JP2014013305A - 撮像装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】高性能の手ブレ補正機構を有する撮像装置を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる撮像装置は、ベースプレート50と、xプレート60と、xプレート60とベースプレート50との間に回転可能な状態で挟み込まれた回転球51〜53と、を備え、ベースプレート50の背面とxプレート60の前面との間に、回転球52、53とが配置され、ベースプレート50の前面とxプレート60の背面との間に回転球51が配置されるように、ベースプレート50が回転球51を保持する第1のブリッジ部58を有し、平面視において、回転球52と回転球53とを結ぶ直線L1を挟んで、回転球51と対向する位置において、xプレート60をベースプレート50に付勢する付勢力が発生しているものである。
【選択図】図9

Description

本発明は、撮像装置に関するものであり、特に詳しくは、手ブレ補正機構を有する撮像装置に関するものである。
デジタルカメラなどの撮像装置において、手ブレ補正機能を有するものがある。例えば、レンズに対して、撮像素子を移動させることで手ブレ補正を行う方法が開示されている(特許文献1)。このような手ブレ補正機構では、撮像素子を手ブレに対して追従するよう、高速に移動させることと、直進性よく移動させることが要求される。
特開2008−225135号公報
このような手ブレ補正機構においては、撮像素子を平面的に移動させている。例えば、特許文献1では、前側固定支持基板、後側固定支持基板、及びステージ板の3つのプレートが対向配置されている。また、各プレートを円滑に移動させるため、プレート間には、ボールが介在している。移動の平面度を維持するため、通常、3つのボール(回転球)が配置される。
ここで、3つのボールをプレート間に保持するためには、付勢力が必要となる。例えば、撮像装置に衝撃が加わった場合でも、ボールがプレート間から脱落しないように、プレートを光軸方向に付勢させる必要がある。付勢バネ等を用いて付勢力を発生させた場合、その取り付けに応じては、プレートが傾いてしまう。また、付勢バネを複数箇所に設けた場合、装置の大型化や部品点数の増加を招いてしまう。
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、高性能の手ブレ補正機構を有する撮像装置を提供することを目的とする
本発明の一態様に係る撮像装置は、レンズユニット(7)に対して撮像素子(81)を移動させることで、手ブレ補正を行う手ブレ補正機構(9)を有する撮像装置(100)であって、前記レンズユニット(7)に取り付けられたベース(ベースプレート50)と、前記ベース(ベースプレート50)の背面側で前記ベース(ベースプレート50)と対向配置され、前記ベース(ベースプレート50)に対して第1の方向にスライド可能に設けられた第1のプレート(xプレート60)と、前記第1のプレート(xプレート60)を前記ベースに対して第1の方向に移動させる第1のアクチュエータ(コイル66、及び永久磁石41)と、前記ベース(ベースプレート50)と前記第1のプレート(xプレート60)との間に回転可能な状態で挟み込まれた第1〜第3の回転球(51〜53)と、を備え、前記ベースの背面と前記第1のプレートの前面との間に、前記第2の回転球(52)と前記第3の回転球(53)とが配置され、前記ベースの前面と前記第1のプレートの背面との間に前記第1の回転球(51)が配置されるように、前記ベース、及び前記第1のプレートの一方が前記第1の回転球を保持する第1のブリッジ部(58)を有し、前記レンズユニットの光軸と垂直な平面視において、前記第2の回転球と前記第3の回転球とを結ぶ直線を挟んで、前記第1の回転球と対向する位置において、前記第1のプレートを前記ベース側に付勢する付勢力が発生しているものである。このようにすることで、少ない部品点数で、付勢力を効果的に発生することができるため、効果的に手ブレを補正することができる。
本発明の一態様に係る撮像装置は、上記の撮像装置において、前記第1のプレート(xプレート60)の背面側で前記第1のプレートと対向配置され、前記第1のプレート(xプレート60)に対して第2の方向にスライド可能に設けられた第2のプレート(yプレート70)と、前記第2のプレートを前記第1のプレートに対して第2の方向に移動させる第2のアクチュエータ(永久磁石31、コイル76)と、前記第1のプレートと前記第2のプレートとの間に回転可能な状態で挟み込まれた第4〜第6の回転球(61〜63)とを、さらに備え、前記第1のプレートの背面と前記第2のプレートの前面との間に、前記第5の回転球(62)と前記第6の回転球(63)とが配置され、前記第1のプレートの前面と前記第2のプレートの背面との間に前記第4の回転球(61)が配置されるように、前記ベース、及び前記第1のプレートの一方が前記第4の回転球を保持する前記第2のブリッジ部(68)を有し、前記レンズユニットの光軸と垂直な平面視において、前記第5の回転球と前記第6の回転球とを結ぶ直線を挟んで、前記第4の回転球と対向する位置において、前記第2のプレートを前記ベース側に付勢する付勢力が発生しているものである。このようにすることで、少ない部品点数で、付勢力を効果的に発生することができるため、効果的に手ブレを補正することができる。
上記の撮像装置において、前記第1のプレートに前記付勢力を発生する付勢部材(付勢バネ54)をさらに備えていてもよい。これにより、効果的な付勢力を簡便に発生させることができる。
上記の撮像装置において、前記第1のアクチュエータが、磁石(永久磁石41)と、コイル(コイル66)とを有し、前記磁石の磁力によって、前記付勢力が発生していてもよい。これにより、少ない部品点数で、効果的に付勢力を発生させることができる。
上記の撮像装置において、前記レンズユニットの光軸と垂直な平面において、前記第2の回転球と前記第3の回転球とを結ぶ直線(L1)と、前記第1のプレートに対する前記付勢力の発生する位置と前記第1の回転球とを結ぶ直線(L2)が略直交していてもよい。これにより、第2の回転球と第3の回転球をより確実に保持することができる。
