JP2013109169A - Antireflection member - Google Patents

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Yasushi Hanada
泰 花田
Yasuhisa Kishigami
泰久 岸上
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection member for reducing reflectance in a visible light region while securing translucency required for the antireflection member.SOLUTION: In an antireflection member where a hard coat layer, and a low refractive index layer are arranged on a transparent support in this order, the hard coat layer contains a light absorbing material that absorbs the light within 400-800 nm wavelength. The hard coat layer containing the light absorbing material offers light absorptivity within 400-800 nm wavelength and also 90% or more of total light transmittance.

Description

本発明は、反射防止部材に関するものであり、さらに詳しくは、ディスプレイ(CRTディスプレイ、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、ELディスプレイ等)の表示画面の表面に適用される反射防止部材に関する。   The present invention relates to an antireflection member, and more particularly to an antireflection member applied to the surface of a display screen of a display (CRT display, plasma display, liquid crystal display, projection display, EL display, etc.).

従来、反射防止機能を有するフィルム状または板状の反射防止部材は、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、液晶表示装置(LCD)、プロジェクションディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ(ELD)等の表示装置、タッチパネル、光学レンズ、眼鏡レンズ、フォトリソグラフィープロセスにおける反射防止処理、太陽電池パネル表面の反射防止処理等の様々な分野で利用されている。   Conventionally, a film-like or plate-like antireflection member having an antireflection function is a cathode ray tube display (CRT), a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display (LCD), a projection display, an electroluminescence display (ELD). Are used in various fields such as an anti-reflection treatment in a photolithography process, an anti-reflection treatment on the surface of a solar cell panel, and the like.

この反射防止部材は、フィルム状または板状の透明支持体上に、ハードコート層、低屈折率層をこの順に設けたものが主に用いられている(特許文献1、2参照)。   The antireflection member is mainly used in which a hard coat layer and a low refractive index layer are provided in this order on a film-like or plate-like transparent support (see Patent Documents 1 and 2).

透明支持体としてはPETフィルム等が主に用いられ、その上に設けられるハードコート層は、透明支持体よりも硬度の高い被膜であって、透明支持体の表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止するものである。また、透明支持体の屈曲による低屈折率層のクラック発生を抑制して反射防止部材の機械的強度を改善するものである。そしてハードコート層の上に透明支持体およびハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層を設けることで、反射防止性能を付与している。   A PET film or the like is mainly used as the transparent support, and the hard coat layer provided thereon is a coating having a higher hardness than the transparent support, and improves the hardness of the surface of the transparent support, such as a pencil. It prevents scratches caused by scratching with a heavy load. Further, it suppresses the generation of cracks in the low refractive index layer due to the bending of the transparent support, thereby improving the mechanical strength of the antireflection member. And the antireflective performance is provided by providing a low refractive index layer whose refractive index is lower than a transparent support body and a hard-coat layer on a hard-coat layer.

特開2009−31769号公報JP 2009-31769 A 特開2004−258267号公報JP 2004-258267 A

しかしながら、従来の反射防止部材は、透明支持体の裏面や、あるいはガラス板等の基板に貼り合わせた場合には基板の裏面からの反射光の寄与が大きく、可視光領域での反射率を高める要因となっていた。また、一般的な1層〜3層を積層したタイプの反射防止部材においては、反射率には大きな波長依存性があり、そのために透過色が着色し、例えば被着体のディスプレイの色再現性を損なう要因となっていた。   However, when the conventional antireflection member is bonded to the back surface of the transparent support or a substrate such as a glass plate, the contribution of reflected light from the back surface of the substrate is large, and the reflectance in the visible light region is increased. It was a factor. Further, in the general antireflection member in which one to three layers are laminated, the reflectance has a large wavelength dependency, and therefore, the transmitted color is colored, for example, the color reproducibility of an adherend display. It was a factor that damaged.

そして反射率の低減に関しては従来より各種の検討がなされてきたものの、反射防止部材は高い透明性が要求されることが多く、そのため、光を吸収することで反射率を低減するという点に着目したアプローチは未だなされていない。   Although various studies have been made on the reduction of reflectance, antireflection members are often required to have high transparency. Therefore, attention is focused on reducing the reflectance by absorbing light. This approach has not been made yet.

また、反射防止部材には、反射防止性能以外にも帯電防止性能、防指紋性等の各種の性能が要求される場合もあり、これらの性能も同時に満足することができる技術が求められている。   In addition to the antireflection performance, the antireflection member may require various performances such as antistatic performance and anti-fingerprint properties, and a technology that can satisfy these performances simultaneously is required. .

本発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、反射防止部材に必要な透明性を確保しつつ、可視光領域での反射率を低減することができる反射防止部材を提供することを課題としている。   The present invention has been made in view of the circumstances as described above, and provides an antireflection member capable of reducing the reflectance in the visible light region while ensuring the transparency required for the antireflection member. It is an issue.

上記の課題を解決するために、本発明の反射防止部材は、透明支持体上に、ハードコート層、低屈折率層をこの順に設けた反射防止部材において、前記ハードコート層に、波長400〜800nmの範囲内の光を吸収する光吸収性材料を含有し、この光吸収性材料を含有する前記ハードコート層により波長400〜800nmの範囲内における光吸収性を有し、全光線透過率が90%以上であることを特徴としている。   In order to solve the above-described problems, the antireflection member of the present invention is an antireflection member in which a hard coat layer and a low refractive index layer are provided in this order on a transparent support. It contains a light-absorbing material that absorbs light in the range of 800 nm, has a light-absorbing property in the wavelength range of 400 to 800 nm by the hard coat layer containing this light-absorbing material, and has a total light transmittance. It is characterized by being 90% or more.

この反射防止部材において、L*a*b*表色系における透過色度が−1.0≦a*≦0かつ0≦b*≦1.0であることが好ましい。   In this antireflection member, the transmission chromaticity in the L * a * b * color system is preferably −1.0 ≦ a * ≦ 0 and 0 ≦ b * ≦ 1.0.

この反射防止部材において、平均視感反射率が1.0%以下であることが好ましい。   In this antireflection member, the average luminous reflectance is preferably 1.0% or less.

この反射防止部材において、ハードコート層の屈折率が1.50〜1.90であることが好ましい。   In this antireflection member, the hard coat layer preferably has a refractive index of 1.50 to 1.90.

この反射防止部材において、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、およびアンチモンから選ばれる少なくとも1種の酸化物を高屈折率粒子としてハードコート層に含有することが好ましい。   In this antireflection member, it is preferable that at least one oxide selected from titanium, aluminum, cerium, yttrium, zirconium, niobium, and antimony is contained in the hard coat layer as high refractive index particles.

この反射防止部材において、ハードコート層が帯電防止性を有することが好ましい。   In this antireflection member, the hard coat layer preferably has antistatic properties.

この反射防止部材において、インジウム、亜鉛、錫、およびアンチモンから選ばれる少なくとも1種の酸化物を導電性ナノ粒子として前記ハードコート層に含有することが好ましい。   In this antireflection member, it is preferable that at least one oxide selected from indium, zinc, tin, and antimony is contained as conductive nanoparticles in the hard coat layer.

この反射防止部材において、ハードコート層のシート抵抗が1014Ω/□以下であることが好ましい。 In this antireflection member, the sheet resistance of the hard coat layer is preferably 10 14 Ω / □ or less.

この反射防止部材において、低屈折率層の屈折率が1.30〜1.45であることが好ましい。   In this antireflection member, the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.30 to 1.45.

この反射防止部材において、低屈折率層の表面に防汚層を有することが好ましい。   In this antireflection member, it is preferable to have an antifouling layer on the surface of the low refractive index layer.

本発明によれば、反射防止部材に必要な透明性を確保しつつ、可視光領域での反射率を低減することができる。   According to the present invention, the reflectance in the visible light region can be reduced while ensuring the transparency required for the antireflection member.

図1は、本発明の反射防止部材の一例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the antireflection member of the present invention. 図2は、本発明の反射防止部材の別の例を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the antireflection member of the present invention.

以下に、本発明について詳細に説明する。   The present invention is described in detail below.

