JP2012071467A - Thermal head and thermal printer including the same - Google Patents

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洋一 元
Takahiro Shimozono
貴広 下園
Hidenobu Nakagawa
秀信 中川
Kohei Nakata
晃平 中田
Masafumi Hirayama
雅文 平山
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermal head which can easily adjust the amount of the warpage of a substrate, and a thermal printer including the same.SOLUTION: The thermal head X includes: a head base body 3 having a substrate 7 and a plurality of heat generating parts 9 disposed on the substrate 7; a radiator 1 having a first surface on which the substrate 7 is arranged, a groove 1b which is formed on the first surface along the arrangement direction of the heating parts 9, and a through-hole 1c which is opened on the first surface; a joining layer 33 interposed between the substrate 7 and the first surface of the radiator 1 and joining the substrate 7 and the radiator 1; and an adhesive 35 arranged in the groove 1c of the radiator 1, interposed between the substrate 7 and the groove 1c of the radiator 1, and attaching and fixing the substrate 7 and the radiator 1. The joining layer 33 has a guide 33a for guiding the adhesive 35 to the groove 1b from the through-hole 1c of the radiator 1.

Description

本発明は、サーマルヘッドおよびこれを備えるサーマルプリンタに関する。   The present invention relates to a thermal head and a thermal printer including the same.

従来、ファクシミリやビデオプリンタ等の印画デバイスとして、種々のサーマルヘッドが提案されている。例えば、特許文献1に記載のサーマルヘッドは、放熱板と、この放熱板上に配置され、上面に複数の発熱抵抗体が配列された基板(ヘッド基板)とを備えている。このサーマルヘッドでは、放熱板の厚み方向に形成された貫通孔に熱硬化性樹脂を充填し、この熱硬化性樹脂によって放熱板と基板とを接着している。また、この貫通孔は、発熱抵抗体の配列方向に沿って放熱板の2箇所に形成されている。   Conventionally, various thermal heads have been proposed as printing devices such as facsimiles and video printers. For example, the thermal head described in Patent Document 1 includes a heat radiating plate and a substrate (head substrate) disposed on the heat radiating plate and having a plurality of heating resistors arranged on the upper surface. In this thermal head, a thermosetting resin is filled in a through hole formed in the thickness direction of the heat radiating plate, and the heat radiating plate and the substrate are bonded by the thermosetting resin. Moreover, this through-hole is formed in two places of a heat sink along the sequence direction of a heating resistor.

特開平8−324015号公報Japanese Patent Laid-Open No. 8-324015

特許文献1に記載のサーマルヘッドのように放熱板と基板とを接着すると、放熱板と基板との熱膨張率の差に起因して、放熱板および基板に反りが生じることがある。この反りの量は、熱硬化性樹脂によって放熱板と基板とが接着される位置に応じて変化する。具体的には、熱硬化性樹脂による放熱板と基板との接着位置の間隔、つまり、放熱板に形成された2つの貫通孔の間隔が大きくなるほど、放熱板および基板の反りの量が大きくなる。   When the heat sink and the substrate are bonded as in the thermal head described in Patent Document 1, the heat sink and the substrate may be warped due to the difference in thermal expansion coefficient between the heat sink and the substrate. The amount of warpage varies depending on the position where the heat sink and the substrate are bonded by the thermosetting resin. Specifically, the amount of warpage of the heat sink and the substrate increases as the interval between the positions where the heat sink and the substrate are bonded by the thermosetting resin, that is, the distance between the two through holes formed in the heat sink increases. .

ここで、通常、サーマルヘッドを用いて記録媒体に印画を行う場合、プラテンローラによって記録媒体を複数の発熱抵抗体上に押圧する。このとき、プラテンローラには撓みが生じるため、記録媒体を発熱抵抗体上に均一に押圧できないことがある。   Here, usually, when printing on a recording medium using a thermal head, the recording medium is pressed onto a plurality of heating resistors by a platen roller. At this time, since the platen roller is bent, the recording medium may not be uniformly pressed onto the heating resistor.

これに対し、特許文献1に記載のサーマルヘッドでは、上記のように基板が反ることを利用し、複数の発熱抵抗体からなる列を凸状に湾曲させて、プラテンローラによる押圧力が均一になるようにすることが考えられる。   On the other hand, in the thermal head described in Patent Document 1, by utilizing the fact that the substrate is warped as described above, the row of the plurality of heating resistors is curved in a convex shape so that the pressing force by the platen roller is uniform. It can be considered to be.

そのため、特許文献1に記載のサーマルヘッドでは、放熱板に形成された2つの貫通孔の間隔を適宜変更することにより、プラテンローラによる押圧力が均一となるように基板の反りの量を調整することが考えられる。   Therefore, in the thermal head described in Patent Document 1, the amount of warpage of the substrate is adjusted so that the pressing force by the platen roller is uniform by appropriately changing the interval between the two through holes formed in the heat radiating plate. It is possible.

しかしながら、特許文献1に記載のサーマルヘッドでは、放熱板の貫通孔の間隔を変更するために、この貫通孔の形成位置を変更する必要があり、設計変更が伴う。そのため、基板の反り量の調整を容易に行うことができないという問題があった。   However, in the thermal head described in Patent Document 1, in order to change the interval between the through holes of the heat radiating plate, it is necessary to change the formation position of the through holes, which involves a design change. For this reason, there is a problem that the amount of warpage of the substrate cannot be easily adjusted.

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、基板の反り量の調整を容易に行うことができるサーマルヘッドおよびこれを備えるサーマルプリンタを提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a thermal head that can easily adjust the amount of warping of a substrate and a thermal printer including the thermal head.

本発明の一実施形態に係るサーマルヘッドは、基板、および該基板上に配列された複数の発熱部を有するヘッド基体と、前記基板が配置される第1の面、前記発熱部の配列方向に沿って前記第1の面に形成された溝、および前記第1の面で開口する貫通孔を有する放
熱体と、前記基板と前記放熱体の前記第1の面との間に介在し、前記基板と前記放熱体とを接合する接合層と、前記放熱体の前記溝内に配置されるとともに、前記基板と前記放熱体の前記溝との間に介在し、前記基板と前記放熱体とを接着して固定する接着剤とを備え、前記接合層は、前記接着剤を前記放熱体の前記貫通孔から前記溝へ案内するための案内部を有することを特徴とする。
A thermal head according to an embodiment of the present invention includes a substrate, a head base having a plurality of heating portions arranged on the substrate, a first surface on which the substrate is arranged, and an arrangement direction of the heating portions. And a heat sink having a groove formed in the first surface along the through-hole opening in the first surface, and interposed between the substrate and the first surface of the heat sink, A bonding layer for bonding the substrate and the heat dissipating member, and being disposed in the groove of the heat dissipating member, interposed between the substrate and the groove of the heat dissipating member, and the substrate and the heat dissipating member. And an adhesive for bonding and fixing, wherein the bonding layer has a guide portion for guiding the adhesive from the through hole of the heat radiating body to the groove.

また、本発明の一実施形態に係る上記サーマルヘッドにおいて、前記案内部は、前記接合層に形成された切欠きによって形成されていてもよい。また、前記接合層は、両面テープによって形成されていてもよい。また、前記接着剤は、熱硬化性を有していてもよい。   In the thermal head according to an embodiment of the present invention, the guide portion may be formed by a notch formed in the bonding layer. The bonding layer may be formed of a double-sided tape. The adhesive may have thermosetting properties.

また、本発明の一実施形態に係る上記サーマルヘッドにおいて、前記接合層は、前記案内部を2つ有しており、該案内部が、前記複数の発熱部からなる列の中央に対して線対称に形成されていてもよい。   In the thermal head according to an embodiment of the present invention, the bonding layer includes two guide portions, and the guide portions are linear with respect to the center of the row including the plurality of heat generating portions. It may be formed symmetrically.

また、本発明の一実施形態に係る上記サーマルヘッドでは、前記放熱体の前記第1の面と前記貫通孔の内面とによって形成される角が面取りされていてもよい。   In the thermal head according to an embodiment of the present invention, the corner formed by the first surface of the heat radiating body and the inner surface of the through hole may be chamfered.

本発明の一実施形態に係るサーマルプリンタは、本発明の一実施形態に係る上記サーマルヘッドと、前記発熱部上に記録媒体を搬送する搬送機構と、前記発熱部上に記録媒体を押圧するプラテンローラとを備えることを特徴とする。   A thermal printer according to an embodiment of the present invention includes the thermal head according to an embodiment of the present invention, a transport mechanism that transports a recording medium onto the heat generating portion, and a platen that presses the recording medium onto the heat generating portion. And a roller.

本発明によれば、基板の反り量の調整を容易に行うことができるサーマルヘッドおよびこれを備えるサーマルプリンタを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the thermal head which can adjust the curvature amount of a board | substrate easily, and a thermal printer provided with the same can be provided.