上記の撮像装置において、前記第1のプレート、及び前記ベースには、前記レンズユニットからの光を前記撮像素子に導くための開口部が設けられ、前記第1のベースプレート、及び前記ベースの他方に、前記第1のブリッジ部をくぐるように延びた延在部が設けられ、前記延在部が前記開口部内に配置されていてもよい。こうすることで、装置の小型化を図ることができる。
以上のように、本発明によれば、高性能の手ブレ補正機構を有する撮像装置を提供することができる。
撮像装置の構成を側面上方から見た斜視図である。 撮像装置をモニタ部側の側面下方からみた斜視図である。 撮像装置に設けられた手ブレ補正機構の構成を概念的に示す側面図である。 手ブレ補正機構の全体構成を示す斜視図である。 手ブレ補正機構の全体構成を示す分解斜視図である。 手ブレ補正機構のベースプレートとxプレートの構成を示す分解斜視図である。 手ブレ補正機構のベースプレートとxプレートとを取り付けた状態を示す斜視図である。 手ブレ補正機構のベースプレートとxプレートとを取り付ける工程を説明するためのYZ断面図である。 手ブレ補正機構のベースとxプレートとを取り付けた状態を示すXY平面図である。 比較例1における回転球と付勢位置Aの配置、その問題点を説明するための平面図である。 比較例1における回転球と付勢位置Aの配置、その問題点を説明するための側面図である。 比較例2における回転球と付勢位置Aの配置、その問題点を説明するための平面図である。 比較例2における回転球と付勢位置Aの配置、その問題点を説明するための側面図である。 比較例3における回転球と付勢位置Aの配置、その問題点を説明するための平面図である。 比較例3における回転球と付勢位置Aの配置、その問題点を説明するための側面図である。 実施の形態2にかかる手ブレ補正機構の全体構成を示す斜視図である。 実施の形態2にかかる手ブレ補正機構の全体構成を示す分解斜視図である。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1、及び図2は、本実施の形態に係る撮像装置100の全体的な構成を示す斜視図である。図1は、撮像装置100を左前方から見た斜視図であり、図2は、撮像装置100を右前方から見た斜視図である。以下の説明では、説明の明確化のため、図に示すようなxyz直交座標系を用いて、説明を行う。
ここでは、z軸が、撮像装置100の前後方向を示し、y軸が撮像装置100の上下方向(鉛直方向)を示し、x軸が撮像装置100の左右方向(横方向)を示している。すなわち、z方向が、撮像装置100に設けられたレンズの光軸に平行な方向であり、y方向、及びx方向が撮像装置100に設けられたレンズの光軸と垂直な方向である。さらに、レンズ6側を被写体(物体)側に向け、レンズ6と反対側をユーザ側に向け、かつ、操作部16を上方に向けてユーザが撮像装置100を把持した状態において、撮像装置100を把持するユーザを基準に方向を特定する。すなわち、+x側が左側、−x側が右側、+y側が上方側、−y側が下方側、+z側が後側(背面側)、−z側が前側(前面側)とする。もちろん、上記の方向は、相対的なものであり、撮像装置100の向きに応じて変化する。
(全体構成)
図1、図2に示すように、撮像装置100は、本体部5と、モニタ部3と、レンズ6と、レンズバリア10と、操作部18とを有している。撮像装置100は、手ブレ補正機構を有している。
本体部5は、略直方体形状を有しており、レンズ6を有するレンズ鏡筒、撮像素子を有する手ブレ補正機構、制御回路、及びメモリなどが内蔵されている。そして、本体部5の前面には、レンズ6を覆うレンズバリア10が設けられている。このレンズバリア10が開くことで、レンズ6が露出して、撮像可能な状態となる。さらに、本体部5の右側面の前方側には、レンズバリア10の開閉を切り替えるためのレバー17が設けられている。本体部5の上面には、操作ボタンなどを有する操作部18が設けられている。操作部18は、録画開始ボタン、録画終了ボタン等を備えている。ユーザが、操作部18を操作することで、被写体を撮像することができる。
図2に示すように、本体部5の左側面には、モニタ部3が設けられている。モニタ部3は、本体部5に対して、ヒンジ4を介して接続されている。ヒンジ4によって、モニタ部3が本体部5に開閉可能に取り付けられている。モニタ部3は、被写体、記憶された画像データ、設定情報、その他の情報を表示する液晶ディスプレイなどを有している。なお、モニタ部3を開いた状態では、モニタ部3のモニタは、後方側、すなわちユーザ側を向いて配置されている。タッチパネル機能を備える場合には、モニタ部3のディスプレイが操作部の一部となる。
レンズ6は、外部の光を撮像装置100内の撮像素子に導くものである。また、本体部5には、撮像素子、制御回路等が配置されている。撮像装置100は、レンズ6を通して伝播してきた光を受光して、被写体を撮像する。さらに、本体部5のモニタ部3が設けられた左側面と対向する右側面には、バッテリが収納されている。バッテリは、本体部5に対して脱着可能に設けられ、撮像装置100のモニタ部3や撮像素子に電源を供給する。
(動作原理の概念説明)
次に、撮像装置100に内蔵された手ブレ補正機構の動作原理について、図3を用いて説明する。図3は、手ブレ補正機構の構成を概念的に示す側面図である。なお、図3は、手ブレ補正機構の動作を説明するための概念図であるため、実際の配置や構成とは異なっている箇所も存在している。
撮像素子81を移動させるための原理に付いて説明する。手ブレ補正機構9は、レンズユニット7に対して、撮像素子81を移動させることで、手ブレ補正を行う。手ブレ補正機構9は、ベースプレート50と、xプレート60と、yプレート70とを備えている。レンズユニット7には、ベースプレート50が固定されている。xプレート60は、ベースプレート50に対して、X方向に移動可能に取り付けられている。yプレート70は、xプレート60に対して、Y方向に移動可能に取り付けられている。ベースプレート50には、上ホルダ30と下ホルダ40とが取り付けられている。上ホルダ30と下ホルダ40は、ヨークによって形成されている。
