JP2014011240A - 結晶膜の検査方法及び検査装置 - Google Patents
結晶膜の検査方法及び検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014011240A JP2014011240A JP2012145445A JP2012145445A JP2014011240A JP 2014011240 A JP2014011240 A JP 2014011240A JP 2012145445 A JP2012145445 A JP 2012145445A JP 2012145445 A JP2012145445 A JP 2012145445A JP 2014011240 A JP2014011240 A JP 2014011240A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- profile
- crystal film
- image
- calculated
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
【解決手段】 暗視野で撮影した画像においてレーザーの走査方向に垂直方向に積算してプロファイルを作成し、プロファイルの上位と下位について任意の数点から平均を算出し、上位の平均と下位の平均からコントラスト値を算出し、算出されたコントラスト値からパワーオーバー及びパワーアンダー部分が存在しているか判断する。
【選択図】 図11
Description
レーザーアニール結晶化工程において、基板にレーザーを照射することにより基板上の結晶粒径を成長させることにより導電性などの物性が良くなるが、レーザーのパワーが一定の強度を超えると成長した結晶の粒径が小さくなる微結晶といわれる状態になり、物性が著しく悪くなる。
第3の従来技術では、結晶膜の表面を暗視野で撮影した際にレーザーパワーが強すぎることにより発生する微結晶部分が黒色の縞状に発生することを利用して、縞の本数をカウントすることで微結晶部分の有無の判定を行っている。しかし、製造プロセスが変わり結晶膜の膜厚が薄くなったことにより撮影した画像に微結晶の黒色部分が出にくくなったため、従来技術では正しく微結晶部分の有無の判定を行うことができない。
レーザーの走査方向に対して垂直方向に微結晶部分が発生することに加えて、レーザーの強度に応じて溶融シリコンの粒界による乱反射成分(暗視野での高輝度領域)が段階的に大きくなることを利用して、
撮影した画像についてレーザーの走査方向に対して垂直方向に平均したプロファイルを作成してシェーディング処理を行い、シェーディング処理後のプロファイルの最大と最小の値からコントラスト値を算出し、
あらかじめ定めた値の範囲とコントラスト値を比較して、コントラスト値があらかじめ定めた値より大きい場合にパワーオーバーと判定し、あらかじめ定めていた値より小さい場合にパワーアンダーと判定し、あらかじめ定めた値の範囲内の場合に良品と判断することを特徴とするポリシリコン結晶膜の検査方法である。
微結晶はレーザーのパワーが一定の値を超えた時に発生するが、従来に比べてレーザーの出力制御を細かく行うことが出来るようになったため、レーザーのパワーが微結晶になる付近の時に微結晶が離散的に現れることがある。そのように現れた微結晶を検出するために、本発明は、上記垂直方向に平均したプロファイルを作成する際に、画像をレーザーの走査方向に対して垂直方向にm個の画像に分割し、分割したm個の画像毎にプロファイルを作成してコントラスト値を算出し、分割したm個の画像のうちでコントラスト値が最大のプロファイルを使用して判定することを特徴とする。
また本発明は、明部と暗部の周期及び幅をあらかじめ予測できることを利用して、レーザーの走査方向に対して平行方向に明部と暗部の出現周期及び幅に従って画素を分割して、分割した範囲内の画素をまとめて積算平均してプロファイルを作成し、コントラスト値を算出し判定することを特徴とする。
図8は判定を行う際に画像を分割して行う場合の図である。レーザーRaのパワー制御は従来に比べてレーザーの出力制御を細かく行うことが出来るようになったため、判定の閾値付近のパワーでレーザーを照射した時にパワーオーバー及びパワーアンダー部分が離散的に現れる場合があり、画像を積算平均して作成したプロファイルにパワーオーバー及びパワーアンダー部分の影響が現れないことがある。そのため、画像をレーザーの走査方向に対して垂直に、任意の数に分割して、それぞれの画像毎にコントラストを算出することでパワーオーバー及びパワーアンダーの影響を観測しやすくなる。図8は画像をレーザーの走査方向に対して垂直方向に3つに分割した場合である。それぞれの画像ごとにコントラストを算出して最大のものを使用してパワーオーバー判定を行う。
また、レーザーの送りピッチと画像の解像度によってレーザーの走査方向に対して明部と暗部が出る周期と幅を予想することができる。そのため、明部と暗部を切り分けられるように画像をレーザーの走査方向に対して水平方向に分割して、分割した部分をまとめてプロファイルを作成することによりパワーオーバーの判定を行うことも出来る。図9はレーザーの走査方向に対して、ピーク値を中心になるように画像を明暗の周期の四分の一に分割した図である。分割した範囲をまとめて輝度値を積算平均してプロファイルを作成し、そのプロファイルからコントラストを算出してパワーオーバー判定を行う。
図10はレーザーの走査方向に対して垂直方向に分割したそれぞれの画像について、レーザーの走査方向に対して水平方向に分割した範囲でプロファイルを作成する場合の分割の一例の図である。
