JP2013127546A - Anti-reflection film with transparent electrodes - Google Patents
Anti-reflection film with transparent electrodes Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013127546A JP2013127546A JP2011276970A JP2011276970A JP2013127546A JP 2013127546 A JP2013127546 A JP 2013127546A JP 2011276970 A JP2011276970 A JP 2011276970A JP 2011276970 A JP2011276970 A JP 2011276970A JP 2013127546 A JP2013127546 A JP 2013127546A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- transparent electrode
- layer
- index layer
- hard coat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、透明電極付き反射防止フィルムに関するものであり、さらに詳しくは、ポリエステルフィルムの表面側にＩＴＯ等の透明電極パターンを有する、タッチパネル等に用いられる透明電極付き反射防止フィルムに関するものである。 The present invention relates to an antireflection film with a transparent electrode, and more particularly to an antireflection film with a transparent electrode, which is used for a touch panel or the like having a transparent electrode pattern such as ITO on the surface side of a polyester film.
近年、携帯電話機、携帯端末機、パーソナルコンピュータ等の各種電子機器の高機能化、多様化が進んでいる。これに伴い、表示パネルの前面に光透過性のタッチパネルを装着した電子機器が用いられてきている。 In recent years, various electronic devices such as mobile phones, mobile terminals, personal computers, and the like have become highly functional and diversified. Along with this, electronic devices having a light-transmissive touch panel mounted on the front surface of a display panel have been used.
このような電子機器では、タッチパネルを通して背面側の表示パネルの表示を視認しながら、指やペン等でタッチパネルの表面を押圧して操作することにより、電子機器の各機能の切換操作を行うことができる。 In such an electronic device, it is possible to perform a switching operation of each function of the electronic device by pressing and operating the surface of the touch panel with a finger or a pen while visually recognizing the display on the display panel on the back side through the touch panel. it can.
このようなタッチパネルとしては、従来、抵抗膜式や静電容量式のものが知られている。このうち静電容量式のタッチパネルでは、ＸＹ方向に延びるストライプ形状等の透明電極パターンを透明な基材の表面側に形成したフィルム等が用いられている（特許文献１、２参照）。そして、このようなフィルムとしては、例えば、ポリエステルフィルム等の基材の上に保護層としてのハードコート層が設けられ、その上に透明電極パターンが設けられてハードコートフィルムとして構成されたものが用いられる場合がある。
As such a touch panel, conventionally, a resistance film type or a capacitance type is known. Among these, the capacitive touch panel uses a film or the like in which a transparent electrode pattern such as a stripe shape extending in the XY direction is formed on the surface side of a transparent substrate (see
従来、このようなハードコートフィルムにおける透明電極パターンの下に設けられたハードコート層には、反応性硬化型樹脂組成物を塗布、硬化して形成した屈折率１．６０未満のものが用いられている。 Conventionally, the hard coat layer provided under the transparent electrode pattern in such a hard coat film has a refractive index of less than 1.60 formed by applying and curing a reactive curable resin composition. ing.
しかしながら、上記のような従来のハードコートフィルムでは、透明電極パターンの形状が反射の色目として視認されるという問題点があった。すなわち、透明電極パターンとその下のハードコート層との屈折率差により光学的な干渉ムラとして透明電極パターンの形状が視認されるようになり、外観特性が損なわれるという問題点があった。 However, the conventional hard coat film as described above has a problem that the shape of the transparent electrode pattern is visually recognized as a reflection color. That is, due to the difference in refractive index between the transparent electrode pattern and the hard coat layer below the transparent electrode pattern, the shape of the transparent electrode pattern is visually recognized as optical interference unevenness, and the appearance characteristics are impaired.
本発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、透明電極パターンが視認されにくく外観特性に優れ、さらに可視光の透過率を向上させることができ、かつ反射率を低減することができる透明電極付き反射防止フィルムを提供することを課題としている。 The present invention has been made in view of the circumstances as described above, the transparent electrode pattern is hardly visible, has excellent appearance characteristics, can further improve the transmittance of visible light, and reduce the reflectance. An object of the present invention is to provide an antireflection film with a transparent electrode.
上記の課題を解決するために、本発明の透明電極付き反射防止フィルムは、ポリエステルフィルムの表面に、屈折率１．７０〜１．９０かつ膜厚１０〜３０ｎｍの高屈折率層、屈折率１．３５〜１．４８かつ膜厚２０〜６０ｎｍの低屈折率層Ａ、および透明電極パターンがこの順に設けられ、ポリエステルフィルムの裏面に、ハードコート層Ｂおよび低屈折率層Ｂがこの順に設けられ、ハードコート層Ｂおよび低屈折率層Ｂが反射防止層を構成していることを特徴とする。 In order to solve the above problems, the antireflection film with a transparent electrode of the present invention has a high refractive index layer having a refractive index of 1.70 to 1.90 and a thickness of 10 to 30 nm, a refractive index of 1 on the surface of the polyester film. A low refractive index layer A having a thickness of 35 to 1.48 and a thickness of 20 to 60 nm and a transparent electrode pattern are provided in this order, and a hard coat layer B and a low refractive index layer B are provided in this order on the back surface of the polyester film. The hard coat layer B and the low refractive index layer B constitute an antireflection layer.
この透明電極付き反射防止フィルムにおいて、透明電極パターンが屈折率１．９０〜２．１０のＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）により形成されていることが好ましい。 In this antireflection film with a transparent electrode, the transparent electrode pattern is preferably formed of ITO (tin-doped indium oxide) having a refractive index of 1.90 to 2.10.
この透明電極付き反射防止フィルムにおいて、高屈折率層およびハードコート層Ｂから選ばれる少なくとも一方の層が、亜鉛、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ランタン、ジルコニウム、スズ、インジウム、アンチモン、およびニオブから選ばれる少なくとも１種の酸化物の粒子を高屈折率粒子として含有することが好ましい。 In this antireflection film with a transparent electrode, at least one layer selected from the high refractive index layer and the hard coat layer B is composed of zinc, titanium, aluminum, cerium, yttrium, lanthanum, zirconium, tin, indium, antimony, and niobium. It is preferable to contain at least one selected oxide particle as a high refractive index particle.
この透明電極付き反射防止フィルムにおいて、ポリエステルフィルムと高屈折率層との間にハードコート層Ａを設けることが好ましい。 In this antireflection film with a transparent electrode, it is preferable to provide a hard coat layer A between the polyester film and the high refractive index layer.
この透明電極付き反射防止フィルムにおいて、低屈折率層Ｂの屈折率が１．３０〜１．５０であることが好ましい。 In this antireflection film with a transparent electrode, the refractive index of the low refractive index layer B is preferably 1.30 to 1.50.
本発明の透明電極付き反射防止フィルムによれば、透明電極パターンが視認されにくく外観特性に優れている。さらに本発明の透明電極付き反射防止フィルムによれば、可視光の透過率を向上させることができ、かつ反射率を低減することができる。 According to the antireflection film with a transparent electrode of the present invention, the transparent electrode pattern is hardly visible and has excellent appearance characteristics. Furthermore, according to the antireflection film with a transparent electrode of the present invention, the transmittance of visible light can be improved and the reflectance can be reduced.
以下に、本発明を詳細に説明する。 The present invention is described in detail below.
図１は、本発明の透明電極付き反射防止フィルムの一例を示す断面図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the antireflection film with a transparent electrode of the present invention.
この透明電極付き反射防止フィルム（１）は、ポリエステルフィルム（２）の表面に高屈折率層（３）、低屈折率層Ａ（４）および透明電極パターン（５）がこの順に設けられている。また、ポリエステルフィルム（２）の裏面には、ハードコート層Ｂ（６）および低屈折率層Ｂ（７）がこの順に設けられ、これらのハードコート層Ｂ（６）および低屈折率層Ｂ（７）は全体として反射防止層を構成している。 In the antireflection film (1) with a transparent electrode, a high refractive index layer (3), a low refractive index layer A (4), and a transparent electrode pattern (5) are provided in this order on the surface of the polyester film (2). . Further, on the back surface of the polyester film (2), a hard coat layer B (6) and a low refractive index layer B (7) are provided in this order, and these hard coat layer B (6) and low refractive index layer B ( 7) constitutes an antireflection layer as a whole.
