JP2014085304A - 自動分析装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 反応ラインの半径方向に対する幅が検査容器より大きい構造物が検査容器どうしの間に配置されている場合においても、効果的に検査容器の表面の洗浄が可能な自動分析装置を提供する。
【解決手段】 上記課題を解決するために、実施形態の自動分析装置は、サンプルを収容するための検査容器と、所定の経路に沿って整列した複数の前記検査容器を、前記所定の経路に沿って搬送する搬送手段と、恒温に保持された液体を収容し、前記恒温に保持された液体中に前記検査容器を浸漬する恒温槽と、前記所定の経路に沿って整列した前記検査容器の外壁に圧接するブラシと、を備える。
【選択図】図６

Description

本発明の実施形態は、自動分析装置に関する。

自動分析装置は、血液などの検査試料と種々検査項目に対応する試薬とを混合することで得られる検査液を、例えば光学的に測定すること（測光）によって、検査項目に対応した検査試料の成分を分析する装置である。

自動分析装置は、環状の反応ラインに沿って一列に整列した検査容器の搬送に合わせて、検査試料の分注、試薬の分注、検査液の攪拌、測光、検査容器の洗浄を行う。

通常、自動分析装置では、分析の精度を高めるために、検査液の温度を一定に保つことが必要とされている。そのため、検査容器は恒温水中に浸漬されている。しかし、検査容器が恒温水中に浸漬されることによって検査容器表面に気泡や水垢などが付着してしまい、このことが測光の障害になってしまう。従来の自動分析装置では、検査容器表面の洗浄手段として、恒温水を収容している恒温槽の一部にワイパを設け、検査容器表面にワイパを圧接することで洗浄していた（特許文献１）。

特公平１−４３２６８号公報

しかし、反応ラインの半径方向における幅が検査容器より大きい構造物が検査容器どうしの間に配置されている場合、特許文献１のような洗浄手段では、検査容器の表面にワイパが十分に圧接しないため、検査容器表面をうまく洗浄できない。また、構造物との干渉によるワイパの劣化も激しくなってしまう。

本発明が解決しようとする課題は、反応ラインの半径方向に対する幅が検査容器より大きい構造物が検査容器どうしの間に配置されている場合においても、効果的に検査容器の表面の洗浄が可能な自動分析装置を提供することである。

上記課題を解決するために、実施形態の自動分析装置は、サンプルを収容するための検査容器と、所定の経路に沿って整列した複数の前記検査容器を、前記所定の経路に沿って搬送する搬送手段と、恒温に保持された液体を収容し、前記恒温に保持された液体中に前記検査容器を浸漬する恒温槽と、前記所定の経路に沿って整列した前記検査容器の外壁に圧接するブラシと、を備える。

実施例１における自動分析装置の概観図。 実施例１における自動分析装置のブロック図。 実施例１における検査容器及び構造物の配列の平面図。 実施例１における検査容器及び構造物の斜視図。 実施例１における洗浄ユニット近傍の断面図。 実施例１における洗浄ユニット近傍の平面図。 実施例１の変形例におけるユニット近傍の平面図。 実施例２における反応ディスク及び洗浄ユニットの動作のタイムチャート１。 実施例２における反応ディスク及び洗浄ユニットの動作のタイムチャート２。 実施例２における反応ディスク及び洗浄ユニットの動作のタイムチャート３。 実施例２における洗浄ユニット近傍の断面図。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。

（実施例１）
図１及び図２は、本実施例に係る自動分析装置の外観図及びブロック図である。本実施例に係る自動分析装置は、反応ディスク５、サンプルディスク６、第一試薬庫２、第二試薬庫３、検査容器４、サンプルアーム１０、サンプルプローブ１６、サンプル容器１７、第一試薬アーム８、第一試薬プローブ１４、第一試薬容器７、第二試薬アーム９、第二試薬プローブ１５、第二試薬容器２７、撹拌機構１１、測光機構１３、洗浄機構１２、分析機構制御部２１、解析部２２、表示部２３、操作部２４、洗浄ユニット２８、恒温槽３０を有する。