2 結晶膜
3 エキシマレーザーアニール装置
4 帯状部分
5 平板状基材
6 非晶質シリコン層
7 酸化膜
8 触媒堆積層
9 検査装置
10 xyステージ
11 xyステージ駆動機構
12 CCDカメラ
13 照明
14 制御装置
15 CPU
16 ROM
17 RAM
18 バス
19 入出力インターフェース
20 キーボード
21 マウス
22 表示装置
Claims (7)
- エネルギー線を照射してアニール処理を実施することによって形成されたポリシリコン結晶膜の検査方法であって、
アニール処理後に暗視野で撮影した画像において、アニールに使用したレーザーの走査方向に対して垂直に積算平均を行い、プロファイルを作成し、プロファイルの最大値と最小値からコントラスト値を算出して、コントラスト値をあらかじめ定めた値と比較してパワーオーバー及びパワーアンダー部分が存在するかを判定することを特徴とするポリシリコン結晶膜の検査方法。 - 前記積算平均をして作成したプロファイルに対して、シェーディング処理を施した後にコントラスト値を算出することを特徴とする請求項1に記載のポリシリコン結晶膜の検査方法。
- 前記暗視野で撮影した画像において、アニールに使用したレーザーの走査方向に対して垂直方向に画像をm個に分割し、分割した画像毎にプロファイルを作成し、プロファイル毎にコントラスト値を算出し、分割した画像のうちで最大のコントラスト値を利用してパワーオーバー及びパワーアンダー部分の存在を判定することを特徴とする請求項1、2のいずれか1つに記載のポリシリコン結晶膜の検査方法。
- 前記作成したプロファイルに対して、任意の数の上位・下位の点を抽出し、上位・下位においてそれぞれ平均を算出し、算出した上位・下位の平均からコントラスト値を算出することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のポリシリコン結晶膜の検査方法。
- 前記暗視野で撮影した画像において、垂直に積算を行う際にレーザーの走査方向に対して水平方向に任意の画素で分割し、分割した部分ごとにまとめて積算平均を行い、プロファイルを作成することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載のポリシリコン結晶膜の検査方法。
- 前記暗視野で撮影した画像において、ノイズ除去処理を行った後に特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載のポリシリコン結晶膜の検査方法。
- エネルギー線を照射してアニール処理を実施することによって形成されたポリシリコン結晶膜の検査装置であって、
アニール処理後に暗視野で撮影した画像において、アニールに使用したレーザーの走査方向に対して垂直に積算平均を行う手段と、プロファイルを作成する手段と、プロファイルの最大値と最小値からコントラスト値を算出して、コントラスト値をあらかじめ定めた値と比較してパワーオーバー及びパワーアンダー部分が存在するかを判定する手段を有することを特徴とするポリシリコン結晶膜の検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012145445A JP5878835B2 (ja) | 2012-06-28 | 2012-06-28 | 結晶膜の検査方法及び検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012145445A JP5878835B2 (ja) | 2012-06-28 | 2012-06-28 | 結晶膜の検査方法及び検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014011240A true JP2014011240A (ja) | 2014-01-20 |
JP5878835B2 JP5878835B2 (ja) | 2016-03-08 |
Family
ID=50107682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012145445A Active JP5878835B2 (ja) | 2012-06-28 | 2012-06-28 | 結晶膜の検査方法及び検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5878835B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002184715A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-06-28 | Sony Corp | 薄膜トランジスタ製造システム及び物体表面の評価装置 |
JP2002319606A (ja) * | 2001-02-15 | 2002-10-31 | Sony Corp | ポリシリコン膜の評価方法 |
JP2004063504A (ja) * | 2002-07-24 | 2004-02-26 | Sharp Corp | 結晶膜の検査方法および検査装置 |
JP2004207270A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Sharp Corp | 結晶膜の検査方法および検査装置 |
JP2007286000A (ja) * | 2006-04-20 | 2007-11-01 | Dainippon Printing Co Ltd | 検査装置、検査方法、及び検査処理プログラム |
