、TaN系、TaSiO系、TaSiNO系、TiSiO系、TiSiCO系またはNbSiO系等の電気抵抗の比較的高い材料によって形成されている。そのため、後述する共通電極17と個別電極19との間に電圧が印加され、発熱部9に電流が供給されたときに、ジュール発熱によって発熱部9が発熱することとなる。   The electric resistance layer 15 is made of a material having a relatively high electric resistance, such as TaN, TaSiO, TaSiNO, TiSiO, TiSiCO, or NbSiO. Therefore, when a voltage is applied between the common electrode 17 and the individual electrode 19 described later and a current is supplied to the heat generating portion 9, the heat generating portion 9 generates heat due to Joule heat generation.

図1〜5に示すように、電気抵抗層15上には、共通電極17、複数の個別電極19および複数のIC−FPC接続電極21が設けられている。共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21は、導電性を有する材料で形成されており、例えば、アルミニウム、金、銀および銅のうちのいずれか一種の金属またはこれらの合金によって形成されている。   As shown in FIGS. 1 to 5, a common electrode 17, a plurality of individual electrodes 19, and a plurality of IC-FPC connection electrodes 21 are provided on the electrical resistance layer 15. The common electrode 17, the individual electrode 19, and the IC-FPC connection electrode 21 are formed of a conductive material, for example, any one of aluminum, gold, silver, and copper, or an alloy thereof. Has been.

複数の個別電極19は、各発熱部9と駆動IC11とを接続するためのものである。図1〜3に示すように、各個別電極19は、一端部が発熱部9に接続され、基板7の第1端面7a上から基板7の第1主面7c上にわたって個別に帯状に延びている。   The plurality of individual electrodes 19 are for connecting each heat generating part 9 and the drive IC 11. As shown in FIGS. 1 to 3, each individual electrode 19 is connected to the heat generating portion 9 at one end and individually extends in a band shape from the first end surface 7 a of the substrate 7 to the first main surface 7 c of the substrate 7. Yes.

各個別電極19の他端部は、駆動IC11の配置領域に配置されており、各個別電極19の他端部が駆動IC11に接続されている。それにより、各発熱部9と駆動IC11との間が電気的に接続されている。より詳細には、個別電極19は、複数の発熱部9を複数の群に分け、各群の発熱部9を、各群に対応して設けられた駆動IC11に電気的に接続している。   The other end portion of each individual electrode 19 is disposed in the arrangement region of the drive IC 11, and the other end portion of each individual electrode 19 is connected to the drive IC 11. Thereby, each heat generating part 9 and the drive IC 11 are electrically connected. More specifically, the individual electrode 19 divides a plurality of heat generating portions 9 into a plurality of groups, and electrically connects the heat generating portions 9 of each group to a drive IC 11 provided corresponding to each group.

複数のIC−FPC接続電極21は、駆動IC11とFPC5とを接続するためのものである。図1,4に示すように、各IC−FPC接続電極21は、基板7の第1主面7c上に帯状に延びており、一端部は駆動IC11の配置領域に配置されている。また、各IC−FPC接続電極21の他端部は基板7の第1主面7c上の第2端面7b側に位置する、共通電極17の主配線部17aの近傍に配置されている。そして、複数のIC−FPC接続電極21は、一端部が駆動IC11に電気的に接続されるとともに、他端部がFPC5に電気的に接続されることにより、駆動IC11とFPC5とを電気的に接続している。   The plurality of IC-FPC connection electrodes 21 are for connecting the driving IC 11 and the FPC 5. As shown in FIGS. 1 and 4, each IC-FPC connection electrode 21 extends in a strip shape on the first main surface 7 c of the substrate 7, and one end thereof is arranged in the arrangement region of the drive IC 11. The other end portion of each IC-FPC connection electrode 21 is disposed in the vicinity of the main wiring portion 17 a of the common electrode 17 located on the second end surface 7 b side on the first main surface 7 c of the substrate 7. The plurality of IC-FPC connection electrodes 21 are electrically connected to the drive IC 11 at one end and electrically connected to the FPC 5 at the other end, thereby electrically connecting the drive IC 11 and the FPC 5. Connected.

駆動IC11は、図1に示すように、複数の発熱部9の各群に対応して配置されている。そして、駆動IC11は、個別電極19の他端部とIC−FPC接続電極21の一端部とに接続されている。駆動IC11は、各発熱部9の通電状態を制御するためのものであり、内部に有した複数のスイッチング素子(不図示)を切り替えることにより、各発熱部9の発熱駆動を制御している。   As shown in FIG. 1, the drive IC 11 is disposed corresponding to each group of the plurality of heat generating units 9. The drive IC 11 is connected to the other end of the individual electrode 19 and one end of the IC-FPC connection electrode 21. The drive IC 11 is for controlling the energization state of each heat generating part 9, and controls the heat generation drive of each heat generating part 9 by switching a plurality of switching elements (not shown) provided therein.

駆動IC11は、個別電極19およびIC−FPC接続電極21に接続された状態で、エポキシ樹脂あるいはシリコーン樹脂等の樹脂からなる被覆部材28によって被覆されることで封止されている。これにより、駆動IC11自体、および駆動IC11とこれらの配線との接続部を保護することができる。   The drive IC 11 is sealed by being covered with a covering member 28 made of a resin such as an epoxy resin or a silicone resin while being connected to the individual electrode 19 and the IC-FPC connection electrode 21. Thereby, it is possible to protect the drive IC 11 itself and the connection portion between the drive IC 11 and these wirings.

共通電極17は、複数の発熱部9とFPC5とを電気的に接続するためのものである。共通電極17は、主配線部17aと、リード部17cを有している。主配線部17aは、図1,4,5に示すように、基板7の第2主面7dおよび第2端面7bの全体にわたって形成されるとともに、基板7の第1主面7c上において第2端面7bに沿って延びるように形成されている。リード部17cは、基板7の第1端面7a上に形成されており、一端部が基板7の第2主面7dに設けられた主配線部17aと、各発熱部9とを電気的に接続している。また、各リード部17cは、一端部が個別電極19に対向して配置されて各発熱部9に接続されている。   The common electrode 17 is for electrically connecting the plurality of heat generating units 9 and the FPC 5. The common electrode 17 has a main wiring portion 17a and a lead portion 17c. As shown in FIGS. 1, 4, and 5, the main wiring portion 17 a is formed over the entire second main surface 7 d and the second end surface 7 b of the substrate 7, and is formed on the first main surface 7 c of the substrate 7. It is formed so as to extend along end face 7b. The lead portion 17 c is formed on the first end surface 7 a of the substrate 7, and one end portion electrically connects the main wiring portion 17 a provided on the second main surface 7 d of the substrate 7 and each heat generating portion 9. doing. In addition, each lead portion 17 c is arranged so that one end thereof is opposed to the individual electrode 19 and is connected to each heat generating portion 9.

このようにして、共通電極17は、一端部が個別電極19の一端部に対向して配置され、発熱部9に接続されている。そして、基板7の第1端面7a上から、基板7の第2主面7d上、および基板7の第2端面7b上を介して、基板7の第1主面7c上にわたって延びている。   In this way, the common electrode 17 is disposed so that one end thereof faces the one end of the individual electrode 19 and is connected to the heat generating portion 9. Then, it extends over the first main surface 7 c of the substrate 7 from the first end surface 7 a of the substrate 7 through the second main surface 7 d of the substrate 7 and the second end surface 7 b of the substrate 7.

上記の電気抵抗層15、共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21の形成方法について例示する。各々を構成する材料層を、蓄熱層13が形成された基板7上に、スパッタリング法等の従来周知の薄膜成形技術によって順次積層する。次に積層体を従来周知のフォトエッチング等を用いて所定のパターンに加工することにより形成することができる。また、電気抵抗層15の厚さは、例えば0.01μm〜0.2μmとし、共通電極17、個別電極19およびIC−FPC接続電極21の厚さは、例えば0.05μm〜2.5μmとすることができる。なお、第1主面7c上の共通電極17の厚みと、第2主面7d上の共通電極17の厚みとが異なる構成としてもよく、電極の部位により厚みを異なるものとしてもよい。   A method for forming the electrical resistance layer 15, the common electrode 17, the individual electrode 19, and the IC-FPC connection electrode 21 will be described. The material layers constituting each are sequentially laminated on the substrate 7 on which the heat storage layer 13 is formed by a conventionally well-known thin film forming technique such as a sputtering method. Next, the laminate can be formed by processing it into a predetermined pattern using a conventionally known photoetching or the like. Moreover, the thickness of the electrical resistance layer 15 is, for example, 0.01 μm to 0.2 μm, and the thicknesses of the common electrode 17, the individual electrode 19, and the IC-FPC connection electrode 21 are, for example, 0.05 μm to 2.5 μm. be able to. Note that the thickness of the common electrode 17 on the first main surface 7c may be different from the thickness of the common electrode 17 on the second main surface 7d, and the thickness may be different depending on the portion of the electrode.