反応ディスク５は、脱気した恒温水の入った恒温槽３０の中に、複数の検査容器４を環状に保持する。反応ディスク５は、分析機構制御部２１からの指示に従って、既定の時間間隔で回動と停止とを交互に繰り返す。

サンプルディスク６は、反応ディスク５の近傍に位置する。サンプルディスク６は、検査試料を収容するためのサンプル容器１７を保持する。サンプルディスク６は、分析機構制御部２１からの指示に従って、分注対象の検査試料を収容したサンプル容器１７をサンプル吸入位置に配置するように回動する。

第一試薬庫２は、反応ディスク５の近傍に位置する。第一試薬庫２は、検査試料の検査項目に選択的に反応する第一試薬を収容するための複数の第一試薬容器７を保持する。第一試薬庫２は、分析機構制御部２１からの指示に従って、分注対象の第一試薬を収容した第一試薬容器７を第一試薬吸入位置に配置するように回動する。

第二試薬庫３は、反応ディスク５の近傍に位置する。第二試薬庫３は、第二試薬を収容するための複数の第二試薬容器２７を保持する。第二試薬庫３は、分析機構制御部２１からの指示に従って、分注対象の第二試薬を収容した第二試薬容器２７を第二試薬吸入位置に配置するように回動する。

サンプルアーム１０は、反応ディスク５とサンプルディスク６との間に位置する。サンプルアーム１０は、自身の先端部にサンプルプローブ１６を有する。また、サンプルアーム１０は、サンプルプローブ１６を有していない端部を軸として回動可能である。

サンプルアーム１０は、サンプルプローブ１６を上下動可能に支持する。分析機構制御部２１は、サンプルプローブ１６の上下動の移動量及びタイミングを制御する。また、分析機構制御部２１は、検査試料の吸入と吐出の量及びタイミングを制御する。

サンプルプアーム１０は、分析機構制御部２１からの指示に従って、サンプルプローブ１６がサンプルディスク６におけるサンプル吸入位置の直上と、反応ディスク５におけるサンプル吐出位置の直上との間を往復するように回動する。

サンプルプローブ１６がサンプル吸入位置の直上に位置すると、サンプルプローブ１６は下方向に移動する。サンプルプローブ１６は、サンプル吸入位置のサンプル容器１７から、図示しないポンプなどの吸引吐出機構を介して、分注対象の検査試料を吸入する。サンプルプローブ１６は、検査試料の吸入後、上方向に移動する。その後、サンプルアーム１０は、サンプルプローブ１６がサンプル吐出位置の直上まで移動するように回動する。

サンプルプローブ１６がサンプル吐出位置の直上に位置すると、サンプルプローブ１６は下方向に移動する。サンプルプローブ１６は、サンプル吐出位置の検査容器４に、サンプル吸入位置で吸入した検査試料を、図示しないポンプなどの吸引吐出機構を介して、吐出する。サンプルプローブ１６は、検査試料の吐出後、上方向に移動する。その後、サンプルアーム１０は、サンプルプローブ１６がサンプル吸入位置の直上まで移動するように回動する。

第一試薬アーム８は、反応ディスク５の外周近傍に位置する。第一試薬アーム８は、自身の先端に第一試薬プローブ１４を有する。また、第一試薬アーム８は、第一試薬プローブ１４を有していない端部を軸として回動可能である。

第一試薬アーム８は、第一試薬プローブ１４を上下動可能に支持する。分析機構制御部２１は、第一試薬プローブ１４の上下動の移動量及びタイミングを制御する。また、分析機構制御部２１は、第一試薬の吸入と吐出の量及びタイミングを制御する。

第一試薬アーム８は、分析機構制御部２１からの指示に従って、第一試薬プローブ１４が第一試薬庫２における第一試薬吸入位置の直上と、反応ディスク５における第一試薬吐出位置直上との間を往復するように回動する。

第一試薬プローブ１４が第一試薬吸入位置の直上に位置すると、第一試薬プローブ１４は下方向に移動する。第一試薬プローブ１４は、第一試薬吸入位置の第一試薬容器７から、図示しないポンプなどの吸引吐出機構を介して、第一試薬を吸入する。第一試薬プローブ１４は、第一試薬の吸入後、上方向に移動する。その後、第一試薬アーム８は、第一試薬プローブ１４が第一試薬吐出位置の直上まで移動するように回動する。

