JP2014040664A - 噴射ノズルユニット - Google Patents
噴射ノズルユニット Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014040664A JP2014040664A JP2013171390A JP2013171390A JP2014040664A JP 2014040664 A JP2014040664 A JP 2014040664A JP 2013171390 A JP2013171390 A JP 2013171390A JP 2013171390 A JP2013171390 A JP 2013171390A JP 2014040664 A JP2014040664 A JP 2014040664A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- wall
- nozzle body
- nozzle
- injection nozzle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000002347 injection Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 239000007924 injection Substances 0.000 title claims abstract description 45
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 28
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 26
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B13/00—Machines or plants for applying liquids or other fluent materials to surfaces of objects or other work by spraying, not covered by groups B05B1/00 - B05B11/00
- B05B13/02—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work
- B05B13/0278—Arrangement or mounting of spray heads
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B15/00—Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
- B05B15/60—Arrangements for mounting, supporting or holding spraying apparatus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)
- Nozzles (AREA)
Abstract
【課題】本発明は、噴射ノズルユニットに関する。
【解決手段】本発明は、ノズル本体と、シール部材と、ワッシャ部材と、スプリング部材とを含む。ノズル本体は、内部において上下方向に貫通して形成されて気化した原料物質が通過する噴射孔を備え、原料物質が収容されたチャンバの外壁を貫通して結合される。シール部材は、ノズル本体とチャンバの外壁との間に設けられ、気化した原料物質が、ノズル本体とチャンバの外壁との間に漏出しないように、ノズル本体とチャンバの外壁との間をシールする。ワッシャ部材は、ノズル本体においてチャンバの内側に位置する下端部に結合される。スプリング部材は、ワッシャ部材とチャンバの外壁の内側面との間に設けられ、チャンバの外壁とワッシャ部材側に向かう弾性力をそれぞれ作用させてノズル本体をチャンバの外壁に密着させる。
【選択図】図2
【解決手段】本発明は、ノズル本体と、シール部材と、ワッシャ部材と、スプリング部材とを含む。ノズル本体は、内部において上下方向に貫通して形成されて気化した原料物質が通過する噴射孔を備え、原料物質が収容されたチャンバの外壁を貫通して結合される。シール部材は、ノズル本体とチャンバの外壁との間に設けられ、気化した原料物質が、ノズル本体とチャンバの外壁との間に漏出しないように、ノズル本体とチャンバの外壁との間をシールする。ワッシャ部材は、ノズル本体においてチャンバの内側に位置する下端部に結合される。スプリング部材は、ワッシャ部材とチャンバの外壁の内側面との間に設けられ、チャンバの外壁とワッシャ部材側に向かう弾性力をそれぞれ作用させてノズル本体をチャンバの外壁に密着させる。
【選択図】図2
Description
本発明は、噴射ノズルユニット(Spraying Nozzle Unit)に関し、より詳しくは、基板上に薄膜形態で原料物質を蒸着させるために気化した原料物質を基板に噴射する噴射ノズルユニットに関する。
自己発光特性を有する有機発光表示装置は、走査線(scan line)とデータ線(data line)との間にマトリックス方式で接続されて画素を構成する有機発光素子を含む。有機発光素子はアノード(anode)電極及びカソード(cathode)電極と、アノード電極及びカソード電極との間に形成され、正孔輸送層、有機発光層及び電子輸送層を含む有機薄膜層とで構成される。
