JP2014073642A - 透明導電性ガラス基板、及びタッチパネル - Google Patents
透明導電性ガラス基板、及びタッチパネル Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014073642A JP2014073642A JP2012222620A JP2012222620A JP2014073642A JP 2014073642 A JP2014073642 A JP 2014073642A JP 2012222620 A JP2012222620 A JP 2012222620A JP 2012222620 A JP2012222620 A JP 2012222620A JP 2014073642 A JP2014073642 A JP 2014073642A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent
- layer
- transparent conductive
- glass substrate
- dielectric layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3655—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating containing at least one conducting layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3668—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having electrical properties
- C03C17/3671—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having electrical properties specially adapted for use as electrodes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
- B32B2307/202—Conductive
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
- B32B2307/204—Di-electric
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/30—Properties of the layers or laminate having particular thermal properties
- B32B2307/306—Resistant to heat
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/412—Transparent
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/416—Reflective
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
- B32B2457/208—Touch screens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/90—Other aspects of coatings
- C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
- C03C2217/948—Layers comprising indium tin oxide [ITO]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/365—Coating different sides of a glass substrate
Abstract
【課題】透明導電膜のパターンが目立つことが無く視認性が向上する透明基板及びタッチパネルの提案。
【解決手段】ガラス基板2の表面にアンダーコート層3を積層し、その上に高屈折率の透明誘電体層4と低屈折率の透明誘電体層5を積層し、さらにその上に透明導電層6を積層した透明導電性ガラス基板1とする。透明導電性ガラス基板1を、パターニング工程によって透明導電層6の一部を除去した後に、タッチパネル等の電子デバイスを作製する際に、透明導電層6側に透明接着層7を積層した場合に、第2の透明誘電体層5と透明接着層7の界面(A側)での反射率と、透明導電層6と透明接着層7の界面(B側)での反射率とが略同一となるように、第1の透明誘電体層4、第2の透明誘電体層5、透明導電層6の各層の厚みと屈折率を設計して、透明導電性ガラス基板1を作製する。
【選択図】図3
【解決手段】ガラス基板2の表面にアンダーコート層3を積層し、その上に高屈折率の透明誘電体層4と低屈折率の透明誘電体層5を積層し、さらにその上に透明導電層6を積層した透明導電性ガラス基板1とする。透明導電性ガラス基板1を、パターニング工程によって透明導電層6の一部を除去した後に、タッチパネル等の電子デバイスを作製する際に、透明導電層6側に透明接着層7を積層した場合に、第2の透明誘電体層5と透明接着層7の界面(A側)での反射率と、透明導電層6と透明接着層7の界面(B側)での反射率とが略同一となるように、第1の透明誘電体層4、第2の透明誘電体層5、透明導電層6の各層の厚みと屈折率を設計して、透明導電性ガラス基板1を作製する。
【選択図】図3
Description
本発明は、携帯電話、スマートフォン、タブレット型やノート型のPC、銀行のATMや券売機等に用いられるタッチパネルと、当該タッチパネル等の電子デバイスに用いられる透明導電性ガラス基板に関する。
銀行のATMやゲームセンターのゲーム、鉄道やバス等の券売機に、従来からタッチパネルが使用されている。表示装置にタッチパネルを搭載することで、表示装置に表示された情報から視覚を通じて直感的に機器の操作を行うことが可能となるため、タッチパネルを搭載した装置の操作が容易となるという利点を有する。
また、タッチパネルは、表示装置内に入力装置を搭載することを可能とするため、別途入力装置を設ける必要がなく、装置全体の小型化を可能にする。従って、小型化が要求される携帯電話やスマートフォン、携帯型ゲーム機器、タブレット型PCやノート型PCに、近年、タッチパネルが好適に使用されている。
タッチパネルは、使用用途に合わせて、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等、種々の方式が採用されるが、複数点の同時の位置検出を可能とするため、近年、静電容量方式のタッチパネルが、スマートフォンやタブレット型PC等に採用されている。
静電容量方式のタッチパネルでは、透明誘電体の両側に縦横2層からなる透明導電層を設け、操作者が指等の導体をタッチパネルに接触することで、接触位置の電極の静電容量の変化を縦横2つの電極列から知ることができ、接触位置を精密に判別できるようになっている。従って、静電容量方式のタッチパネルでは、その接触位置を正確に判別するために、ガラス基板等の透明誘電体の全面に、精密な線状(縦横では格子状)に透明導電膜を形成(パターンニング)する必要がある。よって、ガラス基板等の透明誘電体上には、透明導電膜が形成されている領域と、透明導電膜が形成されていない領域が、存在することになる。透明導電膜は、文字通りの透明であるため、一般的には、透明導電膜の形成パターンを視認できないものとされている。
しかしながら、透明導電膜は、透明であるといっても、ガラス基板上における透明導電膜の有無によって反射率が異なることため、見方によっては透明導電膜のパターンの形状が目立ってしまい、タッチパネルスクリーンの視認性が悪化し、美観を損なうという問題があった。
