JP2009146567A - 発光装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】異なる色をもつ光を放つことの可能な発光装置であって、それら各色の光の強度が好適に維持され、しかも、事後的な光路長変更が可能であるような発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置は、素子基板７上に形成された発光機能層１８を含む有機ＥＬ素子、この素子から発せられた光を反射する第１反射膜５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂ、有機ＥＬ素子及び第１反射膜間に挟まれるようにして形成され、電圧の印加を受けてその屈折率が変わる屈折率可変層５０１、この屈折率可変層に電圧を印加するために、素子基板上に形成された電圧印加手段を備える。図において、この電圧印加手段は、前記第１反射膜及び画素電極１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂからなる。
【選択図】図５

Description

本発明は、エレクトロルミネセンスにより発光する発光装置及び電子機器に関する。

薄型で軽量な発光源として、ＯＬＥＤ（organic light emitting diode）、すなわち有機ＥＬ（electro luminescent）素子が提供されている。有機ＥＬ素子は、有機材料で形成された少なくとも一層の有機薄膜を画素電極と対向電極とで挟んだ構造を有する。一般に、このような有機ＥＬ素子は、それ自身を構成する画素電極、有機薄膜及び対向電極に加えて、画素電極ないし有機薄膜に電流を供給する金属配線薄膜、この金属配線薄膜と電気的に接続される薄膜トランジスタ等を含む、基板上に構築される積層構造物の一部として備えられる。

前述の有機ＥＬ素子を用いると、カラー画像の表示が可能である。このカラー画像の表示は、例えば、前記有機薄膜として、赤、緑及び青といった異なる色の光を放つ有機薄膜それぞれを備える有機ＥＬ素子を多数備えれば可能になる。あるいは、白色光を放つ有機薄膜を備えるだけであっても、例えば赤、緑及び青といった異なる色をもつカラーフィルタを設ければ、カラー画像表示は可能になる。
この場合、前記積層構造物は、前述の各色に対応した光共振器として構成されることがある。これにより、有機ＥＬ素子を発した光は、いわば増幅的干渉を受けることにより、その強度が強められることになる。
そのような光共振器の構成は、赤、緑及び青といった各色の波長の相違に応じ、当該積層構造物内の光路長がそれぞれ適当に調整されることを通じて実現される。かかる光路長の調整は、例えば、前記画素電極の物理的厚さを色ごとに調整することや、当該積層構造物中の層間絶縁膜の厚さを色ごとに調整すること等を伴う。なお、前記光路長は、光がある薄膜を透過する場合、当該薄膜の物理的厚さとその屈折率との積とによって求められる。

以上述べたような有機ＥＬ素子、ないしこれを備えた装置としては、例えば特許文献１に開示されているようなものが知られている。
特開２００７−４２５３５号公報

ところで、前記の光共振器の構成において、画素電極や層間絶縁膜の厚さの調整を行うことは必ずしも最善かつ唯一の手法とはいえない。例えば、画素電極の厚さを各色に対応して調整する場合、将来画素電極となる原薄膜（例えば、所定の厚さで成膜したＩＴＯ膜等）に対するエッチング工程が、少なくとも３回行われる必要がある。これには当然手間がかかるし、また、多数回のエッチング工程を実行することは、その下層に位置する各種要素に対するダメージを与えるおそれを高める、等の難点がある。このようなことを考慮すると、物理的厚さ調整に係る手法が、光路長調整の最善の方法ということはできない。

この点、前述の特許文献１は、「保護層」が、「画素ごとに、該画素の色に対応関係を持つ屈折率を有」する技術を開示する（以上、「」内は特許文献１の〔請求項１〕）。そして、それを具体的に実現する技術的手段は、「エポキシ系樹脂」からなる保護層に、「異なる態様で光を照射する」こと、あるいは、相異なるエネルギ値をもつ紫外線を照射することである（以上、同文献の〔請求項４〕、〔００２１〕、〔００２５〕等参照）。
このような、同じ保護層内で屈折率の相違を生じさせる技術は、その厚さの変更を伴わないので、前述した不具合を実効的に解消するという点において極めて有意義ではある。

しかしながら、この特許文献１の技術では、前述の「光照射」によっていったん定まった光路長の変更は不可能となるか、あるいは極めて困難となるという問題がある。ちなみに、このことは、前述した画素電極の厚さ等の調整を通じて光路長を調整し、もって光共振器を構成する手法においてもあてはまり、この場合、少なくとも同じ手法を用いて（即ち、再び厚さを調整して）光路長を変更することはもはやできない。

本発明は、上述した課題に鑑みてなされたものであり、異なる色をもつ光を放つことの可能な発光装置であって、それら各色の光の強度が好適に維持され得るような発光装置を提供することを一課題とする。
また、本発明は、上記課題を解決すると同時に、事後的な光路長変更が可能であるような発光装置を提供することをもその一課題とする。
さらに、本発明は、上述した発光装置を備える電子機器を提供することを課題とする。

本発明に係る発光装置は、上述した課題を解決するため、基板と、前記基板上に形成された発光素子と、前記発光素子から発せられた光を反射する第１反射膜と、前記発光素子及び前記第１反射膜間に挟まれるようにして形成され、電圧の印加を受けてその屈折率が変わる屈折率可変層と、前記屈折率可変層に電圧を印加するために、前記基板上に形成された電圧印加手段と、を備える。

本発明によれば、屈折率可変層が発光素子及び第１反射膜間に挟まれるようにして形成されているので、発光素子から直接発せられた光（以下、「第１光」という。）が第１反射膜で反射した光（以下、「第２光」という。）は、当該屈折率可変層内で、当該発光素子に向かって進行しながら透過する。一方、発光素子を基準として、第１反射膜が存在しない側では、前記第１光が、当該発光素子から離れるようにして進行する。以上から、当該第１反射膜が存在しない側において、第１光及び発光素子を透過した第２光間の干渉が生じ得る。
そして、本発明では特に、電圧印加手段により、屈折率可変層に電圧を印加すると、当該屈折率可変層の屈折率が変わるようになっている。これによると、発光素子及び第１反射膜間の光路長が変化することになる。そうすると、前述した第１光及び第２光間の干渉の態様もまた変化する。
このように、本発明では、屈折率可変素子にかける電圧の印加態様の相違に応じて、第１光及び第２光間の干渉の態様を変更させることが可能であるので、少なくとも原理的には、どのような波長λであっても、当該波長λに関する増幅的干渉を生じさせることが可能となる。つまり、これによると例えば、前記第１光が白色光であれば、あるときには赤色成分が強調され、あるときには青色成分が強調される、等といった操作を行うことが可能になるのである。
以上のように、本発明によれば、異なる色をもつ光を放つことの可能な発光装置であって、それら各色の光の強度が好適に維持され得るような発光装置が提供される。
また、本発明においては、前述の説明からも明らかなように、当該発光装置がすでに運用されている最中においても、電圧印加手段による電圧印加態様を異ならせれば、屈折率可変素子における屈折率を変更することが可能である。つまり、本発明によれば、いわば事後的な光路長変更が可能であるような発光装置が提供されるのである。