第一試薬プローブ１４が第一試薬吐出位置の直上に位置すると、第一試薬吐出位置の検査容器４に、第一試薬吸入位置で吸入した検査試料を、図示しないポンプなどの吸引吐出機構を介して、吐出する。その後、第一試薬アーム８は、第一試薬プローブ１４が第一試薬吸入位置の直上まで移動するように回動する。

第二試薬アーム９は、反応ディスク５と第２試薬庫３との間に位置する。第二試薬アーム９は、自身の先端に第二試薬プローブ１５を有する。また、第二試薬アーム９は、第二試薬プローブ１５を有していない端部を軸として回動可能である。

第二試薬アーム９は、第二試薬プローブ１５を上下動可能に支持する。分析機構制御部２１は、第二試薬プローブ１５の上下動の移動量及びタイミングを制御する。また、分析機構制御部２１は、第二試薬の吸入と吐出の量及びタイミングを制御する。

第二試薬アーム９は、分析機構制御部２１からの指示に従って、第二試薬プローブ１５が第二試薬庫３における第二試薬吸入位置の直上と、反応ディスク５における第二試薬吐出位置の直上との間を往復するように回動する。

第二試薬プローブ１５が第二試薬吸入位置の直上に位置すると、第二試薬プローブ１５は下方向に移動する。第二試薬プローブ１５は、第二試薬吸入位置の第二試薬容器２７から、図示しないポンプなどの吸引吐出機構を介して、第二試薬を吸入する。第二試薬プローブ１５は、第二試薬の吸入後、上方向に移動する。その後、第二試薬アーム９は、第二試薬プローブ１５が第二試薬吐出位置の直上まで移動するように回動する。

第二試薬プローブ１５が第二試薬吐出位置の直上に位置すると、第二試薬吐出位置の検査容器４に、第二試薬吸入位置で吸入した検査試料を、図示しないポンプなどの吸引吐出機構を介して、吐出する。その後、第二試薬アーム９は、第二試薬プローブ１５が第二試薬吸入位置の直上まで移動するように回動する。

以下、検査試料と試薬との混合液を検査液と呼ぶこととする。

撹拌機構１１は、反応ディスク５の外周近傍に位置する。撹拌機構１１は、攪拌子を自身の先端部に、上下動が可能なように保持する。また、攪拌子は、反応ディスク５の撹拌位置の直上に位置する。

攪拌機構１１は、分析機構制御部２１からの指示に従って動作する。未攪拌の検査液を収容している検査容器４が攪拌位置に移動した場合、攪拌子は下方向に移動し、検査液を攪拌する。攪拌後、攪拌子は上方向に移動し、元の位置で停止する。

測光機構１３は、検出部２５と光源２６を有する。測光機構１３は、反応ディスク５近傍に位置する。測光機構１３は、分析機構制御部２１からの指示に従って、検査容器４に対して、光源２６より光を照射する。

検出部２５は、検査容器４及び検査液を透過した光、検査容器４及び検査液によって反射した光、あるいは、検査容器４及び検査液によって散乱した光を検出する。検出部２５は、検出した光の強度に応じた計測値を有するデータ（測光データ）を生成する。検出部２５は測光データを、解析部２２に送信する。

洗浄機構１２は、反応ディスク５の外周近傍に位置する。洗浄機構１２は、分析機構制御部２１からの指示に従って、図示しない洗浄ノズルなどを介して、測光を終えた検査液の廃棄および検査容器４の内部の洗浄を行う。

分析機構制御部２１は、操作部２４からの指示に従って、反応ディスク５の回動、サンプルディスク６の回動、第一試薬庫２の回動、第二試薬庫３の回動、サンプルアーム１０の回動と上下動、サンプルプローブ１６の吸引と吐出、第一試薬アーム８の回動と上下動、第一試薬プローブ１４の吸引と吐出、第二試薬アーム９の回動と上下動、第二試薬プローブ１５の吸引と吐出、攪拌機構１１の動作、測光機構１３による測光、洗浄機構１２の動作、洗浄ユニット２８の動作（後述）を制御する。

