JP2013243284A - Developing apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板に現像処理を行う現像処理装置に関する。 The present invention relates to a development processing apparatus that performs development processing on a substrate.
従来の現像処理装置は、例えばスリット状の吐出口を有する現像液ノズルを備える。現像液ノズルが、現像液を吐出しつつ静止状態で保持された基板Wの上方を一方向に移動する。それにより、基板上に現像液の液層が形成され、現像反応が進行する(例えば、特許文献1参照)。 A conventional development processing apparatus includes, for example, a developer nozzle having a slit-like discharge port. The developer nozzle moves in one direction over the substrate W held in a stationary state while discharging the developer. Thereby, a liquid layer of a developer is formed on the substrate, and a development reaction proceeds (see, for example, Patent Document 1).
基板上に現像液が吐出された後に、現像液ノズルに現像液が付着したままであると、その現像液が基板上に落下し、現像欠陥が発生する可能性がある。また、レジスト残渣等の異物が現像液ノズルに付着することがある。この場合も、その異物が基板上に落下する、または基板上に現像液を適正に吐出することができない等の理由により、現像欠陥が発生する可能性がある。したがって、現像液の吐出後に現像液ノズルを清浄にする必要がある。 If the developer remains attached to the developer nozzle after the developer has been discharged onto the substrate, the developer may drop onto the substrate and a development defect may occur. In addition, foreign matters such as resist residues may adhere to the developer nozzle. Also in this case, there is a possibility that a development defect may occur because the foreign matter falls on the substrate or the developer cannot be properly discharged onto the substrate. Therefore, it is necessary to clean the developer nozzle after discharging the developer.
本発明の目的は、現像液ノズルを清浄にすることが可能な現像処理装置を提供することである。 An object of the present invention is to provide a development processing apparatus capable of cleaning a developer nozzle.
(1)本発明に係る現像処理装置は、基板を略水平に保持する基板保持部と、現像液を吐出するための現像液吐出口を有する現像液ノズルと、基板保持部により保持される基板の上方を除く待機位置に設けられ、現像液ノズルの洗浄処理を行う洗浄処理部と、基板保持部により保持される基板に対して現像液ノズルを相対的に移動させるとともに、基板保持部により保持される基板に現像液ノズルにより現像液が吐出された後に現像液ノズルを待機位置に移動させる移動装置とを備え、洗浄処理部は、気泡が混入された洗浄液により現像液ノズルの洗浄処理を行うように構成されるものである。 (1) A development processing apparatus according to the present invention includes a substrate holder that holds a substrate substantially horizontally, a developer nozzle having a developer discharge port for discharging a developer, and a substrate held by the substrate holder. The cleaning nozzle is provided at a standby position excluding the upper part of the cleaning nozzle, and the developer nozzle is moved relative to the substrate held by the substrate holder and held by the substrate holder. And a moving device that moves the developing solution nozzle to a standby position after the developing solution is discharged onto the substrate to be developed, and the cleaning processing unit performs cleaning processing of the developing solution nozzle with the cleaning solution in which bubbles are mixed It is comprised as follows.
その現像処理装置においては、現像液ノズルが基板保持部により略水平に保持される基板に対して相対的に移動装置により移動される。現像液ノズルの現像液吐出口から基板上に現像液が吐出されることにより、基板の現像処理が行われる。現像液の吐出後に、現像液ノズルが基板保持部により保持される基板の上方を除く待機位置に移動装置により移動される。待機位置に設けられた洗浄処理部において、気泡が混入された洗浄液により現像液ノズルの洗浄処理が行われる。 In the development processing apparatus, the developer nozzle is moved by the moving device relative to the substrate held substantially horizontally by the substrate holding portion. The substrate is developed by discharging the developer from the developer discharge port of the developer nozzle onto the substrate. After the discharge of the developer, the developer nozzle is moved by the moving device to a standby position excluding the upper part of the substrate held by the substrate holder. In the cleaning processing section provided at the standby position, the developer nozzle cleaning process is performed with the cleaning liquid in which bubbles are mixed.
この場合、洗浄液中の気泡が現像液ノズルに衝突する。その衝突力により、現像液ノズルに付着する汚染物が除去される。また、気泡の移動および衝突等によって生じる圧力波により現像液ノズルに付着する汚染物が粉砕される。さらに、気泡が汚染物に付着し、現像液ノズルから汚染物を剥ぎ取る。 In this case, bubbles in the cleaning liquid collide with the developer nozzle. Due to the collision force, contaminants attached to the developer nozzle are removed. Further, contaminants adhering to the developer nozzle are pulverized by pressure waves generated by the movement and collision of bubbles. Further, the bubbles adhere to the contaminants, and the contaminants are peeled off from the developer nozzle.
また、複数の気泡が衝突、破裂および合体を繰り返すことにより種々の方向に分散的に移動する。それにより、現像液ノズルの全体に対して均一に洗浄を行うことができる。 In addition, a plurality of bubbles move in various directions in a dispersive manner by repeating collision, rupture and coalescence. As a result, the entire developer nozzle can be uniformly cleaned.
これらにより、現像液ノズルを清浄にすることができる。その結果、現像液ノズルの汚染に起因する基板の現像欠陥の発生を防止することができる。 As a result, the developer nozzle can be cleaned. As a result, it is possible to prevent development defects on the substrate due to contamination of the developer nozzle.
(2)洗浄処理部は、洗浄液中に気泡を混入させる気泡混入部と、気泡混入部により気泡が混入された洗浄液を吐出するための洗浄液吐出口を有する洗浄液供給部とを含んでもよい。 (2) The cleaning processing unit may include a bubble mixing unit that mixes bubbles in the cleaning liquid, and a cleaning solution supply unit that has a cleaning solution discharge port for discharging the cleaning solution in which bubbles are mixed by the bubble mixing unit.
この場合、気泡が混入された洗浄液が洗浄液吐出口から現像液ノズルに吐出される。それにより、現像液ノズルに気泡を効率よく衝突させることができる。したがって、現像液ノズルを効率よく清浄にすることができる。 In this case, the cleaning liquid mixed with bubbles is discharged from the cleaning liquid discharge port to the developer nozzle. As a result, bubbles can be efficiently collided with the developer nozzle. Therefore, the developer nozzle can be cleaned efficiently.
(3)洗浄液供給部は、現像液ノズルの少なくとも現像液吐出口を含む一部を収容可能な収容部を有し、収容部に洗浄液吐出口が設けられてもよい。 (3) The cleaning liquid supply unit may include a storage unit that can store at least a part of the developer nozzle including the developer discharge port, and the cleaning unit may be provided with the cleaning liquid discharge port.
この場合、現像液ノズルの少なくとも現像液吐出口を含む一部が収容部に収容された状態で、収容部に設けられた洗浄液吐出口から気泡が混入された洗浄液が吐出される。それにより、現像液ノズルの現像液吐出口およびその近傍を清浄にすることができる。 In this case, in a state where at least a part of the developer nozzle including the developer discharge port is stored in the storage unit, the cleaning liquid in which bubbles are mixed is discharged from the cleaning liquid discharge port provided in the storage unit. Thereby, the developer discharge port of the developer nozzle and the vicinity thereof can be cleaned.
(4)現像液ノズルは、一方向に沿って延びる下面を有し、現像液吐出口は、一方向に沿って延びるように下面に設けられ、収容部は、一方向に沿って延び、現像液ノズルの少なくとも下面を収容可能な溝部を含み、溝部は、一方向に沿って延びる内面を有し、洗浄液吐出口は、溝部の内面に設けられてもよい。 (4) The developer nozzle has a lower surface extending along one direction, the developer discharge port is provided on the lower surface so as to extend along one direction, and the accommodating portion extends along one direction, The groove part may include a groove part that can accommodate at least the lower surface of the liquid nozzle, the groove part may have an inner surface extending along one direction, and the cleaning liquid discharge port may be provided on the inner surface of the groove part.
この場合、現像液ノズルの現像液吐出口が設けられた下面が溝部内に収容された状態で、溝部の内面に設けられた洗浄液吐出口から気泡が混入された洗浄液が吐出される。それにより、現像液ノズルの下面を清浄にすることができる。 In this case, the cleaning liquid in which bubbles are mixed is discharged from the cleaning liquid discharge port provided on the inner surface of the groove portion in a state where the lower surface of the developer nozzle provided with the developer discharge port is accommodated in the groove portion. Thereby, the lower surface of the developer nozzle can be cleaned.
(5)洗浄液吐出口は、一方向に沿って並ぶように設けられた複数の開口を含んでもよい。 (5) The cleaning liquid discharge port may include a plurality of openings provided so as to be aligned along one direction.
この場合、気泡が混入された洗浄液を現像液ノズルの下面の全体に効率よく供給することができる。それにより、現像液ノズルの下面の全体を効率よく清浄にすることができる。 In this case, the cleaning liquid mixed with bubbles can be efficiently supplied to the entire lower surface of the developer nozzle. Thereby, the whole lower surface of the developer nozzle can be efficiently cleaned.