この問題を解決するために、下記特許文献1には、透明基板と透明導電膜の間に、透明導電膜が形成された領域の反射率と透明導電膜が形成されていない領域の反射率とを近似させる調節層を設けることが提案されている。これにより、透明基板上に形成された透明導電膜の有無による反射率の違いがある程度抑えられることとなり、タッチパネルの視認性が、ある程度向上されている。
しかしながら、特許文献1に記載の方法を採用した場合に、タッチパネル製造前の透明基板の状態では、透明導電膜のパターンを認識し難く、透明導電膜のパターンが目立たなかったにも関わらず、実際に特許文献1に記載された透明基板を使用してタッチパネルを製造した場合に、透明導電膜のパターンが僅かに目立ってくるという問題が生じていた。
本発明は、上述したような従来技術の問題点を解決するためになされたものであって、透明基板を使用して実際にタッチパネルを製造した場合に、透明導電膜のパターンが目立つことが無く視認性が向上する透明基板及びタッチパネルを提案することを目的とする。
本発明者らは、鋭意研究の結果、透明基板単体の状態で、透明導電層が残存する領域と、透明導電層を除去した領域での反射率の違いを低減したとしても、透明基板は屈折率1.0である大気と界面を形成しており、実際にタッチパネルを製造する場合においては、屈折率1.4〜1.6の透明接着層を介してタッチパネルを製造することとなることに起因して、その界面である大気中と透明接着層との屈折率の差が原因となり、透明基板単体の状態では透明導電層のパターンが目立たなかったとしても、実際にタッチパネルを製造した場合に、透明導電層のパターンが僅かに目立ってくるということを知見し、本発明に至った。
請求項1に係る発明は、ガラス基板と、該ガラス基板の一方の面に形成された少なくとも2層の透明誘電体層と、該透明誘電体層の表面に形成された透明導電層とを含む透明導電性ガラス基板であって、前記透明導電層の一部を除去して前記透明誘電体層の一部を露出させた後に、前記透明誘電体層の露出部及び前記透明導電体層の表面に透明接着層を積層した場合に、前記透明誘電体層と前記透明接着層の界面での反射率と、前記透明導電層と前記透明接着層の界面での反射率とが、略同一となることを特徴とする透明導電性ガラス基板に関する。ここで、本発明中において「透明誘電体層と透明接着層の界面での反射率と、透明導電体層と透明接着層の界面での反射率とが、略同一」とは、具体的には、透明誘電体層と透明接着層の界面での反射率と透明導電層と透明接着層の界面での反射率の差が2%以下のことであり、より好ましくは0.3%以下のことである。また、本発明中において、反射率と屈折率は、全て波長550nmでの値を意味する。
請求項2に係る発明は、前記透明誘電体層は、前記ガラス基板の一方の面に積層された第1透明誘電体層と、該第1透明誘電体層の表面に積層された第2透明誘電体層からなる2層構造を有し、
前記第1の透明誘電体層の物理膜厚と屈折率との積を光学膜厚T1とし、
前記透明導電層の物理膜厚と屈折率との積を光学膜厚Tcとした場合に、
T1≦0.2×Tc+7.9 且つ、
T1≧0.3×Tc−5.3
を満たすことを特徴とする請求項1に記載の透明導電性ガラス基板に関する。
前記第1の透明誘電体層の物理膜厚と屈折率との積を光学膜厚T1とし、
前記透明導電層の物理膜厚と屈折率との積を光学膜厚Tcとした場合に、
T1≦0.2×Tc+7.9 且つ、
T1≧0.3×Tc−5.3
を満たすことを特徴とする請求項1に記載の透明導電性ガラス基板に関する。
請求項3に係る発明は、前記ガラス基板と前記透明誘電体層の間には、アンダーコート層が形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の透明導電性ガラス基板に関する。
請求項4に係る発明は、前記透明接着層の屈折率は、1.4〜1.6である請求項1〜3のいずれかに記載の透明導電性ガラス基板に関する。
請求項5に係る発明は、前記ガラス基板の板厚は、20〜200μmであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の透明導電性ガラス基板に関する。
請求項6に係る発明は、前記ガラス基板は、無アルカリガラスであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の透明導電性ガラス基板に関する。
請求項7に係る発明は、前記ガラス基板の他方の面に反射防止膜層が形成されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の透明導電性ガラス基板に関する。
請求項8に係る発明は、前記ガラス基板の他方の面に、前記透明誘電体層と、前記透明導電層が形成されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の透明導電性ガラス基板に関する。
請求項9に係る発明は、前記ガラス基板の他方の面に、前記アンダーコート層と、前記透明誘電体層と、前記透明導電層が形成されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の透明導電性ガラス基板に関する。
請求項10に係る発明は、請求項1〜7のいずれかに記載の前記透明導電性ガラス基板が、前記透明導電層側が対向するように配置され、前記透明接着層を介して接着されているタッチパネルに関する。
請求項11に係る発明は、請求項8又は9に記載のガラス基板の両面に、前記透明接着層を介してガラスシートが接着されているタッチパネルに関する。
請求項12に係る発明は、少なくとも1枚の前記ガラスシートの前記透明接着層との非接着面側には、反射防止膜層が形成されていることを特徴とする請求項11に記載のタッチパネルに関する。
本発明によれば、実際にタッチパネル等の電子デバイスを作製する際に、本発明の透明導電性ガラス基板の透明導電層のパターン処理後に透明誘電体層の露出部及び透明導電層の表面に透明接着層を積層した場合に、透明誘電体層と透明接着層の界面での反射率と、透明導電層と透明接着層の界面での反射率とが、略同一となるため、この透明導電性ガラス基板を、透明接着層を介してタッチパネル等の電子デバイスに組み込んだとしても、透明導電層のパターンが目立つことが無く、表示装置の表示性能を向上させることが可能となる。言い換えれば、接着前の透明導電性ガラス基板の状態では、透明導電層のパターンが僅かに目立っていたとしても、実際に透明接着層を介してタッチパネル等の電子デバイスに組み込んだ場合に、透明導電層のパターンを目立たなくすることができる。また、透明基板としてガラス基板を使用することで、透明導電層の厚みを薄くすることができ、透明導電層のパターンを目立たなくすることができる。
本発明のある実施態様によれば、ガラス基板の一方の面に積層された第1の透明誘電体層の物理膜厚と屈折率との積を光学膜厚T1とし、透明導電層の物理膜厚と屈折率との積を光学膜厚Tcとした場合に、
T1≦0.2×Tc+7.9 且つ、
T1≧0.3×Tc−5.3
を満たすから、実際にタッチパネル等の電子デバイスを作製する際に、パターン処理後に透明誘電体層の露出部及び透明導電体層の表面に透明接着層を積層することで、透明誘電体層と透明接着層の界面での反射率と、透明導電層と透明接着層の界面での反射率の差を0.3%以下とすることができる。これにより、実際に本発明に係る透明導電性ガラス基板を、パターン処理後に透明接着層を介してタッチパネル等の電子デバイスに組み込んだ場合に、透明導電層のパターンをより確実に目立たなくすることができる。
T1≦0.2×Tc+7.9 且つ、
T1≧0.3×Tc−5.3
を満たすから、実際にタッチパネル等の電子デバイスを作製する際に、パターン処理後に透明誘電体層の露出部及び透明導電体層の表面に透明接着層を積層することで、透明誘電体層と透明接着層の界面での反射率と、透明導電層と透明接着層の界面での反射率の差を0.3%以下とすることができる。これにより、実際に本発明に係る透明導電性ガラス基板を、パターン処理後に透明接着層を介してタッチパネル等の電子デバイスに組み込んだ場合に、透明導電層のパターンをより確実に目立たなくすることができる。
本発明のある実施態様によれば、ガラス基板と透明誘電体層の間には、アンダーコート層が形成されていることから、より確実に、ガラス基板上に第1の透明誘電体層を積層することができる。
