JP4618550B2 - Optical filter for optical film and plasma display panel - Google Patents

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Description

本発明は、表面反射率が低く、色目がニュートラルな反射防止性とともに透明性、耐擦傷性、帯電防止性、近赤外線遮蔽性、色調補正能を1枚の基材フィルムに兼ね備えた多機能な光学フィルムに関し、さらにはそれを用いてなるプラズマディスプレイパネル用光学フィルターに関するものである。   The present invention is a multi-functional film having low surface reflectivity, neutral antireflection, transparency, scratch resistance, antistatic properties, near-infrared shielding, and color tone correction capability on a single base film. The present invention relates to an optical film, and further to an optical filter for a plasma display panel using the optical film.

プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと略す)の前面に設けられる光学フィルターは、パネルの破損防止、PDPから漏洩する人体や他の電気機器に影響を与える電磁波やリモコンに影響を与える近赤外線の遮蔽、ネオンガスの発光に伴う赤色純度を低下させる波長590nm付近の可視光線吸収による色調補正、太陽光や蛍光灯等の外光の表面での反射ならびに映り込みを防止するための表面反射防止、さらに表面の耐擦傷性や帯電防止性、防汚性などの機能が要求されている。   The optical filter provided on the front of the plasma display panel (hereinafter referred to as PDP) prevents damage to the panel, shields electromagnetic waves that affect the human body and other electrical devices leaking from the PDP, and shields near infrared rays that affect the remote control. Color tone correction by absorption of visible light at a wavelength of about 590 nm, which reduces the red purity associated with the emission of neon gas, reflection on the surface of external light such as sunlight and fluorescent lamps, and surface reflection prevention to prevent reflection, Functions such as scratch resistance, antistatic properties and antifouling properties are required.

代表的なPDP用光学フィルターは、基板となる半強化ガラス板に電磁波遮蔽フィルム、近赤外線遮蔽・色調補正フィルム、反射防止フィルムなどを粘着剤を介して貼り合わせたものが挙げられる。   A typical optical filter for PDP includes a semi-strengthened glass plate serving as a substrate bonded with an electromagnetic wave shielding film, a near-infrared shielding / color tone correction film, an antireflection film and the like with an adhesive.

一般に、ディスプレイの太陽光や蛍光灯等の外光の表面反射ならびに映り込みを防止する手段として、ディスプレイの表面に凹凸を設け外光を乱反射させたり、高屈折率と低屈折率の薄膜を交互に積層して光の反射を防止する方法が行われている。しかしながら、外光を乱反射させる方法では、ディスプレイ上の画像がぼやけて見えるため画像の視認性向上の点で不十分であった。   Generally, as a means to prevent surface reflection and reflection of external light such as sunlight and fluorescent lamps of the display, unevenness is provided on the surface of the display to diffuse external light, or thin films with high and low refractive indexes are alternately used. A method of preventing the reflection of light by laminating the layers is used. However, the method of irregularly reflecting external light is insufficient in terms of improving the visibility of the image because the image on the display looks blurred.

これを改良する方法として、透明フィルムの表面に下層側からハードコート層、高屈折率層、低屈折率層とを順次設けた反射防止フィルムが提案されている(特許文献1など参照)。しかしながら、この方法では、高屈折率層と低屈折率層の屈折率差が大きいと可視光域の低波長領域もしくは高波長領域で反射率が最低反射率付近よりも相対的に高くなり、反射光が青色や赤色を帯び、色調の純度の点で問題がある。また、高屈折率層に含まれる導電性金属酸化物微粒子が多く、かつ、膜厚が薄いために反射防止フィルムとしてのヘイズが上昇して画像のクリア性を落とすと共に、表面に凹凸が生じて表面硬度、耐薬品性が低下するという問題が生じる上、積層数が多いことにより高コストとなる。   As a method for improving this, an antireflection film has been proposed in which a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are sequentially provided on the surface of a transparent film from the lower layer side (see Patent Document 1, etc.). However, in this method, if the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer is large, the reflectance is relatively higher in the visible light region in the low wavelength region or in the high wavelength region than in the vicinity of the lowest reflectance. The light is tinged with blue or red, and there is a problem in the purity of the color tone. In addition, since the conductive metal oxide fine particles contained in the high refractive index layer are many and the film thickness is thin, the haze as an antireflection film is increased to reduce the clearness of the image, and the surface is uneven. There arises a problem that the surface hardness and chemical resistance are lowered, and the cost is increased due to the large number of laminated layers.