解析部２２は、検出部２５から送信された測光データを受信し、解析用のアプリケーションソフトウェアなどを用いて解析データを作成する。また解析部２２は、当該解析データを表示部２３に送信する。

表示部２３は、解析部２２から受け取った解析データや、所定の操作画面を表示する。

操作部２４は、オペレータが分析機構制御部２１と解析部２２に指示を行うための操作手段（マウスやトラックボール、キーボードなど）を有する。

図３は、本実施例における検査容器４及び構造物２９の配列の平面図である。図３のように、本実施例では、反応容器４と構造物２９とが、交互、且つ、環状に整列している。構造物２９は、検査容器４の搬送経路の半径方向における幅が検査容器４より大きい。そのため、検査容器４と構造物２９とが交互に整列した場合、検査容器４の搬送経路の半径方向において構造物２９の方が検査容器４より突出する。

本実施形態において、構造物２９は、例えば、本特許出願人が別途出願中の特願２０１２−１９２５８７に示す、磁石を意図している。検査容器４どうしの間に設置された磁石は、所定の磁場を発生する。この磁場の影響で、検査液中の磁性粒子及び当該磁性粒子に結合している分子と、検査液中のその他の分子とが分離し、当該磁性粒子に結合した分子のみを対象にした測定を行うことができる。

また、図３において、検出部２５及び光源２６、更に洗浄ユニット２８の配置を示す。

測光による正確な分析結果を得るためには、測光を行う直前、即ち測光機構１３の近傍において検査容器４の表面を洗浄する必要がある。しかし、あまりにも測光機構１３に近い位置で検査容器４の洗浄を行うと、洗浄による水流や洗浄によって掃き出された汚れの影響によって、正確な分析結果を得られなくなる。したがって、洗浄ユニット２８は、測光の直前に検査容器４の表面を洗浄できる位置であって、尚且つ、恒温槽３０の水流の変化による測光への影響が小さい位置、例えば、図３におけるＢ−Ｂの範囲に配置するのが好ましい。

図４は、検査容器４及び構造物２９の配列の一部の斜視図である。なお、図３以降の図面においては全て座標系を共有しているものとし、反応ディスクの中心方向をｘ方向、反応ディスク５の回動方向をｙ方向、反応ディスクの鉛直上方向をｚ方向とする。また、図４における破線内の領域は、図３における光源２６から照射した光が通過する測光領域３１である。

図５は、図３におけるＡ−Ａを通る断面図である。本実施例において、検査容器４の表面を洗浄するために、洗浄ユニット２８は、支持部３２と先端部３３とブラシ部３４を有する。

図６は、洗浄ユニット２８付近の平面図である。本実施例において、洗浄ユニット２８は、支持部３２、先端部３３、ブラシ部３４を備えている。

支持部３２は、恒温槽３０の壁面に設置されており、バネなどのｘ方向及びｘ方向と逆の方向に対して弾性を有するものでできている。支持部３２は先端部３３を支持する。先端部３３は、ブラシ部３４がｚ方向を中心軸として自由に回転可能なようにブラシ部３４を支持する。ブラシ部３４は、検査容器４あるいは構造物２９に圧接する。

図６（ａ）及び図６（ｂ）は、共に反応ディスク５の回動過程における一態様を示している。図６（ａ）においてブラシ部３４は、検査容器４と圧接しており、図６（ｂ）においてブラシ部３４は、構造物２９と圧接している。

図６（ａ）及び図６（ｂ）の状態、あるいは図６（ａ）の状態から図６（ｂ）の状態に移行する過程における左側のブラシ部３４に着目すると、例えば左側のブラシ部３４は、ｙ方向とｘ方向の逆の方向とに力を受ける。

ｙ方向に受ける力は、反応ディスク５の回動によって図６（ａ）の状態から図６（ｂ）の状態に移行している最中において、左側のブラシ部３４が図６（ａ）のＤ部分と接触することでＤ部分から押し返される力や、左側のブラシ部３４が検査容器４あるいは構造物２９に圧接したまま反応ディスクが回動することによって生じる摩擦力である。これらの力によってブラシ部３４は図６（ａ）における矢印Ｃの方向に回転する。