この発明の発光装置では、少なくとも前記屈折率可変層を挟んで、前記第１反射膜と対向するように形成された第２反射膜、を更に備える、ように構成してもよい。
この態様によれば、第２反射膜が備えられているので、当該第２反射膜と前述の第１反射膜との間で、いわゆる光共振器が構成される。これにより、これら２つの反射膜によって反射を繰り返す光について共振を生じさせることが可能になる。そして、本態様では、この光共振器の内部に、前述した屈折率可変層が存在することになるので、これに対する電圧の印加態様を相違させれば、それに応じて当該光共振器における共振周波数を変更させることが可能になる。
以上により、本態様によれば、例えば、あるときには赤色成分が強調され、あるときには青色成分が強調される、等といった操作を行うことが可能になる。つまり、本態様によれば、前述した本発明に係る効果がより実効的に奏されることになるのである。
なお、この場合、第１及び第２反射膜それぞれの反射率には差を設けておくのが好ましい。これによれば、より反射率の高い反射膜はもっぱら反射鏡として機能し、より反射率の低い反射膜は反射鏡であるとともに光共振器外へ光を取り出すための膜として機能し得る。

また、発明の発光装置では、前記電圧印加手段は、前記基板の面の法線方向に沿って、前記屈折率可変層を挟み込む第１及び第２電極を含む、ように構成してもよい。
この態様によれば、屈折率可変層に好適に電圧を印加することが可能になる。ここで好適に、とは、例えば、屈折率可変層が基板面の全面を覆うかのように形成される場合、その屈折率可変層の全面について、満遍なく電圧印加が可能となることを含む。
なお、いま述べた事情から窺えるように、本発明においては、例えば屈折率可変層が基板面の全面を覆うかのように形成される場合であっても、その一側端、あるいは両側端に電極が設けられることによって、当該屈折率可変層に電圧を印加するような態様が採用されてもよい。あるいは、屈折率可変層がストライプ状に形成されるとともに、それらの間隙に電極が形成されるような態様（この場合、当該屈折率可変層及び電極は、あたかも同層に形成されるかの如き態様をとる。）が採用されてもよい。
本発明にいう「電圧印加手段」には、本態様にいう「第１電極」及び「第２電極」を含む態様が含まれることは当然、いま述べた各種の態様、更にはその他の態様も含まれる。

この態様では、前記第１及び第２電極のいずれか一方は、前記第１反射膜を兼ねる、ように構成してもよい。
この構成では、第１及び第２電極のいずれか一方が第１反射膜を兼ねるので、基板上に構築される積層構造物の層数をその分減少することができる。これにより、製造コストの低減化等が達成される。

あるいは、前述の態様では、前記発光素子は、前記光を発する発光機能層と、前記基板の面の法線方向に沿って、当該発光機能層を挟み込むように形成された画素電極及び対向電極と、を含み、前記第１及び第２電極のうちいずれか一方は、前記画素電極及び前記対向電極のいずれか一方を兼ねる、ように構成してもよい。
この構成では、第１及び第２電極のいずれか一方が画素電極又は対向電極を兼ねるので、基板上に構築される積層構造物の層数をその分減少することができる。これにより、製造コストの低減化等が達成される。
なお、本態様は、前述した、第１及び第２電極のいずれか一方が第１反射膜を兼ねる態様と並存可能である。この場合、例えば、第１及び第２電極の一方である第１電極が第１反射膜を兼ねるのであれば、その他方である第２電極が対向電極（又は画素電極）を兼ねる、というように、第１及び第２電極間で役割分担がなされるのが好ましい。

また、前述の第２反射膜を備える態様では、前記第２反射膜は、前記屈折率可変層に加えて前記発光素子を挟んで、前記第１反射膜と対向するように形成されており、当該発光素子は、前記光を発する発光機能層と、前記基板の面の法線方向に沿って、当該発光機能層を挟み込むように形成された画素電極及び対向電極と、を含み、前記第２反射膜は、前記画素電極及び前記対向電極のいずれか一方を兼ねる、ように構成してもよい。
この態様によれば、第２反射膜が、画素電極又は対向電極を兼ねるので、基板上に構築される積層構造物の層数をその分減少することができる。これにより、製造コストの低減化等が達成される。

また、前述の第１及び第２電極を備える態様では、前記発光素子は、前記基板上で複数並べられ、前記第１及び第２電極のいずれか一方は、前記複数の発光素子の各々に対応するように、相互に分離された複数の電極を含む、ように構成してもよい。
この態様によれば、複数の発光素子の各々に対応するように、相互に分離された複数の電極が備えられるので、屈折率の変更は、それら複数の発光素子毎に行われ得ることになる。したがって、例えば、ある発光素子については赤色成分が強調され、その隣の発光素子については青色成分が強調される、等ということが可能になる。これによれば、例えば本発明の「発光装置」が画像表示装置における画像表示機能を担うものとして組み込まれる場合、当該画像の表現性能が格段に向上し得る。

また、前述の第１及び第２電極を備える態様では、前記発光素子は、前記基板上でマトリクス状の配列に従って複数並べられ、前記第１及び第２電極のいずれか一方は、前記マトリクス状の配列の行方向又は列方向に沿って延び且つその各行又は各列に対応する複数の帯状電極を含む、ように構成してもよい。
この態様によれば、行方向又は列方向に沿って延びる複数の帯状電極が備えられるので、屈折率の変更が、それら各行又は各列に応じて行われ得ることになる。したがって、例えば、ある行に位置づけられる複数の発光素子については赤色成分が強調され、その隣の行に位置づけられる複数の発光素子については青色成分が強調される、等ということが可能になる。これによれば、例えば本発明の「発光装置」が画像表示装置における画像表示機能を担うものとして組み込まれる場合、当該画像の表現性能が格段に向上し得る。
また、本態様に係る「帯状電極」という構成は、前述した態様、即ち複数の発光素子それぞれに応じて電極を設ける場合に比べて、電圧供給用の配線等も含めた、その形成工程（例えば、パターニング処理等）を簡略にし、また、その制御ないし駆動方法も比較的簡易なものを採用可能にするという利益をもたらす。