本発明のサーマルヘッドの一実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows one Embodiment of the thermal head of this invention. 図1のサーマルヘッドのII−II線断面図である。It is the II-II sectional view taken on the line of the thermal head of FIG. 図1のサーマルヘッドにおいて、ヘッド基体、FPC、補強板および接着剤の図示を省略したものである。In the thermal head of FIG. 1, the head substrate, the FPC, the reinforcing plate, and the adhesive are not shown. 図2のサーマルヘッドにおいて、接着剤を図示したものである。FIG. 3 illustrates an adhesive in the thermal head of FIG. 2. 図3のサーマルヘッドにおいて、接着剤を図示したものである。FIG. 4 illustrates an adhesive in the thermal head of FIG. 3. 図4のサーマルヘッドのVI−VI線断面図であり、放熱体、基板、接合層および接着剤のみを図示したものである。FIG. 6 is a cross-sectional view of the thermal head of FIG. 4 taken along the line VI-VI, and shows only the heat radiator, the substrate, the bonding layer, and the adhesive. 本発明のサーマルプリンタの一実施形態の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of one Embodiment of the thermal printer of this invention. 図2に示す放熱体の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the heat radiator shown in FIG. 図3に示す接合層の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of the joining layer shown in FIG. 図3に示す接合層の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of the joining layer shown in FIG.

以下、本発明のサーマルヘッドの一実施形態について、図面を参照しつつ説明する。図1および図2に示すように、本実施形態のサーマルヘッドXは、放熱体1と、放熱体1上に配置されたヘッド基体3と、ヘッド基体3に接続されたフレキシブルプリント配線板5(以下、FPC5という)とを備えている。なお、図1では、FPC5および後述する補強板39の図示を省略し、FPC5が配置される領域を二点鎖線で示す。図2では、後述する接着剤35の図示を省略している。   Hereinafter, an embodiment of a thermal head of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 and 2, the thermal head X of the present embodiment includes a radiator 1, a head substrate 3 disposed on the radiator 1, and a flexible printed wiring board 5 ( Hereinafter referred to as FPC5). In FIG. 1, illustration of the FPC 5 and a reinforcing plate 39 described later is omitted, and a region where the FPC 5 is disposed is indicated by a two-dot chain line. In FIG. 2, illustration of the adhesive 35 described later is omitted.

ヘッド基体3は、平面視で長方形状の基板7と、基板7上に設けられ、基板7の長手方向に沿って配列された複数(図示例では24個)の発熱部9と、発熱部9の配列方向に沿って基板7上に並べて配置された複数(図示例では3個)の駆動IC11とを備えている
The head base 3 has a rectangular substrate 7 in plan view, a plurality of (24 in the illustrated example) heating units 9 provided on the substrate 7 and arranged along the longitudinal direction of the substrate 7, and the heating unit 9. And a plurality (three in the illustrated example) of driving ICs 11 arranged side by side on the substrate 7 along the arrangement direction.

基板7は、アルミナセラミックス等の電気絶縁性材料や単結晶シリコン等の半導体材料等によって形成されている。   The substrate 7 is made of an electrically insulating material such as alumina ceramic, a semiconductor material such as single crystal silicon, or the like.

基板7の上面には、蓄熱層13が形成されている。この蓄熱層13は、基板7の上面全体に形成された下地部13aと、複数の発熱部9の配列方向に沿って帯状に延び、断面が略半楕円形状の隆起部13bとを有している。この隆起部13bは、印画する記録媒体を、発熱部9上に形成された後述する保護膜25に良好に押し当てるように作用する。   A heat storage layer 13 is formed on the upper surface of the substrate 7. The heat storage layer 13 includes a base portion 13a formed on the entire top surface of the substrate 7, and a raised portion 13b extending in a strip shape along the arrangement direction of the plurality of heat generating portions 9 and having a substantially semi-elliptical cross section. Yes. The raised portion 13b acts to favorably press the recording medium to be printed against a protective film 25 described later formed on the heat generating portion 9.

また、蓄熱層13は、例えば、熱伝導性の低いガラスで形成されており、発熱部9で発生する熱の一部を一時的に蓄積することで、発熱部9の温度を上昇させるのに要する時間を短くし、サーマルヘッドXの熱応答特性を高めるように作用する。この蓄熱層13は、例えば、ガラス粉末に適当な有機溶剤を混合して得た所定のガラスペーストを従来周知のスクリーン印刷等によって基板7の上面に塗布し、これを高温で焼成することで形成される。   In addition, the heat storage layer 13 is made of, for example, glass having low thermal conductivity, and temporarily accumulates part of the heat generated in the heat generating part 9 to increase the temperature of the heat generating part 9. The time required is shortened and the thermal response characteristic of the thermal head X is enhanced. The heat storage layer 13 is formed, for example, by applying a predetermined glass paste obtained by mixing a glass powder with an appropriate organic solvent onto the upper surface of the substrate 7 by screen printing or the like, and baking it at a high temperature. Is done.

図2に示すように、蓄熱層13の上面には、電気抵抗層15が設けられている。この電気抵抗層15は、蓄熱層13と、後述する共通電極配線17、個別電極配線19およびIC−FPC接続配線21との間に介在し、図1に示すように、平面視において、これらの共通電極配線17、個別電極配線19およびIC−FPC接続配線21と同形状の領域(以下、介在領域という)と、共通電極配線17と個別電極配線19との間から露出した複数(図示例では24箇所)の領域(以下、露出領域という)とを有している。なお、図1では、この電気抵抗層15の介在領域は、共通電極配線17、個別電極配線19およびIC−FPC接続配線21で隠れている。   As shown in FIG. 2, an electrical resistance layer 15 is provided on the upper surface of the heat storage layer 13. The electrical resistance layer 15 is interposed between the heat storage layer 13 and a common electrode wiring 17, an individual electrode wiring 19, and an IC-FPC connection wiring 21 which will be described later. As shown in FIG. A region (hereinafter referred to as an intervening region) having the same shape as the common electrode wiring 17, the individual electrode wiring 19, and the IC-FPC connection wiring 21, and a plurality of (in the illustrated example, exposed from between the common electrode wiring 17 and the individual electrode wiring 19). 24 areas) (hereinafter referred to as exposed areas). In FIG. 1, the intervening region of the electric resistance layer 15 is hidden by the common electrode wiring 17, the individual electrode wiring 19, and the IC-FPC connection wiring 21.

電気抵抗層15の各露出領域は、上記の発熱部9を形成している。そして、この複数の露出領域(発熱部9)が、図1に示すように、蓄熱層13の隆起部13b上に列状に配置されている。複数の発熱部9は、説明の便宜上、図1で簡略化して記載しているが、例えば、180dpi〜2400dpi(dot per inch)等の密度で配置される。   Each exposed region of the electrical resistance layer 15 forms the heat generating portion 9 described above. The plurality of exposed regions (heat generating portions 9) are arranged in a row on the raised portion 13b of the heat storage layer 13 as shown in FIG. The plurality of heat generating portions 9 are illustrated in a simplified manner in FIG. 1 for convenience of explanation, but are arranged at a density of 180 dpi to 2400 dpi (dot per inch), for example.

電気抵抗層15は、例えば、TaN系、TaSiO系、TaSiNO系、TiSiO系、TiSiCO系またはNbSiO系等の電気抵抗の比較的高い材料によって形成されている。そのため、後述する共通電極配線17と個別電極配線19との間に電圧が印加され、発熱部9に電流が供給されたときに、ジュール発熱によって発熱部9が発熱する。   The electric resistance layer 15 is made of a material having a relatively high electric resistance, such as TaN, TaSiO, TaSiNO, TiSiO, TiSiCO, or NbSiO. Therefore, when a voltage is applied between the common electrode wiring 17 and the individual electrode wiring 19 which will be described later and a current is supplied to the heat generating portion 9, the heat generating portion 9 generates heat due to Joule heat generation.

図1および図2に示すように、電気抵抗層15の上面(より詳細には、上記の介在領域の上面)には、共通電極配線17、複数の個別電極配線19および複数のIC−FPC接続配線21が設けられている。これらの共通電極配線17、個別電極配線19およびIC−FPC接続配線21は、導電性を有する材料で形成されており、例えば、アルミニウム、金、銀および銅のうちのいずれか一種の金属またはこれらの合金によって形成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the common electrode wiring 17, the plurality of individual electrode wirings 19, and the plurality of IC-FPC connections are provided on the upper surface of the electric resistance layer 15 (more specifically, the upper surface of the intervening region). A wiring 21 is provided. The common electrode wiring 17, the individual electrode wiring 19, and the IC-FPC connection wiring 21 are formed of a conductive material. For example, any one metal of aluminum, gold, silver, and copper, or these It is made of an alloy.

