JP4556664B2 - Anti-reflection laminate - Google Patents

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JP4556664B2 JP2004374622A JP2004374622A JP4556664B2 JP 4556664 B2 JP4556664 B2 JP 4556664B2 JP 2004374622 A JP2004374622 A JP 2004374622A JP 2004374622 A JP2004374622 A JP 2004374622A JP 4556664 B2 JP4556664 B2 JP 4556664B2
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本発明は、透明樹脂基材にハードコート層及び低屈折率層が積層されてなる反射防止積層体、この反射防止積層体を積層した反射防止機能付偏光板、及び該反射防止機能付偏光板を備える液晶表示装置に関する。   The present invention relates to an antireflection laminate in which a hard coat layer and a low refractive index layer are laminated on a transparent resin substrate, a polarizing plate with an antireflection function obtained by laminating this antireflection laminate, and the polarizing plate with an antireflection function. The present invention relates to a liquid crystal display device comprising:

陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)、液晶表示装置(LCD)のような画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するフィルム状の反射防止積層体がディスプレイの最表面に一般に配置される。
反射防止積層体は、一般に透明樹脂基材の上に帯電防止層、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層などの光学的機能層を積層して形成されている。
The principle of optical interference in image display devices such as cathode ray tube display devices (CRT), plasma display devices (PDP), and liquid crystal display devices (LCD) in order to prevent contrast degradation and image reflection due to reflection of external light A film-like antireflective laminate that reduces the reflectivity using is generally placed on the outermost surface of the display.
The antireflection laminate is generally formed by laminating optical functional layers such as an antistatic layer, a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer on a transparent resin substrate.

反射防止フィルムとして種々の構成のものが知られている。例えば、特許文献1には、プラスチック基材の少なくとも片方の面にハードコート層を設け、その上に反射防止層を設けたプラスチック積層体において、該ハードコート層の表面硬度が2H以上で、表面削れ指数が1.0〜15.0で、かつハードコート層表面の中心線平均粗さ(Ra)が0.001〜0.02μmであることを特徴とするプラスチック積層体が開示されている。このハードコート層は、具体的には1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレートと、粒子と、末端に共重合可能な不飽和二重結合を有する高分子量モノマーおよび/またはアクリル系重合体からなる樹脂を含有し、該粒子が粉体状シリカまたはコロイダルシリカで、該粒子の表面が有機化合物とシリルオキシ基を介して処理結合されているものである。また反射防止層は無機酸化物の多層積層体からなるものである。特許文献1は、このような構成によって、反射率0.6%まで低減できると述べている。しかし反射率0.6%を下回ることができない。   Various types of antireflection films are known. For example, in Patent Document 1, in a plastic laminate in which a hard coat layer is provided on at least one surface of a plastic substrate and an antireflection layer is provided thereon, the surface hardness of the hard coat layer is 2H or more, surface A plastic laminate having a scraping index of 1.0 to 15.0 and a center line average roughness (Ra) of the hard coat layer surface of 0.001 to 0.02 μm is disclosed. Specifically, this hard coat layer is a polyfunctional (meth) acrylate having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule, particles, and a high molecular weight having an unsaturated double bond copolymerizable at the terminal. A resin comprising a molecular weight monomer and / or an acrylic polymer is contained, the particles are powdered silica or colloidal silica, and the surfaces of the particles are treated and bonded with an organic compound via a silyloxy group. The antireflection layer is a multilayer laminate of inorganic oxides. Patent Document 1 states that such a configuration can reduce the reflectance to 0.6%. However, the reflectance cannot fall below 0.6%.

特許文献2には、透明支持体上に、透明支持体よりも低い屈折率を有する低屈折率層、および、低屈折率層と隣接する下層に密着層を有し、密着層の表面が0.001〜0.030μmの中心線平均粗さ(Ra)を有する反射防止フィルムが開示されている。この密着層は無機粒子と有機バインダーから成り、密着層中に粒子間空隙が形成されている。さらに密着層が透明支持体よりも高い屈折率を有する密着層兼高屈折率層であり、更に密着層兼高屈折率層と透明支持体の間に1μm以上の厚さを有するハードコート層が設けられている。ハードコート層の屈折率は1.57〜2.00であり、かつハードコート層中に平均粒径0.3〜20μmのマット剤粒子を有し、防眩性を有するものが好ましいを開示している。特許文献2は、このような構成によって、反射率0.4%まで低減できると開示しているが、蛍光灯の輪郭がわからない程度の防眩性を得るためには反射率は1.0%までしか低減できず、またヘイズが12%と高くなってしまう。また層構成が基材を入れて4層以上となり複雑となる為、生産性が低い。また密着性を維持して、低屈折率層、その下層に密着層、基材の順の構成では、ヘイズは0.2%と低いものの、反射率が1.7%以上と高くなり、反射防止性能、透明性の両立を満足できるものではなかった。   Patent Document 2 has a low refractive index layer having a lower refractive index than the transparent support on the transparent support, and an adhesion layer in the lower layer adjacent to the low refractive index layer, and the surface of the adhesion layer is 0. An antireflective film having a centerline average roughness (Ra) of 0.001 to 0.030 μm is disclosed. This adhesion layer is composed of inorganic particles and an organic binder, and interparticle voids are formed in the adhesion layer. Further, the adhesion layer is an adhesion layer / high refractive index layer having a higher refractive index than that of the transparent support, and a hard coat layer having a thickness of 1 μm or more between the adhesion layer / high refractive index layer and the transparent support. Is provided. It is disclosed that the refractive index of the hard coat layer is 1.57 to 2.00, and the hard coat layer has matting agent particles having an average particle size of 0.3 to 20 μm and has antiglare properties. ing. Patent Document 2 discloses that the reflectance can be reduced to 0.4% by such a configuration, but the reflectance is 1.0% in order to obtain an antiglare property to the extent that the outline of the fluorescent lamp is not known. The haze is as high as 12%. Moreover, since the layer structure becomes complicated with four or more layers including the base material, the productivity is low. In addition, in the order of the low refractive index layer, the adhesion layer under the layer, and the base material in the order of maintaining the adhesion, the haze is as low as 0.2%, but the reflectance is as high as 1.7% or more, and the reflection Both the prevention performance and transparency were not satisfactory.

特許文献3には、基板に導電性ハードコート膜と低屈折率膜を設けてなる反射防止性物品が開示されている。導電性ハードコート膜は1.62以上の屈折率を有している物が好ましいと開示している。この構成によって反射率は0.7%まで低減できたことが示されている。ただしハードコート層と低屈折率膜との密着性は充分ではなかった。   Patent Document 3 discloses an antireflection article in which a conductive hard coat film and a low refractive index film are provided on a substrate. It is disclosed that the conductive hard coat film preferably has a refractive index of 1.62 or more. It is shown that the reflectance can be reduced to 0.7% by this configuration. However, the adhesion between the hard coat layer and the low refractive index film was not sufficient.

特開2004−287308号公報JP 2004-287308 A 特開2002−311204号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-311204 特開平11−211901号公報JP 11-211901 A

従来の反射防止積層体は、ハードコート層と低屈折率層との密着性を改善しようとすると反射率が高くなり、反射率と密着性とヘイズと耐擦傷性のバランスが不十分であった。そこで、本発明の課題は、ハードコート層と低屈折率層との密着性が高く、低ヘイズと低反射率と耐擦傷性のバランスに優れた反射防止積層体、この反射防止積層体を積層した反射防止機能付偏光板、及び該反射防止機能付偏光板を備える液晶表示装置を提供することである。   Conventional antireflection laminates have high reflectivity when trying to improve the adhesion between the hard coat layer and the low refractive index layer, and the balance between reflectivity, adhesion, haze and scratch resistance is insufficient. . Accordingly, an object of the present invention is to provide an antireflection laminate having high adhesion between the hard coat layer and the low refractive index layer and having an excellent balance of low haze, low reflectance, and scratch resistance, and laminating the antireflection laminate. It is to provide a polarizing plate with an antireflection function and a liquid crystal display device including the polarizing plate with an antireflection function.

本発明者は、透明樹脂基材上に、ハードコート層及び低屈折率層がこの順に積層されてなり、全光線透過率が特定値以上で、且つヘイズ値が特定値未満であり、該ハードコート層が、活性エネルギー線硬化型樹脂及び無機酸化物粒子を含有してなり、ハードコート層の平均表面粗さ(Ra)が特定値以下で且つハードコート層の屈折率が高い反射防止積層体が、ハードコート層と低屈折層との密着性が高く、低ヘイズと低反射率とのバランスに優れていることを見いだし、この知見に基づいて、本発明を完成するに至った。   The inventor has a hard coat layer and a low refractive index layer laminated in this order on a transparent resin substrate, the total light transmittance is not less than a specific value, and the haze value is less than the specific value. An antireflection laminate comprising a coating layer containing an active energy ray-curable resin and inorganic oxide particles, wherein the hard coat layer has an average surface roughness (Ra) of a specific value or less and a high refractive index of the hard coat layer. However, it has been found that the adhesion between the hard coat layer and the low refractive layer is high and the balance between low haze and low reflectance is excellent, and the present invention has been completed based on this finding.

すなわち、本発明は、(1)透明樹脂基材上に、ハードコート層及び低屈折率層がこの順に積層されてなり、全光線透過率が94%以上で、ヘイズ値が1%未満で、且つ耐擦傷性試験前後の全光透過率の変化率が3%以下であり、
該ハードコート層が、活性エネルギー線硬化型樹脂100重量部及び無機酸化物粒子400〜1200重量部を含有してなり、ハードコート層の平均表面粗さ(Ra)が35nm以下で且つハードコート層の屈折率が1.55以上である反射防止積層体である。
That is, the present invention is (1) a hard coat layer and a low refractive index layer are laminated in this order on a transparent resin substrate, the total light transmittance is 94% or more, and the haze value is less than 1%. And the rate of change of the total light transmittance before and after the scratch resistance test is 3% or less,
The hard coat layer contains 100 parts by weight of active energy ray-curable resin and 400 to 1200 parts by weight of inorganic oxide particles, the hard coat layer has an average surface roughness (Ra) of 35 nm or less, and the hard coat layer. Is an antireflection laminate having a refractive index of 1.55 or more.

また本発明の好適な反射防止積層体の態様は、
(2)前記ハードコート層が、さらにフッ素化アルキル基含有オリゴマーを活性エネルギー線硬化型樹脂100重量部に対して0.2〜4重量部含有している。
(3)前記透明樹脂基材が、脂環式構造含有重合体樹脂、セルロース系重合体樹脂及びポリエステル系重合体樹脂からなる群から選ばれる少なくとも一種の樹脂からなる。
(4)前記金属酸化粒子が、五酸化アンチモン、又はリンがドープされた酸化スズである。
(5)前記低屈折率層がエアロゲルからなり、屈折率1.37以下である。
別の本発明は、(6)前記の反射防止積層体及び偏光子が積層されてなる反射防止機能付偏光板、及び、(7)前記反射防止機能付偏光板を備える液晶表示装置である。
Moreover, the aspect of the suitable antireflection laminated body of this invention is:
(2) The hard coat layer further contains 0.2 to 4 parts by weight of a fluorinated alkyl group-containing oligomer with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable resin.
(3) The transparent resin substrate is made of at least one resin selected from the group consisting of an alicyclic structure-containing polymer resin, a cellulose polymer resin, and a polyester polymer resin.
(4) The metal oxide particles are antimony pentoxide or tin oxide doped with phosphorus.
(5) The low refractive index layer is made of aerogel and has a refractive index of 1.37 or less.
Another aspect of the present invention is (6) a polarizing plate with an antireflection function formed by laminating the antireflection laminate and a polarizer, and (7) a liquid crystal display device comprising the polarizing plate with an antireflection function.

ハードコート層を構成する活性エネルギー線硬化型樹脂100重量部に対して、無機酸化物粒子400〜800重量部を含有させると、平均表面粗さが大きいハードコート層が得られ、低屈折率層との密着性が低下し、積層体の全光線透過率が低下し、ヘイズが高くなってしまう。ところが、無機酸化物粒子をフッ素化アルキル基含有オリゴマー等で分散させて、平均表面粗さ(Ra)を30nm以下にすることでアンカー効果が有効に働きハードコート層と低屈折率層との密着性が高くなり、またハードコート層の屈折率を1.55以上にしたことで、低ヘイズと低反射率とのバランスが改善される。
このような反射防止積層体を偏光子と積層した反射防止機能付き偏光板を得、この偏光板を液晶表示装置に備えさせると、強い外光の有る場所においても表示画面の視認性、コントラストが良好である。
When 400 to 800 parts by weight of inorganic oxide particles are contained with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable resin constituting the hard coat layer, a hard coat layer having a large average surface roughness is obtained, and a low refractive index layer And the total light transmittance of the laminate is lowered, and the haze is increased. However, when the inorganic oxide particles are dispersed with a fluorinated alkyl group-containing oligomer or the like and the average surface roughness (Ra) is 30 nm or less, the anchor effect works effectively and the adhesion between the hard coat layer and the low refractive index layer is achieved. When the refractive index of the hard coat layer is 1.55 or more, the balance between low haze and low reflectance is improved.
When a polarizing plate with an antireflection function is obtained by laminating such an antireflection laminate with a polarizer, and this polarizing plate is provided in a liquid crystal display device, the visibility and contrast of the display screen are improved even in places with strong external light. It is good.

本発明の反射防止積層体は、透明樹脂基材上に、ハードコート層及び低屈折率層がこの順に積層されてなるものである。
透明樹脂基材は、透明樹脂からなるものである。その形状は特に限定されないが、通常、フィルムまたはシート状である。
透明樹脂は、1mm厚の成形体にしたときの全光線透過率が80%以上、好ましくは90%以上の樹脂であれば特に制限なく使用することができる。
透明樹脂の具体例としては、脂環式構造を有する重合体樹脂、ポリエチレンやポリプロピレンなどの鎖状オレフィン系重合体、セルロース系重合体樹脂、ポリカーボネート系重合体、ポリエステル系重合体、ポリスルホン系重合体、ポリエーテルスルホン系重合体、ポリスチレン系重合体、ポリビニルアルコール系重合体、ポリメタクリレート系重合体などを挙げることができる。
これらの中でも、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物等の脂環式構造含有重合体樹脂;セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系重合体樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系重合体樹脂;が好ましく、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性等の観点から、ノルボルネン系重合体、トリアセチルセルロース及びポリエチレンテレフタレートがより好ましく、ノルボルネン系重合体が特に好ましい。これらは2種を組み合わせてあるいは単独で使用できる。ノルボルネン系重合体としては、例えば、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体と他の単量体との開環重合体及びこれら開環重合体の水素添加物;ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネン系単量体と他の単量体との付加重合体及びこれら付加重合体の水素添加物などを挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系単量体の開環重合体の水素添加物は、透明性に優れるので、特に好ましい。
In the antireflection laminate of the present invention, a hard coat layer and a low refractive index layer are laminated in this order on a transparent resin substrate.
The transparent resin substrate is made of a transparent resin. The shape is not particularly limited, but is usually a film or a sheet.
The transparent resin can be used without particular limitation as long as it has a total light transmittance of 80% or more, preferably 90% or more when formed into a 1 mm-thick molded body.
Specific examples of the transparent resin include a polymer resin having an alicyclic structure, a chain olefin polymer such as polyethylene and polypropylene, a cellulose polymer resin, a polycarbonate polymer, a polyester polymer, and a polysulfone polymer. , Polyethersulfone polymers, polystyrene polymers, polyvinyl alcohol polymers, polymethacrylate polymers, and the like.
Among these, alicyclic structure-containing polymer resins such as norbornene polymers, monocyclic olefin polymers, cyclic conjugated diene polymers, vinyl alicyclic hydrocarbon polymers, and hydrides thereof; Cellulose polymer resins such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, and cellulose acetate butyrate; polyester polymer resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; are preferred, transparency, low moisture absorption, and dimensional stability From the viewpoints of lightness and the like, norbornene polymers, triacetylcellulose and polyethylene terephthalate are more preferable, and norbornene polymers are particularly preferable. These can be used alone or in combination. Examples of norbornene polymers include, for example, ring-opening polymers of norbornene monomers, ring-opening polymers of norbornene monomers and other monomers, and hydrogenated products of these ring-opening polymers; norbornene-based polymers Examples thereof include addition polymers of monomers, addition polymers of norbornene monomers and other monomers, and hydrogenated products of these addition polymers. Among these, a hydrogenated product of a ring-opening polymer of a norbornene monomer is particularly preferable because it is excellent in transparency.

透明樹脂は、溶媒としてシクロヘキサン(重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン)を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が、通常10000〜300000、好ましくは15000〜250000、より好ましくは20000〜200000の範囲である。この範囲の重量平均分子量を持つ透明樹脂は、基材の機械的強度及び成形加工性を高度にバランスするので好適である。
透明樹脂は、その分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))によって特に制限されないが、通常1〜10、好ましくは1〜6、より好ましくは1.1〜4の範囲である。このような範囲に分子量分布を調整することによって、基材の機械的強度と成形加工性が良好にバランスする。
The transparent resin has a polystyrene-reduced weight average molecular weight of usually 10,000 to 300,000, preferably 15,000 to 250,000, as measured by gel permeation chromatography using cyclohexane (toluene if the polymer resin does not dissolve) as a solvent. More preferably, it is the range of 20000-200000. A transparent resin having a weight average molecular weight within this range is suitable because it highly balances the mechanical strength and moldability of the substrate.
The transparent resin is not particularly limited by its molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)), but is usually 1 to 10, preferably 1 to 6, more preferably 1.1 to 4. is there. By adjusting the molecular weight distribution in such a range, the mechanical strength and molding processability of the substrate are well balanced.

また、透明樹脂には、所望により各種配合剤を添加することができる。配合剤としては、熱可塑性樹脂材料で通常用いられるものであれば格別な制限はなく、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤;ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、金属錯体系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤;ヒンダードアミン系光安定剤等の光安定剤;染料や顔料等の着色剤;脂肪族アルコールのエステル、多価アルコールのエステル、脂肪酸アミド、無機粒子等の滑剤;トリエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸-塩基酸エステル系可塑剤、オキシ酸エステル系可塑剤等の可塑剤;多価アルコールの脂肪酸エステル等の帯電防止剤;等が挙げられる。   Moreover, various compounding agents can be added to the transparent resin as desired. The compounding agent is not particularly limited as long as it is usually used in thermoplastic resin materials. For example, antioxidants such as phenolic antioxidants, phosphoric acid antioxidants, sulfur antioxidants; UV absorbers such as triazole UV absorbers, benzoate UV absorbers, benzophenone UV absorbers, acrylate UV absorbers, metal complex UV absorbers; light stabilizers such as hindered amine light stabilizers; dyes and pigments Colorants such as aliphatic alcohol esters, polyhydric alcohol esters, fatty acid amides, inorganic particles, etc. lubricants; triester plasticizers, phthalate ester plasticizers, fatty acid-basic ester plasticizers, oxyacids And plasticizers such as ester plasticizers; antistatic agents such as fatty acid esters of polyhydric alcohols; and the like.

本発明に用いる透明樹脂基材は、上記透明樹脂を公知の成形方法によりフィルムまたはシート状に形成することにより得ることができる。
成形方法としては、フィルム中の揮発性成分の含有量や厚さむらを少なくできる点から、溶融押出成形法が好ましい。溶融押出成形法としては、Tダイ等のダイスを用いる方法やインフレーション法等が挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でTダイを用いる方法が好ましい。
The transparent resin substrate used in the present invention can be obtained by forming the transparent resin into a film or a sheet by a known molding method.
As the molding method, a melt extrusion molding method is preferable because the content of volatile components in the film and uneven thickness can be reduced. Examples of the melt extrusion method include a method using a die such as a T die, an inflation method, and the like, but a method using a T die is preferable in terms of excellent productivity and thickness accuracy.

また、本発明に用いる透明樹脂基材としては、片面又は両面に表面改質処理を施したものを使用することができる。表面改質処理を行うことにより、ハードコート層や偏光子との密着性を向上させることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理等が挙げられる。
エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられる。処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後、水で洗浄する方法が挙げられる。
Moreover, as a transparent resin base material used for this invention, what gave the surface modification process to the single side | surface or both surfaces can be used. By performing the surface modification treatment, the adhesion with the hard coat layer and the polarizer can be improved. Examples of the surface modification treatment include energy beam irradiation treatment and chemical treatment.
Examples of the energy ray irradiation treatment include corona discharge treatment, plasma treatment, electron beam irradiation treatment, and ultraviolet ray irradiation treatment. From the viewpoint of processing efficiency, corona discharge treatment and plasma treatment are preferred, and corona discharge treatment is particularly preferred. Examples of the chemical treatment include a method of immersing in an oxidizing agent aqueous solution such as potassium dichromate solution or concentrated sulfuric acid and then washing with water.

透明樹脂基材の厚みは、通常5〜300μm、より好ましくは40〜200μmである。さらに好ましくは、50〜100μmである。基材の厚みが上記範囲にあると、耐久性、機械的強度、耐擦傷性及び光学性能に優れた偏光板が得られる。   The thickness of the transparent resin substrate is usually 5 to 300 μm, more preferably 40 to 200 μm. More preferably, it is 50-100 micrometers. When the thickness of the substrate is in the above range, a polarizing plate excellent in durability, mechanical strength, scratch resistance and optical performance can be obtained.

本発明の反射防止積層体を構成するハードコート層は、表面硬度の高い層である。具体的には、JIS K5400に規定されている鉛筆硬度試験(500g荷重)で「HB」以上の硬度、好ましくは「H」以上の硬度を持つ層である。
ハードコート層はその屈折率が1.55以上、好ましくは1.6〜2.3である。屈折率を1.55以上にすることによって、外光の映りこみ等が防止され、耐擦傷性や防汚性に優れた偏光板等とすることができる。なお、屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定し求めることができる。
ハードコート層は、その平均表面粗さ(Ra)が30nm以下、好ましくは5〜25nm、特に好ましくは10〜20nmである。平均表面粗さをこの範囲にすると、アンカー効果等によって、ハードコート層と低屈折率層との密着性が高くなり、全光線透過率が特定値以上で、且つヘイズ値が特定値未満であり、高透明性と低ヘイズと低反射率のバランスが良くなる。また、ハードコート層の平均厚みは特に限定されないが、通常0.5〜30μm、好ましくは3〜15μmである。平均表面粗さ(Ra)は、非接触式三次元構造解析顕微鏡(zygo NewView5032:ザイゴ社製)を用い、フィルムの凹凸のある面を走査させて干渉縞を観測することにより測定できる。
The hard coat layer constituting the antireflection laminate of the present invention is a layer having a high surface hardness. Specifically, it is a layer having a hardness of “HB” or more, preferably “H” or more, in a pencil hardness test (500 g load) defined in JIS K5400.
The hard coat layer has a refractive index of 1.55 or more, preferably 1.6 to 2.3. By setting the refractive index to 1.55 or more, reflection of external light or the like can be prevented, and a polarizing plate or the like having excellent scratch resistance and antifouling properties can be obtained. The refractive index can be measured and determined using, for example, a known spectroscopic ellipsometer.
The hard coat layer has an average surface roughness (Ra) of 30 nm or less, preferably 5 to 25 nm, particularly preferably 10 to 20 nm. When the average surface roughness is within this range, the adhesion between the hard coat layer and the low refractive index layer is increased due to the anchor effect, etc., the total light transmittance is a specific value or more, and the haze value is less than the specific value. The balance between high transparency, low haze and low reflectivity is improved. Moreover, although the average thickness of a hard-coat layer is not specifically limited, Usually, 0.5-30 micrometers, Preferably it is 3-15 micrometers. The average surface roughness (Ra) can be measured by using a non-contact type three-dimensional structural analysis microscope (zygo NewView 5032: manufactured by Zygo Corporation) to scan the uneven surface of the film and observe interference fringes.

ハードコート層は、活性エネルギー線硬化型樹脂及び無機酸化物粒子を含有しており、さらに好適にはフッ素化アルキル基含有オリゴマーを含有している。
活性エネルギー線硬化型樹脂は、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーが、活性エネルギー線の照射により硬化してなる樹脂である。活性エネルギー線は、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指す。通常は紫外線又は電子線を用いる。
The hard coat layer contains an active energy ray-curable resin and inorganic oxide particles, and more preferably contains a fluorinated alkyl group-containing oligomer.
The active energy ray-curable resin is a resin obtained by curing a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in a molecule by irradiation with active energy rays. An active energy ray refers to an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules. Usually, ultraviolet rays or electron beams are used.

前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート類、もしくはカチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。   Examples of prepolymers and oligomers having a polymerizable unsaturated bond or epoxy group in the molecule include unsaturated polyesters such as a condensation product of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol; polyester methacrylate, polyether methacrylate, polyol methacrylate And methacrylates such as melamine methacrylate, polyester acrylates, epoxy acrylates, urethane acrylates, polyether acrylates, polyol acrylates, acrylates such as melamine acrylates, and cationic polymerization type epoxy compounds.

前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するモノマーの例としては、スチレン、α-メチルスチレン等のスチレン系モノマー;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸-2-エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類;アクリル酸-2-(N,N-ジエチルアミノ)エチル、アクリル酸-2-(N,N-ジメチルアミノ)エチル、アクリル酸-2-(N,N-ジベンジルアミノ)メチル、アクリル酸-2-(N,N-ジエチルアミノ)プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類;アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類;   Examples of the monomer having a polymerizable unsaturated bond or epoxy group in the molecule include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene; methyl acrylate, ethyl acrylate, -2-ethylhexyl acrylate, methoxy acrylate Acrylic esters such as ethyl, butoxyethyl acrylate, butyl acrylate, methoxybutyl acrylate, and phenyl acrylate; methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, methoxyethyl methacrylate, ethoxymethyl methacrylate, methacrylic acid Methacrylic acid esters such as phenyl and lauryl methacrylate; acrylic acid-2- (N, N-diethylamino) ethyl, acrylic acid-2- (N, N-dimethylamino) ethyl, acrylic acid-2- (N, N -Dibenzylamino) methyl, acrylic -2-(N, N-diethylamino) substituted amino alcohol esters of unsaturated substituted and propyl; acrylamide, unsaturated carboxylic acid amides such as methacrylamide;

エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、2-ヒドロキシアクリレート、2-ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等の多官能性アクリレート類; トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等の、分子中に2個以上のチオール基を有するポリチオール類;グリシジルアクリレート、グリシジルメタアクリレート、グリシジルフェニルエーテル、グリシジルエチルエーテル、エピクロロヒドリン、アリルグリシジルエーテル、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのジグリシジルエーテル、フェノールノボラックポリグリシジルエーテル、クレゾールノボラックポリグリシジルエーテル等のエポキシ化合物;が挙げられる。本発明においては、これらのプレポリマー、オリゴマー及び/またはモノマーを一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。   Ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate 2-hydroxy acrylate, 2-hexyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate Multifunctional Acrela such as REIT Polythiols having two or more thiol groups in the molecule such as trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithiopropylate, pentaerythritol tetrathioglycolate; glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl Phenyl ether, glycidyl ethyl ether, epichlorohydrin, allyl glycidyl ether, ethylene oxide, propylene oxide, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane diglycidyl ether, glycerol diglycidyl ether, diglycerol triglycidyl ether, diglycerol tri Glycidyl ether, pentaerythritol diglycidyl ether, pentaerythritol triglycidyl ester Ether, tris (2-hydroxyethyl) diglycidyl ethers of isocyanurates, phenol novolak polyglycidyl ether, epoxy compounds such as cresol novolac polyglycidyl ether; and the like. In the present invention, these prepolymers, oligomers and / or monomers can be used singly or in combination of two or more.

これらのプレポリマー、オリゴマー及び/またはモノマーを重合して硬化させるために、光重合開始剤や光重合促進剤が配合されている。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のラジカル重合性開始剤;芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等のカチオン重合性開始剤;等が挙げられる。これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。光重合開始剤の量は、プレポリマー、オリゴマー及び/またはモノマー100重量部に対し、通常、0.1〜10重量部である。   In order to polymerize and cure these prepolymers, oligomers and / or monomers, a photopolymerization initiator and a photopolymerization accelerator are blended. As photopolymerization initiators, radical polymerization initiators such as acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether; aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, metathelone compounds, benzoin sulfonic acids Cationic polymerizable initiators such as esters; These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The amount of the photopolymerization initiator is usually 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the prepolymer, oligomer and / or monomer.

本発明で用いる無機酸化物粒子は、ハードコート層の導電性、屈折率などを調整することのできる粒子である。
屈折率を高くするための無機酸化物粒子としては、屈折率が1.6以上、特に1.6〜2.3である無機酸化物粒子が好ましい。
屈折率の高い無機酸化物粒子としては、例えば、チタニア(酸化チタン)、ジルコニア(酸化ジルコニウム)、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、五酸化アンチモン、二酸化チタン、スズをドープした酸化インジウム(ITO)、アンチモンをドープした酸化スズ(ATO)、リンをドープした酸化錫(PTO)、亜鉛をドープした酸化インジウム(IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)、フッ素をドープした酸化スズ(FTO)等が挙げられる。これらの中でも特に、五酸化アンチモン、又はリンをドープした酸化スズは、屈折率が高く、導電性と透明性のバランスに優れるので、屈折率を調節するための成分として適している。これらは、一種単独又は組合せて用いても良い。
The inorganic oxide particles used in the present invention are particles that can adjust the conductivity, refractive index, and the like of the hard coat layer.
The inorganic oxide particles for increasing the refractive index are preferably inorganic oxide particles having a refractive index of 1.6 or more, particularly 1.6 to 2.3.
Examples of the inorganic oxide particles having a high refractive index include titania (titanium oxide), zirconia (zirconium oxide), zinc oxide, tin oxide, cerium oxide, antimony pentoxide, titanium dioxide, tin-doped indium oxide (ITO). Antimony-doped tin oxide (ATO), phosphorus-doped tin oxide (PTO), zinc-doped indium oxide (IZO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), fluorine-doped tin oxide (FTO) Etc. Among these, tin oxide doped with antimony pentoxide or phosphorus is particularly suitable as a component for adjusting the refractive index because it has a high refractive index and an excellent balance between conductivity and transparency. These may be used alone or in combination.

無機酸化物粒子は、ハードコート層の透明性を低下させないために、その一次粒子径が1nm〜100nm、好ましくは1nm〜50nmであるのが好ましい。
無機酸化物粒子の一次粒子径は、走査型電子顕微鏡(SEM)等により得られる二次電子放出のイメージ写真から目視計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により機械計測してもよい。
The inorganic oxide particles preferably have a primary particle diameter of 1 nm to 100 nm, preferably 1 nm to 50 nm, in order not to lower the transparency of the hard coat layer.
The primary particle diameter of the inorganic oxide particles may be visually measured from a secondary electron emission image photograph obtained by a scanning electron microscope (SEM) or the like, or a dynamic light scattering method or a static light scattering method may be used. Mechanical measurement may be performed by a particle size distribution meter to be used.