レンズユニット7の+z側には、ベースプレート50が取り付けられている。さらに、ベースプレート50の+z側には、xプレート60が取り付けられている。xプレート60の+z側には、yプレート70が取り付けられている。そして、yプレート70の後側には、センサユニット80が設けられている。センサユニット80は、撮像素子81が取り付けられている。
ベースプレート50とxプレート60との間には、回転球52、53が介在している。従って、ベースプレート50とxプレート60とは、回転球52、53を介して、対向配置されている。これにより、ベースプレート50とxプレート60とが、隙間を隔てて対向配置される。なお、後述するように、ベースプレート50とxプレート60との間には、3つの回転球が設けられている。3つの回転球の配置については、後述する。
xプレート60には、コイル66が設けられている。下ホルダ40には、永久磁石41が設けられている。下ホルダ40は、ベースプレート50に取り付けられる。YZ平面において、下ホルダ40は、コの字型を有しており、その内側に永久磁石41が配置される。そして、永久磁石41とコイル66とは、対向配置している。従って、永久磁石41とコイル66がアクチュエータを構成する。コイル66に供給する電圧を制御すると、xプレート60がx方向にスライドする。また、xプレート60の直動によって、回転球52、53が球受け内で回転する。これにより、スライド移動による摩擦力が軽減され、速やかな移動が可能になる。
yプレート70とxプレート60との間には、回転球62、63が介在している。従って、yプレート70とxプレート60とは、回転球62、63を介して、対向配置されている。これにより、yプレート70とxプレート60とが、隙間を隔てて対向配置される。なお、後述するように、yプレート70とxプレート60との間には、3つの回転球が設けられている。3つの回転球の配置については、後述する。
yプレート70には、コイル76が設けられている。上ホルダ30には、永久磁石31が設けられている。永久磁石31とコイル76とは、対向配置している。従って、永久磁石31とコイル76がアクチュエータを構成する。コイル76に供給する電圧を制御すると、yプレート70がy方向にスライドする。また、yプレート70の直動によって、回転球62、63が球受け内で回転する。これにより、スライド移動による摩擦力が軽減され、速やかな移動が可能になる。
このように、ベースプレート50に対して、xプレート60がx方向に移動し、yプレート70がy方向に移動する。yプレート70には、センサユニット80が固定されている。さらに、xプレート60とyプレート70が移動可能に連結されているため、xプレート60のx方向の直動に応じて、yプレート70もx方向に変位する。これにより、センサユニット80に設けられた撮像素子81が、xy平面において移動する。換言すると、ベースプレート50に対して、yプレート70が移動可能に連結される構成となっている。
また、ベースプレート50とxプレート60とyプレート70を貫通する開口部8が、レンズ6の後側に配置される。従って、レンズ6で屈折した光は、開口部8を通過して、撮像素子81に入射する。撮像素子81は、開口部8内を自在に移動する。撮像装置100に設けられたセンサ(図示せず)によって、手ブレによる撮像素子81のxy方向の変位を検出し、その変位に応じてコイル66、76に供給する電流を制御する。こうすることで、手ブレ補正を行うことができる。
(手ブレ補正機構の構成)
次に、本体部5に収納された手ブレ補正機構9の構造について、図4、5を用いて説明する。図4は、本体部5に収納されている手ブレ補正機構9の全体構成を示す斜視図である。図5は、手ブレ補正機構9の構成を示し分解斜視図である。図4、5は、レンズユニット7から取り外された手ブレ補正機構9の構成を示している。
図4に示すよう、ベースプレート50とyプレート70とが対向配置されている。そして、ベースプレート50とyプレート70との間には、xプレート60は配置されている。yプレート70の+z側には、センサユニット80が配置される。
ベースプレート50の+y側には、yプレート70を保持するための上ホルダ30が設けられている。ベースプレート50の−x側には、xプレート60を保持するための下ホルダ40が設けられている。
図5に示すように、ベースプレート50には、上ホルダ30を取り付けるための嵌合溝56が形成されている。嵌合溝56は、開口部8の+y側に配置され、y方向に沿って設けられている。嵌合溝56には、+y側(上側)から上ホルダ30が挿嵌される。上ホルダ30は、上記したように、断面コの字型に形成されており、その内側に永久磁石31が配置されている。また、コの字型の上ホルダ30の内部にはyプレート70が挿入される。これにより、yプレート70に設けられたコイル76が、上ホルダ30に設けられた永久磁石31と対向配置される。
同様に、ベースプレート50には、下ホルダ40を取り付けるための嵌合溝57が形成されている。嵌合溝57は、開口部8の−x側に配置され、y方向に沿って設けられている。嵌合溝57には、−y側(下側)から下ホルダ40が挿嵌される。下ホルダ40も、上ホルダ30と同様に、断面コの字型に形成されており、その内側に永久磁石41が配置されている。また、コの字型の下ホルダ40の内部にはxプレート60が挿入される。これにより、xプレート60に設けられたコイル66が、下ホルダ40に設けられた永久磁石41と対向配置される。
ベースプレート50とxプレート60との間には、回転球51〜53が配置される。ここで、3つの回転球51〜53のうち、1つの回転球51は、xプレート60の延在部65に配置される。延在部65は、xプレート60の+y側の端から+y側(上側)に延びた延在部分である。延在部65は、−z方向に張り出している。延在部65は、ベースプレート50に設けられたブリッジ部58と対向する。延在部65は、ブリッジ部58をくぐるように延びている。ブリッジ部58は、x方向に延びたブリッジ形状であり、ベースプレート50の開口部8の上端を規定する。また、ブリッジ部58は、ベースプレート50の開口部8の+x側の端から、−x側の端まで架設されている。
延在部65がブリッジ部58よりも−z側に配置された状態で、延在部65とブリッジ部58が対向配置される(図8(c)を合わせて参照)。そして、ブリッジ部58と延在部65との間に、回転球51が配置される。回転球51は、開口部8の+y側に配置される。