保護層25は、図1〜5に示すように、蓄熱層13上、基板7の第1主面7cおよび第2主面7d上に、発熱部9、共通電極17の一部および個別電極19の一部を被覆するように設けられている。図1,4,5に示すように、保護層25は、基板7の第1主面7cにおいては左側の領域を覆うように設けられている。保護層25は、蓄熱層13上においては全体を覆うように設けられている。保護層25は、基板7の第2主面7dにおいては基板7の第1主面7cと同様に左側の領域を覆うように設けられている。このようにして、保護層25は、基板7の第1端面7a上から基板7の第1主面7c上にわたって形成されているとともに、基板7の第1端面7a上から基板7の第2主面7d上にわたって形成されている。なお、説明の便宜上、図1では、保護層25の形成領域を一点鎖線で示し、図示を省略している。   As shown in FIGS. 1 to 5, the protective layer 25 is formed on the heat storage layer 13 and on the first main surface 7 c and the second main surface 7 d of the substrate 7, a heating portion 9, a part of the common electrode 17, and the individual electrode 19. It is provided so that a part of may be covered. As shown in FIGS. 1, 4, and 5, the protective layer 25 is provided on the first main surface 7 c of the substrate 7 so as to cover the left region. The protective layer 25 is provided on the heat storage layer 13 so as to cover the whole. The protective layer 25 is provided on the second main surface 7 d of the substrate 7 so as to cover the left region as in the case of the first main surface 7 c of the substrate 7. In this way, the protective layer 25 is formed from the first end surface 7a of the substrate 7 to the first main surface 7c of the substrate 7, and the second main surface of the substrate 7 from the first end surface 7a of the substrate 7. It is formed over the surface 7d. For convenience of explanation, in FIG. 1, the formation region of the protective layer 25 is indicated by a one-dot chain line, and the illustration is omitted.

保護層25は、発熱部9、共通電極17の一部および個別電極19の一部の被覆した領域を、大気中に含まれている水分等の付着による腐食、あるいは印画する記録媒体との接触による摩耗から保護する機能を有している。保護層25は、例えば、SiC系、SiN系、SiO系およびSiON系等の材料で形成することができる。なお、AlあるいはTi等の他の元素を少量含有していてもよい。   The protective layer 25 contacts the recording medium that prints or corrodes the areas covered with the heat generating portion 9, part of the common electrode 17 and part of the individual electrode 19 due to adhesion of moisture or the like contained in the atmosphere. It has a function to protect against abrasion due to. The protective layer 25 can be made of, for example, a SiC-based material, a SiN-based material, a SiO-based material, or a SiON-based material. A small amount of other elements such as Al or Ti may be contained.

保護層25は、例えば、スパッタリング法、蒸着法等の従来周知の薄膜成形技術あるいはスクリーン印刷法等の厚膜成形技術を用いて形成することができる。保護層25の厚さは、例えば3〜12μmとすることができる。また、保護層25は、複数の材料層を積層して形成してもよい。   The protective layer 25 can be formed using, for example, a conventionally well-known thin film forming technique such as sputtering or vapor deposition, or a thick film forming technique such as screen printing. The thickness of the protective layer 25 can be 3-12 micrometers, for example. The protective layer 25 may be formed by stacking a plurality of material layers.

また、図1,4,5に示すように、基板7の第1主面7c上には、個別電極19およびIC−FPC接続電極21を部分的に被覆する絶縁層27が設けられている。絶縁層27は、図1に示すように基板7の第1主面7c上の保護層25よりも右側の領域を部分的に覆うように設けられている。なお、説明の便宜上、図1では、絶縁層27の形成領域を一点鎖線で示し、図示を省略している。   As shown in FIGS. 1, 4, and 5, an insulating layer 27 that partially covers the individual electrode 19 and the IC-FPC connection electrode 21 is provided on the first main surface 7 c of the substrate 7. As shown in FIG. 1, the insulating layer 27 is provided so as to partially cover a region on the right side of the protective layer 25 on the first main surface 7 c of the substrate 7. For convenience of explanation, in FIG. 1, the formation region of the insulating layer 27 is indicated by a one-dot chain line, and the illustration is omitted.

絶縁層27は、個別電極19およびIC−FPC接続電極21の被覆した領域を、大気との接触による酸化あるいは大気中に含まれている水分等の付着による腐食から保護する機能を有するものである。絶縁層27は、例えば、エポキシ樹脂あるいはポリイミド樹脂等の樹脂材料で形成することができる。また、絶縁層27は、例えば、スクリーン印刷法等の厚膜成形技術を用いて形成することができる。なお、絶縁層27は電気絶縁性を有しており、上記のように個別電極19を被覆しても、隣接する個別電極19間が短絡しない構成を有している。   The insulating layer 27 has a function of protecting the region covered with the individual electrode 19 and the IC-FPC connection electrode 21 from oxidation due to contact with the atmosphere or corrosion due to adhesion of moisture or the like contained in the atmosphere. . The insulating layer 27 can be formed of a resin material such as an epoxy resin or a polyimide resin, for example. The insulating layer 27 can be formed using a thick film forming technique such as a screen printing method. The insulating layer 27 has electrical insulation and has a configuration in which the adjacent individual electrodes 19 are not short-circuited even when the individual electrodes 19 are covered as described above.

なお、図1,4に示すように、後述するFPC5を接続するIC−FPC接続電極21の端部は、絶縁層27から露出して設けられており、FPC5と接続することができる。   As shown in FIGS. 1 and 4, an end portion of an IC-FPC connection electrode 21 for connecting an FPC 5 described later is provided exposed from the insulating layer 27 and can be connected to the FPC 5.

また、絶縁層27は、駆動IC11を接続する個別電極19およびIC−FPC接続電極21の端部を露出させるための開口部(不図示)が形成されている。個別電極19とIC−FPC接続電極21とは、開口部を介して駆動IC11に接続されている。本実施形態では、開口部27aから露出した個別電極19およびIC−FPC接続電極21の端部上に、導電層30が形成されている。そして、導電層30を介して個別電極19およびIC−FPC接続電極21が、駆動IC11とはんだ接合されている。このように、駆動IC11を、導電層30上にはんだ接合することで、個別電極19およびIC−FPC接続電極21上への駆動IC11の接続強度を向上させることができる。   The insulating layer 27 is formed with openings (not shown) for exposing the individual electrodes 19 that connect the drive IC 11 and the ends of the IC-FPC connection electrodes 21. The individual electrode 19 and the IC-FPC connection electrode 21 are connected to the driving IC 11 through the opening. In the present embodiment, the conductive layer 30 is formed on the ends of the individual electrode 19 and the IC-FPC connection electrode 21 exposed from the opening 27a. The individual electrode 19 and the IC-FPC connection electrode 21 are soldered to the drive IC 11 via the conductive layer 30. In this way, the connection strength of the drive IC 11 on the individual electrode 19 and the IC-FPC connection electrode 21 can be improved by soldering the drive IC 11 on the conductive layer 30.

導電層30は、金属または合金により形成することができ、例えば、周知の無電解めっき、あるいは電解めっきによって形成することができる。また、導電層30として、例えば、共通電極17上にニッケルめっきからなる第1めっき層(不図示)を形成し、第1めっき層上に金めっきからなる第2めっき層(不図示)を形成してもよい。この場合、第1被覆層の厚さを例えば1.5μm〜4μmとし、第2被覆層の厚さを例えば0.02μm〜0.1μmとすることができる。   The conductive layer 30 can be formed of a metal or an alloy, for example, can be formed by well-known electroless plating or electrolytic plating. Further, as the conductive layer 30, for example, a first plating layer (not shown) made of nickel plating is formed on the common electrode 17, and a second plating layer (not shown) made of gold plating is formed on the first plating layer. May be. In this case, the thickness of the first coating layer can be set to, for example, 1.5 μm to 4 μm, and the thickness of the second coating layer can be set to, for example, 0.02 μm to 0.1 μm.

図3〜5に示すように、基板7の第2主面7d上には、基板7の第2主面7d上の共通電極17を部分的に被覆する第1被覆層2が形成されている。第1被覆層2は、保護層25に隣接して設けられており、基板7の長手方向に延びるように設けられている。   As shown in FIGS. 3 to 5, the first coating layer 2 that partially covers the common electrode 17 on the second main surface 7 d of the substrate 7 is formed on the second main surface 7 d of the substrate 7. . The first covering layer 2 is provided adjacent to the protective layer 25 and is provided so as to extend in the longitudinal direction of the substrate 7.

第1被覆層2は、共通電極17を被覆することにより、共通電極17の被覆した領域を、大気との接触による酸化あるいは大気中に含まれている水分等の付着による腐食から保護する機能を有している。第1被覆層2は、絶縁層27と同様、例えば、エポキシ樹脂あるいはポリイミド樹脂等の樹脂材料で形成することができる。また、第1被覆層2は、例えば、スクリーン印刷法等の厚膜成形技術を用いて形成することができる。第1被覆層2の厚さは、例えば20〜60μmにすることができる。   The first covering layer 2 has a function of protecting the region covered with the common electrode 17 from corrosion due to oxidation due to contact with the atmosphere or adhesion of moisture contained in the atmosphere by covering the common electrode 17. Have. As with the insulating layer 27, the first cover layer 2 can be formed of a resin material such as an epoxy resin or a polyimide resin. Moreover, the 1st coating layer 2 can be formed using thick film forming techniques, such as a screen printing method, for example. The thickness of the 1st coating layer 2 can be 20-60 micrometers, for example.

第2被覆層4は、第1被覆層2と離間した状態で、基板7の第2主面7d上に設けられており、基板7の長手方向に延びるように設けられている。第2被覆層4は、第1被覆層2と同様の材料により設けられている。そのため、第1被覆層2と第2被覆層4とを、厚膜形成技術を用いて同時に形成することができる。なお、図3においては、第2被覆層4が第2端面7bから離れた状態で設けられているが、第2端面7bから第2主面7dにわたって設けられていてもよい。   The second coating layer 4 is provided on the second main surface 7 d of the substrate 7 in a state of being separated from the first coating layer 2, and is provided so as to extend in the longitudinal direction of the substrate 7. The second coating layer 4 is made of the same material as the first coating layer 2. Therefore, the 1st coating layer 2 and the 2nd coating layer 4 can be formed simultaneously using a thick film formation technique. In FIG. 3, the second coating layer 4 is provided in a state of being separated from the second end surface 7b, but may be provided from the second end surface 7b to the second main surface 7d.

