JP2014022527A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014022527A5 JP2014022527A5 JP2012159078A JP2012159078A JP2014022527A5 JP 2014022527 A5 JP2014022527 A5 JP 2014022527A5 JP 2012159078 A JP2012159078 A JP 2012159078A JP 2012159078 A JP2012159078 A JP 2012159078A JP 2014022527 A5 JP2014022527 A5 JP 2014022527A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mold
- substrate
- imprint apparatus
- imprint
- controlling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 42
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 13
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating Effects 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052904 quartz Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012159078A JP6166516B2 (ja) | 2012-07-17 | 2012-07-17 | インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012159078A JP6166516B2 (ja) | 2012-07-17 | 2012-07-17 | インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014022527A JP2014022527A (ja) | 2014-02-03 |
JP2014022527A5 true JP2014022527A5 (zh) | 2015-09-03 |
JP6166516B2 JP6166516B2 (ja) | 2017-07-19 |
Family
ID=50197089
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012159078A Active JP6166516B2 (ja) | 2012-07-17 | 2012-07-17 | インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6166516B2 (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6562795B2 (ja) * | 2015-02-12 | 2019-08-21 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品の製造方法 |
JP6700936B2 (ja) | 2016-04-25 | 2020-05-27 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
JP7134055B2 (ja) * | 2018-10-09 | 2022-09-09 | キヤノン株式会社 | 成形装置、および物品の製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005101201A (ja) * | 2003-09-24 | 2005-04-14 | Canon Inc | ナノインプリント装置 |
JP2007173614A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Ricoh Co Ltd | 微細加工装置 |
CN101600993B (zh) * | 2007-02-06 | 2013-01-16 | 佳能株式会社 | 刻印方法和刻印装置 |
US8945444B2 (en) * | 2007-12-04 | 2015-02-03 | Canon Nanotechnologies, Inc. | High throughput imprint based on contact line motion tracking control |
JP5517423B2 (ja) * | 2008-08-26 | 2014-06-11 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及びインプリント方法 |
-
2012
- 2012-07-17 JP JP2012159078A patent/JP6166516B2/ja active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8678808B2 (en) | Imprint apparatus and article manufacturing method | |
JP6304934B2 (ja) | インプリント装置および物品の製造方法 | |
JP5824379B2 (ja) | インプリント装置、インプリント方法、及び物品の製造方法 | |
JP5824380B2 (ja) | インプリント装置、インプリント方法、及び物品の製造方法 | |
JP5759303B2 (ja) | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 | |
JP6700936B2 (ja) | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 | |
JP6702757B2 (ja) | インプリント装置、および物品の製造方法 | |
JP5798020B2 (ja) | ワーク設置装置およびワーク設置方法 | |
TWI627050B (zh) | 壓印方法、壓印設備、模具及製造半導體裝置的方法 | |
US10620532B2 (en) | Imprint method, imprint apparatus, mold, and article manufacturing method | |
JP2015050437A (ja) | インプリント装置および物品の製造方法 | |
JP2016086051A (ja) | インプリント方法、インプリント装置、およびそれを用いた物品の製造方法 | |
JP2014022527A5 (zh) | ||
KR20210122107A (ko) | 임프린트 리소그래피에서의 임프린트력 인가의 정확도를 개선하기 위한 장치 및 방법 | |
JP2017112230A (ja) | インプリント装置および物品製造方法 | |
JP5822597B2 (ja) | インプリント装置、及びそれを用いた物品の製造方法 | |
JP5961366B2 (ja) | ワーク設置装置およびワーク設置方法 | |
JP5744423B2 (ja) | インプリント装置、インプリント方法及びデバイスの製造方法 | |
JP7086711B2 (ja) | インプリント装置、および物品製造方法 | |
JP6166516B2 (ja) | インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法 | |
JP5852864B2 (ja) | ワーク保持体、ワーク設置装置およびワーク設置方法 | |
JP2018137360A (ja) | インプリント装置および物品製造方法 | |
JP5224930B2 (ja) | 転写装置 | |
JP2016021442A (ja) | インプリント装置及び物品の製造方法 | |
KR20190072859A (ko) | 은 페이스트 충전용 닥터블레이드 |