JP2010258017A - ステージ装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】可動ステージの移動に伴う反力を簡易な機構により相殺できるステージ装置を提供する。
【解決手段】可動ステージ21および可動ステージ22の位置が、常に垂直軸31に対して互いに点対称となるように制御される。また、可動ステージ21および可動ステージ22の姿勢(向き)も、常に垂直軸31に対して互いに点対称となるように制御される。可動ステージ21および可動ステージ22から固定台1に与えられる反力は垂直軸31周りのモーメントのみとなるため、回転体3に角加速度を与えて可動ステージ21および可動ステージ22から固定台1に与えられるモーメントを打ち消す。
【選択図】図1
【解決手段】可動ステージ21および可動ステージ22の位置が、常に垂直軸31に対して互いに点対称となるように制御される。また、可動ステージ21および可動ステージ22の姿勢(向き)も、常に垂直軸31に対して互いに点対称となるように制御される。可動ステージ21および可動ステージ22から固定台1に与えられる反力は垂直軸31周りのモーメントのみとなるため、回転体3に角加速度を与えて可動ステージ21および可動ステージ22から固定台1に与えられるモーメントを打ち消す。
【選択図】図1
Description
本発明は、平面内を駆動される可動ステージを備えるステージ装置に関する。
特開2005−354022号公報には、可動ステージの移動に際して定盤に作用する反力を相殺するステージ装置が開示されている。
しかし、上記ステージ装置では、可動ステージの移動によりあらゆる方向に反力が発生するため、反力相殺のための機構が極めて複雑なものとなる。このため、装置の大型化やコストアップを招くとともに、反力相殺のためのエネルギー消費量も増大する。
本発明の目的は、可動ステージの移動に伴う反力を簡易な機構により相殺できるステージ装置を提供することにある。
本発明のステージ装置は、平面内を駆動される可動ステージを備えるステージ装置において、固定台と、前記固定台からの力を受けて同一の平面内を駆動される2つの可動ステージと、前記平面に直交する軸に対して互いに対称な姿勢を保ちつつ前記平面内を移動するように前記2つの可動ステージを駆動するステージ駆動手段と、前記固定台に取り付けられ前記軸周りに回転可能とされた回転体と、前記2つの可動ステージの運動により前記固定台に発生する前記軸周りのモーメントを打ち消すように前記回転体を前記軸周りに回転させる回転体駆動手段と、を備えることを特徴とする。
このステージ装置によれば、平面に直交する軸に対して互いに対称な姿勢を保ちつつ上記平面内を移動するように2つの可動ステージを駆動するとともに、上記2つの可動ステージの運動により固定台に発生する上記軸周りのモーメントを打ち消すように回転体を上記軸周りに回転させるので、簡易な機構により可動ステージの移動に伴う反力を相殺できる。
このステージ装置によれば、平面に直交する軸に対して互いに対称な姿勢を保ちつつ上記平面内を移動するように2つの可動ステージを駆動するとともに、上記2つの可動ステージの運動により固定台に発生する上記軸周りのモーメントを打ち消すように回転体を上記軸周りに回転させるので、簡易な機構により可動ステージの移動に伴う反力を相殺できる。
前記固定台および前記2つの可動ステージは、それぞれ平面モータの固定子および移動子を構成してもよい。
本発明のステージ装置は、平面内を駆動される可動ステージを備えるステージ装置において、固定台と、前記固定台からの力を受けて同一の平面内を駆動される複数の可動ステージと、前記平面に直交する軸に対して互いに回転対称となる位置を保ちつつ前記平面内を移動させることで、前記軸周りのモーメント以外の反力を打ち消すように前記複数の可動ステージを駆動するステージ駆動手段と、前記固定台に取り付けられ前記軸周りに回転可能とされた回転体と、前記複数の可動ステージの運動により前記固定台に発生する前記軸周りのモーメントを打ち消すように前記回転体を前記軸周りに回転させる回転体駆動手段と、を備えることを特徴とする。
このステージ装置によれば、平面に直交する軸に対して互いに回転対称となる位置を保ちつつ上記平面内を移動させることで、上記軸周りのモーメント以外の反力を打ち消すように複数の可動ステージを駆動するとともに、上記複数の可動ステージの運動により固定台に発生する上記軸周りのモーメントを打ち消すように回転体を上記軸周りに回転させるので、簡易な機構により可動ステージの移動に伴う反力を相殺できる。
このステージ装置によれば、平面に直交する軸に対して互いに回転対称となる位置を保ちつつ上記平面内を移動させることで、上記軸周りのモーメント以外の反力を打ち消すように複数の可動ステージを駆動するとともに、上記複数の可動ステージの運動により固定台に発生する上記軸周りのモーメントを打ち消すように回転体を上記軸周りに回転させるので、簡易な機構により可動ステージの移動に伴う反力を相殺できる。