有機薄膜層を蒸着する工程に使用される有機材料は、無機材料とは異なり、高い蒸気圧が必要ではないが、高温で分解及び変性が容易である。このような材料の特性により、有機薄膜は、タングステン、チタン、SUS等の材質からなる原料容器に有機材料を充填し、原料容器を加熱して有機材料を気化させて基板上に蒸着させる。
有機薄膜層を蒸着するために気化した原料物質を基板上に均一に噴射するが、気化した原料物質を収容する原料容器の外壁に噴射ノズルを結合して、原料容器の内部の原料物質を噴射ノズルを通過させて基板に蒸発させる。
図1は、従来の噴射ノズルの一例を示す図である。図1を参照すると、従来の噴射ノズル10は、ねじ結合部12などを用いてチャンバの外壁21に結合される。
チャンバ20と噴射ノズル10は、蒸着工程中は噴射孔11を通過する気化した原料物質と接触するので、気化した原料物質から伝達された熱により高温状態になった後、蒸着工程が完了すると再度低温状態になる。蒸着工程が繰り返される過程でチャンバ20と噴射ノズル10は、熱によって膨張と収縮が繰り返される繰り返し荷重に露出し、このような熱による繰り返し荷重により、噴射ノズル10をチャンバの外壁21に結合させるねじ結合部12の部位に緩みやクラックが発生する恐れがあり、噴射ノズル10とチャンバの外壁21との間には微細な隙間が形成される可能性がある。
このような噴射ノズルとチャンバとの結合部分で発生した損傷により、チャンバ内部の気化した原料物質が損傷部位を通じて外部へ漏出することにより、高価な原料物質が失われるのみでなく、漏出した原料物質により基板以外の領域に原料物質による汚染問題が発生する。
したがって、本発明は、このような従来の問題点を解決するためのものであり、本発明の目的は、気化した原料物質を噴射する噴射ノズルと原料物質を収容するチャンバとの間が損傷しないようにシールすることにより、高価な原料物質の漏出を防いで製造コストを低減し、基板以外の領域に原料物質が蒸着することを防止することにより、原料物質による汚染を防止できる噴射ノズルユニットを提供することにある。
上記のような目的を達成するために、本発明の噴射ノズルユニットは、内部において上下方向に貫通して形成されて気化した原料物質が通過する噴射孔を備え、前記原料物質が収容されたチャンバの外壁を貫通して結合されるノズル本体と、前記ノズル本体と前記チャンバの外壁との間に設けられ、気化した原料物質が前記ノズル本体と前記チャンバの外壁との間へ漏出しないように、前記ノズル本体と前記チャンバの外壁との間をシールするシール部材と、前記ノズル本体において前記チャンバの内側に位置する下端部に結合されるワッシャ部材と、前記ワッシャ部材と前記チャンバの外壁の内側面との間に設けられ、前記チャンバの外壁と前記ワッシャ部材側に向かう弾性力をそれぞれ作用させて前記ノズル本体を前記チャンバの外壁に密着させるスプリング部材とを含むことを特徴とする。
本発明に係る噴射ノズルユニットにおいて、好ましくは、前記ノズル本体は、前記チャンバの外壁に形成された貫通孔に挿入されて前記チャンバの内側まで突出する第1の本体部と、前記第1の本体部の上部に設けられ、前記第1の本体部よりも断面積が大きく、前記チャンバの外側に突出する第2の本体部とをさらに備える。
本発明に係る噴射ノズルユニットにおいて、好ましくは、前記シール部材は、前記第2の本体部と前記チャンバの外壁の外側面との間に設けられる第1のシール部材と、前記スプリング部材と前記チャンバの外壁の内側面との間に設けられる第2のシール部材とを含む。
本発明に係る噴射ノズルユニットにおいて、好ましくは、前記ワッシャ部材は、U字状に形成され、前記ノズル本体の下端部には、側面から凹んで互いに反対方向を向く一対の凹み部が形成され、前記ワッシャ部材が前記凹み部に嵌められる方法で前記ワッシャ部材と前記ノズル本体が結合される。
本発明に係る噴射ノズルユニットにおいて、好ましくは、前記シール部材は銅材質で形成される。
本発明の噴射ノズルユニットによれば、長時間の使用にも噴射ノズルとチャンバとの間に原料物質が漏出する恐れのある隙間の発生を防止し、高価な原料物質の漏れを防いで製造コストを低減し、基板以外の領域に原料物質が蒸着することを防止することにより、原料物質による汚染を防止することができる。
なお、本発明の噴射ノズルユニットによれば、チャンバからの原料物質の漏出を遮断するシールの効率をより高めることができる。
なお、本発明の噴射ノズルユニットによれば、加熱と冷却による熱変形を最小化してノズルの破損を完全に防ぐことができる。
なお、本発明の噴射ノズルユニットによれば、ノズルの破損によるメンテナンスを容易にすることができる。
なお、本発明の噴射ノズルユニットによれば、ノズル本体とチャンバの外壁の貫通孔と間の隙間を完全に塞ぐことができる。
以下、本発明に係る噴射ノズルユニットの実施例を添付の図面を参照して詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
図2は、本発明の一実施例に係る噴射ノズルユニットを示す図であり、図3は、図2の噴射ノズルユニットのノズル本体とワッシャ部材とが結合された状態を示す図である。
図2及び図3を参照すると、本実施例の噴射ノズルユニット100は、基板上に薄膜形態で原料物質を蒸着させるために気化した原料を基板に噴射するためのものであり、ノズル本体110と、シール部材120と、ワッシャ部材130と、スプリング部材140とを含む。