以下、図3〜5を用いて基板7と放熱体1との接続構造について説明する。   Hereinafter, the connection structure between the substrate 7 and the radiator 1 will be described with reference to FIGS.

基板7は、図3(b)に示すように、第2主面7dが放熱体1と対向するように配置されている。そのため、基板7の第2主面7dが本発明の第1面を意味する。   As shown in FIG. 3B, the substrate 7 is disposed so that the second main surface 7 d faces the radiator 1. Therefore, the 2nd main surface 7d of the board | substrate 7 means the 1st surface of this invention.

図4,5に示すように、基板7と放熱体1とは、第1接続部材6と第2接続部材8とにより接続されている。第1接続部材6および第2接続部材8は、両面テープあるいは熱硬化性樹脂等からなる接着剤により形成されている。ここで、第1接続部材6および第2接続部材8が本発明の接続部材を意味する。なお、以下、第1接続部材6を両面テープにより形成し、第2接続部材8を接着剤により形成した例を用いて説明する。   As shown in FIGS. 4 and 5, the substrate 7 and the radiator 1 are connected by a first connection member 6 and a second connection member 8. The first connecting member 6 and the second connecting member 8 are formed of an adhesive made of a double-sided tape or a thermosetting resin. Here, the 1st connection member 6 and the 2nd connection member 8 mean the connection member of this invention. Hereinafter, description will be made using an example in which the first connection member 6 is formed of a double-sided tape and the second connection member 8 is formed of an adhesive.

第1接続部材6は、基板7の第2主面7dと放熱体1とを接続しており、基板7の第1被覆層2と放熱体1との間に設けられている。第1接続部材6は、平面視して、第1被覆層2と略同形状に形成されている。これにより、基板7と放熱体1とを接続することができる。   The first connecting member 6 connects the second main surface 7 d of the substrate 7 and the heat radiator 1, and is provided between the first covering layer 2 of the substrate 7 and the heat radiator 1. The first connection member 6 is formed in substantially the same shape as the first coating layer 2 in plan view. Thereby, the board | substrate 7 and the heat radiator 1 can be connected.

第2接続部材8は、基板7の第2主面7dの一部と、第2被覆層4と、第2端面7bの一部と、放熱体1とを接続しており、図4,5に示すように、基板7の第2主面7dと放熱体1との間と、基板7の第2端面7bと放熱体1との間と、第1被覆層2と第2被覆層4との間とに設けられている。そして、第2接続部材8は、基板7の長手方向に延びるように設けられている。   The second connecting member 8 connects a part of the second main surface 7d of the substrate 7, the second coating layer 4, a part of the second end surface 7b, and the radiator 1 as shown in FIGS. As shown in FIG. 4, between the second main surface 7d of the substrate 7 and the radiator 1, between the second end surface 7b of the substrate 7 and the radiator 1, the first coating layer 2 and the second coating layer 4 Between. The second connection member 8 is provided so as to extend in the longitudinal direction of the substrate 7.

このように、第2接続部材8が、基板7の第2主面7dと放熱体1との間と、基板7の第2端面7bと放熱体1との間とに設けられていることから、基板7と放熱体1とを接続することができる。   As described above, the second connecting member 8 is provided between the second main surface 7d of the substrate 7 and the radiator 1, and between the second end surface 7b of the substrate 7 and the radiator 1. The substrate 7 and the radiator 1 can be connected.

さらに、第2接続部材8が、第1被覆層2と第2被覆層4との間に設けられている。第2接続部材8が第1被覆層2と第2被覆層4との間に設けられていることから、記録媒体(不図示)の搬送方向D1(以下、第1方向D1と称する)に直交する方向D2(以下、第2方向D2)において、基板7にずれが生じる可能性を低減することができる。   Furthermore, the second connection member 8 is provided between the first coating layer 2 and the second coating layer 4. Since the second connecting member 8 is provided between the first coating layer 2 and the second coating layer 4, it is orthogonal to the conveyance direction D1 (hereinafter referred to as the first direction D1) of the recording medium (not shown). In the direction D2 (hereinafter referred to as the second direction D2) to be performed, the possibility that the substrate 7 is displaced can be reduced.

具体的には、第1被覆層2および第2被覆層4の間に配置された第2接続部材8が、楔として機能することにより、第2方向D2において、基板7と放熱体1との接続強度を向上させることができ、第2方向D2において、基板7にずれが生じる可能性を低減することができる。   Specifically, the second connecting member 8 disposed between the first covering layer 2 and the second covering layer 4 functions as a wedge, so that the substrate 7 and the radiator 1 are in the second direction D2. The connection strength can be improved, and the possibility that the substrate 7 is displaced in the second direction D2 can be reduced.

別の見方をすると、本実施形態においては、第2被覆層4が、第2接続部材8の内部に埋設していることとなる。第2被覆層4が第2接続部材8の内部に埋設していることにより、第2被覆層4が第2方向D2に対して楔として機能することにより、第2方向D2において、基板7と放熱体1との接続強度を向上させることができ、第2方向D2において、基板7にずれが生じる可能性を低減することができる。   From another viewpoint, in the present embodiment, the second coating layer 4 is embedded in the second connection member 8. Since the second covering layer 4 is embedded in the second connecting member 8, the second covering layer 4 functions as a wedge with respect to the second direction D 2. The connection strength with the radiator 1 can be improved, and the possibility that the substrate 7 is displaced in the second direction D2 can be reduced.

また、第2被覆層4が、発熱部9の配列方向(以下、第3方向D3と称する)に延在していることから、第1被覆層2と第2被覆層4との間に配置された第2接続部材8が、楔としての機能をさらに増大させることができ、さらに、第2方向D2において、基板7にずれが生じる可能性を低減することができる。特に、第2被覆層4が、第3方向D3に延在しているため、基板7が第2方向D2に対して傾斜する可能性を低減することができ、第3方向D3における記録媒体とサーマルヘッドX1との接触を均一に近づけることができる。   Further, since the second coating layer 4 extends in the arrangement direction of the heat generating portions 9 (hereinafter referred to as the third direction D3), the second coating layer 4 is disposed between the first coating layer 2 and the second coating layer 4. The made second connecting member 8 can further increase the function as a wedge, and can further reduce the possibility of the substrate 7 being displaced in the second direction D2. In particular, since the second coating layer 4 extends in the third direction D3, the possibility that the substrate 7 is inclined with respect to the second direction D2 can be reduced, and the recording medium in the third direction D3 can be reduced. The contact with the thermal head X1 can be made uniform.

なお、接続部材として第1接続部材6および第2接続部材8を用いた例を示したが、基板7と放熱体1とを第1接続部材6のみで接続してもよく、あるいは第2接続部材8のみで接続してもよい。   In addition, although the example using the 1st connection member 6 and the 2nd connection member 8 was shown as a connection member, you may connect the board | substrate 7 and the heat radiator 1 only by the 1st connection member 6, or a 2nd connection. You may connect only with the member 8. FIG.

FPC5は、図1,4,5に示すように、基板7の長手方向に沿って延びており、上記のように基板7の第1主面7c上に位置する共通電極17の主配線部17aおよび各IC−FPC接続電極21に接続されている。FPC5は、絶縁性の樹脂層の内部に複数のプリント配線が配線された周知のものであり、各プリント配線がコネクタ31を介して図示しない外部の電源装置および制御装置等に電気的に接続されるようになっている。このようなプリント配線は、例えば、銅箔等の金属箔、薄膜成形技術によって形成された導電性薄膜、または厚膜印刷技術によって形成された導電性厚膜によって形成されている。   As shown in FIGS. 1, 4, and 5, the FPC 5 extends along the longitudinal direction of the substrate 7, and the main wiring portion 17 a of the common electrode 17 located on the first main surface 7 c of the substrate 7 as described above. In addition, each IC-FPC connection electrode 21 is connected. The FPC 5 is a well-known one in which a plurality of printed wirings are wired inside an insulating resin layer, and each printed wiring is electrically connected to an external power supply device and control device (not shown) via a connector 31. It has become so. Such a printed wiring is formed by, for example, a metal foil such as a copper foil, a conductive thin film formed by a thin film forming technique, or a conductive thick film formed by a thick film printing technique.

より詳細には、図4,5に示すように、FPC5は、絶縁性の樹脂層5aの内部に形成された各プリント配線5bが第2端面7b側の端部で露出し、導電性接合材32によって接合されている。導電性接合材32としては、導電性接合材料、はんだ材料、または電気絶縁性の樹脂中に導電性粒子が混入された異方性導電材料(ACF)等を例示することが
できる。そして、FPC5のプリント配線5bは、基板7の第1主面7c上に位置する共通電極17の主配線部17aの端部および各IC−FPC接続電極21の端部に接続されている。
More specifically, as shown in FIGS. 4 and 5, the FPC 5 has a conductive bonding material in which each printed wiring 5 b formed inside the insulating resin layer 5 a is exposed at the end on the second end face 7 b side. 32 are joined. Examples of the conductive bonding material 32 include a conductive bonding material, a solder material, or an anisotropic conductive material (ACF) in which conductive particles are mixed in an electrically insulating resin. The printed wiring 5b of the FPC 5 is connected to the end of the main wiring portion 17a of the common electrode 17 and the end of each IC-FPC connection electrode 21 located on the first main surface 7c of the substrate 7.