一方、ｘ方向の逆の方向に受ける力は、図６（ｂ）左側のブラシ部３４が構造物２９にｘ方向に圧接することで、構造物２９から押し返される力である。図６（ｂ）左側の支持部３２は、図６（ｂ）左側のブラシ部３４が構造物２９から押し返された力が、矢印Ｅのように支持部３２に伝播することで縮む。

図６（ａ）及び図６（ｂ）の右側のブラシ部３４についても、ｘ方向の逆の方向に受ける力がｘ方向に受ける力に変わること以外は、同様に考えることができる。

以上のように、ブラシ部３４が受けるｙ方向の力については、ブラシ部３４自身が自由に回転することで適度に受け流すことができる。また、ブラシ部３４が受けるｘ方向あるいはｘ方向の逆の方向の力については、弾性を有する支持部３２がブラシ部３４から伝播した力を受けて縮むことよって軽減される。これによって、ブラシ部３４の磨耗の頻度を低減することができる。

また、ブラシ部３４の毛は、検査容器４の搬送経路の半径方向における検査容器４と構造物２９との幅の違いに起因する段差より十分に長く形成されているので、検査容器４の表面だけでなく、検査容器４と構造物２９の隙間の気泡や水垢などを掃き出すことができる。

なお、本実施例における先端部３３のブラシ状の部分は、力を受けた方向に自由に回転するといった仕様であったが、ブラシ部３４が先端部３３に対して固定されていても良い。この場合、ｙ方向に受けた力を受け流さない分だけ、ブラシ部３４が自由に回転する仕様より強く検査容器４及び構造物２９を洗浄することができる。また、毛の長さが一定でないブラシ部３４であっても良い。この場合、ブラシ部３４の長い毛の部分が検査容器４と構造物２９の隙間に深く入り込むことができるようになり、検査容器４及び構造物２９の隅々まで洗浄することができる。

なお、上記では、支持部３２の弾性が、ｘ方向及びｘ方向の逆の方向にかかる力のみを調整を可能なバネ状のものを想定したが、ｙ方向及びｙ方向の逆の方向にも伸縮可能なゴム状のものなどでも良い。この場合、ブラシ部３４がｙ方向から受ける力も軽減することができ、ブラシ部３４の磨耗を更に低減することができる。

以上の構成に加え、支持部３２あるいは先端部３３を着脱可能にすることで、ブラシ部３４が著しく磨耗した場合における洗浄ユニット２８の交換が容易になる。

一方、図７は、支持部３２が弾性を有しておらず、尚且つ先端部３３から支持部３３が受ける力を軽減させる仕様における洗浄ユニット２８近傍の平面図である。この場合、図７における押引機構３５は、支持部３２との間に設けられた伸縮部３６の長さを調整することで、支持部３２にかかるｘ方向及びｘ方向の逆の方向にかかる力を軽減する。例えば、図７（ａ）のように検査容器４がブラシ部３４の前にあるときの伸縮部３６の長さはＬ１であり、図７（ｂ）のように構造物２９がブラシ部３４の前にあるときの伸縮部３６の長さＬ２より長くなる。押引機構３５は、支持部３２が先端部３３から受ける力を、伸縮部３６を介して検知する検知手段（力センサなど）を有しており、この検知結果を用いて伸縮部３６の長さを調整する。

（実施例２）
実施例２は、先端部３３のブラシ部分３４が、モータなどによって自動的に回転する仕様について記述する。

本実施例の機能において、分析機構制御部２１は、図示しないモータを介して、ブラシ部３４の回転方向及び回転状態を制御する。本実施例において、モータの回転方向は、実施例１と同様に、図６（ａ）のＣ方向であっても、Ｃとは逆の方向であっても良い。モータの回転がＣ方向と同じ場合、ブラシ部３４が構造物２９や検査容器４と接触する力が相対的に弱まるため、ブラシ部３４の磨耗が低減できる。また、モータの回転がＣ方向とは逆の方向の場合、ブラシ部３４が構造物２９や検査容器４と接触する力が相対的に強まるため、洗浄力を高めることができる。なお、その他の機能については実施例１と同様である。

