JP2014072500A - ナノインプリント用ブランクスおよびナノインプリント用テンプレートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1の主面と第2の主面を有する光透過性基板に凹凸パターンを形成してナノインプリント用テンプレートとするためのナノインプリント用ブランクスであって、
上記光透過性基板の上記凹凸パターンを形成する第1の主面に、イオン注入がされていることを特徴とする。
【選択図】 図2
Description
(予備テスト)
本発明における予備テストとして、石英基板への単位面積当たりのイオン注入量(注入イオンドーズ量)とエッチング深さとの関係を求めた。イオン注入量は、石英基板上の任意の4カ所の領域A、B、C、Dに、イオン注入量の範囲を、1×1016ions/cm2〜1×1017ions/cm2として、A<B<C<Dの順に注入量を大きくして行った。
(ナノインプリント用ブランクス)
本発明のナノインプリント用ブランクスの実施形態は、第1の主面と第2の主面を有する光透過性基板において、凹凸パターンを形成する第1の主面にイオン注入がされているブランクスである。
(ナノインプリント用ブランクスの製造方法)
本発明のナノインプリント用ブランクスは、光透過性基板にイオン注入装置を用いて所定のイオンを注入することにより作成することができる。
(ナノインプリント用テンプレートの製造方法)
本発明のナノインプリント用テンプレートの製造方法は、第1の主面と第2の主面を有する光透過性基板の第1の主面をエッチングして凹凸パターンを形成するに際し、光透過性基板の凹凸パターンを形成する第1の主面に、あらかじめイオン注入をしておくものである。
本実施例は、裏面側にくぼみ(コアアウト)を有する光透過性基板を用い、その表面側の凸状の段差構造(メサ構造)に所定の凹凸パターンを形成する際に、コアアウト領域に相対する表面側ではエッチング速度が遅くなり、エッチング深さが均一に入らないという問題を解決する例である。
(予備テスト)
図3に示すように、外形が6インチ角、厚さ0.25インチの石英基板(通常基板と記す)31と、同サイズであって第2の主面に円形状のくぼみ(コアアウト)33を備えた石英基板(コアアウト有り基板と記す)32との2種類の石英基板を準備した。図3において、図3(a)−1は通常基板の平面模式図、図3(a)−2は、図3(a)−1のA−A線における断面模式図であり、図3(b)−1はコアアウト有り基板の平面模式図、図3(b)−2は、図3(b)−1のB−B線における断面模式図である。
(実施例2)
本実施例は、凹凸パターンの深さごとにリソグラフィが必要になり、凹凸パターンの製造工程が長く複雑となり、欠陥が増加するという問題を解決する例である。
12 イオン注入領域
13 金属薄膜
14 段差構造(メサ構造;メサ)
15 くぼみ(コアアウト)
31 石英基板(通常基板)
32 石英基板(コアアウト有り基板)
33 くぼみ(コアアウト)
50、60 テンプレート
51 光透過性基板
51a 第1の主面
51b 第2の主面
52、63 イオン注入
53、64 イオン注入領域
53a 凸部
54 金属薄膜
54a 金属薄膜パターン
55、65 ブランクス
56、66 レジストパターン
57、67 凹部
58、68 凹凸パターン
61 石英基板
62 Cr薄膜
71 テンプレート
72 マスク
73、76 レジスト
74、77 開口部
75、78 凹部
80 テンプレート
81 光透過性基板
82 金属薄膜
82a 金属薄膜パターン
83 レジストパターン
84 凹部
85 凹凸パターン
Claims (14)
- 第1の主面と第2の主面を有する光透過性基板に凹凸パターンを形成してナノインプリント用テンプレートとするためのナノインプリント用ブランクスであって、
前記光透過性基板の前記凹凸パターンを形成する第1の主面に、イオン注入がされていることを特徴とするナノインプリント用ブランクス。 - 前記イオン注入が、前記光透過性基板の前記第1の主面の全面にされていることを特徴とする請求項1に記載のナノインプリント用ブランクス。
- 前記イオン注入が、前記光透過性基板の前記第1の主面に部分的にされていることを特徴とする請求項1に記載のナノインプリント用ブランクス。
- 前記イオン注入が部分的にされている領域が、メサ構造領域であることを特徴とする請求項3に記載のナノインプリント用ブランクス。
- 前記第1の主面に相対する前記第2の主面が、前記第1の主面の前記凹凸パターンを形成する領域と重なり、かつ、前記第1の主面の凹凸パターンを形成する領域よりも広い面積のくぼみを備えていることを特徴とする請求項3または請求項4に記載のナノインプリント用ブランクス。
- 前記イオン注入された単位面積当たりのイオン濃度が、イオン注入する領域により異なることを特徴とする請求項1から請求項3までのうちのいずれか1項に記載のナノインプリント用ブランクス。
- 前記光透過性基板の前記第1の主面に金属薄膜が設けられていることを特徴とする請求項1から請求項6までのうちのいずれか1項に記載のナノインプリント用ブランクス。
- 第1の主面と第2の主面を有する光透過性基板の前記第1の主面をエッチングして凹凸パターンを形成するナノインプリント用テンプレートの製造方法であって、
前記光透過性基板の前記凹凸パターンを形成する第1の主面に、あらかじめイオン注入をしておくことを特徴とするナノインプリント用テンプレートの製造方法。 - 前記イオン注入を、前記光透過性基板の前記第1の主面の全面にしておくことを特徴とする請求項8に記載のナノインプリント用テンプレートの製造方法。
- 前記イオン注入を、前記光透過性基板の前記第1の主面に部分的にしておくことを特徴とする請求項8に記載のナノインプリント用テンプレートの製造方法。