本発明のステージ装置によれば、平面に直交する軸に対して互いに対称な姿勢を保ちつつ上記平面内を移動するように2つの可動ステージを駆動するとともに、上記2つの可動ステージの運動により固定台に発生する上記軸周りのモーメントを打ち消すように回転体を上記軸周りに回転させるので、簡易な機構により可動ステージの移動に伴う反力を相殺できる。
本発明のステージ装置によれば、平面に直交する軸に対して互いに回転対称となる位置を保ちつつ上記平面内を移動させることで、上記軸周りのモーメント以外の反力を打ち消すように複数の可動ステージを駆動するとともに、上記複数の可動ステージの運動により固定台に発生する上記軸周りのモーメントを打ち消すように回転体を上記軸周りに回転させるので、簡易な機構により可動ステージの移動に伴う反力を相殺できる。
以下、本発明によるステージ装置の実施形態について説明する。
図1(a)は本実施形態のステージ装置の構成を示す上面図、図1(b)は図1(a)におけるIb−Ib線方向から見た本実施形態のステージ装置の正面図、図1(c)は本実施形態のステージ装置の制御系の構成を示すブロック図である。
図1(a)および図1(b)に示すように、本実施形態のステージ装置は、設置面4に置かれる固定台1と、固定台1の上面に沿って駆動される可動ステージ21および可動ステージ22と、を備える。固定台1には平面モータの固定子が設けられるとともに、可動ステージ21および可動ステージ22は、それぞれ平面モータの移動子を構成しており、可動ステージ21および可動ステージ22は、固定台1との間にわずかな空隙を形成しつつ固定台1の上面に沿って水平面(XY平面)内を移動可能とされる。可動ステージ21および可動ステージ22は同一構成であり、その重量、形状は同一である。
図1(a)および図1(b)に示すように、固定台1には固定台1に固定されたモータ11を介して円筒状の回転体3が取り付けられる。回転体3はモータ11の回転に伴って垂直軸31周りに回転し、モータ11の可動子および回転体3からなる回転部分の慣性モーメントおよび角加速度に応じた垂直軸31周りのモーメントを固定台1に与える。
図1(c)に示すように、平面モータのコイル群20はステージ駆動装置51に接続され、ステージ駆動装置51からの出力信号がコイル群20に与えられることにより、可動ステージ21および可動ステージ22が駆動される。一方、モータ11はモータ駆動回路52により駆動される。
ステージ駆動装置51およびモータ駆動回路52は、制御部53により制御される。制御部53は実装されたプログラムに従って、ステージ駆動装置51を介して可動ステージ21および可動ステージ22を所定の手順で移動させる。これと同時に、制御部53はモータ駆動回路52を介してモータ11を制御することにより、可動ステージ21および可動ステージ22の移動に起因して固定台1に与えられる反力を打ち消す。
次に、本実施形態のステージ装置の動作について説明する。
図2(a)〜図2(c)は、本実施形態のステージ装置の動作を示す図である。
図2(a)〜図2(c)に示すように、本実施形態のステージ装置では、可動ステージ21および可動ステージ22の位置が、常に垂直軸31に対して互いに点対称となるように制御される。また、可動ステージ21および可動ステージ22の姿勢(向き)も、常に垂直軸31に対して互いに点対称となるように制御される。可動ステージ21および可動ステージ22の上では、同一作業が並行して同時に行われる。
図2(a)の例では、可動ステージ21がY方向に、可動ステージ22が−Y方向に、それぞれ垂直軸31に対して対称な位置を保ちつつ加速される例を示している。図2(a)における矢印は可動ステージ21および可動ステージ22の加速度の方向を示している。この場合、可動ステージ21および可動ステージ22から固定台1に与えられる反力は、垂直軸31周りの反時計回り方向のモーメントのみとなる。本実施形態では、可動ステージ21および可動ステージ22の加速と同期して、回転体3に反時計回り方向の角加速度(図2(a)の矢印)を与える。すると、固定台1には、可動ステージ21,22から固定台1に与えられる反力の方向と逆方向、すなわち時計回り方向の反力が発生する。これにより、結果的に、可動ステージ21および可動ステージ22から固定台1に与えられるモーメントが打ち消される。
