JP2014063894A - 研磨装置及びsoiウェーハの研磨方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】定盤上に貼り付けられた研磨布と研磨ヘッドを有し、該研磨ヘッドは、円盤状のプレートの外周部に下方に延伸するように設けられたリング部材を有する保持プレートと、該保持プレートのリング部材の下面部に貼着され、かつワークの裏面が当接する発泡樹脂層を有するバッキング材と、保持プレートとバッキング材で囲まれた圧力室に流体を供給してバッキング材を押圧するための流体供給手段と、バッキング材の発泡樹脂層の下面の周辺部に設けられワークのエッジ部を保持するリング状のテンプレートを含むものであり、テンプレートは保持プレートのリング部材の内周面より内側に突出して配置され、該突出したテンプレートの突出部をバッキング材を介して上方から押さえ付ける押さえ部材を有する研磨装置。
【選択図】 図1
Description
SOIウェーハの代表的な製造方法として、2枚のウェーハを貼り合せた後、一方のウェーハの薄膜化を研削・研磨で行う方法とイオン注入剥離法(スマートカット(登録商標)法ともいう)で行う方法が知られているが、シリコン薄膜が500nm以下の貼り合わせウェーハの製造に限定すればイオン注入剥離法が主流となっている。
このようなものであれば、研磨中にテンプレートが圧力室側に反ってしまうのを効果的に抑制できる。
このようなものであれば、押さえ部材の剛性を確保してテンプレートの反りを抑制する効果を十分に発揮させつつ、ワークの外周部に対する圧力室の圧力調整への影響を最小限に抑えることができる。
このような研磨方法であれば、研磨中にテンプレートが圧力室側に反ってしまうのを抑制でき、SOIウェーハの外周部にハネ形状が形成されてしまうのを抑制できる。
SOI層の膜厚が1000nm以下の薄膜SOIを研磨する際、研磨代が100nm以下の微量研磨の場合には、僅かなテンプレートの反りが、面内膜厚分布の均一性に対し大きく影響するので、テンプレートの反りを抑制できる本発明が極めて有効に機能する。
このようにすれば、ワークの保持力をより高めることができる。
上記したように、従来の研磨装置を用いてSOI層表面の微量研磨を行う際にSOI層の外周部にハネ形状が形成されてしまう原因について、本発明者等が鋭意検討した結果、次のような知見を得た。
そこで、発明者等は更に検討を重ね、テンプレートの突出部をバッキング材を介して上方から押さえ付ける押さえ部材によってその突出部の反りを抑制させれば上記問題を解決できることに想到し、本発明を完成させた。
定盤3の下部には駆動軸6が垂直に連結され、その駆動軸6の下部に連結された定盤回転モータ(不図示)によって定盤3が回転できるようになっている。
研磨するワークWは、その裏面が発泡樹脂層24に当接して保持される。ワークWを保持する際にはバッキング材22に水を含ませ、水の表面張力によりワークWを確実に保持することができる。
研磨ヘッド2には、保持プレート26とバッキング材22で囲まれた圧力室29が形成され、この圧力室29に流体を供給してバッキング材22を押圧するための流体供給手段30が設けられている。流体供給手段30で流体を圧力室29に供給してバッキング材22を押圧することにより、ワークWを研磨布4に対して押圧できる。
更に、図1、2に示すように、本発明の研磨装置1は、テンプレート25の突出部をバッキング材22を介して上方から押さえ付ける押さえ部材21を有する。この押さえ部材21により、研磨中にテンプレート25の突出部が圧力室29側に反ってしまうのを抑制できる。
尚、このような押さえ部材21をテンプレート25の突出部の上方に設置すると、ワークの外周部に対する圧力室の圧力調整が作用しにくくなることが懸念されるが、押さえ部材21の底面とバッキング材22とを接着しない構造にすれば、ワークWの外周部に対する圧力調整が妨げられることを抑制できる。
このようなものであれば、押さえ部材21の剛性を確保してテンプレート25の突出部の反りを効果的に抑制しつつ、ワークの外周部に対する圧力室の圧力調整への影響を最小限に抑えることができる。
