JP2014009961A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018185987A1 (ja) * 2017-04-06 2018-10-11 株式会社アルバック イオン源及びイオン注入装置
CN108732234B (zh) * 2017-04-24 2020-09-29 上海新昇半导体科技有限公司 等离子体发生装置
KR102288662B1 (ko) * 2017-05-12 2021-08-10 가부시키가이샤 사무코 스프레이 챔버, 시료 안개화 도입 장치, 분석 장치 및 시료 중의 성분 분석 방법
CN107464735A (zh) * 2017-06-28 2017-12-12 中国地质科学院水文地质环境地质研究所 一种新型氯/溴同位素质谱仪及其分析方法
CN108181374A (zh) * 2018-02-08 2018-06-19 聚光科技(杭州)股份有限公司 等离子体-质谱分析系统的工作方法
CN110519904B (zh) * 2019-08-16 2020-09-29 中国地质大学(武汉) 一种基于集磁器的icp等离子源形成装置及方法
CN110677972A (zh) * 2019-10-17 2020-01-10 中国人民解放军国防科技大学 用于SiC光学镜面加工的等离子体发生器及其应用方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS584062U (ja) * 1981-06-30 1983-01-11 日本ジヤ−レル・アツシユ株式会社 高周波誘導プラズマト−チ管
GB8602463D0 (en) * 1986-01-31 1986-03-05 Vg Instr Group Mass spectrometer
US4926021A (en) * 1988-09-09 1990-05-15 Amax Inc. Reactive gas sample introduction system for an inductively coupled plasma mass spectrometer
JPH0782918B2 (ja) * 1991-11-11 1995-09-06 株式会社三社電機製作所 インダクションプラズマトーチ
US5642190A (en) * 1995-09-01 1997-06-24 Thermo Jarrell Ash Corp. Dual-axis plasma imaging system for use in spectroscopic analysis
JPH11111491A (ja) * 1997-10-01 1999-04-23 Yokogawa Analytical Systems Inc プラズマ発生器
EP0930810A1 (fr) * 1997-12-29 1999-07-21 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Torche à plasma à injecteur réglable et installation d'analyse d'un gaz utilisant une telle torche
JP2003194723A (ja) * 2001-12-27 2003-07-09 Rikogaku Shinkokai プラズマトーチ
JP2004327243A (ja) * 2003-04-24 2004-11-18 Tdk Corp Icp質量分析装置及び質量分析方法
JP2010197080A (ja) * 2009-02-23 2010-09-09 Sii Nanotechnology Inc 誘導結合プラズマ分析装置
JP2010197207A (ja) * 2009-02-25 2010-09-09 Shimadzu Corp 発光分光分析方法及び発光分光分析装置
AU2011248179B2 (en) * 2010-05-05 2014-10-02 Perkinelmer U.S. Llc Inductive devices and low flow plasmas using them

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