JP2013517138A - スラブのインライン表面処理のための方法および装置 - Google Patents
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Abstract
Description
− スラブ表面の酸化の為にこれに付勢される火炎またはガス混合物の酸化比率が変更される。
− 酸化の為に使用されるガスの体積流量が変更される。
− 酸化の為に使用されるガスの酸化比率及び/又は体積流量を、例えばスラブ搬送速度や鋼品質といったプロセスパラメータに応じて変更する。
− スラブ表面に対するノズルまたはノズルに類する装置の角度及び間隔を変更する。
− ノズルまたはノズルに類する装置の形成および数量決定。
2 CSP鋳造装置
3 加熱炉
4 熱間圧延区間
5 スラブ
6 鋳造装置の転向ドライバー
7 シャー
8 ロール対
9 低圧スケール除去スプレー
10 高圧スケール除去スプレー
11 製造方向
20 表面処理装置
21 ノズルまたはノズルに類する装置を有する酸化装置
22 低圧又は高圧スケール除去スプレー
23 湿化ノズル
Claims (10)
- 連続鋳造から熱間圧延までの一つの連続する方法シーケンス中で、CSP鋳造装置と熱間圧延区間の間に設けられた一つの加熱炉(3)を有する、例えばCSP方法により製造されるスラブ(5)の、インライン表面処理による表面処理品質の向上の方法であって、
ノズルまたはノズルに類する装置を有する酸化装置(21)によってスラブ(5)の上面および下面に付勢される酸化炎または酸化ガス混合物によって、スラブ(5)の各スラブ面4mmまでの所定の表面層が意図的に酸化され、その際、スラブ表面上の酸化生成物が固定的または流動的であることを特徴とする方法。 - 酸化炎又は酸化ガス混合物によるスラブ表面の酸化処理が、以下のように作動するインライン方法ステップとリンクしていることを特徴とする請求項1に記載の方法。
酸化処理の前に、低圧又は高圧スケール除去スプレー(22)によって、スラブ表面から、元来存在しているスケールを取り除く。
酸化処理の後、生成された酸化物層と新たに形成されたスケールが、水湿潤ノズル(23)または他の適切な媒体若しくは媒体吐出により冷却され、ロール対(8)により機械的に打ち割られ、そして低圧スケール除去スプレー(9)又は存在する高圧スケール除去スプレー(10)によって、スラブ表面から取り除かれる。 - 酸化された層の厚さの意図した生成の為に、酸化装置の、個々にまたは組み合わせられて行われることができる以下の事項が、実施されることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
− スラブ表面の酸化の為に、これに付勢される火炎またはガス混合物の酸化比率を変更する。
− 酸化の為に使用されるガスの体積流量及び/又は酸化比率を、例えばスラブ搬送速度や鋼品質のようなプロセスパラメータに応じて変更する。
− スラブ表面を酸化するための酸化装置(21)のノズルまたはノズルに類する装置の角度及び間隔を変更する。
− ノズルまたはノズルに類する装置(21)の形成および数量決定。 - 表面処理が、全スラブ幅にわたって実施されることを特徴とする請求項1,2または3に記載の方法。
- 表面処理が、意図的に、スラブ幅またはスラブ長の局地的部分または孤立した部分に対して、変動的に限定されて実施されることを特徴とする請求項1,2または3に記載の方法。
- 例えば鋼種類、鋳造速度、非定常状態であるプロセス状態といったプロセスパラメータに応じて、表面処理が、製造部分量に制限されることを特徴とする請求項4または5に記載の方法。
- スラブ(5)の表面処理が、優勢的であるスペース比率に応じて、鋳造装置(2)から出た後加熱炉(3)に進入する前、又は代替として、加熱炉(3)から出た後熱間圧延区間(4)に進入する前に直列的に実施されることを特徴とする請求項4,5または6に記載の方法。
- スラブのインライン表面処理による表面品質の向上のための装置であって、当該スラブが、連続鋳造から熱間圧延の連続的プロセス中で、例えばCSP方法によって、CSP鋳造装置(2)と熱間圧延区間(4)の間に設けられる加熱炉(3)により製造される装置であって、特に請求項1から7に記載の方法の実施により製造される装置において、表面処理装置(20)が、以下を備えることを特徴とする装置。
− 低圧領域または高圧領域において作動可能なスケール除去スプレー(22)。
− 酸化炎または酸化ガス混合物をスラブ表面に付勢するための、ノズルまたはノズルに類する装置を有する酸化装置(21)。
− 酸化装置(21)のノズルまたはノズルに類する装置によってスラブ表面に酸化により生成される層の冷却および脆弱化の為の湿化ノズル(23)、
及びこの表面処理装置(20)に後置される、脆弱化さえた層の機械的打ち割りの為のロール対(8)と、
破壊された層をスラブ表面から取り除くための、低圧領域または高圧領域において作動可能なスケール除去スプレー(9,10)。 - 表面処理装置(20)の全ての機器および装置(21,22,23)と、後置される全ての装置(8,9)が、可変式に、個々にまたは共通して生産ラインへと移動可能および生産ラインから移動可能であるよう形成されていることを特徴とする請求項8に記載の装置。
- 表面処理に必要な機器及び装置(21,22,23,8,9)が移動可能であることの他に、以下のように形成されおよび生産ライン中に設けられる、つまり、表面処理が、全てのスラブ幅にわたって実施されることが可能であるよう、または選択的に、スラブ幅又はスラブ長の局所的な部分または孤立した部分に対して意図的に実施されることが可能であるよう、形成されおよび生産ライン中に設けられることを特徴とする請求項8または9に記載の装置。
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