JP2006255496A - Method of manufacturing laminated film - Google Patents

Method of manufacturing laminated film Download PDF

Info

Publication number
JP2006255496A
JP2006255496A JP2005072322A JP2005072322A JP2006255496A JP 2006255496 A JP2006255496 A JP 2006255496A JP 2005072322 A JP2005072322 A JP 2005072322A JP 2005072322 A JP2005072322 A JP 2005072322A JP 2006255496 A JP2006255496 A JP 2006255496A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
refractive index
resin
group
film
index layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005072322A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Sone
篤 曽根
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Zeon Co Ltd filed Critical Nippon Zeon Co Ltd
Priority to JP2005072322A priority Critical patent/JP2006255496A/en
Publication of JP2006255496A publication Critical patent/JP2006255496A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a laminated film having low reflectance, excellent adhesion, excellent abrasion resistance, high surface hardness and free from embrittlement and coloring. <P>SOLUTION: The method of manufacturing the laminated film is carried out by applying a coating liquid containing a sol-gel reactive silicon compound and a hollow fine particle directly or through another layer on a supporting body containing a transparent resin and drying the liquid to obtain a film on which a coating film is formed and irradiating the film with electromagnetic wave. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、陰極線管(CRT)、液晶表示装置(LCD)やプラズマディスプレイ(PDP)などの表示装置に好適に用いることのできる積層フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a laminated film that can be suitably used for display devices such as a cathode ray tube (CRT), a liquid crystal display device (LCD), and a plasma display (PDP).

近年、陰極線管、液晶表示装置やプラズマディスプレイなどに代表される表示装置では、画像が表示されるパネルの最表面に、機能フィルムが貼着されている。この機能フィルムは、帯電防止効果、反射防止効果、防汚効果などの各種の機能を有する。このような機能フィルムの例として樹脂基材上にハードコート層、高屈折率層、低屈折率層等を積層した積層フィルムが知られている。
積層フィルムの低屈折率層を形成する方法としては、いわゆるゾル−ゲル反応を利用したポリシロキサン層を形成する方法が知られている。これによればシリカ微粒子分散ゾルを加水分解縮合反応し、乾燥し、硬化被膜とすることで、粒子の多孔質体を形成させ低屈折率層を形成できる。しかしながらゾル−ゲル法による低屈折率層の形成は、密着性や耐擦傷性に問題があり、さらなる改善が求められてきた。
そこで、低屈折率層としてポリシロキサンと光酸発生剤を含有する塗布液組成物を塗布、乾燥し、紫外線を照射して、積極的にゾル−ゲル硬化反応を促進させ、密着性、耐擦傷性を改善することが提案されている。しかし、硬化を促進させることで、低屈折率層が凝集し、屈折率が高くなり、屈折率1.40以下にするのが難しい(特許文献1)。
また、別の態様として、光反応性基を含有するケイ素アルコキシドを加水分解処理して調整したアルコキシシラン水溶液を、透明樹脂基材上に塗布、形成された基材を加熱乾燥し、次いで紫外線を照射することにより、オルガノポリシロキサン層を形成することが提案されている。しかしながら、屈折率を1.38より小さくすることが困難であり、反射防止性が満足できるものではなく、またフィルムとの密着性、耐擦傷性についても不十分であった(特許文献2)。
In recent years, in a display device represented by a cathode ray tube, a liquid crystal display device, a plasma display, or the like, a functional film is attached to the outermost surface of a panel on which an image is displayed. This functional film has various functions such as an antistatic effect, an antireflection effect, and an antifouling effect. As an example of such a functional film, a laminated film in which a hard coat layer, a high refractive index layer, a low refractive index layer and the like are laminated on a resin base material is known.
As a method of forming a low refractive index layer of a laminated film, a method of forming a polysiloxane layer using a so-called sol-gel reaction is known. According to this, the silica fine particle-dispersed sol is hydrolytically condensed, dried, and formed into a cured film, whereby a porous body of particles can be formed and a low refractive index layer can be formed. However, the formation of the low refractive index layer by the sol-gel method has problems in adhesion and scratch resistance, and further improvement has been demanded.
Therefore, a coating liquid composition containing polysiloxane and a photoacid generator is applied as a low refractive index layer, dried, and irradiated with ultraviolet rays to actively promote the sol-gel curing reaction, adhesion, and scratch resistance. It has been proposed to improve performance. However, by promoting curing, the low refractive index layer aggregates, the refractive index becomes high, and it is difficult to make the refractive index 1.40 or less (Patent Document 1).
In another embodiment, an aqueous alkoxysilane solution prepared by hydrolyzing a silicon alkoxide containing a photoreactive group is applied onto a transparent resin substrate, the formed substrate is heated and dried, and then ultraviolet rays are applied. It has been proposed to form an organopolysiloxane layer by irradiation. However, it is difficult to make the refractive index smaller than 1.38, the antireflection property is not satisfactory, and the adhesion to the film and the scratch resistance are insufficient (Patent Document 2).

特開2002−243905号公報JP 2002-243905 A 特開2000−198964号公報JP 2000-198964 A

従って、本発明の目的は、低反射率であり、密着性が良く、耐擦傷性に優れ、表面硬度が高く、脆化や着色の無い積層フィルムを得るための製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a production method for obtaining a laminated film having low reflectance, good adhesion, excellent scratch resistance, high surface hardness, and no embrittlement or coloring. .

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、透明樹脂を含有してなる支持体の上に、直接又は他の層を介して、ゾルゲル反応性ケイ素化合物と中空微粒子を含有する塗工液を塗布、乾燥して、被膜を形成したフィルムを得、次いで該フィルムに電磁波を照射することによって、上記目的を達成しうることを見いだし、この知見に基づいてさらに研究を進め、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has applied a coating containing a sol-gel reactive silicon compound and hollow fine particles directly or via another layer on a support containing a transparent resin. It is found that the above object can be achieved by applying a coating solution and drying to obtain a film with a coating film formed thereon, and then irradiating the film with electromagnetic waves. It came to complete.

かくして本発明によれば、
透明樹脂を含有してなる支持体の上に、直接又は他の層を介して、ゾル−ゲル反応性のケイ素化合物と中空微粒子を含有する塗工液を塗布、乾燥して、被膜を形成したフィルムを得、次いで該フィルムに電磁波を照射することを特徴とする積層フィルムの製造方法が提供される。
Thus, according to the present invention,
A coating solution containing a sol-gel reactive silicon compound and hollow fine particles was applied on a support containing a transparent resin, directly or via another layer, and dried to form a coating. There is provided a method for producing a laminated film, which comprises obtaining a film and then irradiating the film with electromagnetic waves.

本発明の製造方法によれば、低反射率であり、密着性が良く、耐擦傷性に優れ、表面硬度が高く、脆化や着色の無い、積層フィルムを得ることができる。   According to the production method of the present invention, it is possible to obtain a laminated film having low reflectance, good adhesion, excellent scratch resistance, high surface hardness, and no embrittlement or coloring.

本発明の製造方法は、透明樹脂を含有してなる支持体の上に、直接又は他の層を介して、ゾル−ゲル反応性のケイ素化合物と中空微粒子を含有する塗工液を塗布、乾燥して、被膜を形成したフィルムを得、次いで該フィルムに電磁波を照射することを特徴とする。   In the production method of the present invention, a coating solution containing a sol-gel reactive silicon compound and hollow fine particles is applied directly or via another layer onto a support containing a transparent resin, and then dried. Thus, a film on which a film is formed is obtained, and then the film is irradiated with electromagnetic waves.

本発明に用いる透明樹脂は、1mm厚で全光線透過率が80%以上になるものであればよく、具体的には、脂環式構造含有重合体樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリメタクリレート系樹脂等が挙げられる。これらの透明樹脂は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。   The transparent resin used in the present invention is only required to have a thickness of 1 mm and a total light transmittance of 80% or more. Specifically, the alicyclic structure-containing polymer resin, polyester resin, cellulose resin, polycarbonate Resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polystyrene resin, polyolefin resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl chloride resin, polymethacrylate resin and the like. These transparent resins can be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、強度が高く、透明性に優れることから、脂環式構造含有重合体樹脂、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系重合体樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系重合体樹脂;が好ましく、透明性が高く、着色が少なく、又軽量である等の観点から、脂環式構造含有重合体樹脂、トリアセチルセルロース及びポリエチレンテレフタレートがより好ましく、脂環式構造含有重合体樹脂が特に好ましい。   Among these, since it is high in strength and excellent in transparency, an alicyclic structure-containing polymer resin, a cellulose polymer resin such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, and cellulose acetate butyrate; polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, Polyester polymer resins such as polyethylene naphthalate; are preferred, and from the viewpoints of high transparency, little coloration, and light weight, alicyclic structure-containing polymer resins, triacetyl cellulose and polyethylene terephthalate are more preferred. An alicyclic structure-containing polymer resin is particularly preferred.

脂環式構造含有重合体樹脂は、重合体樹脂の繰り返し単位中に脂環式構造を有するものであり、主鎖中に脂環式構造を有する重合体樹脂及び側鎖に脂環式構造を有する重合体樹脂のいずれも用いることができる。   The alicyclic structure-containing polymer resin has an alicyclic structure in the repeating unit of the polymer resin, and the polymer resin having an alicyclic structure in the main chain and an alicyclic structure in the side chain. Any polymer resin can be used.

脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。脂環式構造を構成する炭素数は特に制限はないが、通常4〜30個、好ましくは5〜20個、より好ましくは5〜15個である。脂環式構造を構成する炭素数がこの範囲にあると、耐熱性及び柔軟性に優れた支持体を得ることができる。   Examples of the alicyclic structure include a cycloalkane structure and a cycloalkene structure, and a cycloalkane structure is preferable from the viewpoint of thermal stability. Although carbon number which comprises an alicyclic structure does not have a restriction | limiting in particular, Usually, 4-30 pieces, Preferably it is 5-20 pieces, More preferably, it is 5-15 pieces. When the number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is within this range, a support having excellent heat resistance and flexibility can be obtained.

脂環式構造含有重合体樹脂中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択すればよいが、通常50重量%以上、好ましくは70重量%以上、より好ましくは90重量%以上である。脂環式構造を有する繰り返し単位が過度に少ないと耐熱性が低下しやすい。なお、脂環式構造含有重合体樹脂における脂環式構造を有する繰り返し単位以外の繰り返し単位は、使用目的に応じて適宜選択される。   The proportion of the repeating unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer resin may be appropriately selected according to the purpose of use, but is usually 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, more preferably 90% by weight or more. When the number of repeating units having an alicyclic structure is excessively small, the heat resistance tends to decrease. In addition, repeating units other than the repeating unit which has an alicyclic structure in an alicyclic structure containing polymer resin are suitably selected according to the intended purpose.

脂環式構造含有重合体樹脂の具体例としては、(i)ノルボルネン系重合体、(ii)単環の環状オレフィン系重合体、(iii)環状共役ジエン系重合体、(iv)ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物等が挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン系重合体が好ましい。   Specific examples of the alicyclic structure-containing polymer resin include (i) a norbornene polymer, (ii) a monocyclic olefin polymer, (iii) a cyclic conjugated diene polymer, and (iv) a vinyl alicyclic ring. Formula hydrocarbon polymers, hydrides thereof and the like. Among these, norbornene-based polymers are preferable from the viewpoints of transparency and moldability.

ノルボルネン系重合体としては、具体的には、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、及びそれらの水素化物、ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネン系単量体と共重合可能なその他の単量体との付加共重合体等が挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネン系単量体の開環重合体の水素化物やノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体の水素化物が特に好ましい。   Specific examples of the norbornene-based polymer include ring-opening polymers of norbornene-based monomers, ring-opening copolymers of norbornene-based monomers and other monomers capable of ring-opening copolymerization, and those Hydrides of the above, addition polymers of norbornene monomers, addition copolymers with other monomers copolymerizable with norbornene monomers, and the like. Among these, from the viewpoint of transparency, hydrogenated ring-opening polymers of norbornene monomers and hydrogen of ring-opening copolymers of norbornene monomers and other monomers capable of ring-opening copolymerization. The compound is particularly preferred.