無機酸化物粒子は、その表面の少なくとも一部がアニオン性の極性基を有する有機化合物又は有機金属化合物により被覆されていることが好ましい。被覆方法は特に限定されず、例えば、後記のアニオン性の極性基を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物を有機溶剤中に溶解させておき、この溶液中に無機酸化物粒子を分散させた後に有機溶剤を完全に蒸発除去する方法が挙げられる。   It is preferable that at least a part of the surface of the inorganic oxide particles is coated with an organic compound or an organometallic compound having an anionic polar group. The coating method is not particularly limited. For example, an organic compound and / or an organic metal compound having an anionic polar group described below is dissolved in an organic solvent, and inorganic oxide particles are dispersed in this solution. A method of completely evaporating and removing the organic solvent can be mentioned.

前記アニオン性の極性基を有する有機化合物としては、カルボキシル基、リン酸基、又は、水酸基のようなアニオン性の極性基を有するものを用いることができる。例えば、ステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、エチレンオキサイド、変性リン酸トリアクリレート、エピクロロヒドリン変性グリセロールトリアクリレート等が挙げられる。   As the organic compound having an anionic polar group, those having an anionic polar group such as a carboxyl group, a phosphate group, or a hydroxyl group can be used. For example, stearic acid, lauric acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, ethylene oxide, modified phosphoric acid triacrylate, epichlorohydrin modified glycerol triacrylate, and the like can be given.

また、アニオン性の極性基を有する有機金属化合物としては、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2-メトキシエトキシ)シラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤;KR-TTS、KR-46B、KR-55、KR-41B、KR-38S、KR-138S、KR-238S、338X、KR-44、KR-9SA、KR-ET(以上、味の素ファインテクノ(株)製のチタネートカップリング剤)、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラn-プロポキシチタン、テトラn-ブトキシチタン、テトラsec-ブトキシチタン、テトラtert-ブトキシチタン等のチタネートカップリング剤;等が挙げられる。   Examples of the organometallic compound having an anionic polar group include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane Silane coupling agents such as vinyltris (2-methoxyethoxy) silane and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane; KR-TTS, KR-46B, KR-55, KR-41B, KR-38S, KR-138S, KR -238S, 338X, KR-44, KR-9S , KR-ET (above, titanate coupling agent manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, tetra n-propoxy titanium, tetra n-butoxy titanium, tetra sec-butoxy And titanate coupling agents such as titanium and tetra-tert-butoxytitanium;

無機酸化物粒子は、2種以上を組み合わせて用いてもよい。無機酸化物粒子を組み合わせることにより、複数の機能をバランスよく備えたハードコート層を形成することができる。例えば、屈折率は極めて大きいが導電性の小さいルチル型酸化チタン粒子と、導電性は極めて大きいが屈折率はルチル型酸化チタンよりも小さい導電性無機酸化物を組み合わせて、所定の屈折率と良好な帯電防止性能を兼ね備えたハードコート層を形成することができる。また、無機酸化物粒子の量は、活性エネルギー線硬化性樹脂100重量部に対して、300〜800重量部、好ましくは350〜700重量部、より好ましくは、400〜600重量部である。   Two or more inorganic oxide particles may be used in combination. By combining the inorganic oxide particles, a hard coat layer having a plurality of functions in a well-balanced manner can be formed. For example, combining a rutile-type titanium oxide particle with a very high refractive index but a low conductivity with a conductive inorganic oxide having a very high conductivity but a refractive index lower than that of a rutile-type titanium oxide, a predetermined refractive index and good A hard coat layer having excellent antistatic performance can be formed. The amount of the inorganic oxide particles is 300 to 800 parts by weight, preferably 350 to 700 parts by weight, and more preferably 400 to 600 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray curable resin.

また、前記無機酸化物粒子をハードコート層に均一に分散させるために、フッ素化アルキル基含有オリゴマーをハードコート層に含有させることが好ましい。   In order to uniformly disperse the inorganic oxide particles in the hard coat layer, it is preferable to contain a fluorinated alkyl group-containing oligomer in the hard coat layer.

フッ素化アルキル基含有オリゴマーは、フッ素系界面活性剤の一種であり、好ましくはノニオン性のものが好ましい。
フッ素化アルキル基含有オリゴマーは、オリゴマーにフッ素化アルキル基を導入することによって得られ、その導入方法は特に限定されない。例えば,非フッ素系重合体をプラズマ処理する方法,反応性官能基を有する非フッ素系重合体にそれと反応する官能基を有するフッ素化アルキル基含有化合物を反応させる方法,フッ素化アルキル基含有エチレン性不飽和単量体を重合する方法,重合体を合成する際に開始剤及び/または連鎖移動剤にフッ素化アルキル基を含有する化合物を用いる方法、或いはこのような方法を組み合わせた方法が挙げられるが,フッ素化アルキル基含有エチレン性不飽和単量体を重合する方法が好適である。
The fluorinated alkyl group-containing oligomer is a kind of fluorosurfactant, and preferably nonionic.
The fluorinated alkyl group-containing oligomer is obtained by introducing a fluorinated alkyl group into the oligomer, and the introduction method is not particularly limited. For example, a method of plasma-treating a non-fluorinated polymer, a method of reacting a non-fluorinated polymer having a reactive functional group with a fluorinated alkyl group-containing compound having a reactive functional group, a fluorinated alkyl group-containing ethylenic compound Examples include a method of polymerizing an unsaturated monomer, a method of using a compound containing a fluorinated alkyl group as an initiator and / or a chain transfer agent when a polymer is synthesized, or a method combining such methods. However, a method of polymerizing a fluorinated alkyl group-containing ethylenically unsaturated monomer is preferred.

フッ素化アルキル基含有エチレン性不飽和単量体(A)は、分子中にエチレン性不飽和基とフッ素化アルキル基を有する化合物である。原料の入手性、活性エネルギー硬化型樹脂等との相溶性、そのような相溶性を制御することの容易性、或いは重合反応性の観点からアクリルエステル基およびその類縁基を含有するものが適しており、具体的には下記一般式(1)で表されるフッ素化(メタ)アクリレートが好ましい。尚、(メタ)アクリレートは、メタクリレート、アクリレート、フルオロアクリレート、塩素化アクリレートを総称するものである。

Figure 0004556664
The fluorinated alkyl group-containing ethylenically unsaturated monomer (A) is a compound having an ethylenically unsaturated group and a fluorinated alkyl group in the molecule. From the viewpoint of availability of raw materials, compatibility with active energy curable resins, ease of controlling such compatibility, or polymerization reactivity, those containing an acrylic ester group and its related groups are suitable. Specifically, a fluorinated (meth) acrylate represented by the following general formula (1) is preferable. (Meth) acrylate is a generic term for methacrylate, acrylate, fluoroacrylate, and chlorinated acrylate.
Figure 0004556664

[式中、Rf は炭素数1〜20のパ−フロロアルキル基、または部分フッ素化アルキル基であり、直鎖状、分岐状、または主鎖中に酸素原子が介入したもの、例えば -(OCF2CF2)2CF(CF3)2 等でも良く、R1 はH,CH3, Cl, またはFであり、Xは2価の連結基である。 [Wherein R f is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a partially fluorinated alkyl group, linear, branched, or having an oxygen atom intervening in the main chain, such as-( OCF 2 CF 2 ) 2 CF (CF 3 ) 2 or the like may be used, R 1 is H, CH 3 , Cl, or F, and X is a divalent linking group.

本発明に用いるフッ素化アルキル基含有オリゴマーは、フッ素化アルキル基含有エチレン性不飽和単量体(A)以外に他の単量体を共重合したものであってもよい。
共重合させる単量体として、シリコーン鎖含有エチレン性不飽和単量体(B)を含有することが好ましい。
The fluorinated alkyl group-containing oligomer used in the present invention may be one obtained by copolymerizing other monomers in addition to the fluorinated alkyl group-containing ethylenically unsaturated monomer (A).
It is preferable to contain a silicone chain-containing ethylenically unsaturated monomer (B) as a monomer to be copolymerized.

シリコーン鎖含有エチレン性不飽和単量体(B)は、1分子中にシリコーン鎖とエチレン性不飽和基を有する化合物であれば特に制限はなく、具体的には、一般式(2)で示される化合物である。   The silicone chain-containing ethylenically unsaturated monomer (B) is not particularly limited as long as it is a compound having a silicone chain and an ethylenically unsaturated group in one molecule, and specifically, represented by the general formula (2). It is a compound.

Figure 0004556664
Figure 0004556664

[式中、R1はH、Cl、F、CH3を示し、R2、R3は炭素数1〜20のアルキル基、フェニル基、若しくは一般式(3)で表される官能基を示し、 [Wherein R 1 represents H, Cl, F, or CH 3 , and R 2 and R 3 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group, or a functional group represented by the general formula (3). ,

Figure 0004556664
Figure 0004556664

(式中、R7、R8、R9は炭素数1〜20のアルキル基又はフェニル基を示す)、R4、R5、R6は炭素数1〜20のアルキル基又はフェニル基を示し、Xは-CH2CH(OH)CH2OCO-、-(CH2)nNHCH2CH(OH)CH20CO-、-(CH2)nOCO-、-(CH2)n-O-(CH2)mOCO-、-OCH2CH(OH)CH2OCO-、-(CH2)nC(CF3)2OCO-から選ばれる2価の連結基を示し、qは0〜3の整数、m、nは2〜6の整数、pは0または1を示す。] (Wherein R 7 , R 8 and R 9 represent an alkyl group or phenyl group having 1 to 20 carbon atoms), R 4 , R 5 and R 6 represent an alkyl group or phenyl group having 1 to 20 carbon atoms. , X is -CH 2 CH (OH) CH 2 OCO -, - (CH 2) n NHCH 2 CH (OH) CH 2 0CO -, - (CH 2) n OCO -, - (CH 2) n -O- (CH 2) m OCO -, - OCH 2 CH (OH) CH 2 OCO -, - (CH 2) n C (CF 3) represents a divalent linking group selected from 2 OCO-, q is 0 to 3 , M and n are integers of 2 to 6, and p is 0 or 1. ]

さらに共重合可能な単量体として、ポリオキシアルキレン基含有不飽和単量体(C)及び/又は1分子中に2個以上の不飽和結合を有するエチレン性不飽和単量体(D)を含有させることができる。   Further, as a copolymerizable monomer, a polyoxyalkylene group-containing unsaturated monomer (C) and / or an ethylenically unsaturated monomer (D) having two or more unsaturated bonds in one molecule. It can be included.

ポリオキシアルキレン基含有不飽和単量体(C)は、1分子中にポリオキシアルキレン基とエチレン性不飽和基を有する化合物であれば特に制限はないが、使用する活性エネルギー硬化型樹脂、溶媒により適宜選択される。
オキシアルキレン基としてはエチレンオキシド基及び/またはプロピレンオキシド基が好適である。オキシアルキレン基の重合度は1〜50、好ましくは5〜30が好ましい。
エチレン性不飽和基としては、原料の入手性、相溶性、そのような相溶性を制御することの容易性、重合反応性等の観点から(メタ)アクリルエステル基、およびその類縁基を含有するものが適している。
The polyoxyalkylene group-containing unsaturated monomer (C) is not particularly limited as long as it is a compound having a polyoxyalkylene group and an ethylenically unsaturated group in one molecule. Is appropriately selected.
The oxyalkylene group is preferably an ethylene oxide group and / or a propylene oxide group. The degree of polymerization of the oxyalkylene group is 1 to 50, preferably 5 to 30.
The ethylenically unsaturated group contains a (meth) acrylic ester group and related groups from the viewpoints of availability of raw materials, compatibility, ease of controlling such compatibility, polymerization reactivity, and the like. Things are suitable.

具体的化合物としては、重合度1〜100の、ポリエチレングリコ−ル、ポリプロピレングリコ−ル、そしてエチレンオキシドとプロピレンオキシドとの共重合体等のポリアルキレングリコ−ルのモノ(メタ)アクリル酸エステル(以後この表現はアクリル酸アルキルエステルとメタクリル酸アルキルエステルの両方を総称するものとする。)、若しくは末端が炭素数1〜6のアルキル基によってキャップされた重合度1〜100の、ポリエチレングリコ−ル、ポリプロピレングリコ−ル、そしてエチレンオキシドとプロピレンオキシドとの共重合体等のポリアルキレングリコ−ルのモノ(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。ポリオキシアルキレン基含有不飽和単量体(C)は、1種類だけを用いても構わないし、2種類以上を組み合わせて用いても構わない。   Specific examples of the compound include polyethylene glycol, polypropylene glycol, and poly (alkylene glycol) mono (meth) acrylate such as a copolymer of ethylene oxide and propylene oxide (hereinafter referred to as “poly (ethylene glycol)”). This expression shall generically refer to both alkyl acrylates and alkyl methacrylates.), Or polyethylene glycol having a degree of polymerization of 1-100 capped with an alkyl group having 1-6 carbon atoms, Examples thereof include polypropylene glycol and mono (meth) acrylate of polyalkylene glycol such as a copolymer of ethylene oxide and propylene oxide. Only one type of polyoxyalkylene group-containing unsaturated monomer (C) may be used, or two or more types may be used in combination.

エチレン性不飽和単量体(D)は、1分子中に2個以上の不飽和結合を有するものであれば特に制限はないが、エチレン性不飽和基としては重合反応性の観点からアクリルエステル基およびその類縁基を含有するものが適している。具体的には、重合度1〜100の、ポリエチレングリコ−ル、ポリプロピレングリコ−ル、そしてエチレンオキシドとプロピレンオキシドとの共重合体等のポリアルキレングリコ−ルのジ(メタ)アクリル酸エステル、若しくは末端が炭素数1〜6のアルキル基によってキャップされた重合度1〜100の、ポリエチレングリコ−ル、ポリプロピレングリコ−ル、そしてエチレンオキシドとプロピレンオキシドとの共重合体等のポリアルキレングリコ−ルのジ(メタ)アクリル酸エステル、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート及びそのEO変性物、テトラメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート及びそのEO変性物、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリストールトリアクリレート、ペンタエリストールテトラアクリレート、ペンタエリストールテトラアクリレートが挙げられる。1分子中に2個以上の不飽和結合を有するエチレン性不飽和単量体(D)は、1種類だけを用いても構わないし、2種類以上を組み合わせて用いても構わない。   The ethylenically unsaturated monomer (D) is not particularly limited as long as it has two or more unsaturated bonds in one molecule, but the ethylenically unsaturated group is an acrylic ester from the viewpoint of polymerization reactivity. Those containing groups and their analogous groups are suitable. Specifically, di (meth) acrylic acid ester of polyalkylene glycol such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and a copolymer of ethylene oxide and propylene oxide having a polymerization degree of 1 to 100, or terminal Of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and copolymers of ethylene oxide and propylene oxide with a degree of polymerization of 1-100 capped by an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (Meth) acrylic acid ester, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate and its EO-modified product, tetramethylolpropane tri (meth) acrylate and its EO-modified product, tetramethylo Methane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate and the like. As the ethylenically unsaturated monomer (D) having two or more unsaturated bonds in one molecule, only one type may be used or two or more types may be used in combination.

