JP2013232012A - Anti-reflection film and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anti-reflection film which is superior in appearance characteristics by suppression of interference unevenness due to reflection, has high anti-reflection performance and allows the reduction of exfoliation of a hard coat layer, and a manufacturing method thereof.SOLUTION: The anti-reflection film comprises a polyester film (1), an easy-adhesion layer formed on the polyester film (1), a hard coat layer (2) formed on the easy-adhesion layer, and a low-refractive index layer (3) formed on the hard coat layer (2). The hard coat layer has a refractive index of 1.58 to 1.85, the easy-adhesion layer has a refractive index of 1.61 to 1.75, the polyester film having the easy-adhesion layer formed thereon has a reflectance of 6.1% or more and 8% or less on the easy-adhesion layer side, the low-refractive index layer (3) has a refractive index of 1.30 to 1.45, and the anti-reflection film has luminous reflectance of 1.39% or less.

Description

本発明は、反射防止フィルムに関する。このような反射防止フィルムは、CRTディスプレイ、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、ELディスプレイ等のディスプレイ表示画面、窓、ショーウィンド等の住建部材の表面に好適に適用され、このようなものに適用すれば、ディスプレイ等の外からの光の反射を防止しうる。   The present invention relates to an antireflection film. Such an antireflection film is suitably applied to the surface of a display member such as a CRT display, a plasma display, a liquid crystal display, a projection display, and an EL display, and a housing material such as a window and a show window. When applied, reflection of light from the outside of the display or the like can be prevented.

近年、マルチメディアの進展に伴い様々なディスプレイが普及してきている。そして、このようなディスプレイに対して各種機能を有する様々な機能性フィルムが要求されている。なかでも、光の反射防止を目的とした反射防止フィルムには大きな期待がよせられている。   In recent years, various displays have become widespread with the progress of multimedia. And various functional films which have various functions with respect to such a display are requested | required. Among these, great expectations are placed on antireflection films for the purpose of preventing light reflection.

このような反射防止フィルムには、通常、優れた機械的特性、耐熱性、耐薬品性等を有するポリエステルフィルムが用いられている。このようなポリエステルフィルムは、上述のような優れた性質を有するため、磁気テープ、強磁性薄膜テープ、包装用テープ、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁性フィルム、ラミネート用フィルム、ディスプレイなどの画面用フィルム、各種部材の保護用フィルムとして用いられている。特に、プリズムレンズシート、タッチパネル、バックライト等のベースフィルム、テレビの反射防止フィルムのベースフィルム、プラズマテレビの前面光学フィルターの反射防止フィルム、近赤外線カットフィルム、電磁波シールドフィルムのベースフィルム等にも用いられている。   As such an antireflection film, a polyester film having excellent mechanical properties, heat resistance, chemical resistance and the like is usually used. Such a polyester film has excellent properties as described above, and therefore, a magnetic tape, a ferromagnetic thin film tape, a packaging tape, a packaging film, a film for electronic parts, an electrical insulating film, a laminating film, a display, etc. It is used as a screen film and a protective film for various members. Especially used for prism lens sheets, base films such as touch panels and backlights, base films for TV anti-reflection films, anti-reflection films for front optical filters for plasma TVs, near-infrared cut films, base films for electromagnetic shielding films, etc. It has been.

反射防止フィルムなどの光学フィルムに用いられるベースフィルムは、ディスプレイからの光をできるだけ透過することができるように、優れた透明性が要求される。他方、ベースフィルムには、光学フィルムとしての性質を確保したり機能を高めたりするために、例えば表面保護のためのハードコート層が適用されるが、この場合、ベースフィルムは、このようなコーティング材料に対する優れた易接着性が要求される。   A base film used for an optical film such as an antireflection film is required to have excellent transparency so that light from a display can be transmitted as much as possible. On the other hand, a hard coat layer for surface protection, for example, is applied to the base film in order to ensure the properties as an optical film or enhance the function. In this case, the base film is coated with such a coating. Excellent easy adhesion to the material is required.

しかしながら、通常使用されるポリエステルフィルムは、結晶性が高いため、一般的に上記コーティング材料などとの密着性を確保するのは困難であった。従って、例えば、ハードコート層との易接着性を確保するために、ポリエステルフィルムの表面へ易接着被膜を塗設する方法、ポリエステルフィルムの表面を、例えばコロナ処理、フレーム処理等の気相表面処理方法やプライマー等塗布による化学的表面処理方法等が用いられている。特に、ディスプレイ用途としてPETフィルムを用いる場合、高い透明性及び密着性が要求されるため、一般的にナノメートルオーダーの膜厚の易接着層を介在させていた(特許文献1)。   However, since the normally used polyester film has high crystallinity, it is generally difficult to ensure adhesion with the coating material and the like. Therefore, for example, in order to ensure easy adhesion with the hard coat layer, a method of coating an easy-adhesion film on the surface of the polyester film, the surface of the polyester film is subjected to gas phase surface treatment such as corona treatment, frame treatment, etc. Methods and chemical surface treatment methods such as primer application are used. In particular, when a PET film is used as a display application, high transparency and adhesion are required, and therefore, an easy-adhesion layer having a thickness of nanometer order is generally interposed (Patent Document 1).

このような易接着層が塗設されたポリエステルフィルムをベースフィルムとして用いた場合、前述の通り、高い透明性及びハードコート層との密着性を確保することができ、耐ブロッキング性も向上させることができる。   When a polyester film coated with such an easy-adhesion layer is used as the base film, as described above, high transparency and adhesion with the hard coat layer can be ensured, and blocking resistance is also improved. Can do.

しかしながら、このような易接着層が形成されたポリエステルフィルムを反射防止フィルムとして用いた場合、易接着層の屈折率とポリエステルフィルムの屈折率とのミスマッチ、易接着層の膜厚バラツキ等の要因により、その上にハードコート層等をコーティングした際に光学的な干渉ムラが発生するという問題点を有していた。   However, when a polyester film having such an easy-adhesion layer is used as an anti-reflection film, due to factors such as mismatch between the refractive index of the easy-adhesion layer and the refractive index of the polyester film, and variations in the film thickness of the easy-adhesion layer However, there is a problem that optical interference unevenness occurs when a hard coat layer or the like is coated thereon.

また、上記屈折率ミスマッチのため、反射界面が増加し、反射率増大の不具合を生じていた。他方、易接着層を有しないポリエステルフィルムを用いることも考えられるが、この場合はハードコート層の剥離が懸念される。   Moreover, due to the above-mentioned refractive index mismatch, the reflection interface is increased, resulting in a problem of increased reflectance. On the other hand, although it is also conceivable to use a polyester film that does not have an easy-adhesion layer, in this case, there is a concern about peeling of the hard coat layer.

一方で反射防止フィルムの反射率を低減するために、ハードコート層と低屈折率層との屈折率差を大きくする手法が従来より提案されている。この構成を具現化するためには、ハードコート層を高屈折率化する手法もしくは低屈折率層を低屈折率化する手法が考えられる。またハードコート層を2層にし、第1ハードコート層の屈折率より高い第2ハードコート層を、第1ハードコート層と低屈折率層間に挿入する手法も提案されてきた(特許文献2)。これらの手法は、空気/低屈折率層及び低屈折率層/ハードコート層界面での光の反射を低減するには優れた方法であるが、ハードコート層/PET界面での光の反射は抑制できない。特にハードコート層を高屈折率化した場合は、使用するPETフィルムの易接着層とハードコート層界面の反射が逆に増大してしまい、反射防止フィルムトータルでの反射率が増大するという不具合が発生した。   On the other hand, in order to reduce the reflectance of the antireflection film, a method for increasing the refractive index difference between the hard coat layer and the low refractive index layer has been proposed. In order to realize this configuration, a method for increasing the refractive index of the hard coat layer or a method for decreasing the refractive index of the low refractive index layer can be considered. In addition, a method has been proposed in which two hard coat layers are provided and a second hard coat layer higher than the refractive index of the first hard coat layer is inserted between the first hard coat layer and the low refractive index layer (Patent Document 2). . These techniques are excellent methods for reducing the light reflection at the air / low refractive index layer and the low refractive index layer / hard coat layer interface, but the light reflection at the hard coat layer / PET interface is It cannot be suppressed. In particular, when the refractive index of the hard coat layer is increased, the reflection at the interface between the easy-adhesion layer and the hard coat layer of the PET film to be used increases conversely, and the total reflectance of the antireflection film increases. Occurred.

特開平9−220791号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-220791 特開2004−69867号公報JP 2004-69867 A

本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたものであり、その課題とするところは、反射による干渉ムラを抑制することにより外観特性に優れるとともに、高い反射防止性能を有し、かつ、ハードコート層の剥離の発生を低減することができる反射防止フィルム及びその製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and the object of the present invention is to suppress interference unevenness due to reflection and to have excellent appearance characteristics, high antireflection performance, and hardware. An object of the present invention is to provide an antireflection film capable of reducing the occurrence of peeling of a coat layer and a method for producing the same.

本発明者らは、上記課題につき鋭意研究を重ねた結果、ハードコート層がポリエステルフィルムから剥離を防止するためには、そのポリエステルフィルムを表面処理してハードコート層を接着するのでは接着性及び透明性の面から充分ではなく、ハードコート層とポリエステルフィルムとの間に、両者の接着を容易にする易接着層を介在させることが必要であろうとの考えに至った。   As a result of intensive studies on the above problems, the inventors of the present invention, in order to prevent the hard coat layer from being peeled off from the polyester film, the surface treatment of the polyester film and adhesion of the hard coat layer are required. From the viewpoint of transparency, it has been considered that it is necessary to interpose an easy-adhesion layer between the hard coat layer and the polyester film to facilitate the adhesion between them.

しかし、ハードコート層とポリエステルフィルムとの間に易接着層を介在させた場合、ハードコート層と易接着層との界面で反射した光により、干渉ムラが発生することが問題となる。本発明者らは、更に検討を重ねた結果、易接着層を有するポリエステルフィルムの易接着層側の反射率を所定の値以上とすることにより、干渉ムラの発生を低減することができることを見出し、本発明を完成するに至った。   However, when an easy-adhesion layer is interposed between the hard coat layer and the polyester film, there is a problem that interference unevenness occurs due to light reflected at the interface between the hard coat layer and the easy-adhesion layer. As a result of further investigations, the present inventors have found that the occurrence of unevenness in interference can be reduced by setting the reflectance of the polyester film having the easy adhesion layer to a predetermined value or more. The present invention has been completed.

本発明は、ポリエステルフィルムと、前記ポリエステルフィルム上に形成された易接着層と、前記易接着層上に形成されたハードコート層と、前記ハードコート層上に形成された低屈折率層とを有して成る反射防止フィルムであって、前記ハードコート層の屈折率が1.58〜1.85であり、前記易接着層の屈折率が1.61〜1.75であり、前記易接着層が形成された前記ポリエステルフィルムの前記易接着層側の反射率が6.1%以上8%以下であり、前記低屈折率層の屈折率が1.30〜1.45であり、視感反射率が1.39%以下であることを特徴とする反射防止フィルムを提供する。 The present invention includes a polyester film, and said polyester film on the formed adhesive layer, said adhesive layer on the formed hard coat layer, a low refractive index layer formed on the hard coat layer An antireflection film comprising: the hard coat layer having a refractive index of 1.58 to 1.85; the easy adhesion layer having a refractive index of 1.61 to 1.75; the easy adhesion layer side reflectance of the polyester film layer is formed is less than 8% 6.1%, the refractive index of the low refractive index layer is 1.30 to 1.45, luminous reflectance is provided an antireflection film characterized in der Rukoto less 1.39%.