ノルボルネン系単量体としては、例えば、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、7,8-ベンゾトリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、及びこれらの化合物の誘導体(例えば、環に置換基を有するもの)等を挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基等を挙げることができる。また、これらの置換基は、同一又は相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン系単量体は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the norbornene-based monomer include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (common name: norbornene), tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3,7-diene. (Common name: dicyclopentadiene), 7,8-benzotricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene (common name: methanotetrahydrofluorene), tetracyclo [4.4.0. 1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene (common name: tetracyclododecene), derivatives of these compounds (for example, those having a substituent in the ring), and the like. Here, examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, an alkoxycarbonyl group, and a carboxyl group. In addition, these substituents may be the same or different and a plurality may be bonded to the ring. Norbornene monomers can be used alone or in combination of two or more.

ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等のモノ環状オレフィン類及びその誘導体;シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン等の環状共役ジエン及びその誘導体;等が挙げられる。   Other monomers capable of ring-opening copolymerization with norbornene monomers include, for example, monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene and derivatives thereof; cyclic conjugated dienes such as cyclohexadiene and cycloheptadiene; Derivatives thereof; and the like.

ノルボルネン系単量体の開環重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との開環共重合体は、単量体を開環重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。開環重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。   Ring-opening polymers of norbornene monomers and ring-opening copolymers of norbornene monomers and other monomers copolymerizable therewith are polymerized in the presence of a ring-opening polymerization catalyst. Can be obtained. As the ring-opening polymerization catalyst, a commonly used known catalyst can be used.

ノルボルネン系単量体と付加共重合可能なその他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン等の炭素数2〜20のα-オレフィン及びこれらの誘導体;シクロブテン、シクロペンテン等のシクロオレフィン及びこれらの誘導体;1,4-ヘキサジエン等の非共役ジエン等が挙げられる。これらの単量体は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中では、α-オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。   Other monomers that can be copolymerized with norbornene monomers include, for example, α-olefins having 2 to 20 carbon atoms such as ethylene and propylene, and derivatives thereof; cycloolefins such as cyclobutene and cyclopentene, and the like. Derivatives; non-conjugated dienes such as 1,4-hexadiene and the like. These monomers can be used alone or in combination of two or more. Among these, α-olefin is preferable, and ethylene is more preferable.

ノルボルネン系単量体の付加重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、単量体を付加重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。付加重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。   Norbornene monomer addition polymers and addition copolymers of norbornene monomers and other monomers copolymerizable therewith are obtained by polymerizing the monomers in the presence of an addition polymerization catalyst. Obtainable. As the addition polymerization catalyst, a commonly used known catalyst can be used.

ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、ノルボルネン系単量体の付加重合体、及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との付加重合体の水素化物は、公知の水素化触媒を添加し、炭素−炭素不飽和結合を好ましくは90%以上水素化することによって得ることができる。   Ring-opening polymer of norbornene monomer, ring-opening copolymer of norbornene monomer and other monomer capable of ring-opening copolymerization, addition polymer of norbornene monomer, and norbornene Addition of a known hydrogenation catalyst to the hydride of an addition polymer of a system monomer and another monomer copolymerizable therewith, preferably hydrogenates a carbon-carbon unsaturated bond by 90% or more. Can be obtained.

単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の付加重合体を挙げることができる。
また、環状共役ジエン系重合体としては、例えば、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系単量体を1,2−付加重合又は1,4−付加重合した重合体を挙げることができる。
Examples of the monocyclic olefin-based polymer include addition polymers such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene.
Examples of the cyclic conjugated diene polymer include polymers obtained by 1,2-addition polymerization or 1,4-addition polymerization of cyclic conjugated diene monomers such as cyclopentadiene and cyclohexadiene.

ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニルシクロアルカン又はビニルシクロアルケン由来の繰り返し単位を有する重合体である。ビニル脂環式炭化水素重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキサンのごときビニルシクロアルカンやビニルシクロヘキセンのごときビニルシクロアルケン等のビニル脂環式炭化水素化合物の重合体及びその水素化物;スチレン、α-メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素化合物の重合体の芳香環部分の水素化物等が挙げられる。   The vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is a polymer having a repeating unit derived from vinylcycloalkane or vinylcycloalkene. Examples of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer include polymers of vinyl alicyclic hydrocarbon compounds such as vinylcycloalkanes such as vinylcyclohexane and vinylcycloalkenes such as vinylcyclohexene and their hydrides; styrene, α-methyl Examples thereof include hydrides of aromatic ring portions of polymers of vinyl aromatic hydrocarbon compounds such as styrene.

また、ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニル脂環式炭化水素化合物とこれと共重合可能な他の単量体とのランダム共重合体、ブロック共重合体、及びこれらの水素化物;ビニル芳香族炭化水素化合物とこれと共重合可能な他の単量体とのランダム共重合体やブロック共重合体の芳香環部分の水素化物;であってもよい。ブロック共重合体としては、ジブロック、トリブロック、又はそれ以上のマルチブロックや傾斜ブロック共重合体等が挙げられるが、特に制限はない。   The vinyl alicyclic hydrocarbon polymer includes a random copolymer, a block copolymer, and a hydride thereof of a vinyl alicyclic hydrocarbon compound and another monomer copolymerizable therewith; vinyl It may be a random copolymer of an aromatic hydrocarbon compound and another monomer copolymerizable therewith or a hydride of an aromatic ring portion of a block copolymer. Examples of the block copolymer include diblock, triblock, or more multiblock and gradient block copolymers, but are not particularly limited.

透明樹脂の分子量は、溶媒としてシクロヘキサン(重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン)を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が、通常10,000〜300,000、好ましくは15,000〜250,000、より好ましくは20,000〜200,000の範囲であるときに、支持体の機械的強度及び成形加工性とが高度にバランスされ好適である。   As for the molecular weight of the transparent resin, the weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography using cyclohexane (toluene when the polymer resin does not dissolve) as a solvent is usually 10,000 to 300,000, When the range is preferably 15,000 to 250,000, more preferably 20,000 to 200,000, the mechanical strength and moldability of the support are highly balanced and suitable.

透明樹脂のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択すればよいが、好ましくは80℃以上、より好ましくは100〜250℃の範囲である。ガラス転移温度がこのような範囲にある透明樹脂からなる支持体は、高温・高湿度下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久性に優れる。   The glass transition temperature of the transparent resin may be appropriately selected according to the purpose of use, but is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 to 250 ° C. A support made of a transparent resin having a glass transition temperature in such a range is excellent in durability without being deformed or stressed when used under high temperature and high humidity.

本発明に用いる支持体には、透明樹脂の他に、本発明の効果を損なわない範囲で、他の配合剤を含んでいてもよい。他の配合剤としては、可塑剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、分散剤、塩素捕捉剤、難燃剤、結晶化核剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、離型剤、顔料、有機又は無機の充填材、中和剤、滑剤、金属不活性化剤、汚染防止材、抗菌剤やその他の樹脂、熱可塑性エラストマーなどの公知の配合剤が挙げられる。   The support used in the present invention may contain other compounding agents in addition to the transparent resin as long as the effects of the present invention are not impaired. Other compounding agents include plasticizers, antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, UV absorbers, antistatic agents, dispersants, chlorine scavengers, flame retardants, crystallization nucleating agents, antiblocking agents, antiblocking agents. Known compounding agents such as clouding agents, release agents, pigments, organic or inorganic fillers, neutralizers, lubricants, metal deactivators, antifouling materials, antibacterial agents and other resins, thermoplastic elastomers, etc. It is done.

本発明に用いる支持体は、上記透明樹脂を公知の成形方法によりフィルム状に成形して得ることが好ましい。
透明樹脂をフィルム状に成形する方法としては、溶液流延法や溶融押出成形法が挙げられる。なかでも、フィルム中の揮発性成分の含有量や厚みむらを少なくできる点から、溶融押出成形法が好ましい。さらに溶融押出成形法としては、Tダイ等のダイスを用いる方法やインフレーション法等が挙げられるが、生産性や厚み精度に優れる点でTダイを用いる方法が好ましい。
The support used in the present invention is preferably obtained by molding the transparent resin into a film by a known molding method.
Examples of a method for forming the transparent resin into a film include a solution casting method and a melt extrusion method. Among these, the melt extrusion molding method is preferable because the content of volatile components in the film and the thickness unevenness can be reduced. Further, examples of the melt extrusion molding method include a method using a die such as a T die, an inflation method, and the like, but a method using a T die is preferable in terms of excellent productivity and thickness accuracy.

フィルム状に成形する方法として、Tダイを用いる方法を採用する場合、Tダイを有する押出機における透明樹脂の溶融温度は、透明樹脂のガラス転移温度よりも80〜180℃高い温度にすることが好ましく、100〜150℃高い温度にすることがより好ましい。押出機での溶融温度が過度に低いと透明樹脂の流動性が不足するおそれがあり、逆に溶融温度が過度に高いと樹脂が劣化する可能性がある。   When adopting a method using a T die as a method for forming a film, the melting temperature of the transparent resin in the extruder having the T die should be 80 to 180 ° C. higher than the glass transition temperature of the transparent resin. Preferably, the temperature is higher by 100 to 150 ° C. If the melting temperature in the extruder is excessively low, the fluidity of the transparent resin may be insufficient. Conversely, if the melting temperature is excessively high, the resin may be deteriorated.

さらに、フィルム状に成形する前に、用いる透明樹脂を予備乾燥しておくことが好ましい。予備乾燥は、例えば原料をペレット等の形態にして、熱風乾燥機等を用いて行われる。乾燥温度は100℃以上が好ましく、乾燥時間は2時間以上が好ましい。予備乾燥を行うことにより、フィルム中の揮発性成分量を低減させることができ、透明樹脂フィルム中で気泡が発生するのを防ぐことができる。   Furthermore, it is preferable to pre-dry the transparent resin to be used before forming into a film. The preliminary drying is performed using, for example, a hot air dryer or the like in the form of pellets or the like. The drying temperature is preferably 100 ° C. or more, and the drying time is preferably 2 hours or more. By performing preliminary drying, the amount of volatile components in the film can be reduced, and bubbles can be prevented from being generated in the transparent resin film.

また、支持体としては、片面又は両面に表面改質処理を施したものを使用することができる。表面改質処理を行うことにより、低屈折率層や後述するその他の層との密着性を向上させることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理等が挙げられる。   Moreover, as a support body, what gave the surface modification process to the single side | surface or both surfaces can be used. By performing the surface modification treatment, adhesion to the low refractive index layer and other layers described later can be improved. Examples of the surface modification treatment include energy beam irradiation treatment and chemical treatment.

エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後充分に水で洗浄する方法が挙げられる。   Examples of the energy ray irradiation treatment include corona discharge treatment, plasma treatment, electron beam irradiation treatment, ultraviolet ray irradiation treatment and the like. From the viewpoint of treatment efficiency, corona discharge treatment and plasma treatment are preferred, and corona discharge treatment is particularly preferred. Examples of the chemical treatment include a method of immersing in an aqueous oxidizing agent solution such as potassium dichromate solution or concentrated sulfuric acid and then thoroughly washing with water.

