JP2014057013A - 静電チャック - Google Patents
静電チャック Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014057013A JP2014057013A JP2012202162A JP2012202162A JP2014057013A JP 2014057013 A JP2014057013 A JP 2014057013A JP 2012202162 A JP2012202162 A JP 2012202162A JP 2012202162 A JP2012202162 A JP 2012202162A JP 2014057013 A JP2014057013 A JP 2014057013A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- electrostatic chuck
- trunk
- branch
- electrodes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】少なくとも一主面が吸着面である板状の絶縁体内に電極が埋設された本発明の静電チャックは、前記電極は、正極と負極とが互い違いに入り込んで配置された電極パターンを形成しており、前記正極と前記負極は、前記吸着面の中心点から外周縁方向に向かって延びる線状の幹部と前記幹部から枝状に延出した線状の枝部で構成され、前記枝部は、前記中心点を中心とする任意の一同心円あるいは一同心多角形の外周縁に沿って円弧状または多角形状に形成されており、前記任意の一同心円外周縁上に位置する前記幹部から延出する前記枝部は一つの前記電極につき1本のみであることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
直径150mm×厚さ5.0mmの合成シリカガラス製の板を絶縁体として用い、この絶縁体の電極形成面上に、図2に示す電極パターンを有する電極2を配置し、さらにこの上に絶縁体と同材料のシリカガラス製の板を重ねて圧着して一体化し、反対側の面に給電端子(図示せず)を取り付けて静電チャックZを形成した。このときの電極2の厚さは0.5μm、電極2の幅は200μm、隣接する電極同士の間隔は200μm、誘電体層の厚さは100μm、最外形の外周縁半径は74mmとした。なお、枝部の本数は、図示しないが、上記寸法で一義的に決定されている。
図8に示す電極パターンになるようにして、その他の製造条件、評価条件は実施例1に準じた。このとき、負極の電極における中央円の直径は2mmとした。
図9に示す電極パターンになるようにして、その他の製造条件、評価条件は実施例1に準じた。
[実施例2〜11]
W 被吸着物
1 吸着面
2 電極
3 絶縁体
4 給電端子
5 リフトピン
6 リフトピン貫通孔
11 電極パターン中心部
12 電極パターンの最外周縁
21a 正極の電極の幹部
21b 正極の電極の枝部
22a 負極の電極の幹部
22b 負極の電極の枝部
Claims (5)
- 少なくとも一主面が吸着面である板状の絶縁体内に電極が埋設された静電チャックであって、前記電極は、正極と負極とが互い違いに入り込んで配置された電極パターンを形成しており、前記正極と前記負極は、前記吸着面の中心点から外周縁方向に向かって延びる線状の幹部と前記幹部から枝状に延出した線状の枝部で構成され、前記枝部は、前記中心点を中心とする任意の一同心円あるいは一同心多角形の外周縁に沿って円弧状または多角形状に形成されており、前記任意の一同心円外周縁上に位置する前記幹部から延出する前記枝部は一つの前記電極につき1本のみであることを特徴とする静電チャック。
- 幹部は、短直線または短曲線の少なくとも一つもしくはこれらを組み合わせた一直線、一円弧、または一曲線のいずれか一つの形状であることを特徴とする請求項1に記載の静電チャック。
- 電極幅は50μm以上300μm以下、隣接する電極同士の間隔は30μm以上300μm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の静電チャック。
- 正極と負極の電極が二対以上であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の静電チャック。
- 絶縁体がシリカガラスであることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の静電チャック。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012202162A JP2014057013A (ja) | 2012-09-14 | 2012-09-14 | 静電チャック |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012202162A JP2014057013A (ja) | 2012-09-14 | 2012-09-14 | 静電チャック |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014057013A true JP2014057013A (ja) | 2014-03-27 |
Family
ID=50614070
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012202162A Pending JP2014057013A (ja) | 2012-09-14 | 2012-09-14 | 静電チャック |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014057013A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017120825A (ja) * | 2015-12-28 | 2017-07-06 | 日本特殊陶業株式会社 | 電極内蔵基材 |
CN107507875A (zh) * | 2017-08-14 | 2017-12-22 | 江苏科来材料科技有限公司 | 一种背接触太阳能电池片电极环绕交错结构及制备方法 |
US11016400B1 (en) * | 2019-10-30 | 2021-05-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Extreme ultraviolet exposure system |
CN113574652A (zh) * | 2019-03-18 | 2021-10-29 | 日本碍子株式会社 | 静电卡盘 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0890474A (ja) * | 1994-09-27 | 1996-04-09 | Fujitsu Ltd | 静電チャックとそれを用いた異物検出方法 |
JPH1080168A (ja) * | 1996-09-02 | 1998-03-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 静電チャック |
JP2002009138A (ja) * | 2000-06-21 | 2002-01-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 静電チャックの製造方法および静電チャック |
JP2005116686A (ja) * | 2003-10-06 | 2005-04-28 | Taiheiyo Cement Corp | 双極型静電チャック |
JP2011014641A (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Covalent Materials Corp | 静電チャック |
-
2012
- 2012-09-14 JP JP2012202162A patent/JP2014057013A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0890474A (ja) * | 1994-09-27 | 1996-04-09 | Fujitsu Ltd | 静電チャックとそれを用いた異物検出方法 |
JPH1080168A (ja) * | 1996-09-02 | 1998-03-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 静電チャック |
JP2002009138A (ja) * | 2000-06-21 | 2002-01-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 静電チャックの製造方法および静電チャック |
JP2005116686A (ja) * | 2003-10-06 | 2005-04-28 | Taiheiyo Cement Corp | 双極型静電チャック |
JP2011014641A (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Covalent Materials Corp | 静電チャック |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017120825A (ja) * | 2015-12-28 | 2017-07-06 | 日本特殊陶業株式会社 | 電極内蔵基材 |
CN107507875A (zh) * | 2017-08-14 | 2017-12-22 | 江苏科来材料科技有限公司 | 一种背接触太阳能电池片电极环绕交错结构及制备方法 |
CN107507875B (zh) * | 2017-08-14 | 2024-01-26 | 江苏科来材料科技有限公司 | 一种背接触太阳能电池片电极环绕交错结构及制备方法 |
CN113574652A (zh) * | 2019-03-18 | 2021-10-29 | 日本碍子株式会社 | 静电卡盘 |
CN113574652B (zh) * | 2019-03-18 | 2023-09-01 | 日本碍子株式会社 | 静电卡盘 |
US11016400B1 (en) * | 2019-10-30 | 2021-05-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Extreme ultraviolet exposure system |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102089875B (zh) | 双极型静电吸盘 | |
JP2014057013A (ja) | 静電チャック | |
JP5505667B2 (ja) | 交流駆動静電チャック | |
US20150054118A1 (en) | Semiconductor device | |
JP2000323558A (ja) | 静電吸着装置 | |
US20170018409A1 (en) | Plasma induced flow electrode structure, plasma induced flow generation device, and method of manufacturing plasma induced flow electrode structure | |
KR20160093711A (ko) | 보다 작은 웨이퍼들 및 웨이퍼 피스들을 위한 웨이퍼 캐리어 | |
TW201643903A (zh) | 矩形片式電阻器及其製造方法 | |
JP2016154206A (ja) | コイル部品 | |
JP4030361B2 (ja) | 静電吸着方法 | |
US7283346B2 (en) | Electrostatic chuck and its manufacturing method | |
JP2016119420A (ja) | ショットキーバリアダイオードとその製造方法 | |
JPH04147642A (ja) | 真空・静電チャック | |
JPH0473950A (ja) | 静電チャック | |
CN108735648B (zh) | 静电吸盘 | |
JP3595515B2 (ja) | 静電チャック | |
CN111128838B (zh) | 静电吸盘 | |
CN100362644C (zh) | 静电卡盘 | |
CN111128837B (zh) | 静电吸盘 | |
JPWO2020162031A1 (ja) | 細胞電位測定基板及びその製造方法並びに細胞培養基板 | |
JP2018182289A (ja) | 静電チャック | |
JP4251817B2 (ja) | プラズマ生成用ポイントカスプ磁界を作るマグネット配列およびプラズマ処理装置 | |
JP2007221149A (ja) | プラズマ処理方法および半導体デバイスの製造方法 | |
CN212991066U (zh) | 一种静电卡盘 | |
JP3571067B2 (ja) | Gtoサイリスタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141015 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20141201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150925 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150928 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151113 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160601 |