また、アンチグレアハードコート層上に、多孔性シリカとポリシロキサン系ポリマーを順次積層する方法が提案されている(特許文献2参照)。   In addition, a method of sequentially laminating porous silica and a polysiloxane polymer on the antiglare hard coat layer has been proposed (see Patent Document 2).

しかしながら、この方法では、アンチグレアハードコート層によりヘイズが高いものとなり、画像表示装置用反射防止フィルムとして用いたときに画像のクリアさが損なわれるという問題がある。また、ポリシロキサン系ポリマーの屈折率が十分に低くなければ可視光領域全域での反射を抑制することが困難であり、かつ可視光域の低波長領域もしくは高波長領域で反射率が高くなり反射光の色調がニュートラルでなくなるという問題が生じる。   However, this method has a problem that the antiglare hard coat layer has a high haze, and the clearness of the image is impaired when used as an antireflection film for an image display device. In addition, if the refractive index of the polysiloxane polymer is not sufficiently low, it is difficult to suppress reflection in the entire visible light region, and the reflectance increases in the low or high wavelength region of the visible light region. There arises a problem that the color of light is not neutral.

一方、近赤外線遮蔽フィルムとしては透明フィルムに、近赤外線を吸収する色素を透明高分子樹脂バインダーに分散した組成物をコーティングし、近赤外線を遮蔽する方法が行われている(特許文献3,4など参照)。さらに、赤色純度を低下させる590nm付近の可視線を吸収する色素を透明高分子樹脂バインダーに分散した組成物をコーティングし、色調補正することも行われている(特許文献5,6など参照)。   On the other hand, as a near-infrared shielding film, a method of shielding a near-infrared ray by coating a transparent film with a composition in which a pigment that absorbs near-infrared rays is dispersed in a transparent polymer resin binder is performed (Patent Documents 3 and 4). Etc.) Furthermore, a color tone correction is also performed by coating a composition in which a transparent polymer resin binder is dispersed with a dye that absorbs visible light near 590 nm, which reduces red purity (see Patent Documents 5 and 6).

PDPの普及を図るために、パネルとともにPDP用光学フィルターも低価格化が望まれている。その一つの方法として、これまで反射防止フィルムと近赤外線遮蔽フィルムを粘着剤を介して貼り合わせていたものを、反射防止フィルムの反射防止層と反対側の面に近赤外線遮蔽層を設けることで、一つのフィルムに反射防止と近赤外線遮蔽の機能の統合化を図ることにより、材料点数および貼り合わせ工程の削減が提案されている(特許文献7など参照)。   In order to popularize the PDP, it is desired to reduce the price of the optical filter for the PDP together with the panel. One method is to provide a near-infrared shielding layer on the surface opposite to the anti-reflection layer of the anti-reflection film, which has been bonded to the anti-reflection film and the near-infrared shielding film with an adhesive. A reduction in the number of materials and the bonding process has been proposed by integrating the functions of antireflection and near-infrared shielding on a single film (see Patent Document 7, etc.).