また、本発明は、別の態様として、屈折率1.60〜2.00の第2ハードコート層を前記ハードコート層と前記低屈折率層との間にさらに有してなり、前記第2ハードコート層の屈折率は、前記ハードコート層の屈折率より高いことを特徴とする反射防止フィルムを提供する。特に、第2ハードコート層の光学膜厚が80nm〜600nmであることが好ましい。   In another aspect, the present invention further includes a second hard coat layer having a refractive index of 1.60 to 2.00 between the hard coat layer and the low refractive index layer. The antireflection film is characterized in that the refractive index of the hard coat layer is higher than the refractive index of the hard coat layer. In particular, the optical film thickness of the second hard coat layer is preferably 80 nm to 600 nm.

尚、この反射率は、日立製作所製U−4100を使用して、フィルムの裏面をスチールウールで研磨した後、黒色塗料で塗装して、裏面反射を無視して5°の正反射率の条件で測定することによって得られる値である。   This reflectivity is a condition of a regular reflectivity of 5 ° by using U-4100 manufactured by Hitachi, Ltd., polishing the back side of the film with steel wool, and then painting with black paint, ignoring the back side reflection. It is a value obtained by measuring with.

更に、本発明は、上述の反射防止フィルムを製造する方法であって、屈折率が1.61〜1.75の易接着層を有する、反射率が6.1%以上8%以下のポリエステルフィルムを準備する工程、前記易接着層上に屈折率が1.58〜1.85のハードコート層を形成する工程、および前記ハードコート層上に屈折率が1.30〜1.45の低屈折率層を形成する工程を含んで成る方法提供する。この方法は、必要に応じて、ハードコート層上に第2ハードコート層を形成する工程、及び/又は低屈折率層上に防汚層を形成する工程を更に含んでよい。 Furthermore, the present invention is a method for producing the above-described antireflection film, which has an easy-adhesion layer having a refractive index of 1.61-1.75, and a reflectance of 6.1% to 8%. Preparing the process, the low refractive step index of refraction on the easy adhesion layer to form a hard coat layer of 1.58 to 1.85, and the refractive index in the hard coat layer is 1.30 to 1.45 a method comprising the step of forming the rate layer. This method may further include a step of forming a second hard coat layer on the hard coat layer and / or a step of forming an antifouling layer on the low refractive index layer, if necessary.

上述の本発明に係る反射防止フィルムによれば、反射率が6.1%以上であるフィルムを使用するので、易接着皮膜による反射干渉ムラを少なくすることができ、外観特性に優れ、さらには反射防止性能を高くすることができると共に、ハードコート層の剥離の発生を低減することができる。ポリエステルフィルムの表面を化学処理してハードコート層を形成するのではなく、ハードコート層とポリエステルフィルムとの間に易接着層を介在させたことにより、ハードコート層の剥離の発生を低減することができる。 According to the above-described antireflection film of the present invention, since a film having a reflectance of 6.1 % or more is used, reflection interference unevenness due to an easy-adhesion film can be reduced, and appearance characteristics are excellent. The antireflection performance can be enhanced, and the occurrence of peeling of the hard coat layer can be reduced. Rather than forming a hard coat layer by chemically treating the surface of the polyester film, an easy-adhesion layer is interposed between the hard coat layer and the polyester film to reduce the occurrence of peeling of the hard coat layer. Can do.

本発明の実施の形態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of embodiment of this invention.

本発明に係る反射防止フィルムを図面を参照しながらより詳細に説明する。図1に、本発明の反射防止フィルムの一例を模式的に示す。本発明に係る反射防止フィルムは、易接着層を有する透明基材としてのポリエステルフィルム1と、ポリエステルフィルムの易接着層上に形成されたハードコート層2と、ハードコート層2上に接着された低屈折率層3と、を備える。尚、図1では、ポリエステルフィルムとハードコート層との間に位置する易接着層の図示を省略している。通常、ポリエステルフィルムの上に易接着層が形成された複合体が市販されており、本発明の反射防止フィルムにおいても、それを利用できる。必要に応じて、図1に示すように、低屈折率層3上に形成された防汚層4を有してよい。   The antireflection film according to the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 schematically shows an example of the antireflection film of the present invention. The antireflection film according to the present invention was adhered to the polyester film 1 as a transparent substrate having an easy adhesion layer, the hard coat layer 2 formed on the easy adhesion layer of the polyester film, and the hard coat layer 2. Low refractive index layer 3. In addition, in FIG. 1, illustration of the easily bonding layer located between a polyester film and a hard-coat layer is abbreviate | omitted. Usually, composites in which an easy-adhesion layer is formed on a polyester film are commercially available, and can be used in the antireflection film of the present invention. If necessary, as shown in FIG. 1, an antifouling layer 4 formed on the low refractive index layer 3 may be provided.

反射防止フィルムとは、波長を打ち消し合うことにより反射率を低減する、すなわち反射を防止するものである。これは、低屈折率層と防汚層との界面で反射した光と、低屈折率層とハードコート層との界面で反射した光とを相殺的に干渉させ、振幅を打ち消し合わせて、反射率を低減させている。このような相殺的な干渉は、低屈折率層及びベースフィルムの屈折率、並びに低屈折率層の膜厚を適宜選択することによりなされる。   The antireflection film is a film that reduces reflectance by canceling out wavelengths, that is, prevents reflection. This is because the light reflected at the interface between the low refractive index layer and the antifouling layer interferes with the light reflected at the interface between the low refractive index layer and the hard coat layer, canceling the amplitude and reflecting The rate is reduced. Such destructive interference is made by appropriately selecting the refractive index of the low refractive index layer and the base film, and the thickness of the low refractive index layer.

本発明の反射防止フィルムにおいて、易接着層の屈折率を1.61〜1.75とするのが好ましい。この場合、ハードコート層と易接着層の屈折率差がより適切に抑えられ、その結果、上記効果がより顕著となる。 In the antireflection film of the present invention, the refractive index of the easily adhesive layer is 1. 61 to 1.75 is preferable. In this case, the refractive index difference between the hard coat layer and the easy-adhesion layer is more appropriately suppressed, and as a result, the above effect becomes more remarkable.

本発明で用いるポリエステルフィルム1を形成するポリエステルとしては、芳香族ジカルボン酸成分(例えばテレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタリンジカルボン酸、4,4′−ジフェニルジカルボン酸等)とグリコール成分(例えばエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,6−ヘキサンジオール等)とから構成される芳香族ポリエステルが好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタリンジカルボキシレートが好ましい。また、上記に例示した成分の共重合ポリエステルであってもよい。   The polyester forming the polyester film 1 used in the present invention includes an aromatic dicarboxylic acid component (for example, terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid, etc.) and a glycol component (for example, An aromatic polyester composed of ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,6-hexanediol and the like is preferable. In particular, polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate are preferable. Moreover, the copolymer polyester of the component illustrated above may be sufficient.

本発明の反射防止フィルムにおいて、ポリエステルフィルムは、製膜時のフィルムの巻き取り性や、ハードコート層を形成する際のフィルムの搬送性等を良くするため、必要に応じて、滑剤としての有機または無機の微粒子を含有させることができる。かかる微粒子としては、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛、架橋アクリル樹脂微粒子、架橋ポリスチレン樹脂微粒子、尿素樹脂微粒子、メラミン樹脂微粒子、架橋シリコーン樹脂微粒子等を例示できる。また、微粒子に加えて、あるいはそれに代えて、着色剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、他の樹脂等も、フィルムの透明性を損なわない範囲で任意に含有させることができる。   In the antireflection film of the present invention, the polyester film is an organic film as a lubricant, if necessary, in order to improve the roll-up property of the film during film formation and the transportability of the film when forming the hard coat layer. Alternatively, inorganic fine particles can be contained. Examples of such fine particles include calcium carbonate, calcium oxide, aluminum oxide, kaolin, silicon oxide, zinc oxide, crosslinked acrylic resin fine particles, crosslinked polystyrene resin fine particles, urea resin fine particles, melamine resin fine particles, and crosslinked silicone resin fine particles. In addition to or instead of the fine particles, a colorant, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a lubricant, a catalyst, other resins, etc. are optionally contained within a range that does not impair the transparency of the film. Can be made.

本発明の反射防止フィルムにおいて、ポリエステルフィルムは、ヘイズが3%以下、好ましくは1.5%以下であることが好ましい。ヘイズが3%を超えると各種ディスプレイ用途において視認性を損なうなど光学用途として適さないことがある。この観点において、ヘイズ3%以下の高い透明性を保持しながら、ロール状態での耐ブロッキング性、易滑性、ハードコート層との密着性を向上させるために、易接着層(好ましくはナノメートルオーダーの厚さ、より好ましくは5nm〜0nm)がコーティングされたポリエステルフィルムを本発明の反射防止フィルムにおいて使用する。 In the antireflection film of the present invention, the polyester film preferably has a haze of 3% or less, preferably 1.5% or less. If the haze exceeds 3%, the visibility may be impaired in various display applications, which may not be suitable for optical applications. From this point of view, in order to improve the blocking resistance in a roll state, the slipperiness, and the adhesion with the hard coat layer while maintaining high transparency with a haze of 3% or less, an easy adhesion layer (preferably a nanometer A polyester film coated with an order thickness (more preferably 5 nm to 90 nm) is used in the antireflection film of the present invention.

しかしながら、このような易接着層がコーティングされたポリエステルフィルムを用いた場合、易接着層の屈折率は基材のポリエステルの屈折率と異なるのが一般的である。易接着層とハードコート層の屈折率の差が大きい場合、ハードコート層をコーティングした際に、易接着層及びハードコート層2の膜厚ムラ等の原因により、外観干渉ムラを発生する等の問題がある。易接着層付きポリエステルフィルム、例えばPETフィルムの上に屈折率が1.58〜1.85の屈折率のハードコート層を設けた場合、光学的にはハードコート/易接着層及び易接着層/PETの界面で反射を生じ、反射防止フィルムの反射率特性及び干渉ムラ特性を悪化させる。この反射を抑制するには易接着層による光学的な悪影響を抑制する必要がある。易接着層付きポリエステルフィルムの反射率は、使用する易接着層の屈折率がポリエステルフィルムの屈折率(例えばPETフィルムの場合、n=1.69)から小さくなるにつれ、かつ、易接着層の膜厚が100nmに近づく程小さくなる。逆に、易接着層の光学的悪影響を除外した場合、反射率はポリエステルフィルムの反射率(例えばPET単体のフィルムの場合、6.5%)に近づいていく。本発明ではこのような事項を考慮して、使用するポリエステルフィルムとして、ハードコート層と接する側の易接着層付きポリエステルフィルムの反射率が4%以上であるフィルムを使用し、易接着層の悪影響を抑制することを特徴とする。   However, when a polyester film coated with such an easy-adhesion layer is used, the refractive index of the easy-adhesion layer is generally different from the refractive index of the base polyester. When the difference in refractive index between the easy-adhesion layer and the hard coat layer is large, when coating the hard coat layer, non-uniformity in appearance interference occurs due to the film thickness unevenness of the easy-adhesion layer and the hard coat layer 2. There's a problem. When a hard coat layer having a refractive index of 1.58 to 1.85 is provided on a polyester film with an easy adhesive layer, such as a PET film, optically hard coat / adhesive layer and easy adhesive layer / Reflection occurs at the PET interface, which deteriorates the reflectance characteristics and interference unevenness characteristics of the antireflection film. In order to suppress this reflection, it is necessary to suppress the optical adverse effect caused by the easily adhesive layer. The reflectance of the polyester film with the easy adhesion layer is such that the refractive index of the easy adhesion layer used decreases from the refractive index of the polyester film (for example, n = 1.69 in the case of a PET film), and the film of the easy adhesion layer The thickness decreases as the thickness approaches 100 nm. On the contrary, when the optical adverse effect of the easy-adhesion layer is excluded, the reflectance approaches the reflectance of the polyester film (for example, 6.5% in the case of a film of PET alone). In the present invention, in consideration of such matters, as the polyester film to be used, a film having a reflectance of 4% or more of the polyester film with an easy-adhesion layer on the side in contact with the hard coat layer is used. It is characterized by suppressing.