なお、本実施形態では、基板7の第1主面7c上に位置する共通電極17上には、上記のように導電層30が形成されているため、共通電極17に接続されるプリント配線5bが、導電性接合材32を介して導電層30上に接続されている。また、導電層30が、各IC−FPC接続電極21の端部上にも形成されているため、各IC−FPC接続電極21に接続されるプリント配線5bも導電性接合材32を介して導電層30上に接続されている。このように、プリント配線5bを、めっきで形成された導電層30上に接続することにより、プリント配線5bと、共通電極17およびIC−FPC接続電極21との接続強度を向上させることができる。   In the present embodiment, since the conductive layer 30 is formed on the common electrode 17 located on the first main surface 7c of the substrate 7, as described above, the printed wiring 5b connected to the common electrode 17 is used. Are connected to the conductive layer 30 through the conductive bonding material 32. Further, since the conductive layer 30 is also formed on the end portion of each IC-FPC connection electrode 21, the printed wiring 5 b connected to each IC-FPC connection electrode 21 is also conductive through the conductive bonding material 32. Connected on layer 30. Thus, the connection strength between the printed wiring 5b, the common electrode 17 and the IC-FPC connection electrode 21 can be improved by connecting the printed wiring 5b onto the conductive layer 30 formed by plating.

そして、FPC5の各プリント配線5bがコネクタ31を介して図示しない外部の電源装置および制御装置等に電気的に接続されている。それにより、共通電極17およびIC−FPC電極21は、外部から電圧が供給されることとなる。   Each printed wiring 5b of the FPC 5 is electrically connected to an external power supply device and control device (not shown) via a connector 31. Thereby, the common electrode 17 and the IC-FPC electrode 21 are supplied with voltage from the outside.

また、FPC5は、放熱体1の突起部1bの上面に、両面テープあるいは樹脂等の接着剤(不図示)によって接着されることにより、放熱体1上に固定されている。   The FPC 5 is fixed on the radiator 1 by being adhered to the upper surface of the protrusion 1b of the radiator 1 with an adhesive (not shown) such as double-sided tape or resin.

次に、本発明のサーマルプリンタの一実施形態について、図6を参照しつつ説明する。図6は、本実施形態のサーマルプリンタZの概略構成図である。   Next, an embodiment of the thermal printer of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a schematic configuration diagram of the thermal printer Z of the present embodiment.

図6に示すように、本実施形態のサーマルプリンタZは、上述のサーマルヘッドX1、搬送機構40、プラテンローラ50、電源装置60および制御装置70を備えている。サーマルヘッドX1は、サーマルプリンタZの筐体(不図示)に設けられた取付部材80の取付面80aに取り付けられている。なお、サーマルヘッドX1は、発熱部9の配列方向が、記録媒体Pの搬送方向Sに直交する方向である主走査方向に沿うように、取付部材80に取り付けられている。そのため、サーマルヘッドX1においては、基板7の第1主面7c側が記録媒体Pの搬送方向の上流側となり、基板7の第2主面7d側が記録媒体Pの搬送方向の下流側となる。   As shown in FIG. 6, the thermal printer Z of the present embodiment includes the above-described thermal head X1, the transport mechanism 40, the platen roller 50, the power supply device 60, and the control device 70. The thermal head X1 is attached to an attachment surface 80a of an attachment member 80 provided in a housing (not shown) of the thermal printer Z. The thermal head X1 is attached to the attachment member 80 so that the arrangement direction of the heat generating portions 9 is along the main scanning direction which is a direction orthogonal to the conveyance direction S of the recording medium P. Therefore, in the thermal head X1, the first main surface 7c side of the substrate 7 is the upstream side in the conveyance direction of the recording medium P, and the second main surface 7d side of the substrate 7 is the downstream side in the conveyance direction of the recording medium P.

搬送機構40は、感熱紙、受像紙、カード等の記録媒体Pを図6の矢印S方向に搬送して、サーマルヘッドX1の複数の発熱部9上に搬送するためのものであり、搬送ローラ43,45,47,49を有している。搬送ローラ43,45,47,49は、例えば、ステンレス等の金属からなる円柱状の軸体43a,45a,47a,49aを、ブタジエンゴム等からなる弾性部材43b,45b,47b,49bにより被覆して構成することができる。なお、図示しないが、記録媒体Pが受像紙あるいはカード等の場合は、記録媒体PとサーマルヘッドX1の発熱部9との間に、記録媒体Pとともにインクフィルムを搬送するようになっている。   The transport mechanism 40 is for transporting the recording medium P such as thermal paper, image receiving paper, card or the like in the direction of the arrow S in FIG. 6 and transports the recording medium P onto the plurality of heat generating portions 9 of the thermal head X1. 43, 45, 47, 49. The transport rollers 43, 45, 47, and 49 are formed by, for example, covering cylindrical shaft bodies 43a, 45a, 47a, and 49a made of metal such as stainless steel with elastic members 43b, 45b, 47b, and 49b made of butadiene rubber or the like. Can be configured. Although not shown, when the recording medium P is an image receiving paper or a card, an ink film is transported together with the recording medium P between the recording medium P and the heat generating portion 9 of the thermal head X1.

プラテンローラ50は、記録媒体PをサーマルヘッドX1の発熱部9上に押圧する機能を有している。そして、プラテンローラ50は、記録媒体Pの搬送方向Sに直交する方向に沿って延びるように配置され、記録媒体Pを発熱部9上に押圧した状態で回転可能となるように両端部が支持されている。プラテンローラ50は、例えば、ステンレス等の金属からなる円柱状の軸体50aを、ブタジエンゴム等からなる弾性部材50bにより被覆して構成することができる。   The platen roller 50 has a function of pressing the recording medium P onto the heat generating portion 9 of the thermal head X1. The platen roller 50 is disposed so as to extend along a direction perpendicular to the conveyance direction S of the recording medium P, and both ends are supported so as to be rotatable while the recording medium P is pressed onto the heat generating portion 9. Has been. The platen roller 50 can be configured by, for example, covering a cylindrical shaft body 50a made of metal such as stainless steel with an elastic member 50b made of butadiene rubber or the like.

電源装置60は、上記のようにサーマルヘッドX1の発熱部9を発熱させるための電圧および駆動IC11を動作させるための電圧を供給する機能を有している。制御装置70
は、上記のようにサーマルヘッドX1の発熱部9を選択的に発熱させるために、駆動IC11の動作を制御する制御信号を駆動IC11に供給する機能を有している。
The power supply device 60 has a function of supplying a voltage for generating heat from the heat generating portion 9 of the thermal head X1 and a voltage for operating the drive IC 11 as described above. Control device 70
Has a function of supplying the drive IC 11 with a control signal for controlling the operation of the drive IC 11 in order to selectively heat the heat generating portion 9 of the thermal head X1 as described above.

本実施形態のサーマルプリンタZは、搬送機構40によって記録媒体PをサーマルヘッドX1の発熱部9上に搬送しつつ、電源装置60および制御装置70によって発熱部9を選択的に発熱させる。それにより、記録媒体Pに所定の印画を行うことができる。なお、記録媒体Pが受像紙あるいはカード等の場合は、記録媒体Pとともに搬送されるインクフィルム(不図示)のインクを記録媒体Pに熱転写することによって、記録媒体Pへの印画を行うことができる。   In the thermal printer Z of the present embodiment, the heat generating unit 9 is selectively heated by the power supply device 60 and the control device 70 while the recording medium P is transported onto the heat generating unit 9 of the thermal head X1 by the transport mechanism 40. Thereby, predetermined printing can be performed on the recording medium P. When the recording medium P is an image receiving paper or a card, printing on the recording medium P can be performed by thermally transferring ink of an ink film (not shown) conveyed with the recording medium P to the recording medium P. .

<第2実施形態>
図7(a),(b)を用いてサーマルヘッドX2について説明する。サーマルヘッドX2は、第2被覆層4が第3方向D3に交差する方向、言い換えると第2方向D2に2つ有する点でサーマルヘッドX1とは異なり、その他の点は共通するため説明を省略する。
Second Embodiment
The thermal head X2 will be described with reference to FIGS. 7 (a) and 7 (b). The thermal head X2 is different from the thermal head X1 in that it has two in the direction in which the second coating layer 4 intersects the third direction D3, in other words, in the second direction D2. .

図7(a)に示すように、サーマルヘッドX2は、基板7の第2主面7dに第1被覆層2が設けられており、第1被覆層2から第2方向D2に離間した状態で第2被覆層4が設けられている。第2被覆層4は、第2方向D2の第2端面7b側に設けられた第2被覆層4aと、第2被覆層4aに隣接する第2被覆層4bとを有している。第2被覆層4bは、第1被覆層2と離間した状態で設けられており、第2被覆層4aは、第2被覆層4bと離間した状態で設けられている。第2被覆層4は、第2被覆層4aと第2被覆層4bとが互いに平行に、D3方向に延在して設けられている。なお、第2被覆層4aと第2被覆層4bとは、例えば、厚膜形成技術により形成する場合、同時に形成することができる。   As shown in FIG. 7A, in the thermal head X2, the first coating layer 2 is provided on the second main surface 7d of the substrate 7, and is separated from the first coating layer 2 in the second direction D2. A second coating layer 4 is provided. The 2nd coating layer 4 has the 2nd coating layer 4a provided in the 2nd end surface 7b side of the 2nd direction D2, and the 2nd coating layer 4b adjacent to the 2nd coating layer 4a. The second coating layer 4b is provided in a state separated from the first coating layer 2, and the second coating layer 4a is provided in a state separated from the second coating layer 4b. The second coating layer 4 is provided by extending the second coating layer 4a and the second coating layer 4b in parallel to each other in the D3 direction. In addition, the 2nd coating layer 4a and the 2nd coating layer 4b can be formed simultaneously, for example, when forming by a thick film formation technique.