共通電極配線17は、複数の発熱部9とFPC5とを接続するためのものである。図1に示すように、この共通電極配線17は、基板7の一方の長辺(図示例では左側の長辺)に沿って延びる主配線部17aと、基板7の一方および他方の短辺のそれぞれに沿って延び、一端部(図示例では左側の端部)が主配線部17aに接続された2つの副配線部17bと、主配線部17aから各発熱部9に向かって個別に延び、先端部(図示例では右側の端部)が各発熱部9に接続された複数(図示例では24個)のリード部17cとを有している。そして、この共通電極配線17は、副配線部17bの他端部(図1では右側の端部
)がFPC5に接続されることにより、FPC5と各発熱部9との間を電気的に接続している。
The common electrode wiring 17 is for connecting the plurality of heat generating portions 9 and the FPC 5. As shown in FIG. 1, the common electrode wiring 17 includes a main wiring portion 17 a extending along one long side (the left long side in the illustrated example) of the substrate 7, and one and the other short sides of the substrate 7. Extending along each of the two sub-wiring portions 17b whose one end (the left-hand end in the illustrated example) is connected to the main wiring portion 17a, and individually extending from the main wiring portion 17a toward each heat generating portion 9, The front end portion (right end portion in the illustrated example) has a plurality of (24 in the illustrated example) lead portions 17 c connected to the heat generating portions 9. And this common electrode wiring 17 electrically connects between FPC5 and each heat-emitting part 9 by connecting the other end part (right side edge part in FIG. 1) of subwiring part 17b to FPC5. ing.

複数の個別電極配線19は、各発熱部9と駆動IC11とを接続するためのものである。図1および図2に示すように、各個別電極配線19は、一端部(図示例では左側の端部)が発熱部9に接続され、他端部(図示例では右側の端部)が駆動IC11の配置領域に配置されるように、各発熱部9から駆動IC11の配置領域に向かって個別に帯状に延びている。そして、各個別電極配線19の他端部が駆動IC11に接続されることにより、各発熱部9と駆動IC11との間が電気的に接続されている。より詳細には、個別電極配線19は、複数の発熱部9を複数(図示例では3つ)の群に分け、各群の発熱部9を、各群に対応して設けられた駆動IC11に電気的に接続している。   The plurality of individual electrode wirings 19 are for connecting each heat generating part 9 and the drive IC 11. As shown in FIG. 1 and FIG. 2, each individual electrode wiring 19 has one end (left end in the illustrated example) connected to the heat generating unit 9 and the other end (right end in the illustrated) is driven. In order to be arranged in the arrangement area of the ICs 11, the heating parts 9 individually extend in a band shape toward the arrangement area of the driving ICs 11. Then, the other end portion of each individual electrode wiring 19 is connected to the drive IC 11, whereby the heat generating portions 9 and the drive IC 11 are electrically connected. More specifically, the individual electrode wiring 19 divides a plurality of heat generating portions 9 into a plurality of groups (three in the illustrated example), and the heat generating portions 9 of each group are connected to a drive IC 11 provided corresponding to each group. Electrically connected.

複数のIC−FPC接続配線21は、駆動IC11とFPC5とを接続するためのものである。図1および図2に示すように、各IC−FPC接続配線21は、一端部(図示例では左側の端部)が駆動IC11の配置領域に配置され、他端部(図示例では右側の端部)が基板7の他方の長辺(図示例では右側の長辺)の近傍に配置されるように、帯状に延びている。そして、この複数のIC−FPC接続配線21は、一端部が駆動IC11に接続されるとともに、他端部がFPC5に接続されることにより、駆動IC11とFPC5との間を電気的に接続している。   The plurality of IC-FPC connection wirings 21 are for connecting the driving IC 11 and the FPC 5. As shown in FIGS. 1 and 2, each IC-FPC connection wiring 21 has one end portion (left end portion in the illustrated example) disposed in a region where the drive IC 11 is disposed, and the other end portion (right end portion in the illustrated example). Part) extends in a strip shape so as to be arranged in the vicinity of the other long side of the substrate 7 (the long side on the right side in the illustrated example). The plurality of IC-FPC connection wires 21 are electrically connected between the drive IC 11 and the FPC 5 by connecting one end to the drive IC 11 and the other end to the FPC 5. Yes.

より詳細には、各駆動IC11に接続された複数のIC−FPC接続配線21は、異なる機能を有する複数の配線で構成されている。具体的には、この複数のIC−FPC接続配線21は、例えば、駆動IC11を動作させるための電源電流を供給するためのIC電源配線と、駆動IC11およびこの駆動IC11に接続された個別電極配線19をグランド電位(例えば0V〜1V)に保持するためのグランド電極配線と、後述する駆動IC11内のスイッチング素子のオン・オフ状態を制御するように駆動IC11を動作させるための電気信号を供給するためのIC制御配線とで構成されている。   More specifically, the plurality of IC-FPC connection wirings 21 connected to each driving IC 11 are configured by a plurality of wirings having different functions. Specifically, the plurality of IC-FPC connection wirings 21 include, for example, an IC power supply wiring for supplying a power supply current for operating the driving IC 11, a driving IC 11, and an individual electrode wiring connected to the driving IC 11. A ground electrode wiring for holding 19 at a ground potential (for example, 0 V to 1 V) and an electric signal for operating the driving IC 11 so as to control an on / off state of a switching element in the driving IC 11 to be described later are supplied. IC control wiring for this purpose.

駆動IC11は、図1および図2に示すように、複数の発熱部9の各群に対応して配置されているとともに、個別電極配線19の他端部(図示例では右側の端部)とIC−FPC接続配線21の一端部(図示例では左側の端部)とに接続されている。この駆動IC11は、各発熱部9の通電状態を制御するためのものであり、内部に複数のスイッチング素子を有しており、各スイッチング素子がオン状態のときに通電状態となり、各スイッチング素子がオフ状態のときに不通電状態となる公知のものを用いることができる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the drive IC 11 is disposed corresponding to each group of the plurality of heat generating portions 9, and the other end portion (right end portion in the illustrated example) of the individual electrode wiring 19. It is connected to one end portion (left end portion in the illustrated example) of the IC-FPC connection wiring 21. This drive IC 11 is for controlling the energization state of each heat generating part 9, and has a plurality of switching elements inside, and is energized when each switching element is in an on state. A well-known thing which becomes a non-energized state in an OFF state can be used.

各駆動IC11は、各駆動IC11に接続された各個別電極配線19に対応するように、内部に複数のスイッチング素子(不図示)が設けられている。そして、図2に示すように、各駆動IC11は、各スイッチング素子(不図示)に接続された一方(図示例では左側)の接続端子11a(以下、第1接続端子11aという)が個別電極配線19に接続されており、この各スイッチング素子に接続されている他方(図示例では右側)の接続端子11b(以下、第2接続端子11b)がIC−FPC接続配線21の上記のグランド電極配線に接続されている。これにより、駆動IC11の各スイッチング素子がオン状態のときに、各スイッチング素子に接続された個別電極配線19とIC−FPC接続配線21のグランド電極配線とが電気的に接続される。   Each drive IC 11 is provided with a plurality of switching elements (not shown) therein so as to correspond to each individual electrode wiring 19 connected to each drive IC 11. As shown in FIG. 2, each drive IC 11 has one connection terminal 11a (hereinafter referred to as the first connection terminal 11a) connected to each switching element (not shown) as an individual electrode wiring. 19 and the other connection terminal 11b (hereinafter, the second connection terminal 11b) connected to each switching element is connected to the ground electrode wiring of the IC-FPC connection wiring 21. It is connected. Thereby, when each switching element of the drive IC 11 is in the ON state, the individual electrode wiring 19 connected to each switching element and the ground electrode wiring of the IC-FPC connection wiring 21 are electrically connected.

上記の電気抵抗層15、共通電極配線17、個別電極配線19およびIC−FPC接続配線21は、例えば、各々を構成する材料層を蓄熱層13上に、例えばスパッタリング法等の従来周知の薄膜成形技術によって順次積層した後、この積層体を従来周知のフォトエッチング等を用いて所定のパターンに加工することにより形成される。なお、共通電極配線17、個別電極配線19およびIC−FPC接続配線21は、同じ工程によって同時に
形成することができる。
The electric resistance layer 15, the common electrode wiring 17, the individual electrode wiring 19 and the IC-FPC connection wiring 21 are formed by, for example, a conventionally well-known thin film forming method such as a sputtering method on the heat storage layer 13. After sequentially laminating by a technique, this laminate is formed by processing it into a predetermined pattern using a conventionally known photoetching or the like. The common electrode wiring 17, the individual electrode wiring 19, and the IC-FPC connection wiring 21 can be simultaneously formed by the same process.

図1および図2に示すように、基板7の上面に形成された蓄熱層13上には、発熱部9、共通電極配線17の一部および個別電極配線19の一部を被覆する保護膜25が形成されている。なお、図1では、説明の便宜上、保護膜25の形成領域を一点鎖線で示し、これらの図示を省略している。図示例では、この保護膜25は、蓄熱層13の上面の左側の領域を覆うように設けられている。より具体的には、発熱部9、共通電極配線17の主配線部17a、副配線部17bの一部の領域(左側の領域)、リード部17c、および個別電極配線19の一部の領域(左側の領域)上に、保護膜25が形成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, on the heat storage layer 13 formed on the upper surface of the substrate 7, a protective film 25 covering the heat generating portion 9, a part of the common electrode wiring 17 and a part of the individual electrode wiring 19. Is formed. In FIG. 1, for convenience of explanation, the formation region of the protective film 25 is indicated by a one-dot chain line, and illustration of these is omitted. In the illustrated example, the protective film 25 is provided so as to cover the left region of the upper surface of the heat storage layer 13. More specifically, the heat generating portion 9, the main wiring portion 17a of the common electrode wiring 17, the partial region (left region) of the sub wiring portion 17b, the lead portion 17c, and the partial region of the individual electrode wiring 19 ( A protective film 25 is formed on the left region.