本発明のある実施態様によれば、透明接着層の屈折率は、1.4〜1.6であることから、実際にタッチパネル等の電子デバイスを作製する際に、電子デバイス作製前には僅かに透明導電層のパターンが目立っていたとしても、実際に本発明に係る透明導電性ガラス基板を、パターン処理後に透明接着層を介してタッチパネル等の電子デバイスに組み込んだ場合に、透明導電層のパターンをより確実に目立たなくすることができる。また、透明接着層の屈折率は、1.4〜1.6と規定することで、透明誘電体層と透明接着層の界面での反射率と、透明導電体層と透明接着層の界面での反射率が、設計値から乖離することを防止することができる。
本発明のある実施態様によれば、ガラス基板の板厚は、20〜200μmであることから、可撓性があり、曲面を有するタッチパネル等のデバイスへの応用が可能となる。
本発明のある実施態様によれば、ガラス基板は、無アルカリガラスであることから、ガラス基板の透明性が一般的なソーダガラスより向上するため、タッチパネル等の表示装置に本発明を使用した場合に、内部に存在する表示装置の視認性を向上させることができる。
本発明のある実施態様によれば、ガラス基板の他方の面に反射防止膜層が形成され、反射防止膜の視感反射率が0.5%以下であることから、映り込みを防止し、より確実に表示装置の視認性を向上させることができる。表面に反射防止処理を施した場合については、透明導電層のパターンがより目立つ傾向にあるが、本発明に係る透明導電性ガラス基板を使用することで、タッチパネル等の電子デバイスに組み込んだ際に、透明導電層のパターンを目立たなくすることができる。透明樹脂体は耐熱性が低く、表面にスパッタ処理等による反射防止膜の成膜を行うことが困難であるが、ガラス基板は耐熱性に優れるため、容易に反射防止膜を形成することができる。
以下、本発明に係る透明導電性ガラス基板およびタッチパネルの好適な実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態に係る透明導電性ガラス基板(1)は、図1に示す通り、ガラス基板(2)上にアンダーコート層(3)、第1の透明誘電体層(4)、第2の透明誘電体層(5)及び透明導電層(6)が形成されている。
本発明の第1の実施形態に係る透明導電性ガラス基板(1)は、図1に示す通り、ガラス基板(2)上にアンダーコート層(3)、第1の透明誘電体層(4)、第2の透明誘電体層(5)及び透明導電層(6)が形成されている。
ガラス基板(2)としては、ケイ酸塩ガラスが用いられ、好ましくはシリカガラス、ホウ珪酸ガラス、ソーダライムガラス、アルミノ珪酸塩ガラスが用いられ、最も好ましくは無アルカリガラスが用いられる。ガラス基板(2)として無アルカリガラスを使用することで、透明導電性ガラス基板(1)の透明性を向上させることができ、タッチパネルとして使用した場合に、内部の表示装置の色味が損なわれるのを防止することができる。また、ガラスは一般的に耐候性に優れるが、ガラス基板(2)にアルカリ成分が含有されている場合には、表面において陽イオンが脱落し、いわゆるソーダ吹きの現象が生じ、構造的に粗となるおそれがあり、ガラス基板(2)の透光性が悪化するおそれがある。加えて、ガガラス基板(2)をフィルム化することで可撓性を付与し、湾曲させて使用していると、経年劣化により粗となった部分から破損する可能性がある。尚、ここで無アルカリガラスとは、アルカリ成分(アルカリ金属酸化物)が実質的に含まれていないガラスのことであって、具体的には、アルカリ成分の重量比が1000ppm以下のガラスのことである。本発明でのアルカリ成分の重量比は、好ましくは500ppm以下であり、より好ましくは300ppm以下である。
ガラス基板(2)の厚みは、20μm〜200μmが好ましく、50μm〜100μmが最も好ましい。これによりガラス基板(2)の厚みをより薄くして、透明導電性ガラス基板(1)の軽量化を行うことができるとともに、可撓性を付与することで曲面デバイス(フレキシブルデバイス)のガラス基板として使用することができる。ガラス基板(2)の厚みが20μm未満であると、ガラス基板(2)の強度が不足がちになるおそれがある。
本発明に使用されるガラス基板(2)は、公知のフロート法、ロールアウト法、スロットダウンドロー法、リドロー法等を使用することで製造することができるが、図2に示す通り、オーバーフローダウンドロー法によって成形されていることが好ましい。これにより、厚み300μm以下のガラス基板(ガラスフィルム)を大量かつ安価に作製することができる。オーバーフローダウンドロー法により作製されたガラス基板(2)は、研磨や研削、ケミカルエッチング等によってガラス基板(2)の厚みの調整をする必要がない。また、オーバーフローダウンドロー法は、成形時にガラス板の両面が、成形部材と接触しない成形法であり、得られたガラス板の両面(透光面)は火づくり面となっており、研磨しなくても高い表面品位を得ることができる。これにより、アンダーコート層(3)や第1の透明誘電体層(4)との密着力を向上させることができる。
成形装置(10)の内部には、断面楔状の外表面形状を有する成形体(101)が配設されており、図示しない溶融窯で溶融されたガラス(溶融ガラス)を成形体(101)に供給することで、当該溶融ガラスが成形体(101)の頂部から溢れ出るようになっている。そして、溢れ出た溶融ガラスは、成形体(101)の断面楔状を呈する両側面を伝って下端で合流することで、溶融ガラスからガラスフィルムリボン(G)の成形が開始されるようになっている。成形体(101)下端で合流した直後のガラスリボン(G)は、冷却ローラ(102)によって幅方向の収縮が規制されながら下方へ引き伸ばされて所定の厚みまで薄くなる。次に、前記所定厚みに達したガラスリボン(G)をローラ(103)で送りだすことにより、徐冷炉(アニーラ)で徐々に冷却し、ガラスリボン(G)の熱歪を除き、徐冷されたガラスフィルムリボン(G)を室温程度の温度にまで十分に冷却するようになっている。徐冷炉を通過したガラスフィルムリボン(G)は、湾曲補助ローラ(104)によって鉛直方向から水平方向へと進行方向を変えた後、ガラスフィルムリボン(G)の幅方向両端部に存在する不要部分(冷却ローラ(102)やローラ(103)等が接触した部分)を長手方向切断装置(105)で切断する。その後、幅方向切断装置(106)で所定幅毎に切断を行うことによって、本発明で使用されるガラス基板(2)を得ることができる。尚、幅方向切断装置(106)で幅方向に切断した後、長手方向切断装置(105)でガラスフィルムリボン(G)の不要部分を切断除去することによって、ガラス基板(2)を作製してもよい。また、上述の成形装置(10)では、枚葉式でガラス基板(2)を作製する方法について説明したが、これには限定されず、長手方向切断装置(105)によって不要部分を切断した後に幅方向に切断することなく、合紙を介してガラスフィルムリボン(G)をロール状に巻き取ることによってガラスロールを作製し、後述する成膜工程をいわゆるロール・ツー・ロール方式で行っても良い。また、上述の成形装置(10)では、可撓性のあるフィルム状のガラス基板(2)を製造する方法について説明したが、これには限定されず、比較的厚みのある500μm以上のガラス基板(2)を成形する場合には、湾曲補助ローラ(104)を設けずに幅方向切断装置(106)で所定幅ずつ切断することで、枚様式でガラス基板(2)を製造することもできる。
アンダーコート層(3)は、ガラス基板(2)と第1の透明誘電体層(4)との間に設けられ、ガラス基板(2)上に第1の透明誘電体層(4)を積層するためのアンダーコート層として用いられる。従って、第1の透明誘電体層(4)を適宜選択することにより、ガラス基板(2)上に直接第1の透明誘電体層(4)を積層することができる場合については、アンダーコート層(3)を省略することができる。
アンダーコート層(3)としては、ガラス基板(2)と第1の透明誘電体層(4)とを密着させることができ、バリア性、透明性、成膜コスト、屈折率の関係から、特に酸化ケイ素、酸化スズを使用することが好ましい。