本発明で使用する塗工液は、ゾル−ゲル反応性ケイ素化合物と中空微粒子を含有してなる。
ゾル−ゲル反応は、一般にアルコキシドからなるゾルを加水分解・重縮合反応により、流動性を失ったゲルとし、このゲルを加熱して酸化物を得る方法である。ゾル−ゲル反応性のケイ素化合物は、ゾル−ゲル反応によって、シロキサン結合を持った化合物に変化する。
本発明に用いる、ゾル−ゲル反応性ケイ素化合物としては、下記(a)〜(c)からなる群から選ばれる1種以上の化合物が挙げられる。
(a)式(1):SiXで表される化合物。
(b)前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解重縮合生成物。
(c)前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解重縮合生成物。
The coating liquid used in the present invention contains a sol-gel reactive silicon compound and hollow fine particles.
The sol-gel reaction is generally a method in which a sol composed of an alkoxide is converted into a gel that loses fluidity by hydrolysis and polycondensation reaction, and the gel is heated to obtain an oxide. The sol-gel reactive silicon compound is changed to a compound having a siloxane bond by the sol-gel reaction.
Examples of the sol-gel reactive silicon compound used in the present invention include one or more compounds selected from the group consisting of the following (a) to (c).
(A) Formula (1): A compound represented by SiX n .
(B) At least one partially hydrolyzed polycondensation product of the compound represented by the formula (1).
(C) At least one fully hydrolyzed polycondensation product of the compound represented by the formula (1).

前記(a)の式(1)で表される化合物において、式(1)中、Xは、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;置換基を有していてもよい一価の炭化水素基;酸素原子;酢酸根、硝酸根等の有機酸根;アセチルアセトナート等のβ-ジケトナート基;硝酸根、硫酸根等の無機酸根;メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、n-ブトキシ基等のアルコキシ基;アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基;等の加水分解性基または水酸基を表す。また、nは前記ケイ素の原子価を表す。   In the compound represented by the formula (1) of the above (a), in the formula (1), X is a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom; a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent ; Oxygen atom; organic acid radical such as acetate radical and nitrate radical; β-diketonate group such as acetylacetonate; inorganic acid radical such as nitrate radical and sulfate radical; methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, n-butoxy group, etc. A hydrolyzable group such as an acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, benzoyloxy group or the like; a hydroxyl group; N represents the valence of the silicon.

前記式(1)で表される化合物として、
式(2):RSiY4-a
(式中、Rは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、aは0〜2の整数を表し、aが2のとき、Rは同一であっても相異なっていてもよい。Yは加水分解性基を表し、Yは同一であっても相異なっていてもよい。)
で表されるケイ素化合物が特に好ましい。
As the compound represented by the formula (1),
Formula (2): R a SiY 4-a
(In the formula, R represents a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent, a represents an integer of 0 to 2, and when a is 2, R may be the same or different. Y represents a hydrolyzable group, and Y may be the same or different.)
A silicon compound represented by the formula is particularly preferred.

置換基を有していてもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、4-メチルフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基等の置換基を有していてもよいアリール基;ビニル基、アリル基等のアルケニル基;ベンジル基、フェネチル基、3-フェニルプロピル基等のアラルキル基;クロロメチル基、γ-クロロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基等のハロアルキル基;γ-メタクリロキシプロピル基等のアルケニルカルボニルオキシアルキル基;γ-グリシドキシプロピル基、3,4-エポキシシクロヘキシルエチル基等のエポキシ基を有するアルキル基;γ-メルカプトプロピル基等のメルカプト基を有するアルキル基;3-アミノプロピル基等のアミノ基を有するアルキル基;トリフルオロメチル基等のパーフルオロアルキル基等を例示することができる。これらの中でも、合成の容易性、入手容易性から、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、パーフルオロアルキル基が好ましく、防汚性に優れる点からパーフルオロアルキル基がより好ましい。   Examples of the monovalent hydrocarbon group which may have a substituent include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group; a cyclopentyl group, A cycloalkyl group such as a cyclohexyl group; an aryl group optionally having a substituent such as a phenyl group, a 4-methylphenyl group, a 1-naphthyl group, or a 2-naphthyl group; an alkenyl group such as a vinyl group or an allyl group; Aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group and 3-phenylpropyl group; haloalkyl groups such as chloromethyl group, γ-chloropropyl group and 3,3,3-trifluoropropyl group; alkenyl groups such as γ-methacryloxypropyl group Carbonyloxyalkyl group; alkyl group having an epoxy group such as γ-glycidoxypropyl group, 3,4-epoxycyclohexylethyl group; γ- It can be exemplified a perfluoroalkyl group such as trifluoromethyl group; an alkyl group having an amino group such as 3-aminopropyl group; an alkyl group having a mercapto group such as Le mercaptopropyl group. Among these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, and a perfluoroalkyl group are preferable from the viewpoint of ease of synthesis and availability, and a perfluoroalkyl group is more preferable from the viewpoint of excellent antifouling properties.

Yは加水分解性基を表す。ここで、加水分解性基は、シロキサン結合を生じせしめる基をいう。   Y represents a hydrolyzable group. Here, the hydrolyzable group refers to a group that causes a siloxane bond.

加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、シクロへキシルオキシ基、t−ブチルオキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基;アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基;オキシム基(−O-N=C-R’(R”))、エノキシ基(−O-C(R’)=C(R”)R''')、アミノ基、アミノキシ基(−O-N(R’)R”)、アミド基(−N(R’)-C(=O)-R”)等が挙げられる。
これらの基において、R’、R”、R'''は、それぞれ独立して水素原子又は一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Yとしては、入手容易性等からアルコキシ基が好ましい。
Specific examples of the hydrolyzable group include alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, cyclohexyloxy group, t-butyloxy group and propoxy group; acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, benzoyloxy group and the like. An acyloxy group; an oxime group (—O—N═C—R ′ (R ″)), an enoxy group (—O—C (R ′) = C (R ″) R ′ ″), an amino group, an aminoxy group ( -O-N (R ') R "), an amide group (-N (R')-C (= O) -R") and the like.
In these groups, R ′, R ″, and R ′ ″ each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group. Among these, Y is preferably an alkoxy group from the standpoint of availability. .

前記式(2)で表されるケイ素化合物としては、式(2)中、aが0〜2の整数であるケイ素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等が挙げられる。これらの中でも、入手の容易さからアルコキシシラン類がより好ましい。   The silicon compound represented by the formula (2) is preferably a silicon compound in which a is an integer of 0 to 2 in the formula (2). Specific examples thereof include alkoxysilanes, acetoxysilanes, oxime silanes, enoxysilanes, aminosilanes, aminoxysilanes, amidosilanes and the like. Among these, alkoxysilanes are more preferable because of their availability.

前記式(2)中、aが0であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、aが1であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。また、aが2であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。   In the formula (2), examples of the tetraalkoxysilane in which a is 0 include tetramethoxysilane and tetraethoxysilane. Examples of the organotrialkoxysilane in which a is 1 include methyltrimethoxysilane and methyltriethoxy. Examples include silane, methyltriisopropoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, and the like. Examples of the diorganodialkoxysilane in which a is 2 include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and methylphenyldimethoxysilane.

前記式(1)で表される化合物の分子量は特に制限されないが、40〜300であるのが好ましく、100〜200であるのがより好ましい。   The molecular weight of the compound represented by the formula (1) is not particularly limited, but is preferably 40 to 300, and more preferably 100 to 200.

また、前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解重縮合生成物:化合物(b)、及び式(1)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解重縮合生成物:化合物(c)は、前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種を、全部又は部分的に加水分解することにより得ることができる。   Further, at least one partial hydrolysis polycondensation product of the compound represented by the formula (1): the compound (b), and at least one complete hydrolysis polycondensation of the compound represented by the formula (1) Product: The compound (c) can be obtained by hydrolyzing at least one of the compounds represented by the formula (1) in whole or in part.

化合物(b)及び化合物(c)は、例えば、Si(Or)(rは1価の炭化水素基を表す。)で表されるシリコンテトラアルコキシドを、モル比[HO]/[Or]が1.0以上、例えば1.0〜5.0、好ましくは1.0〜3.0となる量の水の存在下、加水分解して得ることができる。
加水分解は、5〜100℃の温度で、2〜100時間、全容を撹拌することにより行うことができる。
Compound (b) and compound (c) are, for example, silicon tetraalkoxides represented by Si (Or) 4 (r represents a monovalent hydrocarbon group) in a molar ratio [H 2 O] / [Or ] Is 1.0 or more, for example, 1.0 to 5.0, preferably 1.0 to 3.0, and can be obtained by hydrolysis in the presence of water.
Hydrolysis can be performed by stirring the whole volume at a temperature of 5 to 100 ° C. for 2 to 100 hours.

前記式(1)で表される化合物を加水分解する場合、必要に応じて酸を使用してよい。使用する酸としては、特に限定されるものではないが、得られる部分加水分解物及び/又は完全加水分解物が2次元架橋構造になり易い。   When hydrolyzing the compound represented by the formula (1), an acid may be used as necessary. Although it does not specifically limit as an acid to be used, The obtained partial hydrolyzate and / or complete hydrolyzate are easy to become a two-dimensional crosslinked structure.

用いる酸は、特に限定されないが、例えば、酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸;塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等の無機酸;酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等の酸性ゾル状フィラー;を挙げることができる。これらの酸は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。   The acid used is not particularly limited. For example, acetic acid, chloroacetic acid, citric acid, benzoic acid, dimethylmalonic acid, formic acid, propionic acid, glutaric acid, glycolic acid, maleic acid, malonic acid, toluenesulfonic acid, oxalic acid, etc. Organic acids; inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, and halogenated silane; acidic sol-like fillers such as acidic colloidal silica and titania sol; These acids can be used alone or in combination of two or more.

また、前記酸の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、アミン類の水溶液等の塩基を用いてもよい。   Instead of the acid, a base such as an aqueous solution of an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide such as sodium hydroxide or calcium hydroxide, an aqueous ammonia, or an aqueous solution of amines may be used.

化合物(b)及び化合物(c)の分子量は特に制限されないが、通常、その重量平均分子量が200〜5000の範囲である。   The molecular weights of the compound (b) and the compound (c) are not particularly limited, but usually the weight average molecular weight is in the range of 200 to 5,000.

本発明に用いる中空微粒子は、無機化合物、有機化合物の中空微粒子を特に制限なく使用することができるが、外殻の内部に空洞が形成された無機中空微粒子であることが好ましく、シリカ系中空微粒子を特に好適に用いることができる。無機中空微粒子としては、(A)無機酸化物単一層、(B)数種類の無機酸化物からなる複合酸化物の単一層、及び(C)上記(A)と(B)との二重層を包含するものを用いることができる。
外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよく、あるいは細孔が閉塞されて空孔が外殻の外側に対して密封されているものであってもよい。外殻は、内側の第1無機酸化物被覆層、及び外側の第2無機酸化物被覆層からなる複数の無機酸化物被覆層であることが好ましい。外側に第2無機酸化物被覆層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化させたり、さらには、内部の空孔を密封した無機中空微粒子を得ることができる。特に第2無機酸化物被覆層の形成に含フッ素有機ケイ素化合物を用いる場合は、屈折率が低くなるとともに、有機溶媒への分散性もよくなり、さらに防汚性が付与されるので好ましい。このような含フッ素有機珪素化合物としては、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3-トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン等を挙げることが出来る。
As the hollow fine particles used in the present invention, inorganic fine particles and organic compound hollow fine particles can be used without particular limitation. However, the hollow fine particles are preferably inorganic hollow fine particles in which cavities are formed inside the outer shell, and silica-based hollow fine particles. Can be used particularly preferably. Inorganic hollow fine particles include (A) a single layer of an inorganic oxide, (B) a single layer of a composite oxide composed of several types of inorganic oxides, and (C) a double layer of (A) and (B) above. Can be used.
The outer shell may be porous with pores, or the pores may be closed and the pores sealed against the outside of the outer shell. The outer shell is preferably a plurality of inorganic oxide coating layers comprising an inner first inorganic oxide coating layer and an outer second inorganic oxide coating layer. By providing the second inorganic oxide coating layer on the outer side, the fine pores of the outer shell are closed to make the outer shell dense, and furthermore, the inorganic hollow fine particles in which the inner pores are sealed can be obtained. In particular, when a fluorine-containing organic silicon compound is used for forming the second inorganic oxide coating layer, the refractive index is lowered, the dispersibility in an organic solvent is improved, and antifouling properties are further imparted. Examples of such fluorine-containing organic silicon compounds include 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane, and heptadecafluorodecyl. Examples include trichlorosilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, and tridecafluorooctyltrimethoxysilane.

中空微粒子の平均粒子径に特に制限はないが、5〜1,000nmであることが好ましく、10〜500nmであることがより好ましく、20〜100nmであることが最も好ましい。平均粒子径が5nm未満であると、中空によって低屈折率になる効果が小さくなるおそれがある。平均粒子径が、1,000nmを超えると、透明性が極端に悪くなり、拡散反射による寄与が大きくなるおそれがある。平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察により、数平均粒子径として求めることができる。中空微粒子とケイ素化合物の重量比は、好ましくは、85/15〜30/70、より好ましくは、80/20〜50/50である。中空微粒子が少ないと、屈折率が低くならない。また、中空微粒子が多すぎると、中空微粒子同士が上手くくっつかず、耐擦傷性が悪化する。   Although there is no restriction | limiting in particular in the average particle diameter of a hollow microparticle, It is preferable that it is 5-1,000 nm, It is more preferable that it is 10-500 nm, It is most preferable that it is 20-100 nm. If the average particle size is less than 5 nm, the effect of lowering the refractive index due to hollowness may be reduced. When the average particle diameter exceeds 1,000 nm, the transparency is extremely deteriorated and the contribution due to diffuse reflection may be increased. The average particle diameter can be determined as a number average particle diameter by observation with a transmission electron microscope. The weight ratio of the hollow fine particles to the silicon compound is preferably 85/15 to 30/70, more preferably 80/20 to 50/50. If the number of hollow fine particles is small, the refractive index does not decrease. Moreover, when there are too many hollow microparticles | fine-particles, hollow microparticles | fine-particles do not stick well and abrasion resistance deteriorates.

また、前記塗工液は、公知のシランカップリング剤を更に含んでいてもよい。シランカップリング剤を含む塗工液を用いて支持体上に低屈折率層を形成する場合、支持体と低屈折率層あるいは/又は他の層との間の密着性を向上させることができる。   The coating solution may further contain a known silane coupling agent. When a low refractive index layer is formed on a support using a coating liquid containing a silane coupling agent, the adhesion between the support and the low refractive index layer or / or other layers can be improved. .

塗工液にはバインダー樹脂が含まれていても良い。バインダー樹脂は、中空微粒子の分散性、多孔質体の透明性、多孔質体の強度などの条件に適合するように、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニル樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、エマルジョン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂、これらの樹脂の混合物、さらにはこれら樹脂の変性体などの塗料用樹脂、などを挙げることができる。これらの中で、フッ素樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、は、微粒子の分散性が良好であり、好適に用いることができる。 The coating liquid may contain a binder resin. The binder resin is made of fluororesin, polyester resin, acrylic resin, urethane resin, vinyl chloride resin, epoxy resin, so as to meet conditions such as dispersibility of hollow fine particles, transparency of the porous body, and strength of the porous body. Melamine resin, fluororesin, silicone resin, butyral resin, phenol resin, vinyl acetate resin, UV curable resin, electron beam curable resin, emulsion resin, water-soluble resin, hydrophilic resin, mixture of these resins, and further Examples thereof include resins for coatings such as modified materials. Among these, a fluororesin, an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, and a silicone resin have good dispersibility of fine particles, and can be suitably used.

本発明で使用するゾル−ゲル反応性ケイ素化合物と中空微粒子を含有する塗工液には、他に溶剤を含有する。
前記溶剤としては、水または水と他の有機溶剤との混合物を含むのが好ましい。
用いる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)、n-ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体;ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体;ジアセトンアルコール;及びこれらの2種以上からなる組み合わせ;等の親水性有機溶剤が挙げられる。
The coating solution containing the sol-gel reactive silicon compound and hollow fine particles used in the present invention contains a solvent in addition.
The solvent preferably includes water or a mixture of water and another organic solvent.
Examples of the organic solvent to be used include lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol (IPA), n-butanol and isobutanol; ethylene glycol derivatives such as ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether and ethylene glycol monoethyl ether acetate And hydrophilic organic solvents such as diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol and diethylene glycol monobutyl ether; diacetone alcohol; and combinations of two or more thereof.

また、前記親水性有機溶剤と併用して、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n-ヘキサン、n-ヘプタン等の脂肪族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;メチルエチルケトオキシム等のオキシム類;エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等のセルソルブ類;及びこれらの2種以上からなる組み合わせ;等を使用することができる。
前記塗工液中の溶剤の含有量は、通常80〜99重量%、好ましくは90〜99重量%である。
In combination with the hydrophilic organic solvent, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; methyl ethyl ketone and methyl Ketones such as isobutyl ketone; oximes such as methyl ethyl ketoxime; cell solves such as ethyl cellosolve and butyl cellosolve; and combinations of two or more of these can be used.
The content of the solvent in the coating solution is usually 80 to 99% by weight, preferably 90 to 99% by weight.

透明樹脂を含有してなる支持体上に前記塗工液を塗布する方法は特に制限されず、公知の塗布法を採用することができる。塗布法としては、ワイヤバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が挙げられる。   The method for applying the coating solution onto a support containing a transparent resin is not particularly limited, and a known coating method can be employed. Examples of the coating method include a wire bar coating method, a dip method, a spray method, a spin coating method, a roll coating method, a die coating method, and a gravure coating method.

透明樹脂を含有してなる支持体上に前記塗工液を塗布するときの温度は、通常10〜40℃、好ましくは20〜30℃であり、相対湿度は、通常10〜80%、好ましくは40〜70%である。   The temperature at which the coating solution is applied onto a support comprising a transparent resin is usually 10 to 40 ° C, preferably 20 to 30 ° C, and the relative humidity is usually 10 to 80%, preferably 40-70%.

透明樹脂を含有してなる支持体上に前記塗工液を塗布することにより塗膜を得、その後、該塗膜を乾燥することにより被膜を形成したフィルムを得ることができる。乾燥温度は、20〜130℃、相対湿度0〜80%の条件で乾燥することが好ましく、該塗膜中に残留する溶剤量が5%になるまで20〜80℃、相対湿度0〜80%の条件で乾燥し、次いで塗膜中に残留する溶剤量が5%未満になったら80〜130℃、相対湿度0〜20%の条件で乾燥することが好ましい。   A coating film can be obtained by applying the coating liquid on a support containing a transparent resin, and then the coating film can be dried to obtain a film on which the coating film has been formed. The drying temperature is preferably 20 to 130 ° C and the relative humidity is 0 to 80%. The drying temperature is 20 to 80 ° C and the relative humidity is 0 to 80% until the amount of the solvent remaining in the coating film is 5%. It is preferable to dry under the conditions of 80 to 130 ° C. and relative humidity of 0 to 20% when the amount of the solvent remaining in the coating film is less than 5%.

以上の方法で得られた支持体上の被膜(以下、低屈折率層という。)は、その屈折率が、好ましくは1.38以下のものである。より好ましくは1.37〜1.25、特に好ましくは1.36〜1.32のものである。本発明で得られた低屈折率層によって視認性と耐擦傷性、強度のバランスに優れた液晶表示装置が得られる。低屈折率層の厚さは、10〜1,000nmであることが好ましく、30〜500nmであることがより好ましい。   The coating film (hereinafter referred to as a low refractive index layer) on the support obtained by the above method has a refractive index of preferably 1.38 or less. More preferred is 1.37 to 1.25, and particularly preferred is 1.36 to 1.32. The low refractive index layer obtained in the present invention provides a liquid crystal display device excellent in balance between visibility, scratch resistance and strength. The thickness of the low refractive index layer is preferably 10 to 1,000 nm, and more preferably 30 to 500 nm.

本発明の製法では、該被膜を形成したフィルムに電磁波を照射する。電磁波とは、電波・赤外線・可視光線・紫外線・X線・γ(ガンマ)線が、挙げられる。中でも紫外線が特に好ましい。電磁波を照射することにより、被膜の表面硬度が高くなり、耐擦傷性がより向上する。
電磁波の積算照射量は、好ましくは50〜500mJ/cm、より好ましくは100〜450mJ/cm、さらに好ましくは200〜400mJ/cmである。
50mJ/cm未満だと、耐擦傷性、鉛筆硬度が高くならない。また、500mJ/cmを超えると、積層フィルム及び低屈折率層が劣化し脆くなる。
In the production method of the present invention, the film on which the coating is formed is irradiated with electromagnetic waves. Examples of electromagnetic waves include radio waves, infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, X-rays, and γ (gamma) rays. Of these, ultraviolet rays are particularly preferred. By irradiating with electromagnetic waves, the surface hardness of the coating is increased and the scratch resistance is further improved.
The integrated irradiation amount of electromagnetic waves is preferably 50 to 500 mJ / cm 2 , more preferably 100 to 450 mJ / cm 2 , and still more preferably 200 to 400 mJ / cm 2 .
When it is less than 50 mJ / cm 2 , scratch resistance and pencil hardness do not increase. Moreover, when it exceeds 500 mJ / cm < 2 >, a laminated film and a low refractive index layer will deteriorate and it will become weak.

本発明においては、透明樹脂を含有してなる支持体と低屈折率層との間に、プライマー層や高屈折率層などの他の層を設けることが好ましい。特に、透明樹脂を含有してなる支持体と低屈折率層との間に、高屈折率層を設けることにより、反射防止性に優れた積層フィルムを得ることができる。
プライマー層は、透明樹脂を含有してなる支持体と他の層との密着性の付与及び向上を目的として形成される。プライマー層を構成する材料としては、例えば、ポリエステルウレタン系樹脂、ポリエーテルウレタン系樹脂、ポリイソシアネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、環化ゴム、及びこれらの重合体に極性基を導入した変性物等が挙げられる。これらの中で、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂の変性物及び環化ゴムの変性物を好適に用いることができる。
In the present invention, it is preferable to provide other layers such as a primer layer and a high refractive index layer between the support containing the transparent resin and the low refractive index layer. In particular, by providing a high refractive index layer between a support containing a transparent resin and a low refractive index layer, a laminated film having excellent antireflection properties can be obtained.
The primer layer is formed for the purpose of imparting and improving adhesion between the support containing the transparent resin and other layers. Examples of the material constituting the primer layer include polyester urethane resins, polyether urethane resins, polyisocyanate resins, polyolefin resins, resins having a hydrocarbon skeleton in the main chain, polyamide resins, acrylic resins, and polyester resins. Examples thereof include resins, vinyl chloride / vinyl acetate copolymers, chlorinated rubber, cyclized rubber, and modified products obtained by introducing polar groups into these polymers. Among these, a modified product of a resin having a hydrocarbon skeleton in the main chain and a modified product of a cyclized rubber can be suitably used.

主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂としては、ポリブタジエン骨格又は少なくともその一部に水素添加したポリブタジエン骨格を有する樹脂が挙げられ、具体的には、ポリブタジエン樹脂、水添ポリブタジエン樹脂、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体(SBS共重合体)、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物(SEBS共重合体)等が挙げられる。なかでも、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物の変性物を好適に用いることができる。   Examples of the resin having a hydrocarbon skeleton in the main chain include a polybutadiene skeleton or a resin having a polybutadiene skeleton hydrogenated to at least a part thereof, specifically, polybutadiene resin, hydrogenated polybutadiene resin, styrene / butadiene / styrene. Examples thereof include block copolymers (SBS copolymers), hydrogenated products of styrene / butadiene / styrene block copolymers (SEBS copolymers), and the like. Among these, a modified product of a hydrogenated product of a styrene / butadiene / styrene block copolymer can be suitably used.