しかしながら、これらの反射防止層は上記したように反射光の色調がニュートラルでなく、さらに表面の耐擦傷性も満足できるレベルにないなどの問題がある。さらに、近赤外線遮蔽層においてもより高い遮蔽性能が求められているとともに、近赤外線遮蔽だけでなく画像のコントラストを上げるための色調補正機能を付与することも求められている。
特開2001−350001号公報 特開2003−139908号公報 特開平11−326631号公報 特許3308545号公報 特開昭58−153904号公報 特許3311720号公報 特開平10−156991号公報
However, these antireflection layers have problems that the color tone of the reflected light is not neutral as described above, and the surface scratch resistance is not at a satisfactory level. Further, a higher shielding performance is required for the near infrared shielding layer, and it is also required to provide not only the near infrared shielding but also a color tone correction function for increasing the contrast of the image.
JP 2001-350001 A JP 2003-139908 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-326631 Japanese Patent No. 3308545 JP 58-153904 A Japanese Patent No. 3311720 Japanese Patent Laid-Open No. 10-156991

本発明は、かかる背景技術に鑑み、基材フィルムの一方の面に表面反射率が低く、色目がニュートラルな反射防止性とともに透明性、耐擦傷性、帯電防止性を有する反射防止層を、反対側の面に近赤外線遮蔽性能に優れ、かつ赤色純度を向上させるための色調補正機能を併せ持つ近赤外線遮蔽層を設けることで、一つのフィルムに反射防止と近赤外線遮蔽、さらに色調補正の機能を併せ持つ多機能な光学フィルムを提供せんとするものであり、本発明の光学フィルムを用いることでより低コストなPDP用光学フィルターを提供せんとするものである。   In view of the background art, the present invention is directed to an antireflection layer having low surface reflectance on one surface of a base film, neutral antireflection and transparency, scratch resistance, and antistatic properties. By providing a near-infrared shielding layer with excellent near-infrared shielding performance and a color tone correction function to improve red purity on the side surface, one film has anti-reflection, near-infrared shielding, and color tone correction functions. It is intended to provide a multifunctional optical film having both of them, and to provide a lower cost optical filter for PDP by using the optical film of the present invention.

本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。すなわち、本発明の光学フィルムは、基材フィルムの一方の面に、0.3μm以上の膜厚を有し屈折率が1.62以下であるA層、および屈折率がA層より低く、かつ1.42以下であるB層の少なくとも2層が、B層よりA層の方が基材フィルムに近い位置で積層されてなり、該基材フィルムの他方の面に、近赤外線吸収能を有する色素を透明な高分子樹脂中に分散してなるC層が積層されてなる光学フィルムにおいて、該B層の波長400〜700nmにおける表面反射スペクトルが、(1)最低反射率が0.6%以上、2.0%以下、(2)最高反射率が3.5%以下、(3)最高反射率と最低反射率の差が2.5%以下、の3条件を全て満たし、かつ、該C層が、(4)波長820nmにおける透過率が20%以下、(5)波長850nmにおける透過率が15%以下、(6)波長950nmから1150nmにおける透過率が10%以下、の3条件を全て満たす光学フィルムである。   The present invention employs the following means in order to solve such problems. That is, the optical film of the present invention has an A layer having a film thickness of 0.3 μm or more and a refractive index of 1.62 or less on one surface of the base film, and a refractive index lower than that of the A layer, and At least two of the B layers of 1.42 or less are laminated at a position where the A layer is closer to the base film than the B layer, and the other surface of the base film has a near-infrared absorbing ability. In an optical film formed by laminating a C layer formed by dispersing a pigment in a transparent polymer resin, the surface reflection spectrum of the B layer at a wavelength of 400 to 700 nm is (1) the minimum reflectance is 0.6% or more. 2.0% or less, (2) the maximum reflectance is 3.5% or less, (3) the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance is 2.5% or less, and all three conditions are satisfied, and the C The layer has (4) a transmittance of 20% or less at a wavelength of 820 nm, and (5) a wavelength of 85. nm transmittance of 15% or less in, (6) transmittance at 1150nm wavelength 950nm of 10% or less, an optical film that satisfies all three conditions.

また、本発明の光学フィルムを用い、これと電磁波遮蔽能や衝撃吸収能を有するフィルム、またはガラス板などと貼り合わされてなるプラズマディスプレイパネル用光学フィルターである。   Further, the present invention is an optical filter for a plasma display panel, which uses the optical film of the present invention and is bonded to a film having an electromagnetic wave shielding ability or an impact absorbing ability, or a glass plate.