図８、図９、図１０は、反応ディスク５の動作に対する洗浄ユニット２８の動作を示したタイムチャートである。図８、図９、図１０において、Ｔ１はスタートアップ中（装置の起動及び動作確認状態）、Ｔ２は装置の待機中、Ｔ３は検査中に相当する。

図８に示すように、本実施形態における洗浄ユニット２８は、反応ディスク５の回動中及び停止中において、常にブラシ部３４を回転させる。これによって、図８に示す仕様は、後述する図９及び図１０の仕様に比べて検査容器４及び構造物２９を洗浄する時間が長くなるため、高い洗浄力を発揮する。更に、図８に示す仕様は、図９及び図１０の仕様のように、反応ディスク５の回動及び停止に合わせてブラシ部３４の回転の状態を変更する必要が無いため、単純な機構あるいは制御で実施可能であり、装置を小型化できる。

図９に示す仕様においては、反応ディスク５が回動しているときに洗浄ユニット２８はブラシ部３４を回転させ、反応ディスク５が停止しているときに洗浄ユニット２８はブラシ部３４の回転を停止する。反応ディスク５が回動しているときにブラシ部３４が一定の位置で回転していると、洗浄の対象となる検査容器４が反応ディスク５の回動によって自動的に変わるため、洗浄効率は非常に高くなる。逆に、反応ディスク５が停止しているときにブラシ部３４が一定の位置で回転しても、常に同じ検査容器４あるいは構造物２９を洗浄し続けることになるため、洗浄効率は低くなる。図９の仕様では、高い洗浄効率を有する場合にのみブラシ部３４が回転するので、図８の仕様に比べて、消費電力を低減できる。

図１０に示す仕様においては、反応ディスク５が回動しているときにブラシ部３４は速く回転し、反応ディスク５が停止しているときにブラシ部３４はゆっくり回転する。この場合、図８の仕様より消費電力を低減しつつ、図９の仕様より洗浄力を高めることができる。

図８及び図１０のような仕様の場合、反応ディスク５の停止中にブラシ部３４が圧接する位置を変更することによって洗浄効果が向上する。例えば、Ｔ１及びＴ２の期間では測光が実施されないため、ブラシ部３４が掃き出した汚れが恒温槽３０内を漂うことによる測光への影響を考慮する必要がない。したがって、Ｔ１及びＴ２の期間では、検査容器４と構造物２９の隙間にブラシ部３４を圧接することで、検査容器４と構造物２９の隙間に堆積しやすい汚れの排除を優先すると良い。逆に、Ｔ３の期間では測光が実施されているため、ブラシ部３４が掃き出した汚れが恒温槽３０内を漂うことによる測光への影響を考慮する必要が十分にある。したがって、Ｔ３の期間では、測光の障害となる図４の測光領域３１にブラシ部３４を圧接し、測光領域３１に付着した気泡や水垢を排除するだけに止めると良い。

このようにブラシ部３４を圧接する位置を変更する場合、例えば、図１１に示すようなスライド機構３７を設ける。スライド機構３７は、洗浄ユニット２８の配置を手動あるいは自動で変更できるように支持部３２をスライド可能に支持する。自動で変更する場合、分析機構制御部２１が、洗浄ユニット２８の配置の変更を制御する。あるいは、反応ディスク５の停止位置を制御することで、洗浄ユニット２８の配置を変更しなくともＴ１及びＴ２とＴ３とでブラシ部３４が検査容器４や構造物２９に圧接する位置を変更することも可能である。

また、Ｔ１及びＴ２の期間においては、Ｔ１及びＴ２の期間では測光が実施されないため、ブラシ部３４が掃き出した汚れが恒温槽３０内を漂うことによる測光への影響を考慮する必要がない。したがって、Ｔ１及びＴ２の期間においてはブラシ部３４を速く回転すると良い。逆に、Ｔ３の期間においては、測光が実施されているため、ブラシ部３４が掃き出した汚れが恒温槽３０内を漂うことによる測光への影響を考慮する必要が十分にある。したがって、Ｔ３の期間においてはブラシ部３４をゆっくり回転すると良い。