図1は、本発明の反射防止部材の一例を示す断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the antireflection member of the present invention.

この反射防止部材1は、透明支持体2として透明樹脂フィルムまたは透明樹脂板を用い、この透明支持体2の表面にハードコート層3、低屈折率層4をこの順に形成したものである。   In this antireflection member 1, a transparent resin film or a transparent resin plate is used as the transparent support 2, and a hard coat layer 3 and a low refractive index layer 4 are formed on the surface of the transparent support 2 in this order.

なお、図1に示す反射防止部材1では、透明支持体2の片面にハードコート層3を介して低屈折率層4を形成するようにしているが、透明支持体2の両面にハードコート層3を介して低屈折率層4を形成するようにしてもよい。   In the antireflection member 1 shown in FIG. 1, the low refractive index layer 4 is formed on one side of the transparent support 2 via the hard coat layer 3, but the hard coat layer is formed on both sides of the transparent support 2. The low refractive index layer 4 may be formed via 3.

本発明では、ハードコート層3に、波長400〜800nmの範囲内の光を吸収する光吸収性材料を含有し、光吸収性材料を含有する層により波長400〜800nmの範囲内における光吸収性を付与したものである。そして全光線透過率は90%以上であり、好ましくは92%以上である。   In the present invention, the hard coat layer 3 contains a light-absorbing material that absorbs light in the wavelength range of 400 to 800 nm, and the layer containing the light-absorbing material absorbs light in the wavelength range of 400 to 800 nm. Is given. The total light transmittance is 90% or more, preferably 92% or more.

このようにして光吸収性を付与することにより、本発明では、反射防止部材1の平均視感反射率が好ましくは1.0%以下とされ、より好ましくは0.7%以下とされる。   By imparting light absorption in this manner, in the present invention, the average luminous reflectance of the antireflection member 1 is preferably 1.0% or less, and more preferably 0.7% or less.

そして、ディスプレイ等の用途においても光取り出し効率や消費電力等を損なうことのない反射防止部材1とすることができる。   And it can be set as the reflection preventing member 1 which does not impair light extraction efficiency, power consumption, etc. also in uses, such as a display.

本発明の反射防止部材1において、L*a*b*表色系における透過色度は−1.0≦a*≦0かつ0≦b*≦1.0であることが好ましい。これにより、反射防止部材に必要な透明性と低反射性を確保しつつ、色調をニュートラルにすることができる。   In the antireflection member 1 of the present invention, the transmission chromaticity in the L * a * b * color system is preferably −1.0 ≦ a * ≦ 0 and 0 ≦ b * ≦ 1.0. Thereby, the color tone can be neutralized while ensuring the transparency and low reflectivity necessary for the antireflection member.

本発明において、透明支持体2としては、種々の有機高分子からなる透明樹脂フィルムまたは透明樹脂板を挙げることができる。通常、光学部材として用いられる有機高分子は、透明性、屈折率、ヘイズ等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性等の諸物性の点から、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂等のポリエステル樹脂、ナイロン−6、ナイロン−66等のポリアミド樹脂、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、あるいはこれらの有機高分子の共重合体等であり、これらの有機高分子等をフィルム状または板状に成形することによって、透明樹脂フィルムまたは透明樹脂板を製造することができる。   In the present invention, examples of the transparent support 2 include transparent resin films or transparent resin plates made of various organic polymers. Usually, organic polymers used as optical members are made of polyethylene resin, polypropylene resin, etc. from the viewpoints of optical properties such as transparency, refractive index, haze, and other physical properties such as impact resistance, heat resistance, and durability. Polyester resin such as polyolefin resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, polyamide resin such as nylon-6 and nylon-66, cellulose resin such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, cellophane, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, polyimide Resin, polyvinyl alcohol resin, ethylene vinyl alcohol resin, acrylic resin, cycloolefin resin, or a copolymer of these organic polymers, etc., by molding these organic polymers or the like into a film or plate, Transparent resin film It can be produced Lum or transparent resin plate.

また、上記の有機高分子等に、公知の添加剤、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、酸化防止剤、難燃剤等を含有させたものを用いて透明支持体2を製造してもよい。   Further, the transparent support 2 is prepared by using a known additive such as an antistatic agent, an ultraviolet absorber, a plasticizer, a lubricant, an antioxidant, a flame retardant and the like in the above organic polymer. It may be manufactured.

透明支持体2は、単層のものであっても、あるいは複数の有機高分子を積層した多層のものであってもよい。透明支持体2の厚みは、特に限定されないが、50〜200μmであることが好ましい。   The transparent support 2 may be a single layer or a multilayer having a plurality of organic polymers laminated. Although the thickness of the transparent support body 2 is not specifically limited, It is preferable that it is 50-200 micrometers.

本発明において、ハードコート層3は、透明支持体2よりも硬度の高い被膜であって、透明支持体2の表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、透明支持体2の屈曲による低屈折率層4のクラック発生を抑制して反射防止部材1の機械的強度を改善するものである。   In the present invention, the hard coat layer 3 is a film having a hardness higher than that of the transparent support 2, which improves the hardness of the surface of the transparent support 2, prevents scratches caused by scratching with a load such as a pencil, The occurrence of cracks in the low refractive index layer 4 due to the bending of the transparent support 2 is suppressed, and the mechanical strength of the antireflection member 1 is improved.

ハードコート層3の鉛筆硬度は好ましくはH以上、より好ましくは2H以上であり、ハードコート層3の硬度を向上させるためには、反応性硬化型樹脂、すなわち、熱硬化型樹脂と電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方をハードコート材料(ハードコート層形成用組成物)として用いてハードコート層3を形成するのが好ましい。   The pencil hardness of the hard coat layer 3 is preferably H or higher, more preferably 2H or higher. In order to improve the hardness of the hard coat layer 3, a reactive curable resin, that is, a thermosetting resin and an ionizing radiation curable resin are used. The hard coat layer 3 is preferably formed using at least one of the mold resins as a hard coat material (a composition for forming a hard coat layer).

熱硬化型樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができる。   As the thermosetting resin, for example, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, silicon resin, polysiloxane resin, or the like can be used.

これらの熱硬化型樹脂に、必要に応じて、例えば、架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤等を加えて用いることもできる。   For example, a crosslinking agent, a polymerization initiator, a curing agent, a curing accelerator, and a solvent can be added to these thermosetting resins as necessary.

熱硬化型樹脂を用いてハードコート層3を形成する場合は、熱硬化型樹脂を反射防止部材1の表面に塗布した後、加熱により乾燥硬化させるのが好ましい。   When the hard coat layer 3 is formed using a thermosetting resin, it is preferable that the thermosetting resin is applied to the surface of the antireflection member 1 and then dried and cured by heating.

電離放射線硬化型樹脂としては、アクリレート系の官能基を有するものが好ましく用いられる。アクリレート系の官能基を有する電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の(メタ)アクリレート等のオリゴマー、プレポリマーを用いることができる。   As the ionizing radiation curable resin, those having an acrylate functional group are preferably used. Examples of ionizing radiation curable resins having an acrylate functional group include relatively low molecular weight polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyenes. Resins, oligomers such as (meth) acrylates of polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols, and prepolymers can be used.

また、これらのオリゴマー、プレポリマーに、反応性希釈剤としてエチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、または、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の多官能モノマーを配合したものを用いることができる。   In addition, these oligomers and prepolymers may be mixed with monofunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, and N-vinylpyrrolidone as reactive diluents, or trimethylolpropane tri (meta ) Acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di What mix | blended polyfunctional monomers, such as (meth) acrylate and neopentyl glycol di (meth) acrylate, can be used.

さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂とするには、光重合開始剤を配合することが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類等が挙げられる。   Furthermore, in order to make the ionizing radiation curable resin into an ultraviolet curable resin, it is preferable to add a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, thioxanthones, and the like.