一方、回転球52、53は、開口部8の−y側に配置される。y方向において、回転球51が開口部8の一方側に配置され、回転球52、53が開口部8の他方側に配置される。回転球52と回転球53は、x軸と平行な直線上に配置される。
さらに、ベースプレート50には、付勢バネ54が取り付けられている。付勢バネ54は、ベースプレート50の下端(−y側の端)に連結されている。また、xプレート60は、−y方向に突出した連結部69を有している。そして、付勢バネ54は、連結部69に連結されている。すなわち、付勢バネ54の一端はベースプレート50に連結され、他端はxプレート60に連結されている。付勢バネ54は、xプレート60をベースプレート50側に付勢する付勢力を発生する。付勢バネ54によってz方向に発生する付勢力によって、回転球51〜53がベースプレート50とxプレート60との間に保持される。すなわち、付勢バネ54の付勢力によって、回転球51〜53がベースプレート50とxプレート60との間から脱落するのを防ぐことができる。
xプレート60とyプレート70との間には、回転球61〜63が配置される。xプレート60とyプレート70との間の回転球61〜63についても、回転球51〜53と同様に構成されている。具体的には、回転球62と回転球63とは、開口部8の−X側に配置されている。回転球61は、開口部8の+X側に配置されている。
3つの回転球61〜63のうち、1つの回転球61は、yプレート70の延在部75に配置される。延在部75は、xプレート70の+x側の端部から+x側に延びた延在部分である。延在部75は、−z側に張り出している。そして、延在部75は、xプレート60に設けられたブリッジ部68と対向する。ブリッジ部68は、y方向に延びたブリッジ形状であり、xプレート60の開口部8の+x側の端を規定する。また、ブリッジ部68は、xプレート60の開口部8の+y側の端から、−y側の端まで架設されている。
延在部75がブリッジ部68よりも−z側に配置された状態で、延在部75とブリッジ部68が対向配置される(図8(c)を合わせて参照)。そして、ブリッジ部68と延在部75との間に、回転球51が配置される。
回転球61は、開口部8の+x側に配置される。また、回転球62、63は、開口部8の−x側に配置される。x方向において、回転球61が開口部8の一方側に配置され、回転球62、63が開口部8の他方側に配置される。回転球62と回転球63は、y軸と平行な直線上に配置される。
さらに、xプレート60には、付勢バネ64が取り付けられている。付勢バネ64は、xプレート60の−x側の端部に連結されている。yプレート70は、−x方向に突出した連結部79を有している。付勢バネ64は、連結部79に連結されている。すなわち、付勢バネ64の一端はxプレート60に連結され、他端はyプレート70に連結されている。付勢バネ64は、yプレート70をxプレート60側に付勢する付勢力を発生する。付勢バネ64によってz方向に発生する付勢力によって、回転球61〜63がyプレート70とxプレート60との間に保持される。すなわち、付勢バネ64の発生する付勢力によって、回転球61〜63がyプレート70とxプレート60との間から脱落するのを防ぐことができる。もちろん、付勢力を発生させる部材は、バネ以外の弾性体であってもよく、例えば、弾性を有する樹脂、ゴム等とすることができる。
なお、回転球61〜63は、回転球51〜53と同様に配置されている。回転球61〜63に対する付勢バネ64の配置は、回転球51〜53に対する付勢バネ54の配置と相対的に同じとなっている。回転球61〜63の配置については、特に言及がない限り、回転球51〜53と同様になっている。以下、回転球51〜53の配置について、図6を用いて説明する。
図6は、手ブレ補正機構9の一部の構成を示す斜視図であり、具体的には、ベースプレート50とxプレート60との取り付けを説明するための図である。従って、図6では、上ホルダ30、下ホルダ40、センサユニット80、及びyプレート70等については、省略されている。
図6に示すように、回転球52と回転球53とは、xプレート60の移動方向(x方向)に沿って配置されている。回転球52と回転球53とは、ベースプレート50の背面とxプレート60の前面の間に配置される。ベースプレート50には、回転球52と回転球53とを配置するための球受け52a、53aがそれぞれ設けられている。なお、球受け52a、53aは、例えば、x方向に延びるV溝となっている。xプレート60のベースプレート50側の面にも、同様に、球受け(図6では省略)が設けられている。延在部65にも、球受け65aが設けられている。また、ブリッジ部58の−z側の面にも、同様に球受け(図6では省略)が設けられている。なお、球受け65aは、例えば、x方向に延びるV溝となっている。従って、回転球51〜53のy方向への移動が規制され、x方向への直進性を高くすることができる。また、xプレート60の移動時に回転球51〜53が転がることで、速やかな動作が可能になる。
また、xプレート60の背面には、回転球62、63を配置するための球受け62a、63aが設けられている。球受け62a、63aは、y方向に延びるV溝となっている。そして、xプレート60の前面とベースプレート50の背面を向かい合わせるように対向配置する。xプレート60は、付勢バネ64を連結するための連結部69aを有している。連結部69aは、xプレート60の+x側の端に設けられている。なお、付勢バネ64を付勢するための連結部69aは、ベースプレート50に設けられていてもよい。
ベースプレート50とxプレート60を重ね合わせると図7に示す構成となる。なお、図7は、ベースプレート50とxプレート60とを重ね合わせた状態を示す斜視図である。回転球51〜53がベースプレート50とxプレート60との間に挟持される。延在部65は、ブリッジ部58をくぐって、ブリッジ部58の−z側に配置される。
付勢バネ54が連結部69に連結される。こうすることで、回転球51〜53がベースプレート50とxプレート60との間に保持される。回転球51〜53がプレート間から脱落しなくなる。また、3つの回転球51〜53を用いているため、xプレート60の移動の平面度の劣化を防ぐことができる。