重合体の変性物を得るために用いる極性基を導入するための化合物としては、カルボン酸又はその誘導体が好ましい。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸等の不飽和カルボン酸;塩化マレイル、マレイミド、無水マレイン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸のハロゲン化物、アミド、イミド、無水物、エステル等の誘導体;等が挙げられる。これらの中でも、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物による変性物は、密着性の向上に優れるので、好適に用いることができる。不飽和カルボン酸又はその無水物の中では、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸がより好ましく、マレイン酸、無水マレイン酸が特に好ましい。これらの不飽和カルボン酸等は、2種以上を混合して用い、変性することもできる。   As a compound for introducing a polar group used for obtaining a modified product of a polymer, a carboxylic acid or a derivative thereof is preferable. For example, unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid and fumaric acid; halides, amides, imides, anhydrides and esters of unsaturated carboxylic acids such as maleyl chloride, maleimide, maleic anhydride and citraconic anhydride And the like; and the like. Among these, a modified product with an unsaturated carboxylic acid or an unsaturated carboxylic acid anhydride is excellent in improving adhesion, and thus can be suitably used. Among the unsaturated carboxylic acids or anhydrides thereof, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride are more preferable, and maleic acid and maleic anhydride are particularly preferable. These unsaturated carboxylic acids and the like can be modified by mixing two or more kinds.

プライマー層の形成方法は特に制限されず、プライマー層形成用塗工液を公知の塗布方法により、支持体上に塗布して形成する方法等が挙げられる。プライマー層の厚みは特に制限されないが、通常0.01〜5μm、好ましくは0.1〜2μmである。   The method for forming the primer layer is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a primer layer forming coating solution is formed on a support by a known coating method. The thickness of the primer layer is not particularly limited, but is usually 0.01 to 5 μm, preferably 0.1 to 2 μm.

高屈折率層は、透明樹脂を含有してなる支持体及び低屈折率層の屈折率に比して大きな屈折率を有する層である。
高屈折率層を構成する材料としては、好適には、透明性及び機械的強度に優れる観点から、熱硬化型樹脂又は活性エネルギー線硬化型樹脂を含有することが好ましく、活性エネルギー線硬化型樹脂を含有することがより好ましい。
The high refractive index layer is a layer having a refractive index larger than the refractive index of the support containing the transparent resin and the low refractive index layer.
The material constituting the high refractive index layer preferably contains a thermosetting resin or an active energy ray curable resin from the viewpoint of excellent transparency and mechanical strength. It is more preferable to contain.

前記熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられ、なかでも、表面硬度、耐繰り返し疲労性及び耐擦傷性に優れる観点から、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン樹脂が好ましい。
また、これらの樹脂に必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えて使用することができる。
Examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea co-condensation resin, silicone resin, poly Examples thereof include siloxane resins. Among these, melamine resins, epoxy resins, silicone resins, and polysiloxane resins are preferable from the viewpoint of excellent surface hardness, resistance to repeated fatigue, and scratch resistance.
Further, these resins can be used by adding a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier and the like, if necessary.

活性エネルギー線硬化型樹脂は、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーが、エネルギー線の照射により硬化してなる樹脂である。活性エネルギー線は、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は紫外線又は電子線を用いる。   The active energy ray-curable resin is a resin obtained by curing a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in a molecule by irradiation with energy rays. An active energy ray refers to an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules, and usually an ultraviolet ray or an electron beam is used.

前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート等のアクリレート類、もしくはカチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。   Examples of prepolymers and oligomers having a polymerizable unsaturated bond or epoxy group in the molecule include unsaturated polyesters such as unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol condensates; methacrylates such as polyester methacrylate and polyether methacrylate , Acrylates such as polyester acrylate, epoxy acrylate and urethane acrylate, or cationic polymerization type epoxy compounds.

前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するモノマーの例としては、スチレン、α-メチルスチレン等のスチレン系モノマー;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸-2-エチルヘキシル等のアクリル酸エステル類;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル等のメタクリル酸エステル類;アクリル酸-2-(N,N-ジエチルアミノ)エチル、アクリル酸-2-(N,N-ジメチルアミノ)エチル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類;アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類;エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等の多官能性アクリレート類;トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート等の、分子中に2個以上のチオール基を有するポリチオール類;エポキシグリシジル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレートなどのエポキシ基を有するモノマー;等が挙げられる。本発明においては、これら分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有する、プレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーを一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in the molecule include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene; acrylic acid such as methyl acrylate, ethyl acrylate, and acrylic acid-2-ethylhexyl. Esters; Methacrylic acid esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate; acrylic acid-2- (N, N-diethylamino) ethyl, acrylic acid-2- (N, N-dimethylamino) ethyl, etc. Unsaturated substituted amino alcohol esters of the above; unsaturated carboxylic acid amides such as acrylamide and methacrylamide; ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, tri Methylol Pro Polyfunctional acrylates such as polytriacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate; two in the molecule such as trimethylolpropane trithioglycolate and trimethylolpropane trithiopropylate Polythiols having the above thiol group; monomers having an epoxy group such as epoxy glycidyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexyl (meth) acrylate; and the like. In the present invention, prepolymers, oligomers and / or monomers having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in these molecules can be used singly or in combination of two or more.

本発明においては、高屈折率層は前記活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂に加えて、導電性微粒子を含有してなるのが好ましい。活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂に導電性微粒子を含有させることにより、帯電防止膜としての機能を有すると同時に、機械的強度に優れた高屈折率層を形成することができる。   In the present invention, the high refractive index layer preferably contains conductive fine particles in addition to the active energy ray-curable resin or thermosetting resin. By containing conductive fine particles in an active energy ray curable resin or a thermosetting resin, a high refractive index layer having a function as an antistatic film and at the same time excellent in mechanical strength can be formed.

導電性微粒子は、導電性を有する微粒子であれば特に制約はないが、透明性に優れることから、金属酸化物の微粒子が好ましい。   The conductive fine particles are not particularly limited as long as they are conductive fine particles, but metal oxide fine particles are preferable because of excellent transparency.

導電性の金属酸化物としては、例えば、五酸化アンチモン、リンがドープされた酸化スズ(PTO)、酸化スズ、スズがドープされた酸化インジウム(ITO)、アンチモンがドープされた酸化スズ(ATO)、亜鉛がドープされた酸化インジウム(IZO)、アルミニウムがドープされた酸化亜鉛(AZO)、フッ素がドープされた酸化スズ(FTO)、酸化亜鉛/酸化アルミニウム、アンチモン酸亜鉛等が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、透明性に優れること等から、五酸化アンチモン及び/又はリンがドープされた酸化スズが好ましい。   Examples of the conductive metal oxide include antimony pentoxide, tin oxide doped with phosphorus (PTO), tin oxide, indium oxide doped with tin (ITO), and tin oxide doped with antimony (ATO). Indium oxide doped with zinc (IZO), zinc oxide doped with aluminum (AZO), tin oxide doped with fluorine (FTO), zinc oxide / aluminum oxide, zinc antimonate and the like. These metal oxide fine particles can be used singly or in combination of two or more. Among these, tin oxide doped with antimony pentoxide and / or phosphorus is preferable because of its excellent transparency.

また本発明においては、導電性の金属酸化物微粒子として、導電性を持たない金属酸化物微粒子に導電性金属酸化物を被覆することによって、得られた微粒子を使用することもできる。例えば、屈折率は高いが導電性を有しない酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム等の微粒子の表面に、前記導電性金属酸化物を被覆して導電性を付与したものが挙げられる。   In the present invention, fine particles obtained by coating a conductive metal oxide on fine metal oxide fine particles having no conductivity as conductive fine metal oxide particles can also be used. For example, the surface of fine particles of titanium oxide, zirconium oxide, cerium oxide or the like having a high refractive index but no conductivity is coated with the conductive metal oxide to impart conductivity.

導電性微粒子の平均粒子径は、高屈折率層の透明性を低下させないために、通常200nm以下、好ましくは50nm以下である。200nmより大きいとヘイズ(濁り度)が大きくなりやすい。粒子径は、走査型電子顕微鏡(SEM)等により得られる二次電子放出のイメージ写真からの目視により、又は動的光散乱法、静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により計測することができる。   The average particle diameter of the conductive fine particles is usually 200 nm or less, preferably 50 nm or less so as not to lower the transparency of the high refractive index layer. When it is larger than 200 nm, haze (turbidity) tends to increase. The particle size is measured by visual observation from a secondary electron emission image photograph obtained by a scanning electron microscope (SEM) or the like, or by a particle size distribution meter using a dynamic light scattering method, a static light scattering method, or the like. be able to.

導電性微粒子と、活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂からなる高屈折率層は、例えば、前記導電性微粒子、前記プレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマー、並びに適当な溶媒を含有する高屈折率層を形成するための塗工液を、透明樹脂を含有してなる支持体又は該支持体の表面に形成されたその他の層上に塗布し、得られた塗膜に、活性エネルギー線硬化型樹脂を含有する場合は活性エネルギー線を照射することにより、熱硬化型樹脂を含有する場合は加熱することにより、形成することができる。   The high refractive index layer comprising the conductive fine particles and the active energy ray curable resin or the thermosetting resin is, for example, a high refractive index containing the conductive fine particles, the prepolymer, the oligomer and / or the monomer, and an appropriate solvent. The coating liquid for forming the rate layer is applied onto a support containing a transparent resin or other layer formed on the surface of the support, and the resulting coating film is cured with active energy rays. When it contains a mold resin, it can be formed by irradiating active energy rays, and when it contains a thermosetting resin, it can be formed by heating.

前記高屈折率層を形成するための塗工液は、前記導電性微粒子、並びに前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有する、プレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーを、適当な有機溶剤に溶解又は分散させることにより調製することができる。   The coating liquid for forming the high refractive index layer includes the conductive fine particles and a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in the molecule as an appropriate organic solvent. It can be prepared by dissolving or dispersing in.

用いる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、等のアルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル等のグリコール類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n-ヘキサン、n-ヘプタン等の脂肪族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;メチルエチルケトオキシム等のオキシム類;エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等のセルソルブ類;及びこれらの2種以上からなる組み合わせ;等が挙げられる。   Examples of the organic solvent to be used include alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol; glycols such as ethylene glycol and ethylene glycol monobutyl ether; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; n-hexane, n-heptane and the like Aliphatic hydrocarbons; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; oximes such as methyl ethyl ketoxime; cell solves such as ethyl cellosolve and butyl cellosolve; Combinations comprising the above;

高屈折率層を形成するための塗工液における前記プレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーの含有量は、特に制限されないが、優れた塗布適性が得られることから、前記プレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーを5重量%〜95重量%含有するものが好ましい。   The content of the prepolymer, oligomer and / or monomer in the coating liquid for forming the high refractive index layer is not particularly limited, but since excellent coating suitability is obtained, the prepolymer, oligomer and / or Those containing 5% to 95% by weight of monomers are preferred.

高屈折率層を形成するための塗工液における導電性微粒子の含有量は、特に制限されないが、好ましくは高屈折率層の全固形分中の30体積%以上、より好ましくは40体積%〜70体積%である。導電性微粒子の配合量が30体積%未満であると、得られる積層フィルムの帯電防止性が不良となる。   The content of the conductive fine particles in the coating liquid for forming the high refractive index layer is not particularly limited, but is preferably 30% by volume or more, more preferably 40% by volume to the total solid content of the high refractive index layer. 70% by volume. When the blending amount of the conductive fine particles is less than 30% by volume, the antistatic property of the obtained laminated film becomes poor.