また、光重合開始剤とともに光増感剤を用いてもよい。光増感剤としては、例えば、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、チオキサントン等が挙げられる。光重合反応する紫外線硬化型樹脂を用いてハードコート層3を形成する場合は、例えば、紫外線硬化型樹脂を透明支持体2の表面に塗布し乾燥した後、紫外線照射により硬化させることができる。   Moreover, you may use a photosensitizer with a photoinitiator. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone. When the hard coat layer 3 is formed using an ultraviolet curable resin that undergoes a photopolymerization reaction, for example, the ultraviolet curable resin can be applied to the surface of the transparent support 2 and dried, and then cured by ultraviolet irradiation.

ハードコート層3は、透明支持体2と屈折率が近似していることが好ましく、反射率低減等の点からは、ハードコート層3の屈折率は実用的には1.50〜1.90(ポリエステルフィルム1と屈折率と同等)が好ましい。   The hard coat layer 3 preferably has a refractive index close to that of the transparent support 2, and from the standpoint of reducing the reflectivity, the refractive index of the hard coat layer 3 is practically 1.50 to 1.90. (Equivalent to the refractive index of the polyester film 1) is preferable.

ハードコート層3の膜厚は、1〜2μm以上あれば十分な強度が得られる。   If the film thickness of the hard coat layer 3 is 1 to 2 μm or more, sufficient strength can be obtained.

また、ハードコート層3の屈折率を増大させて反射防止性能を高めるために、ハードコート層材料中に高屈折率粒子、すなわち高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子を添加することができる。高屈折率粒子としては、例えば、屈折率が1.6以上で粒径が0.5〜200nmのものを用いることができる。反射防止部材1の低反射率化の点からは、高屈折率粒子の配合量をハードコート層3に対して5〜70体積%となるように調整することが好ましい。   Further, in order to increase the refractive index of the hard coat layer 3 and improve the antireflection performance, it is possible to add high refractive index particles, that is, ultrafine particles of a metal or metal oxide having a high refractive index to the hard coat layer material. it can. As the high refractive index particles, for example, particles having a refractive index of 1.6 or more and a particle size of 0.5 to 200 nm can be used. From the viewpoint of reducing the reflectance of the antireflection member 1, it is preferable to adjust the blending amount of the high refractive index particles to 5 to 70% by volume with respect to the hard coat layer 3.

上記の高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子としては、例えば、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、およびアンチモンから選ばれる少なくとも1種の酸化物の粒子を用いることができる。具体的には、例えば、ZnO(屈折率1.90)、TiO(屈折率2.3〜2.7)、CeO(屈折率1.95)、Sb(屈折率1.71)、SnO、ITO(屈折率1.95)、Y(屈折率1.87)、La(屈折率1.95)、ZrO(屈折率2.05)、Al(屈折率1.63)等の微粉末を用いることができる。 As the ultrafine particles of a metal or metal oxide having a high refractive index, for example, particles of at least one oxide selected from titanium, aluminum, cerium, yttrium, zirconium, niobium, and antimony can be used. Specifically, for example, ZnO (refractive index 1.90), TiO 2 (refractive index 2.3 to 2.7), CeO 2 (refractive index 1.95), Sb 2 O 5 (refractive index 1.71). ), SnO 2 , ITO (refractive index 1.95), Y 2 O 3 (refractive index 1.87), La 2 O 3 (refractive index 1.95), ZrO 2 (refractive index 2.05), Al 2 Fine powders such as O 3 (refractive index 1.63) can be used.

ハードコート層3には、帯電防止性を付与し、反射防止部材1としての帯電防止性や埃付着防止性を確保することが好ましい。ハードコート層3に帯電防止性を付与するために、例えば、ハードコート層3に導電性ナノ粒子を含有させることができる。   The hard coat layer 3 is preferably imparted with antistatic properties to ensure antistatic properties and anti-dust adhesion properties as the antireflection member 1. In order to impart antistatic properties to the hard coat layer 3, for example, the hard coat layer 3 can contain conductive nanoparticles.

導電性ナノ粒子としては、例えば、導電性の金属や金属酸化物で粒径が0.5〜200nmの超微粒子を用いることができる。具体的には、例えば、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる少なくとも1種の酸化物の粒子を用いることができ、好ましくは、酸化インジウム(ITO)、酸化錫(SnO)、アンチモン/錫酸化物(ATO)、鉛/チタン酸化物(PTO)、アンチモン酸化物(Sb)の超微粒子が用いられる。 As the conductive nanoparticles, for example, ultrafine particles having a particle size of 0.5 to 200 nm made of conductive metal or metal oxide can be used. Specifically, for example, particles of at least one oxide selected from indium, zinc, tin, and antimony can be used. Preferably, indium oxide (ITO), tin oxide (SnO 2 ), antimony / tin are used. Ultrafine particles of oxide (ATO), lead / titanium oxide (PTO), and antimony oxide (Sb 2 O 5 ) are used.

ハードコート層3の帯電防止性を得る点からは、そのシート抵抗が1014Ω/□以下であることが好ましい。なお、ハードコート層3のシート抵抗は小さいほど帯電防止性が向上するので、特に下限は限定されないが、シート抵抗の低減には限界があるため、ハードコート層3のシート抵抗は実質的に106Ω/□以上となる。また、ハードコート層3のシート抵抗値は導電性ナノ粒子の配合量等によって調整することができ、例えば、導電性ナノ粒子の配合量をハードコート層3に対して5〜70質量%となるように調整することができる。 From the viewpoint of obtaining the antistatic property of the hard coat layer 3, the sheet resistance is preferably 10 14 Ω / □ or less. Note that the lower the sheet resistance of the hard coat layer 3, the more the antistatic property is improved. Therefore, the lower limit is not particularly limited, but the sheet resistance of the hard coat layer 3 is substantially 10 because there is a limit in reducing the sheet resistance. 6 Ω / □ or more. Further, the sheet resistance value of the hard coat layer 3 can be adjusted by the blending amount of the conductive nanoparticles and the like, for example, the blending amount of the conductive nanoparticles is 5 to 70% by mass with respect to the hard coat layer 3. Can be adjusted as follows.

ハードコート層3の表面には、低屈折率層4を形成する前に、表面処理を行うことが好ましい。このような表面処理としては、例えば、プラズマ放電処理、コロナ処理、フレーム処理等の物理的表面処理や、カップリング剤、酸、アルカリ等による化学的表面処理等を挙げることができる。このような表面処理を行うことにより、ハードコート層3と低屈折率層4とのぬれ性、密着性を向上させることができる。   The surface of the hard coat layer 3 is preferably subjected to a surface treatment before the low refractive index layer 4 is formed. Examples of such surface treatment include physical surface treatment such as plasma discharge treatment, corona treatment and flame treatment, and chemical surface treatment with a coupling agent, acid, alkali and the like. By performing such a surface treatment, wettability and adhesion between the hard coat layer 3 and the low refractive index layer 4 can be improved.

ハードコート層3に配合される光吸収性材料は、ハードコート層3の材質等も考慮すると、シアニン系色素、フタロシアニン系色素等が好ましい。例えば、シアニン系色素の光吸収波長の範囲は400〜600nm、フタロシアニン系色素の光吸収波長の範囲は600〜800nmである。   The light-absorbing material blended in the hard coat layer 3 is preferably a cyanine dye or a phthalocyanine dye in consideration of the material of the hard coat layer 3 or the like. For example, the light absorption wavelength range of the cyanine dye is 400 to 600 nm, and the light absorption wavelength range of the phthalocyanine dye is 600 to 800 nm.

これらの配合量は特に限定されないが、例えば、シアニン系色素については株式会社アデカ製GPX301をハードコート層3の全量に対して0.005〜0.01質量%、フタロシアニン系色素については、株式会社日本触媒製TX−EX−609Kをハードコート層3の全量に対して0.002〜0.006質量%配合することができる。   Although these compounding quantities are not specifically limited, For example, about cyanine pigment | dye, Adeka GPX301 is 0.005-0.01 mass% with respect to the whole quantity of the hard-coat layer 3, About phthalocyanine pigment | dye, Nippon Catalysts TX-EX-609K can be blended in an amount of 0.002 to 0.006% by mass with respect to the total amount of the hard coat layer 3.