このような研磨装置であれば、上記したように、研磨中にテンプレート25の突出部が圧力室29側に反ってしまうのを抑制できるので、ワークの外周部にハネ形状が形成されてしまうのを抑制でき、特にSOIウェーハのSOI層の微量研磨においても、研磨前の面内膜厚分布の均一性を維持できる。
図1に示すような本発明の研磨装置を用いてSOIウェーハを研磨し、SOI膜厚分布を評価した。
研磨したSOIウェーハは、直径が300mm、SOI膜厚が88nm、BOX層厚が146nmのものを用いた。研磨前の洗浄工程でHF水溶液を用いて洗浄し、発泡樹脂層の下面に当接するSOIウェーハの裏面を疎水性にした。
バッキング材は、PETフィルムからなる樹脂シート層及び発泡ウレタンからなる発泡樹脂層を有するものを用いた。
押さえ部材の材質はPOM製とし、垂直断面形状がL字型で、リング部材の内周面の全面に当接する円筒状の側面を有するものとした。また、L字型の底面の幅を4mmとした。
研磨後にSOI膜厚分布を測定したところ、平均57.2nm、P−V値は2.9nmであった。研磨後のP−V値が1.8nm増加したが、比較的小さい値に抑えることができた。また、図5に示すように、研磨後のウェーハの外周部にハネ形状は観察されなかった。更に、研磨代の面内分布のP−V値も2.6nmに抑制することができた。
押さえ部材を有さない従来の研磨装置を用いた以外、実施例と同様な条件でSOIウェーハを研磨し、実施例と同様な方法で評価した。
研磨前のSOI膜厚分布は平均88.1nm、P−V値は1.0nmであったのに対し、研磨後のSOI膜厚分布は平均56.4nm、P−V値は3.4nmと大きかった。また、図5に示すように、研磨後のウェーハの外周部にハネ形状が明確に形成されていた。これは、外周部の研磨代が中央部に比べて小さかったことを示しており、そのため、研磨代の面内分布のP−V値は3.2nmと大きくなってしまった。
5…研磨剤供給機構、 6…駆動軸、
21…押さえ部材、 22…バッキング材、 23…樹脂シート層、
24…発泡樹脂層、 25…テンプレート、 26…保持プレート、
27…プレート、 28…リング部材、 29…圧力室、 30…流体供給手段。
Claims (6)
- 定盤上に貼り付けられた研磨布と、ワークを保持するための研磨ヘッドを有し、該研磨ヘッドは、円盤状のプレートの外周部に下方に延伸するように設けられたリング部材を有する保持プレートと、該保持プレートのリング部材の下面部に貼着され、かつ前記ワークの裏面が当接する発泡樹脂層を有するバッキング材と、前記保持プレートとバッキング材で囲まれた圧力室に流体を供給して前記バッキング材を押圧するための流体供給手段と、前記バッキング材の発泡樹脂層の下面の周辺部に設けられ前記ワークのエッジ部を保持するリング状のテンプレートを含むものであり、前記ワークの表面を前記研磨布に摺接させて研磨する研磨装置であって、
前記テンプレートは前記保持プレートのリング部材の内周面より内側に突出して配置され、該突出したテンプレートの突出部を前記バッキング材を介して上方から押さえ付ける押さえ部材を有するものであることを特徴とする研磨装置。 - 前記押さえ部材は金属製又は樹脂製であることを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
- 前記押さえ部材の垂直断面形状はL字型であり、該押さえ部材の側面が前記保持プレートのリング部材の内周面に当接し、前記押さえ部材の底面で前記テンプレートの突出部を前記バッキング材を介して上方から押さえ付けるものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の研磨装置。
- 請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の研磨装置を用い、前記ワークとしてSOIウェーハを用い、該SOIウェーハのSOI層を研磨することを特徴とするSOIウェーハの研磨方法。
- 前記研磨するSOIウェーハのSOI層の膜厚が1000nm以下であり、研磨代を100nm以下として研磨することを特徴とする請求項4に記載のSOIウェーハの研磨方法。
- 前記研磨するSOIウェーハの前記発泡樹脂層の下面に当接する面を疎水性とすることを特徴とする請求項4又は請求項5に記載のSOIウェーハの研磨方法。
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