また、高屈折率層を形成するための塗工液の硬化が紫外線照射により行われるときは、該組成物に紫外線重合開始剤を添加する。紫外線重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のラジカル重合性開始剤;芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等のカチオン重合性開始剤;等が挙げられる。これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。紫外線重合開始剤の添加量は、高屈折率層を形成するための分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマー100重量部に対し、通常、0.1〜10重量部である。また、この組成物中に光増感剤としてn-ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n-ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。   Moreover, when hardening of the coating liquid for forming a high refractive index layer is performed by ultraviolet irradiation, an ultraviolet polymerization initiator is added to the composition. UV polymerization initiators include radical polymerization initiators such as acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether; aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, metathelone compounds, benzoin sulfonic acids Cationic polymerizable initiators such as esters; These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The addition amount of the ultraviolet polymerization initiator is usually 0.1 with respect to 100 parts by weight of the prepolymer, oligomer and / or monomer having a polymerizable unsaturated bond or epoxy group in the molecule for forming the high refractive index layer. -10 parts by weight. Further, n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine and the like can be mixed and used as a photosensitizer in the composition.

高屈折率層を形成するための塗工液には、塗膜の均一性や密着性向上等を目的として、レベリング剤や分散剤を適宜添加することができる。用いるレベリング剤としては、シリコーンオイル、フッ素化ポリオレフィン、ポリアクリル酸エステル等の表面張力を低下させる化合物が挙げられ、分散剤としては、界面活性剤、シランカップリング剤等が挙げられる。   A leveling agent and a dispersing agent can be appropriately added to the coating liquid for forming the high refractive index layer for the purpose of improving the uniformity and adhesion of the coating film. Examples of the leveling agent to be used include compounds that lower the surface tension such as silicone oil, fluorinated polyolefin, and polyacrylic ester, and examples of the dispersing agent include surfactants and silane coupling agents.

高屈折率層を形成するための塗工液には、防眩性を付与する目的で、防眩性を付与する粒子を添加してもよい。防眩性を付与する粒子としては、高屈折率層の表面に凸凹が形成されるものなら特に限定されない。また、該粒子の平均粒径は、高屈折率層の表面に有効に凸凹を形成するために、0.5〜10μmであることが好ましく、1〜7μmであることがより好ましい。   For the purpose of imparting antiglare properties, particles that impart antiglare properties may be added to the coating liquid for forming the high refractive index layer. The particles imparting antiglare properties are not particularly limited as long as irregularities are formed on the surface of the high refractive index layer. In addition, the average particle diameter of the particles is preferably 0.5 to 10 μm and more preferably 1 to 7 μm in order to effectively form unevenness on the surface of the high refractive index layer.

防眩性を付与する粒子を構成する材料としては、ポリメチルメタクリレート樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の樹脂粒子、又はTiO、Al、In、ZnO、SnO、Sb、ZrO、ITO、MgF、SiO、アルミノシリケート等の無機粒子が挙げられる。 Materials that make up the particles that impart antiglare properties include polymethyl methacrylate resin, fluorine resin, vinylidene fluoride resin, silicone resin, epoxy resin, nylon resin, polystyrene resin, phenol resin, polyurethane resin, crosslinked acrylic resin, and crosslinked resin Resin particles such as polystyrene resin, melamine resin, benzoguanamine resin, or TiO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3 , ZrO 2 , ITO, MgF 2 , SiO 2 , aluminosilicate Inorganic particles such as

高屈折率層を形成するための塗工液を、透明樹脂を含有してなる支持体上に直接又は他の層を介して塗布する方法は、特に制限されず、公知の塗布法が採用できる。塗布法としては、ワイヤバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、グラビアコート法やダイコート法等が挙げられる。   The method for applying the coating liquid for forming the high refractive index layer directly or via another layer on the support containing the transparent resin is not particularly limited, and a known coating method can be adopted. . Examples of the coating method include wire bar coating, dipping, spraying, spin coating, roll coating, gravure coating, and die coating.

高屈折率層を形成するための塗工液を、透明樹脂を含有してなる支持体上に塗布した後は、乾燥し、被膜を得る。被膜に熱硬化型樹脂を含有する場合には加熱することにより、また活性エネルギー線硬化型樹脂を含有する場合には、活性エネルギー線を照射することにより、それぞれ硬化させて高屈折率層を形成することができる。   After apply | coating the coating liquid for forming a high refractive index layer on the support body containing transparent resin, it dries and obtains a film. When the film contains a thermosetting resin, it is cured by heating, and when it contains an active energy ray curable resin, it is cured by irradiation with an active energy ray to form a high refractive index layer. can do.

加熱温度及び加熱時間、活性エネルギー線の照射強度及び照射時間は、特に限定されず、用いる高屈折率層を構成する材料の組成に応じて適宜設定することができる。   The heating temperature and heating time, the irradiation intensity of the active energy ray and the irradiation time are not particularly limited, and can be appropriately set according to the composition of the material constituting the high refractive index layer to be used.

高屈折率層の厚みは、通常0.5〜30μm、好ましくは1〜10μmである。高屈折率層の厚みが0.5μmより薄いと層の硬度、機械的強度が低くなる恐れがあり、一方30μmより厚いと塗布する際に厚みムラが生じる恐れがある。
高屈折率層の屈折率は、好ましくは1.55以上、より好ましくは1.60以上である。屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメーターを用いて測定して求めることができる。
The thickness of the high refractive index layer is usually 0.5 to 30 μm, preferably 1 to 10 μm. If the thickness of the high refractive index layer is less than 0.5 μm, the hardness and mechanical strength of the layer may be lowered. On the other hand, if the thickness is greater than 30 μm, thickness unevenness may occur when coating.
The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 or more, more preferably 1.60 or more. The refractive index can be obtained by measuring using a known spectroscopic ellipsometer, for example.

本発明において、高屈折率層は、JIS K5600−5−4で示す鉛筆硬度試験(試験板はガラス板)で「HB」以上の硬度を示すことが好ましい。高屈折率層の鉛筆硬度が前記範囲であることにより、高屈折率層がハードコート層を兼ねることができ、部材を薄くすることができる。   In the present invention, the high refractive index layer preferably exhibits a hardness of “HB” or higher in a pencil hardness test (test plate is a glass plate) shown in JIS K5600-5-4. When the pencil hardness of the high refractive index layer is in the above range, the high refractive index layer can also serve as the hard coat layer, and the member can be thinned.

本発明において、高屈折率層が導電性微粒子を含有する場合には、帯電防止性能を有する。帯電防止性能を有する高屈折率層の表面抵抗値は、好ましくは1.0×1010Ω/□以下、より好ましくは5.0×10Ω/□以下である。
なお、表面抵抗値は、抵抗率計を用いて測定することができる。
In the present invention, when the high refractive index layer contains conductive fine particles, it has antistatic performance. The surface resistance value of the high refractive index layer having antistatic performance is preferably 1.0 × 10 10 Ω / □ or less, more preferably 5.0 × 10 9 Ω / □ or less.
The surface resistance value can be measured using a resistivity meter.

本発明においては、低屈折率層の上に他の層を設けてもよい。他の層としては、防汚層が挙げられる。防汚層は、低屈折率層を保護し、かつ、防汚性能を高めるために設けるものである。
防汚層の形成材料としては、低屈折率層の機能が阻害されず、防汚層としての要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。
具体的な例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法;化学的気相成長法;湿式コーティング法;等を用いることができる。防汚層の厚みは、20nm以下が好ましく、1〜10nmであるのがより好ましい。
In the present invention, another layer may be provided on the low refractive index layer. Examples of the other layer include an antifouling layer. The antifouling layer is provided for protecting the low refractive index layer and enhancing the antifouling performance.
The material for forming the antifouling layer is not particularly limited as long as the function of the low refractive index layer is not inhibited and the required performance as the antifouling layer is satisfied. Usually, a compound having a hydrophobic group can be preferably used.
As specific examples, a perfluoroalkylsilane compound, a perfluoropolyethersilane compound, or a fluorine-containing silicone compound can be used. As a method for forming the antifouling layer, for example, a physical vapor deposition method such as vapor deposition or sputtering; a chemical vapor deposition method; a wet coating method; or the like can be used depending on the material to be formed. The thickness of the antifouling layer is preferably 20 nm or less, and more preferably 1 to 10 nm.

本発明により得られる積層フィルムは、反射防止性に優れる。具体的には、入射角5°における反射率が、波長430〜700nmにおいて1.4%以下でかつ上記波長範囲の最小反射率が0.9%以下である。反射率が上記範囲であることにより、反射光による表面のギラツキがないので、表示内容の視認性に優れる。さらに反射率が広帯域にわたり小さいので、反射光が着色することなく、表示内容の色調を正確に再現することができる。
また、本発明により得られる積層フィルムは耐擦傷性に優れる。具体的には、スチールウール試験後の透過率の変動が20%以内、好ましくは10%以内である。スチールウール試験後の透過率の変動とは、スチールウールに0.025MPaの荷重をかけた状態で積層フィルムの表面を20往復擦る試験を行う前と後で測定した透過率の変化の割合(ΔT)をいい、スチールウール試験前の透過率をT、スチールウール試験後の透過率をTとすると、次式により求めることができる。
ΔT=(T−T)/T×100
前記ΔTが小さいほど、耐擦傷性に優れる。
透過率は、例えば、公知の濁度計を用いて、全光線透過率を測定し、これを透過率として求めることができる。
The laminated film obtained by the present invention is excellent in antireflection properties. Specifically, the reflectance at an incident angle of 5 ° is 1.4% or less at a wavelength of 430 to 700 nm, and the minimum reflectance in the wavelength range is 0.9% or less. When the reflectance is in the above range, there is no glare on the surface due to the reflected light, and thus the display content is excellent in visibility. Furthermore, since the reflectance is small over a wide band, the color tone of the display content can be accurately reproduced without coloring the reflected light.
Moreover, the laminated film obtained by the present invention is excellent in scratch resistance. Specifically, the variation in transmittance after the steel wool test is within 20%, preferably within 10%. The change in the transmittance after the steel wool test is the rate of change in transmittance measured before and after the test of rubbing the surface of the laminated film 20 times with a load of 0.025 MPa applied to the steel wool (ΔT ), The transmittance before the steel wool test is T a , and the transmittance after the steel wool test is T b .
ΔT = (T a −T b ) / T a × 100
The smaller the ΔT, the better the scratch resistance.
The transmittance can be obtained, for example, by measuring the total light transmittance using a known turbidimeter and using this as the transmittance.

本発明により得られる積層フィルムは、上記反射防止性の他に、密着性、面状及び耐擦傷性に優れるので、様々な光学素子として用いることができる。中でも反射防止性保護フィルムとして用いることが好ましい。   Since the laminated film obtained by the present invention is excellent in adhesion, planarity, and scratch resistance in addition to the antireflection properties, it can be used as various optical elements. Among these, it is preferable to use as an antireflection protective film.

反射防止性保護フィルムは、一般に液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、EL素子、陰極管表示装置などの画像表示装置やタッチパネル等の光学装置において、外光の反射によるコントラストの低下や像の映り込みを防止するために用いられている。これらの反射防止性保護フィルムは、通常各光学装置における視認側最上層に形成されている光学部材の反射防止性保護フィルムとして設けられることが多い。この中でも、特に液晶表示装置における偏光板の保護フィルムに適用することが好ましい。   Anti-reflection protective films generally reduce contrast and image reflection due to reflection of external light in image display devices such as liquid crystal display devices, plasma display panels, EL elements, cathode ray tube display devices, and optical devices such as touch panels. Used to prevent. These antireflection protective films are often provided as an antireflection protective film for optical members usually formed in the uppermost layer on the viewing side in each optical device. Among these, it is preferable to apply to the protective film of the polarizing plate in a liquid crystal display device especially.