図2(b)の例では、可動ステージ21がX方向に、可動ステージ22が−X方向に、それぞれ垂直軸31に対して対称な位置を保ちつつ加速される例を示している。図2(b)における矢印は可動ステージ21および可動ステージ22の加速度の方向を示している。この場合、可動ステージ21および可動ステージ22から固定台1に与えられる反力は、垂直軸31周りの時計回り方向のモーメントのみとなるため、可動ステージ21および可動ステージ22の加速と同期して、回転体3に時計回り方向の角加速度(図2(b)の矢印)を与える。これにより、固定台1に反時計回り方向の反力が発生し、可動ステージ21および可動ステージ22から固定台1に与えられるモーメントが打ち消される。
図2(c)の例では、可動ステージ21および可動ステージ22に時計回り方向の角加速度が与えられた例を示している。図2(c)における矢印は可動ステージ21および可動ステージ22の角加速度の方向を示している。この場合、可動ステージ21および可動ステージ22から固定台1に与えられる反力は、垂直軸31周りの反時計回り方向のモーメントのみとなるため、可動ステージ21および可動ステージ22における角加速度の発生と同期して、回転体3に反時計回り方向の角加速度(図2(c)の矢印)を与える。これにより、固定台1に時計回り方向の反力が発生し、可動ステージ21および可動ステージ22から固定台1に与えられるモーメントが打ち消される。
このように、本実施形態のステージ装置では、可動ステージ21および可動ステージ22の位置および姿勢が、常に垂直軸31に対して点対称となる状態を維持しているため、垂直軸31周りのモーメント以外の反力が打ち消され発生しない。このため、垂直軸31周りのモーメントを打ち消すだけで足り、複雑な機構を必要としない。したがって、装置の小型化、軽量化のみならず、コストダウンおよび省エネルギー化を図ることができる。
図3は、2台のXYステージを組み合わせた例を示す上面図である。
図3の例では、固定台1Aの上に同一のXYステージ6を2台設置している。XYステージ6の方式は任意である。2つのスライダーを直交させた機構によるステージ、あるいは平面モータを用いたステージとすることもできる。
2台のXYステージ6は垂直軸31Aに対して互いに点対称となる位置および向きに設置される。図3において、2台のXYステージ6の向きをそれぞれxy座標として示している。この場合、2台のXYステージ6の可動ステージ61を同期させて同様に駆動することにより、垂直軸31A周りのモーメント以外の反力が打ち消される。垂直軸31A周りのモーメントは垂直軸31A周りに回転する回転体3Aにより相殺される。なお、可動ステージ61の駆動時に、ステージ61以外のXYステージ6の機構の運動によってもモーメントを発生する場合がある。したがって、発生するモーメントの総和を回転体3Aにより相殺すればよい。
図4は、3台のXYステージを組み合わせた例を示す上面図である。
図4の例では、固定台1Bの上にXYステージ6を3台設置している。3台のXYステージは垂直軸31Bに対して互いに60度ずつずれた回転対称となる位置および向きに設置される。図4において、3台のXYステージ6の向きをそれぞれxy座標として示している。この場合、3台のXYステージ6の可動ステージ61を同期させて同様に駆動することにより、垂直軸31B周りのモーメント以外の反力が打ち消される。垂直軸31B周りのモーメントは垂直軸31B周りに回転する回転体3Bにより相殺される。
上記実施形態では、可動ステージが水平面内で駆動される例を示したが、駆動される平面の向きは限定されない。また、可動ステージの数も限定されず、可動ステージを4つ以上設けることもできる。
また、複数の可動ステージの中に、作業を行わない可動ステージが含まれていてもよい。あるいは、作業を行うことができないダミーのステージが含まれていてもよい。作業を行わない場合、あるいはダミーのステージを設ける場合、当該ステージの重量を実質的に他の可動ステージの重量に併せるために、ダミーウェイトを取り付けてもよい。これにより、反力の打ち消し精度を向上させることができる。
本発明の適用範囲は上記実施形態に限定されることはない。本発明は、平面内を駆動される可動ステージを備えるステージ装置に対し、広く適用することができる。
3 回転体
6 XYステージ(可動ステージ)
21 可動ステージ
22 可動ステージ
31 垂直軸(軸)
11 モータ(回転体駆動手段)
53 制御部(回転体駆動手段)
6 XYステージ(可動ステージ)
21 可動ステージ
22 可動ステージ
31 垂直軸(軸)
11 モータ(回転体駆動手段)
53 制御部(回転体駆動手段)
Claims (3)
- 平面内を駆動される可動ステージを備えるステージ装置において、
固定台と、
前記固定台からの力を受けて同一の平面内を駆動される2つの可動ステージと、
前記平面に直交する軸に対して互いに対称な位置を保ちつつ前記平面内を移動するように前記2つの可動ステージを駆動するステージ駆動手段と、
前記固定台に取り付けられ前記軸周りに回転可能とされた回転体と、
前記2つの可動ステージの運動により前記固定台に発生する前記軸周りのモーメントを打ち消すように前記回転体を前記軸周りに回転させる回転体駆動手段と、