前記ノズル本体110は、チャンバ20内部の気化した原料物質を通過させて基板に噴射するためのものであり、原料物質が収容されたチャンバの外壁21を貫通して結合される。本実施例のノズル本体110は、噴射孔111と、第1の本体部112と、第2の本体部113とを含む。
噴射孔111は、ノズル本体110の内部において上下方向に貫通して形成され、チャンバ20の内部に収容された気化した原料物質が噴射孔111を通過して基板に噴射される。噴射孔111の上端部は、原料物質が拡散されるようにテーパー状に形成されている。
第1の本体部112は、チャンバの外壁21に形成された貫通孔23に挿入されてチャンバの内側22まで突出している。
第2の本体部113は、第1の本体部112の上部に設けられ、第1の本体部112よりも断面積が大きく形成される。例えば、第1の本体部112と第2の本体部113とは、円柱状に形成され、第2の本体部113の直径が第1の本体部112の直径よりも大きく形成され、第2の本体部113の断面積が第1の本体部112の断面積よりも大きく形成される。そのために、第2の本体部113は、チャンバの外壁21に形成された貫通孔23に挿入されず、ノズル本体110がチャンバの外壁21に結合されるときチャンバ20の外側に突出する。
前記シール部材120は、気化した原料物質がノズル本体110とチャンバの外壁21との間へ漏出しないように、ノズル本体110とチャンバの外壁21との間をシールし、ノズル本体110とチャンバの外壁21との間に設けられる。本実施例のシール部材120は、第1のシール部材121と第2のシール部材122とを含む。
第1のシール部材121は、第1の本体部112と第2の本体部113との間に形成された係止突起に係止されて第2の本体部113とチャンバの外壁の外側面21aとの間に設けられ、気化した原料物質がチャンバの外壁21を通じて外部へ漏出することを防止する。
第2のシール部材122は、スプリング部材140とチャンバの外壁の内側面21bとの間に設けられ、チャンバ20内部の気化した原料物質がチャンバの外壁の貫通孔23に進入することを防止する。第2のシール部材122を追加することにより、原料物質がチャンバの外壁の貫通孔23を通じて外部へ漏出する可能性を確実に遮断することができる。
本実施例のシール部材120は、金属材質で且つ熱伝導性に優れた銅材質で形成されることが好ましい。銅材質のシール部材120は相対的にやわらかい材質であるので、スプリング部材140の弾性力が作用してノズル本体110によって押圧されながら、シールの効果を強化することができる。
前記ワッシャ部材130は、ノズル本体110においてチャンバの内側22に位置する下端部110bに結合され、スプリング部材140を支持する。
図3を参照すると、チャンバの内側22に位置するノズル本体の下端部110b、すなわち、第1の本体部112の下端部には側面から凹んだ一対の凹み部114が形成されている。一対の凹み部114は、互いに反対方向を向くように、すなわち、円周方向に180度離隔して形成されている。
本実施例のワッシャ部材130は、U字状に形成され、ワッシャ部材130がノズル本体の下端部110bに形成された一対の凹み部114に嵌められることで、ワッシャ部材130とノズル本体110とが結合される。
前記スプリング部材140はノズル本体110をチャンバの外壁21に密着させる。
スプリング部材140は、ワッシャ部材130とチャンバの外壁の内側面21bとの間に設けられ、チャンバの外壁21によって一端部が支持された状態でワッシャ部材130側に向かう弾性力を作用させる。これにより、ノズル本体110をチャンバの内側22に向かうようにさせる力が発生して第2の本体部113がチャンバの外壁の外側面21aに密着するようによる。第2の本体部113がチャンバの外壁の外側面21aに密着しながら、第1のシール部材121に圧力を加えることになり、これにより、第2の本体部113とチャンバの外壁21との間が完全にシールされる。
また、スプリング部材140は、チャンバの外壁の内側面21bに向かう弾性力を作用させるため、第2のシール部材122をチャンバの外壁の内側面21bに密着させることができる。これにより、第1の本体部112とチャンバの外壁21との間が完全にシールされる。
上述したように構成された本実施例に係る噴射ノズルユニットは、ノズル本体とチャンバの外壁との間にシール部材を挿入し、スプリング部材の弾性力を用いてシール部材に圧力を加えてノズル本体とチャンバの外壁との間をシールすることで、長時間の使用にも噴射ノズルとチャンバとの間に原料物質が漏出する隙間の発生を防止することができる。これにより、高価な原料物質の漏出を防いで製造コストを低減し、基板以外の領域に原料物質が蒸着することを防止することにより、原料物質による汚染を防止できる効果が得られる。
なお、上述したように構成された本実施例に係る噴射ノズルユニットは、チャンバの外壁の外側面及び内側面にそれぞれシール部材を設けることにより、チャンバからの原料物質の漏出を遮断するシールの効率をより高めることができる効果が得られる。
なお、上述したように構成された本実施例に係る噴射ノズルユニットは、シール部材を比較的延性の銅材質で形成してスプリング部材の弾性力によって軽く押さえられることにより、ノズル本体とチャンバの外壁の貫通孔との間の隙間を完全に塞ぐことができる効果が得られる。