本発明によれば、反射防止性、耐擦傷性に優れた反射防止層と、近赤外線遮蔽性、色調補正能に優れた近赤外線遮蔽層を併せ持つ光学フィルムを提供することが可能であり、高性能化とともに価格低減を図ることが可能なPDP用光学フィルターの提供が可能となる。   According to the present invention, it is possible to provide an optical film having both an antireflection layer excellent in antireflection properties and scratch resistance, and a near infrared shielding layer excellent in near infrared shielding properties and color tone correction capability. It becomes possible to provide an optical filter for PDP that can reduce the price as well as performance.

図1は、本発明の光学フィルムの好ましい態様の一例を示す模式断面図である。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a preferred embodiment of the optical film of the present invention.

本発明の好ましい態様の一例として、基材フィルムの一方の面に、A層とB層の少なくとも2層からなる反射防止層が積層されてなる。さらに基材フィルムの反射防止層と反対側の面には近赤外線吸収能を有する色素を透明高分子樹脂バインダーに分散させたC層が積層されてなる。尚、このC層にはさらにネオンガスの発光に伴う赤色純度を低下を防ぐための波長590nm付近の可視光線を吸収する色素を含有させることで色調補正機能を持たせることもできる。さらに、その上に半強化ガラスや、あるいは電磁波遮蔽フィルムなどの他の光学フィルター要素と貼り合わせるための透明粘着層が積層されて使用される。   As an example of a preferred embodiment of the present invention, an antireflection layer composed of at least two layers of an A layer and a B layer is laminated on one surface of a base film. Further, a C layer in which a pigment having near infrared absorption ability is dispersed in a transparent polymer resin binder is laminated on the surface of the base film opposite to the antireflection layer. The C layer may further have a color tone correction function by containing a dye that absorbs visible light having a wavelength of about 590 nm in order to prevent a decrease in red purity associated with emission of neon gas. Further, a transparent adhesive layer for laminating with other optical filter elements such as semi-tempered glass or electromagnetic wave shielding film is laminated thereon.

本発明の光学フィルムは、まず基材フィルムの一方の面に、A層とB層の少なくとも2層からなる反射防止層を積層して、まず反射防止フィルムを作製した後、基材フィルムの反対面に、C層を積層するのが好ましい。そうすることでA層やB層の形成時に用いられる紫外線などの活性線に近赤外線吸収色素を暴露させることなくできる。   In the optical film of the present invention, an antireflection layer comprising at least two layers of A layer and B layer is first laminated on one surface of a base film, and after first producing the antireflection film, the opposite of the base film It is preferable to laminate a C layer on the surface. By doing so, the near-infrared absorbing dye can be exposed to actinic rays such as ultraviolet rays used when forming the A layer and the B layer.

本発明に用いられる基材フィルムとしては、溶融製膜もしくは溶液製膜可能なフィルムが好適に用いられる。その具体例としては、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニレンスルフィド、アセテート、ポリカーボネート、アクリル系樹脂などからなるフィルムを挙げることができる。これらの内、特に透明性、機械的強度、寸法安定性などに優れた熱可塑性樹脂からなるフィルムが好ましく、光学フィルムに用いるためには、光線透過率が高く、ヘイズ値が低いことが好ましいため、ポリエステル、アセテートおよびアクリル系樹脂より選ばれた少なくとも1種からなるフィルムが好ましい。透明性、ヘイズ値、機械特性の点から、特にポリエステルからなるフィルムが好ましく用いられる。   As the substrate film used in the present invention, a film that can be formed into a melt or a solution is preferably used. Specific examples thereof include films made of polyester, polyolefin, polyamide, polyphenylene sulfide, acetate, polycarbonate, acrylic resin, and the like. Among these, a film made of a thermoplastic resin excellent in transparency, mechanical strength, dimensional stability, etc. is particularly preferable. For use in an optical film, it is preferable that the light transmittance is high and the haze value is low. A film composed of at least one selected from polyester, acetate and acrylic resin is preferred. In view of transparency, haze value, and mechanical properties, a film made of polyester is particularly preferably used.