を備えることを特徴とするステージ装置。 - 前記固定台および前記2つの可動ステージは、それぞれ平面モータの固定子および移動子を構成することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
- 平面内を駆動される可動ステージを備えるステージ装置において、
固定台と、
前記固定台からの力を受けて同一の平面内を駆動される複数の可動ステージと、
前記平面に直交する軸に対して互いに回転対称となる位置を保ちつつ前記平面内を移動させることで、前記軸周りのモーメント以外の反力を打ち消すように前記複数の可動ステージを駆動するステージ駆動手段と、
前記固定台に取り付けられ前記軸周りに回転可能とされた回転体と、
前記複数の可動ステージの運動により前記固定台に発生する前記軸周りのモーメントを打ち消すように前記回転体を前記軸周りに回転させる回転体駆動手段と、
を備えることを特徴とするステージ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009102810A JP2010258017A (ja) | 2009-04-21 | 2009-04-21 | ステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009102810A JP2010258017A (ja) | 2009-04-21 | 2009-04-21 | ステージ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010258017A true JP2010258017A (ja) | 2010-11-11 |
Family
ID=43318638
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009102810A Pending JP2010258017A (ja) | 2009-04-21 | 2009-04-21 | ステージ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010258017A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013036615A1 (en) | 2011-09-06 | 2013-03-14 | Kla-Tencor Corporation | Linear stage for reflective electron beam lithography |
-
2009
- 2009-04-21 JP JP2009102810A patent/JP2010258017A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2013036615A1 (en) | 2011-09-06 | 2013-03-14 | Kla-Tencor Corporation | Linear stage for reflective electron beam lithography |
EP2754173A1 (en) * | 2011-09-06 | 2014-07-16 | Kla-Tencor Corporation | Linear stage for reflective electron beam lithography |
JP2014532298A (ja) * | 2011-09-06 | 2014-12-04 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 反射電子ビームリソグラフィ用リニアステージ |
EP2754173A4 (en) * | 2011-09-06 | 2015-01-28 | Kla Tencor Corp | LINEAR STAGE FOR REFLECTIVE ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY |
US9690213B2 (en) | 2011-09-06 | 2017-06-27 | Kla-Tencor Corporation | Linear Stage for reflective electron beam lithography |
JP2018046285A (ja) * | 2011-09-06 | 2018-03-22 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 反射電子ビームリソグラフィ用リニアステージ |
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