図2の実施例において、第1の本体部と第2の本体部が円柱状に形成されたもので説明したが、第1の本体部と第2の本体部の両方を多角形の柱形状又は第1の本体部と第2の本体部のうちいずれかは多角形の柱状に、他の一つは円柱状に形成しても良い。
図2の実施例において、U字状のワッシャ部材がノズル本体の凹み部に嵌められる方法でワッシャ部材とノズル本体とが結合されたが、ワッシャ部材とノズル本体の下端部とがねじ結合する方法でワッシャ部材とノズル本体とが結合されても、その他の様々な方法で結合されても良い。
本発明の権利範囲は、上述した実施例や変形例に限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲内で様々な形態の実施例として実現することができる。特許請求の範囲で請求する本発明の要旨を逸脱しなく、当該発明の属する技術分野における通常の知識を有する者であれば、変形が可能な様々な範囲まで本発明の特許請求の範囲の記載の範囲内にあるものとみなす。
100 噴射ノズルユニット
110 ノズル本体
120 シール部材
130 ワッシャ部材
140 スプリング部材
110 ノズル本体
120 シール部材
130 ワッシャ部材
140 スプリング部材
Claims (5)
- 内部において上下方向に貫通して形成されて気化した原料物質が通過する噴射孔を備え、前記原料物質が収容されたチャンバの外壁を貫通して結合されるノズル本体と、
前記ノズル本体と前記チャンバの外壁との間に設けられ、気化した原料物質が前記ノズル本体と前記チャンバの外壁との間に漏出しないように、前記ノズル本体と前記チャンバの外壁との間をシールするシール部材と、
前記ノズル本体において前記チャンバの内側に位置する下端部に結合されるワッシャ部材と、
前記ワッシャ部材と前記チャンバの外壁の内側面との間に設けられ、前記チャンバの外壁と前記ワッシャ部材側に向かう弾性力をそれぞれ作用させて前記ノズル本体を前記チャンバの外壁に密着させるスプリング部材とを含むことを特徴とする噴射ノズルユニット。 - 前記ノズル本体は、前記チャンバの外壁に形成された貫通孔に挿入され、前記チャンバの内側まで突出する第1の本体部と、前記第1の本体部の上部に設けられ、前記第1の本体部よりも断面積が大きく、前記チャンバの外側に突出する第2の本体部とをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の噴射ノズルユニット。
- 前記シール部材は、
前記第2の本体部と前記チャンバの外壁の外側面との間に設けられる第1のシール部材と、前記スプリング部材と前記チャンバの外壁の内側面との間に設けられる第2のシール部材とを含むことを特徴とする請求項2に記載の噴射ノズルユニット。 - 前記ワッシャ部材はU字状に形成され、
前記ノズル本体の下端部には側面から凹んで互いに反対方向を向く一対の凹み部が形成され、
前記ワッシャ部材が前記凹み部に嵌められる方法で前記ワッシャ部材と前記ノズル本体とが結合されることを特徴とする請求項1に記載の噴射ノズルユニット。 - 前記シール部材は銅材質で形成されることを特徴とする請求項1に記載の噴射ノズルユニット。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2012-0091912 | 2012-08-22 | ||
KR1020120091912A KR101394265B1 (ko) | 2012-08-22 | 2012-08-22 | 분사노즐 유닛 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014040664A true JP2014040664A (ja) | 2014-03-06 |
JP5594503B2 JP5594503B2 (ja) | 2014-09-24 |
Family
ID=50205621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013171390A Expired - Fee Related JP5594503B2 (ja) | 2012-08-22 | 2013-08-21 | 噴射ノズルユニット |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5594503B2 (ja) |
KR (1) | KR101394265B1 (ja) |
CN (1) | CN103623962B (ja) |
TW (1) | TWI490047B (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101974418B1 (ko) * | 2018-10-10 | 2019-05-02 | 권오남 | 공정액 공급용 노즐튜브 및 이를 포함하는 노즐장치 |
CN110586380A (zh) * | 2019-09-18 | 2019-12-20 | 大禹节水(天津)有限公司 | 一种水利灌溉用便于拆卸的洒水喷头 |
CN115522167A (zh) * | 2022-09-22 | 2022-12-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀源设备 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03116553U (ja) * | 1990-03-08 | 1991-12-03 | ||