本発明では、高屈折率層（３）の屈折率を従来よりも高くして透明電極パターン（５）の屈折率に近づけ、また膜厚を調整することにより、透明電極パターン（５）が存在する部分と、透明電極パターン（５）が存在しない部分との反射率の差が小さくなる。これにより透明電極パターン（５）が視認されることを抑制している。 In the present invention, the refractive index of the high-refractive index layer (3) is made higher than that of the prior art to approach the refractive index of the transparent electrode pattern (5), and the transparent electrode pattern (5) is present by adjusting the film thickness. The difference in reflectance between the portion where the transparent electrode pattern (5) is not present and the portion where the transparent electrode pattern (5) does not exist is reduced. Thereby, it is suppressed that a transparent electrode pattern (5) is visually recognized.
さらに、ポリエステルフィルム（２）の裏面に反射防止層を設けることで、可視光の透過率を向上させるとともに反射率を低減することができる。 Furthermore, by providing an antireflection layer on the back surface of the polyester film (2), the transmittance of visible light can be improved and the reflectance can be reduced.
図２は、本発明の透明電極付き反射防止フィルムの別の例を示す断面図である。 FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the antireflection film with a transparent electrode of the present invention.
この透明電極付き反射防止フィルム（１）は、ポリエステルフィルム（２）と高屈折率層（３）との間にハードコート層Ａ（８）が設けられている。 In the antireflection film (1) with a transparent electrode, a hard coat layer A (8) is provided between the polyester film (2) and the high refractive index layer (3).
このハードコート層Ａ（８）を設けることで、透明電極付き反射防止フィルム（１）の硬度を向上させることができる。 By providing the hard coat layer A (8), the hardness of the antireflection film (1) with a transparent electrode can be improved.
本発明において、ポリエステルフィルム（２）を形成するポリエステルとしては、例えば、芳香族ジカルボン酸とグリコールとから得られる芳香族ポリエステルを用いることができる。 In the present invention, as the polyester forming the polyester film (2), for example, an aromatic polyester obtained from an aromatic dicarboxylic acid and glycol can be used.
芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸等を用いることができる。 As the aromatic dicarboxylic acid, for example, terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4,4'-diphenyldicarboxylic acid and the like can be used.
グリコールとしては、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，６−ヘキサンジオール等を用いることができる。 As the glycol, for example, ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,6-hexanediol and the like can be used.
芳香族ポリエステルの中でも、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートが好ましい。また、上記に例示した成分の共重合ポリエステルであってもよい。 Among aromatic polyesters, polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate are particularly preferable. Moreover, the copolymer polyester of the component illustrated above may be sufficient.
ポリエステルフィルム（２）は、成膜時のフィルムの巻き取り性や、フィルムの搬送性等を向上させるために、必要に応じて、滑剤としての無機または有機の微粒子を含有させることができる。 The polyester film (2) can contain inorganic or organic fine particles as a lubricant, if necessary, in order to improve the winding property of the film during film formation, the transportability of the film, and the like.
このような微粒子としては、例えば、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛等の無機微粒子、または架橋アクリル樹脂微粒子、架橋ポリスチレン樹脂微粒子、尿素樹脂微粒子、メラミン樹脂微粒子、架橋シリコーン樹脂微粒子等の有機微粒子を用いることができる。 Examples of such fine particles include inorganic fine particles such as calcium carbonate, calcium oxide, aluminum oxide, kaolin, silicon oxide, and zinc oxide, or crosslinked acrylic resin fine particles, crosslinked polystyrene resin fine particles, urea resin fine particles, melamine resin fine particles, and crosslinked particles. Organic fine particles such as silicone resin fine particles can be used.
また、ポリエステルフィルム（２）には、その透明性等を損なわない範囲内において、その他の成分、例えば、着色剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、他の樹脂等を含有させることができる。 In addition, the polyester film (2) has other components such as a colorant, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a lubricant, a catalyst, and other resins as long as the transparency thereof is not impaired. Etc. can be contained.
ポリエステルフィルム（２）の厚みは、特に限定されないが、例えば、５０〜２００μｍである。 Although the thickness of a polyester film (2) is not specifically limited, For example, it is 50-200 micrometers.
ポリエステルフィルム（２）は、ヘイズが好ましくは３％以下、より好ましくは１．５％以下である。ヘイズが３％を超えると、ディスプレイの視認性を損なう等の不具合が起きる場合がある。 The polyester film (2) preferably has a haze of 3% or less, more preferably 1.5% or less. If the haze exceeds 3%, problems such as impaired visibility of the display may occur.
また、ポリエステルフィルム（２）は、高屈折率層（３）、ハードコート層Ｂ（６）、またはハードコート層Ａ（８）との密着性を向上させる等のために、その表面に、従来より用いられている厚みが例えば１５０ｎｍ以下の薄い易接着層を有するものであってもよい。 In addition, the polyester film (2) is formed on the surface thereof in order to improve the adhesion with the high refractive index layer (3), the hard coat layer B (6), or the hard coat layer A (8). It may have a thin easy-adhesion layer having a thickness of more than 150 nm, for example.
本発明において、高屈折率層（３）、ハードコート層Ｂ（６）、およびハードコート層Ａ（８）は、ポリエステルフィルム（２）よりも硬度の高い被膜であって、ポリエステルフィルム（２）の表面の硬度を向上させる。これにより荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、透明電極付き反射防止フィルムの機械的強度を改善することができる。 In the present invention, the high refractive index layer (3), the hard coat layer B (6), and the hard coat layer A (8) are films having higher hardness than the polyester film (2), and the polyester film (2) Improve the surface hardness. Thereby, the damage | wound by the scratch which requires a load can be prevented, and the mechanical strength of an antireflection film with a transparent electrode can be improved.
ハードコート層Ｂ（６）およびハードコート層Ａ（８）の鉛筆硬度は好ましくはＨ以上、より好ましくは２Ｈ以上である。 The pencil hardness of the hard coat layer B (6) and the hard coat layer A (8) is preferably H or higher, more preferably 2H or higher.
高屈折率層（３）、ハードコート層Ｂ（６）、およびハードコート層Ａ（８）は、反応性硬化型樹脂組成物、すなわち、熱硬化型樹脂組成物と電離放射線硬化型樹脂組成物のうち少なくとも一方を用いて形成するのが好ましい。 The high refractive index layer (3), hard coat layer B (6), and hard coat layer A (8) are reactive curable resin compositions, that is, a thermosetting resin composition and an ionizing radiation curable resin composition. It is preferable to form using at least one of them.
熱硬化型樹脂組成物に配合する熱硬化型樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができる。 Examples of the thermosetting resin blended in the thermosetting resin composition include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, silicon resin, poly A siloxane resin or the like can be used.
熱硬化型樹脂組成物には、必要に応じて、例えば、架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤等を配合することができる。 If necessary, for example, a crosslinking agent, a polymerization initiator, a curing agent, a curing accelerator, and a solvent can be blended with the thermosetting resin composition.
熱硬化型樹脂組成物を用いて高屈折率層（３）、ハードコート層Ｂ（６）およびハードコート層Ａ（８）を形成する場合は、熱硬化型樹脂組成物を、ポリエステルフィルム（２）の表面に塗布した後、加熱により乾燥硬化させるのが好ましい。 When the high refractive index layer (3), the hard coat layer B (6) and the hard coat layer A (8) are formed using the thermosetting resin composition, the thermosetting resin composition is used as the polyester film (2 ), And then dried and cured by heating.