保護膜25は、発熱部9、共通電極配線17および個別電極配線19の被覆した領域を、大気中に含まれている水分等の付着による腐食や、印画する記録媒体との接触による摩耗から保護するためのものである。この保護膜25は、例えば、SiC系、SiN系、SiO系およびSiON系等の材料で形成することができる。また、この保護膜25は、例えば、スパッタリング法、蒸着法等の従来周知の薄膜成形技術や、スクリーン印刷法等の厚膜成形技術を用いて形成することができる。また、この保護膜25は、複数の材料層を積層して形成してもよい。   The protective film 25 protects the area covered with the heat generating portion 9, the common electrode wiring 17 and the individual electrode wiring 19 from corrosion due to adhesion of moisture or the like contained in the atmosphere and wear due to contact with the recording medium to be printed. Is to do. The protective film 25 can be formed of, for example, a SiC-based material, a SiN-based material, a SiO-based material, or a SiON-based material. Further, the protective film 25 can be formed by using a conventionally well-known thin film forming technique such as a sputtering method or a vapor deposition method, or a thick film forming technique such as a screen printing method. The protective film 25 may be formed by laminating a plurality of material layers.

図1および図2に示すように、基板7の上面に形成された蓄熱層13上には、共通電極配線17、個別電極配線19およびIC−FPC接続配線21を部分的に被覆する被覆層27が設けられている。なお、図1では、説明の便宜上、被覆層27の形成領域を一点鎖線で示し、これらの図示を省略している。図示例では、この被覆層27は、蓄熱層13の上面の保護膜25よりも右側の領域を部分的に覆うように設けられている。被覆層27は、共通電極配線17、個別電極配線19およびIC−FPC接続配線21の被覆した領域を、大気との接触による酸化や、大気中に含まれている水分等の付着による腐食から保護するためのものである。なお、被覆層27は、共通電極配線17および個別電極配線19の保護をより確実にするため、図2に示すように保護膜25の端部に重なるようにして形成されている。被覆層27は、例えば、エポキシ樹脂やポリイミド樹脂等の樹脂材料で形成することができる。また、この被覆層27は、例えば、スクリーン印刷法等の厚膜成形技術を用いて形成することができる。   As shown in FIGS. 1 and 2, a coating layer 27 that partially covers the common electrode wiring 17, the individual electrode wiring 19, and the IC-FPC connection wiring 21 on the heat storage layer 13 formed on the upper surface of the substrate 7. Is provided. In FIG. 1, for convenience of explanation, the formation region of the coating layer 27 is indicated by a one-dot chain line, and illustration thereof is omitted. In the illustrated example, the coating layer 27 is provided so as to partially cover a region on the right side of the protective film 25 on the upper surface of the heat storage layer 13. The coating layer 27 protects the region covered with the common electrode wiring 17, the individual electrode wiring 19, and the IC-FPC connection wiring 21 from oxidation due to contact with the atmosphere and corrosion due to adhesion of moisture contained in the atmosphere. Is to do. The covering layer 27 is formed so as to overlap the end portion of the protective film 25 as shown in FIG. 2 in order to ensure the protection of the common electrode wiring 17 and the individual electrode wiring 19. The covering layer 27 can be formed of a resin material such as an epoxy resin or a polyimide resin, for example. The covering layer 27 can be formed using a thick film forming technique such as a screen printing method.

なお、図1および図2に示すように、後述するFPC5を接続する共通電極配線17の副配線部17bおよびIC−FPC接続配線21の端部は、被覆層27から露出しており、後述するようにFPC5が接続されるようになっている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the sub-wiring portion 17b of the common electrode wiring 17 for connecting the FPC 5 described later and the end of the IC-FPC connecting wiring 21 are exposed from the covering layer 27, which will be described later. Thus, the FPC 5 is connected.

また、被覆層27には、駆動IC11を接続する個別電極配線19およびIC−FPC接続配線21の端部を露出させるための開口部27a(図2参照)が形成されており、この開口部27aを介してこれらの配線が駆動IC11に接続されている。また、駆動IC11は、個別電極配線19およびIC−FPC接続配線21に接続された状態で、駆動IC11自体の保護、および駆動IC11とこれらの配線との接続部の保護のため、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂等の樹脂からなる被覆部材29によって被覆されることで封止されている。   Further, an opening 27a (see FIG. 2) for exposing the end portions of the individual electrode wiring 19 and the IC-FPC connection wiring 21 for connecting the driving IC 11 is formed in the coating layer 27, and this opening 27a. These wirings are connected to the driving IC 11 via the. In addition, the drive IC 11 is connected to the individual electrode wiring 19 and the IC-FPC connection wiring 21 to protect the drive IC 11 itself and to protect the connection portion between the drive IC 11 and these wirings. It is sealed by being covered with a covering member 29 made of resin such as resin.

図3は、図1のサーマルヘッドXにおいて、ヘッド基体3、FPC5および補強板39の図示を省略したものである。なお、図3では、後述する接着剤35の図示を省略している。   3 does not show the head base 3, the FPC 5, and the reinforcing plate 39 in the thermal head X of FIG. In FIG. 3, illustration of an adhesive 35 to be described later is omitted.

図1〜図3に示すように、放熱体1は、板状に形成されており、平面視で長方形状を有している。この放熱体1は、例えば、銅またはアルミニウム等の金属材料で形成されており、後述するようにヘッド基体3の発熱部9で発生した熱のうち、印画に寄与しない熱の
一部を放熱する機能を有している。なお、本実施形態では、ヘッド基体3の基板7よりも熱膨張率が大きい金属材料で放熱体1が形成されている。
As shown in FIGS. 1 to 3, the heat radiator 1 is formed in a plate shape and has a rectangular shape in plan view. The radiator 1 is made of, for example, a metal material such as copper or aluminum, and radiates a part of the heat generated in the heat generating portion 9 of the head base 3 that does not contribute to printing as will be described later. It has a function. In the present embodiment, the radiator 1 is formed of a metal material having a thermal expansion coefficient larger than that of the substrate 7 of the head base 3.

放熱体1の上面(第1の面)には、放熱体1の長手方向に沿って第1の溝1aおよび第2の溝1bが形成されている。第1の溝1aは、図1〜図3に示すように、放熱体1の左側の縁に沿って延びている。第1の溝1aは、後述するようにヘッド基体3の基板7を放熱体1上に接合したときに、基板7と放熱体1との間に介在する放熱性樹脂層31を形成する樹脂が、放熱体1の上面からはみ出た場合に、そのはみ出た樹脂を収容するようになっている。   A first groove 1 a and a second groove 1 b are formed on the upper surface (first surface) of the radiator 1 along the longitudinal direction of the radiator 1. As shown in FIGS. 1 to 3, the first groove 1 a extends along the left edge of the radiator 1. The first groove 1a is formed of a resin that forms a heat-dissipating resin layer 31 interposed between the substrate 7 and the radiator 1 when the substrate 7 of the head base 3 is bonded onto the radiator 1 as described later. When protruding from the upper surface of the radiator 1, the protruding resin is accommodated.

第2の溝1bは、図1〜図3に示すように、第1の溝1aよりも放熱体1の中央側に位置している。この第2の溝1bは、後述するようにヘッド基体3の基板7を放熱体1上に接合したときに、図1に示すように平面視において、第1の溝1aとの間にヘッド基体3の発熱部9を配置できるように、第1の溝1aから所定の間隔をおいて形成されている。第2の溝1bは、後述する接着剤35を配置するようになっている。なお、本実施形態では、第2の溝1bが、本発明における第1の面に形成された溝に相当する。   The 2nd groove | channel 1b is located in the center side of the heat radiator 1 rather than the 1st groove | channel 1a, as shown in FIGS. 1-3. As will be described later, when the substrate 7 of the head base 3 is bonded onto the radiator 1, the second groove 1b is located between the first base 1a and the first base 1a in plan view as shown in FIG. It is formed at a predetermined interval from the first groove 1a so that three heat generating portions 9 can be arranged. In the second groove 1b, an adhesive 35 to be described later is arranged. In the present embodiment, the second groove 1b corresponds to a groove formed on the first surface in the present invention.

また、図2および図3に示すように、放熱体1には、放熱体1の厚さ方向に貫通し、放熱体1の上面および下面で開口する貫通孔1cが2つ形成されている。この2つの貫通孔1cは、第2の溝1bよりも右側でこの第2の溝1bの近傍に位置し、この第2の溝1bに沿って配置されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the radiator 1 is formed with two through holes 1 c that penetrate in the thickness direction of the radiator 1 and open on the upper surface and the lower surface of the radiator 1. The two through holes 1c are located on the right side of the second groove 1b and in the vicinity of the second groove 1b, and are disposed along the second groove 1b.

