JP2013236012A - アバランシェフォトダイオード及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】高速応答性を改善し、特性の経時変化を低減することができるアバランシェフォトダイオードを得る。
【解決手段】n型InP基板1上に、AlInAsアバランシェ増倍層3、p型AlInAs電界制御層4、アンドープ光吸収層5、及び窓層6が順に積層されている。窓層6とアンドープ光吸収層5の一部にp型領域7が設けられている。p型AlInAs電界制御層4のドーパントとしてカーボンが用いられている。p型領域7のドーパントとしてZnが用いられている。p型領域7の底面がアンドープ光吸収層5と窓層6の界面より下にある。
【選択図】図1
【解決手段】n型InP基板1上に、AlInAsアバランシェ増倍層3、p型AlInAs電界制御層4、アンドープ光吸収層5、及び窓層6が順に積層されている。窓層6とアンドープ光吸収層5の一部にp型領域7が設けられている。p型AlInAs電界制御層4のドーパントとしてカーボンが用いられている。p型領域7のドーパントとしてZnが用いられている。p型領域7の底面がアンドープ光吸収層5と窓層6の界面より下にある。
【選択図】図1
Description
本発明は、光ファイバ通信等に用いられるアバランシェフォトダイオード及びその製造方法に関する。
アバランシェダイオードは光吸収層とアバランシェ増倍層を備える。光が光吸収層に入ると電子−正孔対が発生する。それらがキャリアとなってアバランシェ増倍層に到達すると雪崩的にキャリアの増倍が起こる。これにより、入射した光を増幅して信号として取り出すことができるため、微弱な光信号を受信する長距離光通信などにアバランシェダイオードがよく用いられている。
アバランシェ増倍を起こすには、アバランシェ増倍層に高い電界を印加する必要がある。しかし、光吸収層に高い電界が印加されると光吸収層でトンネルブレイクダウンが発生してしまう。そこで、電界分布を制御してアバランシェ増倍層にのみ高い電界がかかるようにする電界制御層がアバランシェ増倍層と光吸収層の間に設けられる。一般的に、アバランシェ増倍層内の電界強度は600kV/cm以上、光吸収層内の電界強度は200kV/cm以下が好ましい。
アバランシェ増倍層の材料によって、発生した電子と正孔のどちらを増倍しやすいかが異なる。高速光通信用途では低雑音・高速応答性などが求められるため、電子を増倍しやすい材料をアバランシェ増倍層に用いることが多い。この場合には電界制御層をp型とし、そのドーパントとしてドーピングが容易なZnやBeを用いることが多い。
光吸収層の上部には光を透過させる窓層を積層することが多い。窓層は暗電流を低減するためにバンドギャップの広い材料からなる。窓層の一部に電気的なコンタクトを取るためのp型領域が形成される(例えば、特許文献1参照)。
電界制御層にドーピングしたBeやZnは、熱による拡散定数が大きい。このため、プロセス中の熱処理などにより電界制御層の両端のアンドープ層に拡散し、アバランシェフォトダイオードの特性に大きく影響する。従って、プロセス中の熱履歴は極力少なくしなければならなかった。プロセス中の熱処理の温度としては、450〜540℃程度が一般的である(例えば、特許文献2,3参照)。
拡散定数の小さいp型ドーパントとしてカーボンが知られている(例えば、特許文献4,5,6参照)。そこで、熱処理時間を長くするため、カーボンを電界制御層のドーパントとして用いることが考えられる。しかし、カーボンはBeやZnに比べてドーピング自体が難しい。従って、電界制御層に求められるドーピング濃度を達成するためには、電界制御層の成長温度を光吸収層等の他の層より下げる必要がある。これにより、水素などの不要な元素が電界制御層に取り込まれやすくなっていた。不要な元素は、アバランシェフォトダイオードの動作中に移動しやすく、キャリアの活性化などに影響を与えるため、ブレイクダウン電圧などの特性の経時変化の原因となっていた。
また、従来のアバランシェフォトダイオードでは、窓層と光吸収層の界面での荷電子帯・伝導帯のエネルギー準位の不連続が大きくキャリアの移動が阻害されるため、高速応答性が悪いという問題があった。
本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、その目的は高速応答性を改善し、特性の経時変化を低減することができるアバランシェフォトダイオード及びその製造方法を得るものである。
本発明に係るアバランシェフォトダイオードは、基板と、前記基板上に順に積層されたアバランシェ増倍層、p型の電界制御層、光吸収層、及び窓層と、前記窓層と前記光吸収層の一部に設けられたp型領域とを備え、前記電界制御層のドーパントとしてカーボンが用いられ、前記p型領域のドーパントとしてZnが用いられ、前記p型領域の底面が前記光吸収層と前記窓層の界面より下にあることを特徴とする。
本発明により、高速応答性を改善し、特性の経時変化を低減することができる。
本発明の実施の形態に係るアバランシェフォトダイオード及びその製造方法について図面を参照して説明する。同じ又は対応する構成要素には同じ符号を付し、説明の繰り返しを省略する場合がある。
実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1に係るアバランシェフォトダイオードを示す断面図である。n型InP基板1上に、n型AlInAsバッファ層2、AlInAsアバランシェ増倍層3、p型AlInAs電界制御層4、アンドープ光吸収層5、及び窓層6が順に積層されている。p型AlInAs電界制御層4のドーパントとしてカーボンが用いられている。
図1は、本発明の実施の形態1に係るアバランシェフォトダイオードを示す断面図である。n型InP基板1上に、n型AlInAsバッファ層2、AlInAsアバランシェ増倍層3、p型AlInAs電界制御層4、アンドープ光吸収層5、及び窓層6が順に積層されている。p型AlInAs電界制御層4のドーパントとしてカーボンが用いられている。
n型AlInAsバッファ層2のキャリア濃度は5×1018cm−3以下、層厚は0.1〜1μmである。AlInAsアバランシェ増倍層3のキャリア濃度は0.1×1015〜8×1015cm−3、層厚は0.05〜0.5μmである。p型AlInAs電界制御層4のキャリア濃度は2×1017〜2×1018cm−3、層厚は0.01〜0.2μmである。アンドープ光吸収層5の層厚は0.5〜2.5μmである。窓層6はアンドープまたはn型にドーピングされ、キャリア濃度は3×1016cm−3以下、層厚は0.5〜2μmである。
窓層6とアンドープ光吸収層5の一部にp型領域7が設けられている。p型領域7のドーパントとしてZnが用いられている。Zn拡散はアンドープ光吸収層5まで到達し、p型領域7の底面がアンドープ光吸収層5と窓層6の界面より下にある。
p型領域7上にInGaAsコンタクト層8が設けられ、InGaAsコンタクト層8に接するようにp側電極9が設けられている。InGaAsコンタクト層8以外の領域において窓層6の上面は、パッシベーション膜兼反射防止膜であるSiN膜10に覆われている。n型InP基板1の裏面にn側電極11が設けられている。
続いて、本実施の形態に係るアバランシェフォトダイオードの製造方法を説明する。MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法やMBE(Molecular Beam Epitaxy)法により、n型InP基板1上にn型AlInAsバッファ層2、AlInAsアバランシェ増倍層3、p型AlInAs電界制御層4、アンドープ光吸収層5、窓層6、及びInGaAsコンタクト層8を順に形成する。
次に、円形に穴を開けた絶縁膜をマスクにしてZnを選択熱拡散法により拡散させ(Znの固相拡散)、窓層6とアンドープ光吸収層5の一部にp型領域7を形成する。
次に、p型領域7上のInGaAsコンタクト層を、幅5um程度のリング状に残るようにエッチングする。そして、SiN膜10を形成する。このSiN膜10の厚さdは、屈折率をn、入射する光の波長をλとしたとき、d=λ/4/nに近くなるよう調整し、反射防止膜とする。
次に、InGaAsコンタクト層8上のSiN膜10の一部を除去する。InGaAsコンタクト層8に接するようp側電極9をパターニングして形成する。その後、n型InP基板1の裏面を研磨し、n側電極11を形成する。
続いて、本実施の形態に係るアバランシェフォトダイオードの動作を説明する。n側電極11にプラス、p側電極9にマイナスの電圧を印加した状態でアンドープ光吸収層5に光が入射すると、電子と正孔が発生する。発生した電子はn型InP基板1側に移動するため、p型AlInAs電界制御層4を通過した後にAlInAsアバランシェ増倍層3に到達する。AlInAsアバランシェ増倍層3には、増倍が起きる程度に高い電界が印加されており、入ってきた電子が電子−正孔対を作り、さらに発生した電子が別の電子−正孔対を作ると言う作用を繰り返し、信号が増倍される。
続いて本実施の形態の効果を比較例と比較して説明する。図2は、比較例に係るアバランシェフォトダイオードを示す断面図である。比較例では、p型AlInAs電界制御層4のドーパントとしてBe又はZnを用いている。このp型AlInAs電界制御層4のキャリア拡散を抑制する必要があるため、Zn拡散時間を長くできない。また、電界が強くかかるp型領域7は、バンドギャップの大きい層で保護して信頼性を向上するため、窓層6内のみに設けられている。従って、Zn拡散はアンドープ光吸収層5に到達しない。
図3は、比較例に係るアバランシェフォトダイオードのエネルギー準位を示す図である。比較例では、窓層6とアンドープ光吸収層5の界面での荷電子帯・伝導帯のエネルギー準位の不連続が大きくキャリアの移動が阻害されるため、高速応答性が悪い。
図4は、本発明の実施の形態1に係るアバランシェフォトダイオードのエネルギー準位を示す図である。本実施の形態ではアンドープ光吸収層5の一部をp型化する。これにより、アンドープ光吸収層5と窓層6の界面付近に正孔が多く存在するため、界面での荷電子帯・伝導帯のエネルギー準位差をキャリアのドリフトで乗り越える必要がなくなり、高速応答性を高めることができる。
アンドープ光吸収層5に到達したZnの中には、拡散速度が急激に速くなってアンドープ光吸収層5を通過しp型AlInAs電界制御層4付近まで達するものがある。比較例では、このZnの拡散速度の速い成分は、p型AlInAs電界制御層4のドーパントであるBeやZnと相互拡散する。このため、p型AlInAs電界制御層4のキャリア濃度が著しく低下し、所望の電界分布が得られず、アバランシェフォトダイオードとして動作しないことがある。一方、本実施の形態では、p型AlInAs電界制御層4のドーパントとしてカーボンを用いるため、相互拡散によるp型AlInAs電界制御層4のキャリア濃度の低下は発生しない。
また、比較例では、拡散係数が大きいBeやZnのp型AlInAs電界制御層4からの熱拡散を防ぐため、Zn拡散時間を長くできない。一方、本実施の形態では、p型AlInAs電界制御層4のドーパントとしてカーボンを用いるため、Zn拡散時間を長くできる。これにより、プロセス中での熱履歴を増加させ、カーボンを用いたp型AlInAs電界制御層4中の水素などの不要な元素を熱的に拡散させ除去することができる。さらに、不要な元素をZnの拡散速度の速い成分と反応させることにより、その濃度を下げることができる。この結果、アバランシェフォトダイオード使用時における不要な元素の移動を防ぎ、特性の経時変化を低減することができる。