JPH03293293A (ja) * | 1990-04-12 | 1991-12-24 | Nippon Chemicon Corp | 機器の搬送補助治具 |
JPH08200956A (ja) * | 1995-01-23 | 1996-08-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 気密容器のシ−ル装置 |
JP2002324493A (ja) * | 2001-04-24 | 2002-11-08 | Nissin Electric Co Ltd | イオン源用オーブン |
JP2004359985A (ja) * | 2003-06-03 | 2004-12-24 | Nissin Ion Equipment Co Ltd | イオンビーム発生方法およびイオン源 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2318458B2 (de) * | 1973-04-12 | 1980-09-04 | Lechler Gmbh & Co Kg, 7012 Fellbach | Einrichtung zur dichtenden Befestigung von Düsen an Leitungsteilen |
CN2285395Y (zh) * | 1997-04-18 | 1998-07-01 | 王平 | 一种机械密封装置 |
US6641673B2 (en) * | 2000-12-20 | 2003-11-04 | General Electric Company | Fluid injector for and method of prolonged delivery and distribution of reagents into plasma |
KR100714304B1 (ko) * | 2001-03-22 | 2007-05-02 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조장치의 반응가스 공급노즐 |
EP1445046A1 (fr) * | 2003-02-07 | 2004-08-11 | Vesuvius Crucible Company | Dispositif de connexion d'une canalisation de circulation de fluide à une pièce réfractaire et pièce réfractaire |
SE530106C2 (sv) * | 2006-07-03 | 2008-03-04 | Lind Finance & Dev Ab | Fastsättningsanordning vid en spindelenhet |
CN101240850A (zh) * | 2007-02-07 | 2008-08-13 | 财团法人工业技术研究院 | 密封结构及其衬垫组件 |
US7871019B1 (en) * | 2009-07-01 | 2011-01-18 | Active Products International Limited | Pressure-adjustable jet spray nozzle for cleaning machine |
CN201841141U (zh) * | 2010-11-11 | 2011-05-25 | 中国石油天然气股份有限公司 | 油气管道用在线清管器 |
-
2012
- 2012-08-22 KR KR1020120091912A patent/KR101394265B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2013
- 2013-08-14 TW TW102129159A patent/TWI490047B/zh not_active IP Right Cessation
- 2013-08-21 JP JP2013171390A patent/JP5594503B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2013-08-21 CN CN201310367263.1A patent/CN103623962B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03116553U (ja) * | 1990-03-08 | 1991-12-03 | ||
JPH03293293A (ja) * | 1990-04-12 | 1991-12-24 | Nippon Chemicon Corp | 機器の搬送補助治具 |
JPH08200956A (ja) * | 1995-01-23 | 1996-08-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 気密容器のシ−ル装置 |
JP2002324493A (ja) * | 2001-04-24 | 2002-11-08 | Nissin Electric Co Ltd | イオン源用オーブン |