図1および図2に示すように、放熱体1の上面(第1の面)上には、上述したヘッド基体3の基板7が配置されている。放熱体1と基板7とは、放熱体1の長手方向と基板7の長手方向とが一致するようにして、放熱性樹脂層31と接合層33とを介して接合されている。これにより、放熱体1の第1の溝1aおよび第2の溝1bが、発熱部9の配列方向に沿って延びるように配置されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the above-described substrate 7 of the head base 3 is disposed on the upper surface (first surface) of the radiator 1. The radiator 1 and the substrate 7 are bonded via the heat-dissipating resin layer 31 and the bonding layer 33 so that the longitudinal direction of the radiator 1 and the longitudinal direction of the substrate 7 coincide with each other. Thereby, the 1st groove | channel 1a and the 2nd groove | channel 1b of the thermal radiation body 1 are arrange | positioned so that it may extend along the sequence direction of the heat-emitting part 9. FIG.

また、放熱体1と基板7とは、図1に示すように平面視においてヘッド基体3の発熱部9が第1の溝1aと第2の溝1bとの間に配置されるとともに、2つの貫通孔1cが複数の発熱部9からなる列の中央に対して線対称に配置されるようにして接合されている。   Further, as shown in FIG. 1, the heat dissipating body 1 and the substrate 7 are arranged such that the heat generating portion 9 of the head base 3 is disposed between the first groove 1a and the second groove 1b in plan view, The through-holes 1c are joined so as to be arranged in line symmetry with respect to the center of the row composed of the plurality of heat generating portions 9.

放熱性樹脂層31は、図2および図3に示すように、放熱体1の上面において第1の溝1aと第2の溝1bとの間の領域に配置されており、発熱部9の直下の領域に位置し、ヘッド基体3の発熱部9の配列方向に沿って帯状に延びている。この放熱性樹脂層31は、ヘッド基体3の基板7と放熱体1との間に介在し、基板7と放熱体1とを接合している。放熱性樹脂層31は、放熱性を有する樹脂で形成されており、後述するようにヘッド基体3の発熱部9で発生した熱のうち、印画に寄与しない熱の一部を放熱体1へ逃がすように作用する。放熱性樹脂層31は、例えば、シリコーン樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、フェノール系樹脂、およびポリエステル系樹脂などの熱硬化型、常温硬化型または化学反応硬化型の樹脂に、アルミナ等の熱伝導率の比較的高いフィラーを含有させたもので形成されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the heat-dissipating resin layer 31 is disposed in a region between the first groove 1 a and the second groove 1 b on the upper surface of the heat dissipating body 1, and directly below the heat-generating portion 9. And extends in a band shape along the arrangement direction of the heat generating portions 9 of the head base 3. The heat radiating resin layer 31 is interposed between the substrate 7 of the head base 3 and the heat radiating body 1, and joins the substrate 7 and the heat radiating body 1. The heat-dissipating resin layer 31 is formed of a heat-dissipating resin, and releases a part of the heat that does not contribute to printing out of the heat generated in the heat generating portion 9 of the head base 3 to the heat dissipating body 1 as described later. Acts as follows. The heat-dissipating resin layer 31 is, for example, a thermosetting, room-temperature curable, or chemical reaction curable resin such as a silicone resin, an epoxy resin, a polyimide resin, an acrylic resin, a phenol resin, and a polyester resin. It is formed of a filler containing a relatively high thermal conductivity such as alumina.

接合層33は、図2および図3に示すように、放熱体1の上面において第2の溝1bよりも右側の領域に配置されており、ヘッド基体3の発熱部9の配列方向に沿って帯状に延びている。この接合層33は、放熱性樹脂層31と同様、ヘッド基体3の基板7と放熱体1との間に介在し、基板7と放熱体1とを接合している。接合層33は、公知の両面テープで形成されている。この両面テープとしては、例えば、アクリル系粘着剤を使用したものが挙げられる。   As shown in FIGS. 2 and 3, the bonding layer 33 is disposed in a region on the right side of the second groove 1 b on the upper surface of the radiator 1, and along the arrangement direction of the heat generating portions 9 of the head base 3. It extends in a band shape. Similar to the heat-dissipating resin layer 31, the bonding layer 33 is interposed between the substrate 7 of the head base 3 and the heat radiator 1, and bonds the substrate 7 and the heat radiator 1. The bonding layer 33 is formed of a known double-sided tape. An example of this double-sided tape is one using an acrylic adhesive.

なお、上記の放熱性樹脂層31および接合層33は、ヘッド基体3の基板7と放熱体1との間に介在する後述する接着剤35よりも軟質であり、基板7と放熱体1とは、後述の接着剤35による接着よって固定される。つまり、基板7と放熱体1とは、後述の接着剤35によって位置決めされる。   The heat-dissipating resin layer 31 and the bonding layer 33 are softer than an adhesive 35 (described later) interposed between the substrate 7 and the heat dissipating body 1 of the head base 3. It is fixed by bonding with an adhesive 35 described later. That is, the substrate 7 and the radiator 1 are positioned by the adhesive 35 described later.

また、接合層33は、図2および図3に示すように、放熱体1の貫通孔1cに対応する位置に切欠き33aが形成されている。この切欠き33aは、接合層33の第2の溝1b側に位置する縁部を切り欠くことによって形成されている。これにより、図3に示すように、放熱体1の貫通孔1cの開口部が接合層33から露出し、貫通孔1cと第2の溝1bとが、切欠き33aの内側の空間を介して一連の空間で繋がっている。   Further, as shown in FIGS. 2 and 3, the bonding layer 33 has a notch 33 a formed at a position corresponding to the through hole 1 c of the radiator 1. The notch 33a is formed by notching an edge portion of the bonding layer 33 located on the second groove 1b side. Thereby, as shown in FIG. 3, the opening part of the through-hole 1c of the thermal radiation body 1 is exposed from the joining layer 33, and the through-hole 1c and the 2nd groove | channel 1b pass through the space inside the notch 33a. They are connected in a series of spaces.

図4〜図6に示すように、放熱体1の第2の溝1b内には、接着剤35が配置されている。この接着剤35は、ヘッド基体3の基板7と放熱体1との間に介在しており、基板7と放熱体1とを接着して固定している。接着剤35は、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂系接着剤やウレタン樹脂系接着剤等で形成されている。なお、図4は、図2のサーマルヘッドにおいて、接着剤35を図示したものである。図5は、図3のサーマルヘッドにおいて、接着剤35を図示したものである。図6は、図4のサーマルヘッドXのVI−VI線断面図であり、このサーマルヘッドXの放熱体1、基板7、接合層33および接着剤35のみを図示したものである。   As shown in FIGS. 4 to 6, an adhesive 35 is disposed in the second groove 1 b of the radiator 1. The adhesive 35 is interposed between the substrate 7 of the head base 3 and the radiator 1 and adheres and fixes the substrate 7 and the radiator 1. The adhesive 35 is made of, for example, a thermosetting epoxy resin adhesive or a urethane resin adhesive. 4 shows the adhesive 35 in the thermal head of FIG. FIG. 5 illustrates the adhesive 35 in the thermal head of FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line VI-VI of the thermal head X of FIG. 4, and shows only the radiator 1, the substrate 7, the bonding layer 33, and the adhesive 35 of the thermal head X.

この接着剤35は、図1および図2に示すように放熱体1上に放熱性樹脂層31および接合層33を介してヘッド基体3の基板7を接合した後に、放熱体1の下面の貫通孔1cの開口からこの接着剤35を注入することにより、図4および図5に示すように第2の溝1b内に配置される。より詳細には、このように貫通孔1cに接着剤35を注入することにより、接着剤35が接合層33の切欠き33aの内部に流入し、この切欠き33aによって接着剤35が第2の溝1bへと案内される。これにより、接着剤35が第2の溝1b内に配置されるとともに、基板7と放熱体1との間に介在するようになっている。なお、本実施形態では、本発明における案内部が、接合層33に形成された切欠き33aによって形成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the adhesive 35 penetrates the lower surface of the radiator 1 after bonding the substrate 7 of the head base 3 to the radiator 1 via the heat-dissipating resin layer 31 and the bonding layer 33. By injecting the adhesive 35 from the opening of the hole 1c, the adhesive 35 is disposed in the second groove 1b as shown in FIGS. More specifically, by injecting the adhesive 35 into the through hole 1c in this way, the adhesive 35 flows into the notch 33a of the bonding layer 33, and the notch 33a causes the adhesive 35 to be in the second state. Guided to the groove 1b. As a result, the adhesive 35 is disposed in the second groove 1 b and is interposed between the substrate 7 and the radiator 1. In the present embodiment, the guide portion in the present invention is formed by the notch 33 a formed in the bonding layer 33.