図7(b)に示すように、基板7と放熱体1とは第1接続部材6および第2接続部材8により接続されている。第1接続部材6は、基板7の第2主面7dと、放熱体1との間に設けられており、第1被覆層2と放熱体1との間、第2被覆層4bと放熱体1との間、および第1被覆層2と第2被覆層4bとの間に配置されている。それにより、第1接続部材6は、基板7と放熱体1とを接続するとともに、基板7が第2方向D2にずれる可能性を低減することができる。   As shown in FIG. 7B, the substrate 7 and the radiator 1 are connected by the first connecting member 6 and the second connecting member 8. The first connecting member 6 is provided between the second main surface 7d of the substrate 7 and the radiator 1, and between the first coating layer 2 and the radiator 1, the second coating layer 4b and the radiator. 1 and between the first coating layer 2 and the second coating layer 4b. Thereby, the 1st connection member 6 can reduce possibility that the board | substrate 7 will shift | deviate to the 2nd direction D2, while connecting the board | substrate 7 and the thermal radiation body 1. FIG.

第2接続部材8は、基板7の第2主面7dと、基板7の第2端面7bと、放熱体1との間に設けられており、第2被覆層4aと第2被覆層4bとの間と、第2被覆層4aと放熱体1との間と、基板7の第2主面7dおよび第2端面7bと放熱体1との間とに配置されている。それにより、第2接続部材8は、基板7と放熱体1とを接続するとともに、基板7が第2方向D2にずれる可能性を低減することができる。   The second connecting member 8 is provided between the second main surface 7d of the substrate 7, the second end surface 7b of the substrate 7, and the heat radiating body 1, and the second covering layer 4a and the second covering layer 4b Between the second covering layer 4 a and the heat radiating body 1, and between the second main surface 7 d and the second end surface 7 b of the substrate 7 and the heat radiating body 1. Thereby, the 2nd connection member 8 can reduce possibility that the board | substrate 7 will shift | deviate to the 2nd direction D2 while connecting the board | substrate 7 and the thermal radiation body 1. FIG.

このように、第1接続部材6および第2接続部材8により基板7と放熱体1とを接続する場合に、第2被覆層4が第2方向D2に複数設けられており、第1被覆層2と第2被覆層4bとの間、および第2被覆層4bと第2被覆層4aとの間に、第1接続部材6または第2接続部材8が配置されることにより、さらに第2方向D2において基板7にずれが生じる可能性を低減することができる。   Thus, when the board | substrate 7 and the heat radiator 1 are connected by the 1st connection member 6 and the 2nd connection member 8, the 2nd coating layer 4 is provided with two or more by the 2nd direction D2, The 1st coating layer 2 and the second coating layer 4b, and between the second coating layer 4b and the second coating layer 4a, the first connecting member 6 or the second connecting member 8 is further arranged in the second direction. It is possible to reduce the possibility that the substrate 7 is displaced at D2.

なお、第2被覆層4aと第2被覆層4bとが互いに平行に、第3方向D3に延在して設けられた例を示したが、第2被覆層4aと第2被覆層4bとが互いに傾斜して設けられていてもよい。例えば、第2被覆層4aと第2被覆層4bとが互いに傾斜して設けられることで、第1端面7aに対して少なくとも一方が傾斜する構成となり、第2被覆層4aまたは第2被覆層4bが、第3方向D3において楔として機能することとなる。それにより、第3方向D3において、基板7にずれが生じる可能性を低減することができ、第2方向D2および第3方向D3において、基板7にずれが生じる可能性を低減することができる。   In addition, although the example in which the second coating layer 4a and the second coating layer 4b are provided to extend in the third direction D3 in parallel with each other is shown, the second coating layer 4a and the second coating layer 4b are provided. They may be provided inclined with respect to each other. For example, when the second coating layer 4a and the second coating layer 4b are provided to be inclined with respect to each other, at least one of them is inclined with respect to the first end surface 7a, and the second coating layer 4a or the second coating layer 4b is formed. However, it functions as a wedge in the third direction D3. Thereby, the possibility that the substrate 7 is displaced in the third direction D3 can be reduced, and the possibility that the substrate 7 is displaced in the second direction D2 and the third direction D3 can be reduced.

図7(c)を用いてサーマルヘッドX2の変形例について説明する。サーマルヘッドX2´は、第1接続部材6´が、第2方向D2の端部において、上面が切り欠かれた形状となっている。そのため、第1接続部材6´は、上面が第1被覆層2に接続されており、平面視して、第1接続部材6´の一部が第1被覆層2よりも突出する構成となる。そして、突出した第1接続部材6´上には第2接続部材8が入り込む構成となる。   A modified example of the thermal head X2 will be described with reference to FIG. The thermal head X2 ′ has a shape in which the upper surface of the first connecting member 6 ′ is cut off at the end in the second direction D2. Therefore, the upper surface of the first connection member 6 ′ is connected to the first coating layer 2, and a part of the first connection member 6 ′ protrudes from the first coating layer 2 in plan view. . Then, the second connection member 8 enters the protruding first connection member 6 ′.

そのため、第2接続部材8は、基板7の第2主面7dおよび第2端面7bと放熱体1との間に配置されるとともに、第1被覆層2と第2被覆層4bとの間、および第2被覆層4bと第2被覆層4aとの間に配置されることとなる。   Therefore, the second connection member 8 is disposed between the second main surface 7d and the second end surface 7b of the substrate 7 and the radiator 1, and between the first coating layer 2 and the second coating layer 4b. And it will be arrange | positioned between the 2nd coating layer 4b and the 2nd coating layer 4a.

このような構成とすることで、例えば、第2接続部材8を第1接続部材6´よりも流動性の高い材料により形成させた場合、基板7と放熱体1との接続を容易に行うことができる。特に、第1接続部材6´を両面テープにより形成し、第2接続部材8を第1接続部材6´よりも流動性の高いエポキシ樹脂等により形成することでサーマルヘッドX2´の製造を簡単なものとすることができる。   By adopting such a configuration, for example, when the second connecting member 8 is formed of a material having higher fluidity than the first connecting member 6 ′, the connection between the substrate 7 and the radiator 1 can be easily performed. Can do. In particular, the first connecting member 6 ′ is formed of double-sided tape, and the second connecting member 8 is formed of an epoxy resin having a higher fluidity than the first connecting member 6 ′, thereby simplifying the manufacture of the thermal head X2 ′. Can be.

さらに、図7(c)に示すように、突出した第1接続部材6´の一部は、斜面が下に突出した凸形状をしているため、第2接続部材8を導くガイドの機能を有しており、第1被覆層2と第2被覆層4との間に効率よく流動させることができる。   Further, as shown in FIG. 7 (c), a part of the protruding first connecting member 6 ′ has a convex shape with a slope protruding downward, so that the function of a guide for guiding the second connecting member 8 is provided. And can efficiently flow between the first coating layer 2 and the second coating layer 4.

<第3の実施形態>
図8を用いてサーマルヘッドX3について説明する。サーマルヘッドX3は、第2被覆層4の構成がサーマルヘッドX2と異なっており、その他の構成はサーマルヘッドX2と共通であり説明を省略する。
<Third Embodiment>
The thermal head X3 will be described with reference to FIG. In the thermal head X3, the configuration of the second coating layer 4 is different from that of the thermal head X2, and other configurations are the same as those of the thermal head X2, and the description thereof is omitted.

図8(a)に示すように、第2被覆層4は、第3方向D3に延在した第2被覆層4aと、第3方向D3に列状に点在した第2被覆層4cとを備えている。第2被覆層4cは、第2被覆層列10を形成している。   As shown in FIG. 8A, the second coating layer 4 includes a second coating layer 4a extending in the third direction D3 and a second coating layer 4c scattered in a row in the third direction D3. I have. The second coating layer 4 c forms a second coating layer sequence 10.

基板7の第2主面7dには、第1被覆層2と、第1被覆層2と第2方向D2に離間して設けられた第2被覆層4cと、第2被覆層4cと第2方向D2に離間して設けられた第2被覆層4aとが設けられている。   On the second main surface 7d of the substrate 7, the first coating layer 2, the second coating layer 4c spaced apart from the first coating layer 2 in the second direction D2, the second coating layer 4c and the second coating layer 2 are provided. And a second covering layer 4a provided in a direction D2 apart from each other.

このように、第2被覆層4cが、第3方向D3に列状に点在していることで、第2被覆層4cの周囲には、第1接続部材6または第2接続部材8が配置されることとなる。それにより、第2被覆層4cと、第1接続部材6または第2接続部材8との接続面積を増加させることができ、基板7と放熱体1との接続強度を向上させることができる。   Thus, the 1st connecting member 6 or the 2nd connecting member 8 is arranged around the 2nd covering layer 4c because the 2nd covering layer 4c is scattered in the shape of a line in the 3rd direction D3. Will be. Thereby, the connection area of the 2nd coating layer 4c and the 1st connection member 6 or the 2nd connection member 8 can be increased, and the connection strength of the board | substrate 7 and the heat radiator 1 can be improved.

また、第2被覆層4cが、第1接続部材6または第2接続部材8に埋設されることにより、楔として機能して第2方向D2および第3方向D3において、基板7にずれが生じる可能性を低減することができる。   Further, since the second coating layer 4c is embedded in the first connection member 6 or the second connection member 8, the substrate 7 functions as a wedge and can be displaced in the second direction D2 and the third direction D3. Can be reduced.