- 前記イオン注入された単位面積当たりのイオン濃度が、イオン注入する領域により異なることを特徴とする請求項8から請求項10までのうちのいずれか1項に記載のナノインプリント用テンプレートの製造方法。
- 前記光透過性基板が、前記第1の主面に相対する前記第2の主面に、前記第1の主面の前記凹凸パターンを形成する領域と重なり、かつ、前記第1の主面の凹凸パターンを形成する領域よりも広い面積のくぼみを備えており、
前記くぼみに相対する前記第1の主面に部分的にイオン注入をしておくことを特徴とする請求項10に記載のナノインプリント用テンプレートの製造方法。 - 前記部分的にイオン注入をしておく領域が、メサ構造領域であることを特徴とする請求項12に記載のナノインプリント用テンプレートの製造方法。
- 前記イオン注入する単位面積当たりのイオン濃度を、イオン注入する領域により変え、1回のエッチングでエッチング深さの異なる複数の凹凸パターンを形成することを特徴とする請求項8から請求項11までのうちのいずれか1項に記載のナノインプリント用テンプレートの製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019531508A (ja) * | 2016-10-05 | 2019-10-31 | マジック リープ, インコーポレイテッドMagic Leap,Inc. | 不均一回折格子の加工 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007273665A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Dainippon Printing Co Ltd | モールド及びモールドの作製方法 |
JP2009096191A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-05-07 | Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute | 微細成形型および微細成形型用基材並びに微細成形型の製造方法 |
JP2009536591A (ja) * | 2006-05-11 | 2009-10-15 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | 厚さが変化するテンプレート |
JP2011245816A (ja) * | 2010-05-31 | 2011-12-08 | Hoya Corp | マスクブランク用基板の製造方法、インプリントモールド用マスクブランクの製造方法、及びインプリントモールドの製造方法 |
JP2013033907A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-02-14 | Toshiba Corp | テンプレート用基板及びその製造方法 |
JP2013197198A (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-30 | Toshiba Corp | テンプレートの製造方法 |
-
2012
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007273665A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Dainippon Printing Co Ltd | モールド及びモールドの作製方法 |
JP2009536591A (ja) * | 2006-05-11 | 2009-10-15 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | 厚さが変化するテンプレート |
JP2009096191A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-05-07 | Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute | 微細成形型および微細成形型用基材並びに微細成形型の製造方法 |
JP2011245816A (ja) * | 2010-05-31 | 2011-12-08 | Hoya Corp | マスクブランク用基板の製造方法、インプリントモールド用マスクブランクの製造方法、及びインプリントモールドの製造方法 |
JP2013033907A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-02-14 | Toshiba Corp | テンプレート用基板及びその製造方法 |
JP2013197198A (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-30 | Toshiba Corp | テンプレートの製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019531508A (ja) * | 2016-10-05 | 2019-10-31 | マジック リープ, インコーポレイテッドMagic Leap,Inc. | 不均一回折格子の加工 |
US11609365B2 (en) | 2016-10-05 | 2023-03-21 | Magic Leap, Inc. | Fabricating non-uniform diffraction gratings |
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