JP2014062012A - チタン・タングステンの酸化物、それを用いた脱硝触媒、当該酸化物の調製方法および脱硝方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、0.003〜40μmにおいて細孔径を測定したとき、1〜20μm(Aピーク)と0.006〜0.06μm(Bピーク)とにピークを有しかつAピークまたはBピークの少なくも一方が当該細孔径を測定した範囲内で一番目の大きさ示すことを特徴とするチタン・タングステンの酸化物である、それを用いた触媒、酸化物の製造方法およびその触媒を用いた脱硝方法である。
【選択図】図1
Description
第一発明は、0.003〜40μmにおいて細孔径を測定したとき、1〜20μm(Aピーク)と0.006〜0.06μm(Bピーク)とにピークを有しかつAピークまたはBピーク少なくも一方が当該細孔径を測定した範囲内で一番目の大きさ示すことを特徴とするチタン・ケイ素・タングステンの酸化物である。
Ti−W酸化物の調製方法が第三発明であり、方法としては、(1)アンモニア水とタングステン源の混合水溶液に硫酸チタニルの硫酸水溶液を中和し十分に混合し、pH3〜10好ましくはpH4〜8でpH調整して主に水酸化物として沈殿を生成させ、十分に沈殿させた後、沈殿スラリーを濾過、水洗後、乾燥し、焼成する共沈法、(2)一方の酸化物に他方の水溶液を含浸し乾燥し、焼成する含浸法、(3)各々の前駆体である水不溶物質を水と混合しスラリーとし混練し、乾燥し、焼成する混練法、(4)各々の酸化物前駆体を十分混合し焼成する固相反応法があるが、好ましくは共沈法である。
第二発明はTi−W酸化物を含む窒素酸化物除去用触媒である。Ti−W酸化物を含むものであれば何れのものであっても良く、通常触媒として用いられる形体で機能を発揮するものである。また当該触媒はチタンおよびケイ素との酸化物(以下、「Ti−Si酸化物」とも記載する)を添加することができる。
Ti−Si酸化物の調製方法としては、(1)アンモニア水とケイ素源の混合水溶液に硫酸チタニルの硫酸水溶液を中和し十分に混合し、pH3〜10好ましくはpH4〜8でpH調整して主に水酸化物として沈殿を生成させ、十分に沈殿させた後、沈殿スラリーを濾過、水洗後、乾燥し、焼成する共沈法、(2)一方の酸化物に他方の水溶液を含浸し乾燥し、焼成する含浸法、(3)各々の前駆体である水不溶物質を水と混合しスラリーとし混練し、乾燥し、焼成する混練法、(4)各々の酸化物前駆体を十分混合し焼成する固相反応法があるが、好ましくは共沈法である。
第四発明は、窒素酸化物(NOX)を含むガスを除去するものである。対象となるガスは窒素酸化物を含むものであれば何れのガスであってもよいが、好ましくはガス焚きボイラやガスタービンから生じる排ガスである。窒素酸化物(NOX)の濃度は10〜2000ppm(NOX換算)、好ましくは20〜500ppm(NOX換算)、更に好ましくは40〜100ppm(NOX換算)である。これらのガスには水、SOX、ダストなどが含まれていても処理することができる。
<化合物A(Ti−W酸化物)の調製>
パラタングステン酸アンモニウム(WO3として90重量%含有)2.3kg、モノエタノールアミン1kgを水10Lに混合・溶解させ(WO3として180g/L含有)、均一溶液を調製した。このタングステン含有溶液と10質量%アンモニア水100Lを混合した溶液に、硫酸チタニルの硫酸溶液(TiO2として70g/L含有、硫酸濃度290g/L)260Lをよく撹拌しながら徐々に滴下し、沈殿を生成させた後、適量の25質量%アンモニア水を加えてpHを5に調整した。このスラリーをそのまま40時間放置して熟成した後、濾過、洗浄し、150℃で20時間乾燥した。これを空気雰囲気下500℃で5時間焼成し、さらにハンマーミルを用いて粉砕し、化合物A(Ti−W酸化物)を得た。