このように基板7と放熱体1との間に介在した接着剤35は、熱硬化性を有しているため、加熱することにより硬化される。このとき、接着剤35の加熱に伴い、基板7および放熱体1も加熱される。そして、本実施形態では、放熱体1の熱膨張率が基板7の熱膨張率よりも大きいため、放熱体1が基板7よりも大きく熱膨張した状態で、放熱体1と基板7とが接着剤35によって固定される。そして、このように固定された状態で、放熱体1と基板7とが冷却されると、放熱体1が基板7よりも大きく収縮する。そのため、図6に示すように、基板7および放熱体1には、基板7および放熱体1の上面が凸となるような反りが発生し、放熱体1上に基板7が反った状態で固定される。   Thus, since the adhesive 35 interposed between the substrate 7 and the radiator 1 has thermosetting properties, it is cured by heating. At this time, the substrate 7 and the radiator 1 are also heated with the heating of the adhesive 35. And in this embodiment, since the thermal expansion coefficient of the heat radiator 1 is larger than the thermal expansion coefficient of the board | substrate 7, the heat radiator 1 and the board | substrate 7 adhere | attach in the state which the heat radiator 1 thermally expanded larger than the board | substrate 7. It is fixed by the agent 35. And when the heat radiator 1 and the board | substrate 7 are cooled in the state fixed in this way, the heat radiator 1 will shrink more largely than the board | substrate 7. FIG. Therefore, as shown in FIG. 6, the substrate 7 and the radiator 1 are warped so that the upper surfaces of the substrate 7 and the radiator 1 are convex, and the substrate 7 is fixed in a state where the substrate 7 is warped. Is done.

なお、このように基板7と放熱体1とを部分的に接着剤35で接着して固定し、それ以外の部分を接着剤35よりも軟質の放熱性樹脂層31および接合層33で接合する理由は、基板7と放熱体1とを接着剤35で固定した後、基板7と放熱体1との熱膨張による延びの差に起因してヘッド基体3に反りを生じさせるような力が作用したときに、放熱性樹脂層31および接合層33の面内方向の柔軟性によって、基板7と放熱体1との間に生じるせん断応力を緩和し、意図しないヘッド基体3の反りを低減するためである。   Note that the substrate 7 and the radiator 1 are partially bonded and fixed with the adhesive 35 in this way, and the other portions are bonded with the heat-dissipating resin layer 31 and the bonding layer 33 that are softer than the adhesive 35. The reason is that after the substrate 7 and the radiator 1 are fixed with the adhesive 35, a force that causes warping of the head base 3 due to the difference in elongation between the substrate 7 and the radiator 1 due to thermal expansion acts. When this is done, the in-plane flexibility of the heat-dissipating resin layer 31 and the bonding layer 33 alleviates the shear stress generated between the substrate 7 and the heat dissipating body 1 and reduces unintended warping of the head base 3. It is.

FPC5は、図1および図2に示すように、基板7の長手方向に沿って延びており、上記のように共通電極配線17の副配線部17bおよび各IC−FPC接続配線21に接続されている。このFPC5は、絶縁性の樹脂層の内部に複数のプリント配線が配線された周知のものであり、各プリント配線がコネクタ37を介して図示しない外部の電源装置お
よび制御装置等に電気的に接続されるようになっている。このようなプリント配線は、一般に、例えば、銅箔等の金属箔、薄膜成形技術によって形成された導電性薄膜、または厚膜印刷技術によって形成された導電性厚膜によって形成されている。また、金属箔や導電性薄膜等によって形成されるプリント配線は、例えば、これらをフォトエッチング等により部分的にエッチングすることによってパターニングされている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the FPC 5 extends along the longitudinal direction of the substrate 7 and is connected to the sub-wiring portion 17b of the common electrode wiring 17 and each IC-FPC connection wiring 21 as described above. Yes. This FPC 5 is a well-known one in which a plurality of printed wirings are wired inside an insulating resin layer, and each printed wiring is electrically connected to an external power supply device and control device (not shown) via a connector 37. It has come to be. Such a printed wiring is generally formed of, for example, a metal foil such as a copper foil, a conductive thin film formed by a thin film forming technique, or a conductive thick film formed by a thick film printing technique. Moreover, the printed wiring formed by a metal foil, a conductive thin film, or the like is patterned by, for example, partially etching these by photoetching or the like.

より詳細には、図1および図2に示すように、FPC5は、絶縁性の樹脂層5aの内部に形成された各プリント配線5bがヘッド基体3側の端部で露出し、導電性接合材料、例えば、半田材料、または電気絶縁性の樹脂中に導電性粒子が混入された異方性導電材料(ACF)等からなる接合材32(図2参照)によって、共通電極配線17の副配線部17bの端部および各IC−FPC接続配線21の端部に接続されている。   More specifically, as shown in FIG. 1 and FIG. 2, the FPC 5 has a conductive bonding material in which each printed wiring 5b formed inside the insulating resin layer 5a is exposed at the end on the head base 3 side. For example, the sub-wiring portion of the common electrode wiring 17 is made of a bonding material 32 (see FIG. 2) made of, for example, a solder material or an anisotropic conductive material (ACF) in which conductive particles are mixed in an electrically insulating resin. It is connected to the end of 17b and the end of each IC-FPC connection wiring 21.

そして、FPC5の各プリント配線5bがコネクタ37を介して図示しない外部の電源装置および制御装置等に電気的に接続されると、共通電極配線17は、正電位(例えば20V〜24V)に保持された電源装置のプラス側端子に電気的に接続され、個別電極配線19は、駆動IC11およびIC−FPC接続配線21のグランド電極配線を介して、グランド電位(例えば0V〜1V)に保持された電源装置のマイナス側端子に電気的に接続されるようになっている。そのため、駆動IC11のスイッチング素子がオン状態のとき、発熱部9に電流が供給され、発熱部9が発熱するようになっている。   When each printed wiring 5b of the FPC 5 is electrically connected to an external power supply device and control device (not shown) via the connector 37, the common electrode wiring 17 is held at a positive potential (for example, 20V to 24V). The individual electrode wiring 19 is electrically connected to the positive terminal of the power supply apparatus, and the individual electrode wiring 19 is held at a ground potential (for example, 0 V to 1 V) via the ground electrode wiring of the driving IC 11 and the IC-FPC connection wiring 21. It is electrically connected to the negative terminal of the device. For this reason, when the switching element of the drive IC 11 is in the on state, a current is supplied to the heat generating portion 9 and the heat generating portion 9 generates heat.

また、同様に、FPC5の各プリント配線5bがコネクタ37を介して図示しない外部の電源装置および制御装置等に電気的に接続されると、IC−FPC接続配線21の上記のIC電源配線は、共通電極配線17と同様、正電位に保持された電源装置のプラス側端子に電気的に接続されるようになっている。これにより、駆動IC11が接続されたIC−FPC接続配線21のIC電源配線とグランド電極配線との電位差によって、駆動IC11に駆動IC11を動作させるための電源電流が供給される。また、IC−FPC接続配線21の上記のIC制御配線は、駆動IC11の制御を行う外部の制御装置に電気的に接続される。これにより、制御装置から送信された電気信号が駆動IC11に供給されるようになっている。この電気信号によって、駆動IC11内の各スイッチング素子のオン・オフ状態を制御するように駆動IC11を動作させることで、各発熱部9を選択的に発熱させることができる。   Similarly, when each printed wiring 5b of the FPC 5 is electrically connected to an external power supply device and a control device (not shown) via the connector 37, the IC power supply wiring of the IC-FPC connection wiring 21 is Similar to the common electrode wiring 17, it is electrically connected to the positive side terminal of the power supply device held at a positive potential. As a result, the power supply current for operating the drive IC 11 is supplied to the drive IC 11 by the potential difference between the IC power supply wiring and the ground electrode wiring of the IC-FPC connection wiring 21 to which the drive IC 11 is connected. Further, the IC control wiring of the IC-FPC connection wiring 21 is electrically connected to an external control device that controls the driving IC 11. As a result, the electrical signal transmitted from the control device is supplied to the drive IC 11. By operating the drive IC 11 so as to control the on / off state of each switching element in the drive IC 11 by this electric signal, each heat generating portion 9 can be selectively heated.

図2に示すように、FPC5と放熱体1との間には、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂またはガラスエポキシ樹脂等の樹脂からなる補強板39が設けられている。この補強板39は、FPC5の下面に両面テープや接着剤等(不図示)によって接着されることにより、FPC5を補強するように作用している。また、この補強板39は、接合層33によって放熱体1の上面に接着されている。これにより、FPC5は、放熱体1上に固定されている。   As shown in FIG. 2, a reinforcing plate 39 made of a resin such as a phenol resin, a polyimide resin, a polyester resin, or a glass epoxy resin is provided between the FPC 5 and the radiator 1. The reinforcing plate 39 acts to reinforce the FPC 5 by being adhered to the lower surface of the FPC 5 with a double-sided tape, an adhesive, or the like (not shown). In addition, the reinforcing plate 39 is bonded to the upper surface of the radiator 1 by the bonding layer 33. As a result, the FPC 5 is fixed on the radiator 1.

次に、本発明のサーマルプリンタの一実施形態について、図7を参照しつつ説明する。図7は、本実施形態のサーマルプリンタZの概略構成図である。   Next, an embodiment of the thermal printer of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a schematic configuration diagram of the thermal printer Z of the present embodiment.