(取り付け方法)
xプレート60をベースプレート50に取り付ける方法について、図8を用いて説明する。図8(a)〜図8(c)は、ベースプレート50とxプレート60とを示すyz断面図である。なお、図8においては、回転球52、及び球受け52aが図示されていないが、回転球53、及び球受け53aと同様であるため適宜説明を省略する。
図8(a)に示されるように、ブリッジ部58には回転球51を保持するための球受け58aが設けられている。また、xプレート60には、回転球53を保持するための球受け67aが設けられている。球受け58aは、x方向に延びた溝であり、その底面が平坦になっている。なお、球受け67aは、x方向に延びたV溝となっている。また、ベースプレート50の−y側の端部には、付勢バネ54を連結する連結部59が設けられている。連結部59は−y方向に突出した形状となっている。
また、ブリッジ部58の球受け58aを平坦にしている。このため、x方向の移動が、回転球52と回転球53の球受けでガイドされる。これにより、溝の加工精度にばらつきが生じた場合でも、球受け内に回転球51〜53を保持することができる。さらに、球受け65aをV溝とすることで、取り付け作業中に、回転球51が移動するのを防ぐことができる。よって、取り付けを容易に行うことができる。
xプレート60をベースプレート50に取り付ける場合、まず、図8(a)に示すように、回転球51をxプレート60に配置し、回転球52、53をベースプレート50に配置する。具体的には、回転球51を延在部65の球受け65a内に配置する。同様に、回転球53を、ベースプレート50の球受け53a内に配置する。球受け53aは、V溝となっている。このとき、回転球51、53が球受け51a、53aから落ちないように、球受け51a、53aを回転球51、53よりも地面側に配置する。すなわち、ベースプレート50とxプレート60の背面を鉛直上方に向ける。これにより、取り付け中に、回転球51〜53が球受けから落ちるのを防ぐことができる。
そして、回転球51が配置された延在部65を開口部8内に挿入する。このとき、xプレート60は、ベースプレート50に対して斜めになっている。そして、延在部65がブリッジ部58をくぐるように、xプレート60を図8(a)の矢印方向に移動させると、図8(b)に示す構成となる。すなわち、延在部65をブリッジ部58に近づけていくと、延在部65とブリッジ部58とが離れた状態で延在部65とブリッジ部58とが向かい合う。ここでは、延在部65がブリッジ部58よりも−z側に配置される。
そして、回転球53をベースプレート50とxプレート60で挟み込むように、xプレート60を図8(b)の矢印方向に回転移動させる。すなわち、ベースプレート50とxプレート60とが平行になるように、xプレート60の角度を変えていく。これにより、z方向において、延在部65がブリッジ部58に近づいていき、図8(c)に示す構成となる。球受け67aが球受け53aと対向配置され、球受け65aが球受け58aと対向配置される。球受け67aと球受け53aとの間に、回転球53が保持される。また、球受け65aと球受け58aとの間に、回転球51が保持される。
これにより、図8(c)に示すように、回転球51がブリッジ部58と延在部65との間に挟持され、回転球53がxプレート60とベースプレート50との間に挟持される。従って、ベースプレート50の背面とxプレート60の前面との間に、回転球53が配置される。また、ブリッジ部58の前面と延在部65の背面との間に回転球51が配置される。なお、球受け65aと球受け58aはx方向に延びた溝であるため、回転球51はx方向に移動可能である。球受け53aが球受け67aはx方向に延びた溝であるため、回転球53はx方向に移動可能である。
次に、ベースプレート50とxプレート60とに、付勢バネ54が連結する。すなわち、付勢バネ54の一端を連結部59に取り付け、付勢バネ54の他端を連結部69に取り付ける。すると、図8(c)の矢印Dに示すように付勢バネ54の弾性力が発生する。付勢バネ54は、z方向に沿って配置されるため、付勢バネ54のz方向の弾性力を発生させる。
ここで、撮像装置100に衝撃が加わる等して、xプレート60がベースプレート50から離れる力が生じた場合を考える。衝撃などによって、xプレート60がベースプレート50から離れようとすると、付勢バネ54の弾性力が強くなる。すなわち、連結部59と連結部69の距離が離れるため、延びた付勢バネ54が収縮しようとする。このとき、延在部65がブリッジ部58よりも−z側に配置されている。従って、ブリッジ部58の位置、すなわち、+y側の端の位置では、xプレート60の+z方向への移動がブリッジ部58によって阻止される。
このため、衝撃により力が加わると、球受け67aから球受け53aから離れるように、ベースプレート50に対してxプレート60が回転する。すなわち、図8(b)の矢印と反対方向に、xプレート60が回転する。付勢バネ54の付勢力は図8(c)の矢印Eの方向に発生する。すると、回転球53の位置を軸とした回転モーメントによって、延在部65には、矢印Fの方向に付勢力が発生する。
このように、付勢バネ54が一点に付勢力を発生させるだけで、3つの回転球51〜53の位置で、付勢力が効果的に発生する。これにより、3つの回転球51〜53を確実に保持することができる。すなわち、ブリッジ部58を設けているため、球受け58aと球受け65aを近づけ、かつ球受け67aと球受け53aを近づける方向の付勢力を1つの付勢バネ54のみで発生することができる。
(平面配置)
ここで、回転球51〜53に対する付勢バネ54の平面配置について、図9を用いて説明する。図9は、ベースプレート50とxプレート60とを重ね合わせた状態を模式的に示すxy平面図である。図9に示すように、回転球52と回転球53とは、矩形状の開口部8の下側に配置されている。例えば、回転球52は、開口部8の左下角の近傍に配置され、回転球53は、開口部8の右下角の近傍に配置されている。回転球52と回転球53を結ぶ直線を直線L1とする。平面視において、直線L1はx軸と平行となる。すなわち、回転球52と回転球53は、xプレート60の移動方向に沿って配置されている。