<化合物B(Ti−W酸化物)の調製>
パラタングステン酸アンモニウム(WO3として90重量%含有)2.3kg、モノエタノールアミン1kgを水10Lに混合・溶解させ(WO3として180g/L含有)、均一溶液を調製した。このタングステン含有溶液と10質量%アンモニア水240Lを混合した溶液に、硫酸チタニルの硫酸溶液(TiO2として70g/L含有、硫酸濃度290g/L)260Lをよく撹拌しながら徐々に滴下し、沈殿を生成させた後、適量の25質量%アンモニア水を加えてpHを6に調整した。このスラリーをそのまま40時間放置して熟成した後、濾過、洗浄し、150℃で20時間乾燥した。これを空気雰囲気下500℃で5時間焼成し、さらにハンマーミルを用いて粉砕し、化合物B(Ti−W酸化物)を得た。
市販のチタンおよびタングステンの混合酸化物(以下「Ti−W混合酸化物」という)であるCristal Global社製のDT−52(商品名)を混合物aとした。
実施例1、2で得られた化合物A、Bおよび比較例1で得られた混合物aを水銀圧入式ポロシメーターにより細孔径および細孔容積を測定した。
<化合物C(Ti−Si酸化物)の調製>
シリカゾル(SiO2として30重量%含有)8kgと10質量%アンモニア水240Lを混合した溶液に、硫酸チタニルの硫酸溶液(TiO2として70g/L含有、硫酸濃度290g/L)260Lをよく撹拌しながら徐々に滴下し、沈殿を生成させた後、適量の25質量%アンモニア水を加えてpHを8に調整した。このスラリーをそのまま40時間放置して熟成した後、濾過、洗浄し、150℃で20時間乾燥した。これを空気雰囲気下550℃で5時間焼成し、さらにハンマーミルを用いて粉砕し、化合物C(Ti−Si酸化物)を得た。
<触媒Aの調製>
上記の方法で調製したTi−Si酸化物粉体(化合物C)8.3kgと、実施例1で得られたTi−W酸化物粉体(化合物A)11.7kgとを混合した。次にメタバナジン酸アンモニウム(V2O5として78重量%含有)1.5kg、シュウ酸2.1kg、モノエタノールアミン0.5kgを水3Lに混合・溶解させた均一溶液とパラタングステン酸アンモニウム(WO3として90重量%含有)0.9kg、モノエタノールアミン0.4kgを水2Lに混合・溶解させた均一溶液を成型助剤と適量の水とともに、先に混合したTi−Si酸化物粉体(化合物C)とTi−W酸化物粉体(化合物A)の混合粉体に加え、ニーダーで混練した後、押出成型機で外形80mm角、長さ500mm、目開き2.9mm、肉厚0.4mmのハニカム状に成型した。これを80℃で乾燥した後、空気雰囲気下450℃で5時間焼成し、触媒Aを得た。
<触媒Bの調製>
実施例1で得られたTi−W酸化物粉体(化合物A)20kgにメタバナジン酸アンモニウム(V2O5として78重量%含有)1.5kg、シュウ酸2.1kg、モノエタノールアミン0.5kgを水3Lに混合・溶解させた均一溶液とパラタングステン酸アンモニウム(WO3として90重量%含有)0.9kg、モノエタノールアミン0.4kgを水2Lに混合・溶解させた均一溶液を成型助剤と適量の水とともに加え、ニーダーで混練した後、押出成型機で外形80mm角、長さ500mm、目開き2.9mm、肉厚0.4mmのハニカム状に成型した。これを80℃で乾燥した後、空気雰囲気下450℃で5時間焼成し、触媒Bを得た。
<触媒aの調製>