図7に示すように、本実施形態のサーマルプリンタZは、上述のサーマルヘッドX、搬送機構40、プラテンローラ50、電源装置60および制御装置70を備えている。サーマルヘッドXは、サーマルプリンタZの筐体(不図示)に設けられた取付部材80の取付面80aに取り付けられている。なお、このサーマルヘッドXは、発熱部9の配列方向が、後述する記録媒体Pの搬送方向Sに直交する方向(主走査方向)(図7の紙面に直交する方向)に沿うようにして、取付部材80に取り付けられている。   As shown in FIG. 7, the thermal printer Z of the present embodiment includes the thermal head X, the transport mechanism 40, the platen roller 50, the power supply device 60, and the control device 70 described above. The thermal head X is attached to an attachment surface 80a of an attachment member 80 provided in a housing (not shown) of the thermal printer Z. The thermal head X is arranged so that the arrangement direction of the heat generating portions 9 is along a direction (main scanning direction) (direction perpendicular to the paper surface of FIG. 7) perpendicular to the conveyance direction S of the recording medium P described later. It is attached to the attachment member 80.

搬送機構40は、感熱紙またはインクが転写される受像紙等の記録媒体Pを図7の矢印
S方向に搬送して、サーマルヘッドXの複数の発熱部9上(より詳細には、保護膜25上)に搬送するためのものであり、搬送ローラ43,45,47,49を有している。搬送ローラ43,45,47,49は、例えば、ステンレス等の金属からなる円柱状の軸体43a,45a,47a,49aを、ブタジエンゴム等からなる弾性部材43b,45b,47b,49bにより被覆して構成することができる。なお、図示しないが、記録媒体Pがインクが転写される受像紙等の場合は、記録媒体PとサーマルヘッドXの発熱部9との間に、記録媒体Pとともにインクフィルムを搬送するようになっている。
The transport mechanism 40 transports a recording medium P such as thermal paper or image receiving paper onto which ink is transferred in the direction of arrow S in FIG. 25) and has conveying rollers 43, 45, 47, and 49. The transport rollers 43, 45, 47, and 49 cover cylindrical shaft bodies 43a, 45a, 47a, and 49a made of metal such as stainless steel with elastic members 43b, 45b, 47b, and 49b made of butadiene rubber, for example. Can be configured. Although not shown, when the recording medium P is an image receiving paper to which ink is transferred, an ink film is transported together with the recording medium P between the recording medium P and the heat generating portion 9 of the thermal head X. Yes.

プラテンローラ50は、記録媒体PをサーマルヘッドXの発熱部9上に押圧するためのものであり、記録媒体Pの搬送方向Sに直交する方向に沿って延びるように配置され、記録媒体Pを発熱部9上に押圧した状態で回転可能となるように両端部が支持されている。プラテンローラ50は、例えば、ステンレス等の金属からなる円柱状の軸体50aを、ブタジエンゴム等からなる弾性部材50bにより被覆して構成することができる。   The platen roller 50 is for pressing the recording medium P onto the heat generating portion 9 of the thermal head X, and is arranged so as to extend along a direction orthogonal to the conveyance direction S of the recording medium P. Both ends are supported so as to be rotatable while being pressed on the heat generating portion 9. The platen roller 50 can be configured by, for example, covering a cylindrical shaft body 50a made of metal such as stainless steel with an elastic member 50b made of butadiene rubber or the like.

電源装置60は、上記のようにサーマルヘッドXの発熱部9を発熱させるための電流および駆動IC11を動作させるための電流を供給するためのものである。制御装置70は、上記のようにサーマルヘッドXの発熱部9を選択的に発熱させるために、駆動IC11の動作を制御する制御信号を駆動IC11に供給するためのものである。   The power supply device 60 is for supplying a current for causing the heat generating part 9 of the thermal head X to generate heat and a current for operating the drive IC 11 as described above. The control device 70 is for supplying the drive IC 11 with a control signal for controlling the operation of the drive IC 11 in order to selectively heat the heat generating portion 9 of the thermal head X as described above.

本実施形態のサーマルプリンタZは、図7に示すように、プラテンローラ50によって記録媒体PをサーマルヘッドXの発熱部9上に押圧しつつ、搬送機構40によって記録媒体Pを発熱部9上に搬送しながら、電源装置60および制御装置70によって発熱部9を選択的に発熱させることで、記録媒体Pに所定の印画を行うことができる。なお、記録媒体Pが受像紙等の場合は、記録媒体Pとともに搬送されるインクフィルム(不図示)のインクを記録媒体Pに熱転写することによって、記録媒体Pへの印画を行うことができる。   As shown in FIG. 7, the thermal printer Z according to the present embodiment presses the recording medium P onto the heat generating portion 9 of the thermal head X by the platen roller 50, and moves the recording medium P onto the heat generating portion 9 by the transport mechanism 40. A predetermined printing can be performed on the recording medium P by selectively causing the heat generating unit 9 to generate heat by the power supply device 60 and the control device 70 while being conveyed. When the recording medium P is an image receiving paper or the like, printing on the recording medium P can be performed by thermally transferring ink of an ink film (not shown) conveyed together with the recording medium P to the recording medium P.

本実施形態のサーマルヘッドXによれば、ヘッド基体3の基板7と放熱体1とを接合する接合層33が、接着剤35を放熱体1の貫通孔1cから第2の溝1bへ案内するための切欠き33a(案内部)を有している。そのため、本実施形態によれば、放熱体1と基板7とを接着剤35によって接着する際に、接着剤35を放熱体1の貫通孔1cから第2の溝1bへ案内することができる。これにより、放熱体1と基板7とを接合層33により接合した後に、接着剤35を放熱体1の貫通孔1cから第2の溝1bに流し込むことができる。そのため、接合層33によって放熱体1と基板7とを仮留めした後に、接着剤35によって放熱体1と基板7とを接着して固定することができる。   According to the thermal head X of the present embodiment, the bonding layer 33 that bonds the substrate 7 of the head base 3 and the radiator 1 guides the adhesive 35 from the through hole 1c of the radiator 1 to the second groove 1b. A notch 33a (guide portion) is provided. Therefore, according to the present embodiment, the adhesive 35 can be guided from the through hole 1c of the radiator 1 to the second groove 1b when the radiator 1 and the substrate 7 are bonded by the adhesive 35. Thereby, after bonding the radiator 1 and the substrate 7 by the bonding layer 33, the adhesive 35 can be poured into the second groove 1 b from the through hole 1 c of the radiator 1. Therefore, after temporarily dissipating the radiator 1 and the substrate 7 with the bonding layer 33, the radiator 1 and the substrate 7 can be bonded and fixed with the adhesive 35.

さらに、本実施形態のサーマルヘッドXによれば、接着剤35によって放熱体1と基板7とを接着する際に、第2の溝1bへ流入させる接着剤35の量を調整し、第2の溝1b内の所定の範囲に接着剤35が存在するようにすることで、発熱部9の配列方向における基板7の反り量を調整することができる。つまり、放熱体1と基板7とを接着すると、上記のように放熱体1と基板7との熱膨張率の差に起因して、放熱体1および基板7に反りが生じる。この反りの量は、接着剤35によって放熱体1と基板7とが接着される位置に応じて変化する。具体的には、接着剤35による放熱体1と基板7との接着領域が、発熱部9の配列方向における基板7の中央から離れた位置に存在するほど、放熱体1および基板7の反りの量が大きくなる。そのため、上記のように第2の溝1bへ流入させる接着剤35の量を調整することによって、発熱部9の配列方向における基板7の反り量を容易に調整することができる。したがって、放熱体1の貫通孔1cの形成位置を従来例のように変更する必要がなく、基板7の反り量の調整を容易に行うことができる。   Furthermore, according to the thermal head X of the present embodiment, when the radiator 1 and the substrate 7 are bonded by the adhesive 35, the amount of the adhesive 35 flowing into the second groove 1b is adjusted, and the second By making the adhesive 35 exist in a predetermined range in the groove 1b, the amount of warpage of the substrate 7 in the arrangement direction of the heat generating portions 9 can be adjusted. That is, when the radiator 1 and the substrate 7 are bonded, the radiator 1 and the substrate 7 are warped due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the radiator 1 and the substrate 7 as described above. The amount of warpage varies depending on the position at which the radiator 1 and the substrate 7 are bonded by the adhesive 35. Specifically, the more the region where the radiator 1 and the substrate 7 are bonded by the adhesive 35 is located farther from the center of the substrate 7 in the arrangement direction of the heat generating portions 9, the more the warp of the radiator 1 and the substrate 7 is. The amount increases. Therefore, by adjusting the amount of the adhesive 35 that flows into the second groove 1b as described above, the warpage amount of the substrate 7 in the arrangement direction of the heat generating portions 9 can be easily adjusted. Therefore, it is not necessary to change the formation position of the through hole 1c of the heat radiating body 1 as in the conventional example, and the amount of warpage of the substrate 7 can be easily adjusted.

以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。   As mentioned above, although one Embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said embodiment, A various change is possible unless it deviates from the meaning.

上記実施形態のサーマルヘッドXでは、接合層33が両面テープで形成されているが、これに限定されるものでない。例えば、スクリーン印刷等によって成形された樹脂層によって、接合層33が形成されていてもよい。   In the thermal head X of the above embodiment, the bonding layer 33 is formed of a double-sided tape, but the present invention is not limited to this. For example, the bonding layer 33 may be formed of a resin layer formed by screen printing or the like.