(6)溝部の少なくとも一端に、洗浄液吐出口から吐出された洗浄液が流出可能な流出部が設けられてもよい。 (6) At least one end of the groove may be provided with an outflow part through which the cleaning liquid discharged from the cleaning liquid discharge port can flow out.
この場合、溝部内において、気泡が混入された洗浄液が一方向に沿って流動する。それにより、気泡が混入された洗浄液を現像液ノズルの下面の全体に接触させることができる。したがって、現像液ノズルの下面の全体を効率よく清浄にすることができる。 In this case, the cleaning liquid in which bubbles are mixed flows in one direction in the groove. Thereby, the cleaning liquid mixed with bubbles can be brought into contact with the entire lower surface of the developer nozzle. Therefore, the entire lower surface of the developer nozzle can be efficiently cleaned.
(7)溝部の内面に、洗浄液吐出口から吐出された洗浄液を排出するための排出口が設けられてもよい。 (7) A discharge port for discharging the cleaning liquid discharged from the cleaning liquid discharge port may be provided on the inner surface of the groove.
この場合、現像液ノズルから除去された汚染物を洗浄液とともに排出口を通して排出することができる。それにより、除去された汚染物が現像液ノズルに再付着することを防止することができる。 In this case, the contaminants removed from the developer nozzle can be discharged through the discharge port together with the cleaning liquid. Thereby, it is possible to prevent the removed contaminants from reattaching to the developer nozzle.
(8)洗浄処理部は、排出口を通して洗浄液吐出口から吐出された洗浄液を吸引する吸引装置をさらに含んでもよい。 (8) The cleaning processing unit may further include a suction device that sucks the cleaning liquid discharged from the cleaning liquid discharge port through the discharge port.
この場合、排出口を通して洗浄液および除去された汚染物をより効率よく排出することができる。それにより、除去された汚染物が現像液ノズルに再付着することをより確実に防止することができる。 In this case, the cleaning liquid and the removed contaminants can be discharged more efficiently through the discharge port. Thereby, it is possible to more reliably prevent the removed contaminants from reattaching to the developer nozzle.
(9)洗浄処理部は、現像液ノズルの少なくとも現像液吐出口を含む一部を収容可能でかつ洗浄液を貯留可能な貯留部と、貯留部に貯留された洗浄液に気泡を混入させる気泡混入部とを含んでもよい。 (9) The cleaning processing unit can store at least a part of the developer nozzle including the developer discharge port and can store the cleaning solution, and a bubble mixing unit that mixes bubbles into the cleaning solution stored in the storing unit And may be included.
この場合、現像液ノズルの少なくとも現像液吐出口を含む一部が貯留部に収容された状態で貯留部に洗浄液が貯留され、貯留された洗浄液中に気泡が混入される。これにより、気泡が混入された洗浄液中に現像液ノズルの少なくとも現像液吐出口を含む一部が浸漬された状態が維持されるので、現像液吐出口およびその近傍に付着する汚染物を効果的に除去することができる。したがって、現像液ノズルの現像液吐出口およびその近傍を清浄にすることができる。 In this case, the cleaning liquid is stored in the storage section in a state where at least a part of the developer nozzle including the developer discharge port is stored in the storage section, and bubbles are mixed in the stored cleaning liquid. This maintains the state in which at least a part of the developer nozzle including the developer discharge port is immersed in the cleaning liquid in which bubbles are mixed, so that contaminants attached to the developer discharge port and the vicinity thereof are effectively removed. Can be removed. Therefore, the developer discharge port of the developer nozzle and the vicinity thereof can be cleaned.
(10)現像液ノズルは、一方向に沿って延びる下面を有し、現像液吐出口は、一方向に沿って延びるように下面に設けられ、収容部は、一方向に沿って延び、現像液ノズルの少なくとも下面を収容可能な溝部を含み、溝部は、一方向に沿って延びる内面を有し、溝部の内面に、洗浄液を吐出するための洗浄液吐出口および気体を吐出するための気体吐出口が設けられてもよい。 (10) The developer nozzle has a lower surface extending along one direction, the developer discharge port is provided on the lower surface so as to extend along one direction, and the housing portion extends along one direction, and development A groove part capable of accommodating at least the lower surface of the liquid nozzle, the groove part having an inner surface extending along one direction, and a gas discharge for discharging a cleaning liquid discharge port and a gas for discharging the cleaning liquid on the inner surface of the groove part; An outlet may be provided.
この場合、現像液ノズルの現像液吐出口が設けられた下面が溝部内に収容された状態で、溝部の内面に設けられた洗浄液吐出口から洗浄液が吐出されることにより溝部内に洗浄液が貯留される。さらに、溝部の内面に設けられた気体吐出口から気体が吐出されることにより、貯留された洗浄液に気泡が混入される。それにより、現像液ノズルの下面を清浄にすることができる。 In this case, the cleaning liquid is stored in the groove portion by discharging the cleaning liquid from the cleaning liquid discharge port provided on the inner surface of the groove portion in a state where the lower surface of the developer nozzle provided with the developer discharge port is accommodated in the groove portion. Is done. Furthermore, bubbles are mixed into the stored cleaning liquid by discharging gas from the gas discharge port provided on the inner surface of the groove. Thereby, the lower surface of the developer nozzle can be cleaned.
本発明によれば、現像液ノズルを清浄にすることができる。 According to the present invention, the developer nozzle can be cleaned.
以下、本発明の実施の形態に係る現像処理装置について図面を参照しながら説明する。 A development processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
(1)第1の実施の形態
(1−1)現像処理装置の構成
図1は、本実施の形態に係る現像処理装置の模式的平面図である。図2は、図1の現像処理装置の模式的側面図である。図1および図2、ならびに後述の図3以降の所定の図には、位置関係を明確にするために互いに直交するX方向、Y方向およびZ方向を示す矢印を付している。X方向およびY方向は水平面内で互いに直交し、Z方向は鉛直方向に相当する。