回転球51は、開口部8よりも上側に配置されている。平面視において、開口部8の外側に配置された3つの回転球51〜53は三角形を構成する。回転球51は開口部8の上方に配置され、回転球52、53は、開口部8の下方に配置される。付勢バネ54は、直線L1よりも下方に配置されている。平面視において、付勢バネ54と回転球51とを結ぶ直線を直線L2とする。直線L2は、y軸と平行になっている。すなわち、直線L2と直線L1は交差している。
回転球52、及び回転球53を開口部8の一端側(下側)に配置した場合において、回転球51を開口部8の他端側(上側)に配置する。平面視において、回転球51と付勢バネ54との間に、開口部8が配置されるようにする。付勢バネ54は、直線L1よりも下側に配置される。従って、上記したように、付勢バネ54が、回転球51の位置で効果的に付勢力を発生する。このようにすることで、バランスよくxプレート60をベースプレート50に押し付けることができる。xプレート60とベースプレート50との姿勢を安定化することができ、回転球51〜53をプレート間に確実に保持することができる。安定した移動が可能となり、撮像素子81のx方向への直進性を向上することができる。さらに、開口部8内に、延在部65や撮像素子81を配置しているため、省スペース化が可能となる。手ブレ補正機構9をより小型にすることができる。
また、x方向において、回転球52と回転球53との間に、付勢バネ54が配置される。これにより、回転球52と回転球53の位置で、効果的に付勢力を発生させることができる。また、回転球51から回転球52までの距離と、回転球51から回転球53までの距離を等しくすることが望ましい。この場合、平面視において、3つの回転球51〜53が構成する三角形が二等辺三角形になっている。このようにすることで、回転球52と回転球53の位置で発生する付勢力を略同じにすることができる。よって、xプレート60をより安定して移動させることができる。
(比較例)
次に、図9に示した平面配置を採用することで、少ない部品点数で姿勢を安定できる理由について、図10〜図12を用いて説明する。ここで、図10〜図12に、比較例における構成を示す。図10〜図12は、それぞれ3つの回転球51〜53を用いた場合において、付勢力を発生する位置(付勢箇所A)を変えている。
まず、図10A、及び図10Bに示す比較例1について説明する。比較例1では、付勢力が発生する付勢箇所Aを1点としている。図10A、図10Bに示すように、回転球51〜53が構成する三角形の内側に付勢箇所Aを配置することが好ましい。回転球51〜53が構成する三角形の内部に付勢箇所Aを配置すると、回転球51〜53のそれぞれの位置に付勢力が同様に発生する。
しかしながら、開口部8には、撮像素子81やレンズ等が配置される。よって、付勢力を発生する付勢バネが開口部8内に設置することが困難になる。すなわち、付勢バネやその連結部を開口部8内に設けることは困難である。また、回転球51〜53で構成される三角形の面積を広げることも考えられるが、装置の大型化を招いてしまう。
一方、回転球51〜53が構成する三角形の外側に付勢箇所Aを配置すると、図11A、及び図11Bに示す比較例2のようになる。ここでは、回転球53の近傍の1箇所に付勢箇所Aを配置している。この場合、回転球51の位置では、付勢力が弱くなってしまう。よって、図11Bに示すように、回転球51の位置では、衝撃などによってベースプレート50とxプレート60とが離れて、回転球51が脱落してしまうおそれがある。
また、図12A、及び図12Bの比較例3に示すように、付勢箇所Aを複数設けることも考えられる。比較例3では、回転球51〜53の近傍にそれぞれ付勢箇所Aを設けている。また、付勢箇所Aは開口部8の外側になっている。この場合、回転球51〜53の位置で、十分な付勢力を発生させることができる。しかしながら、付勢力を発生させるための付勢バネ、及び付勢バネを連結するための連結部を複数箇所に設ける必要が生じてしまう。よって、部品点数の増加を招いてしまう。さらには、装置の小型化が困難になってします。
そこで、図9に示した構成のように、付勢バネ54を取り付ける。すなわち、回転球52と回転球53とを結ぶ直線L1を挟んで、回転球51と対向する位置に付勢バネ54を配置する。さらに、ブリッジ部58と延在部65とを設ける。こうすることで、1つの付勢バネ54によって、回転球51〜53のそれぞれの位置で、効果的に付勢力を発生させることができる。回転球51の位置でも、ベースプレート50とxプレート60が離れなくなる。比較例1のように、3つの回転球51〜53が構成する三角形の内側に付勢位置を配置する構成と同様の効果を得ることができる。よって、手ブレ補正機構9の姿勢安定を高くすることができ、x方向へのスライド移動を安定させることができる。さらに、3つの回転球51〜53を安定して保持することができるようになる。高い平面度で、撮像素子81を移動させることができる。
なお、上記の説明では、ベースプレート50とxプレート60との取り付け構成について説明したが、xプレート60とyプレート70についても同様であるため、詳細な説明を省略する。すなわち、回転球51〜回転球53が、回転球61〜回転球63に対応する。同様に、延在部75が延在部65に対応し、ブリッジ部68がブリッジ部58に対応する。
ここで、xプレート60とyプレート70との移動方向の違いによって、各部品の取り付け方向が異なっている。例えば、回転球52と回転球53はx方向に沿って配置されているが、回転球62と回転球63は、y方向に沿って配置されている。また、延在部65とブリッジ部58は開口部8の+y側に配置されているが、延在部75とブリッジ部68は開口部8の+x側に配置されている。回転球61〜63の具体的な位置以外は、回転球51〜53と同様の構成となっている。このように、xプレート60とyプレート70の取り付け構成についても、xプレート60とベースプレート50との取り付け構成と同様にすることで、同様の効果を得ることができる。すなわち、小型で姿勢安定性の高い手ブレ補正機構9を少ない部品点数で実現することができる。本実施の形態によれば、高性能な手ブレ補正機構9を実現することができる。
実施の形態2.
