JP2014062294A - 連続パターンメッキ転写システム及び連続パターンメッキ転写物製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
メッキ液を収容したメッキ槽を含むメッキユニットと、その表面にパターンメッキ層が形成されるとともに回動可能に設けられた少なくとも一つのDLCパターンシリンダ体と、紫外線透過性を有し且つ該DLCパターンシリンダ体の表面に当接する側に紫外線硬化型接着剤が塗布されてなるプリント用基材と、該DLCパターンシリンダ体の表面に該プリント用基材が当接せしめられている間に紫外線を照射するための紫外線照射手段と、を含み、紫外線を照射せしめることによって前記プリント用基材の紫外線硬化型接着剤を紫外線硬化せしめ、前記パターンメッキ層が前記プリント用基材に連続的に転写されてなるようにした。
【選択図】図1
Description
本願出願人は、DLC(ダイヤモンドライクカーボン)によってグラビア製版ロール等にパターニングを行う方法についての研究開発を行っており、DLCを用いることによって非常に精度がよく微細なパターニングを実現することが可能となり、例えば特許文献6及び特願2012−120058として提案しているが、そのDLCを用いてパターニングを行う技術をプリント回路基板などの連続パターンメッキ転写物の製造に適用することに着眼し、且つ転写の際の剥離性について鋭意研究を重ねて、本発明を完成したものである。
Claims (5)
- メッキ液を収容した少なくとも一つのメッキ槽を含むメッキユニットと、
該メッキ槽のメッキ液に浸漬されてその表面にパターンメッキ層が形成されるとともに回動可能に設けられた少なくとも一つのDLCパターンシリンダ体と、
該DLCパターンシリンダ体の表面に連続的に搬送されて当接せしめられ、紫外線透過性を有し且つ該DLCパターンシリンダ体の表面に当接する側に紫外線硬化型接着剤が塗布されてなるプリント用基材と、
該DLCパターンシリンダ体の表面に該プリント用基材が当接せしめられている間に紫外線を照射するための紫外線照射手段と、
を含み、
紫外線を照射せしめることによって前記プリント用基材の紫外線硬化型接着剤を紫外線硬化せしめ、前記パターンメッキ層が前記プリント用基材に連続的に転写されてなることを特徴とする連続パターンメッキ転写システム。 - 前記パターンメッキ層を水洗及び乾燥するための水洗乾燥ゾーンが、前記DLCパターンシリンダ体上に設けられていることを特徴とする請求項1記載の連続パターンメッキ転写システム。
- 請求項1又は2記載のシステムを用いる連続パターンメッキ転写物の製造方法であって、
前記DLCパターンシリンダ体の表面にパターンメッキ層を形成する工程と、
前記DLCパターンシリンダ体の表面に紫外線透過性を有し且つ該DLCパターンシリンダ体の表面に当接する側に紫外線硬化型接着剤が塗布されてなるプリント用基材を連続的に搬送し当接せしめる工程と、
前記DLCパターンシリンダ体の表面に前記プリント用基材が当接せしめられている間に紫外線を照射する工程と、
前記プリント用基材の紫外線硬化型接着剤を紫外線硬化せしめ、前記パターンメッキ層が前記プリント用基材に連続的に転写する工程と、
を有することを特徴とする連続パターンメッキ転写物製造方法。 - 請求項1又は2記載のシステムを用いて製造された連続パターンメッキ転写物であって、前記DLCパターンシリンダ体の表面にパターンメッキ層を形成し、
紫外線透過性を有し且つ該DLCパターンシリンダ体の表面に当接する側に紫外線硬化型接着剤が塗布されてなるプリント用基材を前記DLCパターンシリンダ体の表面に連続的に搬送して当接し、
前記DLCパターンシリンダ体の表面に前記プリント用基材が当接せしめられている間に紫外線を照射し、前記プリント用基材の紫外線硬化型接着剤を紫外線硬化せしめ、前記パターンメッキ層が前記プリント用基材に連続的に転写せしめることによって製造されたことを特徴とする連続パターンメッキ転写物。 - 前記連続パターンメッキ転写物が、プリント回路基板、電磁波シールド、微小コイル、透明電極、セラミックコンデンサ、抗菌フィルムであることを特徴とする請求項4記載の連続パターンメッキ転写物。
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