JP2014049612A - マスク位置決め方法、及びマスク位置決め装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マスク位置決め方法において、ウェハ上に第1及び第2マスクを重ねて位置決めする。マスク位置決め方法は、磁力発生する磁力発生手段とウェハとの第1所定距離の位置で第1マスクをウェハ上に位置決めするステップと、磁力発生手段を第1所定距離の位置からウェハ側に接近させた第2所定距離の位置に移動させ第1マスクを磁力発生手段の磁力でウェハ上に吸着させるステップと、第2所定距離の位置でウェハ上に位置決めされた第1マスク上において第2マスクを位置決めするステップと、磁力発生手段を第2所定距離からウェハ側に接近させた第3所定距離の位置に移動させ第1及び第2マスクを磁発生手段の磁力でウェハ上に吸着させるステップと、を含む。
【選択図】図1
Description
この一態様において、前記第1所定距離は、前記第1マスクをウェハ上に位置決めする際に、前記第1マスクが前記磁力発生手段からの磁力の影響を受けない距離であってもよい。
この一態様において、前記第2所定距離は、前記ウェハ上に位置決めされた第1マスク上において前記第2マスクを位置決めする際に、前記第2マスクが前記磁力発生手段からの磁力の影響を受けない距離であってもよい。
この一態様において、前記磁力発生手段を前記第2所定距離の位置から前記ウェハ側に接近させた第4所定距離の位置に移動させ、前記第1及び第2マスクを前記磁力発生手段の磁力で前記ウェハ上に吸着させるステップと、前記第4所定距離の位置で、前記ウェハ上に位置決めされた前記第1及び2マスク上において第3マスクを位置決めするステップと、を更に含み、前記磁力発生手段を前記第4所定距離から前記ウェハ側にさらに接近させた第3所定距離の位置に移動させ、前記第1、第2及び第3マスクを前記磁発生手段の磁力で前記ウェハ上に吸着させてもよい。
この一態様において、前記ウェハをウェハホルダに保持させるステップを更に含んでいても良い。
他方、上記目的を達成するための本発明の一態様は、磁力発生する磁力発生手段と、前記磁力発生手段から第1所定距離の位置で、前記ウェハ上に位置決めされる第1マスクと、前記磁力発生手段を前記第1所定距離から前記ウェハ側に接近させた第2所定距離の位置において前記第1マスクが前記磁力発生手段の磁力で前記ウェハ上に吸着されると共に、前記第2所定距離の位置で前記ウェハ上に位置決めされた前記第1マスク上において位置決めされる第2マスクと、を備えることを特徴とするマスク位置決め装置であってもよい。
この一態様において、前記磁力発生手段を移動させる移動手段と、前記移動手段の移動を制御する制御手段と、を更に備え、前記制御手段は、前記第1所定距離、前記第2所定距離、および、該第2所定距離から前記磁力発生手段を前記ウェハ側に接近し、前記第1及び第2マスクが前記磁発生手段の磁力で前記ウェハ上に吸着する第3所定距離、の位置に段階的に、前記磁力発生手段が移動するように前記移動手段を制御してもよい。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1は、本発明の実施の形態1に係るマスク位置決め装置の概略的な構成を示す図である。本実施の形態1に係るマスク位置決め装置1は、ウェハ2上に複数のマスクを重ねて高精度に位置決めできるものである。
ウェハ2をウェハホルダ3に保持させる。このとき、磁力発生部5とウェハ2との距離は第1所定距離L1となっており、磁力発生部5は初期位置にある(図2A)。
上記実施の形態1に係るマスク位置決め方法においては、下側マスク10及び上側マスク11の2枚のメタルマスクをウェハ2上に重ねて位置決めする方法である。一方、本実施の形態2に係るマスク位置決め方法においては、3枚のメタルマスクをウェハ2上に重ねて位置決めを行う。例えば、第1マスク(下側マスク)10、第2マスク(上側マスク)11、及び第3マスク12をこの順でウェハ2上に重ねて位置決めを行ってもよい。
