JP2013510431A - 結晶学的エッチングによるスーパールミネセントダイオード - Google Patents
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Abstract
活性領域と、活性領域から放出される光の光閉じ込めを提供するための導波路構造とを備えた光電子素子であって、素子の対向端上の一対のファセットは、表面極性を有し、ファセットのうちの1つは、結晶学的化学エッチングプロセスによって粗面化されており、素子は、非極性または半極性(Ga,In,Al,B)N系素子である。一実施形態において、第1のファセットは、III族窒化物素子の粗面化されたc−ファセット、c−平面、またはN−面を備え、第2のファセットは、前記III族窒化物素子のc+ファセット、c+平面、III−面、またはGa面である。
Description
(関連出願の引用)
本願は、米国特許法§119(e)により、同時係属の同一人に譲渡された米国仮出願第61/257,752号(2009年11月3日出願、Matthew T. Hardy, You−da Lin, Hiroaki Ohta, Steven P. DenBaars, James S. Speck, and Shuji Nakamura、名称「SUPERLUMINESCENT DIODES BY CRYSTALLOGRAPHIC ETCHING,」、代理人事件番号30794.330−US−P1 (2010−113))に基づく優先権を主張する。該出願は、参照により本明細書に引用される。
本願は、米国特許法§119(e)により、同時係属の同一人に譲渡された米国仮出願第61/257,752号(2009年11月3日出願、Matthew T. Hardy, You−da Lin, Hiroaki Ohta, Steven P. DenBaars, James S. Speck, and Shuji Nakamura、名称「SUPERLUMINESCENT DIODES BY CRYSTALLOGRAPHIC ETCHING,」、代理人事件番号30794.330−US−P1 (2010−113))に基づく優先権を主張する。該出願は、参照により本明細書に引用される。
本願は、以下の同時係属の同一人に譲渡された米国特許出願に関連する:
米国特許出願第10/581,940号(2006年6月7日出願、現在米国特許第7,704,763号(2010年4月27日発行)、Tetsuo Fujii, Yan Gao, Evelyn. L. Hu,およびShuji Nakamura、名称「HIGHLY EFFICIENT GALLIUM NITRIDE BASED LIGHT EMITTING DIODES VIA SURFACE ROUGHENING,」、代理人事件番号30794.108−US−WO (2004−063))、該出願は、米国特許法§365(c)により、PCT出願第US2003/039211号(2003年12月9日出願、Tetsuo Fujii, Yan Gao, Evelyn L. Hu,およびShuji Nakamura、名称「HIGHLY EFFICIENT GALLIUM NITRIDE BASED LIGHT EMITTING DIODES VIA SURFACE ROUGHENING,」、代理人事件番号30794.108−WO−01 (2004−063))の利益を主張する;
米国特許出願第12/030,117号(2008年2月12日出願、Daniel F. Feezell, Mathew C. Schmidt, Kwang Choong Kim, Robert M. Farrell, Daniel A. Cohen, James S. Speck, Steven P. DenBaars, およびShuji Nakamura、名称「Al(x)Ga(l −x)N−CLADDING−FREE NONPOLAR GAN−BASED LASER DIODES AND LEDS,」、代理人事件番号30794.222−US−U1 (2007−424))、該出願は、米国特許法§119(e)により、米国仮出願第60/889,510号(2007年2月12日出願、Daniel F. Feezell, Mathew C. Schmidt, Kwang Choong Kim, Robert M. Farrell, Daniel A. Cohen, James S. Speck, Steven P. DenBaars,およびShuji Nakamura、名称「Al(x)Ga(l−x)N−CLADDING−FREE NONPOLAR GAN−BASED LASER DIODES AND LEDS,」、代理人事件番号30794.222−US−P1 (2007−424−1))の利益を主張する;
米国特許出願第12/030,124号(2008年2月12日出願、Robert M. Farrell, Mathew C. Schmidt, Kwang Choong Kim, Hisashi Masui, Daniel F. Feezell, Daniel A. Cohen, James S. Speck, Steven P. DenBaars,およびShuji Nakamura、名称「OPTIMIZATION OF LASER BAR ORIENTATION FOR NONPOLAR (Ga,Al,In,B)N DIODE LASERS,」、代理人事件番号30794.223−US−U1 (2007−425))、該出願は、米国特許法§119(e)により、米国仮出願第60/889,516号(2007年2月12日出願、Robert M. Farrell, Mathew C. Schmidt, Kwang Choong Kim, Hisashi Masui, Daniel F. Feezell, Daniel A. Cohen, James S. Speck, Steven P. DenBaars,およびShuji Nakamura、名称「OPTIMIZATION OF LASER BAR ORIENTATION FOR NONPOLAR (Ga,Al,In,B)N DIODE LASERS,」、代理人事件番号30794.223−US−P1 (2007−425−1))の利益を主張する;および、
米国特許出願第12/833,607号(2010年7月9日出願、Robert M. Farrell, Matthew T. Hardy, Hiroaki Ohta, Steven P. DenBaars, James S. Speck,およびShuji Nakamura、名称「STRUCTURE FOR IMPROVING THE MIRROR FACET CLEAVING YIELD OF (Ga,Al,In,B)N LASER DIODES GROWN ON NONPOLAR OR SEMIPOLAR (Ga,Al,In,B)N SUBSTRATES,」、代理人事件番号30794.319−US−P1 (2009−762−1))、該出願は、米国特許法§119(e)により、米国仮出願第61/224,368号(filed on July 9, 2009年7月9日出願)、Robert M. Farrell, Matthew T. Hardy, Hiroaki Ohta, Steven P. DenBaars, James S. Speck,およびShuji Nakamura、名称「STRUCTURE FOR IMPROVING THE MIRROR FACET CLEAVING YIELD OF (Ga,Al,In,B)N LASER DIODES GROWN ON NONPOLAR OR SEMIPOLAR (Ga,Al,In,B)N SUBSTRATES,」、代理人事件番号30794.319−US−P1 (2009−762−1))の利益を主張する;
これらの出願は、参照により本明細書に引用される。
米国特許出願第10/581,940号(2006年6月7日出願、現在米国特許第7,704,763号(2010年4月27日発行)、Tetsuo Fujii, Yan Gao, Evelyn. L. Hu,およびShuji Nakamura、名称「HIGHLY EFFICIENT GALLIUM NITRIDE BASED LIGHT EMITTING DIODES VIA SURFACE ROUGHENING,」、代理人事件番号30794.108−US−WO (2004−063))、該出願は、米国特許法§365(c)により、PCT出願第US2003/039211号(2003年12月9日出願、Tetsuo Fujii, Yan Gao, Evelyn L. Hu,およびShuji Nakamura、名称「HIGHLY EFFICIENT GALLIUM NITRIDE BASED LIGHT EMITTING DIODES VIA SURFACE ROUGHENING,」、代理人事件番号30794.108−WO−01 (2004−063))の利益を主張する;
米国特許出願第12/030,117号(2008年2月12日出願、Daniel F. Feezell, Mathew C. Schmidt, Kwang Choong Kim, Robert M. Farrell, Daniel A. Cohen, James S. Speck, Steven P. DenBaars, およびShuji Nakamura、名称「Al(x)Ga(l −x)N−CLADDING−FREE NONPOLAR GAN−BASED LASER DIODES AND LEDS,」、代理人事件番号30794.222−US−U1 (2007−424))、該出願は、米国特許法§119(e)により、米国仮出願第60/889,510号(2007年2月12日出願、Daniel F. Feezell, Mathew C. Schmidt, Kwang Choong Kim, Robert M. Farrell, Daniel A. Cohen, James S. Speck, Steven P. DenBaars,およびShuji Nakamura、名称「Al(x)Ga(l−x)N−CLADDING−FREE NONPOLAR GAN−BASED LASER DIODES AND LEDS,」、代理人事件番号30794.222−US−P1 (2007−424−1))の利益を主張する;
米国特許出願第12/030,124号(2008年2月12日出願、Robert M. Farrell, Mathew C. Schmidt, Kwang Choong Kim, Hisashi Masui, Daniel F. Feezell, Daniel A. Cohen, James S. Speck, Steven P. DenBaars,およびShuji Nakamura、名称「OPTIMIZATION OF LASER BAR ORIENTATION FOR NONPOLAR (Ga,Al,In,B)N DIODE LASERS,」、代理人事件番号30794.223−US−U1 (2007−425))、該出願は、米国特許法§119(e)により、米国仮出願第60/889,516号(2007年2月12日出願、Robert M. Farrell, Mathew C. Schmidt, Kwang Choong Kim, Hisashi Masui, Daniel F. Feezell, Daniel A. Cohen, James S. Speck, Steven P. DenBaars,およびShuji Nakamura、名称「OPTIMIZATION OF LASER BAR ORIENTATION FOR NONPOLAR (Ga,Al,In,B)N DIODE LASERS,」、代理人事件番号30794.223−US−P1 (2007−425−1))の利益を主張する;および、
米国特許出願第12/833,607号(2010年7月9日出願、Robert M. Farrell, Matthew T. Hardy, Hiroaki Ohta, Steven P. DenBaars, James S. Speck,およびShuji Nakamura、名称「STRUCTURE FOR IMPROVING THE MIRROR FACET CLEAVING YIELD OF (Ga,Al,In,B)N LASER DIODES GROWN ON NONPOLAR OR SEMIPOLAR (Ga,Al,In,B)N SUBSTRATES,」、代理人事件番号30794.319−US−P1 (2009−762−1))、該出願は、米国特許法§119(e)により、米国仮出願第61/224,368号(filed on July 9, 2009年7月9日出願)、Robert M. Farrell, Matthew T. Hardy, Hiroaki Ohta, Steven P. DenBaars, James S. Speck,およびShuji Nakamura、名称「STRUCTURE FOR IMPROVING THE MIRROR FACET CLEAVING YIELD OF (Ga,Al,In,B)N LASER DIODES GROWN ON NONPOLAR OR SEMIPOLAR (Ga,Al,In,B)N SUBSTRATES,」、代理人事件番号30794.319−US−P1 (2009−762−1))の利益を主張する;
これらの出願は、参照により本明細書に引用される。
(発明の分野)
本発明は、非極性(Ga,In,Al,B)N系スーパールミネセントダイオード(SLD)の生産のために好適な低反射率ファセットの製作に関する。
本発明は、非極性(Ga,In,Al,B)N系スーパールミネセントダイオード(SLD)の生産のために好適な低反射率ファセットの製作に関する。
(注記:本願は、括弧内の1つ以上の参照番号(例えば、参考文献[x])によって、本明細書を通して指示されるように、いくつかの異なる刊行物を参照する。このような参照番号に従って順序付けられたこれらの異なる刊行物の一覧は、以下の「参考文献」の項に列挙される。これらの刊行物はそれぞれ、参照することによって本明細書に組み込まれる)。
種々の半導体システム、特に、GaAsおよびInP系システムにおいて、SLDを製作するために、いくつかの技法が使用されている。SLDは、利得を提供するための半導体素子と、レージング作用を防止するための1つの無反射ファセットとを要求する。無反射ファセットを製作するために使用される技法として、とりわけ、受動吸収体領域、反射防止コーティング、および、角度付きまたはファイバ連結ファセット(または、角度付き活性領域)(例えば、(13)−(16)参照)が挙げられる。受動吸収体は、付加的ウエハ有効面積を要求し、効果的反射防止コーティングは、多重層を要求し、製作が比較的に高価であって、角度付きファセットは、例えば、バッチウェットエッチング技法よりも大量生産に適合性の低い、付加的処理ステップを要求する。
本発明は、非極性GaN上に成長された(Ga,In,Al,B)Nレーザダイオード(LD)から、スーパールミネセントダイオード(SLD)を製作するためのプロセスを考案したものである。市販の(Ga,In,Al,B)NLDは、典型的には、c−平面基板上に成長される。分極関連電場は、井戸内の電子および正孔波動関数の空間分離を回避するために、薄い量子井戸(典型的には、4nm未満)を要求する。厚いAlGaN膜またはAlGaN/GaN歪み超格子は、クラッド層を形成し、光閉じ込めを提供する。
非極性m−平面およびa−平面(Ga,In,Al,B)N上に成長されるLDは、分極関連効果を受けない。これは、より広い量子井戸(例えば、4nmより広い)の成長を可能にし、これは、より光閉じ込めに寄与することが可能であり、AlGaNクラッド無しのLDの実証をもたらす(1)、(2)。AlGaNの不在は、Al前駆体寄生反応によるリアクタの不安定性を除去することによって、簡略化された製造へとつながる。また、非極性(Ga,In,Al,B)N内の不均衡二軸歪は、重い正孔および軽い正孔の価電子帯の分裂を生じさせ、二軸歪c−平面(Ga,In,Al,B)Nと比較して、より低い閾値の電流密度を提供する(3)。
c−軸に沿って配向されるレーザストライプの場合の閾値電流密度は、a−軸に沿ったストライプの場合より低い(4)。したがって、非極性LDは、利得、効率、および出力パワーを最大限にするために、劈開され、空洞鏡として、極性c−平面ファセットを露出しなければならない。
c−平面GaNのN−極性面は、光電気化学的(PEC)(4)エッチング条件およびKOH等のウェットエッチング化学物質の両方下、結晶学的にエッチングすることを示されている(5)。この技術は、一般的に、六方晶錐体の形成を通して、(Ga,In,Al,B)N発光ダイオード(LED)の裏面の光抽出を向上させるために使用される(6)。
SLDは、増幅された自発放出を利用して、LDと類似規模で一方向性高パワー光学出力を発生させる。十分に強力な光学空洞を伴わない場合、SLDは、十分な光学フィードバックを発生させ、真のレージング作用を示すことができない。レージングがない場合、モード選択は存在せず、LDの場合より1オーダー大きいスペクトル幅と低コヒーレンスとをもたらす。広スペクトル幅は、LDと関連付けられた眼損傷のリスクを大幅に低減させ、低コヒーレンスは、コヒーレンス雑音または「スペックル」を減少させる。強力に局在化された光放出のないことは、LD内の一般的故障機構である、破壊的光学損傷(COD)故障を防止するのに有用である。これらの特性は、ピコプロジェクタ(指向性の高パワー放出が必要であって、眼損傷のリスクおよびコヒーレンス雑音が悪化する)ならびに網膜走査ディスプレイ(高パワーの要件を伴わない)における用途において、SLDを理想的に好適にする。SLDは、GaAs(7)および素子の片側におけるフィードバックを防止するために、とりわけ、受動吸収体、導波路抽出、角度付きファセット、および反射防止コーティングを使用する、他の材料系において以前に実証されている。
結晶学的ウェットまたはPECエッチングを使用して、非極性(Ga,In,Al,B)Nのc−平面ファセットの窒素面(N−面)(c−ファセット)上に六方晶錐体を製作することは、N−面における効率的光抽出を可能にする(8)。これは、SLDの形成のために必要な無反射ファセットを提供する。PECまたはウェットエッチングプロセスの使用は、受動吸収体のために要求される無駄なウエハ空間を伴わずに、SLDの製作のための低コストかつ容易に大量生産可能な技法をもたらす。エッチング時間、PEC照射パワー、およびエッチング電解質濃度を調節することによって、六方晶錐体形成の進展を制御することは、光学損失の量を制御することが可能となる。これは、異なる光学利得を有する(Ga,In,Al,B)NSLD、特に、異なる波長で放出する素子のに対して、スーパールミネセンスを保証するように、プロセスを容易に適合可能にする。
したがって、先行技術における制限を克服し、本明細書を熟読および理解することによって明白となるであろう多の制限を克服するために、本発明は、活性領域と、活性領域から放出される光の光閉じ込めを提供するための導波路構造と、導波路構造の対向端上の第1のファセットおよび第2のファセットとを備え、第1のファセットおよび第2のファセットは、反対表面極性を有し、第1のファセットは、粗面化された表面有する、非極性または半極性III族窒化物系光電子素子(例えば、SLD)を開示する。
第1のファセットは、III族窒化物素子の粗面化されたc−ファセット、c−平面、またはN−面を備え、第2のファセットは、III族窒化物素子のc+ファセット、c+平面、Ga−面、またはIII−面を備え得る。
粗面化された表面は、例えば、ウェットエッチングされた表面、結晶学的にエッチングされた表面、またはPECエッチングされた表面であり得る。粗面化された表面は、粗面化された劈開表面であり、第2のファセットは、劈開表面を有し得る。
粗面化された表面は、導波路構造の面内c−軸に沿う光学フィードバックを防止し得る。
粗面化された表面は、導波路構造の面内c−軸に沿う光学フィードバックを防止し得る。
粗面化された表面は、錐体が、SLDから光を散乱するように、光の波長に十分に近い直径および高さを有する構造(例えば、六方晶錐体)を備え得る。錐体は、例えば、0.1から1.6マイクロメートル、または0.1から10マイクロメートル、あるいは10マイクロメートル以上の直径を有し得る。
SLDは、少なくとも5ミリワットの出力パワー(mW)を有し得る。
粗面化された表面は、レージングピークが、315mAまでの駆動電流の場合、SLDの放出スペクトルに観察されないようなものでもあり得る(レージングは、100mAを超える駆動電流の場合、粗面化された表面を伴わない同じ構造内で観察される)。
粗面化された表面は、SLDの出力パワーが、SLDの線形利得領域において、駆動電流の増加に伴って、指数関数的に増加するようなものであり得る。
粗面化された表面は、SLDによって放出される光の半値全幅(FWHM)が、粗面化を伴わない場合よりも少なくとも10倍大きいようなものであり得る。例えば、SLDは、青色光を放出し、粗面化された表面は、光のFWHMが、9nmを上回るようなものであり得る。
導波路構造は、屈折率導波または利得導波を利用して、内部損失を減少させ得る。
本発明はさらに、非極性または半極性III族窒化物系光電子素子を製作するための方法であって、活性領域と、活性領域から放出される光の光閉じ込めを提供するための導波路構造と、導波路構造の対向端上の第1のファセットおよび第2のファセットとを備える、第1の非極性または半極性III族窒化物系光電子素子を得ることであって、第1のファセットおよび第2のファセットは、反対表面極性を有する、ことと、第1のファセットの表面を粗面化し、それによって、第2の非極性または半極性III族窒化物系光電子素子を製作することとを含む、方法を開示する。
本発明はさらに、非極性または半極性III族窒化物系光電子素子を製作するための方法であって、活性領域と、活性領域から放出される光の光閉じ込めを提供するための導波路構造と、導波路構造の対向端上の第1のファセットおよび第2のファセットとを備える、第1の非極性または半極性III族窒化物系光電子素子を得ることであって、第1のファセットおよび第2のファセットは、反対表面極性を有する、ことと、第1のファセットの表面を粗面化し、それによって、第2の非極性または半極性III族窒化物系光電子素子を製作することとを含む、方法を開示する。
粗面化することに先立つ素子は、LDであってもよく、粗面化ステップ後の素子は、SLDであり得る。
粗面化することは、ウェットエッチングにより、エッチング時間およびウェットエッチングにおいて使用される電解質の濃度は、第1のファセットの特徴サイズ、密度、および総ファセット粗度を制御するように変動され得る。
本発明は、紫外線(UV)から赤色光までの任意の波長範囲において放出するSLD(例えば、SLD280nm以下から、緑色光(例えば、490−560nm)を通って、例えば、最大700nmの波長を有する光を放出するSLD)に適用可能である。UV放出SLDは、例えば、m−平面GaNSLDを使用し得る。
次に、図面を参照する(同一参照番号は、全体を通して、対応する部分を表す)。
図1は、本発明の1つ以上の実施形態による、素子を製作する方法を例証する、流れ図である。
図2は、2.2MKOHの中での図2(a)1、図2(b)4、および図2(c)8時間後のc−ファセットの走査電子顕微鏡(SEM)写真を示し、図2(d)は、10MKOH(異なる試料の場合)の中での24時間後のc+ファセットを示し、c+ファセットのエッチング条件および安定性を変動させることによる、粗度の制御を実証する。
図2は、2.2MKOHの中での図2(a)1、図2(b)4、および図2(c)8時間後のc−ファセットの走査電子顕微鏡(SEM)写真を示し、図2(d)は、10MKOH(異なる試料の場合)の中での24時間後のc+ファセットを示し、c+ファセットのエッチング条件および安定性を変動させることによる、粗度の制御を実証する。
図2は、2.2MKOHの中での図2(a)1、図2(b)4、および図2(c)8時間後のc−ファセットの走査電子顕微鏡(SEM)写真を示し、図2(d)は、10MKOH(異なる試料の場合)の中での24時間後のc+ファセットを示し、c+ファセットのエッチング条件および安定性を変動させることによる、粗度の制御を実証する。
図2は、2.2MKOHの中での図2(a)1、図2(b)4、および図2(c)8時間後のc−ファセットの走査電子顕微鏡(SEM)写真を示し、図2(d)は、10MKOH(異なる試料の場合)の中での24時間後のc+ファセットを示し、c+ファセットのエッチング条件および安定性を変動させることによる、粗度の制御を実証する。
図3では、図3(a)は、SLDの概略図と、III族窒化物の−c、m、a、および+c方向を、図3(b)は、図3(a)におけるSLDの横方向断面を示し、SEM画像として、図3(c)では、KOH処理前の素子の−cファセット、図3(d)では、KOH処理後の−cファセット、図3(e)では、KOH処理後の+cファセットが示され、図3(c)は、表面形態を示すために、40°の角度で撮像され、また、粗面化された表面上の円錐の概略図も示される(図3(f))。
図3では、図3(a)は、SLDの概略図と、III族窒化物の−c、m、a、および+c方向を、図3(b)は、図3(a)におけるSLDの横方向断面を示し、SEM画像として、図3(c)では、KOH処理前の素子の−cファセット、図3(d)では、KOH処理後の−cファセット、図3(e)では、KOH処理後の+cファセットが示され、図3(c)は、表面形態を示すために、40°の角度で撮像され、また、粗面化された表面上の円錐の概略図も示される(図3(f))。
図3では、図3(a)は、SLDの概略図と、III族窒化物の−c、m、a、および+c方向を、図3(b)は、図3(a)におけるSLDの横方向断面を示し、SEM画像として、図3(c)では、KOH処理前の素子の−cファセット、図3(d)では、KOH処理後の−cファセット、図3(e)では、KOH処理後の+cファセットが示され、図3(c)は、表面形態を示すために、40°の角度で撮像され、また、粗面化された表面上の円錐の概略図も示される(図3(f))。
図3では、図3(a)は、SLDの概略図と、III族窒化物の−c、m、a、および+c方向を、図3(b)は、図3(a)におけるSLDの横方向断面を示し、SEM画像として、図3(c)では、KOH処理前の素子の−cファセット、図3(d)では、KOH処理後の−cファセット、図3(e)では、KOH処理後の+cファセットが示され、図3(c)は、表面形態を示すために、40°の角度で撮像され、また、粗面化された表面上の円錐の概略図も示される(図3(f))。
図3では、図3(a)は、SLDの概略図と、III族窒化物の−c、m、a、および+c方向を、図3(b)は、図3(a)におけるSLDの横方向断面を示し、SEM画像として、図3(c)では、KOH処理前の素子の−cファセット、図3(d)では、KOH処理後の−cファセット、図3(e)では、KOH処理後の+cファセットが示され、図3(c)は、表面形態を示すために、40°の角度で撮像され、また、粗面化された表面上の円錐の概略図も示される(図3(f))。
図3では、図3(a)は、SLDの概略図と、III族窒化物の−c、m、a、および+c方向を、図3(b)は、図3(a)におけるSLDの横方向断面を示し、SEM画像として、図3(c)では、KOH処理前の素子の−cファセット、図3(d)では、KOH処理後の−cファセット、図3(e)では、KOH処理後の+cファセットが示され、図3(c)は、表面形態を示すために、40°の角度で撮像され、また、粗面化された表面上の円錐の概略図も示される(図3(f))。
図4は、スペクトル(光出力強度(任意の単位(任意単位))対ナノメートル(nm)での波長)を示し、図4(a)は、KOH処理の前の4μmリッジLD、図4(b)は、KOH処理後の同一素子、図4(c)は、KOH処理後の同一素子であるが、導波路に垂直な基板下方の放出の場合である。
図4は、スペクトル(光出力強度(任意の単位(任意単位))対ナノメートル(nm)での波長)を示し、図4(a)は、KOH処理の前の4μmリッジLD、図4(b)は、KOH処理後の同一素子、図4(c)は、KOH処理後の同一素子であるが、導波路に垂直な基板下方の放出の場合である。
図4は、スペクトル(光出力強度(任意の単位(任意単位))対ナノメートル(nm)での波長)を示し、図4(a)は、KOH処理の前の4μmリッジLD、図4(b)は、KOH処理後の同一素子、図4(c)は、KOH処理後の同一素子であるが、導波路に垂直な基板下方の放出の場合である。
図5は、面内放出(円)および背面放出(正方形、また、図5では、「下方」とも称される)の場合における、駆動電流(ミリアンペア)の関数としてのKOH処理後のSLDのFWHM(ナノメートル)のプロットである。
図6は、KOH処理前LD(円)および処理後のSLD(正方形)のルミネセンス対電流(L−I)特性(パワー出力(mW)対電流(mA))を示し、破線は、LDデータの場合の眼に対する指標であって、実線は、SLDデータに対する指数適合である。
図7では、図7(a)は、検出器設定の概略図を、図7(b)は、+cファセットにおいて面内で、および背面から、測定された電流の関数としてのスペクトル的積分強度を示し、100mAを超える電流値に対応するデータに適合された指数(面内)および線形(背面)曲線もまた示され、スーパールミネセンスの発現は、導波路に沿って刺激された放出により素子の面内および下方で測定された積分強度の発散から、約100mA(4.76kA/cm2)と予測することができ、面内放出は、0.995のR2を伴う指数曲線に良好に適合する一方、基板を通しての放出は、線形関数によって適合され、両適合は、スーパールミネセンスの発現を超える(100mAを超える)データに対して行われた。
図7では、図7(a)は、検出器設定の概略図を、図7(b)は、+cファセットにおいて面内で、および背面から、測定された電流の関数としてのスペクトル的積分強度を示し、100mAを超える電流値に対応するデータに適合された指数(面内)および線形(背面)曲線もまた示され、スーパールミネセンスの発現は、導波路に沿ってシ刺激された放出により素子の面内および下方で測定された積分強度の発散から、約100mA(4.76kA/cm2)と予測することができ、面内放出は、0.995のR2を伴う指数曲線に良好に適合する一方、基板を通しての放出は、線形関数によって適合され、両適合は、スーパールミネセンスの発現を超える(100mAを超える)データに対して行われた。
好ましい実施形態の以下の説明では、本明細書の一部を形成し、本発明が実践され得る特定の実施形態の一例として示される、付随の図面が参照される。他の実施形態が利用されてもよく、構造的変化は、本発明の範囲から逸脱することなく成され得ることを理解されたい。
(概要)
六方晶錐体を形成するための結晶学的エッチングは、m−平面(In、Al、Ga)Nのc−ファセット上で実証され、SLD素子の製作が、実証された。本発明は、非極性(Ga,In,Al,B)N系SLDの生産に好適な低反射率ファセットの製作を可能にする。
六方晶錐体を形成するための結晶学的エッチングは、m−平面(In、Al、Ga)Nのc−ファセット上で実証され、SLD素子の製作が、実証された。本発明は、非極性(Ga,In,Al,B)N系SLDの生産に好適な低反射率ファセットの製作を可能にする。
本発明の一実施形態では、c−軸導波路に沿って光学フィードバックを防止することが意図される、非反射−c平面ファセットが、KOHウェットエッチングによって製作された。KOHは、+cファセットをエッチングすることなく、六方晶錐体の形成につなる劈開−cファセットを選択的にエッチングした。ピーク波長およびFWHMは、それぞれ、315mAで439nmおよび9nmであって、5mWの出力パワーが、+cファセットから測定された。
(技術説明)
(専門用語)
III族窒化物は、例えば、III族窒化物、窒化物、あるいは(Al,Ga,In)N、AlInGaN、またはAl(l−x−y)InyGaxN(0<x<1および0<y<1)と称され得る。
(専門用語)
III族窒化物は、例えば、III族窒化物、窒化物、あるいは(Al,Ga,In)N、AlInGaN、またはAl(l−x−y)InyGaxN(0<x<1および0<y<1)と称され得る。
これらの用語は、単一種、Al、Ga、およびInのそれぞれの窒化物、ならびにそのようなIII族金属種の二元、三元、および四元組成を含むように、広義に解釈されることが意図される。故に、用語は、そのような専門用語内に含まれる種として、化合物AIN、GaN、およびInN、ならびに三元化合物AlGaN、GaInN、およびAlInN、ならびに四元化合物AlGalnNを含意する。(Ga、Al、In)成分種のうちの2つ以上が存在する時、化学量論的割合ならびに「化学量論外」の割合(組成内に存在する(Ga、Al、In)成分種のそれぞれに存在する相対モル比に関して)を含む、あらゆる可能性のある組成は、発明の広範囲内で採用することができる。故に、GaN材料を主に参照する本発明の議論は、種々の他の(Al、Ga、In)N材料種の形成に適用可能であることを理解されるであろう。さらに、発明の範囲内の(Al,Ga,In)N材料はさらに、少量のドーパントおよび/または他の不純物あるいは含有材料を含み得る。バロンもまた、III族窒化物合金に含まれ得る。
電子および光電子素子のための現在の窒化物技術は、極性c−方向に沿って成長された窒化物膜を採用する。しかしながら、III族窒化物系光電子および電子素子内の従来のc−平面量子井戸構造は、強力な圧電および自発分極の存在に起因する望ましくない量子閉じ込めシュタルク効果(QCSE)に悩まされる。c−方向に沿った強力な内蔵電場は、電子および正孔の空間的分離を生じさせ、ひいては、制限されたキャリア再結合効率、減少した振動子強度、および赤色シフト発光をもたらす。
GaNまたはIII族窒化物光電子素子内の自発および圧電分極効果を排除するアプローチの1つは、結晶の非極性平面上に素子を成長させることである。そのような平面は、等数のGaおよびN原子を含有し、電荷中性である。さらに、後続の非極性層は、相互に等価であって、したがって、バルク結晶は、成長方向に沿って、分極されないであろう。GaNまたはIII族窒化物における対称等価非極性平面の2つのそのような族は、集合的にa−平面として知られる{11−20}族および集合的にm−平面として知られる{1−100}族である。
GaN光電子素子内の分極効果を低減または可能性として排除する別のアプローチは、結晶の半極性平面上に素子を成長させることである。用語「半極性平面」は、2つの非ゼロのh、i、またはkミラー指数と、非ゼロの1ミラー指数との両方を保有する種々の平面を指すために使用することができる。したがって、半極性平面は、(hkil)ミラーブラヴェ指数転換において、非ゼロのhまたはkまたはi指数および非ゼロのl指数を伴う結晶平面として定義される。c−平面GaNヘテロエピタキシにおける半極性平面のいくつかの一般的に観察される実施例は、ピットのファセットに見出される、(11−22)、(10−11)、および(10−13)平面を含む。これらの平面はまた、偶然にも、発明者らが平面膜の形成において成長させた同じ平面でもある。ウルツ鉱結晶構造における半極性平面の他の実施例として、(10−12)、(20−21)、および(10−14)が挙げられるが、それらに限定されない。窒化物結晶の分極ベクトルは、そのような平面内にはなく、また、そのような平面に対して垂直でもないが、平面の表面垂線に対して、ある傾斜角度で存在する。例えば、(10−11)および(10−13)平面は、それぞれ、c−平面に対して、62.98°および32.06°である。
GaNのガリウムまたはGa面(または、III族窒化物のIII面)は、+c、c+、または(0001)平面であり、GaNまたはIII族窒化物層の窒素またはN−面は、-c、c−、または(000−1)平面である。
(プロセスステップ)
図1は、本発明の1つ以上の実施形態による、素子を製作する方法を例証する。
図1は、本発明の1つ以上の実施形態による、素子を製作する方法を例証する。
ブロック100は、活性領域と、活性領域から放出される光の光閉じ込めを提供するための導波路構造と、一対のファセットとを備える、非極性または半極性(Ga,In,Al,B)N系光電子素子(例えば、LD)を得るまたは製作するステップを表す。対のファセットは、第1のファセットが、第2のファセットの反対にあり、第1のファセットが、第2のファセットに対して反対表面極性を有するように、導波路構造の対向端上の第1のファセットおよび第2のファセットを備え得る。
反対表面極性を有する対のファセットは、反対表面極性が、c+およびc−であるように、c+およびc−ファセットを備え得る。
ファセットは、c+ファセットからの光学出力のための良好な指向性および遠視野像(FFP)を達成するために、劈開することによって形成され得る。しかしながら、ファセットはまた、ドライエッチング、集束イオンビーム(FIB)系技法、研磨、または他の方法によって形成され得る。ファセットの一方または両方は、出力ファセットの反射率を増加または減少させるために、あるいは破壊的光学損傷(COD)を抑制するために、塗膜され得る。
素子は、L−I特性が処理後値と比較され、スーパールミネセンスが検証され得るように、この時点で試験される。
ブロック102は、第1のファセットの表面を粗面化することを表し、例えば、ofoneofLDのファセットのうちの1つの結晶学的エッチング、ウェットエッチング、またはPECエッチングを表す。ブロック100のステップ後、LDは、KOH処理中、上側を保護するために、結晶接合ワックスを使用して、表を下にして搭載され得る。上側保護は、必要でなくてもよいが、予防措置として行われた。次いで、搭載された試料は、所望の時間の間、典型的には、1から24時間、2.2M水酸化カリウム(KOH)に浸漬される。
第1のファセットは、III族窒化物素子の粗面化されたc−平面、c−ファセット、またN−面を備え、第2のファセットは、III族窒化物素子のc+ファセット、c+平面、Ga−面、またはIII−面を備え得る。第1のファセットの粗面化された表面は、粗面化された劈開表面(次いで、粗面化される、劈開表面)であり得、第2のファセットは、劈開表面を有し得る。
図2は、それぞれ、図2(a)、(b)、および(c)に示されるように、KOHの中での1、4、8時間後の錐体形態200と、図2(d)に示されるように、c+ファセット上のエッチングがないことを示す。PECエッチングは、最大2オーダーまでエッチング時間を短縮するために使用することができる。次いで、試料は、取り外され、再試験される。これらの条件下、KOH中にエッチングされないため、c+ファセットに対して、保護は必要ない。したがって、本発明は、±cファセットの非対称化学特性を使用して、SLDを製作し得る。錐体200は、ベース直径および高さを有し得る。
KOH結晶学的エッチングは、素子のc−ファセット上に6つの{10−1−1}平面を備える六方晶錐体を生する(5)。故に、粗面化された表面は、六方晶ベースと、{10−1−1}平面である6つの側壁とを備える六方晶錐体を備え得る。
他のウェットエッチング方法、例えば、ウェットエッチング、結晶学的化学エッチング、結晶学的エッチングをもたらすウェットエッチング、または光電気化学的(PEC)エッチングが使用され得る。エッチング時間およびウェットエッチングにおいて使用される電解質の濃度は、第1のファセットの特徴サイズ、密度、および総ファセット粗度を制御するように、変動され得る。
ブロック104は、方法の最終結果、すなわち、SLD等の素子を表す。SLDは、非極性GaN上に成長された(Ga,In,Al,B)NLDのための構造を備え得、LD構造のc−ファセットは、結晶学的にエッチングされる。例えば、SLDは、±cファセットの非対称化学特性を利用する、m−平面−GaN系青色SLDであり得る。第2のファセットは、SLDの出力ファセットであり得る。例えば、粗面化ステップに先立って、素子は、LDであって、粗面化ステップ後、素子は、SLDである。
錐体の内部ファセット上に入射する光は、内部ファセットを通過するか、または反射され得る。次いで、反射された光は、錐体の対向ファセットに衝突し、再び、素子を出るか、または反射され得る。塗膜されていない界面(例えば、GaNと空気)の場合、フレネル反射は、0.18の反射率をもたらす。したがって、3反射以内に、構造内に残留する光の量は、既に、入射光の1%未満である。代替として、ファセットの粗度を単純に増加させることは、反射率を低下させ、ミラー損失を増加させ、それは、閾値電流密度を増加させる。この効果は、多くの場合、c−平面LEDのcファセットからの背面光抽出効率を増加させるために使用される(8)。
キャリア密度がLDの活性領域内で増加するのに伴って、反転分布が達成され刺激された放出が、素子内で自発放出を増幅するため、導波路に沿った利得につながる。レージングが生じるためには、正味往復利得は、正味往復損失より大きくなければならない。しかしながら、c−ファセットにおいて、大量の光抽出(損失)を生じさせることによって、光学フィードバックが抑制される。刺激された放出の増幅が生じ、高光学出力パワーにつながるが、レージングと関連する放出された光のコヒーレンスは抑制される。したがって、粗面化された表面は、導波路構造の面内c−軸に沿って、光学フィードバックを防止し得る。
例えば、粗面化された表面は、レージングピークが、最大315mAまでの駆動電流に対してSLDの放出スペクトルにおいて観察されないようなものであり、粗面化された表面を伴わない同じ構造においては、100mAを超える駆動電流に対してレージングピークが観察される。しかしながら、スーパールミネセンスおよび/またはレージングのために要求される具体的電流は、大部分は、素子の品質および寸法によって設定される。例えば、市販の青色LDは、50mAを下回るレージング電流を有し得る。したがって、スーパールミネセンスおよび/またはレージングのための具体的電流は、特定の値に限定されない。
素子の粗面化された表面は、SLDによって放出された光の半値全幅(FWHM)が、粗面化を伴わない素子の少なくとも10倍大きいようなものであり得る(例えば、SLDのFWHMは、LDのFWHMより10倍大きい)。例えば、SLDは、青色光を放出し、粗面化された表面は、光のFWHMが9nmを超えるようなものであり得る。
SLDは、少なくとも5ミリワットの出力パワーを有し得る。例えば、粗面化された表面は、SLDの出力パワーが、SLDの線形利得領域において、駆動電流の増加に伴って、指数関数的に増加するようなものであり得る。
導波路構造は、例えば、屈折率導波または利得導波を利用して、内部損失を減少させ得る。
(素子構造および実験結果)
図3(a)は、活性領域302と、活性領域302から放出された光306の光閉じ込めを提供するための導波路構造304a、304bと、第1のファセット308が、第2のファセット310の反対であるように、導波路構造304a、304bの対向端上に第1のファセット308および第2のファセット310を含む、一対のファセットとを備え、第1のファセット308および第2のファセット310は、反対表面極性を有し、第1のファセット308は、粗面化された表面312を有する、非極性または半極性(Ga,In,Al,B)NまたはIII族窒化物系光電子素子300(例えば、SLD)の概略図を示す。粗面化された第1のファセット308は、粗面化されたN−極性平面である表面を有する、c−ファセットであり、第2のファセットは、c+ファセットである。
図3(a)は、活性領域302と、活性領域302から放出された光306の光閉じ込めを提供するための導波路構造304a、304bと、第1のファセット308が、第2のファセット310の反対であるように、導波路構造304a、304bの対向端上に第1のファセット308および第2のファセット310を含む、一対のファセットとを備え、第1のファセット308および第2のファセット310は、反対表面極性を有し、第1のファセット308は、粗面化された表面312を有する、非極性または半極性(Ga,In,Al,B)NまたはIII族窒化物系光電子素子300(例えば、SLD)の概略図を示す。粗面化された第1のファセット308は、粗面化されたN−極性平面である表面を有する、c−ファセットであり、第2のファセットは、c+ファセットである。
III族窒化物の−c、m、a、および+c方向もまた、示され(図3(a)の直線矢印)、素子300は、m−方向に沿って成長される。しかしながら、素子はまた、半極性方向に沿って成長され得る。素子300の成長平面(すなわち、各素子層の上面または最終成長平面)314は、非極性または半極性平面であり得る。例えば、SLDは、III族窒化物のa−平面、またはIII族窒化物のc−平面に近接する、III族窒化物の半極性平面(例えば、20−21または11−21平面)上に製作され得、それによって、非極性または半極性SLDを製作する。
図3(b)は、n−型層316と、p−型層318と、第1の量子障壁層320bと第2の量子井戸障壁層320cとの間に挟入された量子井戸320aを備える活性領域302とを例証する、図3(a)の素子の横方向断面であって、量子井戸層320aの厚さは、4nm超である。
図3(a)の素子は、最初に成長し、ブロック100および(21)に表されるような標準的技法を使用してLDを製作することによって、製作された。具体的には、AlGaN−無クラッドLD構造は、Mitsubishi Chemical Company製バルクm−平面基板(例えば、m−平面GaN)上への標準的金属有機化学蒸着によって成長させた(18)(また、(22)ならびにDaniel F.Feezell、Mathew C.Schmidt、Kwang Choong Kim、Robert M.Farrell、Daniel A.Cohen、James S.Speck、Steven P.Den Baars、およびShuji Nakamuraによる2008年2月12日出願の米国特許出願第12/030,117号「Al(x)Ga(l−x)N−CLADDING−FREE NONPOLAR GAN−BASED LASER DIODE SANDLEDS」(弁理士整理番号第30794.222−US−U1(2007−424)号)参照)。構造は、n−型層316から成った(4−μm厚のSiドープGaNクラッド層に続いて、50nmのSiドープn−型InGaN導波路層304bを含む)。図3(b)は、1つの周期を示すが、活性領域302は、実際には、3つの周期のInGaN/InGaN多重量子井戸構造から成るように製作された(しかしながら、任意の数の量子井戸または任意の量子井戸組成物が可能である、例えば、InGaN/GaN量子井戸)。非意図的にドープされたGaN層が、活性領域302の上に成長され、10−nm厚のMgドープAl0.25Ga0.75N電子遮断層(EBL)が続いた。EBLの後に、p−型層318が続いた(50nmMgドープp−型InGaN導波路層304a、約500−nm厚のMgドープp−型GaNから成る上面クラッド、および100nmMgドープp++接点層キャッピング構造を含む)。4μm幅のストライプまたはリッジ322は、c−方向に沿って、リッジをパターン化およびドライエッチングすることによって、形成された。
標準的リフトオフプロセスが、酸化物絶縁体324のために使用され、カソード電極326のためのPd/Au金属蒸着が続いた。ファセット308、310は、劈開することによって形成され、空洞長500μmをもたらし、インジウムが、背面アノード電極328を形成するために使用された。次いで、第1のファセット308は、ブロック102に表されるように、粗面化された。光306の面内出力パワー330は、c+ファセット310から測定され得る。
図3(c)−(e)は、素子のSEM画像であって、図3(c)は、KOH処理前の素子の−cファセットを、図3(d)は、KOH処理後の−cファセット(図3(a)の素子)を、図3(e)は、KOH処理後の+cファセット(図3(a)の素子)を示し、図3(c)は、表面形態を示すために、40°の角度で撮像された。
SEM画像は、−cファセット上のみの六方晶錐体332の形成を示し、粗面化された表面は、0.1から1.6マイクロメートルのベース直径を有する、1つ以上の六方晶錐体を備える(n−型GaN上では0.3から1.6μm、およびp−型GaN上では100から150nmの六方晶錐体ベース直径範囲)。しかしながら、粗面化された表面は、任意の特定の寸法または特徴に限定されない(例えば、加熱またはPECエッチングを使用して、10マイクロメートル以上のベース直径を含む)。
例えば、図3(f)は、ベース直径334および高さ336を有する、1つ以上の構造(例えば、円錐332)を備え得る、粗面化された表面を示し、ベース直径334は、例えば、10マイクロメートル以上であり得る。ベース直径334および/または高さ336は、構造がSLDから光を散乱する、光の波長に十分に類似し得る。また、図3(f)には、構造が、どのように六方晶ベース340および{10−1−1}平面側壁342を伴う、六方晶錐体338となり得るかが示され、六方晶錐体338は、円錐体332に成形されている。側壁342が、{10−1−1}平面を形成する場合、{10−1−1}平面の角度は、c−平面に対して、62度である。
いくつかの実施形態では、c−ファセット308の表面全体が、円錐体で覆われ、いくつかの実施形態では、円錐体332が大きいほど、より良い。
(素子性能)
図4は、は、異なる駆動電流(mA)に対するスペクトル(光出力強度(任意の単位(任意単位))対ナノメートル(nm)における波長)を示し、図4(a)は、KOH処理前の4μmリッジLD(底の曲線から上の曲線は、それぞれ、駆動電流175mA、190mA、および210mAの場合である)、図4(b)は、面内放出のためのKOH処理後の同一素子(図3(a)の素子)(底の曲線から上の曲線は、それぞれ、駆動電流15mA、45mA、105mA、180mA、255mA、および315mAの場合である)、図4(c)は、KOH処理後の同じ素子(図3(a)の素子)であるが、基板より下方かつ導波路に垂直な放出の場合である。
図4は、は、異なる駆動電流(mA)に対するスペクトル(光出力強度(任意の単位(任意単位))対ナノメートル(nm)における波長)を示し、図4(a)は、KOH処理前の4μmリッジLD(底の曲線から上の曲線は、それぞれ、駆動電流175mA、190mA、および210mAの場合である)、図4(b)は、面内放出のためのKOH処理後の同一素子(図3(a)の素子)(底の曲線から上の曲線は、それぞれ、駆動電流15mA、45mA、105mA、180mA、255mA、および315mAの場合である)、図4(c)は、KOH処理後の同じ素子(図3(a)の素子)であるが、基板より下方かつ導波路に垂直な放出の場合である。
KOH処理前、レージングピークは、190mA(9.05kA/cm2)程度の注入電流で観察され、ピーク波長は、436.8nm、LDの半値全幅強度(FWHM)は、ちょうど閾値を超える190mAで0.3nmである。
スペクトル幅は、導波路内の刺激された放出の存在のため、駆動電流の増加に伴って、KOH処理後の素子に対して狭くなるが、しかしながら、レージングによるスペクトル内の急激なピークは、存在する電流範囲にわたって観察されない。SLDの最小FWHMは、315mAで9nmであり、LDの場合よりほぼ1オーダー大きく、ピーク波長は、439nmであった。
図5は、図3(a)の素子のFWHMを測定し、SLDによって放出された光のFWHMが、粗面化を伴わない素子より少なくとも10倍大きいようなものであり得る、素子の粗面化された表面を例証する(例えば、SLDのFWHMは、LDのFWHMより10倍大きい)。図5では、SLDは、8nmの最小FWHMを示す一方、典型的LDFWHMは、0.2nmである。SLDは、光学空洞内の共振のため、強い波長選択を示さない。
図6は、KOH処理前のLDおよび処理後のSLDのL−I特性を示し(図3(a)の素子)、破線は、LDデータに対する目安の線であり、実線は、SLDデータに対する指数適合である。KOH処理前、L−I曲線は、閾値を上回る出力パワーの線形増加に伴って、非常に急激なレージング閾値を示す。
+cファセットから測定されたSLDの出力パワーは、約5mWに到達した。KOH処理後の出力パワーは、線形利得領域におけるSLDに対して予測されるように、電流の関数として、指数関数的に増加した。
図7では、図7(a)は、検出器設定の概略図を、図7(b)は、+cファセットにおける面内700放出および背面702からの放出に対して測定された電流の関数としてのSLD放出のスペクトル的積分強度(図3(a)の素子を使用)を示し、100mAを超える電流値に対応するデータに適合された指数(面内)および線形(背面)曲線もまた示される。積分強度は、+cファセットにおける面内700(面内)および導波路に垂直な素子下方(背面702)に定置された検出器に連結された光学ファイバを使用して測定された。面内700放出は、自発放出および導波路内の増幅による刺激された放出の両方を備える一方、背面702放出は、基板を通して透過された自発放出のみ測定する。
背面放出からの面内放出の分岐は、100mAをちょうど下回るスーパールミネセンスの発現を示す。これは、導波路に沿って刺激された放出からもたらされる利得によって生じ、測定された面内強度を指数関数的に増加させる一方、自発放出のみから成る、背面放出は、線形のままである。また、スーパールミネセンスの発現より下では、面内および背面放出の両方が、放出機構の変化のため、発現を上より上での適合から線形的に逸脱することに留意されたい。
(Ga,In,Al,B)NSLDは、バルク非極性または半極性基板(例えば、III族窒化物またはGaN基板)上に最良に製作され、これらの基板上のエピタキシャル成長からもたらされる、向上した光学および電気特性を利用するであろう。しかしながら、本発明はまた、任意の基板上に成長されたc−平面ファセットを有する、任意の素子のために使用することもできる。
本発明のSLDの用途は、調整可能ミラー損失高パワー指向性固体照明およびファイバ連結照明を伴う、青色から緑色スペクトル領域内(および可能性として、それを超える)のピコプロジェクタおよび網膜走査ディスプレイのための光源を含むが、それらに限定されない。
(可能な修正)
結晶学的化学エッチングプロセスは、第1のファセット(c−ファセット)を粗面化するために使用され得る。例えば、結晶学的化学エッチングプロセスは、室温で、または加熱して、KOHを使用し得る。しかしながら、結晶学的エッチングをもたらす、他のウェットエッチングプロセスもまた、結晶学的化学エッチングプロセスとして使用することができる。エッチング時間および電解質の濃度は、第1のファセット308の特徴サイズ、密度、および総ファセット粗度を制御するために可変であることができる。
結晶学的化学エッチングプロセスは、第1のファセット(c−ファセット)を粗面化するために使用され得る。例えば、結晶学的化学エッチングプロセスは、室温で、または加熱して、KOHを使用し得る。しかしながら、結晶学的エッチングをもたらす、他のウェットエッチングプロセスもまた、結晶学的化学エッチングプロセスとして使用することができる。エッチング時間および電解質の濃度は、第1のファセット308の特徴サイズ、密度、および総ファセット粗度を制御するために可変であることができる。
したがって、結晶学的エッチングプロセスとしてのPECエッチング技法の使用等、結晶学的エッチングをもたらす任意のエッチング化学作用は、本発明の範囲によってカバーされる。PECエッチング率は、典型的には、上側が適切に保護可能である場合、非照明エッチングより1〜2オーダー倍速く、より高いスループットを提供し得る。
AZ726MIF等のいくつかのフォトレジスト現像液もまた、エッチングプロセスの際(例えば、結晶学的化学エッチングプロセスの際)に使用され得る。例えば、いくつかのフォトレジスト現像液はまた、N−面GaNを結晶学的にエッチングするために使用され得る。N−面GaNの一般化学反応性のため、結晶学的エッチングを生じさせ、また、前述のように、無反射ファセットを形成するためにも使用することができる、他のエッチング化学作用が存在する可能性もある。
したがって、本発明の光電子素子は、活性領域と、活性領域から放出される光の光閉じ込めを提供するための導波路構造と、反対の表面極性を有する素子の対向端上の一対のファセットとを備え得る。素子は、非極性または半極性(Ga,In,Al,B)N系素子であり得る(すなわち、素子の成長平面は、典型的には、非極性または半極性であって、ファセット極性は、典型的には、c+およびc−ファセットに対応する)。
ファセットは、劈開することによって形成され、c+ファセットからの光学出力のための良好な指向性および遠視野像(FFP)を達成し得る。ファセットはまた、ドライエッチング、集束イオンビーム(FIB)系技法、研磨、または他の方法によって形成することもできる。いずれのファセットに対しても、出力ファセットの反射率を増加または減少させるため、あるいは破壊的光学損傷(COD)を抑制するためのファセットコーティングを使用することもできる。
次いで、ファセットのうちの1つは、結晶学的化学エッチングプロセスによって、粗面化されてもよく、粗面化されたファセットは、c−窒素−極性(N−極性)平面である。
導波路構造は、例えば、屈折率導波または利得導波を利用して、内部損失を減少させ得る。
本発明は、反射が多過ぎる場合、+cファセット上に反射防止コーティングを置くという選択肢を含む。正面側のコーティングはまた、素子性能を改良し得る。
また、ストライプ322は、ファセット間で角度付け、両ファセットからの反射をさらに低減させことができ、これは、性能を改良し得る。
(利点および改良点)
本発明は、(Ga,In,Al,B)NSLDにおいて使用するために好適な無反射ファセットを形成するための新規機構である、結晶学的にエッチングされる光抽出円錐体を特徴とする。本ウェットエッチングステップは、標準的LD製作プロセスに追加し、最小プロセス展開によって、SLD製作を可能にすることができる。例えば、本発明は、1つだけの比較的に安価かつ単純な処理ステップの追加によって、任意の非極性(Ga,In,Al,B)NLDプロセスからc−平面劈開ファセットを伴うSLDの製造を可能にする。低反射ファセットを形成する本方法は、ウエハ上の素子充填密度のいかなる犠牲も要求せず、通常レーザ処理と互換性のない任意の処理ステップも要求しない。本技法は、任意の処理ステップの再最適化または変更を必要とすることなく、SLDの製造のために、直接適合された任意の非極性(Ga,In,Al,B)Nレーザプロセスを可能にする。したがって、バッチ系ウェットエッチングステップとしての本技法の産業用途は、他の製作方法と比較して、低コストとなることを期待させる。
本発明は、(Ga,In,Al,B)NSLDにおいて使用するために好適な無反射ファセットを形成するための新規機構である、結晶学的にエッチングされる光抽出円錐体を特徴とする。本ウェットエッチングステップは、標準的LD製作プロセスに追加し、最小プロセス展開によって、SLD製作を可能にすることができる。例えば、本発明は、1つだけの比較的に安価かつ単純な処理ステップの追加によって、任意の非極性(Ga,In,Al,B)NLDプロセスからc−平面劈開ファセットを伴うSLDの製造を可能にする。低反射ファセットを形成する本方法は、ウエハ上の素子充填密度のいかなる犠牲も要求せず、通常レーザ処理と互換性のない任意の処理ステップも要求しない。本技法は、任意の処理ステップの再最適化または変更を必要とすることなく、SLDの製造のために、直接適合された任意の非極性(Ga,In,Al,B)Nレーザプロセスを可能にする。したがって、バッチ系ウェットエッチングステップとしての本技法の産業用途は、他の製作方法と比較して、低コストとなることを期待させる。
SLDは、その比較的に大きなスペクトル幅、指向性出力、および比較的に高パワーのため、ピコプロジェクタおよび網膜走査ディスプレイ(9)のための光源として作用することができる。
本発明は、製造が容易かつ安定した、SLDを製作する利点を提供する。
(参考文献)
以下の参考文献は、参照することによって、本明細書に組み込まれる。
(1) Feezell, D. F.,他、”AlGaN−Cladding−Free Nonpolar InGaN/GaN Laser Diodes,”、Jpn. J. Appl. Phys.,2007年、 Vol. 46, pp. L284−L286
(2) Farrell, R. M.,他、”Continuous−wave Operation of AlGaN−cladding−free Nonpolar m−Plane InGaN/GaN Laser Diodes,”、Jpn. J. Appl. Phys.,2007年、 Vol. 46, pp. L761−L763
(3) Suzuki, Masakatsu、およびUenoyama, Takeshi.”Reduction of Threshold Current Density of Wurtzite GaN/AlGaN Quantum Well Lasers by Uniaxial Strain in (0001) Plane,”、The Japan Society of Applied Physics,Jpn.J. Appl. Phys.,1996年、 Vol. 35, pp. L953−L955
(4) Okamoto, Kuniyoshi,他、”Continuous−Wave Operation of m−Plane InGaN Multiple Quantum Well Laser Diodes,”、The Japan Society of Applied Physics, Japanese Journal of Applied Physics,2007年、 Vol. 46, pp. L187−L189
(5) Gao, Yan,他、”Roughening Hexagonal Surface Morphology on Laser Lift−Off (LLO) N−Face GaN with Simple Photo−Enhanced Chemical Wet Etching,” Jap. J. Appl. Phys.,2004年、 Vol. 43, p. L637
(6) Gao, Y.,他、”Dislocation− and crystallographic−dependent photoelectrochemical wet etching of gallium nitride,”、AIP, Applied Physics Letters,2004年、 Vol. 84, pp. 3322−3324
(7) Lee, Tien−Pei, Burrus, C.、およびMiller, B.、”A stripe−geometry double−heterostructure amplified−spontaneous−emission (superluminescent) diode,”,IEEE J. Quantum. Electron.,1973年、 Vol. 9, pp. 820−828
(8) Fujii, T.,他、”Cone−shaped surface GaN−based light−emitting diodes,”、physica status solidi (c),2005年、 Vol. 2, pp. 2836−2840
(9) Johnston, Richard S.、およびWilley, Stephen R.、”Development of a commercial retinal scanning display,”、 SPIE, Proc. SPIE,1995年、 Vol. 2465, pp. 2−13
(10) Okamoto, Kuniyoshi, Tanaka, Taketoshi、およびKubota, Masashi、”High−Efficiency Continuous− Wave Operation of Blue−Green Laser Diodes Based on Nonpolar m−Plane Gallium Nitride,”、Appl. Phys. Express,2008年、 Vol. 1, p. 072201
(11) Okamoto, Kuniyoshi,他、”Nonpolar m−plane InGaN multiple quantum well laser diodes with a lasing wavelength of 499.8 nm,”、 AIP, Appl. Phys. Lett.,2009年、 Vol. 94, p. 071105
(12) Fujii, T.,他、”Increase in the extraction efficiency of GaN−based light−emitting diodes via surface roughening,”、AIP, Applied Physics Letters,2004年、 Vol. 84, pp. 855−857
(13) Noguchi、他、:米国特許第4,901,123号(1990年2月13日発行)
(14) Nagai、他:米国特許第5,223,722号(1993年6月29日発行)
(15) Jansen、他、:米国特許第4,896,195号(1990年1月23日発行)
(16) Alphonse、他、:米国特許第4,958,355号(1990年9月18日発行)
(17) Matthew T. Hardy, Kathryn M. Kelchner, You−Da Lin, Po Shan Hsu, Kenji Fujito, Hiroaki Ohta, James S. Speck, Shuji Nakamura,およびSteven P. DenBaars、”m−plane GaN−based Blue Superluminescent Diodes Fabricated Using Selective Chemical Wet Etching,”
(18) K. M. Kelchner, Y. D. Lin, M. T. Hardy, C. Y. Huang, P. S. Hsu, R. M. Farrell, D. A. Haeger, H. C. Kuo, F. Wu, K. Fujito, D. A. Cohen, A. Chakraborty, H. Ohta, J. S. Speck, S. NakamuraおよびS. P. DenBaars: Appl. Phys. Express 2 、2009年、 071003
(20) Shuji Nakamuraによるプレゼンテーションスライド、名称「An overview of Laser Diodes (LDs) and Light Emitting Diodes (LEDs) Research at SSLEC」、2009年11月5日、the 2009 Annual Review for Solid State Lighting and Energy Center (SSLEC), University of California, Santa Barbara
(21) Matthew T. Hardyによるプレゼンテーションスライド、名称「Backend Processing for m−plane Cleaved Facet Laser Diodes and Superluminescent Diodes,」、2009年11月6日、the 2009 Annual Review for SSLEC, University of California, Santa Barbara
(22)Kate Kelchnerによるプレゼンテーションスライド、名称「Continuous Wave Technology for Pure Blue Laser Diodes on Nonpolar m−plane GaN,」、the 2009 Annual Review for SSLEC,2009年11月6日, University of California, Santa Barbara
(結論)
ここで、本発明の好ましい実施形態の説明を結論付ける。本発明の1つ以上の実施形態の上述の説明は、例証および説明の目的のために提示されている。本発明を包括的または開示される正確な形態に制限することを意図するものではない。多くの修正例および変形例が、上述の教示に照らして可能である。本発明の範囲は、本発明を実施するための形態によってではなく、本明細書に添付の請求項によって制限されることが意図される。
以下の参考文献は、参照することによって、本明細書に組み込まれる。
(1) Feezell, D. F.,他、”AlGaN−Cladding−Free Nonpolar InGaN/GaN Laser Diodes,”、Jpn. J. Appl. Phys.,2007年、 Vol. 46, pp. L284−L286
(2) Farrell, R. M.,他、”Continuous−wave Operation of AlGaN−cladding−free Nonpolar m−Plane InGaN/GaN Laser Diodes,”、Jpn. J. Appl. Phys.,2007年、 Vol. 46, pp. L761−L763
(3) Suzuki, Masakatsu、およびUenoyama, Takeshi.”Reduction of Threshold Current Density of Wurtzite GaN/AlGaN Quantum Well Lasers by Uniaxial Strain in (0001) Plane,”、The Japan Society of Applied Physics,Jpn.J. Appl. Phys.,1996年、 Vol. 35, pp. L953−L955
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(10) Okamoto, Kuniyoshi, Tanaka, Taketoshi、およびKubota, Masashi、”High−Efficiency Continuous− Wave Operation of Blue−Green Laser Diodes Based on Nonpolar m−Plane Gallium Nitride,”、Appl. Phys. Express,2008年、 Vol. 1, p. 072201
(11) Okamoto, Kuniyoshi,他、”Nonpolar m−plane InGaN multiple quantum well laser diodes with a lasing wavelength of 499.8 nm,”、 AIP, Appl. Phys. Lett.,2009年、 Vol. 94, p. 071105
(12) Fujii, T.,他、”Increase in the extraction efficiency of GaN−based light−emitting diodes via surface roughening,”、AIP, Applied Physics Letters,2004年、 Vol. 84, pp. 855−857
(13) Noguchi、他、:米国特許第4,901,123号(1990年2月13日発行)
(14) Nagai、他:米国特許第5,223,722号(1993年6月29日発行)
(15) Jansen、他、:米国特許第4,896,195号(1990年1月23日発行)
(16) Alphonse、他、:米国特許第4,958,355号(1990年9月18日発行)
(17) Matthew T. Hardy, Kathryn M. Kelchner, You−Da Lin, Po Shan Hsu, Kenji Fujito, Hiroaki Ohta, James S. Speck, Shuji Nakamura,およびSteven P. DenBaars、”m−plane GaN−based Blue Superluminescent Diodes Fabricated Using Selective Chemical Wet Etching,”
(18) K. M. Kelchner, Y. D. Lin, M. T. Hardy, C. Y. Huang, P. S. Hsu, R. M. Farrell, D. A. Haeger, H. C. Kuo, F. Wu, K. Fujito, D. A. Cohen, A. Chakraborty, H. Ohta, J. S. Speck, S. NakamuraおよびS. P. DenBaars: Appl. Phys. Express 2 、2009年、 071003
(20) Shuji Nakamuraによるプレゼンテーションスライド、名称「An overview of Laser Diodes (LDs) and Light Emitting Diodes (LEDs) Research at SSLEC」、2009年11月5日、the 2009 Annual Review for Solid State Lighting and Energy Center (SSLEC), University of California, Santa Barbara
(21) Matthew T. Hardyによるプレゼンテーションスライド、名称「Backend Processing for m−plane Cleaved Facet Laser Diodes and Superluminescent Diodes,」、2009年11月6日、the 2009 Annual Review for SSLEC, University of California, Santa Barbara
(22)Kate Kelchnerによるプレゼンテーションスライド、名称「Continuous Wave Technology for Pure Blue Laser Diodes on Nonpolar m−plane GaN,」、the 2009 Annual Review for SSLEC,2009年11月6日, University of California, Santa Barbara
(結論)
ここで、本発明の好ましい実施形態の説明を結論付ける。本発明の1つ以上の実施形態の上述の説明は、例証および説明の目的のために提示されている。本発明を包括的または開示される正確な形態に制限することを意図するものではない。多くの修正例および変形例が、上述の教示に照らして可能である。本発明の範囲は、本発明を実施するための形態によってではなく、本明細書に添付の請求項によって制限されることが意図される。
Claims (35)
- 非極性または半極性III族窒化物系光電子素子であって、
活性領域と、
該活性領域から放出される光の光閉じ込めを提供するための導波路構造と、
該導波路構造の対向端上の第1のファセットおよび第2のファセットと
を備え、該第1のファセットおよび該第2のファセットは、反対表面極性を有し、該第1のファセットは、粗面化された表面を有する、素子。 - 前記第1のファセットは、前記III族窒化物素子の粗面化されたc−ファセット、c−平面、またはN−面を備え、前記第2のファセットは、前記III族窒化物素子のc+ファセット、c+平面、III−面、またはGa面である、請求項1に記載の素子。
- 前記粗面化された表面は、ウェットエッチングされた表面である、請求項2に記載の素子。
- 前記粗面化された表面は、結晶学的にエッチングされた表面である、請求項2に記載の素子。
- 前記粗面化された表面は、光電気化学的(PEC)にエッチングされた表面である、請求項2に記載の素子。
- 前記粗面化された表面は、粗面化された劈開表面であり、前記第2のファセットは、劈開表面を有する、請求項2に記載の素子。
- 前記粗面化された表面は、前記導波路構造の面内c−軸に沿う光学フィードバックを防止する、請求項2に記載の素子。
- 前記粗面化された表面は、1つ以上の構造を備え、該構造は、前記導波路から光を散乱させるように、光の波長に十分に近い直径および高さを有する、請求項2に記載の素子。
- 前記粗面化された表面は、0.1から10マイクロメートルの直径を有する1つ以上の六方晶錐体を備える、請求項2に記載の素子。
- 少なくとも5ミリワットの出力パワーを有する、請求項2に記載の素子。
- 前記素子は、スーパールミネセントダイオード(SLD)である、請求項2に記載の素子。
- 前記粗面化された表面は、前記SLDの出力パワーが、該SLDの線形利得領域において、駆動電流の増加に伴って、指数関数的に増加するようなものである、請求項11に記載の素子。
- 前記粗面化された表面は、前記SLDによって放出される光の半値全幅が、粗面化を伴わない場合よりも少なくとも10倍大きいようなものである、請求項11に記載の素子。
- 前記SLDは、青色光を放出し、前記粗面化された表面は、光の半値全幅が、9nmを上回るようなものである、請求項11に記載の素子。
- 前記導波路構造は、屈折率導波または利得導波を利用することにより、内部損失を減少させる、請求項1に記載の素子。
- 非極性または半極性III族窒化物系光電子素子を製作する方法であって、
第1の非極性または半極性III族窒化物系光電子素子を得ることであって、該第1の非極性または半極性III族窒化物系光電子素子は、活性領域と、該活性領域から放出される光の光閉じ込めを提供するための導波路構造と、該導波路構造の対向端上の第1のファセットおよび第2のファセットとを備え、該第1のファセットおよび該第2のファセットは、反対表面極性を有する、ことと、
該第1のファセットの表面を粗面化し、それによって、第2の非極性または半極性III族窒化物系光電子素子を製作することと
を含む、方法。 - 前記第1のファセットは、前記III族窒化物素子の粗面化されたc−平面、c−ファセット、またN−面を備え、前記第2のファセットは、前記III族窒化物素子のc+ファセット、c+平面、Ga面、またはIII−面である、請求項16に記載の方法。
- 前記粗面化することは、結晶学的エッチングをもたらすウェットエッチングによる、請求項17に記載の方法。
- 前記ウェットエッチングにおいて使用されるエッチング時間および電解質の濃度は、前記第1のファセットの特徴サイズ、密度、および総ファセット粗度を制御するために変えられる、請求項18に記載の方法。
- 前記粗面化することは、結晶学的化学エッチングプロセスによる、請求項17に記載の方法。
- 前記結晶学的化学エッチングプロセスは、室温で、または加熱して、KOHを使用する、請求項20に記載の方法。
- AZ726MIFを含むフォトレジスト現像液が、前記結晶学的化学エッチングプロセス中に使用される、請求項20に記載の方法。
- 前記粗面化することは、光電気化学的(PEC)エッチングによる、請求項17に記載の方法。
- 前記第1および第2ファセットは、前記粗面化することに先立って、劈開することによって形成され、その結果、該第2のファセットは、劈開表面を有し、前記粗面化された表面は、劈開した該第1のファセットを粗面化することによって形成される、請求項17に記載の方法。
- 前記第1のファセットおよび第2のファセットは、前記粗面化することに先立って、ドライエッチング、集束イオンビーム(FIB)系技法、または研磨することによって、形成される、請求項17に記載の方法。
- 前記粗面化された表面は、前記導波路構造の面内c−軸に沿う光学フィードバックを防止する、請求項17に記載の方法。
- 前記粗面化された表面は、1つ以上の構造を備え、該構造は、前記導波路から光を散乱させるように、前記光の波長に十分に近い直径および高さを有する、請求項17に記載の方法。
- 前記粗面化された表面は、0.1から10マイクロメートルの直径を有する1つ以上の六方晶錐体を備える、請求項17に記載の方法。
- 少なくとも5ミリワットの出力パワーを有する、請求項17に記載の方法。
- 前記粗面化することに先立つ最初の前記素子は、レーザダイオードであり、粗面化した後の前記第2の素子は、スーパールミネセントダイオード(SLD)である、請求項17に記載の方法。
- 前記粗面化された表面は、前記SLDの出力パワーが、該SLDの線形利得領域において、駆動電流の増加に伴って、指数関数的に増加するようなものである、請求項30に記載の方法。
- 前記粗面化された表面は、前記SLDによって放出される光の半値全幅が、前記粗面化することを伴わない場合よりも少なくとも10倍大きいようなものである、請求項30に記載の方法。
- 前記SLDは、青色光を放出し、前記粗面化された表面は、光の半値全幅が、9nmを上回るようなものである、請求項30に記載の方法。
- 前記導波路構造は、屈折率導波または利得導波を利用することにより、内部損失を減少させる、請求項17に記載の方法。
- スーパールミネセントダイオード(SLD)であって、
非極性GaN上に成長された(Ga,In,Al,B)Nレーザダイオード(LD)の構造を備え、該LD構造のc−ファセットは、結晶学的にエッチングされている、
SLD。
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