この態様では、前記各行又は各列に対応するようにカラーフィルタを更に備える、ように構成してもよい。
これによれば、例えば、前述のように、ある行に位置づけられる複数の発光素子について赤色成分が強調される等という場合、当該行に対応するように、赤色フィルタを備えておけば、その純度が高められ得ることになる。
このようにして、一般的に言えば、本構成にいう「カラーフィルタ」の具備により、各行又は各列に対応する、色別表示の性能が向上することになる。

また、本発明の電子機器は、上記課題を解決するために、上述した各種の発光装置を備える。
本発明によれば、上述した各種の発光装置を備えてなるので、例えば、当該電子機器がテレビ等の画像表示装置であれば、より高品質の画像を表示することが可能となる。

以下では、本発明に係る実施の形態について図１乃至図５を参照しながら説明する。なお、これらの図面を含み、本実施形態において参照する各図面においては、各部の寸法の比率が実際のものとは適宜に異ならせてある場合がある。

本実施形態において、発光装置は、図１に示すように、素子基板７上に積層構造物２５０を備える。この図１において、当該積層構造物２５０は、素子基板７から順に、回路素子薄膜１１、第１層間絶縁膜３０１、金属配線膜６１、第２層間絶縁膜３０２、第１反射膜５１、屈折率可変層５０１、第３層間絶縁膜３０３、画素電極１３、発光機能層１８、対向電極５、第２反射膜６２、平坦化膜８０、及び封止膜４０を含む。
このうち、画素電極１３、発光機能層１８及び対向電極５は有機ＥＬ素子８を構成し、第１反射膜５１、屈折率可変層５０１及び画素電極１３は屈折率可変素子９を構成するが、この点については後に説明することとする。

第１乃至第３層間絶縁膜３０１乃至３０３（以下、単に「絶縁膜３０１乃至３０３」ということがある。）は、その他の導電性要素間の短絡が生じないように、あるいは、これら導電性要素の積層構造物２５０中の好適な配置を実現するため等に貢献する。これら絶縁膜３０１乃至３０３は、様々な厚さでもって様々な絶縁性材料から作られうるが、好適には、各絶縁膜の積層構造物２５０中の配置位置や役割等に応じて、適宜適当な厚さ及び材料が選択されるとよい。
より具体的には例えば、絶縁膜３０１及び３０２は、ＳｉＯ_２、ＳｉＮ、ＳｉＯＮ等々で作られて好ましい。

回路素子薄膜１１は、後述する有機ＥＬ素子８を駆動するための回路素子が作り込まれた薄膜である。この回路素子薄膜１１は、例えば、スイッチングトランジスタとして機能する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、有機ＥＬ素子８の定電流源として機能するＴＦＴ、あるいは容量素子や、これらの各種回路素子間を電気的に接続する配線薄膜、等々を含み得る。図では簡略化のため、これらが１層の薄膜であるかの如く描かれているが、前記ＴＦＴを構成する半導体層、ゲート絶縁膜、ゲートメタルや、前記容量素子を構成する電極用薄膜（いずれも不図示）、等を含み得る。

有機ＥＬ素子８は、前述した積層構造物２５０に含まれる各種要素のうち、画素電極１３、発光機能層１８及び対向電極５から構成される。
このうち画素電極１３は、図１、あるいは図５に示すように、素子基板７上に、相互に分離するように、かつ、マトリクス状の配列に従うように形成されている。一方、対向電極５は、発光機能層１８を挟んで画素電極１３と対向するように形成される。この対向電極５は、図１に示すように、画素電極１３とは異なり、素子基板７の全面を覆うかのように形成されている。
これら画素電極１３及び対向電極５は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透光性かつ導電性の材料から作られている。

また、発光機能層１８は、画素電極１３上に、素子基板７の全面を覆うかのようにして形成されている。この発光機能層１８は、少なくとも有機発光層を含み、この有機発光層は正孔と電子が結合して発光する有機ＥＬ物質から構成されている。本実施形態では、この有機ＥＬ物質は低分子材料であって、適当な蒸着方法によって形成される。発光機能層１８を構成する他の層として、電子ブロック層、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層及び正孔ブロック層の一部又は全部が備えられていてもよい。
なお、本実施形態における発光機能層１８は、一様に白色光を発する。

このような構成において更に、前記画素電極１３は、第２層間絶縁膜３０２を貫通するように形成されるコンタクトホール３６３を介して、第１層間絶縁膜３０１上に形成されている金属配線膜６１に電気的に接続されている。また、この金属配線薄膜６１は、例えば第１層間絶縁膜３０１を貫通するように形成されるコンタクトホール（不図示）等を介して、前記回路素子薄膜１１と電気的に接続されている。
また、画素電極１３及び対向電極５は、図２に示すように有機ＥＬ素子駆動回路１１０に接続されている。なお、図２において、この有機ＥＬ素子駆動回路１１０の中には、図１における回路素子薄膜１１、あるいはその構成要素たる前述のＴＦＴ等が含まれている、と考えることができる。

以上の構成により、有機ＥＬ素子８は、有機ＥＬ素子駆動回路１１０によって駆動される。より詳しくは、以上の構成によって、回路素子薄膜１１から供給される電流（該薄膜１１内の前記ＴＦＴは、定電流源として機能させ得る。）は、画素電極１３及び対向電極５間を流れると同時に、発光機能層１８内を流れることが可能になる。そして、このように発光機能層１８内に電流が流れることで、当該発光機能層１８は、図１に示すような光Ｌ１及びＬ２を発する。
ここで、これら光Ｌ１及びＬ２のうち光Ｌ１は、図１、図２、あるいは図５に示すように、発光機能層１８内の一点で発し、そのまま発光装置外の方向へと向かう光を意味しており、光Ｌ２は、前記一点で発し、第１反射膜５１で反射した後、発光素子８の方に向かう光を意味している。これらの光Ｌ１及びＬ２は、相互に干渉する可能性をもつ。
ちなみに、本実施形態において、発光機能層１８から発せられた光は、素子基板７が存在する側とは反対側に進行するようになっているので、本実施形態の発光装置は、いわゆるトップエミッション型である。
なお、有機ＥＬ素子８の駆動手法には、現時点において様々なもの（電流プログラム方式、電圧プログラム方式等）が提案されているが、本発明には、基本的にその全部が適用ないし採用可能である。