例えば、基材フィルムの400〜800nmでの光線透過率は好ましくは40%以上、より好ましくは60%以上である。また、基材フィルムのヘイズ値は、好ましくは5%以下、より好ましくは3%以下である。これら条件の両方を満たすと、画像表示装置用部材として用いたときに、鮮明性の点でさらに好ましい。また、光線透過率の上限値は99.5%程度まで、またヘイズ値の下限値は0.1%程度までが実用的な範囲である。   For example, the light transmittance at 400 to 800 nm of the substrate film is preferably 40% or more, more preferably 60% or more. The haze value of the substrate film is preferably 5% or less, more preferably 3% or less. Satisfying both of these conditions is more preferable in terms of sharpness when used as a member for an image display device. Further, the upper limit of the light transmittance is about 99.5%, and the lower limit of the haze value is about 0.1%.

本発明で好ましく用いられるポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレンナフタレートなどが挙げられる。これらの2種以上が混合されたものであってもよい。また、これらと他のジカルボン酸成分やジオール成分が共重合されたポリエステルであってもよいが、その共重合割合は、結晶配向が完了したフィルムにおいて、その結晶化度が好ましくは25%以上、より好ましくは30%以上、さらに好ましくは35%以上となる範囲が好ましい。結晶化度が25%未満の場合には、寸法安定性や機械的強度が不十分となりやすい。結晶化度は、ラマンスペクトル分析法により測定することができる。   Examples of the polyester preferably used in the present invention include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polypropylene naphthalate. Two or more of these may be mixed. In addition, these may be a polyester copolymerized with other dicarboxylic acid components and diol components, but the copolymerization ratio is preferably 25% or more in the degree of crystallinity in a film in which crystal orientation is completed. More preferably, the range is 30% or more, and more preferably 35% or more. When the crystallinity is less than 25%, dimensional stability and mechanical strength tend to be insufficient. The degree of crystallinity can be measured by a Raman spectrum analysis method.

また、本発明で用いられる基材フィルムは、2層以上の積層構造の複合体フィルムであっても良い。複合体フィルムとしては、例えば、内層部に実質的に粒子を含有せず、表層部に粒子を含有させた層を設けた複合体フィルム、内層部に粗大粒子を有し、表層部に微細粒子を含有させた複合体フィルム、および内層部が微細な気泡を含有した層を有する複合体フィルムなどが挙げられる。また、上記複合体フィルムは、内層部と表層部を構成するポリマーが、化学的に異種のポリマーであっても同種のポリマーであっても良い。   The base film used in the present invention may be a composite film having a laminated structure of two or more layers. As the composite film, for example, a composite film that is substantially free of particles in the inner layer portion and provided with a layer containing particles in the surface layer portion, has coarse particles in the inner layer portion, and fine particles in the surface layer portion. And a composite film having a layer in which the inner layer portion contains fine bubbles. In the composite film, the polymer constituting the inner layer portion and the surface layer portion may be a chemically different polymer or the same kind of polymer.

本発明における基材フィルムは、フィルムの熱安定性、特に寸法安定性や機械的強度を十分なものとし、平面性を良好にする観点から、二軸延伸により結晶配向されたフィルムであることが好ましい。二軸延伸により結晶配向しているとは、未延伸すなわち結晶配向が完了する前の熱可塑性樹脂フィルムを長手方向および幅方向にそれぞれ好適には2.5〜5倍程度延伸し、その後、熱処理により結晶配向を完了させたものであり、広角X線回折で二軸配向のパターンを示すものをいう。   The base film in the present invention is a film that is crystallized by biaxial stretching from the viewpoint of ensuring sufficient thermal stability, particularly dimensional stability and mechanical strength of the film, and improving flatness. preferable. The crystal orientation by biaxial stretching means that the thermoplastic film before unstretched, that is, before the crystal orientation is completed, is preferably stretched about 2.5 to 5 times in the longitudinal direction and the width direction, respectively, and then heat-treated. The crystal orientation is completed by the above, and it indicates a biaxial orientation pattern by wide-angle X-ray diffraction.