易接着層付きポリエステルフィルム(例えばPETフィルム)の反射率を上述のように上げるためには、易接着層の膜厚を5nm以上0nm以下に制御することが好ましい。5nm以下であると易接着材料がポリエステルフィルム上に均質に被覆できずポリエステルフィルムとハードコート層の安定した密着性確保が困難となる。0nm以上になると易接着層での反射が大きくなり反射防止フィルムとしての反射率の増大、干渉ムラの悪化等の課題が生じる。また、易接着層付きポリエステルフィルム(例えばPETフィルム)の反射率を上げるためには、易接着層の屈折率を1.55〜1.75にすることが好ましい。1.58以下または1.75以上であるとハードコート材料及びポリエステルフィルムの屈折率との差が大きくなり反射防止フィルムとしての反射率の増大、干渉ムラの悪化等の課題を生じる。 In order to increase the reflectance of the polyester film with an easy adhesion layer (for example, PET film) as described above, it is preferable to control the film thickness of the easy adhesion layer to 5 nm or more and 90 nm or less. If the thickness is 5 nm or less, the easy-adhesive material cannot be uniformly coated on the polyester film, and it becomes difficult to ensure stable adhesion between the polyester film and the hard coat layer. When the thickness is 90 nm or more, reflection on the easy-adhesion layer increases, and problems such as an increase in reflectivity as an antireflection film and deterioration in interference unevenness occur. Moreover, in order to raise the reflectance of the polyester film (for example, PET film) with an easily bonding layer, it is preferable that the refractive index of an easily bonding layer shall be 1.55-1.75. When it is 1.58 or less or 1.75 or more, the difference between the refractive index of the hard coat material and the polyester film becomes large, and problems such as an increase in reflectivity as an antireflection film and deterioration in interference unevenness occur.

また、本発明で用いるポリエステルフィルム1の厚みは、特に限定されるものではないが、50〜200μmが好ましい。   Moreover, the thickness of the polyester film 1 used by this invention is although it does not specifically limit, 50-200 micrometers is preferable.

本発明において、ハードコート層2は、透明プラスチック基材であるポリエステルフィルム1よりも硬度の高い被膜であって、ポリエステルフィルム1の表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、ポリエステルフィルム1の屈曲による低屈折率層3のクラック発生を抑制して反射防止フィルムの機械的強度を改善するものである。   In the present invention, the hard coat layer 2 is a coating having a hardness higher than that of the polyester film 1 which is a transparent plastic substrate, improves the hardness of the surface of the polyester film 1, and scratches caused by scratching with a load such as a pencil. It also prevents the occurrence of cracks in the low refractive index layer 3 due to bending of the polyester film 1 and improves the mechanical strength of the antireflection film.

本発明において、ハードコート層2の鉛筆硬度はH以上、より好ましくは2H以上にするのが好ましいが、ハードコート層2の硬度を向上させるためには、反応性硬化型樹脂、例えば、熱硬化型樹脂と電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方をハードコート材料(ハードコート層形成用組成物)として用いてハードコート層2を形成するのが好ましい。   In the present invention, the pencil hardness of the hard coat layer 2 is preferably H or higher, more preferably 2H or higher. However, in order to improve the hardness of the hard coat layer 2, a reactive curable resin such as thermosetting is used. The hard coat layer 2 is preferably formed using at least one of a mold resin and an ionizing radiation curable resin as a hard coat material (a composition for forming a hard coat layer).

前記熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を使用することができ、これらの熱硬化性樹脂に必要に応じて架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤を加えて使用することもできる。熱硬化性樹脂を用いてハードコート層を形成する場合は、熱硬化性樹脂をポリエステルフィルムの易接着層の表面に塗布した後、加熱により乾燥硬化させるようにするのが好ましい。   As the thermosetting resin, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, silicon resin, polysiloxane resin, etc. can be used. A crosslinking agent, a polymerization initiator, a curing agent, a curing accelerator, and a solvent can be added to these thermosetting resins as necessary. When the hard coat layer is formed using a thermosetting resin, it is preferable that the thermosetting resin is applied to the surface of the easy-adhesion layer of the polyester film and then dried and cured by heating.

また、前記電離放射線硬化型樹脂としては、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の(メタ)アクリレート等のオリゴマー、プレポリマー、及び反応性希釈剤としてエチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用することができる。   The ionizing radiation curable resin preferably has an acrylate functional group, for example, a relatively low molecular weight polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiro resin. Acetal resin, polybutadiene resin, polythiol polyene resin, oligomers such as (meth) acrylates of polyfunctional compounds such as polyhydric alcohol, prepolymers, and reactive diluents such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, Monofunctional monomers such as methylstyrene and N-vinylpyrrolidone, as well as polyfunctional monomers such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate , Diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, etc. Can be used.

さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂とするには、この中に光重合開始剤を配合することが好ましい。光重合開始剤としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類などを例示することができる。また、光重合開始剤に加えて光増感剤を用いてもよい。光増感剤としては、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、チオキサントンなどを例示することができる。光重合反応する紫外線硬化型樹脂を用いてハードコート層2を形成する場合は、紫外線硬化型樹脂をポリエステルフィルムの易接着層の表面に塗布し乾燥した後、紫外線照射により硬化させるようにするのが好ましい。   Furthermore, in order to make the ionizing radiation curable resin into an ultraviolet curable resin, it is preferable to incorporate a photopolymerization initiator therein. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, thioxanthones, and the like. In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone. When the hard coat layer 2 is formed using an ultraviolet curable resin that undergoes a photopolymerization reaction, the ultraviolet curable resin is applied to the surface of the easy-adhesion layer of the polyester film, dried, and then cured by ultraviolet irradiation. Is preferred.

ハードコート層2はポリエステルフィルム1と屈折率が近似していることが好ましい。反射率低減の理由から実用的には1.58〜1.85が好ましい。また、ハードコート層2の膜厚は1〜2μm以上あれば十分な強度が得られる。   The hard coat layer 2 preferably has a refractive index close to that of the polyester film 1. Practically 1.58 to 1.85 are preferable for the reason of reducing the reflectance. Moreover, sufficient intensity | strength will be acquired if the film thickness of the hard-coat layer 2 is 1-2 micrometers or more.

以上の成分からなるハードコート層2の屈折率は、通常1.49〜1.52程度であるが、本発明の反射防止フィルムでは、ハードコート層2に高屈折率粒子を含有させて屈折率を増大させて反射防止性能を高める。そのために、ハードコート層材料中に高屈折率粒子、即ち、高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子を添加することができる。   The refractive index of the hard coat layer 2 composed of the above components is usually about 1.49 to 1.52. However, in the antireflection film of the present invention, the hard coat layer 2 contains high refractive index particles and has a refractive index. To increase the antireflection performance. Therefore, high refractive index particles, that is, ultrafine particles of a high refractive index metal or metal oxide can be added to the hard coat layer material.

本発明において高屈折率粒子とは、屈折率が1.6以上であるのが好ましく、粒径が0.5nm〜200nmであるのが好ましい。
ポリエステルフィルムを基材(ベース)とする反射防止フィルムにおいて、低反射率化のためのハードコート層の好ましい屈折率は上述のように1.58〜1.85であり、本発明ではこの屈折率を有するハードコート層2を形成するために、高屈折率粒子の配合量をハードコート層に対して例えば5〜70体積%となるように調整することができる。
In the present invention, the high refractive index particles preferably have a refractive index of 1.6 or more, and preferably have a particle size of 0.5 nm to 200 nm.
In the antireflection film having a polyester film as a base material (base), the preferred refractive index of the hard coat layer for reducing the reflectance is 1.58 to 1.85 as described above. In order to form the hard coat layer 2 having the above, the blending amount of the high refractive index particles can be adjusted to 5 to 70% by volume with respect to the hard coat layer.

前記高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子としては、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる一つあるいは二つ以上の酸化物を含んで成る粒子を用いることができる。具体的には、例えば、ZnO(屈折率1.90)、TiO(屈折率2.3〜2.7)、CeO(屈折率1.95)、Sb(屈折率1.71)、SnO、ITO(屈折率1.95)、Y(屈折率1.87)、La(屈折率1.95)、ZrO(屈折率2.05)、Al(屈折率1.63)等の微粉末が挙げられる。 As the ultrafine particles of the metal or metal oxide having a high refractive index, particles comprising one or more oxides selected from titanium, aluminum, cerium, yttrium, zirconium, niobium, and antimony are used. it can. Specifically, for example, ZnO (refractive index 1.90), TiO 2 (refractive index 2.3 to 2.7), CeO 2 (refractive index 1.95), Sb 2 O 5 (refractive index 1.71). ), SnO 2 , ITO (refractive index 1.95), Y 2 O 3 (refractive index 1.87), La 2 O 3 (refractive index 1.95), ZrO 2 (refractive index 2.05), Al 2 Examples thereof include fine powders such as O 3 (refractive index 1.63).

本発明の反射防止フィルムにおいて、更に、ハードコート層に帯電防止性を付与し、反射防止フィルムとしての帯電防止性、埃付着性防止を可能にするのが好ましい。ハードコート層2に帯電防止性を付与するためにはハードコート層に導電性ナノ粒子を帯電防止剤として含有させればよい。具体的には、ハードコート層材料中に導電性ナノ粒子、即ち、導電性の金属や金属酸化物で粒径が例えば0.5〜200nmの超微粒子を添加することにより可能となる。導電性ナノ粒子としてはインジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる一つあるいは二つ以上の酸化物を含んで成る粒子を用いるのが好ましく、具体的には、酸化インジウム(ITO)、酸化錫(SnO)、アンチモン/錫酸化物(ATO)、鉛/チタン酸化物(PTO)、アンチモン酸化物(Sb)の超微粒子を用いるのが好ましい。 In the antireflection film of the present invention, it is further preferable to impart antistatic properties to the hard coat layer, thereby enabling antistatic properties and dust adhesion prevention as an antireflection film. In order to impart antistatic properties to the hard coat layer 2, the hard coat layer may contain conductive nanoparticles as an antistatic agent. Specifically, it becomes possible by adding conductive nanoparticles, that is, ultrafine particles of a conductive metal or metal oxide and having a particle size of, for example, 0.5 to 200 nm to the hard coat layer material. As the conductive nanoparticles, particles containing one or more oxides selected from indium, zinc, tin, and antimony are preferably used. Specifically, indium oxide (ITO), tin oxide ( It is preferable to use ultrafine particles of SnO 2 ), antimony / tin oxide (ATO), lead / titanium oxide (PTO), and antimony oxide (Sb 2 O 5 ).

本発明の反射防止フィルムにおいて、前記高屈折率粒子と導電性ナノ粒子を凝集なく併用することにより、高屈折率かつ帯電防止性に優れたハードコート層を得ることが可能となる。ハードコート層が帯電防止性を得るためにはそのシート抵抗を1015Ω/□以下とすることが好ましい。尚、ハードコート層のシート抵抗は小さいほど帯電防止性が向上するので、特に、下限は設定されないが、シート抵抗を小さくするのには限界があるために、ハードコート層のシート抵抗の下限は実質的に10Ω/□となる。また、ハードコート層のシート抵抗値は導電性ナノ粒子の配合量等によって調整することができ、例えば、導電性ナノ粒子の配合量をハードコート層に対して例えば5〜70質量%となるように調整することができる。 In the antireflection film of the present invention, a hard coat layer having a high refractive index and an excellent antistatic property can be obtained by using the high refractive index particles and the conductive nanoparticles in combination without aggregation. In order for the hard coat layer to have antistatic properties, the sheet resistance is preferably 10 15 Ω / □ or less. In addition, since the antistatic property improves as the sheet resistance of the hard coat layer decreases, the lower limit is not particularly set, but there is a limit to reducing the sheet resistance, so the lower limit of the sheet resistance of the hard coat layer is It becomes substantially 10 6 Ω / □. Further, the sheet resistance value of the hard coat layer can be adjusted by the blending amount of the conductive nanoparticles, for example, the blending amount of the conductive nanoparticles is, for example, 5 to 70% by mass with respect to the hard coat layer. Can be adjusted.