本発明を、実施例を示しながら、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお部及び%は特に断りのない限り重量基準である。
本実施例における評価は、以下の方法によって行った。
(1)屈折率(低屈折率層、高屈折率層)
高速分光エリプソメーター(J.A.Woollam社製、M−2000U)を用いて、測定波長245〜1000nm、入射角55°、60°及び65°で測定し、その測定値を元に算出した値を屈折率とした。
(2)反射率
支持体の低屈折率層などが設けられていない方の面に、黒色ビニールテープ(No.21:日東電工社製)を貼り、分光光度計(日本分光社製:「紫外可視近赤外分光光度計 V−570」)を用い、入射角5°で反射スペクトルを測定し、波長550nmにおける反射率を求めた。
(3)全光線透過率、ヘイズ
JIS K7361−1997に準拠して、日本電色工業社製「濁度計NDH−300A」を用いて測定した。
(4)耐擦傷性
積層フィルムの表面(低屈折率層が設けられている方の面)に、スチールウール♯0000に荷重0.025MPaをかけた状態でその表面を20往復させる。そして、10往復後のフィルムの表面を目視で観察し、以下の基準で評価を行った。
◎:傷はまったく認められない。
○:注意深く観察するとわずかに傷が認められる。
△:離して見て、傷が認められる。
×:深い傷がはっきりと認められる。
(5)スチールウール試験後の全光線透過率の変動
スチールウール試験前の全光線透過率をT、スチールウール試験後の全光線透過率をTとすると、次式により求めることができる。
ΔT=(T−T)/T×100
前記ΔTが小さいほど、耐擦傷性に優れる。
(6)密着性
JIS D0202−1998に準拠して、碁盤目テープ剥離試験を行う。粘着テープ(ニチバン社製、商品名:CT24)を用い、これを指の腹で圧し、積層フィルムの表面(低屈折率層が設けられている方の面)に密着させた後、粘着テープを90°の方向に引いて剥がした。判定は、100マスの内、剥離しないマス目の数で表し、剥離しない場合を100/100、完全に剥離する場合を0/100として表した。剥離しないマス目の数が大きいほど密着性に優れる。
(7)鉛筆硬度
JIS−K5700に従い500g荷重で測定した。
(8)引き裂き性
フィルムの端部を手で保持し、フィルムの端部から手で引き裂く。
◎ :引き裂くのに力がいる。丈夫である。
○ :力を入れなくても引き裂くことができる。
× :簡単に引き裂ける。フィルムが脆くなっている。クラックが発生している。
The present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. Parts and% are based on weight unless otherwise specified.
Evaluation in this example was performed by the following method.
(1) Refractive index (low refractive index layer, high refractive index layer)
Measured using a high-speed spectroscopic ellipsometer (manufactured by JA Woollam, M-2000U) at a measurement wavelength of 245 to 1000 nm, incident angles of 55 °, 60 ° and 65 °, and calculated based on the measured values Was the refractive index.
(2) Reflectance A black vinyl tape (No. 21: manufactured by Nitto Denko Corporation) is pasted on the surface of the support on which the low refractive index layer or the like is not provided, and a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation: “UV” Using a visible near infrared spectrophotometer V-570 "), the reflection spectrum was measured at an incident angle of 5 °, and the reflectance at a wavelength of 550 nm was determined.
(3) Total light transmittance, haze Based on JIS K7361-1997, it measured using Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. "turbidimeter NDH-300A".
(4) Scratch resistance The surface of the laminated film (the surface on which the low refractive index layer is provided) is reciprocated 20 times in a state where a load of 0.025 MPa is applied to steel wool # 0000. Then, the surface of the film after 10 reciprocations was visually observed and evaluated according to the following criteria.
(Double-circle): A crack is not recognized at all.
○: Slight scratches are observed when carefully observed.
Δ: Scratches are observed when viewed apart.
X: Deep scratches are clearly recognized.
(5) Fluctuation of total light transmittance after steel wool test When T a is the total light transmittance before the steel wool test and T b is the total light transmittance after the steel wool test, it can be obtained by the following equation.
ΔT = (T a −T b ) / T a × 100
The smaller the ΔT, the better the scratch resistance.
(6) Adhesiveness A cross-cut tape peeling test is performed in accordance with JIS D0202-1998. Using an adhesive tape (product name: CT24, manufactured by Nichiban Co., Ltd.), pressing this with the belly of the finger and bringing it into close contact with the surface of the laminated film (the surface on which the low refractive index layer is provided), The film was pulled and peeled in the direction of 90 °. Judgment is represented by the number of squares that do not peel out of 100 squares. The case where peeling does not occur is 100/100, and the case where peeling completely occurs is represented as 0/100. The larger the number of cells that do not peel, the better the adhesion.
(7) Pencil hardness It measured with the load of 500g according to JIS-K5700.
(8) The end of the tearable film is held by hand and is torn by hand from the end of the film.
A: There is power to tear. It is strong.
○: It can be torn without applying force.
X: It tears easily. The film is brittle. A crack has occurred.

1)透明樹脂を含有してなる支持体
支持体1:ノルボルネン系重合体からなるフィルム(ゼオノアフィルムZF14―40、日本ゼオン社製、厚み40μm)。
1) Support comprising a transparent resin Support 1: A film made of a norbornene polymer (Zeonor film ZF14-40, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., thickness 40 μm).

支持体2:ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(ルミラーT60#38、東レ社製、厚み38μm)。 Support 2: Polyethylene terephthalate (PET) film (Lumirror T60 # 38, manufactured by Toray Industries, Inc., thickness 38 μm).

支持体3:トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(KC4UX2M、コニカ・ミノルタ社製、厚み40μm)。 Support 3: Triacetylcellulose (TAC) film (KC4UX2M, manufactured by Konica Minolta, thickness 40 μm).

2)高屈折率層を形成するための塗工液(高屈折率層形成用塗工液)の調製
6官能ウレタンアクリレートオリゴマー(商品名:NKオリゴ U−6HA、新中村化学社製)30部、ブチルアクリレート40部、イソボロニルメタクリレート(商品名:NK エステル IB、新中村化学社製)30部、及び2,2-ジフェニルエタン−1−オン10部をホモジナイザーで混合して、紫外線硬化性組成物からなる塗工液を調製した。
上記塗工液に、五酸化アンチモン微粒子の40%MIBK(メチルイソブチルケトン)溶液(平均粒子径20nm:水酸基がパイロクロア構造の表面に現われているアンチモン原子に1つの割合で結合している。)を、五酸化アンチモン微粒子の重量が高屈折率層形成用塗工液全固形分の50重量%占める割合で混合して、高屈折率層形成用塗工液を調製した。
2) Preparation of coating liquid for forming a high refractive index layer (coating liquid for forming a high refractive index layer) Hexafunctional urethane acrylate oligomer (trade name: NK Oligo U-6HA, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 30 parts , 40 parts of butyl acrylate, 30 parts of isobornyl methacrylate (trade name: NK Ester IB, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and 10 parts of 2,2-diphenylethane-1-one were mixed with a homogenizer, and UV curable. A coating solution comprising the composition was prepared.
A 40% MIBK (methyl isobutyl ketone) solution of antimony pentoxide fine particles (average particle diameter 20 nm: hydroxyl groups are bonded to the antimony atoms appearing on the surface of the pyrochlore structure at a ratio of 1) to the coating solution. Then, the weight of the antimony pentoxide fine particles was mixed at a ratio of 50% by weight of the total solid content of the coating solution for forming a high refractive index layer to prepare a coating solution for forming a high refractive index layer.

3)低屈折率層を形成するための塗工液(低屈折率層形成用塗工液)の調製
(1)低屈折率層形成用塗工液−1の調製
テトラエトキシシラン208部にメタノール356部を加え、更に水18部及び0.01Nの塩酸水溶液18部(「HO」/「OR」=0.5)を加え、これを、ディスパーを用いてよく混合して混合液を得た。この混合液を25℃恒温槽中で2時間撹拌して、重量平均分子量を850に調整することによりシリコーンレジン溶液を得た。次に、中空シリカIPA(イソプロパノール)分散ゾル(固形分20重量%、平均一次粒子径約35nm、外殻厚み約8nm、触媒化成工業製)を、上記シリコーンレジン溶液に中空シリカ微粒子/シリコーンレジン(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が70/30となるように添加し、さらに全固形分が1%になるようにメタノールで希釈して、低屈折率層形成用塗工液−1を調製した。
3) Preparation of coating liquid (low refractive index layer forming coating liquid) for forming a low refractive index layer (1) Preparation of low refractive index layer forming coating liquid-1 Methanol was added to 208 parts of tetraethoxysilane. 356 parts are added, and 18 parts of water and 18 parts of 0.01N hydrochloric acid aqueous solution (“H 2 O” / “OR” = 0.5) are added, and this is mixed well using a disper to prepare a mixed solution. Obtained. This mixed solution was stirred in a thermostatic bath at 25 ° C. for 2 hours to adjust the weight average molecular weight to 850, thereby obtaining a silicone resin solution. Next, hollow silica IPA (isopropanol) dispersion sol (solid content 20% by weight, average primary particle diameter of about 35 nm, outer shell thickness of about 8 nm, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added to the silicone resin solution with hollow silica fine particles / silicone resin ( (Condensed compound equivalent) is added so that the weight ratio is 70/30 based on the solid content, and further diluted with methanol so that the total solid content becomes 1%, and the coating solution for forming a low refractive index layer-1 Was prepared.

(2)低屈折率層形成用塗工液−2の調製
テトラメトキシシラン152部にメタノール412部を加え、さらに水18部及び0.01Nの塩酸18部(「HO」/「OR」=0.5)を混合し、これを、ディスパーを用いてよく混合した。この混合液を25℃恒温槽中で2時間攪拌して、重量平均分子量を850に調整することにより、シリコーンレジンを得た。次に、このシリコーンレジン溶液に、シリカメタノールゾル(日産化学工業社製、PMA−ST、平均粒子径10〜20nm)/シリコーンレジン(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が80/20となるように添加し、さらに全固形分が3%になるようにメタノールで希釈し、低屈折率層形成用塗工液−2を調製した。
(2) Preparation of coating solution-2 for forming low refractive index layer 412 parts of methanol was added to 152 parts of tetramethoxysilane, and further 18 parts of water and 18 parts of 0.01N hydrochloric acid (“H 2 O” / “OR”). = 0.5), and this was mixed well using a disper. The mixture was stirred for 2 hours in a constant temperature bath at 25 ° C., and the weight average molecular weight was adjusted to 850 to obtain a silicone resin. Next, in this silicone resin solution, silica methanol sol (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., PMA-ST, average particle size 10-20 nm) / silicone resin (condensed compound equivalent) has a weight ratio of 80/20 based on solid content. And diluted with methanol so that the total solid content is 3%, to prepare a coating solution-2 for forming a low refractive index layer.

(2)低屈折率層形成用塗工液−3の調製
低屈折率層形成用塗工液−1に、4−((4−(N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノ)フェニル)−2,6−ビスートリクロロメチル−S−トリアジンを、9部添加し、低屈折率層形成用塗工液−3を調製した。
(2) Preparation of coating solution-3 for forming a low refractive index layer 4-((4- (N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) amino) phenyl) was added to the coating solution-1 for forming a low refractive index layer. Nine parts of -2,6-bis-trichloromethyl-S-triazine was added to prepare a coating solution-3 for forming a low refractive index layer.