(1) First Embodiment (1-1) Configuration of Development Processing Apparatus FIG. 1 is a schematic plan view of a development processing apparatus according to the present embodiment. FIG. 2 is a schematic side view of the development processing apparatus of FIG. 1 and FIG. 2 and predetermined drawings after FIG. 3 to be described later are provided with arrows indicating X, Y, and Z directions orthogonal to each other in order to clarify the positional relationship. The X direction and the Y direction are orthogonal to each other in the horizontal plane, and the Z direction corresponds to the vertical direction.
図1に示すように、現像処理装置1は、筐体5を備える。筐体5内に、3つの現像処理ユニットDEVおよび現像液供給部6が設けられる。3つの現像処理ユニットDEVは、互いに同じ構成を有し、X方向に沿って並ぶように配置される。各現像処理ユニットDEVは、回転保持部10、処理カップ20およびリンスノズル30を備える。
As shown in FIG. 1, the
図2に示すように、回転保持部10は、スピンチャック11、回転軸12およびモータ13を含む。スピンチャック11は、モータ13に接続された回転軸12の上端部に設けられる。スピンチャック11は、基板Wの下面の略中心部を真空吸着することにより、基板Wを水平姿勢で保持する。モータ13によって回転軸12およびスピンチャック11が一体的に回転される。それにより、スピンチャック11によって保持された基板Wが鉛直方向(Z方向)に沿った軸の周りで回転する。
As shown in FIG. 2, the
回転保持部10を取り囲むように処理カップ20が設けられる。処理カップ20は、図示しないカップ昇降機構により下方位置と上方位置との間で昇降される。処理カップ20が下方位置にある場合、処理カップ20の上端がスピンチャック11による基板Wの保持位置よりも低い。各現像処理ユニットDEVに対する基板Wの搬入時および搬出時に、その現像処理ユニットDEVの処理カップ20が下方位置に配置される。処理カップ20が上方位置にある場合、処理カップ20の上端がスピンチャック11による基板Wの保持位置よりも高く、基板Wの周囲が処理カップ20により取り囲まれる。基板Wの現像処理時に、処理カップ20が上方位置に配置され、回転される基板Wから飛散する液滴が処理カップ20により受け止められる。受け止められた液滴は、図示しない排出部(ドレイン)に導かれる。
A
リンスノズル30は、処理カップ20の外側の待避位置とスピンチャック11により保持される基板Wの中心部上方のリンス位置との間で回動可能に設けられる。リンスノズル30は、リンス位置においてスピンチャック11により保持される基板W上にリンス液を供給する。
The rinse
図1に示すように、現像液供給部6は、スリットノズル61、ノズル昇降機構62およびノズルスライド機構63を含む。スリットノズル61は、Y方向に沿って延びるスリット状の吐出口61e(図2)を有する。吐出口61eの長さは少なくとも基板Wの径以上である。スリットノズル61は、ノズル昇降機構62によりZ方向に沿って昇降される。また、スリットノズル61は、各スピンチャック11により保持された基板Wの上方を通るように、ノズルスライド機構63により3つの現像処理ユニットDEVの配列方向(X方向)に沿って移動する。
As shown in FIG. 1, the developer supply unit 6 includes a
スリットノズル61には、図示しない現像液供給源から現像液が供給される。スリットノズル61は、スピンチャック11により保持された基板Wの上方を移動しつつ吐出口61e(図2)から基板W上に現像液を帯状に吐出する。それにより、基板Wの上面を覆うように、現像液の液層が形成される。現像液の液層の形成時には、基板Wが静止される。
A developer is supplied to the
隣り合う現像処理ユニットDEV間および一端に位置する現像処理ユニットDEVの外側にスリットノズル61の待機位置が設けられ、各待機位置に待機ポッド70が設けられる。スリットノズル61は、基板W上に現像液を吐出しない期間にいずれかの待機位置に移動し、待機ポッド70上で待機する。待機ポッド70において、スリットノズル61は、内部に滞留する現像液を吐出して排出するオートディスペンス処理を定期的に行う。これにより、変質または経時劣化した現像液が基板Wに供給されることが防止される。また、待機ポッド70において、スリットノズル61の洗浄処理が行われる。待機ポッド70の詳細については後述する。
A standby position of the
筐体50の一側面には、3つの現像処理ユニットDEVにそれぞれ対向するように3つのシャッター7が設けられる。各現像処理ユニットDEVに対する基板Wの搬入時および搬出時には、対応するシャッター7が開放される。各現像処理ユニットDEVにおける現像処理時には、対応するシャッター7が閉鎖される。
Three
(1−2)現像処理装置の動作
現像処理装置1の動作の概要について説明する。現像処理装置1の各構成要素の動作は、後述の制御部80(図4)により制御される。図3は、スリットノズル61の移動経路を示す図である。図3においては、3つの現像処理ユニットDEVをそれぞれ現像処理ユニットDEV1,DEV2,DEV3とし、3つの待機ポッド70をそれぞれ待機ポッド70a,70b,70cとする。現像処理ユニットDEV1,DEV2,DEV3は、この順でX方向に沿って並ぶ。現像処理ユニットDEV1,DEV2の間に待機ポッド70aが配置され、現像処理ユニットDEV2,DEV3の間に待機ポッド70bが配置され、現像処理ユニットDEV3の外側に待機ポッド70cが配置される。
(1-2) Operation of Development Processing Device An outline of the operation of the
スリットノズル61が待機ポッド70c上に位置するときに、図示しない搬送装置により現像処理ユニットDEV1のスピンチャック11上に、露光処理後の基板Wが搬送される。この場合、現像処理ユニットDEV1の処理カップ20が下方位置にある状態で現像処理ユニットDEV1のスピンチャック11上に基板Wが搬送され、基板Wの搬送後にその処理カップ20が上方位置に上昇する。続いて、スリットノズル61が、現像処理ユニットDEV1のスピンチャック11により保持される基板Wの一端部(X方向において待機ポッド70aから遠い側の端部)上まで移動し、現像液を吐出しながら基板Wの他端部(X方向において待機ポッド70aに近い側の端部)上まで移動する。その後、スリットノズル61は待機ポッド70a上に移動する。
When the
スリットノズル61が待機ポッド70a上に位置するときに、図示しない搬送装置により現像処理ユニットDEV2のスピンチャック11上に、露光処理後の基板Wが搬送される。この場合、現像処理ユニットDEV2の処理カップ20が下方位置にある状態で現像処理ユニットDEV2のスピンチャック11上に基板Wが搬送され、基板Wの搬送後にその処理カップ20が上方位置に上昇する。続いて、スリットノズル61が、現像処理ユニットDEV2のスピンチャック11により保持される基板Wの一端部(X方向において待機ポッド70aに近い側の端部)上まで移動し、現像液を吐出しながら基板Wの他端部(X方向において待機ポッド70bに近い側の端部)上まで移動する。その後、スリットノズル61は待機ポッド70b上に移動する。
When the
スリットノズル61が待機ポッド70b上に位置するときに、図示しない搬送装置により現像処理ユニットDEV3のスピンチャック11上に、露光処理後の基板Wが搬送される。この場合、現像処理ユニットDEV3の処理カップ20が下方位置にある状態で現像処理ユニットDEV3のスピンチャック11上に基板Wが搬送され、基板Wの搬送後にその処理カップ20が上方位置に上昇する。続いて、スリットノズル61が、現像処理ユニットDEV3のスピンチャック11により保持される基板Wの一端部(X方向において待機ポッド70bに近い側の端部)上まで移動し、現像液を吐出しながら基板Wの他端部(X方向において待機ポッド70cに近い側の端部)上まで移動する。その後、スリットノズル61は待機ポッド70c上に移動する。
When the
現像処理ユニットDEV1〜DEV3の各々において、スリットノズル61が基板W上を移動しながら現像液を吐出することにより、基板W上に現像液の液層が形成される。その状態で、基板W上に形成された感光性膜(レジスト)の現像反応が進行する。現像液の液層が形成されてから予め定められた時間が経過すると、リンスノズル30がリンス位置に移動し、リンス液を吐出する。それにより、感光性膜の現像反応が停止される。続いて、基板W上にリンス液が吐出されつつ回転保持部10により基板Wが回転されることにより、基板W上の現像液が洗い流される。その後、リンス液の吐出が停止された状態で基板Wが回転されることにより、基板Wからリンス液が振り切られ、基板Wが乾燥される。乾燥された基板Wが図示しない搬送装置によりスピンチャック11上から搬送される。スピンチャック11上から基板Wが搬送される際には、処理カップ20が下方位置に下降する。現像処理装置1においては、このような一連の動作が繰り返される。
In each of the development processing units DEV1 to DEV3, the developer layer is formed on the substrate W by the
現像処理ユニットDEV1〜DEV3の各々に対する基板Wの搬入および搬出のタイミングは、上記の例に限定されず、現像処理装置1の各部の動作速度、現像処理時間、または搬送装置の動作速度等に応じて、適宜変更されてもよい。
The timing of loading and unloading the substrate W with respect to each of the development processing units DEV1 to DEV3 is not limited to the above example, and depends on the operation speed of each part of the
(1−3)待機ポッドの構成
待機ポッド70の詳細について説明する。図4は、待機ポッド70およびスリットノズル61の外観斜視図である。図5(a)は、待機ポッド70の平面図であり、図5(b)は、図5(a)のA1−A1線断面図である。図6は、図5(a)のB1−B1線断面図である。
(1-3) Configuration of Standby Pod The details of the
図4に示すように、スリットノズル61は、Y方向に沿ってそれぞれ延びる一対の側面61a、一対の傾斜面61b、下面61cを有するとともに、Y方向に略垂直な一対の端面61dを有する。一対の側面61aは鉛直方向(Z方向)に沿って延び、一対の側面61aの下端から互いに近づくように斜め下方に一対の傾斜面61bが延びる。傾斜面61bの下端を連結するように下面61cが水平に延びる。下面61cと一方の傾斜面61bとの連結部分に吐出口61eが設けられる。
As shown in FIG. 4, the
待機ポッド70は箱型の形状を有し、待機ポッド70のY方向における長さは、スリットノズル61のY方向における長さよりも長い。待機ポッド70の上部には、Y方向に沿って延びるように略V字状の断面を有する溝部710が設けられる。溝部710は、一対の側面711、一対の傾斜面712および底面713を有する。一対の側面711は、待機ポッド70の上面から鉛直下方に延びる。一対の傾斜面712は、一対の側面711の下端部から互いに近づくように斜め下方にそれぞれ延びる。底面713は、一対の傾斜面712の下端部を互いに連結するように水平に延びる。溝部710の両端部は、外方に向かって開口する。溝部710の両端部は、スリットノズル61に供給された洗浄液を待機ポッド70の外部に流出させるための流出部715をそれぞれ構成する。