実施例3で得られたTi−Si酸化物粉体(化合物C)8.3kgと、比較例1で得られたTi−W混合酸化物粉体(混合物a)11.7kgとを混合した。次にメタバナジン酸アンモニウム(V2O5として78重量%含有)1.5kg、シュウ酸2.1kg、モノエタノールアミン0.5kgを水3Lに混合・溶解させた均一溶液とパラタングステン酸アンモニウム(WO3として90重量%含有)0.9kg、モノエタノールアミン0.4kgを水2Lに混合・溶解させた均一溶液を成型助剤と適量の水とともに、先に混合したTi−Si複合酸化物粉体(化合物C)とTi−W混合酸化物粉体(混合物a)の混合粉体に加え、ニーダーで混練した後、押出成型機で外形80mm角、長さ500mm、目開き2.9mm、肉厚0.4mmのハニカム状に成型した。これを80℃で乾燥した後、空気雰囲気下450℃で5時間焼成し、触媒aを得た。
<触媒bの調製>
比較例1で得られたTi−W混合酸化物粉体(混合物a)20kgにメタバナジン酸アンモニウム(V2O5として78重量%含有)1.5kg、シュウ酸2.1kg、モノエタノールアミン0.5kgを水3Lに混合・溶解させた均一溶液とパラタングステン酸アンモニウム(WO3として90重量%含有)0.9kg、モノエタノールアミン0.4kgを水2Lに混合・溶解させた均一溶液を成型助剤と適量の水とともに加え、ニーダーで混練した後、押出成型機で外形80mm角、長さ500mm、目開き2.9mm、肉厚0.4mmのハニカム状に成型した。これを80℃で乾燥した後、空気雰囲気下450℃で5時間焼成し、触媒bを得た。
実施例3、4で得られた触媒A、Bおよび比較例2、3で得られた触媒a、bを溶融塩浴に浸漬されたステンレス製反応管に充填し、下記組成の合成ガスを下記条件下で触媒層に導入し、脱硝率の測定をおこなった。
ガス温度 :350℃
空間速度(STP) :26000hr−1
<合成ガス組成>
NOX :100ppm,dry
NH3 :100ppm,dry、
O2 :15%,dry
H2O :10%,wet
N2 :balance
Claims (8)
- 0.003〜40μmにおいて細孔径を測定したとき、1〜20μm(Aピーク)と0.006〜0.06μm(Bピーク)とにピークを有しかつAピークまたはBピークの少なくも一方が当該細孔径を測定した範囲内で一番目の大きさ示すことを特徴とするチタン・タングステンの酸化物。
- 0.003〜40μmにおける細孔径の細孔容積(「全細孔容積」と称する)を1としたとき、当該Aピークの細孔容積が0.3〜0.6(A/全細孔容積)でありかつ当該Bピークの細孔容積が0.3〜0.6(B/全細孔容積)であることを特徴とする請求項1記載のチタン・タングステンの酸化物。
- 当該Aピークと当該Bピークの細孔容積比が0.9〜2.0(B/A)であることを特徴とする請求項1記載のチタン・タングステンの酸化物。
- チタンが70〜99質量%(TiO2換算)、タングステンが1〜30質量%(WO3換算)およびであることを特徴とする請求項1記載のチタン・タングステンの酸化物。
- 当該チタン・タングステンの酸化物を用いたことを特徴とする窒素酸化物除去用触媒。
- 更に、チタンおよびケイ素との酸化物(以下、「Ti−Si酸化物」とも記載)を添加することを特徴とする請求項5記載の脱硝触媒。
- 当該チタン・タングステンの酸化物が共沈法により得られるものであることを特徴とする請求項1記載のチタン・タングステンの酸化物の製造方法。
- 請求項5または6記載の触媒を用いて、窒素酸化物を含む排ガスをアンモニア存在下に処理することを特徴とする脱硝方法。
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-
2012
- 2012-09-21 JP JP2012207705A patent/JP2014062012A/ja active Pending
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