本願において、屈折率1.58〜1.85のハードコート層2と前記低屈折率層との間に、屈折率1.60〜2.00の第2ハードコート層2’(不図示)をさらに備え、第2ハードコート層2’の屈折率が、ハードコート層2の屈折率より高くなるよう構成することが好ましい。第2ハードコート層2’の高屈折率化については、ハードコート層材料中に高屈折率粒子、すなわち高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子を添加することにより屈折率を増大させて反射防止性能を高めることができる。前記ハードコート層2と低屈折率層との間に、屈折率1.60〜2.00の第2ハードコート層2’をさらに設け、第2ハードコート層2’の屈折率が、ハードコート層2の屈折率より高くなるよう構成することにより、低屈折率層/第2ハードコート層界面を透過する光の量を低減することができ、ハードコート層2と易接着層との界面での光の反射を抑制することができる。したがって、上記構成により、反射防止性能を高くすることができる。   In the present application, a second hard coat layer 2 ′ (not shown) having a refractive index of 1.60 to 2.00 is provided between the hard coat layer 2 having a refractive index of 1.58 to 1.85 and the low refractive index layer. Further, it is preferable that the second hard coat layer 2 ′ has a refractive index higher than that of the hard coat layer 2. Regarding the high refractive index of the second hard coat layer 2 ′, the refractive index is increased by adding high refractive index particles, that is, ultrafine particles of a metal or metal oxide having a high refractive index, to the hard coat layer material. The antireflection performance can be enhanced. A second hard coat layer 2 ′ having a refractive index of 1.60 to 2.00 is further provided between the hard coat layer 2 and the low refractive index layer, and the refractive index of the second hard coat layer 2 ′ By configuring so as to be higher than the refractive index of the layer 2, the amount of light transmitted through the low refractive index layer / second hard coat layer interface can be reduced, and at the interface between the hard coat layer 2 and the easy adhesion layer. The reflection of light can be suppressed. Therefore, with the above configuration, the antireflection performance can be increased.

本発明において第2ハードコート層2’の光学膜厚が80nm〜600nmであることが好ましい。また第2ハードコート層’の光学膜厚を80nm〜600nmとすることにより、さらに反射防止性能を高くすることができる。ここで、光学膜厚とは膜の屈折率と実膜厚を掛けたものである。中屈折率(1.5前後)のハードコート層2上に高屈折率層を挿入することによる低反射率化のためには光学膜厚は通常50〜200nm程度であることが適当とされてきた(特開2004−69867等)。これはPET基材の易接着層の屈折率及び膜厚が光学的に無視できない反射防止フィルムの場合、ハードコート層は中屈折率である必要が出てくる。このような構成で第2ハードコート層を挿入すると、ハードコート層と第2ハードコート層の屈折率差が大きいため第2ハードコート層の光学膜厚はλ/4(140nm)前後の50〜200nm程度でないと反射率低減効果は発現しない。加えて従来構成の場合、例えば低屈折率層と第2ハードコート層の光学膜厚が共に140nm(λ/4)であると、低屈折率層及び第2ハードコート層界面の反射光の位相差が180°となり、560nmでの最小反射率は低減できるものの、位相差が180°以外の400〜550nm付近及び650〜800nm付近の反射率は逆に増大してしまい、結果として青及び赤色の反射色の強いフィルムとなってしまう。加えて50〜200nmの制御幅の狭い精密膜厚制御が必要となり生産歩留まりに課題が生じてしまう。   In the present invention, the optical film thickness of the second hard coat layer 2 ′ is preferably 80 nm to 600 nm. Further, by setting the optical film thickness of the second hard coat layer 'to 80 nm to 600 nm, the antireflection performance can be further enhanced. Here, the optical film thickness is obtained by multiplying the refractive index of the film by the actual film thickness. In order to reduce the reflectivity by inserting a high refractive index layer on the medium refractive index (around 1.5) hard coat layer 2, the optical film thickness is usually about 50 to 200 nm. (Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2004-69867). In the case of an antireflection film in which the refractive index and film thickness of the easy-adhesion layer of the PET substrate cannot be optically ignored, the hard coat layer needs to have a medium refractive index. When the second hard coat layer is inserted in such a configuration, the optical film thickness of the second hard coat layer is about 50 to about λ / 4 (140 nm) because the refractive index difference between the hard coat layer and the second hard coat layer is large. If it is not about 200 nm, the reflectance reduction effect will not be exhibited. In addition, in the case of the conventional configuration, for example, when the optical film thicknesses of the low refractive index layer and the second hard coat layer are both 140 nm (λ / 4), the level of reflected light at the interface of the low refractive index layer and the second hard coat layer. Although the phase difference becomes 180 ° and the minimum reflectance at 560 nm can be reduced, the reflectance near 400 to 550 nm and around 650 to 800 nm other than the phase difference of 180 ° increases conversely, resulting in blue and red It becomes a film with strong reflection color. In addition, precise film thickness control with a narrow control width of 50 to 200 nm is required, which causes a problem in production yield.

本発明の構成をとると、PET基材の易接着層の影響が光学的に無視できるため、ハードコート層自体の高屈折率化により、反射率低減効果が生じる。加えて第2ハードコート層の屈折率をハードコート層の屈折率より更に高めることにより、PET基材から傾斜的に屈折率差を付与することが可能となる。従って本発明の構成では実質的には高屈折率層+低屈折率層の2層の組み合わせの原理で反射防止が可能となり、第2ハードコート層の厳密な膜厚制御は不要となる。また擬似2層構成による低反射率化であるため550nmでの最小反射率低減だけでなく、400〜800nmの可視域全てにおいて低反射率化が可能となる。加えて第2ハードコート層2’の光学膜厚制御管理幅が80nm〜600nmと広くなるため、従来構成より生産歩留まりも飛躍的に向上させることができる。   When the configuration of the present invention is adopted, the influence of the easy-adhesion layer of the PET base material can be optically ignored. Therefore, the effect of reducing the reflectivity is produced by increasing the refractive index of the hard coat layer itself. In addition, by further increasing the refractive index of the second hard coat layer than the refractive index of the hard coat layer, it is possible to impart a refractive index difference from the PET substrate in an inclined manner. Therefore, in the configuration of the present invention, reflection can be prevented by the principle of a combination of two layers of a high refractive index layer and a low refractive index layer, and strict film thickness control of the second hard coat layer is unnecessary. In addition, since the reflectivity is reduced by the pseudo two-layer configuration, not only the minimum reflectivity reduction at 550 nm but also the reflectivity can be reduced in the entire visible range of 400 to 800 nm. In addition, since the optical film thickness control management width of the second hard coat layer 2 ′ is as wide as 80 nm to 600 nm, the production yield can be dramatically improved as compared with the conventional configuration.

上述のようなハードコート層の表面に低屈折率層を形成するために低屈折率コーティング剤を塗工するなどして低屈折率層を形成するが、その前に、ハードコート層の表面処理を行うことが好ましい。この表面処理を行うことによりハードコート層と低屈折率層とのぬれ性、密着性を向上させることが可能となる。表面処理法としてはポリエステルフィルム1に施す表面改質処理と同様であって、プラズマ放電処理、コロナ処理、フレーム処理のような物理的表面処理とカップリング剤、酸、アルカリによる化学的表面処理が用いられている。   In order to form a low refractive index layer on the surface of the hard coat layer as described above, a low refractive index layer is formed by applying a low refractive index coating agent or the like. It is preferable to carry out. By performing this surface treatment, it becomes possible to improve the wettability and adhesion between the hard coat layer and the low refractive index layer. The surface treatment method is the same as the surface modification treatment applied to the polyester film 1, and includes physical surface treatment such as plasma discharge treatment, corona treatment and flame treatment, and chemical surface treatment with a coupling agent, acid and alkali. It is used.

本発明の反射防止フィルムにおいて、低屈折率層はポリエステルフィルム及びハードコート層よりも屈折率が小さい層である。この低屈折率層3は、屈折率が1.30〜1.45であることが好ましく、1.30〜1.40であることが更に好ましい。
低屈折率層の厚みdは、低屈折率層の屈折率をn、入射する光の波長をλとすると、nd=λ/4を満たすことが好ましい。具体的には、低屈折率層の厚みは50〜400nmであることが好ましく、50〜200nmであることが更に好ましい。
In the antireflection film of the present invention, the low refractive index layer is a layer having a refractive index smaller than that of the polyester film and the hard coat layer. The low refractive index layer 3 preferably has a refractive index of 1.30 to 1.45, more preferably 1.30 to 1.40.
The thickness d of the low refractive index layer preferably satisfies nd = λ / 4, where n is the refractive index of the low refractive index layer and λ is the wavelength of incident light. Specifically, the thickness of the low refractive index layer is preferably 50 to 400 nm, and more preferably 50 to 200 nm.

低屈折率コーティング剤は、バインダー材料および必要に応じて存在する微粒子を含んで成る。この場合、バインダー材料自身が低屈折率である場合と、バインダー材料に低屈折率の微粒子を含有して調製する場合がある。バインダー材料はシリコンアルコキシド系のものであっても、飽和炭化水素、ポリエーテルを主鎖として有するポリマー(例えばUV硬化型樹脂、熱硬化型樹脂等)であってもよい。ポリマー鎖中にフッ素原子を含む単位を含有してもよい。   The low refractive index coating agent comprises a binder material and optionally present particulates. In this case, there are a case where the binder material itself has a low refractive index and a case where the binder material is prepared by containing fine particles having a low refractive index. The binder material may be a silicon alkoxide-based material or a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as a main chain (for example, a UV curable resin, a thermosetting resin, or the like). You may contain the unit containing a fluorine atom in a polymer chain.

シリコンアルコキシド系のものの好ましい例は、RmSi(OR´)nで表される珪素アルコキシド(ここで、R、R´は炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは4であり、m及びnはそれぞれ整数である。)の1種またはそれ以上を基本骨格とするオリゴマー、ポリマー(共重合体を含む)である。そのようなアルコキシドとしては、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を例示できる。このようなアルコキシドのアルコキシ基が加水分解して縮合することによって、オリゴマーやポリマーをえることができる。   A preferred example of a silicon alkoxide-based material is a silicon alkoxide represented by RmSi (OR ′) n (where R and R ′ represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, m + n is 4, m and n Are each an integer)) and oligomers and polymers (including copolymers) having one or more of them as a basic skeleton. Specific examples of such alkoxides include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra- tert-butoxysilane, tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, Methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane Dimethyl propoxysilane, dimethyl-butoxy silane, methyl dimethoxy silane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane and the like. An oligomer or a polymer can be obtained by hydrolyzing and condensing the alkoxy group of such an alkoxide.

上述の珪素アルコキシドの加水分解は、珪素アルコキシドを適当な溶媒中に溶解して行う。使用する溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等のアルコール、ケトン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、或いはこれらの混合物が挙げられる。上記アルコキシドは上記溶媒中に、該アルコキシドが100%加水分解及び縮合したとして生じるSiO換算で0.1%以上、好ましくは0.1〜10重量%になるように溶解する。SiOゾルの濃度が0.1重量%未満であると形成されるゾル膜が所望の特性が充分に発揮できず、一方、10重量%を越えると透明均質膜の形成が困難となる。又、本発明においては、上述の固形分以内であるならば、他の有機物や無機物バインダーを併用することも可能である。 The hydrolysis of the silicon alkoxide is performed by dissolving the silicon alkoxide in a suitable solvent. Examples of the solvent used include alcohols such as methyl ethyl ketone, isopropyl alcohol, methanol, ethanol, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate and butyl acetate, ketones, esters, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, Or the mixture of these is mentioned. The alkoxide is dissolved in the solvent so as to be 0.1% or more, preferably 0.1 to 10% by weight in terms of SiO 2 generated when the alkoxide is 100% hydrolyzed and condensed. If the concentration of the SiO 2 sol is less than 0.1% by weight, the formed sol film cannot sufficiently exhibit the desired characteristics, while if it exceeds 10% by weight, it becomes difficult to form a transparent homogeneous film. Moreover, in this invention, if it is less than the above-mentioned solid content, it is also possible to use another organic substance and an inorganic binder together.