The
溝部710の一対の側面711は、スリットノズル61の一対の側面61aにそれぞれ平行であり、溝部710の一対の傾斜面712は、スリットノズル61の一対の傾斜面61bにそれぞれ平行であり、溝部710の底面713は、スリットノズル61の下面61cに平行である。
The pair of side surfaces 711 of the
待機ポッド70は、供給管702aを介して気泡混入装置702に接続される。気泡混入装置702として、例えばアスピレータまたはマイクロバブル発生装置が用いられる。供給管702aには、バルブV1が介挿される。気泡混入装置702は、供給管702bを介して洗浄液供給源703に接続され、供給管702cを介して気体供給源704に接続される。
The
洗浄液供給源703から供給管702bを通して気泡混入装置702に洗浄液が供給される。洗浄液として、例えば純水、または界面活性剤を含む溶液が用いられる。気体供給源704から供給管702cを通して気泡混入装置702に気体が供給される。気体として、例えば窒素ガスが用いられる。気泡混入装置702において、供給された気体が洗浄液中に微細な気泡として混入される。バルブV1が開かれることにより、気泡が混入された洗浄液(以下、気泡含有洗浄液と呼ぶ)が、供給管702aを通して待機ポッド70に供給される。
The cleaning liquid is supplied from the cleaning
洗浄液に混入される気泡の大きさは、気泡混入装置702の種類の変更または部品の交換等により調整可能である。また、高い洗浄効果を得るために、気泡含有洗浄液中の気体の体積比率は洗浄液の体積比率よりも小さいことが好ましい。
The size of the bubbles mixed in the cleaning liquid can be adjusted by changing the type of the
また、待機ポッド70は、排出管705aを介して吸引装置705に接続される。吸引装置705として、例えばアスピレータが用いられる。吸引装置705により、待機ポッド70から図示しない排出部に気泡含有洗浄液および除去された汚染物が導かれる。
The
バルブV1の開閉ならびに気泡混入装置702および吸引装置705の動作は、制御部80により制御される。上記のように、制御部80は、現像処理装置1の他の構成要素の動作も制御する。
The
本実施の形態では、待機ポッド70、気泡混入装置702および吸引装置705により、洗浄処理部700が構成される。図1の3つの待機ポッド70に対して、共通の気泡混入装置702および吸引装置705が用いられてもよく、または複数の気泡混入装置702および吸引装置705が用いられてもよい。
In the present embodiment, the
図5に示すように、各傾斜面712には、Y方向に沿って等間隔で並ぶように複数の開口712aが設けられる。底面713には、Y方向に沿って等間隔で並ぶように複数の開口713aが設けられる。
As shown in FIG. 5, each
図6に示すように、待機ポッド70の下面には、一対の接続口712cおよび接続口713cが設けられる。一方の接続口712cと一方の傾斜面712の複数の開口712aとの間、および他方の接続口712cと他方の傾斜面712の複数の開口712aとの間でそれぞれ延びるように、一対の洗浄液供給路712bが設けられる。各洗浄液供給路712bは、各接続口712cから上方に延びるとともに、複数の経路に分岐して内方に向かって水平に延び、複数の開口712aに接続される。また、接続口713cと複数の開口713aとの間で延びるように、排出路713bが設けられる。排出路713bは、接続口713cから上方に延び、さらに複数の経路に分岐して複数の開口713aに接続される。
As shown in FIG. 6, a pair of
一対の接続口712cには、図4の気泡混入装置702から延びる供給管702aが接続される。気泡混入装置702から供給管702aを通して待機ポッド70の各洗浄液供給路712bに気泡含有洗浄液が導入される。導入された洗浄液は、傾斜面712の複数の開口712aから吐出される。
A
接続口713cには、図4の吸引装置705から延びる排出管705aが接続される。吸引装置705により、気泡含有洗浄液および除去された汚染物が排出路713bおよび排出管705aを通して吸引される。吸引された気泡含有洗浄液および汚染物は、図示しない排出部に導かれて排出される。
A
(1−4)洗浄処理
上記のように、スリットノズル61は、各現像処理ユニットDEV(図1)において基板Wに現像液を吐出した後、その現像処理ユニットDEVに隣り合う待機ポッド70上に移動する。待機ポッド70においては、スリットノズル61の洗浄処理が行われる。
(1-4) Cleaning Process As described above, the
図7および図8は、待機ポッド70におけるスリットノズル61の洗浄処理について説明するための模式的断面図である。図7および図8に示すように、洗浄処理時には、スリットノズル61の少なくとも傾斜面61bおよび下面61cを含む下部が待機ポッド70の溝部710内に収容される。この場合、溝部710の一対の側面711が、スリットノズル61の一対の側面61aにそれぞれ対向し、溝部710の一対の傾斜面712が、スリットノズル61の一対の傾斜面61bにそれぞれ対向し、溝部710の底面713がスリットノズル61の下面61cに対向する。
7 and 8 are schematic cross-sectional views for explaining the cleaning process of the
この状態で、傾斜面712の複数の開口712aからスリットノズル61に向けて気泡含有洗浄液が吐出される。この場合、図8に示すように、気泡含有洗浄液中の気泡Gが、溝部710の傾斜面712とスリットノズル61の傾斜面61bとの隙間を通って移動しつつスリットノズル61の傾斜面61bに衝突する。また、気泡含有洗浄液中の気泡Gが、溝部710の底面713とスリットノズル61の下面61cとの隙間を通って移動しつつスリットノズル61の下面61cに衝突する。
In this state, the bubble-containing cleaning liquid is discharged from the plurality of
これにより、気泡Gの衝突力によってスリットノズル61の傾斜面61bおよび下面61cに付着する汚染物が除去される。ここで、汚染物は、現像液およびレジスト残渣等の異物を含む。また、気泡Gの移動および衝突等によって生じる圧力波によりスリットノズル61の傾斜面61bおよび下面61cに付着する汚染物が粉砕される。さらに、気泡Gが汚染物に付着し、スリットノズル61の傾斜面61bおよび下面61cから汚染物を剥ぎ取る。
Thereby, the contaminant adhering to the
また、複数の気泡Gは、衝突、破裂および合体を繰り返すことにより、溝部710の傾斜面712とスリットノズル61の傾斜面61bとの隙間および溝部710の底面713とスリットノズル61の下面61cとの隙間において種々の方向に分散的に移動する。それにより、スリットノズル61の傾斜面61bおよび下面61cに対して均一に洗浄を行うことができる。
Further, the plurality of bubbles G are repeatedly collided, ruptured, and merged, whereby the gap between the
また、気泡含有洗浄液は、気泡を含まない洗浄液に比べて飛散しにくい。それにより、気泡含有洗浄液が待機ポッド70の外側に飛散してスピンチャック11上の基板Wまたは搬送中の基板W等に付着することが防止される。
In addition, the bubble-containing cleaning liquid is less likely to scatter than a cleaning liquid that does not include bubbles. This prevents the bubble-containing cleaning liquid from splashing outside the
気泡含有洗浄液の吐出時には、吸引装置705(図4)が動作する。これにより、気泡含有洗浄液および除去された汚染物の一部が底面713の複数の開口713aから吸引され、排出される。したがって、除去された汚染物がスリットノズル61の傾斜面61bおよび下面61cに再付着することが抑制される。
When discharging the bubble-containing cleaning liquid, the suction device 705 (FIG. 4) operates. As a result, the bubble-containing cleaning liquid and a part of the removed contaminants are sucked and discharged from the plurality of
また、スリットノズル61に供給された気泡含有洗浄液は、除去された汚染物とともに溝部710の流出部715(図4)から待機ポッド70の外方に流出する。これにより、溝部710内において、気泡含有洗浄液がスリットノズル61の長手方向(Y方向)に円滑に流動する。したがって、スリットノズル61の傾斜面61bおよび下面61cの全体に対してより効果的に洗浄を行うことができる。流出した気泡含有洗浄液および汚染物は、図示しない排出部に導かれる。
Also, the bubble-containing cleaning liquid supplied to the
気泡含有洗浄液の吐出が開始されてから一定時間が経過した後、開口712aからの気泡含有洗浄液の吐出が停止されるとともに、吸引装置705の動作が停止される。これにより、スリットノズル61の洗浄処理が終了する。
After a certain time has elapsed since the discharge of the bubble-containing cleaning liquid was started, the discharge of the bubble-containing cleaning liquid from the
(1−5)効果
本実施の形態に係る現像処理装置1においては、スリットノズル61から基板Wに現像液が吐出された後、待機ポッド70において気泡が混入された洗浄液によりスリットノズル61の洗浄処理が行われる。それにより、スリットノズル61を清浄にすることができる。その結果、スリットノズル61の汚染に起因する基板Wの現像欠陥の発生を防止することができる。
(1-5) Effect In the
また、本実施の形態では、気泡混入装置702により予め気泡が混入された洗浄液が開口712aからスリットノズル61に向けて吐出される。それにより、スリットノズル61に気泡を効率よく衝突させることができる。したがって、スリットノズル61を効率よく洗浄することができる。
In the present embodiment, the cleaning liquid in which bubbles are mixed in advance by the
(1−6)待機ポッドの変形例
(1−6−1)
開口712a,713aの位置、数、大きさおよび形状等は、上記の例に限定されず、適宜変更されてもよい。例えば、複数の開口712aが複数段に設けられてもよく、複数の開口713aが複数列を形成するように設けられてもよい。また、開口712a,713aがそれぞれスリット状であってもよい。
(1-6) Modified example of standby pod (1-6-1)
The position, number, size, shape, and the like of the
(1−6−2)
第1の実施の形態では、傾斜面712に洗浄液を吐出するための開口712aが設けられるが、開口712aの代わりに、または開口712aに加えて、底面713に洗浄液を吐出するための開口が設けられてもよい。また、第1の実施の形態では、底面713に洗浄液を吐出するための開口713aが設けられるが、開口713aの代わりに、または開口713aに加えて、傾斜面712に洗浄液を排出するための開口が設けられてもよい。
(1-6-2)
In the first embodiment, the
(1−6−3)
第1の実施の形態では、開口712aからの気泡含有洗浄液の吐出時に吸引装置705による吸引が行われるが、汚染物の再付着を防止可能である場合または防止する必要がない場合には、吸引装置705による吸引が行われなくてもよい。その場合、気泡含有洗浄液および汚染物が複数の開口713aから自重によって排出されてもよく、または複数の開口713aが設けられなくてもよい。
(1-6-3)
In the first embodiment, suction is performed by the
(1−6−4)
第1の実施の形態では、溝部710の両端部に流出部715が設けられるが、一方の端部にのみ流出部715が設けられてもよい。また、一方向に沿った洗浄液の流れを形成可能である場合、または形成する必要がない場合には、溝部710の他の箇所から洗浄液を流出させてもよい。
(1-6-4)
In the first embodiment, the
(1−6−5)
開口712aから気泡含有洗浄液が吐出される前に、開口712aから現像液が吐出されてもよい。この場合、スリットノズル61に付着するレジスト残渣を溶解して除去することができる。また、開口712aから現像液が吐出される代わりに、現像液を吐出するための開口が別途設けられてもよい。
(1-6-5)
The developer may be discharged from the
(2)第2の実施の形態
本発明の第2の実施の形態について、上記第1の実施の形態と異なる点を説明する。第2の実施の形態においては、図4〜図6の待機ポッド70の代わりに、以下の図9〜図11に示す待機ポッド70が用いられる。
(2) Second Embodiment The second embodiment of the present invention will be described while referring to differences from the first embodiment. In the second embodiment, a
(2−1)待機ポッドの構成
図9(a)は、第2の実施の形態における待機ポッド70の平面図であり、図9(b)は図9(a)のA2−A2線断面図である。図10は、図9(a)のB2−B2線断面図である。図11は、図9(a)の待機ポッド70の一端部を示す側面図である。図9〜図11の待機ポッド70について、図4〜図6の待機ポッド70と異なる点を説明する。
(2-1) Configuration of Standby Pod FIG. 9A is a plan view of
図9および図10に示すように、待機ポッド70の上部には、Y方向に沿って延びるように略V字状の断面を有する溝部720が設けられる。溝部720は、一対の側面721、一対の第1の上部傾斜面722および一対の下部傾斜面723を有する。一対の側面721は、待機ポッド70の上面から鉛直下方に延びる。一対の上部傾斜面722は、一対の側面711の下端部から互いに近づくように斜め下方にそれぞれ延びる。一対の下部傾斜面723は、一対の上部傾斜面722の下端部から互いに近づくように斜め下方にそれぞれ延びる。水平面に対する下部傾斜面723の傾斜角は、水平面に対する上部傾斜面722の傾斜角よりも大きい。
As shown in FIGS. 9 and 10, a
溝部720の一対の側面721は、スリットノズル61の一対の側面61aにそれぞれ平行であり、溝部720の一対の上部傾斜面722は、スリットノズル61の一対の傾斜面61bにそれぞれ平行である。
The pair of side surfaces 721 of the
各側面721には、Y方向に沿って等間隔で並ぶように複数の開口721aが設けられる。各上部傾斜面722には、Y方向に沿って等間隔で並ぶように複数の開口722aが設けられる。各上部傾斜面722と各下部傾斜面723との境界部分には、Y方向に沿って等間隔で並ぶように複数の開口723aが設けられる。
Each
一方の上部傾斜面722に設けられる複数の開口722aの位置と、他方の上部傾斜面722に設けられる複数の開口722aの位置とは、Y方向において互いにずれることが好ましい。また、一方の上部傾斜面722および下部傾斜面723の境界部分に設けられる複数の開口723aの位置と、他方の上部傾斜面722および下部傾斜面723の境界部分に設けられる複数の開口723aの位置とは、Y方向において互いにずれることが好ましい。
It is preferable that the positions of the plurality of
各下部傾斜面723には、Y方向に沿って等間隔で並ぶように複数の開口724aが設けられ、それよりも低い位置においてY方向に沿って等間隔で並ぶように複数の開口725aが設けられる。一対の下部傾斜面723の下端部間に、Y方向に沿って延びるようにスリット状の開口726aが設けられる。
Each lower
図10に示すように、待機ポッド70の下面には、一対の接続口721c、一対の接続口724c、一対の接続口725cおよびスリット状の開口726cが設けられる。
As shown in FIG. 10, a pair of
一対の接続口721cと複数の開口721a,722a,723aとの間で延びるように、一対の気体供給路721dが設けられる。一方の気体供給路721dは、一方の接続口721cと、一方の側面721、上部傾斜面722および下部傾斜面723に設けられた複数の開口721a,722a,723aとの間で延びる。他方の気体供給路721dは、他方の接続口721cと、他方の側面721、上部傾斜面722および下部傾斜面723に設けられた複数の開口721a,722a,723aとの間で延びる。
A pair of
各気体供給路721dは、供給路721x、複数の供給路721b、複数の供給路722bおよび複数の供給路723bを含む。各接続口721cから上方に延びるように供給路721xが設けられる。複数の供給路721bは、供給路721xの上端から内方に向かって水平に延び、複数の開口721aにそれぞれ接続される。複数の供給路722bは、供給路721xから内方に向かって斜め下方に延び、複数の開口722aにそれぞれ接続される。複数の供給路723bは、供給路721xから内方に向かって斜め上方に延び、複数の開口723aにそれぞれ接続される。
Each
一方の接続口724cと一方の下部傾斜面723の複数の開口724aとの間、および他方の接続口724cと他方の下部傾斜面723の複数の開口724aとの間で延びるように、一対の洗浄液供給路724bが設けられる。各洗浄液供給路724bは、各接続口724cから上方に延び、さらに複数の経路に分岐して内方に向かって水平に延び、複数の開口724aに接続される。
A pair of cleaning liquids extends between one
一方の接続口725cと一方の下部傾斜面723の複数の開口725aとの間、および他方の接続口725cと他方の下部傾斜面723の複数の開口725aとの間で延びるように、一対の排出路725bが設けられる。各排出路725bは、各接続口725cから上方に延び、さらに複数の経路に分岐して内方に向かって水平に延び、複数の開口725aに接続される。開口726aと開口726cとの間で延びるように、排出路726bが設けられる。
A pair of discharges so as to extend between one
なお、実際には、図9に示すように、開口721a,722a,723a,724a,725aがY方向に垂直な共通の平面上に位置することはないが、図10および後述の図12および図13においては、説明の簡便のため、開口721a,722a,723a,724a,725aが、Y方向に垂直な共通の平面上に位置するように示される。同様に、接続口721c,724c,725c、供給路721x,721b,722b,723b、洗浄液供給路724bおよび排出路725bが、Y方向に垂直な共通の平面上に位置するように示される。
Actually, as shown in FIG. 9, the
一対の接続口721cには、気体供給源704から延びる供給管702eが接続される。供給管702eには、バルブV3が介挿される。バルブV3および後述のバルブV4の開閉は、制御部80により制御される。バルブV3が開かれることにより、気体供給源704から供給管702eを通して待機ポッド70の各気体供給路721dに気体(例えば、窒素ガス)が導入される。導入された気体は、複数の開口721a,722a,723aから吐出される。
A
一対の接続口724cには、洗浄液供給源703から延びる供給管702fが接続される。供給管702fには、バルブV4が介挿される。バルブV4が開かれることにより、洗浄液供給源703から供給管702fを通して待機ポッド70の各洗浄液供給路724bに洗浄液が導入される。導入された洗浄液は、複数の開口724aから吐出される。
A
一対の接続口725cには、吸引装置705から延びる排出管705bが接続される。吸引装置705により、洗浄液および除去された汚染物が排出路725bおよび排出管705bを通して吸引される。吸引された洗浄液および汚染物は、図示しない排出部に導かれて排出される。本実施の形態では、待機ポッド70および吸引装置705により洗浄処理部700が構成される。
A
図9に示すように、溝部720の両端部には、端部壁727がそれぞれ設けられる。図11に示すように、各端部壁727の上端部は、側面721の上端部よりも低い。端部壁727には、一方の側面721に沿うように、気泡含有洗浄液を排出するための切り欠き727aが設けられる。また、一方の端部壁727には、切り欠き727aと他方の側面721との間に、スリットノズル61を位置決めするための切り欠き727bが設けられる。
As shown in FIG. 9, end
溝部720に向けられる各端部壁727の面(以下、内面と呼ぶ)には、複数(本例では2つ)の開口727c(図10)が設けられる。複数の開口727cは、例えば上部傾斜面722の複数の開口722aと同じ高さに設けられる。各開口727cから延びるように供給路727dが設けられる。各供給路727dは、図10の供給路721xと連通する。そのため、図10の気体供給源704から供給管702eを通して各気体供給路721dに導入された気体の一部が、供給路727dを通して開口727cから吐出される。
A plurality (two in this example) of
(2−2)洗浄処理
図9〜図11の待機ポッド70における洗浄処理について説明する。図12および図13は、図9〜図11の待機ポッド70における洗浄処理について説明するための模式的断面図である。まず、図12に示すように、スリットノズル61の少なくとも傾斜面61bおよび下面61cを含む下部が待機ポッド70の溝部720内に収容される。この場合、溝部720の一対の側面721が、スリットノズル61の一対の側面61aにそれぞれ対向し、溝部720の一対の上部傾斜面722が、スリットノズル61の一対の傾斜面61bにそれぞれ対向する。また、一対の端部壁727(図11)の内面がスリットノズル61の一対の端面61d(図4)にそれぞれ対向する。
(2-2) Cleaning Process The cleaning process in the
また、スリットノズル61の一方の端面61dには、突出部61fが設けられる。スリットノズル61が待機ポッド70の溝部720内に収容される際に、突出部61fが、図11の端部壁727の切り欠き727bに嵌合される。それにより、待機ポッド70に対してスリットノズル61が正確に位置決めされる。
In addition, a protruding
本例では、スリットノズル61が位置決めされた際に、スリットノズル61の下面61cの高さと溝部720の底部(下部傾斜面723の下端部)の高さとの差Hdが5mm以上となるように、溝部720の形状、ならびに突出部61fおよび切り欠き727bの高さ等が設定される。
In this example, when the
次に、図12(b)に示すように、溝部720の複数の開口724aから洗浄液が吐出される。この場合、溝部720内における洗浄液の液面が徐々に上昇し、その液面が各端部壁727(図11)の切り欠き727aの下端部に達すると、洗浄液が切り欠き727aから待機ポッドの外方に流出する。また、洗浄液の自重により溝部720の底部の開口726aから排出路726bおよび開口726cを通して洗浄液が流出する。切り欠き727aおよび開口726aから流出する洗浄液は、図示しない排出部に導かれる。
Next, as illustrated in FIG. 12B, the cleaning liquid is discharged from the plurality of
切り欠き727a(図11)および開口726aから流出する洗浄液の量が、開口724aから吐出される洗浄液の量と等しくなると、溝部720内における洗浄液の液面が略一定の高さに維持される。洗浄液の供給量、開口726aの大きさ、ならびに切り欠き727aの大きさおよび高さ等を調整することにより、溝部720内における洗浄液の液面の高さを調整することができる。本例では、スリットノズル61の下面61cよりも高くなるように洗浄液の液面の高さが調整される。また、複数の開口722a,727cよりも高くかつ複数の開口721aよりも低くなるように洗浄液の液面の高さが調整される。
When the amount of the cleaning liquid flowing out from the
このように、溝部720内に洗浄液が貯留されることにより、スリットノズル61の少なくとも傾斜面61bの一部および下面61cの全体が洗浄液中に浸漬する状態が維持される。それにより、スリットノズル61の傾斜面61bおよび下面61cに比較的弱い力で付着する汚染物を除去することができる。また、洗浄液の供給および排出が継続されることにより、洗浄液の流れが形成される。その流れの力によってスリットノズル61から汚染物を除去することもできる。さらに、洗浄液の供給および排出が継続されることにより、溝部720内の洗浄液が清浄に維持される。したがって、除去された汚染物がスリットノズル61に再付着することが防止される。
Thus, by storing the cleaning liquid in the
また、溝部720からオーバーフローにより洗浄液が排出される箇所には、汚染物が集中しやすい。そのため、オーバーフローによる排出箇所の近傍において、除去された汚染物がスリットノズル61に再付着する可能性がある。本例では、オーバーフローによって洗浄液が排出される箇所が、溝部720の両端部における切り欠き727a(図11)に限定され、それ以外の箇所からオーバーフローによって洗浄液が排出されることがない。そのため、スリットノズル61の両端部以外の箇所に、除去された汚染物が再付着することが防止される。また、スリットノズル61の長手方向(Y方向)における長さは基板Wの直径よりも大きいので、スリットノズル61の両端部が基板Wの上方を通ることはない。したがって、スリットノズル61の両端部に汚染物が再付着しても、その汚染物に起因して基板Wに現像欠陥等が発生することはない。また、切り欠き727aの近傍に汚染物が集中するので、待機ポッド70のメンテナンスを効率よく行うことができ、待機ポッド70の管理が容易になる。
In addition, contaminants tend to concentrate on the portion where the cleaning liquid is discharged from the
続いて、図13に示すように、溝部720の複数の開口721a,722a,723aおよび図11の開口727cから気体が吐出される。これにより、開口722a,723a,727cから吐出される気体は、溝部720内の洗浄液中に気泡Gとして混入される。
Subsequently, as shown in FIG. 13, gas is discharged from the plurality of
この場合、開口722a,723a,727cから吐出された気体によって形成された気泡Gが、スリットノズル61の傾斜面61bに衝突し、開口727c(図11)から吐出された気体によって形成された気泡Gが、スリットノズル61の端面61d(図4)に衝突する。また、混入された気泡Gがスリットノズル61の下方に移動し、下面61cに衝突する。それにより、気泡Gの衝突力によってスリットノズル61の傾斜面61b、下面61cおよび端面61dに付着する汚染物が除去される。また、気泡Gの移動および衝突等によって生じる圧力波によりスリットノズル61の傾斜面61b、下面61cおよび端面61dに付着する汚染物が粉砕される。さらに、気泡Gが汚染物に付着し、スリットノズル61の傾斜面61b、下面61cおよび端面61dから汚染物を剥ぎ取る。
In this case, the bubble G formed by the gas discharged from the
また、複数の気泡Gは、衝突、破裂および合体を繰り返すことにより、溝部720の上部傾斜面722とスリットノズル61の傾斜面61bとの隙間、端部壁727(図11)の内面とスリットノズル61の端面61d(図4)との隙間、および溝部720の下部傾斜面723とスリットノズル61の下面61cとの間の領域において種々の方向に分散的に移動する。それにより、スリットノズル61の傾斜面61b、下面61cおよび端面61dに対して均一に洗浄を行うことができる。
Further, the plurality of bubbles G are repeatedly collided, ruptured, and merged, whereby the gap between the upper
また、一方の上部傾斜面722に設けられる複数の開口722aの位置と、他方の上部傾斜面722に設けられる複数の開口722aの位置とが、Y方向において互いにずれるように設定されることにより、Y方向において気泡Gが効率的に分散される。同様に、一方の上部傾斜面722および下部傾斜面723の境界部分に設けられる複数の開口723aの位置と、他方の上部傾斜面722および下部傾斜面723の境界部分に設けられる複数の開口723aの位置とが、Y方向において互いにずれるように設定されることにより、Y方向において気泡Gが効率的に分散される。したがって、スリットノズル61の傾斜面61bおよび下面61cに対してより均一に洗浄を行うことができる。
Further, the positions of the plurality of
さらに、複数の開口721aは洗浄液の液面よりも高い位置にあるので、複数の開口721aから気体が吐出されることにより、洗浄液の液面の上方に略水平方向に沿った気体の流れが形成される。この気体の流れが、溝部720内の空間を溝部720の外部から遮断する。それにより、洗浄液が待機ポッド70の外側に飛散することが防止される。したがって、洗浄液がスピンチャック11上の基板Wまたは搬送中の基板W等に付着することが防止される。
Further, since the plurality of
開口722a,723a,727cからの気体の吐出時には、図10の吸引装置705が動作する。これにより、洗浄液および除去された汚染物の一部が複数の開口725aから吸引され、排出される。したがって、除去された汚染物がスリットノズル61の傾斜面61b、下面61cおよび端面61d(図4)に再付着することが抑制される。
When the gas is discharged from the
気体の吐出が開始されてから一定時間が経過した後、開口721a,722a,723a,727cからの気体の吐出が停止されるとともに、開口724aからの洗浄液の吐出が停止される。この場合、切り欠き727a(図11)および開口726aから洗浄液が流出するとともに吸引装置705により開口725aから洗浄液が吸引されることにより、溝部720内の洗浄液の液面が徐々に低下し、溝部720内から洗浄液がほぼ除去される。その後、吸引装置705の動作が停止される。これにより、スリットノズル61の洗浄処理が終了する。
After a certain period of time has elapsed since the start of the gas discharge, the gas discharge from the
(2−3)洗浄液の落下
溝部720から洗浄液が排出される際に、スリットノズル61の下面61cと溝部720の内面との間に洗浄液が保持された状態であると、その洗浄液は、スリットノズル61が待機ポッド70から待避するまで排出されることなく残留する。そのため、下面61cに洗浄液の大きな滴が付着した状態でスリットノズル61が待機ポッド70から基板Wの上方に移動することがある。
(2-3) Drop of cleaning liquid When the cleaning liquid is discharged from the
この場合、スリットノズル61に付着する洗浄液が基板W上に落下し、基板Wの現像欠陥が発生する可能性がある。特に、図3の待機ポッド70cから現像処理ユニットDEV2,DEV3の上方を通って現像処理ユニットDEV1に移動する際には、現像処理ユニットDEV1,DEV2,DEV3のいずれの基板Wにも、スリットノズル61から洗浄液が落下する可能性がある。そのため、例えば乾燥後の基板Wに洗浄液が付着する可能性がある。
In this case, the cleaning liquid adhering to the
また、スリットノズル61に付着する洗浄液中に異物が含まれていると、その異物がスリットノズル61に固着することがある。その場合、固着した異物によって現像液の吐出方向等が変化し、基板W上に適正に現像液の液層を形成することができない可能性がある。
Further, if the cleaning liquid adhering to the
本実施の形態では、溝部720から洗浄液が排出される際に、スリットノズル61の傾斜面61bに付着する洗浄液は、傾斜面61bを伝って下面61cに移動する。スリットノズル61の下面61cに付着する洗浄液は、自重で下部傾斜面723上に落下し、さらに下部傾斜面723を伝って下方に移動し、開口726aを通して排出される。
In the present embodiment, when the cleaning liquid is discharged from the