また、上記実施形態のサーマルヘッドXでは、図8に示すように、放熱体1の上面(第1の面)と貫通孔1cの内面とによって形成される角が面取りされていてもよい。図8では、この面取りされた部分を符号1dで示す。このように面取り部1dを形成することにより、貫通孔1cに注入される接着剤35(不図示)が第2の溝1bに向かって流れ易くなる。また、図示しないが、放熱体1の上面と第2の溝1bとによって形成される角も面取りされていてもよい。   Moreover, in the thermal head X of the said embodiment, as shown in FIG. 8, the angle | corner formed by the upper surface (1st surface) of the heat radiator 1 and the inner surface of the through-hole 1c may be chamfered. In FIG. 8, this chamfered portion is denoted by reference numeral 1d. By forming the chamfered portion 1d in this way, the adhesive 35 (not shown) injected into the through hole 1c can easily flow toward the second groove 1b. Further, although not shown, the corner formed by the upper surface of the radiator 1 and the second groove 1b may be chamfered.

また、上記実施形態のサーマルヘッドXでは、図3に示すように接合層33が2つの切欠き33aを有しているが、これに限定されるものではなく、例えば、図9に示すように放熱体1の貫通孔1cを1つだけ形成し、これに合わせて接合層33が切欠き33aを1つだけ有するようにしてもよい。または、図示しないが、放熱体1の貫通孔1cを3つ以上形成し、これに合わせて接合層33が3つ以上の切欠き33aを有するようにしてもよい。あるいは、図示しないが、1つの切欠き33aに対応する位置に、放熱体1の貫通孔1cを複数形成し、この複数の貫通孔1cの開口が1つの切欠き33aに連続するように配置されていてもよい。   Further, in the thermal head X of the above embodiment, the bonding layer 33 has two notches 33a as shown in FIG. 3, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. Only one through hole 1c of the radiator 1 may be formed, and the bonding layer 33 may have only one notch 33a in accordance with this. Alternatively, although not shown, three or more through holes 1c of the radiator 1 may be formed, and the bonding layer 33 may have three or more notches 33a in accordance with this. Alternatively, although not shown, a plurality of through holes 1c of the heat radiating body 1 are formed at positions corresponding to one notch 33a, and the openings of the plurality of through holes 1c are arranged so as to be continuous with one notch 33a. It may be.

また、上記実施形態のサーマルヘッドXでは、図3に示すように接合層33に切欠き33aを形成することによって本発明における案内部を形成しているが、接着剤35を放熱体1の貫通孔1cから第2の溝1bへ案内することができる限り、これに限定されるものではない。例えば、図10に示すように、放熱体1の貫通孔1cの開口と第2の溝1bの開口との間を結ぶように延びる溝33bを接合層33に形成することによって、本発明における案内部を形成してもよい。これにより、貫通孔1cと第2の溝1bとが、溝33bの内部の空間を介して一連の空間で繋がる。なお、この接合層33の溝33bは、図3に示す切欠き33aと同様、複数の発熱部9からなる列の中央に対して線対称に形成されている。   In the thermal head X of the above embodiment, the guide portion in the present invention is formed by forming a notch 33a in the bonding layer 33 as shown in FIG. As long as it can guide from the hole 1c to the 2nd groove | channel 1b, it is not limited to this. For example, as shown in FIG. 10, by forming a groove 33b extending in the bonding layer 33 so as to connect between the opening of the through hole 1c of the radiator 1 and the opening of the second groove 1b, the guide in the present invention. A part may be formed. Thereby, the through-hole 1c and the 2nd groove | channel 1b are connected by a series of space via the space inside the groove | channel 33b. Note that the groove 33b of the bonding layer 33 is formed symmetrically with respect to the center of the row of the plurality of heat generating portions 9 in the same manner as the notch 33a shown in FIG.

また、上記実施形態のサーマルヘッドXでは、図1〜図3に示すように、放熱体1の貫通孔1cを第2の溝1bの右側に形成し、これに合わせて接合層33も第2の溝1bの右側に配置しているが、これに限定されるものではない。例えば、図示しないが、図1〜図3を参照して説明すると、放熱体1の貫通孔1cを第1の溝1aと第2の溝1bとの間に形成し、これに合わせて、放熱性樹脂層31の代わりに接合層33を第1の溝1aと第2の溝1bとの間に配置してもよい。この場合、接合層33の切欠き33aは、接合層33の第2の溝1b側に配置されるようにする。   Moreover, in the thermal head X of the said embodiment, as shown in FIGS. 1-3, the through-hole 1c of the heat radiator 1 is formed in the right side of the 2nd groove | channel 1b, and the joining layer 33 is also 2nd according to this. However, the present invention is not limited to this. For example, although not shown, if it demonstrates with reference to FIGS. 1-3, the through-hole 1c of the thermal radiation body 1 will be formed between the 1st groove | channel 1a and the 2nd groove | channel 1b, and heat dissipation will be carried out according to this. Instead of the conductive resin layer 31, the bonding layer 33 may be disposed between the first groove 1a and the second groove 1b. In this case, the notch 33 a of the bonding layer 33 is arranged on the second groove 1 b side of the bonding layer 33.

X サーマルヘッド
1 放熱体
1a 第1の溝
1b 第2の溝
1c 貫通孔
3 ヘッド基体
5 フレキシブルプリント配線板
7 基板
9 発熱部
11 駆動IC
13 蓄熱層
15 電気抵抗層
17 共通電極配線
17a 主配線部
17b 副配線部
17c リード部
19 個別電極配線
21 IC−FPC接続配線
25 保護膜
27 被覆層
29 被覆部材
31 放熱性樹脂層
33 接合層
33a 切欠き(案内部)
33b 溝(案内部)
35 接着剤
37 コネクタ
39 補強板
X Thermal Head 1 Heat Dissipator 1a First Groove 1b Second Groove 1c Through Hole 3 Head Substrate 5 Flexible Printed Circuit Board 7 Substrate 9 Heating Part 11 Drive IC
DESCRIPTION OF SYMBOLS 13 Heat storage layer 15 Electrical resistance layer 17 Common electrode wiring 17a Main wiring part 17b Sub wiring part 17c Lead part 19 Individual electrode wiring 21 IC-FPC connection wiring 25 Protective film 27 Covering layer 29 Covering member 31 Heat radiation resin layer 33 Bonding layer 33a Notch (guide section)
33b Groove (guide section)
35 Adhesive 37 Connector 39 Reinforcing plate

Claims (7)

基板、および該基板上に配列された複数の発熱部を有するヘッド基体と、
前記基板が配置される第1の面、前記発熱部の配列方向に沿って前記第1の面に形成された溝、および前記第1の面で開口する貫通孔を有する放熱体と、
前記基板と前記放熱体の前記第1の面との間に介在し、前記基板と前記放熱体とを接合する接合層と、
前記放熱体の前記溝内に配置されるとともに、前記基板と前記放熱体の前記溝との間に介在し、前記基板と前記放熱体とを接着して固定する接着剤と
を備え、
前記接合層は、前記接着剤を前記放熱体の前記貫通孔から前記溝へ案内するための案内部を有することを特徴とするサーマルヘッド。
A head body having a substrate and a plurality of heat generating portions arranged on the substrate;
A radiator having a first surface on which the substrate is disposed, a groove formed in the first surface along the arrangement direction of the heat generating portions, and a through-hole opened in the first surface;
A bonding layer interposed between the substrate and the first surface of the radiator, and bonding the substrate and the radiator;
An adhesive that is disposed in the groove of the radiator and is interposed between the substrate and the groove of the radiator to bond and fix the substrate and the radiator;
The thermal bonding head according to claim 1, wherein the bonding layer has a guide portion for guiding the adhesive from the through hole of the heat radiating body to the groove.
前記案内部は、前記接合層に形成された切欠きによって形成されていることを特徴とする請求項1に記載のサーマルヘッド。   The thermal head according to claim 1, wherein the guide portion is formed by a notch formed in the bonding layer. 前記接合層は、両面テープによって形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載のサーマルヘッド。   The thermal head according to claim 1, wherein the bonding layer is formed of a double-sided tape. 前記接着剤は、熱硬化性を有することを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のサーマルヘッド。   The thermal head according to claim 1, wherein the adhesive has thermosetting properties. 前記接合層は、前記案内部を2つ有しており、
該案内部が、前記複数の発熱部からなる列の中央に対して線対称に形成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のサーマルヘッド。
The bonding layer has two guide portions,
5. The thermal head according to claim 1, wherein the guide portion is formed in line symmetry with respect to a center of the row of the plurality of heat generating portions.
前記放熱体の前記第1の面と前記貫通孔の内面とによって形成される角が面取りされていることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のサーマルヘッド。   6. The thermal head according to claim 1, wherein a corner formed by the first surface of the heat radiating body and an inner surface of the through hole is chamfered. 請求項1から6のいずれかに記載のサーマルヘッドと、前記発熱部上に記録媒体を搬送する搬送機構と、前記発熱部上に記録媒体を押圧するプラテンローラとを備えることを特徴とするサーマルプリンタ。
A thermal head comprising: the thermal head according to claim 1; a transport mechanism that transports a recording medium onto the heat generating portion; and a platen roller that presses the recording medium onto the heat generating portion. Printer.
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