この溶液に加水分解に必要な量以上の水を加え、15〜35℃、好ましくは22〜28℃の温度で、0.5〜10時間、好ましくは2〜5時間撹拌を行う。上記加水分解においては、触媒を用いることが好ましく、これらの触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸又は酢酸等の酸が好ましく、これらの酸を約0.001〜20.0N、好ましくは0.005〜5.0N程度の水溶液として加え、該水溶液中の水分を加水分解用の水分とすることができる。以上の如くして得られたSiOゾルは、無色透明な液体であり、ポットライフが約1ケ月の安定な溶液であり、基材に対して濡れ性が良く、塗布適性に優れている。 Water more than the amount necessary for hydrolysis is added to this solution, and stirring is performed at a temperature of 15 to 35 ° C, preferably 22 to 28 ° C, for 0.5 to 10 hours, preferably 2 to 5 hours. In the hydrolysis, it is preferable to use a catalyst. As these catalysts, acids such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid or acetic acid are preferable, and these acids are contained in about 0.001 to 20.0 N, preferably 0.005. It can be added as an aqueous solution of about ˜5.0 N, and water in the aqueous solution can be used as water for hydrolysis. The SiO 2 sol obtained as described above is a colorless and transparent liquid, is a stable solution having a pot life of about 1 month, has good wettability with respect to the substrate, and has excellent coating suitability.

本発明の反射防止フィルムの製造に際しては、上記のSiOゾルに、反応性有機珪素化合物又はその部分加水分解物を添加するのが好ましい。該反応性有機珪素化合物としては、上述の珪素アルコキシドのような反応性有機珪素化合物の他に、熱又は電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量5000以下の有機珪素化合物が好ましい材料として挙げられる。このような有機珪素化合物は、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。 In the production of the antireflection film of the present invention, it is preferable to add a reactive organosilicon compound or a partial hydrolyzate thereof to the SiO 2 sol. As the reactive organosilicon compound, in addition to the above-described reactive organosilicon compound such as silicon alkoxide, a plurality of groups that are reactively crosslinked by heat or ionizing radiation, for example, a molecular weight of 5000 or less having a polymerizable double bond group The organosilicon compound is a preferable material. Such organosilicon compounds may be one end vinyl functional polysilane, both end vinyl functional polysilane, one end vinyl functional polysiloxane, both end vinyl functional polysiloxane, or a vinyl functional polysilane obtained by reacting these compounds, Or a vinyl functional polysiloxane etc. are mentioned.

上述の飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。また、ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。このような飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーは架橋していることが好ましい。架橋しているバインダー材料のポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼンおよびその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリルアミドが含まれる。   The polymer having the above-mentioned saturated hydrocarbon as the main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. The polymer having a polyether as the main chain is preferably synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound. Such a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as the main chain is preferably crosslinked. In order to obtain a polymer of a binder material that is crosslinked, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups. Examples of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohols and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, pentaerythritol). Tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate , Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and its derivatives (examples) 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacrylamide are included .

二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダー材料のポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明において架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果、反応性を示すものであってもよい。   Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the polymer of the binder material by reaction of the crosslinkable group. Examples of the crosslinkable functional group include isocyanate group, epoxy group, aziridine group, oxazoline group, aldehyde group, carbonyl group, hydrazine group, carboxyl group, methylol group and active methylene group. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. In the present invention, the cross-linking group is not limited to the above compound, and may be one that exhibits reactivity as a result of decomposition of the functional group.

上記バインダー材料の重合反応および架橋反応に使用する重合開始剤は、熱重合開始剤よりも光重合開始剤の方がより好ましい。光重合開始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノンおよび2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。   The polymerization initiator used for the polymerization reaction and crosslinking reaction of the binder material is more preferably a photopolymerization initiator than a thermal polymerization initiator. Examples of photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds , Fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone is included. Examples of benzoins include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of the benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.

上述のように、バインダー材料は、珪素アルコキシドのような反応性有機珪素化合物であることが好ましい。必要に応じて存在する微粒子である低屈折率微粒子として例えば中空シリカを用いた場合、珪素アルコキシドおよび上述の他の反応性有機珪素化合物をバインダー材料に用いれば、中空シリカ粒子とのぬれ性、分散性が良好である。他の反応性有機珪素化合物としては、熱又は電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量5000以下の有機珪素化合物が好ましい材料として挙げられる。このような反応性有機珪素化合物は、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。具体的な化合物を例示すれば下記の通りである:化合物(A)〜()。 As described above, the binder material is preferably a reactive organosilicon compound such as silicon alkoxide. When, for example, hollow silica is used as the low-refractive-index fine particles, which are fine particles that are present as required, if silicon alkoxide and the other reactive organosilicon compounds described above are used as the binder material, wettability and dispersion with the hollow silica particles Good properties. As another reactive organosilicon compound, a plurality of groups that undergo reactive crosslinking by heat or ionizing radiation, for example, an organosilicon compound having a molecular weight of 5000 or less having a polymerizable double bond group can be mentioned as a preferred material. Such reactive organosilicon compounds may be one end vinyl functional polysilane, both end vinyl functional polysilane, one end vinyl functional polysiloxane, both end vinyl functional polysiloxane, or a vinyl functionality obtained by reacting these compounds. Examples include polysilane, vinyl functional polysiloxane, and the like. Examples of specific compounds are as follows: Compounds (A) to ( E ).

CH=CH−(RSi)n−CH=CH (A)
(R、Rは炭素数1〜10のアルキル基)
CH 2 = CH- (R 1 R 2 Si) n-CH = CH 2 (A)
(R 1 and R 2 are alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms)

Figure 2013232012
Figure 2013232012

その他の反応性有機珪素化合物しては、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の(メタ)アクリロキシシラン化合物が挙げられる。   Examples of other reactive organosilicon compounds include (meth) acryloxysilane compounds such as 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane.

上述のように、バインダー材料に低屈折率微粒子(屈折率:1.20〜1.45)を添加することにより低屈折率層の屈折率を低減できる。低屈折率微粒子の平均粒子径は0.5〜200nmであることが好ましい。この平均粒径が200nmよりも大きくなると、得られる低屈折率層3においてレイリー散乱によって光が乱反射され、低屈折率層3が白っぽく見え、そのヘイズ値が増大することがある。0.5nm以下であると、低屈折率微粒子の分散性が低下し、低屈折率コーティング剤の液中で凝集を生じてしまう。また、低屈折率微粒子の添加量は低屈折率層3の全量に対して20〜99体積%であることが好ましい。20体積%以下であると低屈折率化の効果が少なく、微粒子の添加量が多いほど低屈折率化の効果が大きい。   As described above, the refractive index of the low refractive index layer can be reduced by adding low refractive index fine particles (refractive index: 1.20 to 1.45) to the binder material. The average particle size of the low refractive index fine particles is preferably 0.5 to 200 nm. When the average particle size is larger than 200 nm, light is irregularly reflected by Rayleigh scattering in the obtained low refractive index layer 3, and the low refractive index layer 3 looks whitish and its haze value may increase. If it is 0.5 nm or less, the dispersibility of the low refractive index fine particles is lowered, and aggregation occurs in the liquid of the low refractive index coating agent. The amount of the low refractive index fine particles added is preferably 20 to 99% by volume with respect to the total amount of the low refractive index layer 3. If it is 20% by volume or less, the effect of lowering the refractive index is small, and the effect of lowering the refractive index is greater as the amount of fine particles added is larger.

さらに低屈折率層3に防汚性を付与するために、バインダー材料の一部を撥水、撥油性材料に置き換えてもよい。撥水、撥油性材料は一般にワックス系の材料等が挙げられ、特に、含フッ素化合物を含有することが望ましい。フッ素化合物を含有したときの効果は、低屈折率層の表面が汚れから保護され、また付着した汚れ、指紋等の除去性に優れる。さらに表面の摩擦抵抗を低減でき、耐摩耗性向上の効果も期待できる。   Further, in order to impart antifouling property to the low refractive index layer 3, a part of the binder material may be replaced with a water-repellent or oil-repellent material. The water and oil repellent materials generally include wax-based materials, and it is particularly desirable to contain a fluorine-containing compound. The effect of containing a fluorine compound is that the surface of the low refractive index layer is protected from dirt, and is excellent in removal of attached dirt, fingerprints and the like. Furthermore, the frictional resistance of the surface can be reduced, and the effect of improving wear resistance can be expected.

本発明の反射防止フィルムをディスプレイ等の最表面に配置して使用する場合、実使用に耐えうる表面硬度、耐摩耗性が必要となる。このような場合は低屈折率層として高い膜硬度が必要となる。しかしながら、一般的に粒子充填複合材料は粒径の等しい(完全な単分散の)球状微粒子を最密充填したときの、微粒子の最大体積分率は、Horsfieldの充填モデルによると、0.74となり、幾何学的な関係から、必然的に26体積%粒子間間隙が生じてしまう。従って、理想的には低屈折層に26体積%のバインダー材料を添加したとき(74体積%の低屈折率微粒子)、低屈折率微粒子間の空隙は全てバインダー材料で置換され、高充填かつ非常に緻密な低屈折率層の薄膜が得られることになる。しかしながら、実際には、微粒子は粒度分布を持っており、また、低屈折率微粒子/バインダー材料の界面のぬれ性不足、ナノサイズの粒子径のため、低屈折率コーティング剤の液中または溶剤乾燥過程で凝集等を生じている。従って、実際には、低屈折率微粒子の添加量が70体積%以上の領域では低屈折率層中で、低屈折率微粒子の充填不良を生じ、低屈折率微粒子間にバインダー材料の未充填に起因する空隙を生じることになる。   When the antireflection film of the present invention is disposed on the outermost surface of a display or the like, surface hardness and abrasion resistance that can withstand actual use are required. In such a case, a high film hardness is required as the low refractive index layer. However, in general, when a particle-filled composite material is closely packed with spherical particles having the same particle size (fully monodisperse), the maximum volume fraction of the particles is 0.74 according to the Horsfield packing model. From the geometrical relationship, a 26 volume% interparticle gap is inevitably generated. Therefore, ideally, when 26% by volume of binder material is added to the low refractive index layer (74% by volume of low refractive index fine particles), all the voids between the low refractive index fine particles are replaced with the binder material, which is highly filled and very Thus, a thin film having a dense low refractive index layer can be obtained. However, in reality, the fine particles have a particle size distribution, and the low refractive index fine particle / binder material interface is not wettable, and the nano-sized particle size causes a low refractive index coating agent in liquid or solvent-dried. Aggregation or the like occurs in the process. Therefore, actually, in the region where the amount of the low refractive index fine particles added is 70% by volume or more, poor filling of the low refractive index fine particles occurs in the low refractive index layer, and the binder material is not filled between the low refractive index fine particles. The resulting void is produced.

この低屈折率微粒子の高充填領域で生じた低屈折率層内でのバインダー材料の未充填部分は、薄膜の強度、耐摩耗性能を著しく低下させる。従って、低屈折率微粒子の添加による低屈折率層の屈折率低減手法は、70体積%以上の低屈折率微粒子の高充填領域では、耐摩耗性と完全にトレードオフの関係になり、実用上利用困難である。   The unfilled portion of the binder material in the low refractive index layer generated in the high filling region of the low refractive index fine particles significantly reduces the strength and wear resistance of the thin film. Therefore, the method of reducing the refractive index of the low refractive index layer by adding the low refractive index fine particles has a completely trade-off relationship with wear resistance in the high filling region of the low refractive index fine particles of 70% by volume or more. It is difficult to use.

本発明の反射防止フィルムにおいて、低屈折率微粒子を用いる場合、低屈折率微粒子としては、屈折率が1.5以下であることが望ましい。具体的にはシリカ微粒子、中空シリカ微粒子、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム等のフッ化物微粒子が好ましい。これら微粒子を1種類もしくは2種類以上混合して使用する。これら低屈折率微粒子をバインダー材料の樹脂等に相溶性を持たせるため表面処理を施して分散させる。   When the low refractive index fine particles are used in the antireflection film of the present invention, the low refractive index fine particles preferably have a refractive index of 1.5 or less. Specifically, fluoride fine particles such as silica fine particles, hollow silica fine particles, magnesium fluoride, lithium fluoride, aluminum fluoride, calcium fluoride, and sodium fluoride are preferable. These fine particles are used alone or in combination. These low refractive index fine particles are dispersed by being subjected to a surface treatment so as to have compatibility with the resin or the like of the binder material.

低屈折率層中に含有される低屈折率微粒子が1種類以上の低屈折率微粒子から構成されており、低屈折率微粒子として少なくとも中空シリカゾルを含有することが好ましい。本発明において、中空粒子とは外殻によって包囲された空洞を有する微粒子である。また、中空粒子自体の屈折率は1.20〜1.45であることが好ましく、この中空粒子の屈折率は特開2001−233611号公報に開示されている方法によって測定することができる。また、中空粒子の平均粒子径は0.5〜200nmであることが好ましい。中空粒子の外殻を構成する材料は、シリカのほか、金属酸化物であることも好ましい。中空粒子は、その平均粒子径に比べて外殻の厚みが薄いものを用いるのが好ましく、また、低屈折率層中に占める中空シリカ微粒子(内部の空洞も含む)の体積が多いこと(40体積%以上)が好ましい。このような中空粒子は、例えば、特開2001−233611号公報に開示されており、そこに開示されている中空粒子を、低屈折率コーティング剤を調製する際に使用することができる。   The low refractive index fine particles contained in the low refractive index layer are composed of one or more kinds of low refractive index fine particles, and at least a hollow silica sol is preferably contained as the low refractive index fine particles. In the present invention, the hollow particles are fine particles having a cavity surrounded by an outer shell. The refractive index of the hollow particles themselves is preferably 1.20 to 1.45, and the refractive index of the hollow particles can be measured by the method disclosed in JP-A-2001-233611. Moreover, it is preferable that the average particle diameter of a hollow particle is 0.5-200 nm. The material constituting the outer shell of the hollow particles is preferably a metal oxide in addition to silica. As the hollow particles, those having a thin outer shell compared to the average particle diameter are preferably used, and the volume of hollow silica fine particles (including internal cavities) in the low refractive index layer is large (40 Volume% or more) is preferred. Such hollow particles are disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-233611, and the hollow particles disclosed therein can be used when preparing a low refractive index coating agent.

中空粒子の外殻を構成する材料を具体的に挙げると、SiO、SiOx、TiO、TiOx、SnO、CeO、Sb、ITO、ATO、Al等の単独材料又はこれらの材料のいずれかの組み合わせの混合物の形態の材料である。また、これらの材料のいずれかの組み合わせの複合酸化物であってもよい。なお、SiOは、酸化雰囲気中で焼成した場合に、SiOとなるものが好ましい。 Taking the material constituting the outer shell of the hollow particles Specifically, SiO 2, SiOx, TiO 2 , TiOx, SnO 2, CeO 2, Sb 2 O 5, ITO, ATO, or a single material, such as Al 2 O 3 A material in the form of a mixture of any combination of these materials. Further, a composite oxide of any combination of these materials may be used. Note that SiO x is preferably SiO 2 when fired in an oxidizing atmosphere.

前記低屈折率コーティング剤は液相法(ディップコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、リバースコーティング法、トランスファーロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キャストコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等)により表面処理を行ったハードコート層上に塗工されることが好ましい。塗工後加熱乾燥により塗膜中の溶剤を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させて低屈折率層を形成することができる。   The low refractive index coating agent is a liquid phase method (dip coating method, spin coating method, spray coating method, roll coating method, gravure roll coating method, reverse coating method, transfer roll coating method, micro gravure coating method, cast coating method, It is preferable that the coating is performed on the hard coat layer that has been surface-treated by a calendar coating method, a die coating method, or the like. After coating, the solvent in the coating film is volatilized by heating and drying, and then the coating film is cured by heating, humidification, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, and the like to form a low refractive index layer.

本発明では、反射防止フィルムの防汚性、指紋除去性を更に向上させるためには、低屈折率層の最表面への防汚層を形成してコーティングするのが好ましい。防汚層の厚みは光学特性に影響を与えないため、30nm以下にするのが好ましい。また、防汚層の形成処理は、シリコーン系またはフッ素含有化合物を被覆し、低屈折率層の表面と化学的に結合させるようにして行なう。また、防汚層を形成する材料としては、アルコキシシラノ基を有するフッ素化合物、反応性シリコーンオイル等基材との反応性を有するものが耐摩耗性、耐薬品性、耐経時劣化性を向上することができて好ましい。   In the present invention, in order to further improve the antifouling property and fingerprint removal property of the antireflection film, it is preferable to form and coat an antifouling layer on the outermost surface of the low refractive index layer. The thickness of the antifouling layer is preferably 30 nm or less because it does not affect the optical properties. Further, the antifouling layer is formed by coating with a silicone-based or fluorine-containing compound and chemically bonding it to the surface of the low refractive index layer. In addition, as materials for forming the antifouling layer, those having reactivity with a substrate such as a fluorine compound having an alkoxysilano group and a reactive silicone oil improve wear resistance, chemical resistance, and aging resistance. This is preferable.

防汚層を形成するための防汚材料としては、例えば、GE東芝シリコーン製長鎖フルオロアルキルシランコーティング剤「XC98−B2472」を希釈溶剤IPA(イソプロパノール)を用い、固形分0.2%まで希釈し、この混合液を膜厚15nmになるようにワイヤーバーコーター#10番で低屈折率層の表面に塗布した後、120℃、15分間乾燥させることによって、防汚層を形成することができる。
また、防汚層の性能評価としては、指紋拭き取り性を挙げることができる。すなわち、防汚層に指紋を付着させ、表面を汚した直後に、キムワイプ(十条キンバリー(株)製)で50往復して拭取る。拭取った部分にセロハンテープ(「CT24」,ニチバン(株)製)を貼り付けて剥がし、40cmの距離より目視で観察し、汚れの除去度を評価することができる。
As an antifouling material for forming an antifouling layer, for example, a long chain fluoroalkylsilane coating agent “XC98-B2472” manufactured by GE Toshiba Silicone is diluted to 0.2% solid content using a dilution solvent IPA (isopropanol). And after apply | coating this liquid mixture on the surface of a low-refractive-index layer with a wire bar coater # 10 so that it may become a film thickness of 15 nm, an antifouling layer can be formed by making it dry at 120 degreeC for 15 minutes. .
Moreover, fingerprint wiping property can be mentioned as performance evaluation of an antifouling layer. That is, immediately after the fingerprint is attached to the antifouling layer and the surface is soiled, it is wiped 50 times with Kimwipe (manufactured by Jujo Kimberley Co., Ltd.). Cellophane tape ("CT24", manufactured by Nichiban Co., Ltd.) is attached to the wiped portion and peeled off, and visually observed from a distance of 40 cm to evaluate the degree of removal of dirt.

以下本発明を実施例によって具体的に説明する。
ポリエステルフィルム(易接着層付き透明基板フィルム)としては、以下のものを使用した:
(1)ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(帝人(株)製「o3F916W」(PETフィルム厚:100μm、易接着層厚み:15nm、易接着層の屈折率1.56、易接着層側反射率:5.5%)
(2)ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(三菱化学ポリエステルフィルム(株)製「EME-016」(PETフィルム厚:100μm、易接着層厚み:90nm、易接着層の屈折率:1.61、易接着層側反射率:6.1%)
Hereinafter, the present invention will be described specifically by way of examples.
The following were used as the polyester film (transparent substrate film with an easy adhesion layer):
(1) Polyethylene terephthalate (PET) film (“o3F916W” manufactured by Teijin Limited) (PET film thickness: 100 μm, easy adhesive layer thickness: 15 nm, easy adhesive layer refractive index 1.56, easy adhesive layer side reflectance : 5 .5%)
(2) Polyethylene terephthalate (PET) film (“EME-016” manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd. (PET film thickness: 100 μm, easy adhesion layer thickness: 90 nm, easy adhesion layer refractive index: 1.61, easy adhesion) (Layer side reflectance : 6.1%)

ハードコート層2は、アクリル系紫外線硬化型樹脂(大日精化工業(株)製「セイカビームPET−HC15」有効成分(固形分)60%)中に各種ナノ粒子を分散させてハードコート材料、即ち、ハードコート層形成用組成物を調製し、このハードコート材料(混合液)をワイヤーバーコーター#10番で上述のポリエステルフィルムの易接着皮膜層に塗布し、80℃、1分間乾燥させた後、UV照射(600mJ/cm)により硬化させて形成した。 The hard coat layer 2 is a hard coat material obtained by dispersing various nanoparticles in an acrylic ultraviolet curable resin (“Seika Beam PET-HC15” active ingredient (solid content) 60%, manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.). After preparing a composition for forming a hard coat layer, this hard coat material (mixed solution) was applied to the above-mentioned polyester film easy-adhesive film layer with a wire bar coater # 10 and dried at 80 ° C. for 1 minute. And cured by UV irradiation (600 mJ / cm 2 ).

上記各種ナノ粒子のうち、高屈折率粒子としては、テイカ(株)製酸化チタン粒子「760T」(分散溶剤:トルエン、固形分48%)を、また、導電性ナノ粒子としては、触媒化成工業(株)製ATO粒子「ELCOM P−特殊品A」(分散溶剤:MEK/トルエン(4/1)、固形分30%)を用いた。   Among the above-mentioned various nanoparticles, as the high refractive index particles, titanium oxide particles “760T” (dispersion solvent: toluene, solid content 48%) manufactured by Teika Co., Ltd. are used. ATO particles “ELCOM P-specialized product A” (dispersed solvent: MEK / toluene (4/1), solid content 30%) manufactured by Co., Ltd. were used.

低屈折率層は低屈折率コーティング剤をハードコート層2の表面に塗布して形成した。低屈折率コーティング剤は、テトラエトキシシラン208質量部にメタノール356質量部を加え、更に水18質量部及び0.01Nの塩酸水溶液18質量部を加え、これをディスパーで混合して混合液を得、この混合液を25℃恒温槽中で2時間攪拌して重量平均分子量を850に調整したシリコーンレジン(A)として使用し、次に、低屈折率微粒子として以下の低屈折率ナノ粒子(1)および(2)をシリコーンレジン(A)に加え、低屈折率ナノ粒子/シリコーンレジンが縮合固形物換算で所望の体積比となるように配合し、その後、全固形分が1%になるようにメタノールで希釈することによって、低屈折率コーティング剤を調整した。この低屈折率コーティング剤を膜厚100nmになるようにワイヤーバーコーター#10番で上記ハードコート層2の表面に塗布した後、120℃、15分間乾燥させて形成した。   The low refractive index layer was formed by applying a low refractive index coating agent to the surface of the hard coat layer 2. The low refractive index coating agent is obtained by adding 356 parts by mass of methanol to 208 parts by mass of tetraethoxysilane, adding 18 parts by mass of water and 18 parts by mass of 0.01N hydrochloric acid aqueous solution, and mixing them with a disper to obtain a mixed solution. The mixed solution is used as a silicone resin (A) having a weight average molecular weight adjusted to 850 by stirring for 2 hours in a constant temperature bath at 25 ° C. Then, the following low refractive index nanoparticles (1 ) And (2) are added to the silicone resin (A) and blended so that the low refractive index nanoparticles / silicone resin have a desired volume ratio in terms of condensed solids, and then the total solid content is 1%. The low refractive index coating agent was prepared by diluting with methanol. The low refractive index coating agent was applied to the surface of the hard coat layer 2 with a wire bar coater # 10 so as to have a film thickness of 100 nm, and then dried at 120 ° C. for 15 minutes.