なお、マトリクス状に配列された画素電極１３間には、図１に示すように、隔壁３４０が形成されている。本実施形態では、この隔壁３４０は、直接的には、コンタクトホール３６３を形成するために穿たれた穴を埋めるべく形成される一種の層間絶縁膜の一部として形成される。ただ、その層間絶縁膜を一定程度以上の高さ（例えば１〜２μｍ）をもつように形成すれば、図１に示すように、その少なくとも一部を隔壁３４０として形成することが可能になる。
このような隔壁３４０によれば、各有機ＥＬ素子８間の区分が明確に行われ得るほか、当該隔壁３４０によって囲まれた空間内に発光機能層を閉じ込めるように形成すること、言い換えれば、複数の有機ＥＬ素子８それぞれが固有の発光機能層をもつような態様を現出させることが可能となる。
この場合更に、複数の有機ＥＬ素子８それぞれは、各々異なる有機ＥＬ物質を含む発光機能層を持ち得ることになる。例えば、ある有機ＥＬ素子８は、赤色発光する有機ＥＬ物質を含む発光機能層を備え、他の有機ＥＬ素子８は、青色発光する有機ＥＬ物質を含む発光機能層を備える、というが如くである。
ちなみに、このような、隔壁３４０によって囲まれた空間における発光機能層の形成においては、有機ＥＬ物質として高分子材料を用意し、この有機ＥＬ物質を含む原料インクをインクジェットプリンタによって塗布する手法、等が好適に採用され得る。

屈折率可変素子９は、前述した積層構造物２５０に含まれる各種要素のうち、画素電極１３、屈折率可変層５０１及び第１反射膜５１から構成される。
このうち画素電極１３については、前に述べたとおりである。本実施形態において、この画素電極１３は、屈折率可変素子９と有機ＥＬ素子８との共通要素としての性格をもつ。

一方、第１反射膜５１は、屈折率可変層５０１を挟んで画素電極１３と対向するように形成される。この第１反射膜５１は、図１、あるいは図５に示すように、画素電極１３が従うマトリクス状の配列において、その各列に対応するように帯状に形成されている。図１でいえば、かかる帯状の第１反射膜５１のそれぞれは、当該図面の紙面に垂直な方向に沿って延びている。なお、この第１反射膜５１は、第２層間絶縁膜３０２の上に形成されている。
この第１反射膜５１は、前述の画素電極１３と対となって、屈折率可変層５０１に電圧を印加する電極としての機能をもつ。
また、第１反射膜５１は、光を反射する機能をももつ。第１反射膜５１で反射された光は、素子基板７が存在する側とは反対側に向けて進行する。
このような第１反射膜５１は、前述した電極としての機能、及び、反射性能をよりよく発揮するため、導電性をもち、かつ、光反射性能の比較的高い材料から作られているとよい。例えば、アルミニウムや銀等を利用することができる。

屈折率可変層５０１は、前述の画素電極１３及び第１反射膜５１に挟まれるように、かつ、画素電極１３と同様、マトリクス状の配列に従うように形成されている。
この屈折率可変層５０１は、電圧の印加を受けると、その屈折率が変化する性質をもつ（即ち、いわゆる「電気光学効果」をもつ。）物質を含む。そのような性質をもつ物質としては、好適には、「酸化物光材料」とも呼称され得るものが含まれ、具体的には例えば、ＬｉＮｂＯ_３、 ＬｉＴａＯ_３、 ＢａＴｉＯ_３、 Ｂａ_２ＮａＮｂ_５Ｏ_１５（ＢＮＮ）、 Ｓｒ_０．７５Ｂａ_０．２５Ｎｂ_２Ｏ_６（ＳＢＮ−７５）、 ＫＨ_２ＰＯ_４（ＫＤＰ）、 ＫＴａ_１−ｘＮｂ_ｘＯ_３（ＫＴＮ）、 ＧａＡｓ、 ＫＴｉＯ_３、 ＳｒＴｉＯ_３、 ＰＬＺＴ、等々の各光学結晶が含まれる。
このような物質は、例えば図３及び図４に示すように、印加電圧の相違に応じて、その屈折率が変わる。これら図３及び図４は、Ｐｂ_１−ｘＬａ_ｘ（Ｚｒ_ｙＴｉ_ｚ）_{１−ｘ／４}Ｏ_３（ＰＬＺＴ）における屈折率と電界との関係を示しており、図３は、屈折率変化Δｎが電界に比例する場合（ポッケルス効果）、図４は、電界の２乗に比例する場合（カー効果）、をそれぞれ示している。なお、ＰＬＺＴにおいて、これら図３及び図４それぞれに示す効果の発現は、Ｌａのドープ量を調整することにより制御される。
このような屈折率可変層５０１は、例えば、ＰＶＤ法（Physical Vapor Deposition）、ＣＶＤ法（Chemical Vapor Deposition）、スパッタ法、ＰＬＤ（Pulsed Laser Deposition）法、エアロゾル・デポジション法（ＡＤ法）等を用いることにより、エピタキシャル薄膜として、形成され得る。
なお、酸化物以外にも、上述した電気光学効果を発揮する物質は存在するが、屈折率可変層５０１は、そのような物質を含んでもよい。

このような構成において更に、前記第１反射膜５１は、図２に示すように屈折率可変素子駆動回路５５０に接続されている。この屈折率可変素子駆動回路５５０は、前述した有機ＥＬ素子駆動回路１１０によって駆動される有機ＥＬ素子８の状態に応じて、第１反射膜５１の電圧を調整することが可能である。
以上の構成により、屈折率可変素子９は、屈折率可変素子駆動回路５５０によって駆動される。より詳しくは、画素電極１３の電圧に対応して、第１反射膜５１の電圧が好適に調整されることにより、これら画素電極１３及び第１反射膜５１間の電位差が適当に設定され、もって、屈折率可変層５０１の屈折率が適当に変更される。なお、この点については後に図５等を参照しながら改めて説明する。

第２反射膜５２は、対向電極５の上に、素子基板７の全面を覆うかのようにして形成されている。
この第２反射膜５２は、光を反射する機能を持つとともに、光を透過する機能を持つ。第２反射膜５１で反射された光は、素子基板７が存在する側に向けて進行する。また、第２反射膜５２を透過した光は、図１中上方向に更に進行し、最終的には、当該発光装置のユーザにより視認される光、等となる（ただし、有機ＥＬ素子８を発した光が、例えばプリンタ等に備えられる感光体ドラム上の静電潜像形成のために用いられる場合には、そうとはいえない。ここでいう「等」は、そのような場合を含む趣旨である。）。
第２反射膜５１は、上述のような半反射半透過に係る性能をよりよく発揮するため、例えば、ＭｇＡｌ、ＭｇＣｕ、ＭｇＡｕ、ＭｇＡｇ等といった合金又は金属材料から作られて好適である。