本実施の形態では、付勢バネ54、及び付勢バネ64を用いずに、付勢力を発生させる点が、実施の形態1と異なっている。具体的には、下ホルダ40の永久磁石41、及び上ホルダ30の永久磁石31の磁力によって付勢力を発生させている。なお、付勢力を発生させるための構成以外の構成については、実施の形態1と同様であるため、適宜重複する説明を省略する。
本実施の形態にかかる撮像装置100の手ブレ補正機構9について、図13、及び図14を用いて説明する。図13は、手ブレ補正機構9の構成を示す斜視図である。図14は、手ブレ補正機構9の構成を示す分解斜視図である。
図13に示すように、手ブレ補正機構9は、ベースプレート50、xプレート60、yプレート70、及びセンサユニット80を備えている。ベースプレート50、xプレート60、yプレート70、及びセンサユニット80は、実施の形態1と同様の構成を有している。上記のように、付勢バネ54と付勢バネ64は設けられていない。さらに、本実施の形態では、上ホルダ30、及び下ホルダ40が設けられていない。
永久磁石31の−z側には、ヨークプレート32が設けられている。ヨークプレート32は、永久磁石31に取り付けられたヨークである。ヨークプレート32はxプレート60に取り付けられている。また、yプレート70には、バックプレート33が取り付けられている。さらに、xプレート60には、バックプレート43が取り付けられている。
図14に示すように、ヨークプレート32の+z側の面には、永久磁石31が取り付けられている。そして、永久磁石31が取り付けられたヨークプレート32が嵌合溝57に嵌合されている。なお、本実施の形態では、嵌合溝57は、xプレート60に設けられている。実施の形態1と同様に、永久磁石31は、コイル76と対向配置される。従って、永久磁石31とコイル76は、yプレート70をy方向に移動させるアクチュエータを構成する。
さらに、コイル76の+z側には、バックプレート33が配置されている。従って、永久磁石31とバックプレート33とは、コイル76を介して、対向配置される。バックプレート33は、ヨークであり、永久磁石31の磁力によって、永久磁石31に近づく。これにより、バックプレート33を有するyプレート70に−z方向の付勢力が発生する。yプレート70がxプレート60に近づくようになる。すなわち、実施の形態1で示した付勢バネ64と同様の付勢力を発生させることができる。
ここで、平面視における付勢力の発生位置、すなわち、永久磁石31の位置は、開口部8の−x側となっている。平面視において、開口部8の+x側に、回転球61が配置される。永久磁石31は、回転球62と回転球63とを結ぶ直線よりも−x側に配置される。換言すると、実施の形態1において付勢バネ64による付勢力の発生位置と、永久磁石31とバックプレート33による付勢力の発生位置とが同様に配置されている。これにより、衝撃などが発生した場合でも、回転球61〜63の脱落を防ぐことができる。実施の形態1と同様に、小型で姿勢安定性の高い手ブレ補正機構9を少ない部品点数で実現することができる。さらに、付勢バネ64が不要となるため、実施の形態1よりも部品点数を削減することができる。また、付勢バネ64の代わりに永久磁石31を用いること、yプレート70に対してy方向に発生する力を小さくすることができる。これにより、速やかに移動させることができる。
ベースプレート50とxプレート60の取り付け構成も同様となっている。具体的には、ヨークプレート42の+z側の面には、永久磁石41が取り付けられている。また、ベースプレート50には、嵌合溝56が設けられている。嵌合溝56は、開口部8の−y側に、y方向に沿って配置されている。そして、永久磁石41が取り付けられたヨークプレート42が嵌合溝56に嵌合されている。実施の形態1と同様に、永久磁石41は、コイル66と対向配置される。従って、永久磁石41とコイル66は、xプレート60をx方向に移動させるアクチュエータを構成する。
さらに、コイル66の+z側において、xプレート60にはバックプレート43が取り付けられている。従って、永久磁石41とバックプレート43とは、コイル66を介して、対向配置される。バックプレート43は、ヨークであり、永久磁石41の磁力によって、永久磁石41に近づく。これにより、バックプレート43を有するxプレート60に−z方向の付勢力が発生する。xプレート60がベースプレート50に近づくようになる。すなわち、実施の形態1で示した付勢バネ54と同様の付勢力を発生させることができる。
ここで、平面視における付勢力の発生位置、すなわち、永久磁石41の位置は、開口部8の−y側となっている。平面視において、開口部8の+y側に、回転球51が配置される。永久磁石41は、回転球52と回転球53とを結ぶ直線よりも−y側に配置される。換言すると、実施の形態1において付勢バネ54による付勢力の発生位置と、永久磁石41とバックプレート43による付勢力の発生位置とが同様に配置されている。これにより、衝撃などが発生した場合でも、回転球51〜53の脱落を防ぐことができる。実施の形態1と同様に、小型で姿勢安定性の高い手ブレ補正機構9を少ない部品点数で実現することができる。さらに、付勢バネ54が不要となるため、実施の形態1よりも部品点数を削減することができる。また、付勢バネ54の代わりに永久磁石41を用いること、xプレート60に対してx方向に発生する力を小さくすることができる。これにより、速やかに移動させることができる。