第1の透明誘電体層(4)は、後述する第2の透明誘電体層(5)よりも屈折率の高い物質で構成された層である。第1の透明誘電体層(4)の屈折率は、2.0〜2.5であることが好ましく、2.2〜2.4であることがより好ましい。第1の透明誘電体層(4)としては、第2の透明誘電体層(5)よりも屈折率が高い物質であれば、特に限定されず、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化ハフニウム、酸化チタン、酸化スズ及び酸化亜鉛等から選択される1種を使用することができる。中でも、透明性、成膜の容易性、成膜コスト、屈折率の関係から、酸化ニオブを使用することが好ましい。
第2の透明誘電体層(5)は、第1の透明誘電体層(4)よりも屈折率の低い物質で構成された層である。第2の透明誘電体層(5)の屈折率は、1.35〜1.9であることが好ましい。第2の透明誘電体層(5)としては、第1の透明誘電体層(4)よりも屈折率が低い物質であれば、特に限定されず、酸化ケイ素、酸化アルミニウム及びフッ化マグネシウムから選択される1種を使用することができる。中でも、透明性、成膜の容易性、成膜コスト、屈折率の関係から、酸化ケイ素を使用することが好ましい。
図1では、屈折率の高い第1の透明誘電体層(4)と屈折率の低い第2の透明誘電体層(5)の2層構造を呈しているが、これには限定されず、屈折率の低い透明誘電体層と屈折率の高い透明誘電体層を、さらに交互に積層することもできる。
透明導電層(6)は、誘電体であるガラス基板(2)に導電性を付与するために設けられる層である。透明導電層(6)の屈折率は、1.7〜2.3であることが好ましく、1.9〜2.1であることがより好ましい。透明導電層(6)は、金、銀、アルミニウム等の金属薄膜、スズ含有酸化インジウム(ITO)、アンチモン含有酸化スズ、フッ素含有酸化スズ、アルミニウム含有酸化亜鉛等の酸化物薄膜が使用可能であり、特にITOは、成膜が比較的容易であるとともに、可視光線の透過率を高くできるため好ましい。
アンダーコート層(3)、第1の透明誘電体層(4)、第2の透明誘電体層(5)、透明導電層(6)は、イオンプレーティング法、スパッタ法、真空蒸着法等を用いて成膜することできるが、特に、スパッタ法を用いると、緻密な膜が形成でき、耐摩耗性に優れるため好ましい。また、本発明では、透明導電性ガラス基板(1)を使用しているため、基材として透明樹脂板を使用する場合と比較して、耐熱性に優れる。従って、本発明であるガラス基板(2)上に透明導電層(6)を成膜する場合において、150℃以上の高温環境下での成膜工程を行うことができ、体積抵抗率の低い膜を形成することができる。これにより、常温で成膜した場合と比較して、透明導電層(6)の膜厚を約50%薄くすることが可能となり、パターニング後に、透明導電層(6)のパターンが目立つことをより確実に防止することができる。
図3は、本発明の第1の実施形態に係る透明導電性ガラス基板(1)にパターン化されたレジスト層を形成し、透明導電層(6)の一部の除去及びレジストの除去を行った後に、透明接着層(7)を積層した状態を示した断面図である。
本発明に係る透明導電性ガラス基板(1)は、タッチパネル等の電子デバイス等に使用するため、透明導電層(6)の成膜後に、図示しないレジスト層を形成する。次に、塩酸等のエッチング液を用いて、パターニングされたレジスト膜の上から、透明導電層(6)をパターニングするエッチング工程を行う。次に、KOH等の剥離液を用いて、透明導電層(6)の上からレジスト層を剥離する剥離工程を行う。
透明導電層(6)のパターニング後に、図3に記載されている通り、透明接着層(7)を積層する。透明接着層(7)の材質については、特には限定されず、両面粘着シート、熱可塑性接着シート、熱架橋性接着シート、エネルギー硬化性の液体接着剤等を使用することができ、例えば、光学透明粘着シート、EVA、TPU、PVB、アイオノプラスト樹脂、アクリル系熱可塑性接着シート、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、常温硬化型接着剤等を使用して接着してもよい。接着剤を使用する場合は、接着後に透明状態を呈する接着剤を使用することが好ましい。
透明接着層(6)の屈折率は、1.4〜1.6であることが好ましい。これにより、本発明に係る透明導電性ガラス基板(1)をタッチパネル等の電子デバイスに使用した場合に、透明導電層(6)のパターンをより目立たなくすることができる。また、透明接着層(6)の屈折率を一定の範囲に制限することで、第1の透明導電体層(4)と第2の透明導電体層(5)の設計を容易にすることができる。
本発明の透明導電性ガラス基板(1)においては、図3に示す透明導電層(6)が存在し、透明導電層(6)と透明接着層(7)とで界面(61)を形成する領域Aと、透明導電層(6)が存在せず、第2の誘電体層(5)と透明接着層(7)とで界面(51)を形成する領域Bの反射率が、略同一となるように、第1の透明誘電体層(4)、第2の透明誘電体層(5)、及び透明導電層(6)の屈折率と厚みを設計する。これにより、接着前の透明導電性ガラス基板(1)の状態では、透明導電層(6)のパターンが僅かに目立っていたとしても、実際に本発明に係る透明導電性ガラス基板(1)を、透明接着層(7)を介してタッチパネル等の電子デバイスに組み込んだ場合には、透明導電層(6)のパターンを目立たなくすることができる。
図4は、図3における領域AとBの、基板正面側(透明接着層(7)側)から見た、反射率差分の関係を表した図である。
図4は、基板正面側(透明接着層(7)側)からの、透明導電層(6)の光学膜厚Tc及び第1の透明誘電体層(4)の光学膜厚T1における、透明導電層(6)の残存領域(図3の領域A)と除去領域(図3の領域B)の反射率差分を示している。ここで、光学膜厚とは、物理的な層の膜厚とその層を形成する物質の屈折率を乗じた数である。
図4の破線で示される通り、
T1≦0.2×Tc+7.9 且つ T1≧0.3×Tc−5.3
を満たすように、第1の透明誘電体層(4)の光学膜厚と透明導電層(6)の光学膜厚を設計することが好ましい。これにより、透明導電層(6)の残存領域(図3の領域A)と除去領域(図3の領域B)の反射率の差を0.3%以下とすることができることがわかる。
T1≦0.2×Tc+7.9 且つ T1≧0.3×Tc−5.3
を満たすように、第1の透明誘電体層(4)の光学膜厚と透明導電層(6)の光学膜厚を設計することが好ましい。これにより、透明導電層(6)の残存領域(図3の領域A)と除去領域(図3の領域B)の反射率の差を0.3%以下とすることができることがわかる。
図5は、図3における領域AとBの、基板背面側(ガラス基板(2)側)から見た、反射率差分の関係である。
図5は、基板背面側(ガラス基板(2)側)から見た、透明導電層(6)の光学膜厚Tc及び第1の透明誘電体層(4)の光学膜厚T1における、透明導電層(6)の残存領域(図3の領域A)と除去領域(図3の領域B)の反射率差分の関係を示している。ここで、光学膜厚とは、物理的な層の膜厚とその層を形成する物質の屈折率を乗じた数である。
図5の破線で示される通り、
T1≦0.2×Tc+7.1 且つ T1≧0.3×Tc−5.0
を満たすように、第1の透明誘電体層(4)と透明導電層(6)を設計することが好ましい。これにより、透明導電層(6)の残存領域(図3の領域A)と除去領域(図3の領域B)の反射率の差を0.3%以下とすることができる。
T1≦0.2×Tc+7.1 且つ T1≧0.3×Tc−5.0
を満たすように、第1の透明誘電体層(4)と透明導電層(6)を設計することが好ましい。これにより、透明導電層(6)の残存領域(図3の領域A)と除去領域(図3の領域B)の反射率の差を0.3%以下とすることができる。
従って、図4と図5から、
T1≦0.2×Tc+7.9 且つ T1≧0.3×Tc−5.3
を満たすように、第1の透明誘電体層(4)と透明導電層(6)を設計すれば、本発明に係る透明導電性ガラス基板(1)を、タッチパネル等のデバイスに好適に使用することができ、
T1≦0.2×Tc+7.1 且つ T1≧0.3×Tc−5.0
を満たすように、第1の透明誘電体層(4)と透明導電層(6)を設計すれば、本発明に係る透明導電性ガラス基板(1)を、タッチパネル等のデバイスに更に好適に使用することができることがわかる。