これにより、スリットノズル61の下面61cと溝部720の下部傾斜面723との間で洗浄液が保持されない。そのため、スリットノズル61が待機ポッド70の溝部720から待避するときに、スリットノズル61の下面61cに洗浄液の大きな滴が付着することが防止される。したがって、スリットノズル61が基板Wの上方を移動するときに、スリットノズル61から基板W上に洗浄液が落下することが防止される。また、洗浄液中に含まれる異物がスリットノズル61に固着することが防止される。その結果、基板Wの現像欠陥の発生が防止される。
As a result, the cleaning liquid is not held between the
また、本実施の形態では、スリットノズル61が位置決めされた状態で、スリットノズル61の下面61cの高さと溝部720の底部(下部傾斜面723の下端部)の高さとの差Hd(図12(a))が5mm以上になる。それにより、スリットノズル61の下面61cと下部傾斜面723との間で洗浄液が保持されることがより確実に防止される。
Further, in the present embodiment, in a state where the
ここで、上記の効果がスリットノズル61の下面61cの高さと溝部720の底部の高さとの差(以下、ノズル下間隔と呼ぶ)に依存することを確認するために、次の評価を行った。
Here, in order to confirm that the above-described effect depends on the difference between the height of the
ノズル下間隔Hdを4mm、5mm、6mmおよび7mmにそれぞれ設定し、上記のように洗浄処理を行った。その後、スリットノズル61の下面61cと下部傾斜面723との間で洗浄液が保持されるか否かを調べた。各々の場合において、洗浄液として純水を用い、洗浄液の供給量を0.6L/mimとした。
The nozzle spacing Hd was set to 4 mm, 5 mm, 6 mm, and 7 mm, respectively, and the cleaning process was performed as described above. Thereafter, whether or not the cleaning liquid is held between the
その結果、ノズル下間隔Hdを5mm、6mmおよび7mmに設定した場合には、スリットノズル61が溝部720から待避するときに、スリットノズル61から溝部720内に洗浄液が落下することがなかった。これは、スリットノズル61の下面61cと下部傾斜面723との間で洗浄液が保持されていなかったことを意味する。一方、ノズル下間隔Hdを4mmに設定した場合には、スリットノズル61が溝部720から待避するときに、液体が弾けるような状態が確認された。このような状態は、スリットノズル61の下面61cが下部傾斜面723から離れることにより、スリットノズル61の下面61cと下部傾斜面723との間に保持されていた洗浄液が分割されたことにより発生したと考えられる。
As a result, when the nozzle lower interval Hd was set to 5 mm, 6 mm, and 7 mm, the cleaning liquid did not fall from the
これにより、ノズル下間隔Hdが5mm以上に設定されることにより、スリットノズル61の下面61cと下部傾斜面723との間で洗浄液が保持されることが確実に防止されることがわかった。したがって、ノズル下間隔Hdが5mm以上に設定されることにより、基板W上への洗浄液の落下およびスリットノズル61への異物の固着がより確実に防止される。その結果、基板Wの現像欠陥の発生がより確実に防止される。
Thus, it was found that the cleaning liquid is reliably prevented from being held between the
また、本実施の形態では、溝部720の横断面の面積が溝部720の上端から下端にかけて徐々に小さくなるように設定されるので、待機ポッド70の大型化を抑制しつつノズル下間隔Hdを十分に確保することができる。
Further, in the present embodiment, the area of the cross section of the
なお、スリットノズル61の形状、溝部720の形状および洗浄液の種類等が異なると、スリットノズル61の下面61cと溝部720の内面との間に洗浄液が保持されることを防止可能なノズル下間隔Hdが異なる場合もある。そのため、他の条件によってスリットノズル61の下面61cと溝部720の内面との間に洗浄液が保持されることが防止されるのであれば、ノズル下間隔Hdが5mmより小さくてもよい。
In addition, if the shape of the
(2−4)効果
このように、本実施の形態に係る現像処理装置1においても、スリットノズル61から基板Wに現像液が吐出された後、待機ポッド70において気泡が混入された洗浄液によりスリットノズル61の洗浄処理が行われる。それにより、スリットノズル61を清浄にすることができる。その結果、スリットノズル61の汚染に起因する基板Wの現像欠陥の発生を防止することができる。
(2-4) Effect As described above, also in the
また、本実施の形態では、スリットノズル61の一部が溝部720内に収容された状態で溝部720に洗浄液が貯留され、貯留された洗浄液中に開口721a,722a,723a,727cから気泡が混入される。これにより、気泡が混入された洗浄液中にスリットノズル61の一部が浸漬された状態が維持されるので、スリットノズル61に付着する汚染物を効果的に除去することができる。したがって、スリットノズル61を効率よく清浄にすることができる。
In the present embodiment, the cleaning liquid is stored in the
(2−5)待機ポッドの変形例
(2−5−1)
開口721a,722a,723a,724a,725a,726a,727cの位置、数、大きさおよび形状等は、上記の例に限定されず、適宜変更されてもよい。例えば、複数の開口721a,722a,723a,724a,725a,727cがそれぞれ複数段に設けられてもよく、複数の開口726aが平行に形成されてもよい。また、開口721a,722a,723a,724a,725a,727cがそれぞれスリット状であってもよく、複数の円形の開口726aがY方向に沿って並ぶように設けられてもよい。
(2-5) Modification of standby pod (2-5-1)
The position, number, size, shape, and the like of the
(2−5−2)
必要量の洗浄液を供給可能であれば、一方の下部傾斜面723にのみ開口724aが設けられてもよい。また、貯留される洗浄液に必要量の気泡を混入可能であれば、開口722a,723a,727cのうち少なくとも1つが設けられなくてもよい。また、洗浄液が待機ポッド70の外側に飛散することを防止可能である場合、または防止する必要がない場合には、開口721aが設けられなくてもよい。
(2-5-2)
The
(2−5−3)
第2の実施の形態では、上部傾斜面722および端部壁727に気体を吐出するための開口722a,723a,727cが設けられるが、開口722a,723a,727cの代わりに、または開口722a,723a,727cに加えて、下部傾斜面723に気体を吐出するための開口が設けられてもよい。また、第2の実施の形態では、下部傾斜面723に液体を吐出するための開口724aが設けられるが、開口724aの代わりに、または開口724aに加えて、上部傾斜面722に洗浄液を排出するための開口が設けられてもよい。
(2-5-3)
In the second embodiment,
(2−5−4)
第2の実施の形態では、開口721a,722a,723a,727cからの気体の吐出時に吸引装置705による吸引が行われるが、開口724aからの洗浄液の吐出のみが行われる期間にも、吸引装置705による吸引が行われてもよい。この場合、除去された汚染物がスリットノズル61に再付着することをより確実に防止することができる。また、汚染物の再付着を防止可能である場合または防止する必要がない場合には、吸引装置705による吸引が行われなくてもよい。その場合、開口725aが設けられずに、開口726aおよび切り欠き727aからの排出のみが行われてもよい。
(2-5-4)
In the second embodiment, suction is performed by the
(2−5−5)
第2の実施の形態では、洗浄液が開口726aから自重によって排出されるが、吸引装置705によって洗浄液が開口726aから吸引されてもよい。また、溝部720内に洗浄液が残留することを防止可能である場合、または防止する必要がない場合には、開口726aが設けられずに、開口725aおよび切り欠き727aからの排出のみが行われてもよい。
(2-5-5)
In the second embodiment, the cleaning liquid is discharged from the
(2−5−6)
第2の実施の形態では、両方の端部壁727に切り欠き727aが設けられるが、一方の端部壁727にのみ切り欠き727aが設けられてもよい。また、スリットノズル61を清浄にすることが可能であれば、溝部720の他の箇所から洗浄液を流出させてもよい。
(2-5-6)
In the second embodiment, the
(2−5−7)
第2の実施の形態では、開口722a,723a,727cから気体が吐出され、開口724aから洗浄液が吐出されるが、上記第1の実施の形態と同様に、洗浄液中に気体を混入するための気体混入装置が別途設けられ、気体混入装置において気体が混入された洗浄液(気体含有洗浄液)が722a,723a,727c,724aの少なくとも1つから吐出されてもよい。また、気体含有洗浄液を吐出するための開口が別途設けられてもよい。
(2-5-7)
In the second embodiment, gas is discharged from the
(3)他の実施の形態
上記第1および第2の実施の形態は、スリット状の吐出口61eを有するスリットノズル61を備えた現像処理装置に本発明が適用された例であるが、これに限らず、現像液を吐出するための1または複数の小孔を有する現像液ノズルを備えた現像処理装置に本発明が適用されてもよい。その場合も、上記実施の形態と同様に、気泡が混入された洗浄液によって現像液ノズルの洗浄処理が行われることにより、現像液ノズルを清浄にすることができる。それにより、現像液のノズルの汚染に起因する基板Wの現像欠陥の発生を防止することができる。
(3) Other Embodiments The first and second embodiments described above are examples in which the present invention is applied to a development processing apparatus including a
(4)請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
(4) Correspondence between each constituent element of claim and each element of the embodiment Hereinafter, an example of correspondence between each constituent element of the claim and each element of the embodiment will be described. It is not limited to.