-
2012
- 2012-06-28 JP JP2012145445A patent/JP5878835B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002184715A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-06-28 | Sony Corp | 薄膜トランジスタ製造システム及び物体表面の評価装置 |
JP2002319606A (ja) * | 2001-02-15 | 2002-10-31 | Sony Corp | ポリシリコン膜の評価方法 |
JP2004063504A (ja) * | 2002-07-24 | 2004-02-26 | Sharp Corp | 結晶膜の検査方法および検査装置 |
JP2004207270A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Sharp Corp | 結晶膜の検査方法および検査装置 |
JP2007286000A (ja) * | 2006-04-20 | 2007-11-01 | Dainippon Printing Co Ltd | 検査装置、検査方法、及び検査処理プログラム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5878835B2 (ja) | 2016-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4715016B2 (ja) | ポリシリコン膜の評価方法 | |
KR20160127768A (ko) | 엑시머 레이저 어닐링 제어를 위한 모니터링 방법 및 장치 | |
US20090291511A1 (en) | Method of forming semiconductor thin film and semiconductor thin film inspection apparatus | |
KR100769028B1 (ko) | 레이저 결정화된 실리콘의 검사 방법 및 장치 | |
JP4556302B2 (ja) | 薄膜トランジスタ製造システム及び方法、ポリシリコン評価方法及びポリシリコン検査装置 | |
JP2010181328A (ja) | 太陽電池ウェハ表面の検査装置,太陽電池ウェハ表面の検査用プログラム,太陽電池ウェハ表面の検査方法 | |
KR20150010392A (ko) | 결정화된 실리콘의 검사 방법 및 장치 | |
JP5878835B2 (ja) | 結晶膜の検査方法及び検査装置 | |
US6933185B2 (en) | Polysilicon evaluating method, polysilicon inspection apparatus and method for preparation of thin film transistor | |
WO2010018869A1 (ja) | 太陽電池の製造方法及び製造装置 | |
JP4537131B2 (ja) | レーザー結晶シリコンの検査方法及びその装置 | |
JP4256123B2 (ja) | 結晶膜の検査方法および検査装置 | |
JP4556266B2 (ja) | ポリシリコン評価方法、ポリシリコン検査装置、薄膜トランジスタ製造方法、及び、アニール処理装置 | |
JP5453372B2 (ja) | ポリシリコン結晶膜の検査方法および検査装置 | |
JP3954488B2 (ja) | 結晶膜の検査方法および検査装置 | |
JP4774598B2 (ja) | ポリシリコン評価装置及び薄膜トランジスタ製造システム | |
JP2003133560A (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法 | |
JP5309059B2 (ja) | 微結晶化判定方法及び装置 | |
JP2013235915A (ja) | シート抵抗率計測機構付きレーザアニール装置 | |
JP4770027B2 (ja) | ポリシリコン評価方法並びに薄膜トランジスタ製造システム及び方法 | |
JP2014063941A (ja) | 多結晶シリコン膜の検査方法及びその装置 | |
JP4631116B2 (ja) | 薄膜トランジスタ製造方法 | |
JP4770028B2 (ja) | ポリシリコン評価装置及び薄膜トランジスタ製造システム | |
JP2006038587A (ja) | 結晶膜の検査方法および検査装置 | |
JP4572436B2 (ja) | 薄膜トランジスタ製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150401 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20150423 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151126 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160105 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5878835 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |