JP2013235990A5 - - Google Patents

Description

上記の目的を達成する本発明の一つの側面に係るリソグラフィー装置は、基板に対してパターンの形成を行うリソグラフィー装置であって、
前記基板を保持して移動可能な保持部と、
前記基板上の複数の計測位置に関して計測を行うために前記保持部とともに移動される前記基板の該移動の方向に沿った複数の計測位置にそれぞれ投光する複数の投光部と、前記複数の投光部によりそれぞれ投光されて前記基板で反射された複数の光を受光する受光部とを有し、前記受光部の出力に基づいて前記基板の面位置を計測する面位置計測器と、
前記複数の計測位置それぞれに関して前記受光部の出力が許容範囲内になるように前記面位置計測器の計測条件を設定する制御部と、を有し、
前記制御部は、
前記複数の計測位置のそれぞれに関する、前記保持部の移動中における複数のタイミングのうち対応する一のタイミングでの、前記複数の投光部のうちの対応する投光部の投光による前記受光部の出力に基づいて、前記計測条件を調整し、
前記複数のタイミングのうち一のタイミングにおいて前記受光部の出力が許容範囲内にある場合、前記複数のタイミングのうち以降のタイミングでの調整を行わずに、前記計測条件を設定する、ことを特徴とする。

Claims (8)

1. 基板に対してパターンの形成を行うリソグラフィー装置であって、
   前記基板を保持して移動可能な保持部と、
   前記基板上の複数の計測位置に関して計測を行うために前記保持部とともに移動される前記基板の該移動の方向に沿った複数の計測位置にそれぞれ投光する複数の投光部と、前記複数の投光部によりそれぞれ投光されて前記基板で反射された複数の光を受光する受光部とを有し、前記受光部の出力に基づいて前記基板の面位置を計測する面位置計測器と、
   前記複数の計測位置それぞれに関して前記受光部の出力が許容範囲内になるように前記面位置計測器の計測条件を設定する制御部と、を有し、
   前記制御部は、
   前記複数の計測位置のそれぞれに関する、前記保持部の移動中における複数のタイミングのうち対応する一のタイミングでの、前記複数の投光部のうちの対応する投光部の投光による前記受光部の出力に基づいて、前記計測条件を調整し、
   前記複数のタイミングのうち一のタイミングにおいて前記受光部の出力が許容範囲内にある場合、前記複数のタイミングのうち以降のタイミングでの調整を行わずに、前記計測条件を設定する、
   ことを特徴とするリソグラフィー装置。
2. 前記制御部は、前記一のタイミングにおいて前記受光部の出力が前記許容範囲内にない場合、前記受光部の出力に基づき前記計測条件を調整して前記複数のタイミングのうち次のタイミングで前記受光部の出力を行わせることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィー装置。
3. 前記制御部は、前記パターンの形成を開始する前に前記調整を行うことを特徴とする請求項１または２に記載のリソグラフィー装置。
4. 前記制御部は、前記保持部の移動を伴う前記パターンの形成と並行して前記調整を行うことを特徴とする請求項１または２に記載のリソグラフィー装置。
5. 前記制御部は、前記計測条件を設定するタイミングを設定可能に構成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のリソグラフィー装置。
6. 前記制御部は、前記計測条件として、前記複数の投光部の出力値に関する条件を設定することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のリソグラフィー装置。
7. 前記制御部は、前記計測条件として、前記受光部の出力値に関する条件を設定することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のリソグラフィー装置。
8. 請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載のリソグラフィー装置を用いて基板に対してパターンの形成を行う工程と、
   前記工程でパターンの形成が行われた前記基板を処理する工程と、
   を有することを特徴とする物品製造方法。