さらにまた、第2被覆層4が、第3方向D3に延在する第2被覆層4aと、第3方向D3に列状に点在する第2被覆層4cにより形成されているため、第2被覆層4aにより第2方向D2における基板7のずれを低減し、第2被覆層4cにより第3方向D3における基板7のずれを低減することができる。そのため、第2方向D2においては、第2被覆層4aにより強固に固定することができ、第3方向D3においては、第2被覆層4cにより固定するとともに、基板7と放熱体1との間に設けられる第2接続部材8の量が少なくなることを低減することができる。それにより、基板7と放熱体1との接続を強固なものに
することができる。
Furthermore, the second coating layer 4 is formed by the second coating layer 4a extending in the third direction D3 and the second coating layer 4c scattered in a row in the third direction D3, so that the second The displacement of the substrate 7 in the second direction D2 can be reduced by the coating layer 4a, and the displacement of the substrate 7 in the third direction D3 can be reduced by the second coating layer 4c. Therefore, in the second direction D2, it can be firmly fixed by the second coating layer 4a, and in the third direction D3, it is fixed by the second coating layer 4c, and between the substrate 7 and the radiator 1. It can reduce that the quantity of the 2nd connection member 8 provided decreases. Thereby, the connection between the substrate 7 and the radiator 1 can be strengthened.

なお、第2被覆層4が、第3方向D3に延在する第2被覆層4aと、第3方向D3に列状に点在する第2被覆層4cにより形成された例を示したが、図8(c)に示すように、第3方向D3に列状に点在する第2被覆層4c,第2被覆層4c´により形成してもよい。この場合においても、第2被覆層4c,第2被覆層4c´の周囲に配置された第2接続部材8と、第2被覆層4c,第2被覆層4c´との接触面積を増加させることができ、第2方向D2および第3方向D3において、基板7にずれが生じる可能性を低減することができる。   In addition, although the 2nd coating layer 4 showed the example formed by the 2nd coating layer 4a extended in the 3rd direction D3 and the 2nd coating layer 4c dotted in the 3rd direction D3, As shown in FIG. 8C, the second coating layer 4c and the second coating layer 4c ′ may be formed in a row in the third direction D3. Even in this case, the contact area between the second coating member 4 disposed around the second coating layer 4c and the second coating layer 4c ′ and the second coating layer 4c and the second coating layer 4c ′ is increased. The possibility that the substrate 7 is displaced in the second direction D2 and the third direction D3 can be reduced.

さらに、第2被覆層4cと、第2被覆層4c´とが、第3方向D3において、互いにずれるように配置されることが好ましい。このような構成とすることで、第2方向D2において、基板7と放熱体1との間に、第2接続部材8が少なく設けられる領域が生じることを低減することができる。   Furthermore, it is preferable that the second coating layer 4c and the second coating layer 4c ′ are arranged so as to be shifted from each other in the third direction D3. By setting it as such a structure, it can reduce that the area | region where few 2nd connection members 8 are provided between the board | substrate 7 and the thermal radiation body 1 in the 2nd direction D2.

<第4の実施形態>
図9を用いてサーマルヘッドX4について説明する。サーマルヘッドX4は、第2被覆層4に穴部12が設けられている点でサーマルヘッドX1と構成が異なりその他の点は共通のため説明を省略する。
<Fourth Embodiment>
The thermal head X4 will be described with reference to FIG. The thermal head X4 is different in configuration from the thermal head X1 in that the hole 12 is provided in the second coating layer 4, and the other points are the same, so that the description thereof is omitted.

第2被覆層4は、第2主面7d上に設けられており、第2方向D2において、第1被覆層2と離間した状態で設けられている。第2被覆層4は、穴部12が第3方向D3に複数設けられている。   The second coating layer 4 is provided on the second main surface 7d, and is provided in a state of being separated from the first coating layer 2 in the second direction D2. The second coating layer 4 has a plurality of holes 12 in the third direction D3.

穴部12は、第2被覆層4を貫通するように設けられていてもよく、第2被覆層4の一部が削られたように設けてもよい。なお、穴部12が、平面視して、円形状の例を示したが、矩形状あるいは多角形状でもよいし、楕円形状でもよい。   The hole 12 may be provided so as to penetrate the second coating layer 4, or may be provided such that a part of the second coating layer 4 is cut off. In addition, although the hole part 12 showed planar view and the example of circular shape was shown, rectangular shape, polygonal shape, and elliptical shape may be sufficient.

サーマルヘッドX4は、第2被覆層4に穴部12が設けられており、穴部12の内部に第2接続部材8が配置されている。そのため、穴部12の内部に配置された第2接続部材8が、楔として機能することにより、第2方向D2において、基板7がずれる可能性を低減することができる。   In the thermal head X <b> 4, the hole 12 is provided in the second coating layer 4, and the second connection member 8 is disposed inside the hole 12. Therefore, the 2nd connection member 8 arrange | positioned inside the hole part 12 functions as a wedge, and can reduce possibility that the board | substrate 7 will shift | deviate in the 2nd direction D2.

また、第2被覆層4に穴部12が設けられることから、図9(b)に示すように、ある位置では第2被覆層4が2つに分割されるような構成となる。そのため、分割された第2被覆層4が、それぞれ楔として機能して、第2方向D2において、基板7がずれる可能性を低減することができる。   Moreover, since the hole 12 is provided in the 2nd coating layer 4, as shown in FIG.9 (b), it becomes a structure that the 2nd coating layer 4 is divided | segmented into two in a certain position. Therefore, the divided second coating layers 4 function as wedges, respectively, and can reduce the possibility that the substrate 7 is displaced in the second direction D2.

なお、図9(c)に示したように、第2被覆層4に設けられる穴部12は1つでもよい。この場合においても、穴部12の内部に第2接続部材8が配置されることにより、第2方向D2において、基板7がずれる可能性を低減することができる。   In addition, as shown in FIG.9 (c), the hole part 12 provided in the 2nd coating layer 4 may be one. Even in this case, the possibility that the substrate 7 is displaced in the second direction D2 can be reduced by disposing the second connection member 8 inside the hole 12.

<第5の実施形態>
図10を用いてサーマルヘッドX5について説明する。サーマルヘッドX5は第2被覆層4が、突出部14と、突出部14に設けられた幅広部16とを有する点でサーマルヘッドX1と構成が異なり、その他の点は共通であるため説明を省略する。
<Fifth Embodiment>
The thermal head X5 will be described with reference to FIG. The configuration of the thermal head X5 is different from that of the thermal head X1 in that the second coating layer 4 has the protruding portion 14 and the wide portion 16 provided on the protruding portion 14, and the other points are the same, and the description thereof is omitted. To do.

第2被覆層4は、第3方向D3に沿って延びる第2被覆層4aと、平面視して、第2被覆層4aから第2方向D2に向けて突出する突出部14を、第3方向D3に複数備えている。それぞれの突出部14は、平面視して、同形状をなしている。   The second coating layer 4 includes a second coating layer 4a extending along the third direction D3, and a projecting portion 14 projecting from the second coating layer 4a in the second direction D2 in the third direction in plan view. A plurality of D3 are provided. Each protrusion 14 has the same shape in plan view.

突出部14は、第3方向D3に幅の広い幅広部16を1つ有している。幅広部16の第3方向D3における幅W2は、幅広部16を除いた突出部14の第3方向D3における幅W1よりも長くなっている。そのため、突出部14は、平面視して略Tの字形状となっている。   The protrusion 14 has one wide portion 16 having a large width in the third direction D3. A width W2 of the wide portion 16 in the third direction D3 is longer than a width W1 of the protruding portion 14 excluding the wide portion 16 in the third direction D3. Therefore, the protrusion 14 has a substantially T-shape in plan view.

このように、突出部14は、平面視して略Tの字状となっているため、基板7と放熱体1とが、第1接続部材6および第2接続部材8により接続される際に、突出部14が、第1接続部材6または第2接続部材8に埋設されることとなる。第1接続部材6または第2接続部材8に埋設された突出部14は、幅広部16の突出部14よりも幅の広い部分が楔として機能することにより、第2方向D2において、基板7にずれが生じる可能性を低減することができる。   Thus, since the protrusion part 14 is substantially T-shaped in plan view, when the substrate 7 and the radiator 1 are connected by the first connection member 6 and the second connection member 8. The protruding portion 14 is embedded in the first connecting member 6 or the second connecting member 8. The protruding portion 14 embedded in the first connecting member 6 or the second connecting member 8 has a portion wider than the protruding portion 14 of the wide portion 16 functions as a wedge. It is possible to reduce the possibility of deviation.

なお、図10(c)に示すように、突出部14に幅広部16を設けない構成としてもよい。その場合においても、第2被覆層4が、第3方向D3に沿って延びる第2被覆層4aを有することから、第2方向D2において、基板7にずれが生じる可能性を低減することができる。また、突出部14が設けられているため、第3方向D3において、基板7にずれが生じる可能性を低減することができる。   In addition, as shown in FIG.10 (c), it is good also as a structure which does not provide the wide part 16 in the protrusion part 14. As shown in FIG. Even in this case, since the second coating layer 4 includes the second coating layer 4a extending along the third direction D3, the possibility that the substrate 7 is displaced in the second direction D2 can be reduced. . Moreover, since the protrusion part 14 is provided, possibility that a shift | offset | difference will arise in the board | substrate 7 in the 3rd direction D3 can be reduced.