このような第２反射膜５２は前述の第１反射膜５１と一対のペアを組み、これら両反射膜５１及び５２は、それらの間に挟まれる各層とともに、光共振器ＲＢ１（図２参照）を構成する。

以上のほか、素子基板７上には、封止膜４０及び平坦化膜８０が形成されている。
封止膜４０は、前記発光機能層１８への水分及び酸素の進入を抑制する機能をもつ。また、平坦化膜８０は、当該封止膜４０が形成されるべき下地面を平坦化する機能をもつ。これにより、封止膜４０が極端な段差を跨いで形成されるということがなく、したがって、当該封止膜４０にクラック等が生じることが未然に防止される。封止膜４０は、それによって、その封止機能をいかんなく発揮する。
これら封止膜４０及び平坦化膜８０は、前者が例えばＳｉＮ、ＳｉＯＮ等から作られ、後者が例えばエポキシ樹脂等から作られて好適である。

素子基板７上に形成される積層構造物２５０を構成する各種要素は以上説明したとおりであるが、図１に示す発光装置は、そのほかにも、カラーフィルタ用基板（以下、単に「ＣＦ基板」という。）２０、カラーフィルタ３６及び遮光膜ＢＭをもつ。
このうちカラーフィルタ３６は、図１に示すように、赤色フィルタ３６Ｒ、緑色フィルタ３６Ｇ及び青色フィルタ３６Ｂを含む。これら各色のフィルタ（３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂ）は、例えば、当該各色に対応する適当な顔料を含む樹脂材料等から作られて好適である。
これら各色のフィルタ３６Ｒ，３６Ｇ及び３６Ｂは、前述した画素電極１３の形成態様と同様、マトリクス状の配列に従って並べられる。ただし、各色のフィルタ（３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂ）は、図１に示す水平方向に従っては、この順に配列され、かつ、図１の紙面に垂直な方向に従っては、同一色のフィルタが一列に並ぶように配列されている。その意味で、各色フィルタ（３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂ）の形成態様は、前述した第１反射膜５１の形成態様と符牒を合わせている。つまり、各色フィルタ（３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂ）は、第１反射膜５１と同様、画素電極１３の各列に対応するように形成されているのである。

このようなカラーフィルタ３６は、発光機能層１８から届く光のうち所定の波長域の光のみを透過し、それ以外の波長域の光を吸収し、あるいは反射する。すなわち、赤色フィルタ３６Ｒは、例えばピーク波長６１０ｎｍ及びその付近の波長域の光を透過させ、緑色フィルタ３６Ｇは、ピーク波長５２０ｎｍ及びその付近の波長域の光を透過させ、青色フィルタ３６Ｂは、ピーク波長４７０ｎｍ及びその付近の波長域の光を透過させる。なお、ここに挙げたピーク波長の具体的数値は、単なる一例である。

なお、図５において示されている符号１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂ、あるいは符号５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂにおける、“Ｒ”，“Ｇ”，“Ｂ”は、先に述べた各色のフィルタ（３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂ）の形成態様との関連において使用されている。すなわち、赤色フィルタ３６Ｒの各々が並ぶ列と同じ列に並ぶ各画素電極１３（図中、破線囲み参照）に対しては符号“１３Ｒ”が付せられ、当該列と同じ列に延びる第１反射膜５１に対しては符号“５１Ｒ”が付せられている。残る、“Ｇ”及び“Ｂ”についても同様である。
また、図５に関連する、この他の注記事項を以下に記しておく。
（ｉ） 図５では、図面を見易くすることを目的として、屈折率可変層５０１は、６つの画素電極１３に対応する分だけが図示されている。
（ｉｉ） 図５に示されている屈折率可変層５０１に付された斜線は、第１反射膜５１Ｂに対応する屈折率可変層５０１の部分を視覚的に把握しやすくする意図を持っている。
（ｉｉｉ） 言うまでもないが、図５に示されている部分は発光装置の一部のみである。例えば、画素電極１３は図示する以上の数が更に備えられ、第１反射膜５１は図中右方向に更に延在するとともに、紙面奥に向かって更に、５１Ｂ，５１Ｇ，５１Ｒ，５１Ｂ，…と順に並べられる。
以上のほか、図５に示される未説明のその他の符号（例えば、“Ｉｏｌｅｄ”、“ＶｅｏＢ”等々）及び要素の意義については、追々適宜説明される。

遮光膜ＢＭは、平面視して画素電極１３の形成領域を縁取るように、あるいは当該形成領域以外の領域に対応するように形成されている。あるいは、ＣＦ基板２０側の要素だけでいえば、遮光膜ＢＭは、マトリクス状に配列されたカラーフィルタ３６間の間隙を埋めるようにして形成されている。
このような遮光膜ＢＭは、相隣接する有機ＥＬ素子８同士の光が混合するのを防止する。

本実施形態に係る発光装置は、以上述べた、カラーフィルタ３６及び遮光膜ＢＭを備えるＣＦ基板２０と、積層構造物２５０を備える素子基板７とが、そのそれぞれの構造物が相互に向かい合わせにされるように（図１参照）、貼り合わされることで構成される。

以下では、以上のような構成を持つ発光装置の作用効果について、既に参照している図５を主に参照しながら説明する。
既に述べたように、発光機能層１８に電流Ｉｏｌｅｄ（図５参照）が流されると、前述したような光Ｌ１及びＬ２が発生する。このように発生した光Ｌ１及びＬ２は、第２反射膜５２が半反射半透過膜であることから、その一部が図５に示すように発光装置外へと進行する。一方、他の一部は、図５に示す符号Ｌｃに示すように第１反射膜５１と第２反射膜５２との間で繰り返し反射する。この繰り返し反射に係る光は、共振する可能性を持つ。

一方、図２に示した有機ＥＬ素子駆動回路１１０は、図５に示す画素電極１３ごとに、前記電流Ｉｏｌｅｄをいつ流すか等を決定する。この場合、その電流値をどの程度にするかも併せて制御され得る。いずれにせよ、このような電流Ｉｏｌｅｄの印加が可能であるように、画素電極１３及び対向電極５のそれぞれは、これら両電極１３及び５間に所定の電位差が設定されるよう、適当な電圧に設定される。