本発明で用いられる基材フィルムの厚みは、機械的強度やハンドリング性などの点から、好ましくは10〜500μm、より好ましくは20〜300μmである。   The thickness of the base film used in the present invention is preferably 10 to 500 μm, more preferably 20 to 300 μm, from the viewpoint of mechanical strength and handling properties.

本発明の基材フィルム中には、本発明の効果を阻害しない範囲内で各種の添加剤や樹脂組成物、架橋剤などを含有しても良い。例えば酸化防止剤、耐熱安定剤、紫外線吸収剤、有機、無機の粒子、顔料、染料、帯電防止剤、核剤、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ゴム系樹脂、ワックス組成物、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、メチロール化、アルキロール化された尿素系架橋剤、アクリルアミド、ポリアミド、エポキシ樹脂、イソシアネート化合物、アジリジン化合物、各種シランカップリング剤、各種チタネート系カップリング剤などを挙げることができる。   The base film of the present invention may contain various additives, resin compositions, cross-linking agents and the like within a range that does not impair the effects of the present invention. For example, antioxidants, heat stabilizers, UV absorbers, organic and inorganic particles, pigments, dyes, antistatic agents, nucleating agents, acrylic resins, polyester resins, urethane resins, polyolefin resins, polycarbonate resins, alkyd resins, epoxy resins , Urea resin, phenol resin, silicone resin, rubber resin, wax composition, melamine crosslinking agent, oxazoline crosslinking agent, methylolated, alkylolized urea crosslinking agent, acrylamide, polyamide, epoxy resin, isocyanate compound , Aziridine compounds, various silane coupling agents, various titanate coupling agents, and the like.

これらの中でも無機の粒子、例えばシリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、アルミナゾル、カオリン、タルク、マイカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、カーボンブラック、ゼオライト、酸化チタン、金属微粉末などを添加した場合には、易滑性、耐傷性などが向上するので特に好ましい。無機粒子の平均粒子径は、0.005〜5μmが好ましく、より好ましくは0.05〜1μm程度である。ここで言う粒子径とは、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて得られた値である。また、平均粒子径は、50%分布粒子径とする。なお、50%分布粒子径とは粒度分布が50%のところの粒子径を指し、今後特に断りがない限り平均粒子径とはこの粒子径を指す。また、無機粒子の添加量は、基材フィルム100質量部中に0.05〜20質量部、好ましくは0.1〜10質量部であるのが望ましい。   Among these, when inorganic particles such as silica, colloidal silica, alumina, alumina sol, kaolin, talc, mica, calcium carbonate, barium sulfate, carbon black, zeolite, titanium oxide, metal fine powder, etc. are added, it is easy to slip. This is particularly preferable since the property and scratch resistance are improved. The average particle size of the inorganic particles is preferably 0.005 to 5 μm, more preferably about 0.05 to 1 μm. The particle diameter here is a value obtained using a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus. The average particle size is 50% distributed particle size. The 50% distribution particle size refers to the particle size where the particle size distribution is 50%, and the average particle size refers to this particle size unless otherwise specified. Moreover, the addition amount of inorganic particles is 0.05 to 20 parts by mass, preferably 0.1 to 10 parts by mass in 100 parts by mass of the base film.