また、p型AlInAs電界制御層4の不純物濃度が2×1017cm−3より低いと、必要な緩和量を得るためにp型AlInAs電界制御層4の層厚を0.2μmより厚くしなければならず、キャリアの走行時間が増加して高速応答性が悪くなる。従って、p型AlInAs電界制御層4の不純物濃度を2×1017cm−3以上とすることが好ましい。
また、p型AlInAs電界制御層4のキャリア濃度が高いと、成長温度が低くなり水素などの不要な元素が増える。また、キャリア濃度が2×1018cm−3より高いと、p型AlInAs電界制御層4の層厚が10nmより薄くなり、層厚制御性に問題がある。従って、p型AlInAs電界制御層4の不純物濃度を2×1018cm−3以下にすることが好ましい。
また、Znの拡散速度の速い成分は、拡散温度が高い方が多くなる。従って、特性の経時変化を低減するために、Znの固相拡散時の温度を540℃より高くすることが好ましい。
なお、基板にはInP、n型バッファ層にはInPやAlInAs、アバランシェ増倍層にはAlInAsやAlAsSb、電界制御層にはAlInAs、AlGaInAs、InGaAsP、InP、光吸収層にはInGaAsやInGaAsP、窓層にはInP、InGaAsP、AlGaInAs、AlInAsなどを用いる。ただし、各層に必要な特性が得られるならどの材料を使用してもよく、これらの材料は発明の範囲を限定するものではない。また、n型バッファ層をInGaAsなどのコンタクト層とし、基板はFeドープ基板などの半絶縁性基板としてもよい。
実施の形態2.
図5は、本発明の実施の形態2に係るアバランシェフォトダイオードを示す断面図である。半絶縁性の埋め込み半導体層12が、AlInAsアバランシェ増倍層3、p型AlInAs電界制御層4、アンドープ光吸収層5、及び窓層6の側面を埋め込んでいる。ただし、埋め込み半導体層12は少なくともアンドープ光吸収層5を埋め込めばよい。埋め込み半導体層12はアンドープ光吸収層5より広いバンドギャップを持つ。
図5は、本発明の実施の形態2に係るアバランシェフォトダイオードを示す断面図である。半絶縁性の埋め込み半導体層12が、AlInAsアバランシェ増倍層3、p型AlInAs電界制御層4、アンドープ光吸収層5、及び窓層6の側面を埋め込んでいる。ただし、埋め込み半導体層12は少なくともアンドープ光吸収層5を埋め込めばよい。埋め込み半導体層12はアンドープ光吸収層5より広いバンドギャップを持つ。
この埋め込み半導体層12により、バンドギャップの狭いアンドープ光吸収層5が露出することを防ぎ、素子信頼性を向上させることができる。なお、p型領域7と埋め込み半導体層12との間にアンドープの窓層6が存在するため、リーク電流は増加しない。
実施の形態3.
図6は、本発明の実施の形態3に係るアバランシェフォトダイオードを示す断面図である。アンドープ光吸収層5と隣接する層との間にグレーデッド層13が設けられている。その他の構成は実施の形態2と同様である。これにより、アンドープ光吸収層5と隣接する層との荷電子帯・伝導帯不連続が小さくなりキャリアの移動が容易になるため、高速応答性を向上させることができる。なお、グレーデッド層13はアンドープ光吸収層5の両側にあることが好ましいが、片方だけにある場合でも効果がある。
図6は、本発明の実施の形態3に係るアバランシェフォトダイオードを示す断面図である。アンドープ光吸収層5と隣接する層との間にグレーデッド層13が設けられている。その他の構成は実施の形態2と同様である。これにより、アンドープ光吸収層5と隣接する層との荷電子帯・伝導帯不連続が小さくなりキャリアの移動が容易になるため、高速応答性を向上させることができる。なお、グレーデッド層13はアンドープ光吸収層5の両側にあることが好ましいが、片方だけにある場合でも効果がある。
実施の形態4.
図7は、本発明の実施の形態4に係るアバランシェフォトダイオードを示す断面図である。n型AlInAsバッファ層2の代わりにDBR14(Distributed Bragg Reflector)を設けている。その他の構成は実施の形態3と同様である。DBR14により、アンドープ光吸収層5を透過した光を反射させ、再びアンドープ光吸収層5へ戻すことで感度を向上させることができる。
図7は、本発明の実施の形態4に係るアバランシェフォトダイオードを示す断面図である。n型AlInAsバッファ層2の代わりにDBR14(Distributed Bragg Reflector)を設けている。その他の構成は実施の形態3と同様である。DBR14により、アンドープ光吸収層5を透過した光を反射させ、再びアンドープ光吸収層5へ戻すことで感度を向上させることができる。
実施の形態5.
図8は、本発明の実施の形態5に係るアバランシェフォトダイオードを示す断面図である。このアバランシェフォトダイオードは裏面入射型である。この場合、表面入射型とは異なり、p型InGaAsコンタクト層8やp側電極9は、リング状でなくてよい。表面入射型の場合リング状のp側電極9に隠れて光を入射できない領域があったが、裏面入射型にすることでその部分でも光を受けることができ、受光領域のサイズを拡大することができる。また、基板をFeドープ基板にすれば、基板での光の吸収が少なくなり量子効率が向上する。
図8は、本発明の実施の形態5に係るアバランシェフォトダイオードを示す断面図である。このアバランシェフォトダイオードは裏面入射型である。この場合、表面入射型とは異なり、p型InGaAsコンタクト層8やp側電極9は、リング状でなくてよい。表面入射型の場合リング状のp側電極9に隠れて光を入射できない領域があったが、裏面入射型にすることでその部分でも光を受けることができ、受光領域のサイズを拡大することができる。また、基板をFeドープ基板にすれば、基板での光の吸収が少なくなり量子効率が向上する。
1 n型InP基板(基板)
3 AlInAsアバランシェ増倍層(アバランシェ増倍層)
4 p型AlInAs電界制御層(電界制御層)
5 アンドープ光吸収層(光吸収層)
6 窓層(窓層)
7 p型領域(p型領域)
12 埋め込み半導体層(埋め込み半導体層)
3 AlInAsアバランシェ増倍層(アバランシェ増倍層)
4 p型AlInAs電界制御層(電界制御層)
5 アンドープ光吸収層(光吸収層)
6 窓層(窓層)
7 p型領域(p型領域)
12 埋め込み半導体層(埋め込み半導体層)
Claims (5)
- 基板と、
前記基板上に順に積層されたアバランシェ増倍層、p型の電界制御層、光吸収層、及び窓層と、
前記窓層と前記光吸収層の一部に設けられたp型領域とを備え、
前記電界制御層のドーパントとしてカーボンが用いられ、
前記p型領域のドーパントとしてZnが用いられ、
前記p型領域の底面が前記光吸収層と前記窓層の界面より下にあることを特徴とするアバランシェフォトダイオード。 - 前記電界制御層の不純物濃度は2×1017cm−3以上、2×1018cm−3以下であることを特徴とする請求項1に記載のアバランシェフォトダイオード。
- 前記光吸収層の側面を埋め込み、前記光吸収層より広いバンドギャップを持つ埋め込み半導体層を更に備えることを特徴とする請求項1又は2に記載のアバランシェフォトダイオード。
- 基板上に増倍層、p型の電界制御層、光吸収層、及び窓層を順に形成する工程と、
前記窓層と前記光吸収層の一部にp型領域をZnの固相拡散により形成する工程とを備え、
前記電界制御層のドーパントとしてカーボンを用い、
前記p型領域の底面が前記光吸収層と前記窓層の界面より下にあることを特徴とするアバランシェフォトダイオードの製造方法。 - 前記Znの固相拡散時の温度を540℃より高くすることを特徴とする請求項4に記載のアバランシェフォトダイオードの製造方法。
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