JP2013525979A5 - - Google Patents

Description

実施例１の通りＬＩＶ測定を実施した。ＬＩＶ測定値は、積層されたＯＬＥＤ装置が１０００ｎｉｔにおいて３２Ｃｄ／Ａのピーク効率を有していたことを示し、これは、１０００ｎｉｔにおいて４２Ｃｄ／Ａであった積層していない装置のピーク効率よりも著しく低かった。１０ｍＡ／ｍ²における軸上輝度は、積層しない場合５２１５Ｃｄ／ｍ²、積層した場合３８０２Ｃｄ／ｍ²であった。１０ｍＡ／ｍ²における積分強度は、積層しない場合１０５７３ルーメン／ｍ²、積層した場合８５７３ルーメン／ｍ²であった。
本開示は以下も包含する。
［１］ 有機発光ダイオード装置用のガラス基材に積層される光抽出フィルムであって、
実質的に透明な可撓性フィルムと；
前記実質的に透明な可撓性フィルムに適用される低屈折率ナノ構造層と；
前記ナノ構造層上に適用される高屈折率平坦化バックフィル層と；
前記実質的に透明な可撓性フィルムの前記ナノ構造層とは反対側に積層されるガラス基材と；
前記実質的に透明な可撓性フィルムと前記ガラス基材との間の超低屈折率領域と、を含む、光抽出フィルム。
［２］ 前記超低屈折率領域が１以上の空隙を含む、［１］に記載の光抽出フィルム。
［３］ 前記超低屈折率領域がアルゴン又は窒素を含む、［１］に記載の光抽出フィルム。
［４］ 前記超低屈折率領域が構造化接着剤を含む、［１］に記載の光抽出フィルム。
［５］ 前記超低屈折率領域が反射防止構造化表面を含む、［１］に記載の光抽出フィルム。
［６］ 前記超低屈折率領域が超低屈折率材料を含む、［１］に記載の光抽出フィルム。
［７］ 前記低屈折率ナノ構造層が、前記実質的に透明な可撓性フィルムに対して表面層の方法で適用されるナノ粒子を含む、［１］に記載の光抽出フィルム。
［８］ 前記低屈折率ナノ構造層がフォトニック結晶構造又は線形格子を含む、［１］に記載の光抽出フィルム。
［９］ 前記バックフィル層上に適用される保護層を更に含む、［１］に記載の光抽出フィルム。
［１０］ 有機発光ダイオード装置用のガラス基材に積層される光抽出フィルムを製造する方法であって、
実質的に透明な可撓性フィルムを提供する工程と；
前記実質的に透明な可撓性フィルムに低屈折率ナノ構造層を適用する工程と；
前記ナノ構造層上に高屈折率平坦化バックフィル層を適用する工程と；
前記実質的に透明な可撓性フィルムの前記ナノ構造層とは反対側にガラス基材を積層する工程であって、前記実質的に透明な可撓性フィルムと前記ガラス基材との間に超低屈折率領域を提供することを含む工程と、を含む、方法。
［１１］ 前記超低屈折率領域が１以上の空隙を含む、［１０］に記載の方法。
［１２］ 前記超低屈折率領域がアルゴン又は窒素を含む、［１０］に記載の方法。
［１３］ 前記超低屈折率領域が構造化接着剤を含む、［１０］に記載の方法。
［１４］ 前記超低屈折率領域が反射防止構造化表面を含む、［１０］に記載の方法。
［１５］ 前記超低屈折率領域が超低屈折率材料を含む、［１０］に記載の方法。
［１６］ 前記低屈折率ナノ構造層が、前記実質的に透明な可撓性フィルムに対して表面層の方法で適用されるナノ粒子を含む、［１０］に記載の方法。
［１７］ 前記低屈折率ナノ構造層がフォトニック結晶構造又は線形格子を含む、［１０］に記載の方法。
［１８］ 前記バックフィル層上に保護層を適用する工程を更に含む、［１０］に記載の方法。

Claims (2)

1. 有機発光ダイオード装置用のガラス基材に積層される光抽出フィルムであって、
   透明な可撓性フィルムと；
   前記透明な可撓性フィルムに適用される第１の表面と前記第１の表面とは反対側の第２の表面とを有するナノ構造層と；
   前記ナノ構造層の前記第２の表面上に適用され、前記ナノ構造層よりも高い屈折率を有する平坦化バックフィル層と；
   前記透明な可撓性フィルムの前記ナノ構造層とは反対側に積層されるガラス基材と；
   前記透明な可撓性フィルムと前記ガラス基材との間の領域であって、前記透明な可撓性フィルムと前記ガラス基材との間の接着剤によって囲まれた１以上の空隙を含む領域、を含む、光抽出フィルム。
2. 有機発光ダイオード装置用のガラス基材に積層される光抽出フィルムを製造する方法であって、
   透明な可撓性フィルムを提供する工程と；
   前記透明な可撓性フィルムに適用される第１の表面と前記第１の表面とは反対側の第２の表面とを有するナノ構造層を前記透明な可撓性フィルムに適用する工程と；
   前記ナノ構造層の前記第２の表面上に前記ナノ構造層よりも高い屈折率を有する平坦化バックフィル層を適用する工程と；
   前記透明な可撓性フィルムの前記ナノ構造層とは反対側にガラス基材を積層する工程であって、前記透明な可撓性フィルムと前記ガラス基材との間の領域であって前記透明な可撓性フィルムと前記ガラス基材との間の接着剤によって囲まれた１以上の空隙を含む領域を提供することを含む工程と、を含む、方法。