電離放射線硬化型樹脂組成物に配合する樹脂成分としては、アクリレート系の官能基を有する化合物が好ましく用いられる。アクリレート系の官能基を有する化合物としては、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール樹脂等の多官能（メタ）アクリレートのオリゴマー、プレポリマー等を用いることができる。なお、本明細書において（メタ）アクリレートはアクリレートまたはメタクリレートを意味する。 As the resin component to be blended in the ionizing radiation curable resin composition, a compound having an acrylate functional group is preferably used. Examples of the compound having an acrylate functional group include, for example, relatively low molecular weight polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and polyvalent resins. Polyfunctional (meth) acrylate oligomers such as alcohol resins, prepolymers, and the like can be used. In the present specification, (meth) acrylate means acrylate or methacrylate.
また、電離放射線硬化型樹脂組成物には、上記のオリゴマーやプレポリマーとともに、反応性希釈剤としてのモノマーを配合することができる。このようなモノマーとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、あるいは、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能モノマーを用いることができる。 Moreover, the monomer as a reactive diluent can be mix | blended with said ionizing radiation curable resin composition with said oligomer and prepolymer. Examples of such monomers include monofunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol ( (Meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neo Polyfunctional monomers such as pentyl glycol di (meth) acrylate can be used.
さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成物を紫外線硬化型樹脂組成物とする場合には、光重合開始剤を配合することが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類等を用いることができる。 Further, when the ionizing radiation curable resin composition is an ultraviolet curable resin composition, it is preferable to add a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, for example, acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, thioxanthones and the like can be used.
また、光重合開始剤とともに光増感剤を用いてもよい。光増感剤としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、チオキサントン等を用いることができる。 Moreover, you may use a photosensitizer with a photoinitiator. As the photosensitizer, for example, n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, thioxanthone, or the like can be used.
光重合反応する紫外線硬化型樹脂組成物を用いて高屈折率層（３）、ハードコート層Ｂ（６）、およびハードコート層Ａ（８）を形成する際には、例えば、紫外線硬化型樹脂組成物を、ポリエステルフィルム（２）の表面に塗布し乾燥する。その後、紫外線照射により硬化させることによりこれらの層を形成することができる。 When forming the high refractive index layer (3), the hard coat layer B (6), and the hard coat layer A (8) using an ultraviolet curable resin composition that undergoes a photopolymerization reaction, for example, an ultraviolet curable resin is used. The composition is applied to the surface of the polyester film (2) and dried. Thereafter, these layers can be formed by curing by ultraviolet irradiation.
高屈折率層（３）は、透明電極パターン（５）の膜厚、屈折率を考慮し、屈折率１．７０〜１．９０、膜厚１０〜３０ｎｍとされる。 The high refractive index layer (3) has a refractive index of 1.70 to 1.90 and a film thickness of 10 to 30 nm in consideration of the film thickness and refractive index of the transparent electrode pattern (5).
また、高屈折率層（３）の屈折率を増大させるために、高屈折率層（３）には、高屈折率粒子、すなわち高屈折率の金属酸化物の超微粒子を含有させることができる。高屈折率粒子としては、例えば、屈折率が１．７０以上で粒径が０．５〜２００ｎｍのものを用いることができる。 Further, in order to increase the refractive index of the high refractive index layer (3), the high refractive index layer (3) can contain high refractive index particles, that is, ultrafine particles of a high refractive index metal oxide. . As the high refractive index particles, for example, particles having a refractive index of 1.70 or more and a particle size of 0.5 to 200 nm can be used.
上記の高屈折率粒子としては、例えば、亜鉛、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ランタン、ジルコニウム、スズ、インジウム、アンチモン、およびニオブから選ばれる少なくとも１種の酸化物の粒子を用いることが好ましい。 As the high refractive index particles, for example, particles of at least one oxide selected from zinc, titanium, aluminum, cerium, yttrium, lanthanum, zirconium, tin, indium, antimony, and niobium are preferably used.
高屈折率粒子としてこれらの粒子を用いることで、高屈折率層（３）の屈折率を適切な値まで容易に向上させることができる。 By using these particles as the high refractive index particles, the refractive index of the high refractive index layer (3) can be easily improved to an appropriate value.
上記の高屈折率粒子として、具体的には、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ2（屈折率２．３〜２．７）、Ａｌ2Ｏ3（屈折率１．６３）、ＣｅＯ2（屈折率１．９５）、Ｙ2Ｏ3（屈折率１．８７）、Ｌａ2Ｏ3（屈折率１．９５）、ＺｒＯ2（屈折率２．０５）、ＳｎＯ2、ＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム：屈折率１．９５）、Ｓｂ2Ｏ5（屈折率１．７１）、Ｎｂ2Ｏ5（屈折率２．２〜２．３）等の超微粒子を用いることができる。 Specific examples of the high refractive index particles include, for example, ZnO (refractive index 1.90), TiO 2 (refractive index 2.3 to 2.7), Al 2 O 3 (refractive index 1.63), CeO 2 (refractive index 1.95), Y 2 O 3 (refractive index 1.87), La 2 O 3 (refractive index 1.95), ZrO 2 (refractive index 2.05), SnO 2 , ITO (tin-doped) Ultrafine particles such as indium oxide: refractive index 1.95), Sb 2 O 5 (refractive index 1.71), Nb 2 O 5 (refractive index 2.2 to 2.3) can be used.
また、高屈折率層（３）には、本発明の効果を損なわない範囲内において、上記に例示したもの以外の他の成分を含有させることができる。このような他の成分としては、例えば、色素、帯電防止剤等が挙げられる。 Further, the high refractive index layer (3) can contain other components other than those exemplified above within a range not impairing the effects of the present invention. Examples of such other components include dyes and antistatic agents.
低屈折率層Ａ（４）は、透明電極パターン（５）の膜厚、屈折率を考慮し、屈折率１．３５〜１．４８、膜厚２０〜６０ｎｍとされる。 The low refractive index layer A (4) has a refractive index of 1.35 to 1.48 and a thickness of 20 to 60 nm in consideration of the thickness and refractive index of the transparent electrode pattern (5).
低屈折率層Ａ（４）の構成材料としては、例えば、珪素アルコキシドの加水分解物、あるいは飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマー（紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂）等を用いることができる。また、これらの分子内にフッ素原子を含む構成単位を有するものを用いることもできる。具体的には、これらの構成材料として、後述の低屈折率層Ｂ（７）において例示したものを用いることができる。 As a constituent material of the low refractive index layer A (4), for example, a hydrolyzate of silicon alkoxide, or a polymer (ultraviolet curable resin, thermosetting resin) having a saturated hydrocarbon or polyether as a main chain is used. be able to. Moreover, what has a structural unit containing a fluorine atom in these molecules can also be used. Specifically, those exemplified in the below-described low refractive index layer B (7) can be used as these constituent materials.
珪素アルコキシドとしては、例えば、ＲmＳｉ（ＯＲ´）nで表される化合物を用いることができる。ここでＲ、Ｒ´は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、ｍおよびｎはそれぞれ整数を示し、ｍ＋ｎは４である。具体的には、珪素アルコキシドとして、後述の低屈折率層Ｂ（７）において例示したものを用いることができる。 As the silicon alkoxide, for example, a compound represented by R m Si (OR ′) n can be used. Here, R and R ′ represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, m and n each represents an integer, and m + n is 4. Specifically, what was illustrated in the below-mentioned low refractive index layer B (7) can be used as silicon alkoxide.
本発明において、透明電極パターン（５）は、例えば、タッチパネル等において従来より知られている構成とすることができる。透明電極パターン（５）は、例えば、ストライプ形状、線形状、パッド形状等のパターンとされる。 In the present invention, the transparent electrode pattern (5) may have a conventionally known configuration in, for example, a touch panel. The transparent electrode pattern (5) is, for example, a pattern such as a stripe shape, a line shape, or a pad shape.
透明電極パターン（５）の材料としては、例えば、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、ＺｎＯ、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ＳｎＯ2等の金属酸化物等を用いることができる。このような金属酸化物による透明電極パターン（５）の屈折率は、１．９０〜２．１０が好ましい。 As a material of the transparent electrode pattern (5), for example, a metal oxide such as tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), ZnO, aluminum-doped zinc oxide (AZO), SnO 2 or the like is used. it can. As for the refractive index of the transparent electrode pattern (5) by such a metal oxide, 1.90-2.10 are preferable.