GB2378038A (en) * | 2001-04-24 | 2003-01-29 | Nissin Electric Co Ltd | Ion source vaporizer |
JP2004359985A (ja) * | 2003-06-03 | 2004-12-24 | Nissin Ion Equipment Co Ltd | イオンビーム発生方法およびイオン源 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101974418B1 (ko) * | 2018-10-10 | 2019-05-02 | 권오남 | 공정액 공급용 노즐튜브 및 이를 포함하는 노즐장치 |
CN110586380A (zh) * | 2019-09-18 | 2019-12-20 | 大禹节水(天津)有限公司 | 一种水利灌溉用便于拆卸的洒水喷头 |
CN115522167A (zh) * | 2022-09-22 | 2022-12-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀源设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101394265B1 (ko) | 2014-05-13 |
JP5594503B2 (ja) | 2014-09-24 |
CN103623962B (zh) | 2016-03-02 |
KR20140025792A (ko) | 2014-03-05 |
TWI490047B (zh) | 2015-07-01 |
CN103623962A (zh) | 2014-03-12 |
TW201408378A (zh) | 2014-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5594503B2 (ja) | 噴射ノズルユニット | |
TWI496943B (zh) | 具有冷却系統的噴頭以及包含該噴頭的基板處理裝置 | |
KR101223489B1 (ko) | 기판 가공 장치 | |
US10036949B2 (en) | Method for manufacturing photo mask and photo mask manufactured with same | |
CN104328377A (zh) | 蒸发源、成膜设备及其成膜方法 | |
US20200080193A1 (en) | Carrier plate for evaporating device and evaporating device thereof | |
KR20150000327A (ko) | 증발원 및 이를 구비한 증착장치 | |
KR20140130963A (ko) | 유기물 세정 장치 및 세정 방법 | |
KR102054477B1 (ko) | 박막 증착 장치 | |
KR102580523B1 (ko) | 기판 프로세싱 장치 및 방법 | |
KR101449601B1 (ko) | 증착 장치 | |
KR20130131932A (ko) | 노즐 유닛 및 그 노즐 유닛을 갖는 기판 처리 설비 | |
KR101599505B1 (ko) | 증착장치용 증발원 | |
US10829850B2 (en) | Evaporation source and evaporation-deposition device having the same | |
KR20140102090A (ko) | 방착 유니트를 가지는 박막 증착 장치와, 이의 증착물을 제거하는 방법 | |
KR101703768B1 (ko) | 기판처리장치 | |
KR20150071334A (ko) | 증발 장치 및 이를 구비하는 박막 증착 장치 | |
KR100611674B1 (ko) | 증착장치 | |
KR20150021345A (ko) | 증착 장치 | |
KR20060094723A (ko) | 튐 방지턱을 구비하는 측면 분사형 증발원 및 그 증발원을구비하는 증착장치 | |
CN114635107A (zh) | 一种用于线性蒸发源中的坩埚及线性蒸发源 | |
KR20090015380A (ko) | 챔버에 유기물을 제공하는 캐니스터 | |
KR101426824B1 (ko) | 염료감응형 태양전지 | |
US11111574B2 (en) | Vapor deposition apparatus and vapor deposition method | |
KR200379224Y1 (ko) | 열매체를 구비하는 열압착용 롤러 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140616 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140708 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140722 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5594503 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |