JP2013258181A - 多結晶シリコン膜の検査方法及びその装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】多結晶シリコン膜の膜厚の変動の影響を受けることなく、多結晶シリコン膜の結晶の状態を検査することを可能にする。
【解決手段】表面に多結晶シリコン膜が形成された基板に光を照射し、光が照射された多結晶シリコン膜の表面から発生する1次回折光の像を撮像し、光が照射された多結晶シリコン膜が形成された基板を透過した光を検出し、撮像して得た1次回折光の像を処理して多結晶シリコン膜の画像を形成し、検出した透過光の情報に基づいて形成された画像の補正量を求め、この求めた画像補正量に基づいて形成した画像を補正し、この補正された多結晶シリコン膜の画像を画面上に表示する多結晶シリコン膜の検査方法及びその装置とした。
【選択図】図7
【解決手段】表面に多結晶シリコン膜が形成された基板に光を照射し、光が照射された多結晶シリコン膜の表面から発生する1次回折光の像を撮像し、光が照射された多結晶シリコン膜が形成された基板を透過した光を検出し、撮像して得た1次回折光の像を処理して多結晶シリコン膜の画像を形成し、検出した透過光の情報に基づいて形成された画像の補正量を求め、この求めた画像補正量に基づいて形成した画像を補正し、この補正された多結晶シリコン膜の画像を画面上に表示する多結晶シリコン膜の検査方法及びその装置とした。
【選択図】図7
Description
本発明は、基板上に形成したアモルファスシリコン膜をレーザアニールにより多結晶化させた多結晶シリコン膜の結晶の状態を検査する方法及びその装置に関する。
液晶表示素子や有機EL素子などに用いられる薄膜トランジスタ(TFT)は、高速な
動作を確保するために、基板上に形成したアモルファスシリコンの一部をエキシマレーザ
で低温アニールすることにより多結晶化した領域に形成されている。
動作を確保するために、基板上に形成したアモルファスシリコンの一部をエキシマレーザ
で低温アニールすることにより多結晶化した領域に形成されている。
このように、アモルファスシリコンの一部をエキシマレーザで低温アニールして多結晶
化させる場合、均一に多結晶化させることが求められるが、実際には、レーザ光源の変動
の影響により結晶にばらつきが生じてしまう場合がある。
化させる場合、均一に多結晶化させることが求められるが、実際には、レーザ光源の変動
の影響により結晶にばらつきが生じてしまう場合がある。
そこで、このシリコン結晶のばらつきの発生状態を監視する方法として、特許文献1に
は、パルスレーザを半導体膜に照射してレーザアニールを行うとともにレーザ照射領域に
検査光を照射し、照射した検査光による基板からの反射光を検出し、この反射光の強度変
化から半導体膜の結晶化の状態を確認することが記載されている。
は、パルスレーザを半導体膜に照射してレーザアニールを行うとともにレーザ照射領域に
検査光を照射し、照射した検査光による基板からの反射光を検出し、この反射光の強度変
化から半導体膜の結晶化の状態を確認することが記載されている。
また、特許文献2には、レーザを照射前の非晶質シリコンに検査光を照射してその反射
光又は透過光を検出しておき、レーザを非晶質シリコンに照射中にも検査光を照射してそ
の反射光又は透過光を検出し、レーザ照射前とレーザ照射中の反射光又は透過光の強度の
差が最大になったときからレーザ照射前の反射光又は透過光の強度に戻るまでの経過時間
を検出して、レーザアニールの状態を監視することが記載されている。
光又は透過光を検出しておき、レーザを非晶質シリコンに照射中にも検査光を照射してそ
の反射光又は透過光を検出し、レーザ照射前とレーザ照射中の反射光又は透過光の強度の
差が最大になったときからレーザ照射前の反射光又は透過光の強度に戻るまでの経過時間
を検出して、レーザアニールの状態を監視することが記載されている。
更に、特許文献3には、基板上に形成された非晶質シリコンをエキシマレーザアニール
により多結晶シリコンに変化させた領域に可視光を基板表面に対して10−85度の方向
から照射し、照射と同じ角度の範囲に接地したカメラで反射光を検出し、この反射光の変
化から結晶表面の突起の配置の状態を検査することが記載されている。
により多結晶シリコンに変化させた領域に可視光を基板表面に対して10−85度の方向
から照射し、照射と同じ角度の範囲に接地したカメラで反射光を検出し、この反射光の変
化から結晶表面の突起の配置の状態を検査することが記載されている。
更に、特許文献4には、アモルファスシリコン膜にエキシマレーザを照射して形成した
多結晶シリコン膜に検査光を照射して多結晶シリコン膜からの回折光を回折光検出器
でモニタリングし、多結晶シリコン膜の結晶性が高い規則的な微細凹凸構造の領域から
発生した回折光の強度が結晶性の低い領域からの回折・散乱光の強度に比べて高いことを
利用して、多結晶シリコン膜の状態を検査することが記載されている。
多結晶シリコン膜に検査光を照射して多結晶シリコン膜からの回折光を回折光検出器
でモニタリングし、多結晶シリコン膜の結晶性が高い規則的な微細凹凸構造の領域から
発生した回折光の強度が結晶性の低い領域からの回折・散乱光の強度に比べて高いことを
利用して、多結晶シリコン膜の状態を検査することが記載されている。
更に、特許文献5には、アモルファスシリコン膜にエキシマレーザを照射して形成した多結晶シリコン膜に基板の裏面からレーザを照射して、基板の表面側で発生した1次回折句を検出して、多結晶シリコン膜の結晶の状態を検査する装置とその方法について記載されている。
液晶表示素子や有機EL素子などに用いられる薄膜トランジスタ(TFT)は、高速な動作を確保するために、基板上に形成したアモルファスシリコンの薄膜の一部にエキシマレーザを照射してアニールすることにより多結晶化した領域に形成される。
このエキシマレーザを照射しアニールして形成した多結晶シリコン膜(ポリシリコン膜)の表面には、微細な凹凸がある周期で発生することが知られている。そして、この微細な突起は、多結晶シリコン膜の結晶性の度合いを反映しており、結晶状態が均一な(多結晶粒径がそろっている)多結晶シリコン膜の表面には微細な凹凸がある規則性をもって周期的に形成され、結晶状態の均一性が低い(多結晶粒径が不ぞろいな)多結晶シリコン膜の表面には微細な凹凸が不規則に形成されることが知られている。
このエキシマレーザを照射しアニールして形成した多結晶シリコン膜(ポリシリコン膜)の表面には、微細な凹凸がある周期で発生することが知られている。そして、この微細な突起は、多結晶シリコン膜の結晶性の度合いを反映しており、結晶状態が均一な(多結晶粒径がそろっている)多結晶シリコン膜の表面には微細な凹凸がある規則性をもって周期的に形成され、結晶状態の均一性が低い(多結晶粒径が不ぞろいな)多結晶シリコン膜の表面には微細な凹凸が不規則に形成されることが知られている。
このように、結晶の状態が反射光に反映される多結晶シリコン膜の表面状態を検査する方法として、特許文献1にはレーザアニールした領域に照射した光の反射光の強度変化から半導体膜の結晶化の状態を確認することが記載されているだけで、結晶の状態が反映されている回折光を検出することについては記載されていない。
また、特許文献2には、レーザアニール中のレーザ照射領域からの反射光をアニール前の反射光と比較してアニールの進行状態をモニタするものであって、特許文献1と同様に結晶の状態が反映されている回折光を検出することについては記載されていない。
一方、特許文献3には、レーザアニールによって形成される多結晶シリコン膜表面の突起の配置により反射する光の変化によって多結晶シリコンの結晶の品質を検査することが記載されているが、多結晶シリコン膜表面の突起により発生する回折光を検出することについては記載されていない。
更に、特許文献4には、レーザアニールによって形成される多結晶シリコン膜表面の突起により発生する回折光を検出することについては記載されているが、回折光検出器で検出した回折光の強度レベルをモニタして多結晶シリコン膜の状態を検査するものであって、多結晶シリコン膜の表面の画像を検出して多結晶シリコン膜の表面のある領域の突起の状態を観察することについては記載されていない。
更に、特許文献5には、レーザアニールによって形成される多結晶シリコン膜表面の突起により発生する回折光を検出することについては記載されているが、多結晶シリコン膜の膜厚の変動により回折光強度に変化が生じることの影響については考慮されていない。
本発明は、上記した従来技術の課題を解決して、多結晶シリコン膜の膜厚の変動の影響を受けることなく、多結晶シリコン膜の結晶の状態を検査することを可能にする多結晶シリコン薄膜の検査方法及びその装置を提供するものである。
上記した課題を解決するために、本発明では、多結晶シリコン膜検査装置を、表面に多結晶シリコン膜が形成された基板に光を照射する光照射手段と、この光照射手段により光が照射された多結晶シリコン膜の表面から発生する1次回折光の像を撮像する撮像手段と、光照射手段により光が照射された多結晶シリコン膜が形成された基板を透過した光を検出する透過光検出手段と、撮像手段で撮像して得た1次回折光の像を処理して多結晶シリコン膜の画像を形成する画像形成手段と、透過光検出手段で検出した透過光の情報に基づいて画像形成手段で形成された画像の補正量を求める画像補正量算出手段と、この画像補正量算出手段で求めた画像補正量に基づいて画像形成手段で形成された画像を補正する画像補正手段と、この画像補正手段で補正された多結晶シリコン膜の画像を画面上に表示する表示手段とを備えて構成した。
また、上記した課題を解決するために、本発明では、多結晶シリコン膜検査方法において、表面に多結晶シリコン膜が形成された基板に光を照射し、光が照射された多結晶シリコン膜の表面から発生する1次回折光の像を撮像し、光が照射された多結晶シリコン膜が形成された基板を透過した光を検出し、撮像して得た1次回折光の像を処理して多結晶シリコン膜の画像を形成し、検出した透過光の情報に基づいて形成された画像の補正量を求め、この求めた画像補正量に基づいて形成した画像を補正し、この補正された多結晶シリコン膜の画像を画面上に表示するようにした。
本発明によれば、エキシマレーザでアニールされて形成された多結晶シリコン膜の結晶の状態を、多結晶シリコン膜の結晶の状態を膜厚のばらつきの影響を受けることなく検査することが可能になった。また、多結晶シリコン膜の結晶の状態と膜厚のばらつきの状態とを同時に検査することができるようになった。
本発明の実施の形態として、液晶表示パネル用ガラス基板に形成した多結晶シリコン薄膜を検査する装置に適用した例を説明する。
検査対象の液晶表示パネル用ガラス基板(以下、基板と記す)には、基板上にアモルファスシリコンの薄膜が形成されている。そのアモルファスシリコンの薄膜の一部の領域にエキシマレーザを照射して走査することにより、エキシマレーザが照射された部分のアモルファスシリコンを加熱して溶融し(アニール)、エキシマレーザが走査された後、溶融したアモルファスシリコンが徐々に冷却されて多結晶化し、多結晶シリコンの状態に結晶が成長する。
図1のグラフには、エキシマレーザでアモルファスシリコンをアニールするときのエキシマレーザの照射エネルギと多結晶シリコンの結晶粒径の概略の関係を示す。アニール時のエキシマレーザの照射エネルギを大きくすると多結晶シリコンの結晶粒径も大きくなる。
アニール時のエキシマレーザの照射エネルギが弱い(図1の範囲A)場合には、図2Aに示すように多結晶シリコン膜の結晶201の粒径が小さく、かつ、ばらつきが大きい状態となってしまう。このような結晶状態では、多結晶シリコン膜として安定した特性を得ることができない。
これに対して、アニール時のエキシマレーザのエネルギを適切な範囲(図1の範囲B)に設定すると、図2Bに示すように結晶202の粒径が比較的揃った多結晶シリコン膜が形成される。このように、結晶粒径が揃った状態に膜が得られると、多結晶シリコン膜として安定した特性を得ることができる。
アニール時のエキシマレーザの照射エネルギを更に上げていくと(図1の範囲C)、多結晶シリコンの結晶粒径が大きくなっていく。しかし、照射エネルギを大きくすると結晶粒の成長速度のばらつきが大きくなり、図2Cに示すように結晶203の粒径のばらつきが大きな多結晶シリコン膜となってしまい、多結晶シリコン膜として安定した特性を得ることができない。
従って、アモルファスシリコンに照射するエキシマレーザのエネルギを図1のBの範囲に安定に維持することが重要になる。
一方、特許文献3に記載されているように、アモルファスシリコンをエキシマレーザでアニールして形成した多結晶シリコン膜には、結晶粒界に微小な突起が形成されることが知られている。
このような多結晶シリコン膜301が形成されたガラス基板303に、図3に示すように裏側に配置した光源310から光を照射すると、多結晶シリコン膜301の結晶粒界の微小な突起302で散乱された光によりガラス基板303の表面の側に回折光が発生する。この回折光が発生する位置は、光源310から照射する光の波長や多結晶シリコン膜301の結晶粒界に形成される微小な突起302のピッチによって異なる。
図3に示した構成において、基板300を照射する光の波長をλ、多結晶シリコン膜301の結晶粒界に形成される微小な突起302のピッチをP,基板300を照射する光の基板300の法線方向からの角度をθi、基板300から発生する1次回折光の基板300の法線方向からの角度をθoとすると、それらの間には、
sinθi+sinθo=λ/P ………(数1)
という関係が成り立つ。
sinθi+sinθo=λ/P ………(数1)
という関係が成り立つ。
従って、多結晶シリコン膜301の結晶粒界に微小な突起302が所定のピッチPで形成されている状態で、光源310から出射して角度θiの方向から照射された波長λの光により発生する1次回折光を、角度θoの位置に配置した撮像カメラ320で観察することにより、多結晶シリコン膜301からの1次回折光を観察することができる。
一方、多結晶シリコン膜301の結晶粒径は、図1に示したようにアニール時のエキシマレーザの照射エネルギに依存し、図1のエキシマレーザの照射エネルギがA,B及びCの領域では、結晶粒径がエキシマレーザの照射エネルギの増加に伴って大きくなる。従って、アニール時にエキシマレーザの照射エネルギが変動すると、多結晶シリコン膜301の結晶粒径が変化すると共に図2A乃至図2Cで説明したように粒径のばらつきが大きくなる。この結晶粒径が変化して微小な突起302のピッチのばらつきが大きくなった状態の多結晶シリコン膜301に光源310から光を照射した場合、多結晶シリコン膜301から発生する1次回折光の進行方向が変化すると主にその強度が低下してしまうために、図4に示すように撮像カメラ320で検出される1次回折光の輝度が減少する。
一方、多結晶シリコン膜301の結晶粒径がそろっていて突起のピッチのばらつきが小さい場合であっても、多結晶シリコン膜301の膜厚が変化すると、ガラス基板303の裏面側から照射した光の透過量が変化して、撮像カメラ320で検出される1次回折光の輝度が変化する。これを図で表すと、図5のようになる。すなわち、膜厚が厚くなるに従い、多結晶シリコン膜301から発生する1次回折光の強度が弱くなっていく。
本発明では、多結晶シリコン膜を照明して膜表面の微小な突起により発生する回折光の像を撮像し、撮像して得た回折光の画像を処理することにより、基板上に多結晶シリコン膜が結晶の粒径がそろった状態の正常な膜として形成されているかどうかを検査して多結晶シリコン膜の結晶の状態を評価する方法及びその装置において、多結晶シリコン膜の膜厚の変化の影響を受けることなく結晶粒径を評価できるようにした、多結晶シリコン膜の検査方法及びその装置を提供するものである。
以下に、本発明の実施例を図を用いて説明する。
以下に、本発明の実施例を図を用いて説明する。
本発明に係る液晶表示パネル用ガラス基板の多結晶シリコン膜検査装置600の全体の構成を図6に示す。
多結晶シリコン膜検査装置600は、基板ロード部610、検査部620、基板アンロード部630、検査部データ処理・制御部640及び全体制御部650で構成されている。
検査対象の液晶表示パネル用ガラス基板(以下、基板と記す)300は、ガラス基板303上に形成されたアモルファスシリコンの薄膜に、本検査工程の直前の工程で一部の領域にエキシマレーザを照射して走査し加熱することにより、加熱された領域がアニールされてアモルファスの状態から結晶化し、図3に示したように、多結晶シリコン膜301の状態になる。多結晶シリコン膜検査装置600は、基板300の表面を撮像して、この多結晶シリコン膜301が正常に形成されているかどうかを調べるものである。
検査対象の基板300は、図示していない搬送手段でロード部610にセットされる。ロード部610にセットされた基板300は、全体制御部650で制御される図示していない搬送手段により検査部620へ搬送される。検査部には検査ユニット621が備えられており、検査データ処理・制御ユニット640で制御されて基板300の表面に形成された多結晶シリコン膜の状態を検査する。検査ユニット621で検出されたデータは検査データ処理・制御ユニット640で処理されて、基板300の表面に形成された多結晶シリコン膜301の状態が評価される。
検査が終わった基板300は、全体制御部650で制御される図示していない搬送手段により検査部620からアンロード部630に搬送され、図示していないハンドリングユニットにより検査装置600から取り出される。なお、図6には、検査部620に検査ユニット621が1台備えられている構成を示しているが、検査対象の基板300のサイズや形成される多結晶シリコン膜301の面積や配置に応じて2台であっても、又は3台以上であっても良い。
検査部620における検査ユニット621の構成を図7に示す。
本実施例においては、照明系を基板の表面側に配置し検出系を基板の裏面側に配置してそれぞれの装置配置上の自由度を大きくするような構成にした。
本実施例においては、照明系を基板の表面側に配置し検出系を基板の裏面側に配置してそれぞれの装置配置上の自由度を大きくするような構成にした。
検査ユニット621は、照明光学系710、撮像用カメラ720、透過光検出用カメラ730、基板ステージ部740、検査部データ処理部750、入出力部760、及び制御部770で構成されており、制御部750は図6に示した全体制御部650と接続している。
照明光学系710は、波長λの光を発射する光源711、光源711から発射された波長λの光を集光して線状の光に成形して基板ステージ部741に保持されているガラス基板300に照射するシリンドリカルレンズ712を備えている。
波長λの光は、300nm〜700nmの範囲の波長の光であり、光源711には、例えば、レーザダイオードを用いる。
シリンドリカルレンズ712は、光源711から発射された波長λの光を、基板300上の検査領域の大きさに合わせて効率よく照明できるように照明光束を一方向に集光させて断面形状が一方向に長い線状の形状に成形する。シリンドリカルレンズ712で一方向に集光した光を基板300に、法線方向に対してθ1の角度方向から照射することにより、基板300上の検査領域の照明光量が増加し、撮像光学系720でコントラストの高い画像を検出することができる。
撮像用カメラ720は、照明光が照射された基板300から発生する1次回折光による像を撮像する。
撮像用カメラ720は、基板300の法線方向に対してθ2傾いた角度方向に設置されている。撮像用カメラ720は、シリンドリカルレンズ712により成形された波長λの光が照明された基板300の表面の一方向に長い領域に存在する多結晶シリコン膜301の結晶粒界にピッチP1で形成された微小突起302からの1次回折光による光学像を撮像する。撮像用カメラ720は、基板300の照明された一方向に長い領域の像に合わせて配置された1次元のCCD(電化結合素子)イメージセンサ(図示せず)、又は2次元のCCDイメージセンサ(図示せず)を備えている。
すなわち、撮像用カメラ720の傾き角度θ2は、多結晶シリコン膜301の結晶粒界の微小突起302のピッチP1と、照明光の波長λ、及び照明光の基板300への入射角度θ1により、数1の関係に基づいて決まる。
透過光検出用カメラ730は、光源711から発射されて基板300を透過した光を検出する。
透過光検出用カメラ730は、光源711から発射されて基板300を透過した光を検出する。
基板ステージ部740は、駆動手段742によりXY平面内で移動可能なステージ741の上面に検査対照の基板300を載置して保持する。駆動手段742は、例えばステッピングモータ又はロータリエンコーダが備えられたサーボモータを用いればよい。
検査データ処理部750は、撮像用カメラ720から出力されるアナログ画像信号をデジタル画像信号に変換するA/D変換部751、透過光検出用カメラ730から出力される透過光のアナログ画像信号をデジタル画像信号に変換するA/D変換部752、A/D変換部751と752とでA/D変換されたデジタル画像信号を前処理して1次回折光像を作成する画像処理部753、透過光検出用カメラ730から出力された信号を処理して透過光の光量を求め、この透過光の光量と予め記憶しておいた透過光量と画像補正値との関係から、撮像用カメラ720で撮像して得た画像の補正量を求める画像補正値算出部754、この画像補正値算出部754で算出した画像の補正量に基づいて撮像用カメラ720で撮像して画像処理部752で処理された1次回折光像の画像を補正して基板300上に形成された多結晶シリコン膜の結晶の大きさの分布を求めて画像化する処理判定部755、処理判定部755で処理された結果を表示する表示部761を備えた入出力部760、光源711の電源部772、基板ステージ部740の駆動手段742を制御する駆動手段制御部773、及び、検査データ処理部750と出力部760と電源部772と駆動手段制御部773とを制御する制御部771とを備えている。
また、制御部771は全体制御部650と接続されている。
また、制御部771は全体制御部650と接続されている。
このような構成で、照明光学系710は基板ステージ741に載置された基板300を裏面側から照明し、基板300を透過した光により発生した1次回折光の像を撮像用カメラ720で撮像すると共に、透過光検出用カメラ730で基板300を透過した光を検出し、検査データ処理750で処理して基板300上に形成された多結晶シリコン膜301の結晶粒径の分布を求める。
次に、図7に示した構成の検査ユニット621を用いて基板300上のエキシマレーザでアニールされて多結晶化した多結晶シリコン膜301の結晶粒径の分布の状態を検査する方法について説明する。
先ず、エキシマレーザのアニールにより基板300上に形成された多結晶シリコン膜301の検査領域を検査する処理の流れを説明する。検査処理には、基板300の所定の領域又は全面を撮像する撮像シーケンスと、撮像して得た画像を処理する画像処理のシーケンスとがある。
先ず、撮像シーケンスについて図8を用いて説明する。
最初に、多結晶シリコン膜301の検査領域の検査開始位置が撮像光学系のカメラ720の視野に入るように駆動手段制御部773で駆動手段742を駆動して基板ステージ741の位置を制御し、基板300を初期位置(検査開始位置)に設定する(S801)。
最初に、多結晶シリコン膜301の検査領域の検査開始位置が撮像光学系のカメラ720の視野に入るように駆動手段制御部773で駆動手段742を駆動して基板ステージ741の位置を制御し、基板300を初期位置(検査開始位置)に設定する(S801)。
次に、電源制御部772で光源711を制御して、シリンドリカルレンズ712により線状に成形された波長λの光をθ1の入射角度で基板300上の多結晶シリコン膜301に照射する(S802)。照明光学系710により波長λの光が照明された多結晶シリコン膜301の検査領域に沿って撮像用カメラ720の撮像領域が移動するように、駆動手段制御部773で駆動手段742を制御して基板ステージ741を一定の速度での移動を開始する(S803)。
基板ステージ741を一定の速度で移動させながら、照明光学系710のシリンドリカルレンズ712により線状に成形されてθ1の角度で入射した波長λの光により照明された多結晶シリコン膜301の一方向に長い検査領域の結晶粒界の微小突起302からθ2の方向に発生した1次回折光による光学像を撮像用カメラ720で撮像する(S804)。又、このとき同時に、波長λの光により照明されて多結晶シリコン膜301を透過した光を透過光検出用カメラ730で撮像する(S805)。
基板ステージ741を一定の速度で移動させながら、照明光学系710のシリンドリカルレンズ712により線状に成形されてθ1の角度で入射した波長λの光により照明された多結晶シリコン膜301の一方向に長い検査領域の結晶粒界の微小突起302からθ2の方向に発生した1次回折光による光学像を撮像用カメラ720で撮像する(S804)。又、このとき同時に、波長λの光により照明されて多結晶シリコン膜301を透過した光を透過光検出用カメラ730で撮像する(S805)。
波長λの光の1次回折光による光学像を撮像した撮像用カメラ720からの画像信号と多結晶シリコン膜301の透過光を撮像した透過光検出用カメラ730からの画像信号とは、それぞれ検査データ処理部750で処理されてデジタル画像が作成される(S806)。以上の操作をX方向又はY方向に沿った1ライン分の検査が終了するまで繰り返して実行する(S807)。