中でも、透明電極パターン（５）が屈折率１．９０〜２．１０のＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）により形成されていることが好ましい。 Especially, it is preferable that the transparent electrode pattern (5) is formed of ITO (tin-doped indium oxide) having a refractive index of 1.90 to 2.10.
これにより、透明電極パターン（５）の材料として従来より汎用されているＩＴＯを用いても、特定の屈折率と膜厚をもつ高屈折率層（３）や低屈折率層Ａ（４）によって、透明電極パターン（５）が視認されにくくなり、外観特性を向上させることができる。 As a result, even if ITO that has been widely used as a material for the transparent electrode pattern (5) is used, the high refractive index layer (3) and the low refractive index layer A (4) having a specific refractive index and film thickness are used. The transparent electrode pattern (5) is less visible and the appearance characteristics can be improved.
透明電極パターン（５）の厚みは、例えば１０〜３０ｎｍである。 The thickness of the transparent electrode pattern (5) is, for example, 10 to 30 nm.
透明電極パターン（５）は、例えば、従来より知られている各種の方法を用いてパターン化することができる。例えば、パターン形状に対応するマスクを介して上記に例示したような透明でかつ導電性の材料を堆積させる方法や、あるいは、当該材料の薄膜をエッチングする方法を用いることができる。 The transparent electrode pattern (5) can be patterned using, for example, various conventionally known methods. For example, a method of depositing a transparent and conductive material as exemplified above through a mask corresponding to a pattern shape, or a method of etching a thin film of the material can be used.
本発明において、反射防止層は、ハードコート層Ｂ（６）と低屈折率層Ｂ（７）とから構成される。 In the present invention, the antireflection layer is composed of a hard coat layer B (6) and a low refractive index layer B (7).
ハードコート層Ｂ（６）は、ハードコート層Ａ（８）と同様に構成することができる。ハードコート層Ｂ（６）の屈折率は、低屈折率層Ｂ（７）との組み合わせにより反射率を低減する等の点から、１．６０〜１．８５が好ましい。ハードコート層Ｂ（６）の厚みは、好ましくは１．０〜１０μｍである。 The hard coat layer B (6) can be configured similarly to the hard coat layer A (8). The refractive index of the hard coat layer B (6) is preferably 1.60 to 1.85 from the viewpoint of reducing the reflectance by combining with the low refractive index layer B (7). The thickness of the hard coat layer B (6) is preferably 1.0 to 10 μm.
ハードコート層Ｂ（６）の表面には、低屈折率層Ｂ（７）を形成する前に、表面処理を行うことが好ましい。このような表面処理としては、例えば、プラズマ放電処理、コロナ処理、フレーム処理等の物理的表面処理や、カップリング剤、酸、アルカリ等による化学的表面処理等を挙げることができる。このような表面処理を行うことにより、ハードコート層Ｂ（６）と低屈折率層（７）とのぬれ性、密着性を向上させることができる。 The surface of the hard coat layer B (6) is preferably subjected to a surface treatment before the low refractive index layer B (7) is formed. Examples of such surface treatment include physical surface treatment such as plasma discharge treatment, corona treatment and flame treatment, and chemical surface treatment with a coupling agent, acid, alkali and the like. By performing such a surface treatment, wettability and adhesion between the hard coat layer B (6) and the low refractive index layer (7) can be improved.
本発明において、低屈折率層Ｂ（７）は、ポリエステルフィルム（２）およびハードコート層Ｂ（６）よりも屈折率の小さい層であって、ハードコート層Ｂ（６）の表面に低屈折率コーティング剤を塗工することにより形成することができる。 In the present invention, the low refractive index layer B (7) is a layer having a refractive index smaller than that of the polyester film (2) and the hard coat layer B (6), and has a low refractive index on the surface of the hard coat layer B (6). It can be formed by applying a rate coating agent.
この低屈折率層Ｂ（７）の屈折率は、１．３０〜１．５０が好ましい。屈折率をこの範囲内にすることで、ハードコート層Ｂ（６）との組み合わせにより反射率を大幅に低減することができる。 The refractive index of the low refractive index layer B (7) is preferably 1.30 to 1.50. By making the refractive index within this range, the reflectance can be greatly reduced by the combination with the hard coat layer B (6).
低屈折率層Ｂ（７）の厚みｄは、低屈折率層Ｂ（７）の屈折率をｎ、入射する光の波長をλとすると、ｎｄ＝λ／４であることが好ましい。具体的には、低屈折率層Ｂ（７）の厚みは、好ましくは５０〜４００ｎｍであり、より好ましくは５０〜２００ｎｍである。 The thickness d of the low refractive index layer B (7) is preferably nd = λ / 4, where n is the refractive index of the low refractive index layer B (7) and λ is the wavelength of incident light. Specifically, the thickness of the low refractive index layer B (7) is preferably 50 to 400 nm, more preferably 50 to 200 nm.
低屈折率コーティング剤は、バインダー材料を含有し、バインダー材料自身が低屈折率である場合はバインダー材料単体で調製することができるが、バインダー材料に低屈折率粒子を配合して調製することもできる。 The low refractive index coating agent contains a binder material and can be prepared by itself when the binder material itself has a low refractive index, but it can also be prepared by blending low refractive index particles in the binder material. it can.
バインダー材料としては、例えば、珪素アルコキシドの加水分解物、あるいは飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマー（紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂）等を用いることができる。また、これらの分子内にフッ素原子を含む構成単位を有するものを用いることもできる。 As the binder material, for example, a hydrolyzate of silicon alkoxide, or a polymer (ultraviolet curable resin, thermosetting resin) having a saturated hydrocarbon or polyether as a main chain can be used. Moreover, what has a structural unit containing a fluorine atom in these molecules can also be used.
バインダー材料の珪素アルコキシドとしては、例えば、ＲmＳｉ（ＯＲ´）nで表される化合物を用いることができる。ここでＲ、Ｒ´は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、ｍおよびｎはそれぞれ整数を示し、ｍ＋ｎは４である。 As the silicon alkoxide of the binder material, for example, a compound represented by R m Si (OR ′) n can be used. Here, R and R ′ represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, m and n each represents an integer, and m + n is 4.
このような化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。また、これらを基本骨格とするオリゴマーやポリマー、あるいはこれらの少なくとも２種以上の共重合体を用いることもできる。 Examples of such compounds include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, and tetra-tert-butoxy. Silane, tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxy Silane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethyl Ropokishishiran, dimethyl-butoxy silane, methyl dimethoxy silane, can be used methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane. In addition, oligomers and polymers having these as basic skeletons, or copolymers of at least two of them can also be used.
バインダー材料は、例えば、上記の珪素アルコキシドを適当な溶剤中に溶解し加水分解して調製することができる。 The binder material can be prepared, for example, by dissolving the above silicon alkoxide in a suitable solvent and hydrolyzing it.
溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素を用いることができる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 Examples of the solvent include alcohols such as isopropyl alcohol, methanol, and ethanol, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and halogenated carbons. Hydrogen can be used. These may be used alone or in combination of two or more.
珪素アルコキシドは、上記の溶剤中に、珪素アルコキシドが１００％加水分解および縮合したとして生じるＳｉＯ2換算で好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは０．１〜１０質量％になるように溶解する。珪素アルコキシドの濃度が低過ぎると、形成されるゾル膜が所望の特性を十分に発揮できない場合があり、一方、珪素アルコキシドの濃度が高過ぎると、透明で均質な膜の形成が困難となる場合がある。 The silicon alkoxide is dissolved in the above solvent so that the silicon alkoxide is 100% hydrolyzed and condensed and is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.1 to 10% by mass in terms of SiO 2 generated. To do. When the silicon alkoxide concentration is too low, the formed sol film may not exhibit the desired characteristics sufficiently. On the other hand, when the silicon alkoxide concentration is too high, it becomes difficult to form a transparent and homogeneous film. There is.
この溶液に、加水分解に必要な量以上の水を加え、好ましくは１５〜３５℃、より好ましくは２２〜２８℃の温度で、好ましくは０．５〜１０時間、より好ましくは２〜５時間撹拌を行う。加水分解には触媒を用いることが好ましく、触媒としては、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸等の酸を用いることができる。これらの酸を好ましくは０．００１〜２０．０Ｎ、より好ましくは０．００５〜５．０Ｎの水溶液として加え、水溶液中の水分を加水分解用の水分とすることができる。このようにして得られたＳｉＯ2ゾルは、無色透明な液体であり、ポットライフが約１ヶ月の安定な溶液であり、基材に対して濡れ性が良く、塗布適性に優れている。 To this solution, more water than necessary for hydrolysis is added, preferably at a temperature of 15 to 35 ° C., more preferably 22 to 28 ° C., preferably 0.5 to 10 hours, more preferably 2 to 5 hours. Stir. A catalyst is preferably used for the hydrolysis, and as the catalyst, for example, an acid such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid or the like can be used. These acids are preferably added as an aqueous solution of 0.001 to 20.0 N, more preferably 0.005 to 5.0 N, and water in the aqueous solution can be used as water for hydrolysis. The SiO 2 sol thus obtained is a colorless and transparent liquid, is a stable solution having a pot life of about 1 month, has good wettability with respect to the substrate, and is excellent in coating suitability.
この珪素アルコキシドの加水分解物には、反応性有機珪素化合物またはその部分加水分解物を添加してもよい。このような反応性有機珪素化合物としては、熱または電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量５０００以下の有機珪素化合物を用いることができる。 A reactive organosilicon compound or a partial hydrolyzate thereof may be added to the hydrolyzate of silicon alkoxide. As such a reactive organosilicon compound, a plurality of groups that react and crosslink by heat or ionizing radiation, for example, an organosilicon compound having a molecular weight of 5000 or less having a polymerizable double bond group can be used.
具体的には、例えば、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能性ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、あるいはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、ビニル官能性ポリシロキサン等を用いることができる。 Specifically, for example, one terminal vinyl functional polysilane, both terminal vinyl functional polysilane, one terminal vinyl functional polysiloxane, both terminal vinyl functional polysiloxane, or a vinyl functional polysilane obtained by reacting these compounds, Vinyl functional polysiloxanes and the like can be used.
バインダー材料の飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、架橋したものが好ましい。 The polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as the main chain as the binder material is preferably crosslinked.
飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得られたものが好ましい。また、架橋しているバインダー材料のポリマーを得るためには、２以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。 The polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. Moreover, in order to obtain the polymer of the binder material bridge | crosslinked, it is preferable to use the monomer which has two or more ethylenically unsaturated groups.
２以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとして、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート等の多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル；１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン等のビニルベンゼンおよびその誘導体；ジビニルスルホン等のビニルスルホン；メチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド、メタクリルアミド等を用いることができる。 As monomers having two or more ethylenically unsaturated groups, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, tri Methylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexane Esters of polyhydric alcohols such as tetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate and (meth) acrylic acid; 1,4-divinylbenzene, 4-biphenyl Le benzoic acid-2-acryloyl ethyl ester, 1,4-divinylbenzene and derivatives thereof divinyl cyclohexanone; divinyl sulfone vinyl sulfone; methylenebisacrylamide acrylamide can be used, such as methacrylamide.
２以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりに、あるいはそれに加えて、架橋性官能基の反応により架橋構造をバインダー材料のポリマーに導入してもよい。このような架橋性官能基としては、例えば、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基、活性メチレン基等が挙げられる。また、ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル、およびウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして用いることができる。なお、ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。 Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the polymer of the binder material by the reaction of a crosslinkable functional group. Examples of such crosslinkable functional groups include isocyanate groups, epoxy groups, aziridine groups, oxazoline groups, aldehyde groups, carbonyl groups, hydrazine groups, carboxyl groups, methylol groups, and active methylene groups. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester, and urethane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. In addition, you may use the functional group which shows crosslinkability as a result of a decomposition reaction like a block isocyanate group.
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーとしては、例えば、多官能エポキシ化合物の開環重合反応により合成したものを用いることができる。 As the polymer having a polyether as a main chain, for example, a polymer synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound can be used.
バインダー材料のポリマーの重合反応および架橋反応に用いる重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤を用いることができる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類等を用いることができる。その他、熱重合開始剤を用いることもできる。 As the polymerization initiator used for the polymerization reaction and crosslinking reaction of the polymer of the binder material, for example, a photopolymerization initiator can be used. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds , Fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums can be used. In addition, a thermal polymerization initiator can also be used.
上記のバインダー材料に配合される低屈折率粒子は、屈折率が好ましくは１．２０〜１．４５である。 The low refractive index particles blended in the binder material preferably have a refractive index of 1.20 to 1.45.
低屈折率粒子の平均粒径は１００ｎｍ以下であることが好ましい。この平均粒径が１００ｎｍよりも大きくなると、得られる低屈折率層Ｂ（７）においてレイリー散乱によって光が乱反射され、低屈折率層Ｂ（７）が白っぽく見え、そのヘイズ値が増大することがある。 The average particle size of the low refractive index particles is preferably 100 nm or less. When this average particle diameter is larger than 100 nm, light is irregularly reflected by Rayleigh scattering in the obtained low refractive index layer B (7), and the low refractive index layer B (7) looks whitish, and its haze value increases. is there.
また、低屈折率粒子の添加量は、低屈折率化や表面硬度、耐摩耗性等も考慮すると、低屈折率層Ｂ（７）の全量に対して２０〜９９体積％であることが好ましい。 In addition, the amount of the low refractive index particles added is preferably 20 to 99% by volume with respect to the total amount of the low refractive index layer B (7) in consideration of lowering the refractive index, surface hardness, wear resistance, and the like. .
低屈折率粒子としては、例えば、シリカ微粒子、中空シリカ微粒子等の中空粒子、あるいは、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム等のフッ化物微粒子を用いることができる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらの低屈折率粒子は、バインダー材料の樹脂等との相溶性を付与するための表面処理を施すことができる。 As the low refractive index particles, for example, hollow particles such as silica fine particles and hollow silica fine particles, or fluoride fine particles such as magnesium fluoride, lithium fluoride, aluminum fluoride, calcium fluoride, and sodium fluoride can be used. it can. These may be used alone or in combination of two or more. These low refractive index particles can be subjected to a surface treatment for imparting compatibility with a resin or the like of the binder material.
なお、中空粒子は、外殻によって包囲された空洞を有する微粒子である。中空粒子としては、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に開示されている中空粒子を用いることができる。 The hollow particles are fine particles having a cavity surrounded by an outer shell. As a hollow particle, the hollow particle currently disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-233611 can be used, for example.
中空粒子の外殻を構成する材料としては、例えば、ＳｉＯ2、ＳｉＯx、ＴｉＯ2、ＴｉＯx、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、Ｓｂ2Ｏ5、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ａｌ2Ｏ3等を単独で、あるいはこれらの材料のいずれかの組み合わせの混合物の形態のものを用いることができる。また、これらの材料のいずれかの組み合わせの複合酸化物であってもよい。なお、ＳｉＯxは、酸化雰囲気中で焼成した場合に、ＳｉＯ2となるものが好ましい。
The material constituting the outer shell of the hollow particles, for example, SiO 2, SiO x, TiO 2, TiO x,
低屈折率コーティング剤は、例えば、ディップコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、リバースコーティング法、トランスファーロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キャストコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等の液相法により、表面処理を行ったハードコート層Ｂ（６）上に塗工することができる。塗工後、加熱乾燥により塗膜中の溶剤を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させて低屈折率層Ｂ（７）を形成することができる。 Low refractive index coating agents include, for example, dip coating, spin coating, spray coating, roll coating, gravure roll coating, reverse coating, transfer roll coating, micro gravure coating, cast coating, calendar coating It can be coated on the hard coat layer B (6) subjected to the surface treatment by a liquid phase method such as a method or a die coating method. After coating, the solvent in the coating film is volatilized by heating and drying, and then the coating film is cured by heating, humidification, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, etc. to form the low refractive index layer B (7). it can.