T1≦0.2×Tc+7.9 且つ T1≧0.3×Tc−5.3
を満たすように、第1の透明誘電体層(4)と透明導電層(6)を設計すれば、本発明に係る透明導電性ガラス基板(1)を、タッチパネル等のデバイスに好適に使用することができ、
T1≦0.2×Tc+7.1 且つ T1≧0.3×Tc−5.0
を満たすように、第1の透明誘電体層(4)と透明導電層(6)を設計すれば、本発明に係る透明導電性ガラス基板(1)を、タッチパネル等のデバイスに更に好適に使用することができることがわかる。
図6は、透明導電層(6)の光学膜厚と第2の透明誘電体層(5)の光学膜厚との最適値を示した図である。図4、図5、図6に示したグラフの関係を適用して、第1の透明導電誘電体層(4)の屈折率と膜厚、第2の透明誘電体層(5)の屈折率と膜厚、透明導電層(6)の屈折率と膜厚を決定することが好ましい。
(第2の実施形態)
本発明の第2の実施形態に係る透明導電性ガラス基板(1)は、図7に示す通り、ガラス基板(2)の一方の面(21)にアンダーコート層(3a)第1の透明誘電体層(4a)と第2の透明誘電体層(5a)と透明導電層(6a)が形成され、他方の面(21)にアンダーコート層(3b)第1の透明誘電体層(4b)と第2の透明誘電体層(5b)と透明導電層(6b)が形成されている。アンダーコート層(3a)(3b)、第1の透明誘電体層(4a)(4b)と第2の透明誘電体層(5a)(5b)と透明導電層(6a)(6b)の構成については、特に後述している事項以外は、上述した第1の実施形態と同様である。
本発明の第2の実施形態に係る透明導電性ガラス基板(1)は、図7に示す通り、ガラス基板(2)の一方の面(21)にアンダーコート層(3a)第1の透明誘電体層(4a)と第2の透明誘電体層(5a)と透明導電層(6a)が形成され、他方の面(21)にアンダーコート層(3b)第1の透明誘電体層(4b)と第2の透明誘電体層(5b)と透明導電層(6b)が形成されている。アンダーコート層(3a)(3b)、第1の透明誘電体層(4a)(4b)と第2の透明誘電体層(5a)(5b)と透明導電層(6a)(6b)の構成については、特に後述している事項以外は、上述した第1の実施形態と同様である。
図8は、本発明の第2の実施形態に係る透明導電性ガラス基板(1)に、パターン化されたレジスト層を形成し、透明導電層(6a)(6b)の一部を除去した後に、透明接着層(7a)(7b)を積層した状態を示した断面図である。透明導電層(6a)(6b)のパターニングの方法、透明接着層(7a)(7b)の構成については、上述した第1の実施形態と同様である。
第2実施形態に係る透明導電性ガラス基板(1)においては、図8に示す透明導電層(6a)(6b)が存在し、一方の面(21)側では透明導電層(6a)と透明接着層(7a)とで界面(61a)を形成し、他方の面(22)側では第2の透明誘電体層(5b)と透明接着層(7b)とで界面(51b)を形成する領域Cと、一方の面(21)側では第2の透明誘電体層(5a)と透明接着層(7a)とで界面(51a)を形成し、他方の面(22)側では透明導電層(6b)と透明接着層(7b)とで界面(61b)を形成する領域Dと、一方の面(21)側では第2の透明誘電体層(5a)と透明接着層(7a)とで界面(51a)を形成し、他方の面(22)側では第2の透明誘電体層(5b)と透明接着層(7b)とで界面(51b)を形成する領域Eと、一方の面(21)側では透明導電層(6a)と透明接着層(7a)とで界面(61a)を形成し、他方の面(22)側では透明導電層(6b)と透明接着層(7b)とで界面(61b)を形成する領域Fの反射率が、略同一となるように、第1の透明誘電体層(4a)(4b)と第2の透明誘電体層(5a)(5b)と、透明導電層(6a)(6b)の屈折率と厚みを設計する。これにより、接着前の透明導電性ガラス基板(1)の状態では、透明導電層(6)のパターンが僅かに目立っていたとしても、実際に本発明に係る透明導電性ガラス基板(1)を、透明接着層(7)を介してタッチパネル等の電子デバイスに組み込んだ場合には、透明導電層(6)のパターンを目立たなくすることができる。具体的には、夫々条件の異なる領域C、領域D、領域E、領域Fの反射率の差分を低減する必要があり、ガラス基板(2)の両面(表裏面)での表面反射率である8%の半分である4%以下、つまり、片面分で反射率差分を2%以下にすることにより、透明導電層(6)のパターンが目立ち難くなる。加えて、ガラス基板(2)の両面(表裏面)での反射率差分を0.6%以下、つまり、片面分の反射率差分を0.3%以下にすることにより、更に透明導電層(6)のパターンが目立ち難くなる。透明導電層(6a)の光学膜厚Tc及び第1の透明誘電体層(4a)の光学膜厚T1を、上述の図4から導き出される式と同様、
T1≦0.2×Tc+7.9 且つ T1≧0.3×Tc−5.3
を満たすように、第1の透明誘電体層(4a)の光学膜厚と透明導電層(6a)の光学膜厚を設計することが好ましい。また、透明導電層(6b)の光学膜厚Tc及び第1の透明誘電体層(4b)の光学膜厚T1を、上述の図5から導き出される式と同様、
T1≦0.2×Tc+7.1 且つ T1≧0.3×Tc−5.0を満たすように、第1の透明誘電体層(4b)の光学膜厚と透明導電層(6b)の光学膜厚を設計することが好ましい。また、透明導電層(6b)の光学膜厚Tc及び第1の透明誘電体層(4b)の光学膜厚T1を、
T1≦0.2×Tc+7.9 且つ T1≧0.3×Tc−5.3を満たすようにしても略同等の特性が得られる。
T1≦0.2×Tc+7.9 且つ T1≧0.3×Tc−5.3
を満たすように、第1の透明誘電体層(4a)の光学膜厚と透明導電層(6a)の光学膜厚を設計することが好ましい。また、透明導電層(6b)の光学膜厚Tc及び第1の透明誘電体層(4b)の光学膜厚T1を、上述の図5から導き出される式と同様、
T1≦0.2×Tc+7.1 且つ T1≧0.3×Tc−5.0を満たすように、第1の透明誘電体層(4b)の光学膜厚と透明導電層(6b)の光学膜厚を設計することが好ましい。また、透明導電層(6b)の光学膜厚Tc及び第1の透明誘電体層(4b)の光学膜厚T1を、
T1≦0.2×Tc+7.9 且つ T1≧0.3×Tc−5.3を満たすようにしても略同等の特性が得られる。
(第3の実施形態)
本発明の第3の実施形態に係る透明導電性ガラス基板(1)は、図9に示す通り、ガラス基板(2)の一方の面(21)にアンダーコート層(3)、第1の透明誘電体層(4)、第2の透明誘電体層(5)及び透明導電層(6)が形成され、他方の面(22)に多層構造の反射防止膜層(8)が形成されている。反射防止膜層(8)の視感反射率は0.5%以下であることが好ましい。これにより、映り込みを防止し、視認性の良いタッチパネル等の電子デバイスを製造することができる。アンダーコート層(3)、第1の透明誘電体層(4)と第2の透明誘電体層(5)と透明導電層(6)の構成については、第1の実施形態と同様である。
本発明の第3の実施形態に係る透明導電性ガラス基板(1)は、図9に示す通り、ガラス基板(2)の一方の面(21)にアンダーコート層(3)、第1の透明誘電体層(4)、第2の透明誘電体層(5)及び透明導電層(6)が形成され、他方の面(22)に多層構造の反射防止膜層(8)が形成されている。反射防止膜層(8)の視感反射率は0.5%以下であることが好ましい。これにより、映り込みを防止し、視認性の良いタッチパネル等の電子デバイスを製造することができる。アンダーコート層(3)、第1の透明誘電体層(4)と第2の透明誘電体層(5)と透明導電層(6)の構成については、第1の実施形態と同様である。
反射防止膜層(8)は、無機材料から構成されていることが好ましく、例えば、低屈折率層と高屈折率層の交互膜からなることがより好ましい。低屈折率層と高屈折率層の交互膜としては、反射防止膜層(8)の層数が4〜20層であることが好ましい。