なお、実施例２では、ブラシ部３４が自動的に回転する場合において説明したが、回転の代わりにｙ方向及びｙ方向の逆の方向に振幅を有するような振動であっても良い。この場合、ブラシ部３４が回転するよりも、ｙ方向及びｙ方向の逆の方向に広い範囲を洗浄することが可能である。

このように、本発明の実施形態では、検査容器４の搬送経路の半径方向における幅が検査容器４より大きい構造物２９が検査容器４どうしの間に配置されている場合においても、検査容器４の十分な洗浄が可能である。また、柔軟性が高いブラシを使用することに加えて、ブラシ部３４が受けた力を逃がしやすい構成にすることで、構造物２９との干渉によるワイパの劣化の問題を解消でき、尚且つ反応ディスク５の回動精度への影響も小さくできる。

以上、本発明の実施形態を説明したが、これらの実施形態は例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の趣旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

２・・・第一試薬庫
３・・・第二試薬庫
４・・・検査容器
５・・・反応ディスク
６・・・サンプルディスク
７・・・第一試薬容器
８・・・第一試薬アーム
９・・・第二試薬アーム
１０・・・サンプルアーム
１１・・・攪拌機構
１２・・・洗浄機構
１３・・・測光機構
１４・・・第一試薬プローブ
１５・・・第二試薬プローブ
１６・・・サンプルプローブ
１７・・・サンプル容器
２１・・・分析機構制御部
２２・・・解析部
２３・・・表示部
２４・・・操作部
２５・・・検出部
２６・・・光源
２７・・・第二試薬容器
２８・・・洗浄ユニット
２９・・・構造物
３０・・・恒温槽
３１・・・測光領域
３２・・・支持部
３３・・・先端部
３４・・・ブラシ部
３５・・・押引機構
３６・・・伸縮部
３７・・・スライド機構

Claims (11)

1. サンプルを収容するための検査容器と、
   所定の経路に沿って整列した複数の前記検査容器を、前記所定の経路に沿って搬送する搬送手段と、
   恒温に保持された液体を収容し、前記恒温に保持された液体中に前記検査容器を浸漬する恒温槽と、
   前記所定の経路に沿って整列した前記検査容器の外壁に圧接するブラシと、
   を備えた自動分析装置。
2. 前記ブラシは、前記検査容器を搬送する方向に受けた力によって自由に回転可能である請求項１に記載の自動分析装置。
3. 前記ブラシを支持し、前記ブラシが受ける力を調整する支持手段を備えた請求項１又は２に記載の自動分析装置。
4. 前記支持手段は、弾性を有する請求項１乃至３のうちいずれかひとつに記載の自動分析装置。
5. 前記ブラシを駆動するための駆動機構を有し、
   前記ブラシは前記駆動機構によって駆動する請求項１に記載の自動分析装置。
6. 前記駆動機構は、前記検査容器の搬送中において前記ブラシを駆動する請求項５に記載の自動分析装置。
7. 前記駆動機構は、前記検査容器の搬送中と搬送中以外とで前記ブラシの駆動の状態を変更する請求項５に記載の自動分析装置。
8. 前記駆動機構は、前記検査容器が前記サンプルを収容している状態と収容していない状態とで前記ブラシの駆動の状態を変更する請求項５乃至７のうちいずれかひとつに記載の自動分析装置。
9. 前記検査容器に収容されている前記サンプルの成分を光学的に測定する測光機構を備え、
   前記ブラシは、前記検査容器の搬送方向に対して前記測光機構の手前に配置される請求項１乃至８のうちいずれかひとつに記載の自動分析装置。
10. 前記ブラシは、毛の長さが一定でない請求項１乃至９のうちいずれかひとつに記載の自動分析装置。
11. 前記所定の経路は環状であり、前記所定の経路の半径方向における幅が前記検査容器より大きい構造物を前記検査容器どうしの間に配置する請求項１乃至１０のうちいずれかひとつに記載の自動分析装置。

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