前記単量体(A)、(B)、(C)、及び(D)の割合は、活性エネルギー硬化型樹脂や無機酸化物粒子の種類に応じて、また塗工方法等によっても適宜選択できるが、通常、重量基準で(A)/(B)/(C)/(D)=5〜50/0〜40/0〜90/0〜30の範囲にあることが好ましく、更に好ましい範囲としては(A)/(B)/(C)/(D)=10〜40/5〜30/30〜70/1〜10であり、特に好ましい範囲としては(A)/(B)/(C)/(D)=10〜25/5〜20/50〜70/2〜7である。   The proportions of the monomers (A), (B), (C), and (D) can be appropriately selected according to the type of active energy curable resin and inorganic oxide particles, and also depending on the coating method and the like. Is usually preferably in the range of (A) / (B) / (C) / (D) = 5 to 50/0 to 40/0 to 90/0 to 30, more preferably on a weight basis. Is (A) / (B) / (C) / (D) = 10-40 / 5-30 / 30-70 / 1-10, with a particularly preferred range being (A) / (B) / (C ) / (D) = 10-25 / 5-5 / 20 / 50-70 / 2-7.

本発明に用いるフッ素化アルキル基含有オリゴマーは、前記単量体(A)、(B)、(C)、(D)以外のエチレン性不飽和単量体(E)を共重合成分として導入することができる。エチレン性不飽和単量体(E)としては、スチレン、核置換スチレン、アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルピリジン、N−ビニルピロリドン、ビニルスルホン酸、酢酸ビニル等の脂肪酸ビニル、またα,β−エチレン性不飽和カルボン酸、即ちアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸、イタコン酸等の一価ないし二価のカルボン酸、またα,β−エチレン性不飽和カルボン酸の誘導体として、アルキル基の炭素数が1〜18の(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸の炭素数1〜18のヒドロキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸の炭素数1〜18のアミノアルキルエステル、(メタ)アクリル酸の、炭素数が3〜18のエーテル酸素含有アルキルエステル、ジシクロペンタニルオキシルエチル(メタ)アクリレート、イソボルニルオキシルエチル(メタ)アクリレートなどの橋状結合含有モノマー、アルキル炭素数が1〜18のアルキルビニルエーテル、(メタ)アクリル酸のグリシジルエステル、各種マクロモノマーが挙げられる。更にシランカップング基含有単量体、そして分子中に極性基、とりわけアニオン性基や水酸基を含有するモノマ−、等が挙げられる。エチレン性不飽和単量体(E)は、1種類だけを用いても構わないし、2種類以上を組み合わせて用いても構わない。
単量体(E) 割合は、単量体(A)、(B)、(C)及び(D)の合計量に対して、重量基準で[(A)+(B)+(C)+(D)]/(E)=20/80〜100/0の範囲内であることが好ましく、更に好ましい範囲としては[(A)+(B)+(C)+(D)]/(E)=50/50〜97/3、特に好ましい範囲としては[(A)+(B)+(C)+(D)]/(E)=70/30〜95/5である。
The fluorinated alkyl group-containing oligomer used in the present invention introduces an ethylenically unsaturated monomer (E) other than the monomers (A), (B), (C), and (D) as a copolymerization component. be able to. Examples of the ethylenically unsaturated monomer (E) include styrene, nucleus-substituted styrene, acrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl pyridine, N-vinyl pyrrolidone, vinyl sulfonic acid, vinyl acetate and other fatty acid vinyls, and α, β -Ethylenically unsaturated carboxylic acids, ie mono- or divalent carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, and derivatives of α, β-ethylenically unsaturated carboxylic acids (Meth) acrylic acid alkyl ester having 1 to 18 carbon atoms, hydroxyalkyl ester having 1 to 18 carbon atoms of (meth) acrylic acid, aminoalkyl ester having 1 to 18 carbon atoms of (meth) acrylic acid, ( Di-cyclopentanyl ether of an oxygen ester containing 3 to 18 carbon atoms of (meth) acrylic acid Shiruechiru (meth) acrylate, bridging bond-containing monomers such as isobornyl oxyl ethyl (meth) acrylate, alkyl vinyl ethers of alkyl carbon atoms 1 to 18, (meth) glycidyl esters of acrylic acid, various macro monomer. Furthermore, a silane coupling group-containing monomer, a monomer containing a polar group, particularly an anionic group or a hydroxyl group in the molecule, and the like can be mentioned. Only one type of ethylenically unsaturated monomer (E) may be used, or two or more types may be used in combination.
The ratio of the monomer (E) is [(A) + (B) + (C) + on a weight basis with respect to the total amount of the monomers (A), (B), (C) and (D). (D)] / (E) = 20/80 to 100/0 is preferable, and a more preferable range is [(A) + (B) + (C) + (D)] / (E ) = 50/50 to 97/3, and a particularly preferable range is [(A) + (B) + (C) + (D)] / (E) = 70/30 to 95/5.

本発明に用いるフッ素化アルキル基含有オリゴマーはその製造方法によって何ら制限はなく、公知の方法、即ちラジカル重合法、カチオン重合法、アニオン重合法等の重合機構に基づき、溶液重合法、塊状重合法、更にエマルジョン重合法等によって得ることができる。
本発明に用いるフッ素化アルキル基含有オリゴマーは、ポリスチレン換算の数平均分子量が通常800〜200,000、好ましくは1,000〜100,000、特に好ましくは2,000〜20,000である。分子量が上記範囲内にあるオリゴマーを用いると無機酸化物粒子の分散性が良くなり、本発明の反射防止積層体を構成する低表面粗さのハードコート層を容易に得ることができる。
フッ素化アルキル基含有オリゴマーは市販されたものを用いることもできる。市販品としては、大日本インキ化学工業社製のメガファックF470、F471、F472、F472SF、F474、F475、F476−20、F477、F478、F479、F172D、F178K、F−178RM、ESM−1、R−08、R−30、R−60PM−20、BL−20、MCF−350SF、MCF−350−5などが挙げられる。
The fluorinated alkyl group-containing oligomer used in the present invention is not limited by its production method, and is based on a known method, that is, based on a polymerization mechanism such as a radical polymerization method, a cation polymerization method, or an anion polymerization method, a solution polymerization method, a bulk polymerization method. Further, it can be obtained by an emulsion polymerization method or the like.
The fluorinated alkyl group-containing oligomer used in the present invention has a polystyrene-equivalent number average molecular weight of usually 800 to 200,000, preferably 1,000 to 100,000, particularly preferably 2,000 to 20,000. When an oligomer having a molecular weight within the above range is used, the dispersibility of the inorganic oxide particles is improved, and a low surface roughness hard coat layer constituting the antireflection laminate of the present invention can be easily obtained.
A commercially available fluorinated alkyl group-containing oligomer can also be used. Commercially available products include Megafac F470, F471, F472, F472SF, F474, F475, F476-20, F477, F478, F479, F172D, F178K, F-178RM, ESM-1, R, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. -08, R-30, R-60PM-20, BL-20, MCF-350SF, MCF-350-5 and the like.

フッ素化アルキル基含有オリゴマーの量は、活性エネルギー硬化型樹脂100重量部に対して0.2〜4重量部、好ましくは0.5〜2重量部である。フッ素化アルキル基含有オリゴマーの量が少ないと、無機酸化物粒子の分散性が改善効果が小さくなり、本発明の反射防止積層体を構成する低表面粗さのハードコート層を容易に得憎くなることがある。フッ素化アルキル基含有オリゴマーの量が多すぎると、ハードコート層の硬度が低くなったり、透明性が低下したりすることがある。   The amount of the fluorinated alkyl group-containing oligomer is 0.2 to 4 parts by weight, preferably 0.5 to 2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the active energy curable resin. When the amount of the fluorinated alkyl group-containing oligomer is small, the dispersibility of the inorganic oxide particles is reduced, and the low surface roughness hard coat layer constituting the antireflection laminate of the present invention is easily obtained. Sometimes. If the amount of the fluorinated alkyl group-containing oligomer is too large, the hardness of the hard coat layer may be lowered or the transparency may be lowered.

本発明を構成するハードコート層には、さらに有機反応性ケイ素化合物を含んでいてもよい。有機反応性ケイ素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトラ-n-ブトキシシラン、テトラ-sec-ブトキシシラン、テトラ-tert-ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等の、式:RmSi(OR’)n(式中、R及びR’はそれぞれ独立して炭素数1〜10のアルキル基を表し、m、nはそれぞれ独立して、m+n=4の関係を満たす正整数である。)で表せる有機ケイ素化合物;   The hard coat layer constituting the present invention may further contain an organic reactive silicon compound. Examples of organic reactive silicon compounds include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, methyl Trimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxysilane, methyldimethoxysilane, methyldi Formulas such as ethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, etc .: RmSi (OR ′) n (wherein R and R ′ each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and m and n are each independently To, organic silicon compounds represented by a positive integer satisfying the relationship of m + n = 4).;

3-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3-(2-アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメトキシシラン、N-3-(N-ビニルベンジルアミノエチル)-3-アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(3-メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3-(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等のシランカップリング剤;   3- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, 3- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane 3-methacryloxypropylmethoxysilane, N-3- (N-vinylbenzylaminoethyl) -3-aminopropylmethoxysilane hydrochloride, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methylmethoxysilane, vinyltri Acetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (3-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride, Le trichlorosilane, silane coupling agents such as dimethyldichlorosilane;

片末端ビニル基置換ポリシラン、両末端ビニル基置換ポリシラン、片末端ビニル基置換ポリシロキサン、両末端ビニル基置換ポリシロキサン、又はこれらの化合物を反応させて得られるビニル基置換ポリシラン、もしくはビニル基置換ポリシロキサン等の活性エネルギー線硬化性ケイ素化合物;3-(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の(メタ)アクリロキシシラン化合物等のその他の有機ケイ素化合物;等が挙げられる。   One-end vinyl group-substituted polysilane, both-end vinyl group-substituted polysilane, one-end vinyl group-substituted polysiloxane, both-end vinyl group-substituted polysiloxane, vinyl group-substituted polysilane obtained by reacting these compounds, or vinyl group-substituted poly Active energy ray-curable silicon compounds such as siloxane; other organosilicon compounds such as 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and (meth) acryloxysilane compounds such as 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane And the like.

ハードコート層は、通常、活性エネルギー線硬化型樹脂、無機酸化物粒子及び必要に応じて配合されるフッ素化アルキル基含有オリゴマー等を溶解または分散させた液を、前記基材上に塗工し、乾燥して塗膜を得、次いで、活性エネルギー線を照射して、硬化させることにより得ることができる。塗工法としては、ワイヤーバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、グラビアコート法等が挙げられる。
活性エネルギー線の照射強度及び照射時間は特に限定されず、用いる活性エネルギー線硬化性樹脂に応じて適宜、照射強度、照射時間などの照射条件を設定することができる。
活性エネルギー線硬化型樹脂等を溶解または分散させる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール等のアルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジアセトングリコール等のグリコール類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n-ヘキサン、n-ヘプタン等の脂肪族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;メチルエチルケトオキシム等のオキシム類;及びこれらの2種以上からなる組み合わせ;等が挙げられる。
The hard coat layer is usually formed by applying a solution in which an active energy ray-curable resin, inorganic oxide particles, and a fluorinated alkyl group-containing oligomer blended as necessary are dissolved or dispersed on the substrate. It can be obtained by drying to obtain a coating film, followed by irradiation with active energy rays and curing. Examples of the coating method include a wire bar coating method, a dip method, a spray method, a spin coating method, a roll coating method, and a gravure coating method.
The irradiation intensity and irradiation time of the active energy ray are not particularly limited, and irradiation conditions such as irradiation intensity and irradiation time can be appropriately set according to the active energy ray curable resin to be used.
Examples of the solvent for dissolving or dispersing the active energy ray-curable resin include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, and isobutanol; ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, Glycols such as diethylene glycol, diethylene glycol monobutyl ether, diacetone glycol; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; methyl ethyl ketone And ketones such as methyl isobutyl ketone; oximes such as methyl ethyl ketoxime; and combinations of two or more thereof.

本発明の反射防止積層体を構成する低屈折率層は、ハードコート層よりも屈折率が低い層である。低屈折率層の屈折率は、1.37以下であることが好ましく、1.25〜1.35であることがさらに好ましく、1.30〜1.34であることが特に好ましい。上記好ましい条件であることにより、視認性と耐擦傷性、強度のバランスに優れた偏光板等を得ることができる。   The low refractive index layer constituting the antireflection laminate of the present invention is a layer having a refractive index lower than that of the hard coat layer. The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.37 or less, more preferably 1.25 to 1.35, and particularly preferably 1.30 to 1.34. By being the said preferable conditions, the polarizing plate etc. which were excellent in the balance of visibility, abrasion resistance, and intensity | strength can be obtained.

低屈折率層を形成する材料は、屈折率が1.37以下の層を構成する材料が好ましい。特に、屈折率の制御が容易である点及び耐水性に優れる点で、エアロゲルが好ましい。
エアロゲルは、マトリックス中に微小な空孔が分散した透明多孔質体である。空孔の大きさは大部分が200nm以下であり、空孔の占有率は通常10体積%以上60体積%以下、好ましくは20体積%以上40体積%以下である。
微小な空孔が分散したエアロゲルの具体例としては、シリカエアロゲル、中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体が挙げられる。
The material forming the low refractive index layer is preferably a material constituting a layer having a refractive index of 1.37 or less. In particular, an airgel is preferable in terms of easy control of the refractive index and excellent water resistance.
An airgel is a transparent porous body in which minute pores are dispersed in a matrix. Most of the size of the pores is 200 nm or less, and the occupation ratio of the pores is usually 10% by volume or more and 60% by volume or less, preferably 20% by volume or more and 40% by volume or less.
Specific examples of the airgel in which minute pores are dispersed include silica aerogel and a porous body in which hollow particles are dispersed in a matrix.

シリカエアロゲルは、米国特許第4402927号公報、米国特許第4432956号公報、米国特許第4610863号公報等に開示されているように、アルコキシシランの加水分解重合反応によって得られたシリカ骨格からなる湿潤状態のゲル状化合物を、超臨界乾燥することによって製造することができる。この超臨界乾燥は、例えば二酸化炭素やアルコールなどの乾燥液をゲル状化合物の溶媒の全部又は一部と置換し、該乾燥液を超臨界状態にし、次いで超臨界状態から気相に変化した乾燥液(気体)を排出することによって行うことができる。また、シリカエアロゲルは、米国特許第5137279号公報、米国特許5124364号公報等に開示されているように、ケイ酸ナトリウムを原料として、上記と同様にして製造しても良い。   Silica airgel is a wet state composed of a silica skeleton obtained by hydrolysis polymerization reaction of alkoxysilane as disclosed in US Pat. No. 4,402,927, US Pat. No. 4,432,956, US Pat. No. 4,610,863 and the like. These gel compounds can be produced by supercritical drying. In this supercritical drying, for example, a drying liquid such as carbon dioxide or alcohol is replaced with all or part of the solvent of the gel compound, the drying liquid is changed to a supercritical state, and then changed from the supercritical state to the gas phase. This can be done by discharging the liquid (gas). Silica airgel may be produced in the same manner as described above using sodium silicate as a raw material as disclosed in US Pat. No. 5,137,279, US Pat. No. 5,124,364, and the like.

ここで、特開平5−279011号公報、特開平7−138375号公報に開示されているように、前記のゲル状化合物を疎水化処理することによって、シリカエアロゲルに疎水性を付与することが好ましい。この疎水性シリカエアロゲルは、湿気や水等が浸入し難くなり、シリカエアロゲルの屈折率や光透過性等の性能が劣化することを防ぐことができるものである。   Here, as disclosed in JP-A-5-279011 and JP-A-7-138375, it is preferable to impart hydrophobicity to the silica airgel by hydrophobizing the gel compound. . This hydrophobic silica airgel can prevent moisture, water and the like from entering, and prevent the performance of the silica airgel such as refractive index and light transmittance from deteriorating.

この疎水化処理は、ゲル状化合物を超臨界乾燥する前、あるいは超臨界乾燥中に行うことができる。疎水化処理は、ゲル状化合物の表面に存在するシラノール基の水酸基を疎水化処理剤の官能基と反応させ、疎水化処理剤の疎水基と置換させることによって行うものである。疎水化処理を行う手法としては、疎水化処理剤溶液にゲル状化合物を浸漬し、混合するなどしてゲル状化合物内に疎水化処理剤を浸透させた後、必要に応じて加熱する方法があげられる。   This hydrophobizing treatment can be performed before or during supercritical drying of the gel compound. The hydrophobizing treatment is performed by reacting the hydroxyl group of the silanol group present on the surface of the gel compound with the functional group of the hydrophobizing agent and replacing it with the hydrophobic group of the hydrophobizing agent. As a method for performing the hydrophobizing treatment, there is a method in which the hydrophobizing agent is infiltrated into the gel-like compound by immersing and mixing the gel-like compound in the hydrophobizing agent solution, followed by heating as necessary. can give.

シリカエアロゲルの屈折率は、シリカエアロゲルの原料配合比によって自由に変化させることができる。
シリカエアロゲルからなる低屈折率層の、形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層の上に前記ゲル状化合物を公知の塗工方法により塗工して、前記の超臨界乾燥を行って形成する方法が挙げられる。また、超臨界乾燥前又は超臨界乾燥中に疎水化処理を行ってもよい。
The refractive index of silica airgel can be freely changed by the raw material compounding ratio of silica airgel.
The formation method of the low refractive index layer made of silica aerogel is not particularly limited. For example, the gel compound is coated on the hard coat layer by a known coating method, and the supercritical drying is performed. The method of forming is mentioned. Further, the hydrophobization treatment may be performed before or during supercritical drying.

エアロゲルの別の態様である、中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体としては、特開2001−233611号公報、特開2003−149642号公報に開示されているような、粒子の内部に空隙を持つ中空粒子をバインダー樹脂に分散させた多孔質体が挙げられる。
バインダー樹脂としては中空粒子の分散性、多孔質体の透明性、多孔質体の強度等の条件に適合する樹脂等から選択して用いることができ、例えば従来から用いられているポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニル樹脂等;紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、エマルジョン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂、これら樹脂の混合物、さらにはこれら樹脂の共重合体や変性体などの塗料用樹脂;またはアルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物・およびその加水分解物等が挙げられる。
これらの中でも粒子の分散性、多孔質体の強度からアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物およびその加水分解物が好ましい。
As a porous body in which hollow particles are dispersed in a matrix, which is another aspect of the airgel, as disclosed in JP-A-2001-233611 and JP-A-2003-149642, the inside of the particles is used. Examples thereof include a porous body in which hollow particles having voids are dispersed in a binder resin.
The binder resin can be selected and used from resins that meet conditions such as dispersibility of hollow particles, transparency of the porous body, and strength of the porous body. For example, conventionally used polyester resins and acrylic resins Resin, urethane resin, vinyl chloride resin, epoxy resin, melamine resin, fluorine resin, silicone resin, butyral resin, phenol resin, vinyl acetate resin, etc .; UV curable resin, electron beam curable resin, emulsion resin, water-soluble resin, hydrophilic Examples thereof include resins, mixtures of these resins, and coating resins such as copolymers and modified products of these resins; hydrolyzable organosilicon compounds such as alkoxysilanes, and hydrolysates thereof.
Among these, hydrolyzable organosilicon compounds such as acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, silicone resins, alkoxysilanes and hydrolysates thereof are preferred from the viewpoint of particle dispersibility and the strength of the porous body.

前記アルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物およびその加水分解物は、下記(a)〜(c)からなる群から選ばれる1種以上の化合物から形成されたものであって、分子中に、-(O-Si)-O-(式中、mは自然数を表す。)結合を有するものである。
(a)一般式(4):SiXで表される化合物。
(b)前記一般式(4)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解生成物。
(c)前記一般式(4)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解生成物。
The hydrolyzable organosilicon compound such as alkoxysilane and the hydrolyzate thereof are formed from one or more compounds selected from the group consisting of the following (a) to (c), and in the molecule: -(O-Si) m -O- (wherein m represents a natural number) has a bond.
(A) the general formula (4): a compound represented by SiX 4.
(B) At least one partial hydrolysis product of the compound represented by the general formula (4).
(C) At least one complete hydrolysis product of the compound represented by the general formula (4).

但し一般式(4)において、Xは、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子;置換基を有していてもよい一価の炭化水素基;酸素原子;酢酸根、硝酸根などの有機酸根;アセチルアセトナートなどの3-ジケトナート基;硝酸根、硫酸根などの無機酸根;メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、n-ブトキシ基などのアルコキシ基;または水酸基を表す。   However, in General formula (4), X is halogen atoms, such as a chlorine atom and a bromine atom; Monovalent hydrocarbon group which may have a substituent; Oxygen atom; Organic acid radicals, such as an acetate radical and a nitrate radical; A 3-diketonate group such as acetylacetonate; an inorganic acid group such as nitrate or sulfate; an alkoxy group such as methoxy, ethoxy, n-propoxy or n-butoxy; or a hydroxyl group.

置換基を有していてもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基などのアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;フェニル基、4-メチルフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基などの置換基を有していてもよいアリール基;ビニル基、アリル基などのアルケニル基;ベンジル基、フェネチル基、3-フェニルプロピル基などのアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基などのハロアルキル基;3,3,3-トリフルオロプロピル基、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピル基、ヘプタデカフルオロデシル基、トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロオクチル基などのパーフルオロアルキル基;3-メタクリロキシプロピル基などのアルケニルカルボニルオキシアルキル基;3-グリシドキシプロピル基、3,4-エポキシシクロヘキシルエチル基などのエポキシ基を有するアルキル基;3−メルカプトプロピル基などのメルカプト基を有するアルキル基;3-アミノプロピル基などのアミノ基を有するアルキル基;などを例示することができる。これらの中でも、合成の容易性、入手容易性、低反射特性から、炭素数1〜4のアルキル基、パーフルオロアルキル基、フェニル基が好ましい。
これら(a)の化合物の中でも、一般式(5):RaSiY4−a〔式中、Rは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、aは0〜2の整数を表し、aが2のとき、Rは同一であっても相異なっていてもよい。Yは加水分解性基を表し、Yは同一であっても相異なっていてもよい。〕で表されるケイ素化合物が好ましい。
Examples of the monovalent hydrocarbon group which may have a substituent include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group; a cyclopentyl group, A cycloalkyl group such as a cyclohexyl group; an aryl group optionally having a substituent such as a phenyl group, a 4-methylphenyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group; an alkenyl group such as a vinyl group and an allyl group; Aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group and 3-phenylpropyl group; haloalkyl groups such as chloromethyl group and 3-chloropropyl group; 3,3,3-trifluoropropyl group, methyl-3,3,3-tri Perfluoroalkyl groups such as a fluoropropyl group, a heptadecafluorodecyl group, a trifluoropropyl group, a tridecafluorooctyl group; Alkenylcarbonyloxyalkyl groups such as -methacryloxypropyl groups; alkyl groups having epoxy groups such as 3-glycidoxypropyl groups and 3,4-epoxycyclohexylethyl groups; alkyls having mercapto groups such as 3-mercaptopropyl groups A group; an alkyl group having an amino group such as a 3-aminopropyl group; and the like. Among these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a perfluoroalkyl group, and a phenyl group are preferable because of easy synthesis, easy availability, and low reflection characteristics.
Among these compounds (a), general formula (5): RaSiY 4-a [wherein R represents a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent, and a is an integer of 0 to 2] And when a is 2, R may be the same or different. Y represents a hydrolyzable group, and Y may be the same or different. ] The silicon compound represented by this is preferable.

前記式(5)においてYは加水分解性基を表す。ここで、加水分解性基は、所望により酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、-(O-Si)-O-結合を生じせしめる基をいう。
加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などのアルコキシ基;アセトキシ基、プロピオニルオキシ基などのアシルオキシ基;オキシム基(-O-N=C-R'(R''))、エノキシ基(-O-C(R')=C(R'')R''')、アミノ基、アミノキシ基(-O-N(R')R'')、アミド基(-N(R’)-C(=O)-R'')等が挙げられる。これらの基において、R'、R''、R'''は、それぞれ独立して水素原子又は一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Yとしては、入手容易性などからアルコキシ基が好ましい。
In the formula (5), Y represents a hydrolyzable group. Here, the hydrolyzable group refers to a group that is hydrolyzed in the presence of an acid or a base catalyst as desired to form a — (O—Si) m —O— bond.
Specific examples of the hydrolyzable group include alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and propoxy group; acyloxy groups such as acetoxy group and propionyloxy group; oxime group (—O—N═C—R ′ (R ″) )), Enoxy group (—O—C (R ′) ═C (R ″) R ′ ″), amino group, aminoxy group (—O—N (R ′) R ″), amide group (— N (R ′) — C (═O) —R ″) and the like. In these groups, R ′, R ″, and R ′ ″ each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group. Among these, Y is preferably an alkoxy group from the viewpoint of availability.

前記式(5)で表されるケイ素化合物としては、式(5)中、aが0〜2の整数であるケイ素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等が挙げられる。これらの中でも、入手の容易さからアルコキシシラン類がより好ましい。 The silicon compound represented by the formula (5) is preferably a silicon compound in which a is an integer of 0 to 2 in the formula (5). Specific examples thereof include alkoxysilanes, acetoxysilanes, oxime silanes, enoxysilanes, aminosilanes, aminoxysilanes, amidosilanes and the like. Among these, alkoxysilanes are more preferable because of their availability.

前記式(5)中、aが0であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、aが1であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。また、aが2であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。   In the formula (5), examples of the tetraalkoxysilane in which a is 0 include tetramethoxysilane and tetraethoxysilane. Examples of the organotrialkoxysilane in which a is 1 include methyltrimethoxysilane and methyltriethoxy. Examples include silane, methyltriisopropoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, and the like. Examples of the diorganodialkoxysilane in which a is 2 include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and methylphenyldimethoxysilane.

前記式(4)で表される化合物の分子量は特に制限されないが、40〜300であるのが好ましく、100〜200であるのがより好ましい。   The molecular weight of the compound represented by the formula (4) is not particularly limited, but is preferably 40 to 300, and more preferably 100 to 200.

前記(b)の式(4)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解生成物(以下、「化合物(3)」という。)、および(c)の式(4)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解生成物(以下、「化合物(4)」という。)は、前記式(4)で表される化合物の1種またはそれ以上を、完全又は部分的に加水分解、縮合させることによって得ることができる。 At least one partial hydrolysis product (hereinafter referred to as “compound (3)”) of the compound represented by formula (4) in (b), and represented by formula (4) in (c). At least one complete hydrolysis product of the compound (hereinafter referred to as “compound (4)”) is obtained by completely or partially hydrolyzing one or more of the compounds represented by the formula (4). Can be obtained by condensation.

化合物(3)および化合物(4)は、例えば、Si(Or)(rは1価の炭化水素基を表す。)で表される金属テトラアルコキシドを、モル比[HO]/[Or]が1以上、1〜5、好ましくは1〜3となる量の水の存在下、加水分解して得ることができる。加水分解は、5〜100℃の温度で、2〜100時間、全容を撹拌することにより行うことができる。 Compound (3) and compound (4) are, for example, a metal tetraalkoxide represented by Si (Or) 4 (r represents a monovalent hydrocarbon group) and a molar ratio [H 2 O] / [Or ] Can be obtained by hydrolysis in the presence of water in an amount of 1 or more, 1 to 5, preferably 1 to 3. Hydrolysis can be performed by stirring the whole volume at a temperature of 5 to 100 ° C. for 2 to 100 hours.

前記式(4)で表される化合物を加水分解する場合、必要に応じて触媒を使用してよい。使用する触媒としては、特に限定されるものではないが、得られる部分加水分解物及び/あるいは完全加水分解物が2次元架橋構造になりやすく、その縮合化合物が多孔質化しやすい点、および加水分解に要する時間を短縮する点から、酸触媒が好ましい。用いる酸触媒としては、例えば、酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸;塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等の無機酸;酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等の酸性ゾル状フィラー;を挙げることができる。これらの酸触媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。
また、前記酸触媒の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、アミン類の水溶液等の塩基触媒を用いてもよい。
When hydrolyzing the compound represented by the formula (4), a catalyst may be used as necessary. The catalyst to be used is not particularly limited, but the obtained partial hydrolyzate and / or complete hydrolyzate is likely to have a two-dimensional cross-linked structure, and the condensed compound is easily made porous. From the viewpoint of shortening the time required for this, an acid catalyst is preferred. Examples of the acid catalyst to be used include organic acids such as acetic acid, chloroacetic acid, citric acid, benzoic acid, dimethylmalonic acid, formic acid, propionic acid, glutaric acid, glycolic acid, maleic acid, malonic acid, toluenesulfonic acid, and oxalic acid. And inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, and halogenated silane; acidic sol fillers such as acidic colloidal silica and oxidized titania sol; These acid catalysts can be used alone or in combination of two or more.
Instead of the acid catalyst, a base catalyst such as an aqueous solution of an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide such as sodium hydroxide or calcium hydroxide, an aqueous ammonia or an aqueous solution of amines may be used.

前記化合物(3)および化合物(4)の分子量は特に制限されないが、通常、その重量平均分子量が200〜5000の範囲である。   The molecular weights of the compound (3) and the compound (4) are not particularly limited, but usually the weight average molecular weight is in the range of 200 to 5,000.

中空粒子は無機化合物の粒子であれば、特に制限されないが、外殻の内部に空孔が形成された無機中空粒子が好ましく、シリカ系中空粒子の使用が特に好ましい。
無機化合物としては、無機酸化物が一般的である。無機酸化物としては、SiO、Al、B、TiO、ZrO、SnO、Ce、P、Sb、MoO、ZnO、WO等の1種又は2種以上を挙げることができる。2種以上の無機酸化物として、TiO-Al、TiO-ZrO、In-SnO、Sb-SnOを例示することができる。これらは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
The hollow particles are not particularly limited as long as they are inorganic compound particles, but inorganic hollow particles in which pores are formed in the outer shell are preferred, and the use of silica-based hollow particles is particularly preferred.
As the inorganic compound, an inorganic oxide is common. As the inorganic oxide, SiO 2, Al 2 O 3 , B 2 O 3, TiO 2, ZrO 2, SnO 2, Ce 2 O 3, P 2 O 5, Sb 2 O 3, MoO 3, ZnO 2, WO One or two or more of 3 or the like can be mentioned. Examples of the two or more inorganic oxides include TiO 2 —Al 2 O 3 , TiO 2 —ZrO 2 , In 2 O 3 —SnO 2 , and Sb 2 O 3 —SnO 2 . These can be used alone or in combination of two or more.

無機中空粒子としては、(a)無機酸化物単一層、(b)種類の異なる無機酸化物からなる複合酸化物の単一層、及び(c)上記(a)と(b)との二重層を包含するものを用いることができる。   As the inorganic hollow particles, (a) a single layer of an inorganic oxide, (b) a single layer of a composite oxide composed of different kinds of inorganic oxides, and (c) a double layer of the above (a) and (b) What is included can be used.

外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよく、あるいは細孔が閉塞されて空孔が外殻の外側に対して密封されているものであってもよい。外殻は、内側の第1無機酸化物被覆層及び外側の第2無機酸化物被覆層からなる複数の無機酸化物被覆層であることが好ましい。外側に第2無機酸化物被覆層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化させたり、さらには、内部の空孔を密封した無機中空粒子を得ることができる。特に第2無機酸化物被覆層の形成に含フッ素有機珪素化合物を用いる場合は、屈折率が低くなるとともに、有機溶媒への分散性もよくなり、さらに防汚性が付与されるので好ましい。このような含フッ素有機珪素化合物としては、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン等を挙げることが出来る。   The outer shell may be porous with pores, or the pores may be closed and the pores sealed against the outside of the outer shell. The outer shell is preferably a plurality of inorganic oxide coating layers comprising an inner first inorganic oxide coating layer and an outer second inorganic oxide coating layer. By providing the second inorganic oxide coating layer on the outer side, it is possible to obtain fine inorganic hollow particles in which the outer shell is closed by closing the pores of the outer shell and the inner pores are sealed. In particular, when a fluorine-containing organic silicon compound is used for forming the second inorganic oxide coating layer, the refractive index is lowered, dispersibility in an organic solvent is improved, and antifouling properties are further imparted. Such fluorine-containing organic silicon compounds include 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane, heptadecafluorodecyl. Examples include trichlorosilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, and tridecafluorooctyltrimethoxysilane.

外殻の厚みは1〜50nm、特に5〜20nmの範囲であるのが好ましい。外殻の厚みが1nm未満であると、無機中空粒子が所定の粒子形状を保持できない場合がある。逆に、外殻の厚みが50nmを超えると、無機中空粒子中の空孔が小さく、その結果、空孔の割合が減少して屈折率の低下が不十分であるおそれがある。   The thickness of the outer shell is preferably in the range of 1 to 50 nm, particularly 5 to 20 nm. If the thickness of the outer shell is less than 1 nm, the inorganic hollow particles may not be able to maintain a predetermined particle shape. On the other hand, when the thickness of the outer shell exceeds 50 nm, the pores in the inorganic hollow particles are small, and as a result, the ratio of the pores is decreased, and the refractive index may not be sufficiently lowered.

上述のように第1無機酸化物被覆層および第2無機酸化物被覆層を外殻として設ける場合、これら層の厚みの合計が、1〜50nmの範囲となるようにすればよい。特に、緻密化された外殻の場合、第2無機酸化物被覆層の厚みは20〜40nmの範囲が好適である。
また、空孔には無機中空粒子を調製するときに使用した溶媒及び/又は乾燥時に浸入する気体が存在してもよい
When the first inorganic oxide coating layer and the second inorganic oxide coating layer are provided as outer shells as described above, the total thickness of these layers may be in the range of 1 to 50 nm. In particular, in the case of a densified outer shell, the thickness of the second inorganic oxide coating layer is preferably in the range of 20 to 40 nm.
Further, the pores may contain the solvent used when preparing the inorganic hollow particles and / or the gas that enters during drying.

無機中空粒子の平均粒子径は特に制限されないが、5〜2000nmが好ましく、20〜100nmがより好ましい。5nmよりも小さいと、低屈折率になる効果が小さくなり易い、逆に2000nmよりも大きいと、透明性が悪くなり、拡散反射による寄与が大きくなり易い。ここで、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。   The average particle size of the inorganic hollow particles is not particularly limited, but is preferably 5 to 2000 nm, and more preferably 20 to 100 nm. If it is smaller than 5 nm, the effect of lowering the refractive index tends to be small. Conversely, if it is larger than 2000 nm, the transparency is deteriorated and the contribution due to diffuse reflection tends to be large. Here, the average particle diameter is a number average particle diameter by observation with a transmission electron microscope.

本発明に使用できる無機中空粒子は、例えば特開2001-233611号公報に詳細に記載された方法に基づいて製造することができ、また一般に市販されている無機中空粒子を用いることもできる。   The inorganic hollow particles that can be used in the present invention can be produced, for example, based on the method described in detail in JP-A No. 2001-233611, and commercially available inorganic hollow particles can also be used.

無機中空粒子の配合量は、特に制限されないが、低屈折率層全体に対して、10〜30重量%であることが好ましい。無機中空粒子の配合量がこの範囲であるときに、視認性と耐擦傷性に優れた偏光板保護フィルムを得ることができる。   The blending amount of the inorganic hollow particles is not particularly limited, but is preferably 10 to 30% by weight with respect to the entire low refractive index layer. When the blending amount of the inorganic hollow particles is within this range, a polarizing plate protective film excellent in visibility and scratch resistance can be obtained.

低屈折率層が中空粒子をマトリックス中に分散させた多孔質体である場合、その形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層の上に中空粒子とバインダー樹脂とを含有してなる塗工液を公知の塗工方法により塗工し、必要に応じ乾燥・加熱処理を施す方法が挙げられる。塗工法としては、ワイヤーバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、グラビアコート法等が挙げられる。必要に応じて行われる加熱の温度は、通常50〜200℃、好ましくは80〜150℃である。   When the low refractive index layer is a porous body in which hollow particles are dispersed in a matrix, the formation method is not particularly limited. For example, a coating comprising hollow particles and a binder resin on a hard coat layer. Examples include a method in which the working liquid is applied by a known coating method and, if necessary, is subjected to drying and heat treatment. Examples of the coating method include a wire bar coating method, a dip method, a spray method, a spin coating method, a roll coating method, and a gravure coating method. The temperature of the heating performed as necessary is usually 50 to 200 ° C, preferably 80 to 150 ° C.

本発明において、低屈折率層の平均厚さは、10〜1000nm、好ましくは20〜500nmであり、さらに好ましくは、30〜300nm、もっとも好ましくは50〜150nmである。平均厚さをこの範囲にすることによって広い波長帯域において、反射防止効果、透明性、耐擦傷性のバランスに優れる偏光板等が得られる。   In the present invention, the average thickness of the low refractive index layer is 10 to 1000 nm, preferably 20 to 500 nm, more preferably 30 to 300 nm, and most preferably 50 to 150 nm. By setting the average thickness within this range, a polarizing plate having an excellent balance of antireflection effect, transparency, and scratch resistance can be obtained in a wide wavelength band.

本発明の反射防止積層体は、低屈折率層の防汚性を高めるために、低屈折率層上に防汚層がさらに形成されたものであっても良い。
防汚層の形成材料としては、低屈折率層の機能が阻害されず、防汚層としての要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。
具体的な例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法;CVD等の化学的気相成長法;湿式コーティング法;等を用いることができる。防汚層の厚みは特に制限はないが、通常20nm以下が好ましく、1〜10nmであるのがより好ましい。
In the antireflection laminate of the present invention, an antifouling layer may be further formed on the low refractive index layer in order to enhance the antifouling property of the low refractive index layer.
The material for forming the antifouling layer is not particularly limited as long as the function of the low refractive index layer is not inhibited and the required performance as the antifouling layer is satisfied. Usually, a compound having a hydrophobic group can be preferably used.
As specific examples, a perfluoroalkylsilane compound, a perfluoropolyethersilane compound, or a fluorine-containing silicone compound can be used. As the method for forming the antifouling layer, for example, a physical vapor deposition method such as vapor deposition or sputtering; a chemical vapor deposition method such as CVD; a wet coating method; The thickness of the antifouling layer is not particularly limited, but is usually preferably 20 nm or less, and more preferably 1 to 10 nm.

本発明の反射防止積層体は、全光線透過率が94%以上、好ましくは95%以上である。そして本発明の好適な反射防止積層体は、スチールウール#0000に荷重0.025MPaをかけた状態で、積層体表面を10往復させて擦る前後の全光線透過率の低下が3%以内であり、好ましくは、2%以内、より好ましくは。1%以内である。全光線透過率は、日本電色工業(株)社製、「濁度計NDH2000」を用いてJIS K7361-1(1997)に準拠して測定する。同様の測定を面内の異なる任意の場所5箇所で5回測定し、それらの算術平均値を全光線透過率の値として算出する。全光線透過率の低下は次式より求める。
ΔR=(Rc−Rd)/Rc×100 (%)
Rcはスチールウールで擦る前の全光線透過率、Rdはスチールウールで擦った後の全光線透過率を表す。
The antireflection laminate of the present invention has a total light transmittance of 94% or more, preferably 95% or more. The preferred antireflective laminate of the present invention has a reduction in total light transmittance of 3% or less before and after rubbing the laminate surface 10 times in a state where a load of 0.025 MPa is applied to steel wool # 0000. , Preferably within 2%, more preferably. Within 1%. The total light transmittance is measured according to JIS K7361-1 (1997) by using “turbidimeter NDH2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. The same measurement is performed five times at five different locations in the plane, and the arithmetic average value is calculated as the total light transmittance value. The decrease in total light transmittance is obtained from the following equation.
ΔR = (Rc−Rd) / Rc × 100 (%)
Rc represents the total light transmittance before rubbing with steel wool, and Rd represents the total light transmittance after rubbing with steel wool.

また本発明の反射防止積層体はヘイズ値が1%未満、好ましくは0.8%未満、より好ましくは0.6%未満である。ヘイズ値を1%未満にすることにより、液晶表示装置に組み込んだときに、光の透過性がよくなり、画像が鮮明になる。ヘイズ値は、JIS K7136(2000)に準拠して、日本電色工業社製「濁度計NDH2000」を用いて測定する。測定を面内の異なる場所5箇所で5回づつ測定し、その算術平均値をヘイズ値とする。   The antireflection laminate of the present invention has a haze value of less than 1%, preferably less than 0.8%, more preferably less than 0.6%. By setting the haze value to less than 1%, when incorporated in a liquid crystal display device, the light transmittance is improved and the image becomes clear. The haze value is measured using “turbidimeter NDH2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. in accordance with JIS K7136 (2000). The measurement is performed five times at five different locations in the plane, and the arithmetic average value is defined as the haze value.

本発明の反射防止積層体は、入射角5°、波長550nmの光の反射率が、好ましくは0.7%以下であり、特に好ましくは0.6%以下である。反射率が上記の範囲にあることにより、外部光の映りこみ及びギラツキがなく、視認性に優れる偏光板とすることができる。反射率は、分光光度計(紫外可視近赤外分光光度計V−570、日本分光社製)を用い、入射角5°にて波長550nmの反射率、430〜700nmにおける最大反射率を求めた。   In the antireflection laminate of the present invention, the reflectance of light having an incident angle of 5 ° and a wavelength of 550 nm is preferably 0.7% or less, and particularly preferably 0.6% or less. When the reflectance is in the above range, the polarizing plate is excellent in visibility without reflection of external light and glare. The reflectance was determined by using a spectrophotometer (UV-visible near-infrared spectrophotometer V-570, manufactured by JASCO Corporation), the reflectance at a wavelength of 550 nm at an incident angle of 5 °, and the maximum reflectance at 430 to 700 nm. .

本発明の反射防止積層体は、例えば、携帯電話、デジタル情報端末、ポケットベル(登録商標)、ナビゲーション、車載用液晶ディスプレイ、液晶モニター、調光パネル、OA機器用ディスプレイ、AV機器用ディスプレイ等の各種液晶表示素子やエレクトロルミネッセンス表示素子あるいはタッチパネル等に用いられている偏光板の保護フィルムとして有用である。   The antireflection laminate of the present invention is, for example, a mobile phone, a digital information terminal, a pager (registered trademark), navigation, an in-vehicle liquid crystal display, a liquid crystal monitor, a light control panel, a display for OA equipment, a display for AV equipment, etc. It is useful as a protective film for polarizing plates used in various liquid crystal display elements, electroluminescence display elements, touch panels and the like.

本発明の反射防止機能付偏光板は、前記反射防止積層体の基材側に、偏光子を積層してなることを特徴とする。   The polarizing plate with an antireflection function of the present invention is characterized in that a polarizer is laminated on the substrate side of the antireflection laminate.

偏光子は、偏光機能を有するものであれば、特に限定はされない。例えば、ポリビニルアルコール(PVA)系やポリエン系の偏光子が挙げられる。偏光子はその製造方法によって特に限定されない。PVA系の偏光子を製造する方法としては、PVA系フィルムにヨウ素イオンを吸着させた後に一軸に延伸する方法、PVA系フィルムを一軸に延伸した後にヨウ素イオンを吸着させる方法、PVA系フィルムへのヨウ素イオン吸着と一軸延伸とを同時に行う方法、PVA系フィルムを二色性染料で染色した後に一軸に延伸する方法、PVA系フィルムを一軸に延伸した後に二色性染料で吸着する方法、PVA系フィルムへの二色性染料での染色と一軸延伸とを同時に行う方法が挙げられる。また、ポリエン系の偏光板を製造する方法としては、PVA系フィルムを一軸に延伸した後に脱水触媒存在下で加熱・脱水する方法、ポリ塩化ビニル系フィルムを一軸に延伸した後に脱塩酸触媒存在下で加熱・脱水する方法等の公知の方法が挙げられる。   The polarizer is not particularly limited as long as it has a polarization function. For example, a polyvinyl alcohol (PVA) type or polyene type polarizer can be used. A polarizer is not specifically limited by the manufacturing method. As a method for producing a PVA polarizer, a method of stretching uniaxially after adsorbing iodine ions on a PVA film, a method of adsorbing iodine ions after stretching a uniaxially stretched PVA film, A method of simultaneously performing iodine ion adsorption and uniaxial stretching, a method of stretching a uniaxial film after dyeing a PVA film with a dichroic dye, a method of stretching a uniaxial film and then adsorbing with a dichroic dye, a PVA system The method of performing simultaneously dyeing | staining with a dichroic dye and uniaxial stretching to a film is mentioned. In addition, as a method for producing a polyene-based polarizing plate, a method of heating and dehydrating in the presence of a dehydration catalyst after stretching a PVA-based film uniaxially, and in the presence of a dehydrochlorination catalyst after stretching a polyvinyl chloride-based film uniaxially. And publicly known methods such as heating and dehydrating.

基材と偏光子との間にプライマー層を、形成することができる。プライマー層により反射防止積層体と偏光子との接着強度が高くなる。プライマー層を構成する材料としては、例えば、ポリエステルウレタン系樹脂、ポリエーテルウレタン系樹脂、ポリイソシアネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、環化ゴム、これらの重合体に極性基を導入した変性物等が挙げられる。これらの中で、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂の変性物及び環化ゴムの変性物を好適に用いることができる。   A primer layer can be formed between the substrate and the polarizer. The primer layer increases the adhesion strength between the antireflection laminate and the polarizer. Examples of the material constituting the primer layer include polyester urethane resins, polyether urethane resins, polyisocyanate resins, polyolefin resins, resins having a hydrocarbon skeleton in the main chain, polyamide resins, acrylic resins, and polyester resins. Examples thereof include resins, vinyl chloride / vinyl acetate copolymers, chlorinated rubber, cyclized rubber, and modified products obtained by introducing polar groups into these polymers. Among these, a modified product of a resin having a hydrocarbon skeleton in the main chain and a modified product of a cyclized rubber can be suitably used.

主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂としては、ポリブタジエン骨格又は少なくともその一部に水素添加したポリブタジエン骨格を有する樹脂が挙げられ、具体的には、ポリブタジエン樹脂、水添ポリブタジエン樹脂、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体(SBS共重合体)、その水素添加物(SEBS共重合体)等が挙げられる。なかでも、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物の変性物を好適に用いる
ことができる。
Examples of the resin having a hydrocarbon skeleton in the main chain include a polybutadiene skeleton or a resin having a polybutadiene skeleton hydrogenated to at least a part thereof, specifically, a polybutadiene resin, a hydrogenated polybutadiene resin, a styrene / butadiene / styrene. Examples thereof include a block copolymer (SBS copolymer), a hydrogenated product thereof (SEBS copolymer), and the like. Among these, a modified product of a hydrogenated product of a styrene / butadiene / styrene block copolymer can be suitably used.

重合体の変性物を得るために用いる極性基を導入するための化合物としては、カルボン酸又はその誘導体が好ましい。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸等の不飽和カルボン酸;塩化マレイル、マレイミド、無水マレイン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸のハロゲン化物、アミド、イミド、無水物、エステル等の誘導体;等が挙げられる。これらの中でも、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物による変性物は、密着性に優れるので、好適に用いることができる。不飽和カルボン酸又はその無水物の中では、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸がより好ましく、マレイン酸、無水マレイン酸が特に好ましい。これらの不飽和カルボン酸等は、2種以上を混合して用い、変性することもできる。   As a compound for introducing a polar group used for obtaining a modified product of a polymer, a carboxylic acid or a derivative thereof is preferable. For example, unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid and fumaric acid; halides, amides, imides, anhydrides and esters of unsaturated carboxylic acids such as maleyl chloride, maleimide, maleic anhydride and citraconic anhydride And the like; and the like. Among these, a modified product with an unsaturated carboxylic acid or an unsaturated carboxylic acid anhydride is excellent in adhesion, and thus can be suitably used. Among the unsaturated carboxylic acids or anhydrides thereof, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride are more preferable, and maleic acid and maleic anhydride are particularly preferable. These unsaturated carboxylic acids and the like can be modified by mixing two or more kinds.

プライマー層の形成方法は特に制限されず、例えば、前記樹脂を溶解したプライマー層形成用塗工液を公知の塗工方法により、基材上に塗工して形成する方法が挙げられる。プライマー層の厚みは特に制限されないが、通常0.01〜5μm、好ましくは0.1〜2μmである。   The method for forming the primer layer is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a primer layer forming coating solution in which the resin is dissolved is applied onto a substrate by a known coating method. The thickness of the primer layer is not particularly limited, but is usually 0.01 to 5 μm, preferably 0.1 to 2 μm.

本発明の反射防止機能付偏光板においては、本発明の反射防止積層体が積層されていない偏光子の面に、プライマー層を介して、保護フィルム(2)が積層されていてもよい。
保護フィルム(2)は、例えばトリアセチルセルロース等のセルロースエステルや脂環式構造含有重合体等の樹脂からなるものが挙げられるが、透明性、複屈折性、寸法安定性等に優れる点から脂環式構造含有重合体からなるものが好ましい。脂環式構造含有重合体としては、前記基材の説明部分で記載したものと同様のものが挙げられる。保護フィルム(2)は、溶液流延法、溶融押出法、好ましくは、溶融押出法によってフィルム状に成形し必要に応じて延伸配向して得ることができる。
In the polarizing plate with an antireflection function of the present invention, the protective film (2) may be laminated via a primer layer on the surface of the polarizer on which the antireflection laminate of the present invention is not laminated.
Examples of the protective film (2) include those made of a resin such as a cellulose ester such as triacetyl cellulose and an alicyclic structure-containing polymer. However, the protective film (2) is an oil that is excellent in transparency, birefringence, dimensional stability, and the like. What consists of a cyclic structure containing polymer is preferable. Examples of the alicyclic structure-containing polymer are the same as those described in the explanation part of the substrate. The protective film (2) can be obtained by forming into a film by a solution casting method, a melt extrusion method, preferably a melt extrusion method, and stretching and orientation as necessary.

本発明の液晶表示装置は、本発明の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする。液晶表示装置は、通常、液晶セルと、それを挟む偏光板とを少なくとも有する。本発明の液晶表示装置は、前記2枚の偏光板のうち、視認側に位置する偏光板として、本発明の反射防止機能付偏光板を液晶セルから遠い側に反射防止積層体がくるように配置されている。反射防止機能付偏光板と液晶セルはプライマー層を介して貼り合わせてあっても良い。   The liquid crystal display device of the present invention comprises the polarizing plate with an antireflection function of the present invention. The liquid crystal display device usually has at least a liquid crystal cell and a polarizing plate sandwiching the liquid crystal cell. In the liquid crystal display device of the present invention, the polarizing plate with an antireflection function of the present invention is placed on the side far from the liquid crystal cell as the polarizing plate located on the viewing side of the two polarizing plates. Has been placed. The polarizing plate with antireflection function and the liquid crystal cell may be bonded together via a primer layer.

液晶セルは液晶モードによって特に限定されない。液晶モードとしては、TN(Twisted Nematic)型、STN(Super Twisted Nematic)型、HAN(Hybrid Alignment Nematic)型、VA(Vertical Alignment)型、MVA(Multiple Vertical Alignment)型、IPS(In Plane Switching)型、OCB(Optical Compensated Bend)型、反射型、半透過型等が挙げられる。   The liquid crystal cell is not particularly limited depending on the liquid crystal mode. Liquid crystal modes include TN (Twisted Nematic), STN (Super Twisted Nematic), HAN (Hybrid Alignment Nematic), VA (Vertical Alignment), MVA (Multiple Alignment). OCB (Optical Compensated Bend) type, reflective type, transflective type, and the like.

次に、実施例により本発明を更に詳細に説明する。本発明は下記の実施例に限定されるものではない。実施例及び比較例中の試験及び評価は以下の方法で行った。   Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The present invention is not limited to the following examples. The test and evaluation in an Example and a comparative example were performed with the following method.

(1)屈折率
高速分光エリプソメトリ(型番号:M-2000U、J.A.Woollam社製)を用い、測定波長400-1000nm、入射角度をそれぞれ55、60、65度で測定し、これらの測定値から算出した。
(2)表面粗さ
非接触式三次元構造解析顕微鏡(zygo NewView5032:ザイゴ社製)を用い、フィルムの凹凸のある面を走査させて干渉縞を観測することにより測定できる。
(3)耐擦傷性
スチールウール#0000に荷重0.025MPaをかけた状態で表面を10往復させ擦った後の表面状態を目視で観測した。
○:傷が認められない。
△:わずかに傷が認められる。
×:傷が認められる。
(1) Refractive index Using a high-speed spectroscopic ellipsometry (model number: M-2000U, manufactured by JA Woollam), the measurement wavelength is 400-1000 nm, and the incident angles are measured at 55, 60, and 65 degrees, respectively. Calculated from measured values.
(2) Surface roughness Using a non-contact type three-dimensional structural analysis microscope (zygo NewView 5032: manufactured by Zygo Corporation), the surface roughness can be measured by scanning the uneven surface of the film and observing the interference fringes.
(3) Scratch resistance The surface state after rubbing the surface 10 times in a state where a load of 0.025 MPa was applied to steel wool # 0000 was visually observed.
○: Scratches are not recognized.
Δ: Slight scratches are observed.
X: Scratches are observed.

(4)碁盤目試験
JIS−K5400−8.5.1の記載に準じた試験方法で密着性を求めた。具体的には、基材に達する100個の升目状の切り傷を、隙間間隔1mmのカッターガイドを用いて付けた。次いで、セロハン粘着テープ(ニチバン社製、セロテープCT−18)を升目状の切り傷面に張り付け、消しゴムでこすって完全に付着させた後、垂直に引き剥がして目視により下記の式から密着性を求めた。
密着性(%)=(1−剥がれ面積/評価面積)×100
(4) Cross cut test Adhesiveness was calculated | required with the test method according to description of JIS-K5400-8.5.1. Specifically, 100 grid-like cuts reaching the substrate were made using a cutter guide with a gap interval of 1 mm. Next, a cellophane adhesive tape (manufactured by Nichiban Co., Ltd., cello tape CT-18) is attached to the cut surface of the grid, and after rubbing with an eraser, it is peeled off vertically to visually determine adhesion from the following formula. It was.
Adhesion (%) = (1-peeling area / evaluation area) × 100

(5)反射率
分光光度計(紫外可視近赤外分光光度計V-570、日本分光社製)を用い、入射角5°にて波長スペクトルを測定し、波長430〜700nmにおける最大率と、550nmにおける反射率を測定した。上記測定は面内の異なる任意の場所5箇所で5回行い、それらの算術平均値を反射率の値とした。
(5) Reflectance Using a spectrophotometer (UV-visible near-infrared spectrophotometer V-570, manufactured by JASCO Corporation), the wavelength spectrum is measured at an incident angle of 5 °, and the maximum rate at a wavelength of 430 to 700 nm is obtained. The reflectance at 550 nm was measured. The above measurement was performed five times at five different locations in the plane, and the arithmetic average value thereof was used as the reflectance value.

(6)全光線透過率とその低下率
日本電色工業(株)社製、「濁度計NDH2000」を用いてJIS K7136(2000)に準拠して測定する。同様の測定を面内の異なる任意の場所5箇所で5回測定し、それらの算術平均値を全光線透過率の代表値とし算出する。
また低下率は次式により求める。Tdは(3)耐擦傷性試験後の全光線透過率、Tcは耐擦傷性試験前の全光線透過率として、を表す。
ΔT(%)=(Tc−Td)/Tc×100
(6) Total light transmittance and reduction rate The total light transmittance is measured in accordance with JIS K7136 (2000) using “Durbidity Meter NDH2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. The same measurement is performed five times at five different places in the plane, and the arithmetic average value is calculated as a representative value of the total light transmittance.
The rate of decrease is obtained by the following equation. Td represents (3) the total light transmittance after the scratch resistance test, and Tc represents the total light transmittance before the scratch resistance test.
ΔT (%) = (Tc−Td) / Tc × 100

(7)へイズ
JIS K7136(2000)に準拠して、日本電色工業社製「濁度計NDH2000を用いて測定する。測定を面内の異なる場所5箇所で5回づつ測定し、その算術平均値をヘイズ値とする。
(7) Haze In accordance with JIS K7136 (2000), measurement is performed using “turbidimeter NDH2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. The average value is the haze value.

(8)視認性
市販の液晶テレビ(MVAモード、IPSモードの20V型液晶テレビを用いた。)から液晶表示パネルを取り外し、液晶セルの視認側に設置されている偏光板を剥がし取り、それに変えて実施例又は比較例で得た偏光板を該液晶セルに貼り合せて、液晶表示パネルを組み直して、もとの液晶テレビに設置した。液晶表示素子を晴天屋外において表示して前正面より基材を目視で観察し、以下の三段階で評価した。グレアとは視野内で過度に輝度が高い点や面が見えることによっておきる不快感や、見にくさのことをいう。
○:グレアや画像のぼやけがない。
△:グレアや画像のぼやけが少しあり、気になる。
×:グレアや画像のぼやけが際立ってある。
(8) Visibility Remove the liquid crystal display panel from the commercially available liquid crystal television (MVA mode, IPS mode 20V type liquid crystal television), peel off the polarizing plate installed on the viewing side of the liquid crystal cell, and change it. The polarizing plates obtained in the examples or comparative examples were bonded to the liquid crystal cell, the liquid crystal display panel was reassembled, and the original liquid crystal television was installed. The liquid crystal display element was displayed outdoors on a clear day, and the substrate was visually observed from the front side, and evaluated in the following three stages. Glare refers to discomfort or difficulty in seeing when a point or surface with excessively high brightness is visible in the field of view.
○: No glare or image blur.
Δ: There is a slight glare and blurring of the image, which is worrisome.
X: Glare and image blurring are conspicuous.

ハードコート剤1の調製
五酸化アンチモンの変性アルコールゾル(固形分濃度40%:触媒化成工業社製)100重量部に、UV硬化型ウレタンアクリレート(紫光UV7640B:日本合成化学工業社製)10重量部及び光重合開始剤(イルガキュア-184:チバガイギー社製)0.4重量部、フッ素化アルキル基含有オリゴマー(メガファックF470:大日本インキ化学工業社製)を0.1重量部混合し、UV硬化型のハードコート剤1を得た。
Preparation of hard coating agent 1 Antimony pentoxide modified alcohol sol (solid content 40%: manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd.) 100 parts by weight, UV curable urethane acrylate (purple UV7640B: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 10 parts by weight And 0.4 part by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure-184: manufactured by Ciba Geigy) and 0.1 part by weight of a fluorinated alkyl group-containing oligomer (Megafac F470: manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) are mixed and UV cured. A mold hard coat agent 1 was obtained.

ハードコート剤2の調製
リンをドープした酸化第二錫(PTO)のメチルエチルケトンゾル(固形分濃度30%:触媒化成社製)135重量部に、UV硬化型ウレタンアクリレート(紫光UV7640B:日本合成化学工業社製)10重量部及び光重合開始剤(イルガキュア-184:チバガイギー社製)0.4重量部、フッ素化アルキル基含有オリゴマー(メガファックF470:大日本インキ化学工業社製)を0.1重量部混合し、UV硬化型のハードコート剤2を得た。
Preparation of Hard Coat Agent 2 Phosphorus-doped stannic oxide (PTO) methyl ethyl ketone sol (solid content concentration 30%: manufactured by Catalyst Kasei Co., Ltd.) with 135 parts by weight of UV curable urethane acrylate (purple UV7640B: Nippon Synthetic Chemical Industry) 10 parts by weight) and a photopolymerization initiator (Irgacure-184: manufactured by Ciba Geigy) 0.4 parts by weight, fluorinated alkyl group-containing oligomer (Megafac F470: manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.1 weight Partial mixing was performed to obtain a UV curable hard coat agent 2.

ハードコート剤3の調製
五酸化アンチモンの変性アルコールゾル(固形分濃度40%:触媒化成工業社製)100重量部に、UV硬化型ウレタンアクリレート(紫光UV7640B:日本合成化学工業社製)5重量部及び光重合開始剤(イルガキュア-184:チバガイギー社製)0.5重量部、フッ素化アルキル基含有オリゴマー(メガファックF470:大日本インキ化学工業社製)を0.1重量部混合し、UV硬化型のハードコート剤3を得た。
Preparation of hard coating agent 3 Antimony pentoxide modified alcohol sol (solid content concentration 40%: manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.), UV curable urethane acrylate (purple UV7640B: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 5 parts by weight And 0.5 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure-184: manufactured by Ciba Geigy) and 0.1 part by weight of a fluorinated alkyl group-containing oligomer (Megafac F470: manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) are mixed and UV cured. A mold hard coat agent 3 was obtained.

ハードコート剤4の調製
ハードコート剤1の調製で、フッ素化アルキル基含有オリゴマーを添加しない以外はハードコート剤1と同じ処方にて、ハードコート剤4を得た。
Preparation of Hard Coat Agent 4 Hard Coat Agent 4 was prepared in the same formulation as Hard Coat Agent 1 except that the fluorinated alkyl group-containing oligomer was not added.

ハードコート剤5の調製
ハードコート剤1の調製で、フッ素化アルキル基含有オリゴマーの代わりに、ジメチルシリコーン(TSF451-500:GE東芝シリコーン社製)を用いた以外はハードコート剤1と同じ処方にて、ハードコート剤5を得た。
Preparation of hard coating agent 5 Preparation of hard coating agent 1 was the same as hard coating agent 1 except that dimethyl silicone (TSF451-500: manufactured by GE Toshiba Silicone) was used instead of the fluorinated alkyl group-containing oligomer. Thus, hard coat agent 5 was obtained.

ハードコート剤6の調製
ハードコート剤1の調製で、フッ素化アルキル基含有オリゴマーの代わりに、アルキルポリエーテル(PO/EO)変性シリコーンオイル(TSF4450:GE東芝シリコーン社製)を用いた以外はハードコート剤1と同じ処方にて、ハードコート剤6を得た。
Preparation of hard coating agent 6 Hard coating agent 1 was prepared by using alkyl polyether (PO / EO) modified silicone oil (TSF4450: manufactured by GE Toshiba Silicone) instead of fluorinated alkyl group-containing oligomer. With the same formulation as coating agent 1, hard coating agent 6 was obtained.

ハードコート剤7の調製
五酸化アンチモンの変性アルコールゾル(固形分濃度40%:触媒化成工業社製)250重量部に、UV硬化型ウレタンアクリレート(紫光UV7640B:日本合成化学工業社製)10重量部及び光重合開始剤(イルガキュア-184:チバガイギー社製)0.5重量部、フッ素化アルキル基含有オリゴマー(メガファックF470:大日本インキ化学工業社製)を0.5重量部混合し、UV硬化型のハードコート剤7を得た。
Preparation of hard coating agent 7 Antimony pentoxide modified alcohol sol (solid content concentration 40%: manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.) 250 parts by weight, UV curable urethane acrylate (purple UV7640B: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 10 parts by weight And 0.5 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure-184: manufactured by Ciba Geigy) and 0.5 parts by weight of a fluorinated alkyl group-containing oligomer (Megafac F470: manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) are mixed and UV cured. A mold hard coat agent 7 was obtained.

低屈折率層形成用塗工液1の調製
テトラメトキシシランのオリゴマ−(コルコート社製「メチルシリケート511」)と、メタノールと、水と、0.01Nの塩酸水溶液を重量比22:36:2:2で混合し、これを25℃の高温槽中で2時間撹拌して、重量平均分子量870のシリコーンレジンを得た。
次に中空シリカ粒子として中空シリカイソプロパノール分散ゾル(固形分25%,平均一次粒子径約30nm、外殻厚み約7nm)を前記シリコーンレジンに加え、中空シリカ粒子/シリコーンレジン(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が8:2となるように配合し、その後,全固形分が1%になるようにメタノールで希釈し、低屈折率層形成用塗工液1を調製した。
Preparation of coating solution 1 for forming a low refractive index layer Tetramethoxysilane oligomer ("Methyl silicate 511" manufactured by Colcoat Co., Ltd.), methanol, water, and 0.01N hydrochloric acid aqueous solution were used in a weight ratio of 22: 36: 2. 2 and mixed in a high-temperature bath at 25 ° C. for 2 hours to obtain a silicone resin having a weight average molecular weight of 870.
Next, hollow silica isopropanol dispersion sol (solid content 25%, average primary particle diameter of about 30 nm, outer shell thickness of about 7 nm) is added to the silicone resin as hollow silica particles, and the hollow silica particles / silicone resin (condensation compound equivalent) is solid. The mixture was blended so that the weight ratio was 8: 2 on a minute basis, and then diluted with methanol so that the total solid content was 1% to prepare a coating solution 1 for forming a low refractive index layer.

低屈折率層形成用塗工液2の調製
テトラメトキシシランのオリゴマー(コルコート社製「メチルシリケート511」)と、メタノールを重量比で47:79となるように混合し、A液を得た。次に、水、アンモニア水(アンモニア28重量%)、メタノールを重量比で60:1.2:97.2で混合しB液を得た。A液とB液を重量比16:17で混合し、低屈折率層形成用塗工液2を得た。
Preparation of Coating Solution 2 for Forming Low Refractive Index Layer A tetramethoxysilane oligomer (“Methyl silicate 511” manufactured by Colcoat Co.) and methanol were mixed at a weight ratio of 47:79 to obtain solution A. Next, water, ammonia water (ammonia 28% by weight) and methanol were mixed at a weight ratio of 60: 1.2: 97.2 to obtain a liquid B. A liquid and B liquid were mixed by weight ratio 16:17, and the coating liquid 2 for low refractive index layer formation was obtained.

低屈折率層形成用塗工液3の調製
低屈折率層用塗工液2の調製で、テトラメトキシシランのオリゴマーとメタノールの重量比を47:72にした以外は、低屈折率層形成用塗工液2の同じ処方にて、低屈折率層用塗工液3を得た。
Preparation of coating solution 3 for forming low refractive index layer For forming low refractive index layer, except that the weight ratio of tetramethoxysilane oligomer to methanol was 47:72 in the preparation of coating solution 2 for low refractive index layer. A coating liquid 3 for a low refractive index layer was obtained with the same formulation of the coating liquid 2.

(偏光子Gの作製)
厚さ85μのPVAフィルム(クラレビニロン#7500)をチャックに装着しヨウ素0.2g/l、ヨウ化カリウム60g/lよりなる水溶液中に30℃にて240秒浸漬し、次いでホウ酸70g/l、ヨウ化カリウム30g/lの組成の水溶液に浸漬すると共に、同時に6.0倍に一軸延伸しつつ5分間に渡ってホウ酸処理を行った。最後に室温で24時間乾燥し偏光子Gを得た。偏光度は、99.993%であった。
(Preparation of polarizer G)
A 85 μm thick PVA film (Kurarayvinilon # 7500) was attached to the chuck and immersed in an aqueous solution of 0.2 g / l iodine and 60 g / l potassium iodide at 30 ° C. for 240 seconds, and then boric acid 70 g / l. Then, the sample was immersed in an aqueous solution having a composition of 30 g / l potassium iodide and simultaneously subjected to boric acid treatment for 5 minutes while being uniaxially stretched 6.0 times. Finally, it was dried at room temperature for 24 hours to obtain a polarizer G. The degree of polarization was 99.993%.

実施例1
厚さ100μmのノルボルネン系重合体フィルム(ゼオノアフィルムZF14−100、株式会社オプテス製、以下「基材1A」と言う。)を用い、この両面を高周波発信機(春日電気社製)を用いて、表面張力が0.072N/mになるようにコロナ放電処理を行った。
このフィルムの片面に、ハードコート剤1を、ダイコーターを用いて塗布した。次いで80℃で5分間乾燥させ、紫外線照射(積算光量300mJ/cm)を行い、ハードコート剤1を硬化させ、厚さ5μmのハードコート層を積層した基材1Bを得た。低屈折率層形成用塗工液1を、基材1Bのハードコート層を有する面にマイクログラビアコーターによって塗布して、被膜を120℃で5分間 熱処理して、厚さ100nmの低屈折率層を形成して反射防止フィルム1Cを得た。
反射防止フィルム1Cの基材1A側の面に、アクリル系接着剤溶液を塗布し、偏光子Gを貼り合わせた。次に、反射防止フィルム1Cと貼り合わせた偏光子Gに別の基材1Aを貼り合わせ偏光板1を得た。
Example 1
Using a norbornene polymer film having a thickness of 100 μm (Zeonor film ZF14-100, manufactured by Optes Co., Ltd., hereinafter referred to as “base material 1A”), both sides were used using a high-frequency transmitter (manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd.) Corona discharge treatment was performed so that the surface tension was 0.072 N / m.
The hard coat agent 1 was applied to one side of this film using a die coater. Next, the substrate was dried at 80 ° C. for 5 minutes, irradiated with ultraviolet rays (accumulated light amount 300 mJ / cm 2 ) to cure the hard coat agent 1 and obtain a substrate 1B on which a hard coat layer having a thickness of 5 μm was laminated. The coating liquid 1 for forming a low refractive index layer is applied to the surface of the substrate 1B having a hard coat layer by a micro gravure coater, and the coating is heat-treated at 120 ° C. for 5 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm. Was formed to obtain an antireflection film 1C.
An acrylic adhesive solution was applied to the surface of the antireflection film 1C on the base 1A side, and a polarizer G was bonded thereto. Next, another base material 1A was bonded to the polarizer G bonded to the antireflection film 1C to obtain a polarizing plate 1.

実施例2
基材1Aの代わりに厚さ80μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(KC8UX2M:コニカミノルタ社製)を用い、ハードコート剤1の代わりにハードコート剤2を用いた他は実施例1と同様にして反射防止フィルム2Cおよび偏光板2を得た。
Example 2
The same procedure as in Example 1 was conducted except that a triacetyl cellulose (TAC) film (KC8UX2M: manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm was used instead of the substrate 1A and the hard coating agent 2 was used instead of the hard coating agent 1. Thus, an antireflection film 2C and a polarizing plate 2 were obtained.

実施例3
基材1Aの代わりに厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(A4300:東洋紡社製)を用い、ハードコート剤1の代わりにハードコート剤3を用た他は実施例1と同様にして反射防止フィルム3Cおよび偏光板3を得た。
Example 3
Reflection was carried out in the same manner as in Example 1 except that a polyethylene terephthalate (PET) film (A4300: manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm was used instead of the substrate 1A and the hard coating agent 3 was used instead of the hard coating agent 1. The prevention film 3C and the polarizing plate 3 were obtained.

比較例1
ハードコート剤1の代わりにハードコート剤4を用いた他は実施例1と同様にして反射防止フィルム4Cおよび偏光板4を得た。
Comparative Example 1
An antireflection film 4C and a polarizing plate 4 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard coating agent 4 was used instead of the hard coating agent 1.

比較例2
ハードコート剤1の代わりにハードコート剤5を用いた他は実施例1と同様にして反射防止フィルム5Cおよび偏光板5を得た。
Comparative Example 2
An antireflection film 5C and a polarizing plate 5 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard coat agent 5 was used instead of the hard coat agent 1.

比較例3
ハードコート剤1の代わりにハードコート剤6を用いた他は実施例1と同様にして反射防止フィルム6Cおよび偏光板6を得た。
Comparative Example 3
An antireflection film 6C and a polarizing plate 6 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard coating agent 6 was used instead of the hard coating agent 1.

比較例4
ハードコート剤1の代わりにハードコート剤7を用いた他は実施例1と同様にして反射防止フィルム7Cおよび偏光板7を得た。
Comparative Example 4
An antireflection film 7C and a polarizing plate 7 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard coat agent 7 was used instead of the hard coat agent 1.

比較例5
実施例1で、低屈折率層形成用塗工液1の代わりに低屈折率層形成用塗工液2を用いた他は実施例1と同様にして反射防止フィルム8Cおよび偏光板8を得た。
Comparative Example 5
An antireflection film 8C and a polarizing plate 8 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer forming coating solution 2 was used instead of the low refractive index layer forming coating solution 1 in Example 1. It was.

比較例6
実施例1で、低屈折率層形成用塗工液1の代わりに低屈折率層形成用塗工液3を用いた他は実施例1と同様にして反射防止フィルム9Cおよび偏光板9を得た。
Comparative Example 6
An antireflection film 9C and a polarizing plate 9 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer forming coating solution 3 was used instead of the low refractive index layer forming coating solution 1 in Example 1. It was.

実施例1〜3及び比較例1〜6によって得られた反射防止フィルム(すなわち反射防止積層体)1C〜9Cの評価結果を表1および表2に示した。   The evaluation results of the antireflection films (that is, the antireflection laminates) 1C to 9C obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 6 are shown in Tables 1 and 2.

Figure 0004556664
Figure 0004556664

Figure 0004556664
Figure 0004556664

表1および表2にから、平均表面粗さが30nm以下で屈折率1.55以上のハードコート層を有し、全光線透過率が94%以上で、ヘイズ値が1%未満で、且つ耐擦傷性試験前後の全光線透過率の低下率が3%以下である実施例1〜3の反射防止積層体は、低屈折率層のムラ、はじきが無く、ハードコート層と低屈折率層との密着性が良好であり、反射率とヘイズと密着性と耐擦傷性のバランスに優れており、また視認性も優れていることがわかる。   From Table 1 and Table 2, it has a hard coat layer having an average surface roughness of 30 nm or less and a refractive index of 1.55 or more, a total light transmittance of 94% or more, a haze value of less than 1%, and resistance. The antireflection laminates of Examples 1 to 3 in which the decrease rate of the total light transmittance before and after the scratch test is 3% or less are free from unevenness and repellency of the low refractive index layer, and the hard coat layer and the low refractive index layer It can be seen that the adhesiveness is excellent, the balance of reflectance, haze, adhesiveness and scratch resistance is excellent, and the visibility is also excellent.

Claims (5)

透明樹脂基材上に、ハードコート層及び低屈折率層がこの順に積層されてなり、全光線透過率が94%以上で、ヘイズ値が1%未満で、且つ耐擦傷性試験前後の全光線透過率の低下率が3%以下であり、
該ハードコート層が、活性エネルギー線硬化型樹脂100重量部及び無機酸化物粒子300〜800重量部、及びフッ素化アルキル基含有オリゴマー0.5〜2重量部を含有してなり、ハードコート層の平均表面粗さ(Ra)が30nm以下で且つハードコート層の屈折率が1.55以上であり、
前記低屈折率層がエアロゲルからなり、屈折率が1.25〜1.37である反射防止積層体。
A hard coat layer and a low refractive index layer are laminated in this order on a transparent resin substrate, the total light transmittance is 94% or more, the haze value is less than 1%, and the total light before and after the scratch resistance test. The rate of decrease in transmittance is 3% or less,
The hard coat layer contains 100 parts by weight of an active energy ray-curable resin, 300 to 800 parts by weight of inorganic oxide particles , and 0.5 to 2 parts by weight of a fluorinated alkyl group-containing oligomer . the average surface roughness (Ra) Ri der refractive index of 1.55 or more and a hard coat layer at 30nm or less,
The low refractive index layer comprises an airgel, the refractive index is 1.25 to 1.37 der Ru antireflection stack.
前記透明樹脂基材が、脂環式構造含有重合体樹脂、セルロース系重合体樹脂及びポリエステル系重合体樹脂からなる群から選ばれる少なくとも一種の樹脂からなる請求項1に記載の反射防止積層体。  The antireflection laminate according to claim 1, wherein the transparent resin substrate comprises at least one resin selected from the group consisting of an alicyclic structure-containing polymer resin, a cellulose polymer resin, and a polyester polymer resin. 前記金属酸化粒子が、五酸化アンチモン、又はリンがドープされた酸化スズである請求項1又は2に記載の反射防止積層体。  The antireflection laminate according to claim 1 or 2, wherein the metal oxide particles are antimony pentoxide or tin oxide doped with phosphorus. 請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止積層体の基材側に、偏光子が積層されてなる反射防止機能付偏光板。  A polarizing plate with an antireflection function, wherein a polarizer is laminated on the base material side of the antireflection laminate according to claim 1. 請求項4に記載の反射防止機能付偏光板を備える液晶表示装置。  A liquid crystal display device comprising the polarizing plate with an antireflection function according to claim 4.
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