さらに、第3方向D3における位置によって、突出部14の突出長さを変更してもよい。例えば、図10(c)のように、第3方向D3の両端部に位置する突出部14a,14eの長さを、第3方向D3の中央部に位置する突出部14b,14c,14dの長さよりも長くすることで、応力の生じやすい第3方向D3の両端部においても、基板7にずれが生じる可能性を低減することができる。なお、第3方向D3において、両端部から中央部にかけて突出部14a〜14eの長さが漸次短くなる構成としてもよい。   Furthermore, you may change the protrusion length of the protrusion part 14 with the position in the 3rd direction D3. For example, as shown in FIG. 10C, the lengths of the protrusions 14a and 14e located at both ends in the third direction D3 are set to the lengths of the protrusions 14b, 14c and 14d located in the center of the third direction D3. By making the length longer than this, it is possible to reduce the possibility that the substrate 7 is displaced at both ends in the third direction D3 where stress is likely to occur. In addition, in the 3rd direction D3, it is good also as a structure which the length of protrusion part 14a-14e becomes short gradually from both ends to a center part.

<第6の実施形態>
図11,12を用いてサーマルヘッドX6について説明する。サーマルヘッドX6は、放熱体1の構成がサーマルヘッドX1と異なりその他の点は共通であり説明を省略する。
<Sixth Embodiment>
The thermal head X6 will be described with reference to FIGS. The thermal head X6 is different from the thermal head X1 in the configuration of the radiator 1, and the other points are common and will not be described.

図12(a)で示すように、放熱体1は、台部1a上に設けられた突起部1bと、突起部1bから離間して設けられた突出部1cとを備えている。突出部1cは、図11(b)に示すように、第3方向D3に沿って延在して設けられている。そして、突出部1cの突出高さは、突起部1bの突出高さよりも低くなっている。なお、基板7の第2被覆層4も同様に第3方向D3に延在して設けられている。そして、基板7の第2被覆層4と、放熱体1の突出部1cとが、重畳するように、放熱体1上に基板7が載置されている。   As shown in FIG. 12 (a), the radiator 1 includes a protrusion 1b provided on the base 1a and a protrusion 1c provided apart from the protrusion 1b. As shown in FIG. 11B, the protruding portion 1c is provided to extend along the third direction D3. And the protrusion height of the protrusion part 1c is lower than the protrusion height of the protrusion part 1b. Similarly, the second covering layer 4 of the substrate 7 is provided extending in the third direction D3. And the board | substrate 7 is mounted on the heat radiator 1 so that the 2nd coating layer 4 of the board | substrate 7 and the protrusion part 1c of the heat radiator 1 may overlap.

図12(b)で示すように、放熱体1の突出部1cの先端は、第2被覆層4の内部に埋設されている。そのため、サーマルヘッドX6は、放熱体1の突出部1cが、第2被覆層4に食い込み、基板7と放熱体1との第2方向D2および第3方向D3における接続強度を向上させることができる。   As shown in FIG. 12B, the tip of the protrusion 1 c of the heat radiating body 1 is embedded in the second coating layer 4. Therefore, in the thermal head X6, the protruding portion 1c of the heat radiating body 1 bites into the second covering layer 4, and the connection strength between the substrate 7 and the heat radiating body 1 in the second direction D2 and the third direction D3 can be improved. .

なお、放熱体1の突出部1cの突出高さは、第3方向D3において一定でなくてもよく、例えば、第3方向D3の中央部において最も高い構成としてもよい。また、放熱体1の突出部1cが設けられた領域の上方に第2被覆層4が設けられておればよく、放熱体1の突出部1cが第3方向D3に連続的に設けられていなくてもよい。例えば、第3方向D3の中央部のみに放熱体1の突出部1cを設けることで、記録媒体から最も押圧力を受ける第3方向D3の中央部において、基板7のずれが生じる可能性を低減することができる。   In addition, the protrusion height of the protrusion part 1c of the heat radiator 1 may not be constant in the third direction D3. For example, the protrusion height may be the highest in the center part in the third direction D3. Moreover, the 2nd coating layer 4 should just be provided above the area | region in which the protrusion part 1c of the heat radiator 1 was provided, and the protrusion part 1c of the heat radiator 1 is not continuously provided in the 3rd direction D3. May be. For example, by providing the protrusion 1c of the heat radiating body 1 only at the central portion in the third direction D3, the possibility that the substrate 7 is displaced at the central portion in the third direction D3 that receives the most pressing force from the recording medium is reduced. can do.

<第7の実施形態>
図13を用いてサーマルヘッドX7について説明する。サーマルヘッドX7は、放熱体1の構成がサーマルヘッドX6とは異なり、その他の点はサーマルヘッドX6と同様であり説明を省略する。
<Seventh Embodiment>
The thermal head X7 will be described with reference to FIG. The thermal head X7 is different from the thermal head X6 in the configuration of the heat radiating body 1, and the other points are the same as the thermal head X6, and the description thereof is omitted.

放熱体1は、台部1aと、台部1aから突出した突起部1bと、第3方向D3の中央部に台部1aおよび突起部1bに設けられた貫通孔1dが設けられている。そして、貫通孔1dの縁には突出部1cが設けられている。   The radiator 1 is provided with a base 1a, a protrusion 1b protruding from the base 1a, and a through hole 1d provided in the base 1a and the protrusion 1b at the center in the third direction D3. And the protrusion part 1c is provided in the edge of the through-hole 1d.

放熱体1の貫通孔1dは、第2接続部材8を挿入するために設けられており、貫通孔1dから挿入された第2接続部材8は、第3方向D3の中央部から両端部に広がるように設けられている。なお、第3方向D3の中央部にのみ第2接続部材8を設けてもよい。   The through hole 1d of the heat radiating body 1 is provided for inserting the second connection member 8, and the second connection member 8 inserted from the through hole 1d spreads from the central part in the third direction D3 to both ends. It is provided as follows. In addition, you may provide the 2nd connection member 8 only in the center part of the 3rd direction D3.

サーマルヘッドX7は、図13(b)に示すように、貫通孔1dから挿入された第2接続部材8が、基板7の第2主面7dと放熱体1との間、第2被覆層4と放熱体1との間、基板7の第2端面7bとの間、および貫通孔1dの内部に設けられている。そして、第2被覆層4には、放熱体1の突起部1cの先端が埋設している。   In the thermal head X7, as shown in FIG. 13B, the second connecting member 8 inserted from the through hole 1d is disposed between the second main surface 7d of the substrate 7 and the radiator 1, and the second coating layer 4 is provided. And the radiator 1, the second end surface 7 b of the substrate 7, and the inside of the through hole 1 d. And in the 2nd coating layer 4, the front-end | tip of the projection part 1c of the heat radiator 1 is embed | buried.

このような構成のため、サーマルヘッドX7は、第2方向D2において基板7にずれが生じる可能性を低減することができるとともに、第3方向D3においても基板7にずれが生じる可能性を低減することができる。また、貫通孔1dが設けられているため、基板7と放熱体1とを第1接続部材6により固定した後に、基板7と放熱体1とを第2接続部材8により強固に固定することができるため、サーマルヘッドX7を簡単に製造することができる。   Due to such a configuration, the thermal head X7 can reduce the possibility that the substrate 7 is displaced in the second direction D2, and also reduces the possibility that the substrate 7 is displaced also in the third direction D3. be able to. In addition, since the through hole 1d is provided, the substrate 7 and the radiator 1 can be firmly fixed by the second connecting member 8 after the substrate 7 and the radiator 1 are fixed by the first connecting member 6. Therefore, the thermal head X7 can be easily manufactured.

また、放熱体1に貫通孔1dを設けると、貫通孔1dの縁にバリなどが生じる可能性があるが、貫通孔1dの縁の上方に第2被覆層4を設けることにより、バリが突出部1cとして機能し、第2被覆層4に埋設することができ、第2方向D2および第3方向D3において、基板7にずれが生じる可能性を低減することができる。そのため、貫通孔1dの縁は、第2被覆層4の下方に位置することが好ましい。   Further, when the through hole 1d is provided in the heat radiating body 1, there is a possibility that a burr or the like is generated at the edge of the through hole 1d, but the burr protrudes by providing the second coating layer 4 above the edge of the through hole 1d. It functions as the portion 1c and can be embedded in the second covering layer 4, and the possibility that the substrate 7 is displaced in the second direction D2 and the third direction D3 can be reduced. Therefore, the edge of the through hole 1d is preferably located below the second coating layer 4.

以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。例えば、第1の実施形態であるサーマルヘッドX1を用いたサーマルプリンタZを示したが、これに限定されるものではなく、サーマルヘッドX2〜X7をサーマルプリンタZに用いてもよい。また、サーマルヘッドX1〜X7を適宜に組み合わせてもよい。   As mentioned above, although one Embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said embodiment, A various change is possible unless it deviates from the meaning. For example, although the thermal printer Z using the thermal head X1 according to the first embodiment is shown, the present invention is not limited to this, and the thermal heads X2 to X7 may be used for the thermal printer Z. Further, the thermal heads X1 to X7 may be appropriately combined.

サーマルヘッドX1では、共通電極17は、基板7の第1端面7a上から、基板7の第2主面7d上、および基板7の第2端面7b上を介して、基板7の上面上にわたって延びているが、これに限定されるものではない。例えば、共通電極17を基板7の第1端面7aおよび第2主面7d上にのみ形成してもよい。この場合、基板7の第2主面7d上に形成された共通電極17とFPC5のプリント配線5bとを、別途設けたジャンパー線(不図示)によって接続すればよい。なお、第2主面7dに形成された共通電極17上に導電層を設けて、ジャンパー線と共通電極17とを接続してもよい。   In the thermal head X1, the common electrode 17 extends from the first end surface 7a of the substrate 7 over the upper surface of the substrate 7 via the second main surface 7d of the substrate 7 and the second end surface 7b of the substrate 7. However, it is not limited to this. For example, the common electrode 17 may be formed only on the first end surface 7 a and the second main surface 7 d of the substrate 7. In this case, the common electrode 17 formed on the second main surface 7d of the substrate 7 and the printed wiring 5b of the FPC 5 may be connected by a separately provided jumper line (not shown). In addition, a conductive layer may be provided on the common electrode 17 formed on the second main surface 7d, and the jumper line and the common electrode 17 may be connected.