次に、検査した1ライン分の領域に隣接する検査領域が有るか否かをチェックし(S808)、隣接する未検査領域が有る場合には、基板ステージ741を隣接する検査領域に移動させて(S809)、S803からのステップを繰り返す。検査すべき領域が全て検査を終了するとXYテーブルの移動を停止し(S810),電源制御部772で光源711を制御することにより照明を消して(S811)撮像シーケンスを終了する。
次に、S806の撮像シーケンスで得られたデジタル画像を処理する画像処理シーケンスについて図9を用いて説明する。
撮像シーケンスのデジタル画像作成ステップ(S806)において、撮像用カメラ720からの画像信号と透過光検出用カメラ730からの画像信号とは、それぞれA/D変換器751,752に入力してデジタル画像信号に変換される。A/D変換された撮像用カメラ720からの画像信号は、画像処理部753でシェーディング補正などの前処理が施されてデジタル画像が生成され、処理判定部755に入力される(S901)。
一方、A/D変換された透過光検出用カメラ730からの信号は、画像補正値算出部に入力して(S902)、予め求めておいた図10に示すような透過光検出光量と多結晶シリコン膜の膜厚との関係から、膜厚が求められる(S903)。次に、予め求めておいた図11に示すような多結晶シリコン膜の膜厚と1次回折光のコントラスト強度との関係から、S902で求めた膜厚のデータから、S901で判定処理部755に入力された画像のコントラスト補正値を求める(S904)。
判定処理部755では、S904で求めたコントラスト補正値に基づいてS901で入力した画像のコントラストを補正する画像補正処理を実行し(S905)、これを基板の所定の領域に対して行うことにより、輝度分布図を作成し、この作成した輝度分布図を小領域に分けて各領域ごとに画像特徴量(輝度、コントラストなど)を求め、この特徴量を予め設定した基準値と比較して欠陥領域を抽出する(S906)。
一方、S903において膜厚を求めることを基板の所定の領域に亘って行うことにより、膜厚の分布図を作成する(S907)。最後に、S906で抽出した欠陥領域が表示された輝度分布図とS907で作成した膜厚の分布図とを同時に、又はどちらか一方ずつを入出力部760の表示部761に表示して(S908)、画像処理のシーケンスを終了する。
このように、多結晶シリコン膜の膜厚に応じて1次回折光画像のコントラストを補正して表示することにより、膜厚の分布の影響を受けない1次回折光の強度分布の画像を表示できるようになり、1次回折光の強度分布をより正確にとらえることができるようになった。
次に、実施例2に係る液晶表示パネル用ガラス基板の多結晶シリコン膜検査装置について、説明する。
本実施例においては、照明光学系と、透過光検出用カメラの配置を実施例1の場合と逆にした点が、実施例1と異なる。
本実施例においては、照明光学系と、透過光検出用カメラの配置を実施例1の場合と逆にした点が、実施例1と異なる。
実施例2における液晶表示パネル用ガラス基板の多結晶シリコン膜検査装置の全体の構成は、実施例1において図6を用いて説明した構成と同じである。
本実施例においては、検査ユニット621の構成が、実施例1で説明した検査ユニット621と異なる。
本実施例における検査ユニット621と検査データ処理・制御ユニット640の構成を、図12に示す。本実施例における検査ユニット621は、照明光学系1210と1次回折光の像を撮像する撮像用カメラ1220とを基板ステージ部1240の基板ステージ1241に保持されている基板300の表側に配置し、透過光検出用カメラ1230を基板300の裏面側に配置した構成となっている。
また、本実施例における検査データ処理・制御ユニット640は、検査部データ処理部1250、入出力部1260、及び制御部1270を備えており、制御部1270は図6に示した全体制御部650と接続している。
また、本実施例における検査データ処理・制御ユニット640は、検査部データ処理部1250、入出力部1260、及び制御部1270を備えており、制御部1270は図6に示した全体制御部650と接続している。
本実施例においても、基板303の表面に形成された多結晶シリコン膜301の膜厚が変化すると、それに応じて照明光学系1210から多結晶シリコン膜301に照射された光の透過率(多結晶シリコン膜301の反射率)が変化してしまう。その結果、撮像用カメラ1220で撮像する多結晶シリコン膜301で発生した1次回折光の像のコントラストが変化してしまうために、1次回折光の像のコントラスト変化が多結晶シリコン膜301の突起302のピッチの変動によるものなのか、多結晶シリコン膜301の膜厚の変化によるものなのかを切り分けて検出することが必要になる。
照明光学系1210は、波長λの光を発射する光源1211、光源1211から発射された波長λの光を集光して線状の光に成形して基板ステージ1241に保持されているガラス基板300に照射するシリンドリカルレンズ1212を備えている。
波長λの光は、300nm〜700nmの範囲の波長の光であり、光源1211には、例えば、レーザダイオードを用いる。
シリンドリカルレンズ1212は、光源1211から発射された波長λの光を、基板300上の検査領域の大きさに合わせて効率よく照明できるように照明光束を一方向に集光させて断面形状が一方向に長い線状の形状に成形する。シリンドリカルレンズ1212で一方向に集光しこれに直角な方向(図12の紙面に垂直な方向)に長い線状の光を基板300に、基板300の表面の法線方向(図12で基板300と交わる一点鎖線の方向)に対してθ1の角度方向から照射することにより、基板300上の検査領域の照明光量が増加し、撮像光用カメラ1220でコントラストの高い画像を検出することができる。
撮像用カメラ1220は、照明光が照射された基板300から発生する1次回折光による像を撮像する。
撮像用カメラ1220は、基板300の表面の法線方向に対してθ2傾いた角度方向に設置されている。撮像用カメラ1220は、シリンドリカルレンズ1212により成形された波長λの光が照明された基板300の表面の一方向に長い領域に存在する多結晶シリコン膜301の結晶粒界にピッチP1で形成された微小突起302からの1次回折光による光学像を撮像する。撮像用カメラ1220は、基板300の照明された一方向に長い領域の像に合わせて配置された1次元のCCD(電化結合素子)イメージセンサ(図示せず)、又は2次元のCCDイメージセンサ(図示せず)を備えている。
撮像用カメラ1220は、基板300の表面の法線方向に対してθ2傾いた角度方向に設置されている。撮像用カメラ1220は、シリンドリカルレンズ1212により成形された波長λの光が照明された基板300の表面の一方向に長い領域に存在する多結晶シリコン膜301の結晶粒界にピッチP1で形成された微小突起302からの1次回折光による光学像を撮像する。撮像用カメラ1220は、基板300の照明された一方向に長い領域の像に合わせて配置された1次元のCCD(電化結合素子)イメージセンサ(図示せず)、又は2次元のCCDイメージセンサ(図示せず)を備えている。
すなわち、撮像用カメラ1220の基板300の表面の法線方向に対する傾き角度θ2は、多結晶シリコン膜301の結晶粒界の微小突起302のピッチP1と、照明光の波長λ、及び照明光の基板300への入射角度θ1により、数1の関係に基づいて決まる。
基板ステージの構成及び制御は、実施例1で説明したものと同じであるので、説明を省略する。
実施例2における撮像のシーケンスは、実施例1で図8を用いて説明したものと同じであるので、説明を省略する。
一方、実施例2における撮像シーケンスで得られたデジタル画像を処理する画像処理のシーケンスについて、図13を用いて説明する。
図8の撮像シーケンスのデジタル画像作成ステップ(S806)において、撮像用カメラ1220からの画像信号と透過光検出用カメラ1230からの画像信号とは、それぞれ図12に示したA/D変換器1251,1252に入力してデジタル画像信号に変換される。A/D変換された撮像用カメラ1220からの画像信号は、画像処理部1253でシェーディング補正などの前処理が施されてデジタル画像が生成され、処理判定部1255に入力される(S1301)。
一方、A/D変換された透過光検出用カメラ1230からの信号は、膜厚算出部1253に入力して(S1302)、予め求めておいた図10に示すような透過光検出光量と多結晶シリコン膜の膜厚との関係から、膜厚が求められる(S1303)。
次に、予め求めておいた図14に示すような多結晶シリコン膜301の膜厚と1次回折光のコントラストの割合との関係から、S1302で求めた膜厚のデータから、S1301で判定処理部1255に入力された画像のコントラスト値を求める(S1304)。
判定処理部1255では、S1304で求めたコントラスト補正値に基づいてS1301で入力した画像のコントラストを補正する画像補正処理を実行する(S1305)。これを基板の所定の領域に対して行うことにより、輝度分布図を作成し、この作成した輝度分布図を小領域に分けて各領域ごとに画像特徴量(輝度、コントラストなど)を求め、この特徴量を予め設定した基準値と比較して欠陥領域を抽出する(S1306)。
一方、S1303において膜厚を求めることを基板の所定の領域に亘って行うことにより、膜厚の分布図を作成する(S1307)。最後に、S1306で抽出した欠陥領域が表示された輝度分布図とS1307で作成した膜厚の分布図とを同時に、又はどちらか一方ずつを入出力部1360の表示部1361に表示して(S1308)、画像処理のシーケンスを終了する。
一方、S1303において膜厚を求めることを基板の所定の領域に亘って行うことにより、膜厚の分布図を作成する(S1307)。最後に、S1306で抽出した欠陥領域が表示された輝度分布図とS1307で作成した膜厚の分布図とを同時に、又はどちらか一方ずつを入出力部1360の表示部1361に表示して(S1308)、画像処理のシーケンスを終了する。
このように、多結晶シリコン膜の膜厚に応じて1次回折光画像のコントラストを補正して表示することにより、膜厚の分布の影響を受けない1次回折光の強度分布の画像を表示できるようになり、1次回折光の強度分布をより正確にとらえることができるようになった。
上記した構成で検査することにより、本実施例によればエキシマレーザでアニールされて形成された多結晶シリコン膜の結晶の状態を比較的高い精度で検査することができ、液晶表示パネル用ガラス基板の品質を高く維持することが可能になる。
なお、照明光学系200にシリンドリカルレンズ205を用いて基板1上の一方向に長い領域を照明する構成で説明したが、これを通常の円形のレンズに置き換えても同様の効果が得られる。
300…基板 600…検査装置 620…検査部 621…検査ユニット 640…検査データ処理部 650…全体制御部 710,1210…照明光学系 712,1212…シリンドリカルレンズ 720,1220…撮像用カメラ 740…基板ステージ部 730、1230…透過光検出用カメラ 750,1250…検査データ処理部 755,1255…判定処理部 760,1260…入出力部。
Claims (10)
- 表面に多結晶シリコン膜が形成された基板に光を照射する光照射手段と、
該光照射手段により光が照射された前記多結晶シリコン膜の表面から発生する1次回折光の像を撮像する撮像手段と、
前記光照射手段により光が照射された前記多結晶シリコン膜が形成された基板を透過した光を検出する透過光検出手段と、
前記撮像手段で撮像して得た前記1次回折光の像を処理して前記多結晶シリコン膜の画像を形成する画像形成手段と、
前記透過光検出手段で検出した前記透過光の情報に基づいて前記画像形成手段で形成された画像の補正量を求める画像補正量算出手段と、
該画像補正量算出手段で求めた画像補正量に基づいて前記画像形成手段で形成された画像を補正する画像補正手段と、
該画像補正手段で補正された前記多結晶シリコン膜の画像を画面上に表示する表示手段と
を備えたことを特徴とする多結晶シリコン膜の検査装置。 - 前記照明手段は、一方向には平行光で、該一方向と直行する方向には集光して長い形状に成形した光を前記基板に照射することを特徴とする請求項1記載の多結晶シリコン膜の検査装置。
- 前記画像補正量算出手段は、予め求めておいた前記多結晶シリコン膜の膜厚と前記光照射手段により照射された光の透過光量との関係、及び前記多結晶シリコン膜の膜厚と前記1次回折光の像のコントラストの関係に基づいて、前記透過光検出手段で検出した透過光量の情報から前記画像形成手段で形成された画像の補正量を求めることを特徴とする請求項1記載の多結晶シリコン膜の検査装置。
- 前記透過光検出手段で検出した前記透過光の情報に基づいて前記基板上に形成された多結晶シリコン膜の膜厚分布を求める膜厚分布算出手段を更に備え、前記表示手段は、前記補正された多結晶シリコン膜の画像と前記膜厚分布算出手段で算出した多結晶シリコン膜の膜厚分布を示す画像を表示することを特徴とする請求項1記載の多結晶シリコン膜の検査装置。
- 表面に多結晶シリコン膜が形成された基板に光を照射し、
該光が照射された前記多結晶シリコン膜の表面から発生する1次回折光の像を撮像し、
前記光が照射された前記多結晶シリコン膜が形成された基板を透過した光を検出し、
前記撮像して得た前記1次回折光の像を処理して前記多結晶シリコン膜の画像を形成し、
前記検出した前記透過光の情報に基づいて前記形成された画像の補正量を求め、
該求めた画像補正量に基づいて前記形成した画像を補正し、
該補正された前記多結晶シリコン膜の画像を画面上に表示する
ことを特徴とする多結晶シリコン膜の検査方法。 - 前記光を照射する工程は前記表面に多結晶シリコン膜が形成された基板に該基板の裏側から光を照射し、前記撮像する工程は前記裏側から照射されて前記基板を透過した光により発生した1次回折光の像を撮像することを特徴とする請求項5記載の多結晶シリコン膜の検査方法。
- 前記光を照射する工程は、前記表面に多結晶シリコン膜が形成された基板に該基板の表側から光を照射し、前記撮像する工程は前記表側から照射された光により発生した1次回折光の像を撮像し、前記透過した光を検出する工程は前記表側から照射されて前記基板の裏側に透過した光を検出することを特徴とする請求項5記載の多結晶シリコン膜の検査方法。
- 前記光を照射する工程は、一方向には平行光で、該一方向と直行する方向には集光して長い形状に成形した光を前記基板に照射することを特徴とする請求項5記載の多結晶シリコン膜の検査方法。
- 前記画像の補正量を求める工程において、予め求めておいた前記多結晶シリコン膜の膜厚と前記光照射手段により照射された光の透過光量との関係、及び前記多結晶シリコン膜の膜厚と前記1次回折光の像のコントラストの関係に基づいて、前記透過光を検出する工程で検出した透過光量の情報から前記形成された画像の補正量を求めることを特徴とする請求項5記載の多結晶シリコン膜の検査方法。
- 前記透過した光を検出する工程で検出した前記透過光の情報に基づいて前記基板上に形成された多結晶シリコン膜の膜厚分布を求める工程を更に備え、前記画面上に表示する工程において、前記画像を補正する工程で補正された多結晶シリコン膜の画像と前記膜厚分布を求める工程で求めた多結晶シリコン膜の膜厚分布を示す画像とを画面上に表示することを特徴とする請求項5記載の多結晶シリコン膜の検査方法。
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