2 ウェハ
3 ウェハホルダ
4 ウェハホルダ保持部
5 磁力発生部
6 保持部
7 移動機構
8 xyθステージ部
9 制御部
10 下側マスク
11 上側マスク
Claims (7)
- ウェハ上に第1及び第2マスクを重ねて位置決めするマスク位置決め方法であって、
磁力発生する磁力発生手段と前記ウェハとの第1所定距離の位置で、前記第1マスクを前記ウェハ上に位置決めするステップと、
前記磁力発生手段を前記第1所定距離の位置から前記ウェハ側に接近させた第2所定距離の位置に移動させ、前記第1マスクを前記磁力発生手段の磁力で前記ウェハ上に吸着させるステップと、
前記第2所定距離の位置で、前記ウェハ上に位置決めされた前記第1マスク上において前記第2マスクを位置決めするステップと、
前記磁力発生手段を前記第2所定距離から前記ウェハ側に接近させた第3所定距離の位置に移動させ、前記第1及び第2マスクを前記磁発生手段の磁力で前記ウェハ上に吸着させるステップと、
を含むことを特徴とするマスク位置決め方法。 - 請求項1記載のマスク位置決め方法であって、
前記第1所定距離は、前記第1マスクをウェハ上に位置決めする際に、前記第1マスクが前記磁力発生手段からの磁力の影響を受けない距離であることを特徴とするマスク位置決め方法。 - 請求項2記載のマスク位置決め方法であって、
前記第2所定距離は、前記ウェハ上に位置決めされた第1マスク上において前記第2マスクを位置決めする際に、前記第2マスクが前記磁力発生手段からの磁力の影響を受けない距離であることを特徴とするマスク位置決め方法。 - 請求項1乃至3のうちいずれか1項記載のマスク位置決め方法であって、
前記磁力発生手段を前記第2所定距離の位置から前記ウェハ側に接近させた第4所定距離の位置に移動させ、前記第1及び第2マスクを前記磁力発生手段の磁力で前記ウェハ上に吸着させるステップと、
前記第4所定距離の位置で、前記ウェハ上に位置決めされた前記第1及び2マスク上において第3マスクを位置決めするステップと、を更に含み、
前記磁力発生手段を前記第4所定距離から前記ウェハ側にさらに接近させた第3所定距離の位置に移動させ、前記第1、第2及び第3マスクを前記磁発生手段の磁力で前記ウェハ上に吸着させることを特徴とするマスク位置決め方法。 - 請求項1乃至4のうちいずれか1項記載のマスク位置決め方法であって、
前記ウェハをウェハホルダに保持させるステップを更に含むことを特徴とするマスク位置決め方法。 - 磁力発生する磁力発生手段と、
前記磁力発生手段から第1所定距離の位置で、前記ウェハ上に位置決めされる第1マスクと、
前記磁力発生手段を前記第1所定距離から前記ウェハ側に接近させた第2所定距離の位置において前記第1マスクが前記磁力発生手段の磁力で前記ウェハ上に吸着されると共に、前記第2所定距離の位置で前記ウェハ上に位置決めされた前記第1マスク上において位置決めされる第2マスクと、
を備えることを特徴とするマスク位置決め装置。 - 請求項6記載のマスク位置決め装置であって、
前記磁力発生手段を移動させる移動手段と、
前記移動手段の移動を制御する制御手段と、を更に備え、
前記制御手段は、
前記第1所定距離、前記第2所定距離、および、該第2所定距離から前記磁力発生手段を前記ウェハ側に接近し、前記第1及び第2マスクが前記磁発生手段の磁力で前記ウェハ上に吸着する第3所定距離、の位置に段階的に、前記磁力発生手段が移動するように前記移動手段を制御する、
ことを特徴とするマスク位置決め装置。
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