また、サーマルヘッドX1では、FPC5を介してヘッド基体3の基板7上に設けられた共通電極17およびIC−FPC接続電極21を外部の電源装置および制御装置等に電気的に接続しているが、これに限定されるものではない。例えば、FPC5のように可撓性を有するフレキシブルプリント配線板ではなく、硬質のプリント配線板を介してヘッド基体3の各種配線を外部の電源装置等に電気的に接続してもよい。この場合、例えば、ヘッド基体3の共通電極17およびIC−FPC接続電極21とプリント配線板のプリント
配線とをワイヤーボンディング、ACF接続あるいは半田接続等によって接続すればよい。
In the thermal head X1, the common electrode 17 and the IC-FPC connection electrode 21 provided on the substrate 7 of the head base 3 are electrically connected to an external power supply device, a control device, and the like via the FPC 5. However, the present invention is not limited to this. For example, instead of a flexible printed wiring board having flexibility like the FPC 5, various wirings of the head base 3 may be electrically connected to an external power supply device or the like via a hard printed wiring board. In this case, for example, the common electrode 17 and the IC-FPC connection electrode 21 of the head substrate 3 and the printed wiring of the printed wiring board may be connected by wire bonding, ACF connection, solder connection, or the like.

また、サーマルヘッドX1では、図4,5に示されるように、電気抵抗層15が、蓄熱層13上のみならず、基板7の第1主面7cおよび第2主面7d上にも設けられているが、基板7の第1端面7a上のリード部17cと個別電極層19とに接続されている限り、これに限定されるものではない。例えば、蓄熱層13上にのみ設けられていてもよい。また、基板7の第1端面7a上の共通電極17および個別電極19を蓄熱層13上に直接形成し、蓄熱層13上の共通電極17の先端部と個別電極19の先端部との間の領域にのみ電気抵抗層15が設けられていてもよい。   In the thermal head X1, as shown in FIGS. 4 and 5, the electric resistance layer 15 is provided not only on the heat storage layer 13 but also on the first main surface 7c and the second main surface 7d of the substrate 7. However, as long as it is connected to the lead portion 17 c on the first end surface 7 a of the substrate 7 and the individual electrode layer 19, it is not limited to this. For example, it may be provided only on the heat storage layer 13. Further, the common electrode 17 and the individual electrode 19 on the first end surface 7 a of the substrate 7 are formed directly on the heat storage layer 13, and between the tip of the common electrode 17 on the heat storage layer 13 and the tip of the individual electrode 19. The electric resistance layer 15 may be provided only in the region.

また、図14に示すように、共通電極17の代わりに、隣接する2つの発熱部9ごとに発熱部9を接続する発熱部接続配線18によって、複数の発熱部9を接続してもよい。この場合、詳細な説明は省略するが、発熱部接続配線18に接続された隣接する2つの発熱部9に接続された2本の個別電極19の間に電圧が印加されるように、駆動ICあるいは各種配線の構成を変更することで、発熱部9を発熱させることができる。   As shown in FIG. 14, instead of the common electrode 17, a plurality of heat generating portions 9 may be connected by heat generating portion connection wiring 18 that connects the heat generating portions 9 for every two adjacent heat generating portions 9. In this case, although a detailed description is omitted, the drive IC is configured such that a voltage is applied between the two individual electrodes 19 connected to the two adjacent heat generating portions 9 connected to the heat generating portion connecting wiring 18. Or the heat generating part 9 can be made to generate heat by changing the configuration of various wirings.

さらにまた、発熱部9が基板7の第1端面7aに設けられた例を示したがこれに限定されるものではない。例えば、発熱部9が、第1主面7cに設けられた平面ヘッドにおいても、本発明を適用することができる。   Furthermore, although the example in which the heat generating portion 9 is provided on the first end surface 7a of the substrate 7 has been shown, the present invention is not limited to this. For example, the present invention can be applied to a flat head in which the heat generating portion 9 is provided on the first main surface 7c.

X1〜X7 サーマルヘッド
1 放熱体
1a 台部
1b 突起部
1c 突出部
1d 貫通孔
2 第1被覆層
3 ヘッド基体
4 第2被覆層
5 フレキシブルプリント配線板
6 第1接続部材
7 基板
7a 第1端面
7b 第2端面
7c 第1主面
7d 第2主面
8 第2接続部材
9 発熱部
10 第2被覆層列
11 駆動IC
12 穴部
13 蓄熱層
14 突出部
16 幅広部
17 共通電極
19 個別電極
21 IC−FPC接続電極
25 保護層
27 絶縁層
X1 to X7 Thermal head 1 Radiator 1a Base 1b Protrusion 1c Protrusion 1d Through hole 2 First covering layer 3 Head base 4 Second covering layer 5 Flexible printed wiring board 6 First connecting member 7 Substrate 7a First end face 7b 2nd end surface 7c 1st main surface 7d 2nd main surface 8 2nd connection member 9 Heat generating part 10 2nd coating layer sequence 11 Drive IC
12 hole part 13 heat storage layer 14 protrusion part 16 wide part 17 common electrode 19 individual electrode 21 IC-FPC connection electrode 25 protective layer 27 insulating layer

Claims (11)

基板と、
該基板上に設けられ、列状に配列された複数の発熱部と、
前記基板上に設けられ、前記発熱部に電気的に接続された電極と、
前記基板が載置される放熱体と、
前記基板と前記放熱体とを接続する接続部材と、を備え、
前記基板の前記放熱体と対向する第1面に、前記電極の一部を被覆する第1被覆層と、該第1被覆層と離間した第2被覆層が設けられており、
前記第1被覆層と前記第2被覆層との間に前記接続部材が配置されていることを特徴とするサーマルヘッド。
A substrate,
A plurality of heating portions provided on the substrate and arranged in a row;
An electrode provided on the substrate and electrically connected to the heat generating portion;
A radiator on which the substrate is placed;
A connecting member for connecting the substrate and the radiator,
A first coating layer that covers a part of the electrode and a second coating layer that is spaced apart from the first coating layer are provided on a first surface of the substrate that faces the radiator.
A thermal head, wherein the connection member is disposed between the first coating layer and the second coating layer.
前記第2被覆層は、前記発熱部の配列方向に延在している、請求項1に記載のサーマルヘッド。   The thermal head according to claim 1, wherein the second coating layer extends in an arrangement direction of the heat generating portions. 前記第2被覆層は、前記発熱部の配列方向に交差する方向に複数設けられている、請求項2に記載のサーマルヘッド。   The thermal head according to claim 2, wherein a plurality of the second coating layers are provided in a direction intersecting with the arrangement direction of the heat generating portions. 前記第2被覆層は、前記発熱部の配列方向に列状に点在している、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のサーマルヘッド。   4. The thermal head according to claim 1, wherein the second coating layers are scattered in a row in the arrangement direction of the heat generating portions. 5. 前記第2被覆層は、穴部が設けられており、該穴部に前記接続部材が配置されている、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のサーマルヘッド。   The thermal head according to any one of claims 1 to 4, wherein the second coating layer is provided with a hole, and the connection member is disposed in the hole. 前記穴部が、前記発熱部の配列方向に複数設けられている、請求項5に記載のサーマルヘッド。   The thermal head according to claim 5, wherein a plurality of the hole portions are provided in the arrangement direction of the heat generating portions. 前記第2被覆層は、平面視して、前記発熱部の配列方向に交差する方向に突出する複数の突出部を備える、請求項1乃至6のいずれか1項に記載のサーマルヘッド。   7. The thermal head according to claim 1, wherein the second coating layer includes a plurality of projecting portions that project in a direction intersecting with the arrangement direction of the heat generating portions when seen in a plan view. 前記第2被覆層は、前記突出部に幅広部が設けられており、該幅広部の前記発熱部の配列方向における長さが、前記幅広部を除いた前記突出部の前記発熱部の配列方向における長さよりも長い、請求項7に記載のサーマルヘッド。   The second covering layer is provided with a wide portion at the protruding portion, and the length of the wide portion in the arrangement direction of the heat generating portions is the arrangement direction of the heat generating portions of the protruding portions excluding the wide portion. The thermal head according to claim 7, wherein the thermal head is longer than 前記放熱体は、前記第2被覆層が配置される領域に、前記基板へ向けて突出した突出部が設けられており、該突出部が前記第2被覆層に埋設している、請求項1乃至8のいずれか1項に記載のサーマルヘッド。   The heat dissipation body is provided with a protruding portion protruding toward the substrate in a region where the second covering layer is disposed, and the protruding portion is embedded in the second covering layer. The thermal head according to any one of 1 to 8. 前記放熱体は、前記接続部材が挿入される貫通孔が設けられており、前記貫通孔の縁上に前記第2被覆層が設けられている、請求項1乃至9のいずれか1項に記載のサーマルヘッド。   The heat radiator is provided with a through hole into which the connection member is inserted, and the second covering layer is provided on an edge of the through hole. Thermal head. 請求項1乃至10のいずれか1項に記載のサーマルヘッドと、前記発熱部上に記録媒体を搬送する搬送機構と、前記発熱部上に前記記録媒体を押圧するプラテンローラとを備えることを特徴とするサーマルプリンタ。   11. The thermal head according to claim 1, a transport mechanism that transports a recording medium onto the heat generating portion, and a platen roller that presses the recording medium onto the heat generating portion. A thermal printer.
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