そして、図２に示した屈折率可変素子駆動回路５５０は、有機ＥＬ素子駆動回路１１０によって設定された画素電極１３の電圧に応じて、第１反射膜５１の電圧を決定する。これにより、画素電極１３及び第１反射膜５１間には、図５に示すように、例えば電位差ＶｅｏＢが設定され得ることになる。これにより、屈折率可変層５０１の屈折率は、例えば図３あるいは図４に示したように、ポッケルス効果、ないしカー効果の発現によって変わる。そうすると、これに引き続き、第１反射膜５１及び第２反射膜５２間の物理的距離には変更がないものの、その光学的距離ないしは光路長は変化することになる。例えば、いま述べた物理的距離をｔ、電位差ＶｅｏＢの印加前の屈折率可変層５０１の屈折率をｎｂ、印加後の屈折率をｎａ（≠ｎｂ）とすれば、電位差ＶｅｏＢ印加前の光学的距離ｄｂは、ｄｂ＝ｔ・ｎｂであり、印加後の光学的距離ｄａは、ｄａ＝ｔ・ｎａ（≠ｄｂ）、ということになる。

このような光学的距離の変更は、光共振器ＲＢ１における共振周波数、即ち共振する光波長の変更をもたらす。したがって、例えば、変更後の光学的距離ｄａが、白色光のうち赤色成分の光を共振するのに適当な値となるのであれば、当該赤色光についての共振が生ずる。
ここで本実施形態においては、第１反射膜５１が前述のように帯状電極として形成されているので、そのような光学的距離の変更が、その１本１本の第１反射膜５１（図５では、５１Ｒ、５１Ｂ，５１Ｇ）ごとに行われ得る。例えば、図５に示すように、青色フィルタ３６Ｂ（図５では不図示）に対応する第１反射膜５１Ｂに、当該第１反射膜５１Ｂに所定の電圧を供給する配線５１１Ｂが接続されるのであれば、この配線５１１Ｂを通じて、第１反射膜５１Ｂと各画素電極１３Ｂとの間には、図示する電位差ＶｅｏＢを設定することが可能である。これと同時に、緑色フィルタ３６Ｇ及び赤色フィルタ３６Ｒ（いずれも図５では不図示）それぞれに対応する第１反射膜５１Ｇ及び５１Ｒについても同様に、前記配線５１１Ｂとは独立に且つこれら相互間でも独立の、配線５１１Ｇ及び５１１Ｒを設けるのであれば、第１反射膜５１Ｇ及び各画素電極１３Ｇ間、第１反射膜５１Ｒ及び各画素電極１３Ｒ間で、それぞれ異なる電位差ＶｅｏＧ及びＶｅｏＲ（いずれも図５では不図示。なお、ＶｅｏＲ≠ＶｅｏＧ，ＶｅｏＧ≠ＶｅｏＢ，ＶｅｏＢ≠ＶｅｏＲが成立し得る。）を設定することが可能になる。
なお、前述の配線５１１Ｒ，５１１Ｇ，５１１Ｂは、図１においては、例えば金属配線膜６１と同一膜として、かつ、有機ＥＬ素子８が形成される領域を取り囲む周辺領域上に、成膜され得る。

以上によると結局、画素電極１３Ｒが並ぶ列に関する第１反射膜５１Ｒ及び第２反射膜５２間の光学的距離（以下、「ｄａＲ」と名付ける。）、画素電極１３Ｇが並ぶ列に関するそれ（以下、「ｄａＧ」と名付ける。）、及び画素電極１３Ｂが並ぶ列に関するそれ（以下、「ｄａＢ」と名付ける。）、をそれぞれ異ならせ得ることの可能性が生じる。そして、更に言えば、この場合、光学的距離ｄａＲを赤色光の共振に好適に、光学的距離ｄａＧを緑色光の共振に好適に、及び光学的距離ｄａＢを青色光の共振に好適に、それぞれ設定することの可能性が生じることになるのである。

このような結果、本実施形態に係る発光装置は、赤色光、緑色光及び青色光という３色の光を放つことが可能であって、しかも、それら各色の光の強度を好適な程度に維持し得ることも可能となる。
なお、この場合、原理的には、上述したカラーフィルタ３６は必ずしも設ける必要がない。ただ、カラーフィルタ３６が存在すれば、すなわち、例えば第１反射膜５１Ｒ及び各画素電極１３Ｒに対応して強調された赤色光が、更に赤色フィルタ３６Ｒを透過してくるような構成（即ち、本実施形態の構成である。）を採用すれば、その赤色光の色純度をより高めることが可能となるので、カラーフィルタ３６を設けることにも相応の意義を認めることができるのである。

この点に関連して、本実施形態に係る構成において、仮にカラーフィルタ３６（あるいは、各色フィルタ（３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂ））が設けられない場合を考えるならば、図５に示す第１反射膜５１Ｒ及び各画素電極１３Ｒ間、第１反射膜５１Ｇ及び各画素電極１３Ｇ間、及び第１反射膜５１Ｂ及び各画素電極１３Ｂ間のそれぞれにおいて、赤色光、緑色光及び青色光を強調する（あるいは、共振させる）必要性は必ずしもない。また、図１、図２、あるいは図５に示す構成によれば、前述した光学的距離ｄａＲ，ｄａＧ，ｄａＢは、原理的には、（その添え字“Ｒ”，“Ｇ”，“Ｂ”に拘ることなく）自由に定められ得ることが明白である。例えば、光学的距離ｄａＲ及びｄａＧは青色光の共振に好適に、光学的距離ｄａＢは赤色光の共振に好適に、それぞれ設定する、等ということがあってもよいのである。
このようなことから明白なように、本実施形態の発光装置によれば、様々な事情を勘案した上、各第１反射膜５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂに設定する電圧の大きさを適当に調整することで、光共振器ＲＢ１の構成を具体的にどのように設定するのかを、基本的に自由に選択することが可能なのである。

また、本実施形態に係る発光装置によれば、上述したような効果に関連して、次のような効果も奏される。
すなわち、本実施形態の発光装置では、既述のように、光共振器ＲＢ１の構成を具体的にどのように設定するかは自由であるが、かかる事情は、当該発光装置が運用段階に至ってもあてはまる。なぜなら、本実施形態において、屈折率可変層５０１の屈折率の変更は、ただに、第１反射膜５１に設定する電圧の如何によっているからである。このような電圧設定は、当該発光装置が運用段階にあったとしても、容易に行い得る事柄である。
このように、本実施形態によれば、いわば事後的な光路長変更が可能であるような発光装置が提供されるのである。
このような効果、ないしは装置運用可能性は、これに引き続く、様々な付随的効果（例えば、複数の発光装置間における光強度の相違（即ち、品質のばらつき）を一定の範囲におさめることが容易になる、あるいは、使用環境に応じた発色態様の変更が容易に可能となる、等々）がもたらされることを強く推測させる。