(実施例1)積層フィルムAの製造
支持体1の片面に、高周波発信機コロナ放電処理装置(AGI−024 春日電機社製)を用いて表面張力が0.072N/mになるようにコロナ放電処理を行った。この上に高屈折率層形成用塗工液を、ダイコーターを用いて塗布、100℃で2分間乾燥し、紫外線積算光量1000mJ/cmの紫外線を照射し、塗膜を硬化させ高屈折率層膜厚が5μmの積層フィルムを得た。
上記積層フィルムの高屈折率層を積層した面に再び、高周波発信機コロナ放電処理装置(AGI−024 春日電機社製)を用い、上記同様にコロナ放電処理を行った。
(Example 1) Manufacture of laminated film A Corona discharge is performed on one side of the support 1 using a high-frequency transmitter corona discharge treatment apparatus (AGI-024 manufactured by Kasuga Denki Co., Ltd.) so that the surface tension is 0.072 N / m. Processed. A coating solution for forming a high refractive index layer is applied onto this using a die coater, dried at 100 ° C. for 2 minutes, irradiated with ultraviolet rays having an accumulated UV light amount of 1000 mJ / cm 2 to cure the coating film and have a high refractive index. A laminated film having a layer thickness of 5 μm was obtained.
A corona discharge treatment was performed in the same manner as described above using a high-frequency transmitter corona discharge treatment apparatus (AGI-024 Kasuga Denki Co., Ltd.) again on the surface of the laminated film on which the high refractive index layer was laminated.

次いで、上記積層フィルムの高屈折率層を積層し表面処理した面に、低屈折率層形成用塗工液−1をダイコーターにより塗布して、120℃で2分間乾燥し、低屈折率層の膜厚が100nmの積層フィルムを得た。
最後に、上記積層フィルムに紫外線積算光量400mJ/cmになるように紫外線を照射し積層フィルムを得た。
Next, the low refractive index layer-forming coating liquid-1 is applied to the surface of the laminated film on which the high refractive index layer is laminated and surface-treated with a die coater, and dried at 120 ° C. for 2 minutes. A laminated film having a thickness of 100 nm was obtained.
Finally, the laminated film was irradiated with ultraviolet rays so as to obtain a UV integrated light quantity of 400 mJ / cm 2 to obtain a laminated film.

(実施例2)
支持体1の替わりに支持体2を用いた他は、実施例1と同様の方法で、積層フィルムを得た。
(Example 2)
A laminated film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the support 2 was used instead of the support 1.

(実施例3)
支持体1の替わりに支持体3を用いた他は、実施例1と同様の方法で、積層フィルムを得た。
(Example 3)
A laminated film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the support 3 was used instead of the support 1.

(実施例4)
低屈折率層形成用塗工液−3を用いた他は、実施例1と同様の方法で、積層フィルムを得た。
Example 4
A laminated film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid-3 for forming a low refractive index layer was used.

(比較例1)
低屈折率層を積層したフィルムに紫外線照射しなかった他は、実施例1と同様の方法で、積層フィルムを得た。
(Comparative Example 1)
A laminated film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film on which the low refractive index layer was laminated was not irradiated with ultraviolet rays.

(比較例2)
低屈折率層を積層したフィルムに紫外線照射しなかった他は、実施例2と同様の方法で、積層フィルムを得た。
(Comparative Example 2)
A laminated film was obtained in the same manner as in Example 2 except that the film on which the low refractive index layer was laminated was not irradiated with ultraviolet rays.

(比較例3)
低屈折率層を積層したフィルムに紫外線照射しなかった他は、実施例3と同様の方法で、積層フィルムを得た。
(Comparative Example 3)
A laminated film was obtained in the same manner as in Example 3 except that the film on which the low refractive index layer was laminated was not irradiated with ultraviolet rays.

(比較例4)
低屈折率層形成用塗工液−2を用いた他は、実施例1と同様の方法で、積層フィルムを得た。
(Comparative Example 4)
A laminated film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer forming coating solution-2 was used.

得られた積層フィルムにつき、上述の評価を行った。その評価結果を表1に示す。   The above-mentioned evaluation was performed about the obtained laminated film. The evaluation results are shown in Table 1.

Figure 2006255496
Figure 2006255496

表1の結果から、本発明により得られた積層フィルムは、実施例1〜3に示すように、中空微粒子を含有する塗工液を用い、紫外線照射したものは、紫外線照射していない同じ支持体と比較して、反射率が低く、透明性(全光線透過率)に優れ、耐擦傷性、密着性、及び表面硬度が高くなっており、引き裂きにくくフィルムも丈夫であることが判る。又、実施例1と、中空微粒子を含まず紫外線照射のみを行った比較例4とを比べると反射率が大幅に高くなっていて、密着性も低くなっていることが判る。実施例4については、実施例1で実施したものに、光により酸を発生する薬剤を添加したものであるが、鉛筆硬度が高くなっていることが判る。   From the results shown in Table 1, the laminated film obtained by the present invention, as shown in Examples 1 to 3, uses a coating liquid containing hollow fine particles, and the same support that is not irradiated with ultraviolet rays is irradiated with ultraviolet rays. Compared with the body, the reflectance is low, the transparency (total light transmittance) is excellent, the scratch resistance, the adhesion, and the surface hardness are high. Further, when Example 1 is compared with Comparative Example 4 in which only the ultraviolet ray irradiation is performed without containing the hollow fine particles, it can be seen that the reflectance is greatly increased and the adhesion is also lowered. About Example 4, although the chemical | medical agent which generate | occur | produces an acid by light is added to what was implemented in Example 1, it turns out that pencil hardness is high.

Claims (5)

透明樹脂を含有してなる支持体の上に、直接又は他の層を介して、ゾル−ゲル反応性ケイ素化合物と中空微粒子を含有する塗工液を塗布、乾燥して、被膜を形成したフィルムを得、次いで該フィルムに電磁波を照射することを特徴とする積層フィルムの製造方法。   A film on which a coating is formed by applying a coating solution containing a sol-gel reactive silicon compound and hollow fine particles directly or via another layer onto a support containing a transparent resin and drying it. And then irradiating the film with electromagnetic waves. 前記低屈折率層の屈折率が、1.38以下である請求項1記載の積層フィルムの製造方法。   The method for producing a laminated film according to claim 1, wherein a refractive index of the low refractive index layer is 1.38 or less. 前記支持体と低屈折率層との間に、高屈折率層を設ける請求項1、及び2記載の積層フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the laminated | multilayer film of Claim 1 and 2 which provides a high refractive index layer between the said support body and a low refractive index layer. 前記透明樹脂が、脂環式構造含有重合体樹脂、セルロース系重合体樹脂、及びポリエステル系重合体樹脂からなる群から選ばれる少なくとも一種の樹脂からなる請求項1〜3記載の積層フィルムの製造方法。   The method for producing a laminated film according to claims 1 to 3, wherein the transparent resin comprises at least one resin selected from the group consisting of an alicyclic structure-containing polymer resin, a cellulose polymer resin, and a polyester polymer resin. . 請求項1〜4記載のいずれかに記載の製造方法によって得られた積層フィルムを有する光学素子。










The optical element which has a laminated | multilayer film obtained by the manufacturing method in any one of Claims 1-4.










JP2005072322A 2005-03-15 2005-03-15 Method of manufacturing laminated film Pending JP2006255496A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005072322A JP2006255496A (en) 2005-03-15 2005-03-15 Method of manufacturing laminated film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005072322A JP2006255496A (en) 2005-03-15 2005-03-15 Method of manufacturing laminated film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006255496A true JP2006255496A (en) 2006-09-28

Family

ID=37095291

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005072322A Pending JP2006255496A (en) 2005-03-15 2005-03-15 Method of manufacturing laminated film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006255496A (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017024385A (en) * 2014-12-26 2017-02-02 日東電工株式会社 Laminated film roll and manufacturing method thereof
US10494546B2 (en) 2014-12-26 2019-12-03 Nitto Denko Corporation Coating material and method of producing the same
US10815355B2 (en) 2014-12-26 2020-10-27 Nitto Denko Corporation Silicone porous body and method of producing the same
US11460610B2 (en) 2015-07-31 2022-10-04 Nitto Denko Corporation Optical laminate, method of producing optical laminate, optical element, and image display
US11524481B2 (en) 2015-09-07 2022-12-13 Nitto Denko Corporation Low refractive index layer, laminated film, method for producing low refractive index layer, method for producing laminated film, optical element, and image display device
US11536877B2 (en) 2015-08-24 2022-12-27 Nitto Denko Corporation Laminated optical film, method of producing laminated optical film, optical element, and image display
US11618807B2 (en) 2014-12-26 2023-04-04 Nitto Denko Corporation Film with void spaces bonded through catalysis and method of producing the same
US11674004B2 (en) 2015-07-31 2023-06-13 Nitto Denko Corporation Laminated film, optical element, and image display

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002317152A (en) * 2001-02-16 2002-10-31 Toppan Printing Co Ltd Coating agent having low refractive index and reflection preventive film

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002317152A (en) * 2001-02-16 2002-10-31 Toppan Printing Co Ltd Coating agent having low refractive index and reflection preventive film

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017024385A (en) * 2014-12-26 2017-02-02 日東電工株式会社 Laminated film roll and manufacturing method thereof
US10494546B2 (en) 2014-12-26 2019-12-03 Nitto Denko Corporation Coating material and method of producing the same
US10815355B2 (en) 2014-12-26 2020-10-27 Nitto Denko Corporation Silicone porous body and method of producing the same
US11505667B2 (en) 2014-12-26 2022-11-22 Nitto Denko Corporation Laminated film roll and method of producing the same
US11618807B2 (en) 2014-12-26 2023-04-04 Nitto Denko Corporation Film with void spaces bonded through catalysis and method of producing the same
US11460610B2 (en) 2015-07-31 2022-10-04 Nitto Denko Corporation Optical laminate, method of producing optical laminate, optical element, and image display
US11674004B2 (en) 2015-07-31 2023-06-13 Nitto Denko Corporation Laminated film, optical element, and image display
US11536877B2 (en) 2015-08-24 2022-12-27 Nitto Denko Corporation Laminated optical film, method of producing laminated optical film, optical element, and image display
US11524481B2 (en) 2015-09-07 2022-12-13 Nitto Denko Corporation Low refractive index layer, laminated film, method for producing low refractive index layer, method for producing laminated film, optical element, and image display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7824043B2 (en) Reflection preventing layered product and optical member
EP1701184A1 (en) Polarizing plate protective film, polarizing plate with reflection preventing function and optical product
KR100709527B1 (en) Laminate containing silica and application composition for forming porous silica layer
JP5372417B2 (en) Antireflection film
JP5044099B2 (en) Antireflection film and method for producing the same
TWI628247B (en) Anti-glare film, anti-glare film manufacturing method, polarizing film and image display device
JP4404336B2 (en) Anti-reflection laminate
WO2007116831A1 (en) Optical laminated body
JP2009086660A (en) Optical layered body, method of producing the same, polarizer and image display device
JP2006255496A (en) Method of manufacturing laminated film
KR20120052277A (en) Optical laminate, polarizing plate and image display device
KR20080008346A (en) Polarizing plate
JP5076763B2 (en) Optical laminate manufacturing method, optical laminate, polarizing plate, and image display device
JP2007038447A (en) Reflection preventing laminate, optical member, and liquid crystal display element
JP2006096019A (en) Manufacturing method for laminated film
JP2007062101A (en) Antireflection laminate
KR101263967B1 (en) Optical laminated body
JP2006096967A (en) Method for producing laminate film
JP2006123498A (en) Optical laminated body
JP4556664B2 (en) Anti-reflection laminate
JP2012108394A (en) Antireflection laminate having hard coat layer
JP5426852B2 (en) Antireflection film
JP2007086521A (en) Antireflection laminate
JP2010032734A (en) Antireflection film
KR20060051780A (en) Optical laminate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20070919

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20080722

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100125

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20100202

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Effective date: 20100330

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100706