本発明において、低屈折率層4は、透明支持体2およびハードコート層3よりも屈折率の小さい層であって、ハードコート層3の表面に低屈折率コーティング剤を塗工するなどして形成することができる。   In the present invention, the low refractive index layer 4 is a layer having a smaller refractive index than the transparent support 2 and the hard coat layer 3, and a low refractive index coating agent is applied to the surface of the hard coat layer 3. Can be formed.

この低屈折率層4は、屈折率が好ましくは1.30〜1.45であり、より好ましくは1.30〜1.40である。低屈折率層4の厚みdは、低屈折率層4の屈折率をn、入射する光の波長をλとすると、nd=λ/4であることが好ましい。具体的には、低屈折率層4の厚みは、好ましくは50〜200nmであり、より好ましくは80〜120nmである。   The low refractive index layer 4 preferably has a refractive index of 1.30 to 1.45, more preferably 1.30 to 1.40. The thickness d of the low refractive index layer 4 is preferably nd = λ / 4, where n is the refractive index of the low refractive index layer 4 and λ is the wavelength of incident light. Specifically, the thickness of the low refractive index layer 4 is preferably 50 to 200 nm, and more preferably 80 to 120 nm.

低屈折率コーティング剤は、バインダー材料自身が低屈折率である場合はバインダー材料単体で調製することができるが、バインダー材料に低屈折率粒子を配合して調製することもできる。   When the binder material itself has a low refractive index, the low refractive index coating agent can be prepared as a single binder material, but it can also be prepared by blending low refractive index particles in the binder material.

バインダー材料としては、例えば、珪素アルコキシドの加水分解物、あるいは飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマー(UV硬化型樹脂、熱硬化型樹脂)等を用いることができる。また、これらの分子内にフッ素原子を含む構成単位を有するものを用いることもできる。   As the binder material, for example, a hydrolyzate of silicon alkoxide, or a polymer (UV curable resin, thermosetting resin) having a saturated hydrocarbon or polyether as a main chain can be used. Moreover, what has a structural unit containing a fluorine atom in these molecules can also be used.

バインダー材料の珪素アルコキシドとしては、例えば、RmSi(OR´)nで表される化合物を用いることができる。ここでR、R´は炭素数1〜10のアルキル基を示し、mおよびnはそれぞれ整数を示し、m+nは4である。 As the silicon alkoxide of the binder material, for example, a compound represented by R m Si (OR ′) n can be used. Here, R and R ′ represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, m and n each represents an integer, and m + n is 4.

このような化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができ、また、これらを基本骨格とするオリゴマーやポリマー、あるいはこれらの少なくとも2種以上の共重合体を用いることができる。   Examples of such compounds include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, and tetra-tert-butoxy. Silane, tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxy Silane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethyl Roxy silane, dimethyl butoxy silane, methyl dimethoxy silane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane, etc. can be used, and oligomers and polymers having these as a basic skeleton, or copolymers of at least two of these Can be used.

珪素アルコキシドのバインダー材料は、上記の珪素アルコキシドを適当な溶媒中に溶解し加水分解して調製することができる。   The silicon alkoxide binder material can be prepared by dissolving the above silicon alkoxide in a suitable solvent and hydrolyzing it.

溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、を用いることができる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the solvent include alcohols such as isopropyl alcohol, methanol and ethanol, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and halogenated carbons. Hydrogen can be used. These may be used alone or in combination of two or more.

珪素アルコキシドは、上記の溶媒中に、珪素アルコキシドが100%加水分解および縮合したとして生じるSiO換算で好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは0.1〜10質量%になるように溶解する。珪素アルコキシドの濃度が低過ぎると、形成されるゾル膜が所望の特性を十分に発揮できない場合があり、一方、珪素アルコキシドの濃度が高過ぎると、透明で均質な膜の形成が困難となる場合がある。 The silicon alkoxide is dissolved in the above solvent so that the silicon alkoxide is 100% hydrolyzed and condensed, and is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.1 to 10% by mass in terms of SiO 2 generated. To do. When the silicon alkoxide concentration is too low, the formed sol film may not exhibit the desired characteristics sufficiently. On the other hand, when the silicon alkoxide concentration is too high, it becomes difficult to form a transparent and homogeneous film. There is.

この溶液に加水分解に必要な量以上の水を加え、好ましくは15〜35℃、より好ましくは22〜28℃の温度で、好ましくは0.5〜10時間、より好ましくは2〜5時間撹拌を行う。加水分解には触媒を用いることが好ましく、触媒としては、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸等の酸を用いることができる。これらの酸を好ましくは0.001〜20.0N、より好ましくは0.005〜5.0Nの水溶液として加え、水溶液中の水分を加水分解用の水分とすることができる。このようにして得られたSiOゾルは、無色透明な液体であり、ポットライフが約1ヶ月の安定な溶液であり、基材に対して濡れ性が良く、塗布適性に優れている。 Water more than the amount necessary for hydrolysis is added to this solution, and preferably stirred at a temperature of 15 to 35 ° C., more preferably 22 to 28 ° C., preferably 0.5 to 10 hours, more preferably 2 to 5 hours. I do. A catalyst is preferably used for the hydrolysis, and as the catalyst, for example, an acid such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid or the like can be used. These acids are preferably added as an aqueous solution of 0.001 to 20.0 N, more preferably 0.005 to 5.0 N, and water in the aqueous solution can be used as water for hydrolysis. The SiO 2 sol thus obtained is a colorless and transparent liquid, is a stable solution having a pot life of about 1 month, has good wettability with respect to the substrate, and is excellent in coating suitability.

この珪素アルコキシドの加水分解物には、反応性有機珪素化合物またはその部分加水分解物を添加してもよい。このような反応性有機珪素化合物としては、熱または電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量5000以下の有機珪素化合物を用いることができる。   A reactive organosilicon compound or a partial hydrolyzate thereof may be added to the hydrolyzate of silicon alkoxide. As such a reactive organosilicon compound, a plurality of groups that react and crosslink by heat or ionizing radiation, for example, an organosilicon compound having a molecular weight of 5000 or less having a polymerizable double bond group can be used.

具体的には、例えば、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、あるいはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、ビニル官能性ポリシロキサン等を用いることができる。   Specifically, for example, one-end vinyl functional polysilane, both-end vinyl functional polysilane, one-end vinyl-functional polysiloxane, both-end vinyl-functional polysiloxane, or a vinyl-functional polysilane obtained by reacting these compounds, vinyl A functional polysiloxane or the like can be used.

バインダー材料の飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、架橋したものが好ましい。   The polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as the main chain as the binder material is preferably crosslinked.

飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得られたものが好ましい。また、架橋しているバインダー材料のポリマーを得るためには、2以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。   The polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. Moreover, in order to obtain the polymer of the binder material bridge | crosslinked, it is preferable to use the monomer which has two or more ethylenically unsaturated groups.

2以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとして、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート等の多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル;1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン等のビニルベンゼンおよびその誘導体;ジビニルスルホン等のビニルスルホン;メチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド、メタクリルアミド等を用いることができる。   As monomers having two or more ethylenically unsaturated groups, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, tri Methylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexane Esters of polyhydric alcohols such as tetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate and (meth) acrylic acid; 1,4-divinylbenzene, 4-biphenyl Le benzoic acid-2-acryloyl ethyl ester, 1,4-divinylbenzene and derivatives thereof divinyl cyclohexanone; divinyl sulfone vinyl sulfone; methylenebisacrylamide acrylamide can be used, such as methacrylamide.

2以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりに、あるいはそれに加えて、架橋性官能基の反応により架橋構造をバインダー材料のポリマーに導入してもよい。このような架橋性官能基としては、例えば、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基、活性メチレン基等が挙げられる。また、ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル、およびウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして用いることができる。なお、ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。   Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the polymer of the binder material by the reaction of a crosslinkable functional group. Examples of such crosslinkable functional groups include isocyanate groups, epoxy groups, aziridine groups, oxazoline groups, aldehyde groups, carbonyl groups, hydrazine groups, carboxyl groups, methylol groups, and active methylene groups. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester, and urethane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. In addition, you may use the functional group which shows crosslinkability as a result of a decomposition reaction like a block isocyanate group.

ポリエーテルを主鎖として有するポリマーとしては、例えば、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成したものを用いることができる。   As the polymer having a polyether as a main chain, for example, a polymer synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound can be used.

バインダー材料のポリマーの重合反応および架橋反応に用いる重合開始剤としては、例えば、熱重合開始剤や光重合開始剤を用いることができる。   As a polymerization initiator used for the polymerization reaction and crosslinking reaction of the polymer of the binder material, for example, a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator can be used.

光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類等を用いることができる。   Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds , Fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums can be used.

さらに低屈折率層4に防汚性を付与するために、バインダー材料の一部を撥水、撥油性材料に置き換えても良い。撥水、撥油性材料は一般にワックス系の材料等が挙げられるが、特に、含フッ素化合物を含有することが望ましい。含フッ素化合物を配合することで、低屈折率層4の表面が汚れから保護され、また付着した汚れ、指紋等の除去性も向上する。さらに表面の摩擦抵抗を低減でき、耐摩耗性向上の効果も期待できる。   Further, in order to impart antifouling property to the low refractive index layer 4, a part of the binder material may be replaced with a water-repellent or oil-repellent material. The water- and oil-repellent materials generally include wax-based materials, and it is particularly desirable to contain a fluorine-containing compound. By blending the fluorine-containing compound, the surface of the low refractive index layer 4 is protected from dirt, and the removal of attached dirt, fingerprints and the like is improved. Furthermore, the frictional resistance of the surface can be reduced, and the effect of improving wear resistance can be expected.

上記のバインダー材料に配合される低屈折率粒子は、屈折率が好ましくは1.5以下、より好ましくは1.20〜1.45である。   The low refractive index particles blended in the binder material preferably have a refractive index of 1.5 or less, more preferably 1.20 to 1.45.

低屈折率粒子の平均粒子径は0.5〜200nmであることが好ましい。この平均粒径が200nmよりも大きくなると、得られる低屈折率層4においてレイリー散乱によって光が乱反射され、低屈折率層4が白っぽく見え、そのヘイズ値が増大することがある。0.5nm以下であると、低屈折率粒子の分散性が低下し、低屈折率コーティング剤の液中で凝集を生じてしまう。   The average particle size of the low refractive index particles is preferably 0.5 to 200 nm. When the average particle size is larger than 200 nm, light is irregularly reflected by Rayleigh scattering in the obtained low refractive index layer 4, and the low refractive index layer 4 looks whitish and its haze value may increase. When the thickness is 0.5 nm or less, the dispersibility of the low refractive index particles decreases, and aggregation occurs in the liquid of the low refractive index coating agent.

また、低屈折率粒子の添加量は、低屈折率化や表面硬度、耐摩耗性等も考慮すると、低屈折率層3の全量に対して20〜99体積%であることが好ましい。   Further, the addition amount of the low refractive index particles is preferably 20 to 99% by volume with respect to the total amount of the low refractive index layer 3 in consideration of lowering the refractive index, surface hardness, wear resistance and the like.

低屈折率粒子としては、例えば、シリカ微粒子、中空シリカ微粒子等の中空粒子、あるいは、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム等のフッ化物微粒子を用いることができる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの低屈折率粒子は、バインダー材料の樹脂等との相溶性を付与するための表面処理を施すことができる。   As the low refractive index particles, for example, hollow particles such as silica fine particles and hollow silica fine particles, or fluoride fine particles such as magnesium fluoride, lithium fluoride, aluminum fluoride, calcium fluoride, and sodium fluoride can be used. it can. These may be used alone or in combination of two or more. These low refractive index particles can be subjected to a surface treatment for imparting compatibility with a resin or the like of the binder material.

なお、中空粒子は、外殻によって包囲された空洞を有する微粒子である。中空粒子自体の屈折率は1.20〜1.45であることが好ましく、この中空粒子の屈折率は特開2001−233611号公報に記載の方法によって測定することができる。   The hollow particles are fine particles having a cavity surrounded by an outer shell. The refractive index of the hollow particles themselves is preferably 1.20 to 1.45, and the refractive index of the hollow particles can be measured by the method described in JP-A No. 2001-233611.

中空粒子としては、例えば、特開2001−233611号公報に開示されている中空粒子を用いることができる。   As a hollow particle, the hollow particle currently disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-233611 can be used, for example.

中空粒子の外殻を構成する材料としては、例えば、SiO、SiO、TiO、TiO、SnO、CeO、Sb、ITO、ATO、Al等を単独で、あるいはこれらの材料のいずれかの組み合わせの混合物の形態のものを用いることができる。また、これらの材料のいずれかの組み合わせの複合酸化物であってもよい。なお、SiOは、酸化雰囲気中で焼成した場合に、SiOとなるものが好ましい。 As a material constituting the outer shell of the hollow particles, for example, SiO 2 , SiO x , TiO 2 , TiO x , SnO 2 , CeO 2 , Sb 2 O 5 , ITO, ATO, Al 2 O 3 and the like alone, Or the thing of the form of the mixture of any combination of these materials can be used. Further, a composite oxide of any combination of these materials may be used. Note that SiO x is preferably SiO 2 when fired in an oxidizing atmosphere.

低屈折率コーティング剤は、例えば、ディップコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、リバースコーティング法、トランスファーロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キャストコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等の液相法により、表面処理を行ったハードコート層3上に塗工することができる。塗工後、加熱乾燥により塗膜中の溶剤を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させて低屈折率層4を形成することができる。   Low refractive index coating agents include, for example, dip coating, spin coating, spray coating, roll coating, gravure roll coating, reverse coating, transfer roll coating, micro gravure coating, cast coating, calendar coating It can be coated on the hard coat layer 3 subjected to the surface treatment by a liquid phase method such as a method or a die coating method. After coating, the solvent in the coating film is volatilized by heating and drying, and then the coating film is cured by heating, humidification, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, etc., and the low refractive index layer 4 can be formed.

本発明では、反射防止部材の防汚性、指紋除去性をさらに向上させるために、図2に示すように、低屈折率層4の表面に防汚層5を形成することができる。防汚層5の厚みは光学特性に影響を与えないため、30nm以下にするのが好ましい。   In the present invention, the antifouling layer 5 can be formed on the surface of the low refractive index layer 4 as shown in FIG. 2 in order to further improve the antifouling property and fingerprint removability of the antireflection member. Since the thickness of the antifouling layer 5 does not affect the optical characteristics, it is preferable to set it to 30 nm or less.

防汚層5の形成処理は、例えば、シリコーン系化合物またはフッ素含有化合物を被覆し、低屈折率層4の表面と化学的に結合させるようにして行うことができる。また、防汚層5を形成する材料としては、アルコキシシラノ基を有するフッ素化合物、反応性シリコーンオイル等のように反応性を有するものが耐摩耗性、耐薬品性、耐経時劣化性を向上することができる点から好ましい。   The antifouling layer 5 can be formed, for example, by covering it with a silicone compound or a fluorine-containing compound and chemically bonding it to the surface of the low refractive index layer 4. In addition, as a material for forming the antifouling layer 5, a reactive material such as a fluorine compound having an alkoxysilano group or a reactive silicone oil improves wear resistance, chemical resistance, and aging resistance. It is preferable because it can be used.

防汚層5は、例えば、モメンティブ社製長鎖フルオロアルキルシランコーティング材「XC98−2472」を希釈溶剤IPA(イソプロパノール)を用い、固形分0.2%まで希釈し、この混合溶液を膜厚5nmとなるようにワイヤーバーコーター#10番で低屈折率層4の表面に塗布した後、120℃、3分間乾燥させることによって形成することができる。   The antifouling layer 5 is prepared by, for example, diluting a long chain fluoroalkylsilane coating material “XC98-2472” manufactured by Momentive Co., Ltd. to a solid content of 0.2% using a diluting solvent IPA (isopropanol). After being applied to the surface of the low refractive index layer 4 with a wire bar coater # 10 so as to be, it can be formed by drying at 120 ° C. for 3 minutes.

以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples at all.

<実施例1>
ポリエステルフィルム1としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム東洋紡績株式会社製「A4300(厚み100μm)」を用いた。
<Example 1>
As the polyester film 1, a polyethylene terephthalate (PET) film “A4300 (thickness: 100 μm)” manufactured by Toyobo Co., Ltd. was used.

ハードコート層用のハードコート材料として、アクリル系紫外線硬化型樹脂(大日精化工業(株)製「セイカビームPET−HC301」、有効成分(固形分)60質量%)中に、高屈折率粒子として酸化チタン粒子(テイカ(株)製「760T」、分散溶剤:トルエン、固形分48質量%)を30質量%、光吸収性材料としてシアニン色素(株式会社アデカ製GPX−301)を0.005質量%、フタロシアニン色素(和光純薬工業株式会社製、テトラベンズテトラアザポルフィリン)を0.002質量%添加し、ディスパーで混合した。このハードコート材料(混合液)をワイヤーバーコーター#10番でポリエステルフィルム1の上に塗布し、80℃で5分間乾燥させた後、UV照射(500mJ/cm)により硬化させて形成した。 As a hard coat material for the hard coat layer, an acrylic ultraviolet curable resin (“Seika Beam PET-HC301” manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., active ingredient (solid content) 60 mass%) is used as a high refractive index particle. Titanium oxide particles (Taika Co., Ltd. “760T”, dispersion solvent: toluene, solid content 48% by mass) 30% by mass, cyanine dye (GPX-301 manufactured by Adeka Co., Ltd.) as a light absorbing material 0.005 mass %, 0.002% by mass of phthalocyanine dye (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., tetrabenztetraazaporphyrin) was added and mixed with a disper. The hard coat material (mixed solution) was applied onto the polyester film 1 with a wire bar coater # 10, dried at 80 ° C. for 5 minutes, and then cured by UV irradiation (500 mJ / cm 2 ).

次に、低屈折率材料をハードコート層の表面に塗布して低屈折率層を形成した。低屈折率材料は、テトラエトキシシラン208質量部にメタノール356質量部を加え、さらに水18質量部および0.01Nの塩酸水溶液18質量部を加え、これをディスパーで混合して混合液を得た後、この混合液を25℃恒温槽中で2時間攪拌して重量平均分子量を850に調整したシリコーンレジンをバインダー材料として用いた。低屈折率粒子として、低屈折率ナノ粒子の中空シリカIPA(イソプロパノール)分散ゾル(触媒化成工業(株)製「スルーリアCS−60IPA」、固形分20質量%)をシリコーンレジンマトリックスの全体量の40体積%となる量でシリコーンレジンに配合し、その後、全固形分が1.5質量%になるようにメタノールで希釈することによって、低屈折率材料を調整した。   Next, a low refractive index material was applied to the surface of the hard coat layer to form a low refractive index layer. The low refractive index material was obtained by adding 356 parts by mass of methanol to 208 parts by mass of tetraethoxysilane, adding 18 parts by mass of water and 18 parts by mass of 0.01N hydrochloric acid aqueous solution, and mixing them with a disper to obtain a mixed solution. Thereafter, this mixed liquid was stirred in a thermostatic bath at 25 ° C. for 2 hours, and a silicone resin having a weight average molecular weight adjusted to 850 was used as a binder material. As low refractive index particles, hollow silica IPA (isopropanol) dispersion sol of low refractive index nanoparticles (“Suriria CS-60IPA” manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., solid content 20% by mass) is 40 of the total amount of the silicone resin matrix. A low refractive index material was prepared by blending with a silicone resin in an amount of volume% and then diluting with methanol so that the total solid content was 1.5 mass%.

この低屈折率材料を膜厚100nmになるようにワイヤーバーコーター#10番で上記のハードコート層の表面に塗布した後、120℃、15分間乾燥させて低屈折率層を形成し、反射防止部材を作製した。   After applying this low refractive index material to the surface of the hard coat layer with a wire bar coater # 10 so as to have a film thickness of 100 nm, it is dried at 120 ° C. for 15 minutes to form a low refractive index layer to prevent reflection. A member was prepared.

<実施例2>
ハードコート層用のハードコート材料として、アクリル系紫外線硬化型樹脂(大日精化工業(株)製「セイカビームPET−HC301」、有効成分(固形分)60質量%)中に、高屈折率粒子として酸化チタン粒子(テイカ(株)製「760T」、分散溶剤:トルエン、固形分48質量%)を30質量%、光吸収性材料としてシアニン色素(株式会社アデカ製GPX−301)を0.01質量%、フタロシアニン色素(和光純薬工業株式会社製、テトラベンズテトラアザポルフィリン)を0.006質量%添加し、ディスパーで混合した。その他は実施例1と同様にして反射防止部材を作製した。
<Example 2>
As a hard coat material for the hard coat layer, an acrylic ultraviolet curable resin (“Seika Beam PET-HC301” manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., active ingredient (solid content) 60 mass%) is used as a high refractive index particle. Titanium oxide particles (Taika Co., Ltd. "760T", dispersion solvent: toluene, solid content 48% by mass) 30% by mass, cyanine dye (GPX-301 manufactured by Adeka Co., Ltd.) 0.01 mass as a light absorbing material %, Phthalocyanine dye (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., tetrabenztetraazaporphyrin) was added in an amount of 0.006% by mass and mixed with a disper. Otherwise, an antireflection member was produced in the same manner as in Example 1.

<実施例3>
ハードコート層用のハードコート材料として、アクリル系紫外線硬化型樹脂(大日精化工業(株)製「セイカビームPET−HC301」、有効成分(固形分)60質量%)中に、光吸収性材料としてシアニン色素(株式会社アデカ製GPX−301)を0.005質量%、フタロシアニン色素(和光純薬工業株式会社製、テトラベンズテトラアザポルフィリン)を0.002質量%添加し、ディスパーで混合した。その他は実施例1と同様にして反射防止部材を作製した。
<Example 3>
As a hard coat material for the hard coat layer, an acrylic UV curable resin (“Seika Beam PET-HC301” manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., active ingredient (solid content) 60% by mass) is used as a light absorbing material. Cyanine dye (GPA-301 manufactured by Adeka Co., Ltd.) was added in an amount of 0.005% by mass, and phthalocyanine dye (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., tetrabenztetraazaporphyrin) was added in an amount of 0.002% by mass and mixed with a disper. Otherwise, an antireflection member was produced in the same manner as in Example 1.

<実施例4>
ハードコート層用のハードコート材料として、アクリル系紫外線硬化型樹脂(大日精化工業(株)製「セイカビームPET−HC301」、有効成分(固形分)60質量%)中に、高屈折率粒子として酸化チタン粒子(テイカ(株)製「760T」、分散溶剤:トルエン、固形分48質量%)を60質量%、光吸収性材料としてシアニン色素(株式会社アデカ製GPX−301)を0.005質量%、フタロシアニン色素(和光純薬工業株式会社製、テトラベンズテトラアザポルフィリン)を0.002質量%添加し、ディスパーで混合した。その他は実施例1と同様にして反射防止部材を作製した。
<Example 4>
As a hard coat material for the hard coat layer, an acrylic ultraviolet curable resin (“Seika Beam PET-HC301” manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., active ingredient (solid content) 60 mass%) is used as a high refractive index particle. 60% by mass of titanium oxide particles (Tyca Co., Ltd. “760T”, dispersion solvent: toluene, solid content 48% by mass), and 0.005 mass of cyanine dye (GPX-301 manufactured by Adeka Co., Ltd.) as a light absorbing material %, 0.002% by mass of phthalocyanine dye (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., tetrabenztetraazaporphyrin) was added and mixed with a disper. Otherwise, an antireflection member was produced in the same manner as in Example 1.

<実施例5>
ハードコート層用のハードコート材料として、アクリル系紫外線硬化型樹脂(大日精化工業(株)製「セイカビームPET−HC301」、有効成分(固形分)60質量%)中に、高屈折率粒子として酸化チタン粒子(テイカ(株)製「760T」、分散溶剤:トルエン、固形分48質量%)を20質量%、帯電防止粒子としてATO粒子(日揮触媒化成(株)製「ELCOM P−特殊品A」分散溶剤:MEK/トルエン(4/1)、固形分30質量%)を20質量%、光吸収性材料としてシアニン色素(株式会社アデカ製GPX−301)を0.005質量%、フタロシアニン色素(和光純薬工業株式会社製、テトラベンズテトラアザポルフィリン)を0.002質量%添加し、ディスパーで混合した。その他は実施例1と同様にして反射防止部材を作製した。
<Example 5>
As a hard coat material for the hard coat layer, an acrylic ultraviolet curable resin (“Seika Beam PET-HC301” manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., active ingredient (solid content) 60 mass%) is used as a high refractive index particle. 20% by mass of titanium oxide particles (Take Co., Ltd. “760T”, dispersion solvent: toluene, solid content 48% by mass), ATO particles (“ELCOM P-special product A” manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) as antistatic particles Dispersion solvent: 20% by mass of MEK / toluene (4/1), solid content of 30% by mass), 0.005% by mass of cyanine dye (GPX-301 manufactured by Adeka Co., Ltd.) as a light-absorbing material, phthalocyanine dye ( 0.002 mass% of Wako Pure Chemical Industries, Ltd., tetrabenztetraazaporphyrin) was added and mixed with a disper. Otherwise, an antireflection member was produced in the same manner as in Example 1.

<実施例6>
ハードコート層、低屈折率層は実施例1と同様にして作製した。防汚層用の防汚材料として、モメンティブ社製長鎖フルオロアルキルシランコーティング材「XC98−2472」を希釈溶剤IPA(イソプロパノール)を用い、固形分0.2%まで希釈し、この混合溶液を膜厚5nmとなるようにワイヤーバーコーター#10番で低屈折率層の表面に塗布した後、120℃、3分間乾燥させることによって、防汚層を形成し、反射防止部材を作製した。
<Example 6>
The hard coat layer and the low refractive index layer were produced in the same manner as in Example 1. As an antifouling material for the antifouling layer, Momentive's long-chain fluoroalkylsilane coating material “XC98-2472” is diluted to 0.2% solids using a diluting solvent IPA (isopropanol), and this mixed solution is used as a membrane. After applying to the surface of the low refractive index layer with a wire bar coater # 10 so as to have a thickness of 5 nm, an antifouling layer was formed by drying at 120 ° C. for 3 minutes to prepare an antireflection member.

<実施例7>
低屈折率層用材料調合において、低屈折率ナノ粒子の中空シリカIPA(イソプロパノール)分散ゾル(触媒化成工業(株)製「スルーリアCS−60IPA」、固形分20質量%)をシリコーンレジンマトリックスの全体量の60体積%となる量でシリコーンレジンに配合した以外は、実施例1と同様にして反射防止部材を作製した。
<Example 7>
In the preparation of the material for the low refractive index layer, hollow silica IPA (isopropanol) dispersion sol of low refractive index nanoparticles (Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd. “Thruria CS-60IPA”, solid content 20 mass%) is added to the entire silicone resin matrix. An antireflective member was produced in the same manner as in Example 1 except that it was added to the silicone resin in an amount of 60% by volume.

<実施例8>
低屈折率層用材料調合において、低屈折率ナノ粒子の中空シリカIPA(イソプロパノール)分散ゾル(触媒化成工業(株)製「スルーリアCS−60IPA」、固形分20質量%)をシリコーンレジンマトリックスの全体量の20体積%となる量でシリコーンレジンに配合した以外は、実施例1と同様にして反射防止部材を作製した。
<Example 8>
In the preparation of the material for the low refractive index layer, hollow silica IPA (isopropanol) dispersion sol of low refractive index nanoparticles (Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd. “Thruria CS-60IPA”, solid content 20 mass%) is added to the entire silicone resin matrix. An antireflection member was produced in the same manner as in Example 1 except that it was blended with the silicone resin in an amount of 20% by volume.

<比較例1>
ハードコート材料の調合において、光吸収性材料としてシアニン色素(株式会社アデカ製GPX−301)および、フタロシアニン色素(和光純薬工業株式会社製、テトラベンズテトラアザポルフィリン)を添加しない以外は、実施例1と同様にして反射防止部材を作製した。
<Comparative Example 1>
In the preparation of the hard coat material, Examples were used except that a cyanine dye (GPX-301 manufactured by Adeka Co., Ltd.) and a phthalocyanine dye (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., tetrabenztetraazaporphyrin) were not added as light absorbing materials. In the same manner as in Example 1, an antireflection member was produced.

<比較例2>
ハードコート材料の調合において、光吸収性材料としてシアニン色素(株式会社アデカ製GPX−301)を0.01質量%、フタロシアニン色素(和光純薬工業株式会社製、テトラベンズテトラアザポルフィリン)を0.02質量%添加した以外は、実施例1と同様にして反射防止部材を作製した。
<Comparative example 2>
In the preparation of the hard coat material, 0.01% by mass of cyanine dye (GPX-301 manufactured by Adeka Co., Ltd.) and 0.07% phthalocyanine dye (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., tetrabenztetraazaporphyrin) are used as light absorbing materials. An antireflection member was produced in the same manner as in Example 1 except that 02% by mass was added.

<比較例3>
ハードコート材料の調合において、光吸収性材料としてシアニン色素(株式会社アデカ製TY−235)を0.005質量%、フタロシアニン色素(和光純薬工業株式会社製、テトラベンズテトラアザポルフィリン)を0.002質量%添加した以外は、実施例1と同様にして反射防止部材を作製した。
<Comparative Example 3>
In the preparation of the hard coat material, 0.005% by mass of cyanine dye (TYKA-235 manufactured by Adeka Co., Ltd.) and phthalocyanine dye (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., tetrabenztetraazaporphyrin) are used as light absorbing materials. An antireflection member was produced in the same manner as in Example 1 except that 002% by mass was added.

<比較例4>
ハードコート材料の調合において、光吸収性材料としてシアニン色素(株式会社アデカ製GPX−301)を0.005質量%、Cuフタロシアニン色素(和光純薬工業株式会社製、Cuテトラベンズテトラアザポルフィリン、PG7)を0.002質量%添加した以外は、実施例1と同様にして反射防止部材を作製した。
<Comparative example 4>
In the preparation of the hard coat material, 0.005% by mass of cyanine dye (GPX-301 manufactured by Adeka Co., Ltd.), Cu phthalocyanine dye (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., Cu tetrabenztetraazaporphyrin, PG7) as a light absorbing material ) Was added in the same manner as in Example 1 except that 0.002 mass% was added.

実施例および比較例の反射防止部材について、次の測定を行った。   The following measurements were performed on the antireflection members of Examples and Comparative Examples.

[ヘイズ]
反射防止フィルムを濁度計(日本電色株式会社製NDH−2000)を用いて、JISK7361−1997に基づき、ヘイズを測定した。
[Haze]
Based on JISK7361-1997, the haze was measured using the turbidimeter (Nippon Denshoku Co., Ltd. NDH-2000) for the antireflection film.

[全光線透過率]
反射防止フィルムを濁度計(日本電色株式会社製、NDH−2000)を用いて、JISK7361−1997に基づき、全光線透過率を測定した。
[Total light transmittance]
The total light transmittance was measured based on JISK7361-1997 using a turbidimeter (Nippon Denshoku Co., Ltd., NDH-2000) for the antireflection film.

[最小反射率]
透明支持体の表面(図1の最下面)をサンドペーパーでこすり、艶消しの黒色塗料を塗布した後、分光光度計((株)日立ハイテクノロジーズ製「U−4100」)を用いて、最小反射率(5°相対反射率)を測定した。
[Minimum reflectance]
After rubbing the surface of the transparent support (lowermost surface in FIG. 1) with sandpaper and applying a matte black paint, use a spectrophotometer ("U-4100" manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) The reflectance (5 ° relative reflectance) was measured.

[平均視感反射率]
透明支持体の表面(図1の最下面)をサンドペーパーでこすり、艶消しの黒色塗料を塗布した後、分光光度計((株)日立ハイテクノロジーズ製「U−4100」)を用いて、JIS R−3106に基づき、平均視感反射率(5°相対反射率)を測定した。
[透過色度]
[Average luminous reflectance]
After rubbing the surface of the transparent support (lowermost surface in FIG. 1) with sandpaper and applying a matte black paint, using a spectrophotometer ("U-4100" manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), JIS Based on R-3106, the average luminous reflectance (5 ° relative reflectance) was measured.
[Transparent chromaticity]

反射防止フィルムを分光測色計(コニカミノルタホールディングス株式会社製、CM3600D)を用いて、10度視野、C光源条件にて、透過色度を測定した。
[シート抵抗]
The transmission chromaticity of the antireflection film was measured using a spectrocolorimeter (Konica Minolta Holdings, Inc., CM3600D) under 10-degree field of view and C light source conditions.
[Sheet resistance]

反射防止フィルムの表面に電極を設置し、絶縁抵抗測定器(株式会社アドバンテスト製R8340A)を用いて、JIS K6911に基づき、シート抵抗を測定した。
[指紋除去性]
Electrodes were installed on the surface of the antireflection film, and sheet resistance was measured based on JIS K6911 using an insulation resistance measuring instrument (R8340A manufactured by Advantest Corporation).
[Fingerprint removal]

反射防止フィルムの表面に指紋を付着させて表面を汚した後、BEMCOT−S2(旭化成せんい株式会社製)で50往復してふき取る。その後反射防止フィルムから40cmの距離から目視で観察し、指紋の除去度合いを評価した。   After the fingerprint is attached to the surface of the antireflection film to stain the surface, it is wiped 50 times with BEMCOT-S2 (Asahi Kasei Fibers Co., Ltd.). Thereafter, the film was visually observed from a distance of 40 cm from the antireflection film to evaluate the degree of fingerprint removal.

測定結果を表1および表2に示す。   The measurement results are shown in Tables 1 and 2.

Figure 2013109169
Figure 2013109169
Figure 2013109169
Figure 2013109169

表1および表2より、ハードコート材料に光吸収性材料を適切な量で配合した実施例1では、最小反射率と平均視感反射率が低く、かつ全光線透過率が高いものであり、透明で反射率の低い反射防止部材が得られた。なお、反射防止部材の実用性を考慮すると、全光線透過率は90%以上、平均視感反射率は1.0%以下が一つの目安となる。   From Table 1 and Table 2, in Example 1 in which a light-absorbing material is blended in an appropriate amount into the hard coat material, the minimum reflectance and the average luminous reflectance are low, and the total light transmittance is high. An antireflection member having transparency and low reflectance was obtained. In consideration of the practicality of the antireflection member, one guideline is a total light transmittance of 90% or more and an average luminous reflectance of 1.0% or less.

また、L*a*b*表色系における透過色度を−1.0≦a*≦0かつ0≦b*≦1.0とすることで、反射防止部材に必要な透明性と低反射性を確保しつつ、色調をニュートラルにすることができた。   Further, by setting the transmission chromaticity in the L * a * b * color system to be −1.0 ≦ a * ≦ 0 and 0 ≦ b * ≦ 1.0, the transparency and low reflection required for the antireflection member are required. The color tone could be neutral while ensuring the characteristics.

これに対して比較例1では、ハードコート材料に光吸収性材料を配合しなかったため最小反射率と平均視感反射率が高くなった。比較例2〜4は光吸収性材料を配合したが適切な量を逸脱したため全光線透過率が低下した。   On the other hand, in Comparative Example 1, since the light-absorbing material was not blended with the hard coat material, the minimum reflectance and the average luminous reflectance were high. Although Comparative Examples 2-4 mix | blended the light absorptive material, since it deviated from the appropriate quantity, the total light transmittance fell.

1 反射防止部材
2 透明支持体
3 ハードコート層
4 低屈折率層
5 防汚層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Antireflection member 2 Transparent support 3 Hard coat layer 4 Low refractive index layer 5 Antifouling layer

Claims (10)

透明支持体上に、ハードコート層、低屈折率層をこの順に設けた反射防止部材において、前記ハードコート層に、波長400〜800nmの範囲内の光を吸収する光吸収性材料を含有し、この光吸収性材料を含有する前記ハードコート層により波長400〜800nmの範囲内における光吸収性を有し、全光線透過率が90%以上であることを特徴とする反射防止部材。   In the antireflection member in which a hard coat layer and a low refractive index layer are provided in this order on a transparent support, the hard coat layer contains a light-absorbing material that absorbs light within a wavelength range of 400 to 800 nm, An antireflection member having light absorption in a wavelength range of 400 to 800 nm by the hard coat layer containing the light absorbing material and having a total light transmittance of 90% or more. L*a*b*表色系における透過色度が−1.0≦a*≦0かつ0≦b*≦1.0であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止部材。   2. The antireflection member according to claim 1, wherein the transmission chromaticity in the L * a * b * color system is −1.0 ≦ a * ≦ 0 and 0 ≦ b * ≦ 1.0. 平均視感反射率が1.0%以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の反射防止部材。   The antireflection member according to claim 1, wherein an average luminous reflectance is 1.0% or less. 前記ハードコート層の屈折率が1.50〜1.90であることを特徴とする請求項1ないし3いずれか一項に記載の反射防止部材。   4. The antireflection member according to claim 1, wherein the refractive index of the hard coat layer is 1.50 to 1.90. チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、およびアンチモンから選ばれる少なくとも1種の酸化物を高屈折率粒子として前記ハードコート層に含有することを特徴とする請求項1ないし4いずれか一項に記載の反射防止部材。   5. The hard coat layer contains at least one oxide selected from titanium, aluminum, cerium, yttrium, zirconium, niobium, and antimony as high refractive index particles. The antireflection member according to 1. 前記ハードコート層が帯電防止性を有することを特徴とする請求項1ないし5いずれか一項に記載の反射防止部材。   The antireflection member according to claim 1, wherein the hard coat layer has antistatic properties. インジウム、亜鉛、錫、およびアンチモンから選ばれる少なくとも1種の酸化物を導電性ナノ粒子として前記ハードコート層に含有することを特徴とする請求項1ないし6いずれか一項に記載の反射防止部材。   The antireflection member according to any one of claims 1 to 6, comprising at least one oxide selected from indium, zinc, tin, and antimony as conductive nanoparticles in the hard coat layer. . 前記ハードコート層のシート抵抗が1014Ω/□以下であることを特徴とする請求項1ないし7いずれか一項に記載の反射防止部材。 8. The antireflection member according to claim 1, wherein the hard coat layer has a sheet resistance of 10 14 Ω / □ or less. 前記低屈折率層の屈折率が1.30〜1.45であることを特徴とする請求項1ないし8いずれか一項に記載の反射防止部材。   The antireflective member according to claim 1, wherein a refractive index of the low refractive index layer is 1.30 to 1.45. 前記低屈折率層の表面に防汚層を有することを特徴とする請求項1ないし9いずれか一項に記載の反射防止部材。   The antireflection member according to claim 1, further comprising an antifouling layer on a surface of the low refractive index layer.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020514107A (en) * 2016-12-20 2020-05-21 ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッドPPG Industries Ohio,Inc. Antireflective coated articles and methods of making them
WO2020149597A1 (en) * 2019-01-14 2020-07-23 주식회사 엘지화학 Optical laminate
JP2021009244A (en) * 2019-07-02 2021-01-28 株式会社トッパンTomoegawaオプティカルフィルム Display device
WO2024122489A1 (en) * 2022-12-05 2024-06-13 東山フイルム株式会社 Antireflection film

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020514107A (en) * 2016-12-20 2020-05-21 ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッドPPG Industries Ohio,Inc. Antireflective coated articles and methods of making them
WO2020149597A1 (en) * 2019-01-14 2020-07-23 주식회사 엘지화학 Optical laminate
TWI801702B (en) * 2019-01-14 2023-05-11 南韓商Lg化學股份有限公司 Optical laminate, polarizing plate and display device
US11709294B2 (en) 2019-01-14 2023-07-25 Lg Chem, Ltd. Optical laminate
JP2021009244A (en) * 2019-07-02 2021-01-28 株式会社トッパンTomoegawaオプティカルフィルム Display device
WO2024122489A1 (en) * 2022-12-05 2024-06-13 東山フイルム株式会社 Antireflection film

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