以上、本発明に係る実施形態について説明したが、本発明に係る発光装置は、上述した形態に限定されることはなく、各種の変形が可能である。
（１） 上では、本発明の１つのあり得る実施形態として、図１に示したような積層構造物２５０を備える発光装置について特に説明を行っているが、本発明は、その他様々な実施形態を採り得る。

（１‐１） 例えば、発光装置は、図６に示すような構造を備えてもよい。この発光装置は、有機ＥＬ素子８が、図中上から順に対向電極５、発光機能層１８及び画素電極１３から構成されること、対向電極５の図中上側に第２反射膜５２が備えられること、及び、画素電極１３の図中下側に屈折率可変層５０１が備えられること、等については、上記実施形態と同じである。
この図６においては、上記実施形態と対比して、第１反射膜５１に代え、屈折率可変素子９’の構成、及び、第３反射膜５３の具備という２点について相違がある。
まず、屈折率可変素子９’は、図６に示すように、画素電極１３、屈折率可変層５０１の他に、屈折率可変用電極５４を備えている。この屈折率可変用電極５４は、上述の第１反射膜５１と対比して、帯状電極として形成されていることについて変わりはないが、透明且つ導電性材料たるＩＴＯ等によって作られているという相違点がある。つまり、かかる電極５４は、高い光反射性能をもつわけではない。この屈折率可変用電極５４は、屈折率可変素子駆動回路５５０に接続されており、その電圧が適当に設定される。
また、第３反射膜５３は、上述の第１反射膜５１と異なり、かつ、第２反射膜５２と同様、素子基板７の全面を覆うかのようにして形成されている。なお、この第３反射膜５３の設置に伴い、当該第３反射膜５３と前記屈折率可変用電極５４との間には、層間絶縁膜３０４が形成されている。
このような第３反射膜５３は、前記第２反射膜５２と一対のペアを組み、これら両反射膜５３及び５２は、それらの間に挟まれる各層とともに、光共振器ＲＢ２を構成する。

このような構成であっても、上記実施形態と本質的に相違のない作用効果が奏されることは明白である。しかも、この図６に示す構成では、光共振器ＲＢ２を構成する第２反射膜５２及び第３反射膜５３がいずれも、素子基板７の全面を覆うかのようにして形成されている、言い換えれば、いずれもいわゆるベタ状に形成されているので、発光機能層１８を発した光が、極めて有効に利用され得ることになるという利点が得られる。
ただ、図６では、そのような効果を得る反面、上記実施形態に比べて、第３反射膜５３及び層間絶縁膜３０４という２つの層を余分に形成する態様となっているため、その分、積層構造物の厚さが増大し、製造コストもその分、余計にかかるという欠点もある。
ちなみに、上記実施形態では、第１反射膜５１が、光共振器ＲＢ１を構成する一方の反射鏡としての機能を持ちながら、屈折率可変層５０１への電圧印加用電極としての機能をもっていた。このことは、図６の構成に係る前記欠点の存在に鑑みるに、上記実施形態における大きな利点として再認識される。

（１‐２） あるいは、発光装置は、図７に示すような構造を備えてもよい。この発光装置は、それに備えられる各種の要素、即ち発光機能層１８及び屈折率可変層５０１が、上記の実施形態と同じではある。ただ、その構造的な位置付けが、上記実施形態と大分異なる。
この図７においては、有機ＥＬ素子８’は、画素電極１３’、発光機能層１８及び対向電極５’から構成される。このうち画素電極１３’は、上記実施形態における画素電極１３と同様、マトリクス状の配列に従って並べられることについて変わりはないが、屈折率可変層５０１への電圧印加用電極としての機能を持たない。図７では、対向電極５’が、かかる機能を担っている。画素電極１３’及び対向電極５’は、有機ＥＬ素子駆動回路１１０に接続されている。
一方、図７における屈折率可変素子９”は、屈折率可変層５０１に加えて、これを両側から挟みこむ第４反射膜５６、及び、対向電極５’から構成される。このうち第４反射膜５６は、上記実施形態との対比で言えば、第１反射膜５１に相当する要素であり、当該第１反射膜５１と同様の構造（＝帯状）及び機能（＝屈折率可変層５０１への電圧印加用電極としての機能及び光反射機能）をもつ。この第４反射膜５６と、前述した対向電極５’とは、屈折率可変素子駆動回路５５０に接続されている。
加えて、図７においては、画素電極１３’の下層側に、層間絶縁膜３０５を挟んで、第５反射膜５５が備えられる。この第５反射膜５５は、上記実施形態との対比で言えば、第２反射膜５２に相当する要素であり、当該第２反射膜５２と同様の構造（＝素子基板７の全面を覆うかのようなベタ状）及び機能（＝半反射半透過に係る機能）をもつ。
この第５反射膜５５と前記の第４反射膜５４とは、一対のペアを組み、これら両反射膜５５及び５４は、それらの間に挟まれる各層とともに、光共振器ＲＢ３を構成する。

このような構成であっても、上記実施形態と本質的に相違のない作用効果が奏されることは明白である。ただし、図７で注意すべきは、前述した実施形態に係る発光装置では、発光機能層１８から発した光が素子基板７の存在する側とは反対側に出射する、トップエミッションタイプであったのに対して、図７に係る発光装置は、それとは反対のボトムエミッションタイプであることである。ただ、そうとはいえ、両者間に、何らかの本質的な変更が生じているわけではなく、また、特別な対処や特別な要素の設置が求められるわけでもない（ただし、素子基板７が透明であること等は必要である。）。

（２） 上記実施形態では、屈折率可変層５０１は、マトリクス状の配列に従って、あるいは換言すれば素子基板７上で島状に、形成される例について説明しているが、本発明はかかる形態に限定されない。例えば、屈折率可変層は、素子基板７の全面を覆うかのようなベタ状に形成されてもよい。
また、これに関連して、上記実施形態における第１反射膜５１もまた、帯状に形成される必要はなく、前記ベタ状に形成されてもよい。
このように、屈折率可変層及び第１反射膜がいずれもベタ状に形成されると、上記実施形態のように各列につき共振波長を異ならせることは不可能ないし極めて困難とはなるが、この場合であっても、装置運用開始後の屈折率変更はやはりできる。
あるいは逆に、上記実施形態における第１反射膜５１が、マトリクス状の配列に従って並ぶ屈折率可変層５０１と同様、マトリクス状の配列に従って並べられてもよい。この場合更に、そのような複数の第１反射膜５１の各々について個別に電圧設定制御を行えば、１個１個の画素電極１３につき、共振波長を変更し得る可能性も出てくる。

（３） 上記実施形態では、対向電極５がＩＴＯから作られており、かつ、半反射半透過に係る機能を持つ第２反射膜５２を備える態様について説明しているが、場合によっては、この対向電極５それ自体に半反射半透過の機能をもたせてもよい。これによれば、第２反射膜５２を必ずしも設ける必要はなくなるから、積層構造物２５０の構造を１層分減ずることができ、製造コストの低廉化等が達成される。

＜応用＞
次に、本発明に係る発光装置を適用した電子機器について説明する。図８は、上記実施形態に係る発光装置を画像表示装置に利用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。パーソナルコンピュータ２０００は、表示装置としての有機ＥＬ装置と本体部２０１０とを備える。本体部２０１０には、電源スイッチ２００１及びキーボード２００２が設けられている。
図９に、上記実施形態に係る発光装置を適用した携帯電話機を示す。携帯電話機３０００は、複数の操作ボタン３００１及びスクロールボタン３００２、ならびに表示装置としての有機ＥＬ装置１を備える。スクロールボタン３００２を操作することによって、有機ＥＬ装置に表示される画面がスクロールされる。
図１０に、上記実施形態に係る発光装置を適用した情報携帯端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistant）を示す。情報携帯端末４０００は、複数の操作ボタン４００１及び電源スイッチ４００２、ならびに表示装置としての有機ＥＬ装置を備える。電源スイッチ４００２を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が有機ＥＬ装置に表示される。

本発明に係る発光装置が適用される電子機器としては、図８から図１０に示したもののほか、デジタルスチルカメラ、テレビ、ビデオカメラ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電子ペーパー、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ビデオプレーヤ、タッチパネルを備えた機器等が挙げられる。

本発明の実施形態に係る発光装置の構造を示す断面図である。 図１の発光装置のうち特に、光共振器ＲＢ１を構成する部分をモデル的ないしブロック図的に示す概念図である。 電気光学効果（ポッケルス効果）を説明するためのグラフである。 電気光学効果（カー効果）を説明するためのグラフである。 図１の発光装置の作用効果を説明するための概念図である。 図２と同趣旨の図であって、本発明の実施形態の変形例（その１）のうち光共振器ＲＢ２を構成する部分をモデル的ないしブロック図的に示す概念図である。 図２と同趣旨の図であって、本発明の実施形態の変形例（その２）のうち光共振器ＲＢ３を構成する部分をモデル的ないしブロック図的に示す概念図である。 本発明に係る有機ＥＬ装置を適用した電子機器を示す斜視図である。 本発明に係る有機ＥＬ装置を適用した他の電子機器を示す斜視図である。 本発明に係る有機ＥＬ装置を適用したさらに他の電子機器を示す斜視図である。

符号の説明

７……素子基板、２５０……積層構造物、８，８’……有機ＥＬ素子（発光素子）、９，９’，９”……屈折率可変素子、１３（＝１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂ），１３’……画素電極、１８……発光機能層、５，５’……対向電極、５０１……屈折率可変層、５１（＝５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂ）……第１反射膜、５１１Ｒ，５１１Ｇ，５１１Ｂ……配線、５２……第２反射膜、５３……第３反射膜、５４……屈折率可変用電極、５５……第５反射膜、５６……第４反射膜、ＲＢ１，ＲＢ２，ＲＢ３……光共振器、１１０……有機ＥＬ素子駆動回路、５５０……屈折率可変素子駆動回路、
１１……回路素子薄膜、６１……金属配線膜、３０１……第１層間絶縁膜、３０２……第２層間絶縁膜、３０３……第３層間絶縁膜、３０４，３０５……層間絶縁膜、３４０……隔壁、３６３……コンタクトホール、４０……封止膜、８０……平坦化膜、
２０……ＣＦ基板、３６（＝３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂ）……カラーフィルタ、ＢＭ……遮光膜、
Ｌ１……（発光機能層１８から直接発した）光、Ｌ２……（光Ｌ１が反射膜で反射した）光

Claims (10)

1. 基板と、
   前記基板上に形成された発光素子と、
   前記発光素子から発せられた光を反射する第１反射膜と、
   前記発光素子及び前記第１反射膜間に挟まれるようにして形成され、電圧の印加を受けてその屈折率が変わる屈折率可変層と、
   前記屈折率可変層に電圧を印加するために、前記基板上に形成された電圧印加手段と、
   を備えることを特徴とする発光装置。
2. 少なくとも前記屈折率可変層を挟んで、前記第１反射膜と対向するように形成された第２反射膜、を更に備える、
   ことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
3. 前記電圧印加手段は、前記基板の面の法線方向に沿って、前記屈折率可変層を挟み込む第１及び第２電極を含む、
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の発光装置。
4. 前記第１及び第２電極のいずれか一方は、前記第１反射膜を兼ねる、
   ことを特徴とする請求項３に記載の発光装置。
5. 前記発光素子は、
   前記光を発する発光機能層と、
   前記基板の面の法線方向に沿って、当該発光機能層を挟み込むように形成された画素電極及び対向電極と、
   を含み、
   前記第１及び第２電極のうちいずれか一方は、前記画素電極及び前記対向電極のいずれか一方を兼ねる、
   ことを特徴とする請求項３に記載の発光装置。
6. 前記第２反射膜は、
   前記屈折率可変層に加えて前記発光素子を挟んで、前記第１反射膜と対向するように形成されており、
   当該発光素子は、
   前記光を発する発光機能層と、
   前記基板の面の法線方向に沿って、当該発光機能層を挟み込むように形成された画素電極及び対向電極と、
   を含み、
   前記第２反射膜は、前記画素電極及び前記対向電極のいずれか一方を兼ねる、
   ことを特徴とする請求項２に記載の発光装置。
7. 前記発光素子は、前記基板上で複数並べられ、
   前記第１及び第２電極のいずれか一方は、
   前記複数の発光素子の各々に対応するように、相互に分離された複数の電極を含む、
   ことを特徴とする請求項３乃至５のいずれか一項に記載の発光装置。
8. 前記発光素子は、前記基板上でマトリクス状の配列に従って複数並べられ、
   前記第１及び第２電極のいずれか一方は、
   前記マトリクス状の配列の行方向又は列方向に沿って延び且つその各行又は各列に対応する複数の帯状電極を含む、
   ことを特徴とする請求項３乃至５のいずれか一項に記載の発光装置。
9. 前記各行又は各列に対応するようにカラーフィルタを更に備える、
   ことを特徴とする請求項８に記載の発光装置。
10. 請求項１乃至９のいずれか一項に記載の発光装置を備える、
    ことを特徴とする電子機器。
    

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