上記実施の形態では、現像処理装置1が現像処理装置の例であり、スピンチャック11が基板保持部の例であり、スリットノズル61が現像液ノズルの例であり、下面61cが下面の例であり、吐出口61eが現像液吐出口の例であり、洗浄処理部700が洗浄処理部の例であり、ノズル昇降機構62およびノズルスライド機構63が移動装置の例であり、気泡混入装置702が請求項2の気泡混入部の例であり、待機ポッド70が洗浄液供給部の例である。
In the above embodiment, the
また、溝部710が収容部および請求項4の溝部の例であり、開口712aが請求項3の洗浄液吐出口および請求項5の開口の例であり、Y方向が一方向の例であり、側面711、傾斜面712および底面713が請求項4の内面の例であり、流出部715が流出部の例であり、開口713aが排出口の例であり、吸引装置705が吸引装置の例である。また、溝部720が貯留部および請求項10の溝部の例であり、開口722a,723aが請求項9の気泡混入部および請求項10の気体吐出口の例であり、側面721、上部傾斜面722および下部傾斜面723が請求項10の内面の例であり、開口724aが請求項10の洗浄液吐出口の例である。
Further, the
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。 As each constituent element in the claims, various other elements having configurations or functions described in the claims can be used.
本発明は、種々の基板の現像処理に有効に利用することができる。 The present invention can be effectively used for development processing of various substrates.
1 現像処理装置
6 現像液供給部
11 スピンチャック
61 スリットノズル
61a 側面
61b 傾斜面
61c 下面
61d 端面
61e 吐出口
62 ノズル昇降機構
63 ノズルスライド機構
70 待機ポッド
700 洗浄処理部
702 気泡混入装置
705 吸引装置
710,720 溝部
711,721 側面
712 傾斜面
712a,713a,721a,722a,723a,724a,725a,726a,726c,727c 開口
712b,721d,724b 洗浄液供給路
712c,713c,721c,724c,725c 接続口
713 底面
713b,725b,726b 排出路
715 流出部
721d 気体供給路
721x,721b,722b,723b,727d 供給路
722 上部傾斜面
723 下部傾斜面
DEV 現像処理ユニット
DESCRIPTION OF
(1−6−2)
第1の実施の形態では、傾斜面712に洗浄液を吐出するための開口712aが設けられるが、開口712aの代わりに、または開口712aに加えて、底面713に洗浄液を吐出するための開口が設けられてもよい。また、第1の実施の形態では、底面713に洗浄液を排出するための開口713aが設けられるが、開口713aの代わりに、または開口713aに加えて、傾斜面712に洗浄液を排出するための開口が設けられてもよい。
(1-6-2)
In the first embodiment, the
次に、図12(b)に示すように、溝部720の複数の開口724aから洗浄液が吐出される。この場合、溝部720内における洗浄液の液面が徐々に上昇し、その液面が各端部壁727(図11)の切り欠き727aの下端部に達すると、洗浄液が切り欠き727aから待機ポッド70の外方に流出する。また、洗浄液の自重により溝部720の底部の開口726aから排出路726bおよび開口726cを通して洗浄液が流出する。切り欠き727aおよび開口726aから流出する洗浄液は、図示しない排出部に導かれる。
Next, as illustrated in FIG. 12B, the cleaning liquid is discharged from the plurality of
ここで、上記の効果がスリットノズル61の下面61cの高さと溝部720の底部の高さとの差Hd(以下、ノズル下間隔Hdと呼ぶ)に依存することを確認するために、次の評価を行った。
Here, in order to confirm that the above effect depends on the difference Hd between the height of the
また、本実施の形態では、スリットノズル61の一部が溝部720内に収容された状態で溝部720に洗浄液が貯留され、貯留された洗浄液中に開口722a,723a,727cから気泡が混入される。これにより、気泡が混入された洗浄液中にスリットノズル61の一部が浸漬された状態が維持されるので、スリットノズル61に付着する汚染物を効果的に除去することができる。したがって、スリットノズル61を効率よく清浄にすることができる。
Further, in the present embodiment, a portion of the
(2−5−7)
第2の実施の形態では、開口722a,723a,727cから気体が吐出され、開口724aから洗浄液が吐出されるが、上記第1の実施の形態と同様に、洗浄液中に気体を混入するための気体混入装置が別途設けられ、気体混入装置において気体が混入された洗浄液(気体含有洗浄液)が開口722a,723a,727c,724aの少なくとも1つから吐出されてもよい。また、気体含有洗浄液を吐出するための開口が別途設けられてもよい。
(2-5-7)
In the second embodiment, gas is discharged from the
Claims (10)
現像液を吐出するための現像液吐出口を有する現像液ノズルと、
前記基板保持部により保持される基板の上方を除く待機位置に設けられ、前記現像液ノズルの洗浄処理を行う洗浄処理部と、
前記基板保持部により保持される基板に対して前記現像液ノズルを相対的に移動させるとともに、前記基板保持部により保持される基板に前記現像液ノズルにより現像液が吐出された後に前記現像液ノズルを前記待機位置に移動させる移動装置とを備え、
前記洗浄処理部は、気泡が混入された洗浄液により前記現像液ノズルの洗浄処理を行うように構成される、現像処理装置。 A substrate holding section for holding the substrate substantially horizontally;
A developer nozzle having a developer outlet for discharging the developer;
A cleaning processing unit that is provided at a standby position excluding the upper side of the substrate held by the substrate holding unit, and performs a cleaning process of the developer nozzle;
The developer nozzle is moved relative to the substrate held by the substrate holder, and the developer nozzle is ejected by the developer nozzle onto the substrate held by the substrate holder. And a moving device for moving the device to the standby position,
The development processing apparatus, wherein the cleaning processing unit is configured to perform a cleaning process on the developer nozzle with a cleaning liquid in which bubbles are mixed.
洗浄液中に気泡を混入させる気泡混入部と、
前記気泡混入部により気泡が混入された洗浄液を吐出するための洗浄液吐出口を有する洗浄液供給部とを含む、請求項1記載の現像処理装置。 The cleaning processing unit
A bubble mixing part for mixing bubbles in the cleaning liquid;
The development processing apparatus according to claim 1, further comprising a cleaning liquid supply unit having a cleaning liquid discharge port for discharging the cleaning liquid in which bubbles are mixed by the bubble mixing unit.
前記収容部に前記洗浄液吐出口が設けられる、請求項2記載の現像処理装置。 The cleaning liquid supply section has a storage section capable of storing a part including at least the developer discharge port of the developer nozzle,
The development processing apparatus according to claim 2, wherein the cleaning liquid discharge port is provided in the housing portion.
前記現像液吐出口は、前記一方向に沿って延びるように前記下面に設けられ、
前記収容部は、前記一方向に沿って延び、前記現像液ノズルの少なくとも前記下面を収容可能な溝部を含み、
前記溝部は、一方向に沿って延びる内面を有し、
前記洗浄液吐出口は、前記溝部の前記内面に設けられる、請求項2または3記載の現像処理装置。 The developer nozzle has a lower surface extending along one direction,
The developer discharge port is provided on the lower surface so as to extend along the one direction,
The accommodating portion includes a groove portion that extends along the one direction and can accommodate at least the lower surface of the developer nozzle,
The groove has an inner surface extending along one direction,
The development processing apparatus according to claim 2, wherein the cleaning liquid discharge port is provided on the inner surface of the groove.
前記現像液ノズルの少なくとも前記現像液吐出口を含む一部を収容可能でかつ洗浄液を貯留可能な貯留部と、
前記貯留部に貯留された洗浄液に気泡を混入させる気泡混入部とを含む、請求項1記載の現像処理装置。 The cleaning processing unit
A storage section capable of storing at least a part of the developer nozzle including the developer discharge port and storing a cleaning liquid;
The development processing apparatus according to claim 1, further comprising a bubble mixing unit that mixes bubbles into the cleaning liquid stored in the storage unit.
一方向に沿って延びる下面を有し、
前記現像液吐出口は、前記一方向に沿って延びるように前記下面に設けられ、
前記収容部は、前記一方向に沿って延び、前記現像液ノズルの少なくとも前記下面を収容可能な溝部を含み、
前記溝部は、一方向に沿って延びる内面を有し、
前記溝部の前記内面に、洗浄液を吐出するための洗浄液吐出口および気体を吐出するための気体吐出口が設けられる、請求項9記載の現像処理装置。 The developer nozzle is
Having a lower surface extending along one direction;
The developer discharge port is provided on the lower surface so as to extend along the one direction,
The accommodating portion includes a groove portion that extends along the one direction and can accommodate at least the lower surface of the developer nozzle,
The groove has an inner surface extending along one direction,
The development processing apparatus according to claim 9, wherein a cleaning liquid discharge port for discharging a cleaning liquid and a gas discharge port for discharging a gas are provided on the inner surface of the groove.
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