JP2014035449A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2014035449A5
JP2014035449A5 JP2012176501A JP2012176501A JP2014035449A5 JP 2014035449 A5 JP2014035449 A5 JP 2014035449A5 JP 2012176501 A JP2012176501 A JP 2012176501A JP 2012176501 A JP2012176501 A JP 2012176501A JP 2014035449 A5 JP2014035449 A5 JP 2014035449A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
imaging optical
pattern
exposure apparatus
reflective mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012176501A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2014035449A (ja
JP6069941B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2012176501A priority Critical patent/JP6069941B2/ja
Priority claimed from JP2012176501A external-priority patent/JP6069941B2/ja
Publication of JP2014035449A publication Critical patent/JP2014035449A/ja
Publication of JP2014035449A5 publication Critical patent/JP2014035449A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6069941B2 publication Critical patent/JP6069941B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2012176501A 2012-08-08 2012-08-08 投影露光装置及びデバイス製造方法 Active JP6069941B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012176501A JP6069941B2 (ja) 2012-08-08 2012-08-08 投影露光装置及びデバイス製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012176501A JP6069941B2 (ja) 2012-08-08 2012-08-08 投影露光装置及びデバイス製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2014035449A JP2014035449A (ja) 2014-02-24
JP2014035449A5 true JP2014035449A5 (enExample) 2015-08-13
JP6069941B2 JP6069941B2 (ja) 2017-02-01

Family

ID=50284466

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012176501A Active JP6069941B2 (ja) 2012-08-08 2012-08-08 投影露光装置及びデバイス製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6069941B2 (enExample)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6028350B2 (ja) * 2012-03-16 2016-11-16 株式会社ニコン 基板処理装置、デバイス製造システム及びデバイス製造方法
CN108604063A (zh) * 2015-11-30 2018-09-28 株式会社尼康 曝光装置、曝光系统、基板处理方法、以及元件制造装置
CN117471867B (zh) * 2023-11-20 2026-05-29 季华实验室 一种曝光设备

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3395801B2 (ja) * 1994-04-28 2003-04-14 株式会社ニコン 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法
DE10005189A1 (de) * 2000-02-05 2001-08-09 Zeiss Carl Projektionsbelichtungsanlage mit reflektivem Retikel
JP2003241099A (ja) * 2002-12-02 2003-08-27 Nikon Corp 反射屈折投影光学系、並びに投影露光方法及び装置
EP1730596B1 (en) * 2004-03-30 2011-02-16 Carl Zeiss SMT AG Projection objective and projection exposure apparatus
JP4984631B2 (ja) * 2006-04-28 2012-07-25 株式会社ニコン 露光装置及び方法、露光用マスク、並びにデバイス製造方法
TW200830057A (en) * 2006-09-08 2008-07-16 Nikon Corp Mask, exposure apparatus and device manufacturing method
JP5282895B2 (ja) * 2009-03-06 2013-09-04 株式会社ニコン 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP5724564B2 (ja) * 2010-04-13 2015-05-27 株式会社ニコン マスクケース、マスクユニット、露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法
JP5708179B2 (ja) * 2010-04-13 2015-04-30 株式会社ニコン 露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法
WO2011129369A1 (ja) * 2010-04-13 2011-10-20 株式会社ニコン 露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6927348B2 (ja) パターン形成方法
JP2012032837A5 (ja) 露光装置、該露光装置を用いるデバイス製造方法、及び露光用マスク
JP2012168543A5 (ja) 投影光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP2012155330A5 (ja) 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP2016001308A5 (ja) 露光装置、およびデバイス製造方法
JP2011003908A5 (enExample)
JP2010020017A5 (enExample)
JP2019049723A (ja) 投影光学装置、走査露光装置、及びデバイス製造方法
JP6493595B2 (ja) 走査露光装置、及びデバイス製造方法
JP6069941B2 (ja) 投影露光装置及びデバイス製造方法
JP2013084958A5 (ja) 照明光学系、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP2011086957A5 (enExample)
JP2010098328A5 (enExample)
JP2010109294A5 (enExample)
JP2016109741A5 (enExample)
JP2016063185A5 (enExample)
JP2019023732A5 (enExample)
JP2006210623A5 (enExample)
JP2014102468A (ja) 処理装置、及びデバイス製造方法
JP2014056255A5 (enExample)
JP2013195530A (ja) 基板処理装置、デバイス製造システム及びデバイス製造方法
HK1208915B (en) Substrate processing device, device manufacturing system and method for manufacturing device