低屈折率層としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム及びフッ化マグネシウムからなる群から選ばれた一種であることが好ましく、片面における低屈折膜の総物理膜厚は100nm〜700nmであることが好ましい。また、高屈折率膜としては、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化ハフニウム、酸化チタン、酸化スズ及び酸化亜鉛からなる群から選ばれた一種であることが好ましく、片面における高屈折率膜の総物理膜厚は、50nm〜400nmであることが好ましい。
ガラス基板(2)に反射防止膜層(8)を形成する方法としては、スパッタ法、真空蒸着法、ディッピング法、スピンコート法、イオンプレーティング法、CVD法等の方法が利用可能であるが、特にスパッタ法を採用すると、膜厚が均一で、ガラス基板(2)との接着が強固で、しかも膜硬度が高くなるため好ましい。
(第4の実施形態)
本発明の第4の実施形態は、図10に示す通り、第1の実施形態に係る透明導電性ガラス基板(1)を、透明導電層(6)のパターニング後に透明接着層(7)を介して貼り合わせることで電子デバイス(タッチパネル(13))を作製している。
本発明の第4の実施形態は、図10に示す通り、第1の実施形態に係る透明導電性ガラス基板(1)を、透明導電層(6)のパターニング後に透明接着層(7)を介して貼り合わせることで電子デバイス(タッチパネル(13))を作製している。
ガラス基板(2)として、厚み50μmの日本電気硝子株式会社製の無アルカリガラス(製品名:OA−10G、30〜380℃における熱膨張係数:38×10−7/℃)を用意した。ガラス基板(2)の一方の面(21)にスパッタリング法を用いることで、下層から、酸化ケイ素(SiO2)からなるアンダーコート層(3)、酸化ニオブ(Nb2O5)からなる第1の透明誘電体層(4)、酸化ケイ素(SiO2)からなる第2の透明誘電体層(5)、ITOからなる透明導電層(6)を順に積層することで、図1に示す透明導電性ガラス基板(1)を作製した。図4、図5、図6の関係から、透明接着層(7)を積層した場合に、透明導電層(6)の有無による反射率の差分が0.01%となるように、基板正面から見る透明導電性ガラス基板(11)のアンダーコート層(3)の光学膜厚を15nm、第1の透明誘電体層(4)の光学膜厚を10nm、第2の透明誘電体層(5)の光学膜厚を78nm、透明導電層(6)の光学膜厚を33nmとした。一方、透明接着層(7)を積層した場合に、透明導電層(6)の有無による反射率の差分が0.01%となるように、基板背面から見る透明導電性ガラス基板(12)のアンダーコート層(3)の光学膜厚を15nm、第1の透明誘電体層(4)の光学膜厚を9nm、第2の透明誘電体層(5)の光学膜厚を82nm、透明導電層(6)の光学膜厚を33nmとした。基板正面から見る透明導電性ガラス基板(11)と基板背面から見る透明導電性ガラス基板(12)の透明導電層(6)の表面にパターン化されたレジスト層を形成した。その後、塩酸によって、透明導電層(6)のエッチングを行った。その後、レジスト層を、KOHによって、除去した。その後、透明導電層(6)の表面に、透明接着層(7)を形成し、基板正面から見る透明導電性ガラス基板(11)と基板背面から見る透明導電性ガラス基板(12)を、透明導電層(6)が対向するように接着することで、図10に示すタッチパネル(13)を作製した。作製したタッチパネル(13)を、基板背面から見る透明導電性ガラス基板(12)側から(図10の上部から)観察したところ、透明導電層(6)のパターンは、目立たなかった。反射率を測定したところ、その最大反射率と最小反射率の差分は0.02%であった。
(第5の実施形態)
本発明の第5の実施形態は、図11に示す通り、第2の実施形態に係る透明導電性ガラス基板(1)の透明導電層(6a)(6b)のパターニング後に、両外面に透明接着層(7a)(7b)を積層した後にガラスシート(9a)(9b)を貼り合わせることで、電子デバイス(タッチパネル(13))を作製している。
本発明の第5の実施形態は、図11に示す通り、第2の実施形態に係る透明導電性ガラス基板(1)の透明導電層(6a)(6b)のパターニング後に、両外面に透明接着層(7a)(7b)を積層した後にガラスシート(9a)(9b)を貼り合わせることで、電子デバイス(タッチパネル(13))を作製している。
ガラス基板(2)として、厚み50μmの日本電気硝子株式会社製の無アルカリガラス(製品名:OA−10G、30〜380℃における熱膨張係数:38×10−7/℃)を用意した。ガラス基板(2)の一方の面(21)にスパッタリング法を用いることで、ガラス基板側から酸化ケイ素(SiO2)からなるアンダーコート層(3a)、酸化ニオブ(Nb2O5)からなる第1の透明誘電体層(4a)、酸化ケイ素(SiO2)からなる第2の透明誘電体層(5a)、ITOからなる透明導電層(6a)を、他方の面(22)に、ガラス基板側から酸化ケイ素(SiO2)からなるアンダーコート層(3b)、酸化ニオブ(Nb2O5)からなる第1の透明誘電体層(4b)、酸化ケイ素(SiO2)からなる第2の透明誘電体層(5b)、ITOからなる透明導電層(6b)を順に積層することで、図7に示す透明導電性ガラス基板(1)を作製した。図4、図5、図6の関係から、透明接着層(7a)(7b)を積層した場合に、透明導電層(6)の有無による反射率の差分が0.01%となるように、透明導電性ガラス基板(1)の一方の面(21)側のアンダーコート層(3a)の光学膜厚を15nm、第1の透明誘電体層(4a)の光学膜厚を10nm、第2の透明誘電体層(5a)の光学膜厚を78nm、透明導電層(6)の光学膜厚を33nmとした。一方、透明接着層(7)を積層した場合に、透明導電層(6)の有無による反射率の差分が0.01%となるように、透明導電性ガラス基板(1)の他方の面(22)側のアンダーコート層(3)の光学膜厚を15nm、第1の透明誘電体層(4)の光学膜厚を9nm、第2の透明誘電体層(5)の光学膜厚を82nm、透明導電層(6)の光学膜厚を33nmとした。透明導電性ガラス基板(1)の透明導電層(6a)(6b)の表面にパターン化されたレジスト層を形成した。その後、塩酸によって、透明導電層(6a)(6b)のエッチングを行った。その後、レジスト層の残りの部分を、KOHによって、除去した。その後、透明導電層(6a)(6b)の表面に、透明接着層(7a)(7b)を形成し、厚み100μmのガラスシート(9a)(9b)を接着することで、図11に示すタッチパネル(13)を作製した。作製したタッチパネル(13)を、ガラス基板(2)の一方の面(21)側から(図11の上部から)観察したところ、透明導電層(6a)(6b)のパターンは、目立たなかった。反射率を測定したところ、その最大反射率と最小反射率の差分は0.02%であった。
(第6の実施形態)
本発明に係る第6の実施形態は、図12に示す通り、第3の実施形態に係る透明導電性ガラス基板(1)を、透明導電層(6)のパターニング後に透明接着層(7)を介して貼り合わせることで電子デバイス(タッチパネル(13))を作製している。ガラス基板(2)の他方の面(22)に反射防止膜層(8)が形成されている以外は、上述の第4の実施形態と同様である。反射防止膜層(8)は、夫々、SiO2からなる低屈折率膜と、Nb2O5からなる高屈折率膜との5層の交互膜である。ガラス基板(2)側には、Nb2O5からなる高屈折率膜が、最外層にはSiO2からなる低屈折率膜が形成されている。
本発明に係る第6の実施形態は、図12に示す通り、第3の実施形態に係る透明導電性ガラス基板(1)を、透明導電層(6)のパターニング後に透明接着層(7)を介して貼り合わせることで電子デバイス(タッチパネル(13))を作製している。ガラス基板(2)の他方の面(22)に反射防止膜層(8)が形成されている以外は、上述の第4の実施形態と同様である。反射防止膜層(8)は、夫々、SiO2からなる低屈折率膜と、Nb2O5からなる高屈折率膜との5層の交互膜である。ガラス基板(2)側には、Nb2O5からなる高屈折率膜が、最外層にはSiO2からなる低屈折率膜が形成されている。
(第7の実施形態)
本発明に係る第7の実施形態は、図13に示す通り、上述した第5の実施形態に係るガラスシート(9a)(9b)の最外層に更に反射防止膜層(8a)(8b)が設けられたタッチパネルである。反射防止膜層(8a)(8b)の構成は、上述した第6の実施形態と同様であり、それ以外の構成についても、上述した第5の実施形態と同様となっている。
本発明に係る第7の実施形態は、図13に示す通り、上述した第5の実施形態に係るガラスシート(9a)(9b)の最外層に更に反射防止膜層(8a)(8b)が設けられたタッチパネルである。反射防止膜層(8a)(8b)の構成は、上述した第6の実施形態と同様であり、それ以外の構成についても、上述した第5の実施形態と同様となっている。
(第8の実施形態)
本発明に係る第8の実施形態は、図14に示す通り、上述した第4の実施形態のタッチパネルのさらに外側に、透明接着層(7)を積層し、反射防止膜層(8)を有するガラスシート(9)をさらに積層したタッチパネルである。ガラスシート(9)の構成は上述した第5の実施形態と同様である、反射防止膜層(8)の構成は、上述した第6の実施形態と同様である。
本発明に係る第8の実施形態は、図14に示す通り、上述した第4の実施形態のタッチパネルのさらに外側に、透明接着層(7)を積層し、反射防止膜層(8)を有するガラスシート(9)をさらに積層したタッチパネルである。ガラスシート(9)の構成は上述した第5の実施形態と同様である、反射防止膜層(8)の構成は、上述した第6の実施形態と同様である。
本発明は、携帯電話、スマートフォン、タブレット型やノート型のPCに用いられるタッチパネルに好適に使用することができる。
1 透明導電性ガラス基板
2 ガラス基板
3 アンダーコート層
4 第1の透明誘電体層
5 第2の透明誘電体層
6 透明導電層
7 透明接着層
8 反射防止膜層
9 ガラスシート
2 ガラス基板
3 アンダーコート層
4 第1の透明誘電体層
5 第2の透明誘電体層
6 透明導電層
7 透明接着層
8 反射防止膜層
9 ガラスシート
Claims (12)
- ガラス基板と、該ガラス基板の一方の面に形成された少なくとも2層の透明誘電体層と、該透明誘電体層の表面に形成された透明導電層とを含む透明導電性ガラス基板であって、
前記透明導電層の一部を除去して前記透明誘電体層の一部を露出させた後に、前記透明誘電体層の露出部及び前記透明導電体層の表面に透明接着層を積層した場合に、前記透明誘電体層と前記透明接着層の界面での反射率と、前記透明導電層と前記透明接着層の界面での反射率とが、略同一となることを特徴とする透明導電性ガラス基板。 - 前記透明誘電体層は、前記ガラス基板の一方の面に積層された第1透明誘電体層と、該第1透明誘電体層の表面に積層された第2透明誘電体層からなる2層構造を有し、
前記第1の透明誘電体層の物理膜厚と屈折率との積を光学膜厚T1とし、
前記透明導電層の物理膜厚と屈折率との積を光学膜厚Tcとした場合に、
T1≦0.2×Tc+7.9 且つ、
T1≧0.3×Tc−5.3
を満たすことを特徴とする請求項1に記載の透明導電性ガラス基板。 - 前記ガラス基板と前記透明誘電体層の間には、アンダーコート層が形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の透明導電性ガラス基板。
- 前記透明接着層の屈折率は、1.4〜1.6である請求項1〜3のいずれかに記載の透明導電性ガラス基板。
- 前記ガラス基板の板厚は、20〜200μmであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の透明導電性ガラス基板。
- 前記ガラス基板は、無アルカリガラスであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の透明導電性ガラス基板。
- 前記ガラス基板の他方の面に反射防止膜層が形成されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の透明導電性ガラス基板。
- 前記ガラス基板の他方の面に、前記透明誘電体層と、前記透明導電層が形成されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の透明導電性ガラス基板。
- 前記ガラス基板の他方の面に、前記アンダーコート層と、前記透明誘電体層と、前記透明導電層が形成されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の透明導電性ガラス基板。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の2枚の前記透明導電性ガラス基板が、前記透明導電層側が対向するように配置され、前記透明接着層を介して接着されているタッチパネル。
- 請求項8又は9に記載のガラス基板の両面に、前記透明接着層を介してガラスシートが接着されているタッチパネル。
- 少なくとも1枚の前記ガラスシートの前記透明接着層との非接着面側には、反射防止膜層が形成されていることを特徴とする請求項11に記載のタッチパネル。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012222620A JP2014073642A (ja) | 2012-10-05 | 2012-10-05 | 透明導電性ガラス基板、及びタッチパネル |
PCT/JP2013/076312 WO2014054532A1 (ja) | 2012-10-05 | 2013-09-27 | 透明導電性ガラス基板、及びタッチパネル |
TW102135755A TW201420336A (zh) | 2012-10-05 | 2013-10-02 | 透明導電性玻璃基板以及觸碰面板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012222620A JP2014073642A (ja) | 2012-10-05 | 2012-10-05 | 透明導電性ガラス基板、及びタッチパネル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014073642A true JP2014073642A (ja) | 2014-04-24 |
Family
ID=50434860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012222620A Pending JP2014073642A (ja) | 2012-10-05 | 2012-10-05 | 透明導電性ガラス基板、及びタッチパネル |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014073642A (ja) |
TW (1) | TW201420336A (ja) |
WO (1) | WO2014054532A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016002169A1 (ja) * | 2014-07-01 | 2016-01-07 | グンゼ株式会社 | 透明導電性積層体、タッチパネル、および透明導電性積層体の製造方法 |
JP2016133536A (ja) * | 2015-01-16 | 2016-07-25 | 凸版印刷株式会社 | タッチパネル一体型カラーフィルタ基板、それを用いた表示装置、及びそれを用いた情報入力画像表示装置 |
JP2017117153A (ja) * | 2015-12-24 | 2017-06-29 | 住友金属鉱山株式会社 | タッチパネルフィルムとその製造方法 |
EP3281922A4 (en) * | 2015-04-10 | 2018-11-21 | Asahi Glass Company, Limited | Glass sheet and method for manufacturing same |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5932097B2 (ja) * | 2014-04-17 | 2016-06-08 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
JP5932098B2 (ja) * | 2014-04-17 | 2016-06-08 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
JP6144798B2 (ja) * | 2014-04-17 | 2017-06-07 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
CN105446508B (zh) * | 2014-06-19 | 2018-12-25 | 宸鸿科技(厦门)有限公司 | 触控显示装置 |
KR101673387B1 (ko) * | 2014-10-21 | 2016-11-07 | 에스케이씨하스디스플레이필름(유) | 패턴 비시인성이 우수한 투명 전도성 광학시트 |
WO2017057262A1 (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 住友金属鉱山株式会社 | 導電性基板 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006126604A1 (ja) * | 2005-05-26 | 2006-11-30 | Gunze Limited | 透明面状体及び透明タッチスイッチ |
JP4888589B2 (ja) * | 2008-03-25 | 2012-02-29 | ソニー株式会社 | 静電容量型入力装置、入力機能付き表示装置および電子機器 |
JP2010079734A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Casio Computer Co Ltd | 静電容量型タッチパネル |
JP2011017795A (ja) * | 2009-07-07 | 2011-01-27 | Innovation & Infinity Global Corp | 光学フィルム構造 |
EP2317421A2 (en) * | 2009-10-30 | 2011-05-04 | Samsung Corning Precision Materials Co., Ltd. | Display filter having touch input function |
JP5413304B2 (ja) * | 2010-05-20 | 2014-02-12 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネルセンサ、およびタッチパネルセンサを作製するための積層体 |
KR101285524B1 (ko) * | 2010-07-07 | 2013-07-17 | 알프스 덴키 가부시키가이샤 | 입력 장치 |
JP2012058956A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Sony Corp | 電極フィルム及び座標検出装置 |
-
2012
- 2012-10-05 JP JP2012222620A patent/JP2014073642A/ja active Pending
-
2013
- 2013-09-27 WO PCT/JP2013/076312 patent/WO2014054532A1/ja active Application Filing
- 2013-10-02 TW TW102135755A patent/TW201420336A/zh unknown
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016002169A1 (ja) * | 2014-07-01 | 2016-01-07 | グンゼ株式会社 | 透明導電性積層体、タッチパネル、および透明導電性積層体の製造方法 |
JP2016133536A (ja) * | 2015-01-16 | 2016-07-25 | 凸版印刷株式会社 | タッチパネル一体型カラーフィルタ基板、それを用いた表示装置、及びそれを用いた情報入力画像表示装置 |
EP3281922A4 (en) * | 2015-04-10 | 2018-11-21 | Asahi Glass Company, Limited | Glass sheet and method for manufacturing same |
US10618836B2 (en) | 2015-04-10 | 2020-04-14 | Agc Glass Europe | Glass plate and manufacturing method thereof |
JP2017117153A (ja) * | 2015-12-24 | 2017-06-29 | 住友金属鉱山株式会社 | タッチパネルフィルムとその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2014054532A1 (ja) | 2014-04-10 |
TW201420336A (zh) | 2014-06-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5999340B2 (ja) | タッチパネル用ガラスフィルム積層体、及びタッチパネル、並びにタッチパネル用ガラスフィルム積層体の製造方法 | |
JP2014073642A (ja) | 透明導電性ガラス基板、及びタッチパネル | |
JP6001533B2 (ja) | 複数の反射防止膜を有する高透過率導電膜、これを用いたタッチパネル及びそれらの製造方法 | |
CN104793796B (zh) | 输入装置 | |
CN103430134B (zh) | 触摸板及其制造方法 | |
JP2018097379A (ja) | 防眩・反射防止部材の製造方法 | |
JP2013121908A (ja) | 強化ガラスの切断方法、及びこれを利用したタッチスクリーンパネルの製造方法 | |
CN103902122A (zh) | 透明导电基板、其制造方法,以及具有其的触控面板 | |
JP5382820B2 (ja) | 光学調整フィルム、並びにそれを使用して得る透明導電フィルム、透明導電積層体、及びタッチパネル | |
JP6700618B2 (ja) | 積層体及びその製造方法 | |
TW201133310A (en) | Integration-type touch panel | |
CN110712399A (zh) | 玻璃层叠体、显示器用前面板、显示装置和玻璃层叠体的制造方法 | |
JP5763417B2 (ja) | 静電容量型入力装置用電極基板及び静電容量型入力装置 | |
EP2735944A1 (en) | Manufacturing method of touch screen | |
TWI619051B (zh) | Touch panel and touch panel with display device | |
JP2014065169A (ja) | 展示物カバー用ガラスフィルム積層体 | |
TWI396126B (zh) | 觸控面板製造方法 | |
KR20100111340A (ko) | 윈도우 패널 일체형 저항 방식 터치 센서 | |
KR20120127984A (ko) | 다층박막 방식의 정전용량 터치스크린 패널 및 그 공정방법 | |
CN105102219A (zh) | 用于制作电子部件的层积体和层积体制造方法、膜传感器和具备膜传感器的触控面板装置、以及将浓度梯度型金属层进行成膜的成膜方法 | |
KR20140053540A (ko) | 투명 도전성 기재, 그 제조방법 및 이를 구비한 터치패널 | |
KR20140142533A (ko) | 터치 패널 및 이의 제조방법 | |
TWI396122B (zh) | 觸控面板製造方法 | |
KR20130017840A (ko) | 정전용량형 터치스크린 제조 방법 및 이에 의해 제조된 터치스크린 | |
TW201508570A (zh) | 觸控結構及其製造方法 |