なお、上記の説明では、xプレート60に対する付勢力とyプレート70に対する付勢力を同様の構成で発生させたが、異なる構成で発生させてもよい、例えば、xプレート60とyプレート70のいずれか一方のみについて、本実施の形態1又は実施の形態2にかかる構成で付勢力を発生させてもよい。すなわち、xプレート60とyプレート70の一方が、付勢バネによる弾性力又は永久磁石による磁力によって付勢されていればよい。さらには、xプレート60とyプレート70の一方について、実施の形態1の構成(付勢バネ)で付勢力を発生させ、他方について、実施の形態2の構成(永久磁石)で付勢力を発生させてもよい。
また、ブリッジ部と延在部の構成は反対でもよい。例えば、ベースプレート50に延在部を設け、xプレート60にブリッジ部を設けて、延在部とブリッジ部を対向配置させる。また、ブリッジ部58、68の形状は特に限定されるものではない。例えば、上記の説明では、ブリッジ部58、68は開口部8の一端から他端まで設けられた形状となっていたが、ブリッジ部58、68を延在部65、延在部75のような形状としてもよい。
3 モニタ部
4 ヒンジ
5 本体部
6 レンズ
7 レンズユニット
8 開口部
9 手ブレ補正機構
10 レンズバリア
14 バッテリカバー
17 開閉レバー
18 操作部
30 上ホルダ
31 永久磁石
32 ヨークプレート
33 バックプレート
40 下ホルダ
41 永久磁石
42 ヨークプレート
43 バックプレート
50 ベースプレート
51 回転球
52 回転球
53 回転球
54 付勢バネ
56 嵌合溝
57 嵌合溝
58 ブリッジ部
58a 球受け
60 xプレート
61 回転球
62 回転球
63 回転球
64 付勢バネ
65 延在部
65a 球受け
66 コイル
67a 球受け
68 ブリッジ部
69 連結部
69a 連結部
70 yプレート
75 延在部
76 コイル
80 センサユニット
81 撮像素子
100 撮像装置

Claims (6)

  1. レンズユニットに対して撮像素子を移動させることで、手ブレ補正を行う手ブレ補正機構を有する撮像装置であって、
    前記レンズユニットに取り付けられたベースと、
    前記ベースの背面側で前記ベースと対向配置され、前記ベースに対して第1の方向にスライド可能に設けられた第1のプレートと、
    前記第1のプレートを前記ベースに対して第1の方向に移動させる第1のアクチュエータと、
    前記ベースと前記第1のプレートとの間に回転可能な状態で挟み込まれた第1〜第3の回転球と、を備え、
    前記ベースの背面と前記第1のプレートの前面との間に、前記第2の回転球と前記第3の回転球とが配置され、
    前記ベースの前面と前記第1のプレートの背面との間に前記第1の回転球が配置されるように、前記ベース、及び前記第1のプレートの一方が前記第1の回転球を保持する第1のブリッジ部を有し、
    前記レンズユニットの光軸と垂直な平面視において、前記第2の回転球と前記第3の回転球とを結ぶ直線を挟んで、前記第1の回転球と対向する位置において、前記第1のプレートを前記ベース側に付勢する付勢力が発生している撮像装置。
  2. 前記第1のプレートの背面側で前記第1のプレートと対向配置され、前記第1のプレートに対して第2の方向にスライド可能に設けられた第2のプレートと、
    前記第2のプレートを前記第1のプレートに対して第2の方向に移動させる第2のアクチュエータと、
    前記第1のプレートと前記第2のプレートとの間に回転可能な状態で挟み込まれた第4〜第6の回転球とを、さらに備え、
    前記第1のプレートの背面と前記第2のプレートの前面との間に、前記第5の回転球と前記第6の回転球とが配置され、
    前記第1のプレートの前面と前記第2のプレートの背面との間に前記第4の回転球が配置されるように、前記ベース、及び前記第1のプレートの一方が前記第4の回転球を保持する前記第2のブリッジ部を有し、
    前記レンズユニットの光軸と垂直な平面視において、前記第5の回転球と前記第6の回転球とを結ぶ直線を挟んで、前記第4の回転球と対向する位置において、前記第2のプレートを前記ベース側に付勢する付勢力が発生している請求項1に記載の撮像装置。
  3. 前記第1のプレートに前記付勢力を発生する付勢部材をさらに備えた請求項1、又は2に記載の撮像装置。
  4. 前記第1のアクチュエータが、磁石と、コイルとを有し、
    前記磁石の磁力によって、前記付勢力が発生している請求項1、又は2に記載の撮像装置。
  5. 前記レンズユニットの光軸と垂直な平面において、前記第2の回転球と前記第3の回転球とを結ぶ直線と、前記第1のプレートに対する前記付勢力の発生する位置と前記第1の回転球とを結ぶ直線が略直交している請求項1〜4のいずれか1項に記載の撮像装置。
  6. 前記第1のプレート、及び前記ベースには、前記レンズユニットからの光を前記撮像素子に導くための開口部が設けられ、
    前記第1のベースプレート、及び前記ベースの他方に、前記第1のブリッジ部をくぐるように延びた延在部が設けられ、
    前記延在部が前記開口部内に配置されている請求項1〜5のいずれか1項に記載の撮像装置。
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