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples at all.
＜実施例１＞
ポリエステルフィルムとして、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績株式会社製「Ａ４３００」、ＰＥＴフィルムの厚み１００μｍ）を用いた。
<Example 1>
As the polyester film, a polyethylene terephthalate (PET) film (“A4300” manufactured by Toyobo Co., Ltd., PET film thickness 100 μm) was used.
高屈折率層形成用の紫外線硬化型樹脂組成物として、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業株式会社製「ＰＥＴ−ＨＣ」、固形分６０％）に高屈折率粒子として酸化チタン（テイカ株式会社製「７６０−Ｔ」、固形分４８％）を６０質量％分散させたものを用いた。 As an ultraviolet curable resin composition for forming a high refractive index layer, an acrylic ultraviolet curable resin ("PET-HC" manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., solid content 60%) is used as titanium oxide (Taika) as a high refractive index particle. A product obtained by dispersing 60% by mass of “760-T” manufactured by Co., Ltd. (solid content 48%) was used.
上記のポリエステルフィルムの表面に、上記の高屈折率層形成用の紫外線硬化型樹脂組成物をワイヤーバーコーター＃４番で塗布した。
The ultraviolet curable resin composition for forming the high refractive index layer was applied to the surface of the polyester film with a wire
これを８０℃で３分間乾燥させた後に、ＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ2）して硬化させることにより、厚み２０ｎｍの高屈折率層を形成した。 This was dried at 80 ° C. for 3 minutes and then cured by UV irradiation (500 mJ / cm 2 ) to form a high refractive index layer having a thickness of 20 nm.
次に、低屈折率層Ａ用のコーティング剤を高屈折率層の表面に塗布して低屈折率層Ａを形成した。低屈折率層Ａ用のコーティング剤は次のようにして作製した。テトラエトキシシラン２０８質量部にメタノール３５６質量部を加え、さらに水１８質量部および０．１Ｎの硝酸水溶液１８質量部を加えた。これをディスパーで混合して混合液を得た後、この混合液を２５℃恒温槽中で２時間攪拌して重量平均分子量を１３００に調整して低屈折率層Ａ用のコーティング剤を作製した。 Next, the coating agent for the low refractive index layer A was applied to the surface of the high refractive index layer to form the low refractive index layer A. The coating agent for the low refractive index layer A was produced as follows. 356 parts by mass of methanol was added to 208 parts by mass of tetraethoxysilane, and 18 parts by mass of water and 18 parts by mass of a 0.1N nitric acid aqueous solution were further added. After mixing this with a disper to obtain a mixed solution, this mixed solution was stirred in a thermostatic bath at 25 ° C. for 2 hours to adjust the weight average molecular weight to 1300 to prepare a coating agent for the low refractive index layer A. .
この低屈折率コーティング剤を厚み４０ｎｍになるようにワイヤーバーコーター＃４番で高屈折率層の表面に塗布した後、１２０℃、１分間乾燥させて低屈折率層Ａを形成した。
This low refractive index coating agent was applied to the surface of the high refractive index layer with a wire
次に、低屈折率層Ａの表面に、蒸着、パターニングにより厚み２０ｎｍのＩＴＯの透明電極パターンを形成した。透明電極パターンの形成は、キャノンアネルバ株式会社製ＲＦマグネトロンスパッタリング装置Ｌ−２５０Ｓ−ＦＨを用い、ターゲットにＩＴＯ焼結体を用い、Ａｒガス雰囲気下、スパッタ圧０．５Ｐａ、５０〜１００Ｗの条件で行った。 Next, an ITO transparent electrode pattern having a thickness of 20 nm was formed on the surface of the low refractive index layer A by vapor deposition and patterning. The transparent electrode pattern is formed by using an RF magnetron sputtering apparatus L-250S-FH manufactured by Canon Anelva Co., Ltd., using an ITO sintered body as a target, and in an Ar gas atmosphere under a sputtering pressure of 0.5 Pa and 50 to 100 W. went.
ハードコート層Ｂ形成用の紫外線硬化型樹脂組成物として、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業株式会社製「ＭＤ−２クリヤー」、固形分５０％）に高屈折率粒子として酸化ジルコニウム（ＣＩＫナノテック株式会社製「ＺＲＤＭＡ３０ＷＴ％−Ｍ２２」、固形分３０％）を４０質量％分散させたものを用いた。 As an ultraviolet curable resin composition for forming the hard coat layer B, an acrylic ultraviolet curable resin ("MD-2 clear" manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., solid content 50%) is coated with zirconium oxide as a high refractive index particle ( A product obtained by dispersing 40% by mass of “ZRDMA30WT% -M22” (solid content 30%) manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd. was used.
上記のポリエステルフィルムの表面に、上記のハードコート層Ｂ形成用の紫外線硬化型樹脂組成物をワイヤーバーコーター＃１０番で塗布した。 The ultraviolet curable resin composition for forming the hard coat layer B was applied to the surface of the polyester film with a wire bar coater # 10.
これを８０℃で５分間乾燥させた後に、ＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ2）して硬化させることにより、厚み３．０μｍのハードコート層Ｂを形成した。 This was dried at 80 ° C. for 5 minutes, and then cured by UV irradiation (500 mJ / cm 2 ) to form a hard coat layer B having a thickness of 3.0 μm.
次に、低屈折率層Ｂ用のコーティング剤をハードコート層Ｂの表面に塗布して低屈折率層Ｂを形成した。低屈折率層Ｂ用のコーティング剤は次のようにして作製した。テトラエトキシシラン２０８質量部にメタノール３５６質量部を加え、さらに水１８質量部および０．１Ｎの硝酸水溶液１８質量部を加えた。これをディスパーで混合して混合液を得た後、この混合液を２５℃恒温槽中で２時間攪拌して重量平均分子量を１３００に調整したシリコーンレジンをバインダー材料として用いた。 Next, the low refractive index layer B was formed by applying a coating agent for the low refractive index layer B to the surface of the hard coat layer B. The coating agent for the low refractive index layer B was produced as follows. 356 parts by mass of methanol was added to 208 parts by mass of tetraethoxysilane, and 18 parts by mass of water and 18 parts by mass of a 0.1N nitric acid aqueous solution were further added. After mixing this with a disper to obtain a mixed solution, a silicone resin whose weight average molecular weight was adjusted to 1300 by stirring the mixed solution in a thermostatic bath at 25 ° C. for 2 hours was used as a binder material.
次に、低屈折率粒子として、日揮触媒化成工業株式会社製「ＣＳ６０−ＩＰＡ」（固形分２０％）をシリコーンレジンマトリックスの全体量の４０体積％となる量でシリコーンレジンに配合した。その後、全固形分が３．０質量％になるようにメタノールで希釈することによって、低屈折率コーティング剤を調整した。 Next, as a low refractive index particle, “CS60-IPA” (solid content 20%) manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd. was blended into the silicone resin in an amount that would be 40% by volume of the total amount of the silicone resin matrix. Then, the low refractive index coating agent was adjusted by diluting with methanol so that total solid content might be 3.0 mass%.
低屈折率コーティング剤を厚み１００ｎｍになるようにワイヤーバーコーター＃４番でハードコート層Ｂの表面に塗布した後、１２０℃、３分間乾燥させて低屈折率層Ｂを形成した。このようにして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
The low refractive index coating agent was applied to the surface of the hard coat layer B with a wire
＜実施例２＞
実施例１において、高屈折率層の屈折率を１．９０として、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付反射防止フィルムを得た。
<Example 2>
In Example 1, an antireflection film with a transparent electrode was obtained in the same manner as in Example 1 except that the refractive index of the high refractive index layer was 1.90.
＜実施例３＞
実施例１において、高屈折率層の屈折率を１．７０として、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
<Example 3>
In Example 1, an antireflection film with a transparent electrode was obtained in the same manner as in Example 1 except that the refractive index of the high refractive index layer was 1.70.
＜実施例４＞
実施例１において、高屈折率層の膜厚を１０ｎｍとして、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
<Example 4>
In Example 1, an antireflection film with a transparent electrode was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the high refractive index layer was 10 nm.
＜実施例５＞
実施例１において、高屈折率層の膜厚を３０ｎｍとして、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
<Example 5>
In Example 1, an antireflection film with a transparent electrode was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the high refractive index layer was 30 nm.
＜実施例６＞
実施例１において、低屈折率層Ａの屈折率を１．３５として、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
<Example 6>
In Example 1, the refractive index of the low refractive index layer A was set to 1.35, and other than that was obtained in the same manner as in Example 1 to obtain an antireflection film with a transparent electrode.
＜実施例７＞
実施例１において、低屈折率層Ａの屈折率を１．４８として、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
<Example 7>
In Example 1, the refractive index of the low refractive index layer A was set to 1.48, and other than that was obtained in the same manner as in Example 1 to obtain an antireflection film with a transparent electrode.
＜実施例８＞
実施例１において、ポリエステルフィルムの表面におけるポリエステルフィルムと高屈折率層との間にハードコート層Ａを設け、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
<Example 8>
In Example 1, an antireflection film with a transparent electrode was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer A was provided between the polyester film and the high refractive index layer on the surface of the polyester film.
また、ハードコート層Ａ形成用の紫外線硬化型樹脂組成物として、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業株式会社製「ＰＥＴ−ＨＣ３０１」、固形分６０％）を溶媒トルエンにより３０質量％に希釈したものを用いた。 Further, as an ultraviolet curable resin composition for forming the hard coat layer A, an acrylic ultraviolet curable resin (“PET-HC301” manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., solid content 60%) is made 30% by mass with a solvent toluene. The diluted one was used.
上記のポリエステルフィルムの表面に、上記のハードコート層Ｂ形成用の紫外線硬化型樹脂組成物をワイヤーバーコーター＃１０番で塗布した。 The ultraviolet curable resin composition for forming the hard coat layer B was applied to the surface of the polyester film with a wire bar coater # 10.
これを８０℃で５分間乾燥させた後に、ＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ2）して硬化させることにより、厚み３．０μｍのハードコート層Ａを形成した。 This was dried at 80 ° C. for 5 minutes and then cured by UV irradiation (500 mJ / cm 2 ) to form a hard coat layer A having a thickness of 3.0 μm.
＜実施例９＞
実施例１において、低屈折率層Ａの厚みを２０ｎｍとして、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
<Example 9>
In Example 1, an antireflection film with a transparent electrode was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the low refractive index layer A was 20 nm.
＜実施例１０＞
実施例１において、低屈折率層Ａの厚みを６０ｎｍとして、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
<Example 10>
In Example 1, an antireflection film with a transparent electrode was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the low refractive index layer A was 60 nm.
＜比較例１＞
実施例１において、高屈折率層の屈折率を１．６５として、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
<Comparative Example 1>
In Example 1, the refractive index of the high refractive index layer was 1.65, and other than that was obtained in the same manner as in Example 1 to obtain an antireflection film with a transparent electrode.
＜比較例２＞
実施例１において、高屈折率層の膜厚を４０ｎｍとして、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
<Comparative example 2>
In Example 1, an antireflection film with a transparent electrode was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the high refractive index layer was 40 nm.
＜比較例３＞
実施例１において、低屈折率層Ａの屈折率を１．５０として、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
<Comparative Example 3>
In Example 1, the refractive index of the low refractive index layer A was set to 1.50, and other than that was obtained in the same manner as in Example 1 to obtain an antireflection film with a transparent electrode.
＜比較例４＞
実施例１において、低屈折率層Ａの膜厚を８０ｎｍとして、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
<Comparative example 4>
In Example 1, the thickness of the low refractive index layer A was set to 80 nm, and other than that was obtained in the same manner as in Example 1 to obtain an antireflection film with a transparent electrode.
＜比較例５＞
実施例１において、ハードコート層Ｂおよび低屈折率層Ｂを設けなかった以外は、実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
<Comparative Example 5>
In Example 1, an antireflection film with a transparent electrode was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer B and the low refractive index layer B were not provided.
[屈折率]
分光光度計（（株）日立製作所製「Ｕ−４１００」）を用いて、波長４００〜８００ｎｍの全光線透過率を測定し、シミュレーションとのフィッティングにより屈折率を測定した。
[Refractive index]
Using a spectrophotometer (“U-4100” manufactured by Hitachi, Ltd.), the total light transmittance at a wavelength of 400 to 800 nm was measured, and the refractive index was measured by fitting with a simulation.
[全光線透過率]
分光光度計（（株）日立製作所製「Ｕ−４１００」）を用いて、波長４００〜８００ｎｍの全光線透過率を測定した。
[Total light transmittance]
Using a spectrophotometer (“U-4100” manufactured by Hitachi, Ltd.), the total light transmittance at a wavelength of 400 to 800 nm was measured.
[平均視感反射率]
分光光度計（（株）日立製作所製「Ｕ−４１００」）を用いて、ＪＩＳ Ｒ−３１０６に基づき、サンプル裏面を黒塗りした後に、５度の正反射で測定した。平均視感反射率は透明電極面と反射防止面のそれぞれについて測定した。
[Average luminous reflectance]
Using a spectrophotometer ("U-4100" manufactured by Hitachi, Ltd.), the back surface of the sample was painted black based on JIS R-3106, and then measured with regular reflection of 5 degrees. The average luminous reflectance was measured for each of the transparent electrode surface and the antireflection surface.
[透明電極パターン視認性]
透明電極面と反対側の面を黒色塗料で黒塗りし、３波長蛍光灯下で目視観察した。
◎：透明電極パターンが視認できない
○：ほとんど透明電極パターンが視認できない
△：透明電極パターンが少し視認できる
×：透明電極パターンがはっきりと視認できる
評価結果を表１に示す。
[Transparent electrode pattern visibility]
The surface opposite to the transparent electrode surface was painted black with a black paint and visually observed under a three-wavelength fluorescent lamp.
A: The transparent electrode pattern is not visually recognized. B: The transparent electrode pattern is hardly visible. Δ: The transparent electrode pattern is slightly visible. X: The transparent electrode pattern is clearly visible. Table 1 shows the evaluation results.
表１より、実施例１〜１０では、ポリエステルフィルムの表面に、高屈折率層、低屈折率層Ａ、および透明電極パターンをこの順に設けた。さらにポリエステルフィルムの裏面に、ハードコート層Ｂおよび低屈折率層Ｂをこの順に設けて反射防止層を構成した。
そして高屈折率層の屈折率を１．７０〜１．９０、膜厚を１０〜３０ｎｍとしたことで、実施例１〜１０では、透明電極パターンが視認されにくかった。また透過率が大きく反射率が小さいものであった。
From Table 1, in Examples 1-10, the high refractive index layer, the low refractive index layer A, and the transparent electrode pattern were provided in this order on the surface of the polyester film. Further, a hard coat layer B and a low refractive index layer B were provided in this order on the back surface of the polyester film to constitute an antireflection layer.
And the transparent electrode pattern was hard to be visually recognized in Examples 1-10 because the refractive index of the high refractive index layer was 1.70-1.90 and the film thickness was 10-30 nm. Further, the transmittance was large and the reflectance was small.
一方、高屈折率層の屈折率が上記の範囲外である比較例１、および膜厚が上記の範囲外である比較例２では、透明電極パターンが顕在化した。 On the other hand, in Comparative Example 1 in which the refractive index of the high refractive index layer is out of the above range and Comparative Example 2 in which the film thickness is out of the above range, a transparent electrode pattern has become apparent.
そして実施例１〜１０では、低屈折率層Ｂの屈折率を１．３５〜１．４８、膜厚を２０〜６０ｎｍとしたことで、透明電極パターンが視認されにくかった。また透過率が大きく反射率が小さいものであった。 And in Examples 1-10, it was difficult to visually recognize a transparent electrode pattern because the refractive index of the low refractive index layer B was 1.35 to 1.48 and the film thickness was 20 to 60 nm. Further, the transmittance was large and the reflectance was small.
一方、低屈折率層Ｂの屈折率が上記の範囲外である比較例３、膜厚が上記の範囲外である比較例４では、透明電極パターンが顕在化した。 On the other hand, in Comparative Example 3 in which the refractive index of the low refractive index layer B is out of the above range and in Comparative Example 4 in which the film thickness is out of the above range, a transparent electrode pattern has become apparent.
また反射防止層を設けなかった比較例５では、透過率が低下し、反射率が大きくなった。 In Comparative Example 5 in which no antireflection layer was provided, the transmittance decreased and the reflectance increased.
１ 透明電極付き反射防止フィルム
２ ポリエステルフィルム
３ 高屈折率層
４ 低屈折率層Ａ
５ 透明電極パターン
６ ハードコート層Ｂ
７ 低屈折率層Ｂ
８ ハードコート層Ａ
1 Antireflection film with
5
7 Low refractive index layer B
8 Hard coat layer A
Claims (5)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011276970A JP2013127546A (en) | 2011-12-19 | 2011-12-19 | Anti-reflection film with transparent electrodes |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011276970A JP2013127546A (en) | 2011-12-19 | 2011-12-19 | Anti-reflection film with transparent electrodes |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013127546A true JP2013127546A (en) | 2013-06-27 |
Family
ID=48778115
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011276970A Pending JP2013127546A (en) | 2011-12-19 | 2011-12-19 | Anti-reflection film with transparent electrodes |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2013127546A (en) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015033569A1 (en) * | 2013-09-06 | 2015-03-12 | デクセリアルズ株式会社 | Capacitive touch panel |
| JP2015194799A (en) * | 2014-03-31 | 2015-11-05 | 大日本印刷株式会社 | Substrate for touch panel sensor and touch panel sensor |
| JP2016050777A (en) * | 2014-08-28 | 2016-04-11 | 大日本印刷株式会社 | Inspection system, inspection method, and touch panel sensor manufacturing method |
| WO2016080201A1 (en) * | 2014-11-19 | 2016-05-26 | 株式会社ダイセル | Transparent multilayer film and touch panel display |
| JP2016097529A (en) * | 2014-11-19 | 2016-05-30 | 株式会社ダイセル | Transparent laminate film and touch panel display |
| JP2016118942A (en) * | 2014-12-22 | 2016-06-30 | グンゼ株式会社 | Transparent conductive film, and touch panel |
| JP2016153205A (en) * | 2015-02-21 | 2016-08-25 | 尾池工業株式会社 | Transparent conductive laminate and touch panel display using the transparent conductive laminate |
| JP2016187909A (en) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | リンテック株式会社 | Transparent conductive film |
| JPWO2015145635A1 (en) * | 2014-03-26 | 2017-04-13 | リンテック株式会社 | Adhesive layer and anti-scattering adhesive sheet |
| CN111421936A (en) * | 2020-02-28 | 2020-07-17 | 江苏晶华新材料科技有限公司 | Reflectivity matching hard coating for ITO coating |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009302013A (en) * | 2008-06-17 | 2009-12-24 | Nof Corp | Transparent conductive film, and touch panel with the same |
| WO2010140275A1 (en) * | 2009-06-03 | 2010-12-09 | 東洋紡績株式会社 | Transparent conductive multilayer film |
| JP2011098563A (en) * | 2009-10-06 | 2011-05-19 | Nof Corp | Transparent conductive film |
-
2011
- 2011-12-19 JP JP2011276970A patent/JP2013127546A/en active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009302013A (en) * | 2008-06-17 | 2009-12-24 | Nof Corp | Transparent conductive film, and touch panel with the same |
| WO2010140275A1 (en) * | 2009-06-03 | 2010-12-09 | 東洋紡績株式会社 | Transparent conductive multilayer film |
| JP2011098563A (en) * | 2009-10-06 | 2011-05-19 | Nof Corp | Transparent conductive film |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015033569A1 (en) * | 2013-09-06 | 2015-03-12 | デクセリアルズ株式会社 | Capacitive touch panel |
| JP2015052916A (en) * | 2013-09-06 | 2015-03-19 | デクセリアルズ株式会社 | Capacitance type touch panel |
| CN105518592A (en) * | 2013-09-06 | 2016-04-20 | 迪睿合电子材料有限公司 | Capacitive touch panel |
| JPWO2015145635A1 (en) * | 2014-03-26 | 2017-04-13 | リンテック株式会社 | Adhesive layer and anti-scattering adhesive sheet |
| JP2015194799A (en) * | 2014-03-31 | 2015-11-05 | 大日本印刷株式会社 | Substrate for touch panel sensor and touch panel sensor |
| JP2016050777A (en) * | 2014-08-28 | 2016-04-11 | 大日本印刷株式会社 | Inspection system, inspection method, and touch panel sensor manufacturing method |
| JP2016097529A (en) * | 2014-11-19 | 2016-05-30 | 株式会社ダイセル | Transparent laminate film and touch panel display |
| WO2016080201A1 (en) * | 2014-11-19 | 2016-05-26 | 株式会社ダイセル | Transparent multilayer film and touch panel display |
| JP2016118942A (en) * | 2014-12-22 | 2016-06-30 | グンゼ株式会社 | Transparent conductive film, and touch panel |
| JP2016153205A (en) * | 2015-02-21 | 2016-08-25 | 尾池工業株式会社 | Transparent conductive laminate and touch panel display using the transparent conductive laminate |
| JP2016187909A (en) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | リンテック株式会社 | Transparent conductive film |
| CN111421936A (en) * | 2020-02-28 | 2020-07-17 | 江苏晶华新材料科技有限公司 | Reflectivity matching hard coating for ITO coating |
| CN111421936B (en) * | 2020-02-28 | 2023-11-03 | 江苏晶华新材料科技有限公司 | Reflectivity matching hardening film for ITO (indium tin oxide) coating |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2013127546A (en) | Anti-reflection film with transparent electrodes | |
| TWI460742B (en) | Transparent conductive film | |
| US6777070B1 (en) | Antireflection material and polarizing film using the same | |
| JP5372417B2 (en) | Antireflection film | |
| JP5044099B2 (en) | Antireflection film and method for producing the same | |
| CN105829999B (en) | Optical sheet and conductive sheet and the display device for having the optical sheet | |
| JP4187454B2 (en) | Antireflection film | |
| KR100511576B1 (en) | Anti-reflective materials, manufacturing method and polarizing film | |
| TW201333976A (en) | Transparent conductive film | |
| TWI248870B (en) | Antireflection film for optical applications | |
| KR20110037881A (en) | Transparent conductive film | |
| JP2012027401A (en) | Hard coat film and antireflection film | |
| JP2001287308A (en) | Plastic laminate and image display protecting film | |
| JP3515447B2 (en) | Antireflection material and polarizing film using the same | |
| JP2007078711A (en) | Antireflection film | |
| JP2010195901A (en) | Resin composition for hard coat, process of producing resin composition for hard coat, and substrate for anti-reflection coating | |
| JP2007038447A (en) | Reflection preventing laminate, optical member, and liquid crystal display element | |
| JP2002277609A (en) | Antireflection coating, antireflection film, image display and method for producing those | |
| JP4496726B2 (en) | Low refractive index layer for anti-reflective material, anti-reflective material provided therewith, and use thereof | |
| JPH11287902A (en) | Antireflection material and polarizing film using that | |
| JP5230079B2 (en) | Anti-reflective material | |
| JP5426852B2 (en) | Antireflection film | |
| JP2016502170A (en) | Transparent conductive film with improved visibility and method for producing the same | |
| JP2013109169A (en) | Antireflection member | |
| JP2010032734A (en) | Antireflection film |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141008 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20141121 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150715 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150721 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150914 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160301 |