低屈折率ナノ粒子(1)としては、中空シリカIPA(イソプロパノール)分散ゾル(スルーリアCS−60IPA、固形分20重量%、触媒化成工業株式会社製)を用いた。また、低屈折率ナノ粒子(2)としては、オルガノシリカゾル(IPA−ST、固形分30重量%、日産化学(株)製)を用いた。   As the low refractive index nanoparticles (1), hollow silica IPA (isopropanol) dispersion sol (Thruria CS-60IPA, solid content 20% by weight, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.) was used. As the low refractive index nanoparticles (2), organosilica sol (IPA-ST, solid content 30% by weight, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) was used.

(実施例1)
PETフィルム上o3F916W上に、酸化チタン粒子(760T)を30質量%分散させたハードコート材料をコーティングし、膜厚3μmの硬化膜(ハードコート層2)を得た。その上にシリコーンレジン(A)マトリックスに対しトータル量の60体積%のCS−60IPAを分散させた低屈折率コーティング剤を、膜厚約100nmになるようにワイヤーバーコーターでコーティングした。この後、120℃、15分の条件で硬化させ反射防止フィルムを作成した。
Example 1
A hard coat material in which 30% by mass of titanium oxide particles (760T) was dispersed was coated on o3F916W on a PET film to obtain a cured film (hard coat layer 2) having a thickness of 3 μm. A low refractive index coating agent in which 60% by volume of CS-60IPA was dispersed in a silicone resin (A) matrix was then coated with a wire bar coater to a film thickness of about 100 nm. Thereafter, the film was cured at 120 ° C. for 15 minutes to prepare an antireflection film.

(実施例2)
PETフィルムにEME016を使用した以外は実施例1と同様にして反射防止フィルムを作成した。
(Example 2)
An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 except that EME016 was used for the PET film.

(実施例3)
酸化チタン粒子(760T)が80質量%分散させたハードコート材料を用いた以外は実施例2と同様にして反射防止フィルムを作成した。
(Example 3)
An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 2 except that a hard coat material in which 80% by mass of titanium oxide particles (760T) were dispersed was used.

(実施例4)
ハードコート材料中に分散させる粒子として酸化チタン粒子(760T)が30質量%、ATO粒子(ELECOM−P特殊品A)を50質量%とした以外は実施例2と同様にして反射防止フィルムを作成した。
Example 4
An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 2 except that titanium oxide particles (760T) were 30% by mass and ATO particles (ELECOM-P special product A) were 50% by mass as particles dispersed in the hard coat material. did.

(実施例5)
中空シリカ粒子(CS60IPA)が40体積%配合された低屈折率コーティング剤を用いた以外は実施例2と同様にして反射防止フィルムを作成した。
(Example 5)
An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 2 except that a low refractive index coating agent containing 40% by volume of hollow silica particles (CS60IPA) was used.

(実施例6)
低屈折率コーティング剤中に分散させる粒子を中空シリカ粒子の代わりに、オルガノシリカゾル(IPA−ST)を60体積%配合した以外は実施例2と同様にして反射防止フィルムを作成した。
(Example 6)
An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 2 except that 60% by volume of organosilica sol (IPA-ST) was blended in the low refractive index coating agent instead of the hollow silica particles.

(実施例7)
PETフィルムEME016上に実施例2記載のハードコート層(第1ハードコート層)成膜後、酸化チタン粒子(760T)を40質量%分散させたハードコート材料をコーティングし、光学膜厚560nmの第2ハードコート層を得た。その上にシリコーンレジン(A)マトリックスに対しトータル量の60体積%のCS−60IPAを分散させた低屈折率コーティング剤を、膜厚約100nmになるようにワイヤーバーコーターでコーティングした。この後、120℃、15分の条件で硬化させ反射防止フィルムを作成した。
(Example 7)
After the hard coat layer (first hard coat layer) described in Example 2 was formed on the PET film EME016, a hard coat material in which 40% by mass of titanium oxide particles (760T) were dispersed was coated, and an optical film thickness of 560 nm was applied. Two hard coat layers were obtained. A low refractive index coating agent in which 60% by volume of CS-60IPA was dispersed in a silicone resin (A) matrix was then coated with a wire bar coater to a film thickness of about 100 nm. Thereafter, the film was cured at 120 ° C. for 15 minutes to prepare an antireflection film.

(実施例8)
実施例2記載の第1ハードコート層成膜後、酸化チタン粒子(760T)を70質量%分散させたハードコート材料をコーティングし、光学膜厚140nmの第2ハードコート層を得た以外は、実施例7と同様にして反射防止フィルムを作成した。
(Example 8)
After the first hard coat layer was formed as described in Example 2, a hard coat material in which 70% by mass of titanium oxide particles (760T) were dispersed was coated to obtain a second hard coat layer having an optical film thickness of 140 nm. An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 7.

(実施例9)
第2ハードコート層の光学膜厚を560nmになるようにコーティングした以外は実施例8と同様にして反射防止フィルムを作成した。
Example 9
An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 8 except that the second hard coat layer was coated so that the optical film thickness was 560 nm.

(実施例10)
実施例2にて作成した反射防止フィルム上に防汚材料を膜厚約15nmになるようにワイヤーバーコーターでコーティングして防汚層を形成した。この後、120℃、15分の条件で硬化させ反射防止フィルムを作成した。尚、防汚材料としては、XC98−B2472(GE東芝シリコーン社製、製品番号:XC98−B2472、長鎖フルオロアルキルシランコーティング剤)を使用した。
(Example 10)
An antifouling material was coated on the antireflection film prepared in Example 2 with a wire bar coater so as to have a film thickness of about 15 nm to form an antifouling layer. Thereafter, the film was cured at 120 ° C. for 15 minutes to prepare an antireflection film. As the antifouling material, XC98-B2472 (manufactured by GE Toshiba Silicone, product number: XC98-B2472, long-chain fluoroalkylsilane coating agent) was used.

(比較例1)
PETフィルムにo3PF8Wを用いた以外は実施例1と同様にしてハードコート層2及び低屈折率層3を積層した反射防止フィルムを作成した。
(Comparative Example 1)
An antireflection film in which the hard coat layer 2 and the low refractive index layer 3 were laminated was produced in the same manner as in Example 1 except that o3PF8W was used for the PET film.

(比較例2)
ハードコート材料中に酸化チタンを含有しない以外は実施例と同様にして反射防止フィルムを作成した。
(Comparative Example 2)
An antireflection film was prepared in the same manner as in Example except that titanium oxide was not contained in the hard coat material.

(比較例3)
PETフィルムo3PF8W上に酸化チタンを含有しないハードコート材料を用い、第1ハードコート層成膜後、酸化チタン粒子(760T)を40質量%分散させたハードコート材料をコーティングし、光学膜厚140nmの第2ハードコート層を得た。その上にシリコーンレジン(A)マトリックスに対しトータル量の60体積%のCS−60IPAを分散させた低屈折率コーティング剤を、膜厚約100nmになるようにワイヤーバーコーターでコーティングした。この後、120℃、15分の条件で硬化させ反射防止フィルムを作成した。
(Comparative Example 3)
Using a hard coat material not containing titanium oxide on the PET film o3PF8W, after forming the first hard coat layer, a hard coat material in which 40% by mass of titanium oxide particles (760T) are dispersed is coated, and an optical film thickness of 140 nm is applied. A second hard coat layer was obtained. A low refractive index coating agent in which 60% by volume of CS-60IPA was dispersed in a silicone resin (A) matrix was then coated with a wire bar coater to a film thickness of about 100 nm. Thereafter, the film was cured at 120 ° C. for 15 minutes to prepare an antireflection film.

実施例1〜10、比較例1〜3で得た反射防止フィルムの評価結果を表1および2に示す。尚、各評価方法(指紋除去性については上記参照)は以下の通りである。   The evaluation results of the antireflection films obtained in Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 are shown in Tables 1 and 2. Each evaluation method (see above for fingerprint removability) is as follows.

外観干渉ムラ:A4サイズのサンプル裏面を黒塗りしたあと、3波長蛍光灯下で外観特性を目視観察する。   Appearance interference unevenness: After black-painting the back surface of the A4 size sample, the appearance characteristics are visually observed under a three-wavelength fluorescent lamp.

視感反射率:(株)日立ハイテクノロジーズ製、分光光度計U−4100を用い、JIS R−3106 に基づき、サンプル裏面を黒塗りしたあとに、5度の正反射で測定する。
分光反射率(450nm、650nm):(株)日立ハイテクノロジーズ製、分光光度計U−4100を用い、JIS R−3106 に基づき、サンプル裏面を黒塗りしたあとに、450nmm及び650nmでの5度の正反射で測定する。
Luminous reflectance: A spectrophotometer U-4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation is used, and the back surface of the sample is painted black according to JIS R-3106, and then measured with regular reflection of 5 degrees.
Spectral reflectance (450 nm, 650 nm): After using the spectrophotometer U-4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation to blacken the back of the sample based on JIS R-3106, 5 degrees at 450 nm and 650 nm Measure by specular reflection.

密着性(クロスカットテープ試験):サンプルをJIS D0202−1988に準拠して碁盤目テープ剥離試験を行う。セロハンテープ(「CT24」,ニチバン(株)製)を用い、指の腹でフィルムに密着させた後剥離する。判定は100マスの内、剥離しないマス目の数で表し、剥離しない場合を100/100、完全に剥離する場合を0/100として表す。   Adhesiveness (cross-cut tape test): The sample is subjected to a cross-cut tape peeling test in accordance with JIS D0202-1988. Using cellophane tape (“CT24”, manufactured by Nichiban Co., Ltd.), the film is adhered to the film with the belly of the finger and then peeled. Judgment is represented by the number of squares not to be peeled out of 100 squares, where 100/100 is the case where no peeling occurs, and 0/100 is the case where the peeling is complete.

Figure 2013232012
Figure 2013232012

Figure 2013232012
Figure 2013232012

上記実施例および比較例の結果から、ポリエステルフィルムの表面に屈折率が1.58〜1.85のハードコート層を形成した反射防止フィルムにおいて、ハードコート層と接する側の易接着層付きポリエステルフィルムの反射率が6.1%以上8%以下であるポリエステルフィルムを使用することにより反射干渉ムラを抑制し、外観特性に優れるとともに反射防止性能を向上させることができ、かつハードコート層の剥離を低減することができる。 From the results of the above Examples and Comparative Examples, in the antireflection film in which a hard coat layer having a refractive index of 1.58 to 1.85 is formed on the surface of the polyester film, the polyester film with an easy adhesion layer on the side in contact with the hard coat layer By using a polyester film having a reflectance of 6.1 % or more and 8% or less , reflection interference unevenness can be suppressed, the appearance characteristics can be improved and the antireflection performance can be improved, and the hard coat layer can be peeled off. Can be reduced.

1 ポリエステルフィルム
2 ハードコート層
3 低屈折率層
4 防汚層
1 Polyester film 2 Hard coat layer 3 Low refractive index layer 4 Antifouling layer

Claims (11)

ポリエステルフィルムと、前記ポリエステルフィルム上に形成された易接着層と、前記易接着層上に形成されたハードコート層と、前記ハードコート層上に形成された低屈折率層とを有して成る反射防止フィルムであって、
前記ハードコート層の屈折率が1.58〜1.85であり、
前記易接着層の屈折率が1.61〜1.75であり、
前記易接着層が形成されたポリエステルフィルムの易接着層側の反射率が6.1%以上8%以下であり、
前記低屈折率層の屈折率が1.30〜1.45であり、
視感反射率が1.39%以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
Comprising a polyester film, and said polyester film on the formed adhesive layer, said adhesive layer on the formed hard coat layer, a low refractive index layer formed on the hard coat layer An anti-reflection film,
The refractive index of the hard coat layer is 1.58 to 1.85,
The easy-adhesion layer has a refractive index of 1.61-1.75,
Ri 8% der less reflectivity of 6.1% or more of the adhesive layer side of the polyester film the adhesive layer is formed,
The low refractive index layer has a refractive index of 1.30 to 1.45,
Antireflection film luminous reflectance is characterized der Rukoto less 1.39%.
前記易接着層の膜厚が、5nm〜0nmであることを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to claim 1, wherein the easy-adhesion layer has a thickness of 5 nm to 90 nm. 前記ハードコート層が、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、及びアンチモンからなる群から選択される少なくとも1つを含む酸化物から成る高屈折率粒子を含んでなることを特徴とする請求項1又は2に記載の反射防止フィルム。 The hard coat layer comprises high refractive index particles made of an oxide containing at least one selected from the group consisting of titanium, aluminum, cerium, yttrium, zirconium, niobium, and antimony. Item 3. The antireflection film according to Item 1 or 2 . 前記ハードコート層は帯電防止剤を含んで成ることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to any one of claims 1 to 3, wherein the hard coat layer is characterized in that it comprises an antistatic agent. 前記帯電防止剤が、インジウム、亜鉛、錫、及びアンチモンからなる群から選択される少なくとも1つを含む酸化物からなる導電性ナノ粒子であることを特徴とする請求項記載の反射防止フィルム。 5. The antireflection film according to claim 4 , wherein the antistatic agent is a conductive nanoparticle made of an oxide containing at least one selected from the group consisting of indium, zinc, tin, and antimony. 前記ハードコート層のシート抵抗が、1015Ω/□以下であることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to any one of claims 1 to 5, wherein the sheet resistance of the hard coat layer, characterized in that it is 10 15 Ω / □ or less. さらに、屈折率1.60〜2.00の第2ハードコート層を前記ハードコート層と前記低屈折率層との間に有してなり、前記第2ハードコート層の屈折率は、前記ハードコート層の屈折率より高いことを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の反射防止フィルム。 Further, a second hard coat layer having a refractive index of 1.60 to 2.00 is provided between the hard coat layer and the low refractive index layer, and the refractive index of the second hard coat layer is the antireflection film according to any one of claims 1 to 6, wherein the higher than the refractive index of the coating layer. 第2ハードコート層の光学膜厚が80nm〜600nmであることを特徴とする請求項記載の反射防止フィルム。 8. The antireflection film according to claim 7, wherein the optical thickness of the second hard coat layer is from 80 nm to 600 nm. 前記低屈折率層上に防汚層を有することを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to any one of claims 1 to 8, characterized in that it has an antifouling layer on the low refractive index layer. 請求項1〜のいずれかに記載の反射防止フィルムを製造する方法であって、
屈折率が1.61〜1.75の易接着層を有する、反射率が6.1%以上8%以下のポリエステルフィルムを準備する工程、
前記易接着層上に屈折率が1.58〜1.85のハードコート層を形成する工程、および
前記ハードコート層上に屈折率が1.30〜1.45の低屈折率層を形成する工程
を含んで成る方法。
A method for producing an antireflection film according to any one of claims 1 to 9
A step of preparing a polyester film having an easy adhesion layer having a refractive index of 1.61-1.75 and a reflectance of 6.1% or more and 8% or less ;
Step refractive index to the easy-adhesion layer to form a hard coat layer of 1.58 to 1.85, and
A method comprising a step of forming a low refractive index layer having a refractive index of 1.30 to 1.45 on the hard coat layer.
低屈折率層上に防汚層を形成する工程を更に含む、請求項10に記載の方法。 The method according to claim 10 , further comprising forming an antifouling layer on the low refractive index layer.
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5372417B2 (en) * 2007-06-25 2013-12-18 パナソニック株式会社 Antireflection film
JP5362397B2 (en) * 2009-03-11 2013-12-11 グンゼ株式会社 Transparent sheet and transparent touch switch
JP5593627B2 (en) * 2009-03-31 2014-09-24 東レ株式会社 Laminated polyester film and method for producing the same
JP5564198B2 (en) * 2009-04-28 2014-07-30 伊藤光学工業株式会社 Optical element
JP2013107995A (en) * 2011-11-21 2013-06-06 Panasonic Corp Coating composition and antireflection film using the same
JP5878056B2 (en) * 2012-03-27 2016-03-08 日立マクセル株式会社 Hard coat substrate and transparent conductive film using the same
US9824851B2 (en) * 2013-01-20 2017-11-21 William M. Tong Charge drain coating for electron-optical MEMS
JP6307810B2 (en) * 2013-08-06 2018-04-11 日油株式会社 Low friction film
JP2015102621A (en) * 2013-11-22 2015-06-04 日油株式会社 Photo-resistant anti-reflection film
JP2016206400A (en) * 2015-04-22 2016-12-08 Dic株式会社 Optical film and vehicle-mounted information display device produced using the same
JP7124347B2 (en) * 2018-03-06 2022-08-24 大日本印刷株式会社 LOW REFLECTION MEMBER, AND DISPLAY DEVICE AND ARTICLE USING IT
JP7128569B2 (en) * 2018-04-11 2022-08-31 株式会社きもと Light-shielding film for optical equipment, laminated light-shielding film for optical equipment, and light-shielding ring for optical equipment, diaphragm member for optical equipment, shutter member for optical equipment, lens unit, and camera module using the same
CN109270617B (en) * 2018-10-31 2021-02-12 天津津航技术物理研究所 Multiband linear laser protection film window

Citations (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09220791A (en) * 1996-02-16 1997-08-26 Dainippon Printing Co Ltd Reflection preventing film
JP2004069867A (en) * 2002-08-05 2004-03-04 Dainippon Printing Co Ltd Low reflection film
JP2004163752A (en) * 2002-11-14 2004-06-10 Sekisui Chem Co Ltd Antireflective sheet
JP2004345333A (en) * 2002-06-24 2004-12-09 Fuji Photo Film Co Ltd Plastic film and image display device
JP2005181545A (en) * 2003-12-17 2005-07-07 Bridgestone Corp Antireflection film
JP2005274938A (en) * 2004-03-24 2005-10-06 Seiko Epson Corp Plastic lens
JP2006103249A (en) * 2004-10-08 2006-04-20 Mitsubishi Polyester Film Copp Polyester film for antireflection film and antireflection film
JP2006175628A (en) * 2004-12-21 2006-07-06 Mitsubishi Polyester Film Copp Polyester film for antireflection film and antireflection film
JP2006235125A (en) * 2005-02-23 2006-09-07 Matsushita Electric Works Ltd Anti-reflection film and manufacturing method thereof
JP2007144733A (en) * 2005-11-25 2007-06-14 Mitsubishi Polyester Film Copp Optical laminated polyester film
JP2007148383A (en) * 2005-10-31 2007-06-14 Toray Ind Inc Antireflection film and image display apparatus
JP2007156391A (en) * 2005-11-14 2007-06-21 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Transparent substrate with anti-reflection film attached thereto
JP2007178999A (en) * 2005-11-29 2007-07-12 Bridgestone Corp Antireflection film and filter for display
JP2007233392A (en) * 2005-07-25 2007-09-13 Hitachi Maxell Ltd Optical film and image display apparatus panel using same
JP2008040474A (en) * 2006-07-12 2008-02-21 Seiko Epson Corp Method for manufacturing article having organic antireflection layer
JP2008046264A (en) * 2006-08-11 2008-02-28 Seiko Epson Corp Optical article
JP2008083360A (en) * 2006-09-27 2008-04-10 Hitachi Maxell Ltd Method for manufacturing optical film
JP2008096701A (en) * 2006-10-12 2008-04-24 Seiko Epson Corp Optical article
JP2008139526A (en) * 2006-12-01 2008-06-19 Riken Technos Corp Antireflection film
JP2008162019A (en) * 2006-12-26 2008-07-17 Mitsubishi Paper Mills Ltd Reversible thermosensitive recording material
JP2009031769A (en) * 2007-06-25 2009-02-12 Panasonic Electric Works Co Ltd Antireflection film

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006110988A (en) * 2004-09-14 2006-04-27 Fuji Photo Film Co Ltd Plastic film and image display device
JP2006163156A (en) * 2004-12-09 2006-06-22 Bridgestone Corp Antireflection film and filter for display having the antireflection film
JP4723974B2 (en) * 2005-10-24 2011-07-13 日立マクセル株式会社 Manufacturing method of optical film

Patent Citations (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09220791A (en) * 1996-02-16 1997-08-26 Dainippon Printing Co Ltd Reflection preventing film
JP2004345333A (en) * 2002-06-24 2004-12-09 Fuji Photo Film Co Ltd Plastic film and image display device
JP2004069867A (en) * 2002-08-05 2004-03-04 Dainippon Printing Co Ltd Low reflection film
JP2004163752A (en) * 2002-11-14 2004-06-10 Sekisui Chem Co Ltd Antireflective sheet
JP2005181545A (en) * 2003-12-17 2005-07-07 Bridgestone Corp Antireflection film
JP2005274938A (en) * 2004-03-24 2005-10-06 Seiko Epson Corp Plastic lens
JP2006103249A (en) * 2004-10-08 2006-04-20 Mitsubishi Polyester Film Copp Polyester film for antireflection film and antireflection film
JP2006175628A (en) * 2004-12-21 2006-07-06 Mitsubishi Polyester Film Copp Polyester film for antireflection film and antireflection film
JP2006235125A (en) * 2005-02-23 2006-09-07 Matsushita Electric Works Ltd Anti-reflection film and manufacturing method thereof
JP2007233392A (en) * 2005-07-25 2007-09-13 Hitachi Maxell Ltd Optical film and image display apparatus panel using same
JP2007148383A (en) * 2005-10-31 2007-06-14 Toray Ind Inc Antireflection film and image display apparatus
JP2007156391A (en) * 2005-11-14 2007-06-21 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Transparent substrate with anti-reflection film attached thereto
JP2007144733A (en) * 2005-11-25 2007-06-14 Mitsubishi Polyester Film Copp Optical laminated polyester film
JP2007178999A (en) * 2005-11-29 2007-07-12 Bridgestone Corp Antireflection film and filter for display
JP2008040474A (en) * 2006-07-12 2008-02-21 Seiko Epson Corp Method for manufacturing article having organic antireflection layer
JP2008046264A (en) * 2006-08-11 2008-02-28 Seiko Epson Corp Optical article
JP2008083360A (en) * 2006-09-27 2008-04-10 Hitachi Maxell Ltd Method for manufacturing optical film
JP2008096701A (en) * 2006-10-12 2008-04-24 Seiko Epson Corp Optical article
JP2008139526A (en) * 2006-12-01 2008-06-19 Riken Technos Corp Antireflection film
JP2008162019A (en) * 2006-12-26 2008-07-17 Mitsubishi Paper Mills Ltd Reversible thermosensitive recording material
JP2009031769A (en) * 2007-06-25 2009-02-12 Panasonic Electric Works Co Ltd Antireflection film

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JP2009031769A (en) 2009-02-12

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