本発明で用いる基材フィルムは、A層やC層との接着性を向上させる目的で、基材フィルムの少なくとも一方の面に易接着層が形成されていることが好ましく、基材フィルムの両面に形成されているとなお好ましい。本発明でいう易接着層とは、基材フィルムの表面に積層構造的に形成されて存在する膜状のものをいう。易接着層を構成する成分としては、A層あるいはC層と十分な接着性を有するものであれば特に限定されないが、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂などを好適に用いることができる。特にポリエステルからなるフィルム基材を用いる場合は、接着性の点から、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂から選ばれる樹脂を用いることがより好ましく、また、異なる2種の樹脂、例えばポリエステル樹脂とウレタン樹脂、ポリエステル樹脂とアクリル樹脂、アクリル樹脂とウレタン樹脂を組み合わせて用いてもよい。また、基材フィルムのそれぞれの面に形成する易接着層は接着性の点から異種の樹脂を用いる方が好ましい。例えば、A層側にはポリエステル系樹脂を、C層側にはアクリル樹脂を用いるのが好ましい。   The base film used in the present invention preferably has an easy-adhesion layer formed on at least one surface of the base film for the purpose of improving the adhesiveness with the A layer or the C layer. It is still more preferable that it is formed. The easy-adhesion layer as used in the field of this invention means the film-form thing which is formed in the laminated structure on the surface of a base film. The component constituting the easy-adhesion layer is not particularly limited as long as it has sufficient adhesiveness with the A layer or the C layer, but is not limited to polyester resin, polycarbonate resin, epoxy resin, alkyd resin, acrylic resin, urea resin, urethane. Resins and the like can be suitably used. In particular, when a film substrate made of polyester is used, it is more preferable to use a resin selected from a polyester resin, an acrylic resin, and a urethane resin from the viewpoint of adhesion, and two different resins, for example, a polyester resin and a urethane are used. A combination of resin, polyester resin and acrylic resin, or acrylic resin and urethane resin may be used. Moreover, it is more preferable to use a different resin from the point of adhesiveness for the easy-adhesion layer formed on each surface of the base film. For example, it is preferable to use a polyester resin on the A layer side and an acrylic resin on the C layer side.

易接着層は干渉縞を発生させるので、それを低減させる工夫が必要である。そのためには易接着層の屈折率は、(易接着層の屈折率)={(基材フィルムの屈折率)×(A層若しくはC層の屈折率)}1/2±0.02を満たすことが干渉縞を低減させることから好ましく、基材フィルムがポリエステルの場合には、易接着層の屈折率は1.53〜1.60であることが好ましい。 Since the easy-adhesion layer generates interference fringes, it is necessary to devise measures to reduce them. For this purpose, the refractive index of the easy adhesion layer satisfies (refractive index of easy adhesion layer) = {(refractive index of base film) × (refractive index of layer A or C)} 1/2 ± 0.02. Is preferable from the viewpoint of reducing interference fringes, and when the base film is polyester, the refractive index of the easy-adhesion layer is preferably 1.53 to 1.60.

基材フィルムを溶融押出後、二軸延伸して製膜する場合には、易接着層は製膜工程の横延伸工程の前段階で両面に塗工し、製膜と同時に形成する方法が好ましく用いられる。その場合、前記した樹脂は水性エマルジョン塗料として塗工するのが好ましく、易接着層の厚みは0.03〜0.20μmが好適である。   When a base film is melt-extruded and then biaxially stretched to form a film, an easy-adhesion layer is preferably applied on both sides in the previous stage of the transverse stretching process of the film-forming process and formed simultaneously with the film formation. Used. In that case, the above-described resin is preferably applied as an aqueous emulsion paint, and the thickness of the easy-adhesion layer is preferably 0.03 to 0.20 μm.

本発明において、表面の反射率が低く、色目がニュートラルな反射防止層を得るためには、屈折率が特定な条件を満たすA層、B層の少なくとも2層を、B層よりA層の方が基材フィルムに近い位置で積層して構成し、かつ、これらのA層、B層によって、光学フィルムの最低反射率および最高反射率を特定な条件で満たすことが重要である。   In the present invention, in order to obtain an antireflection layer having a low surface reflectance and a neutral color, at least two layers of the A layer and the B layer satisfying specific conditions of the refractive index are arranged in the direction of the A layer from the B layer. Is laminated at a position close to the base film, and it is important that the A layer and the B layer satisfy the minimum reflectance and the maximum reflectance of the optical film under specific conditions.

ここでいう光学フィルムの最低反射率および最高反射率の特定な条件とは、波長400〜700nmにおける表面反射スペクトルが、(1)最低反射率が0.6%以上、2.0%以下であり、(2)最高反射率が3.5%以下であり、(3)最高反射率と最低反射率の差が2.5%以下であるという3つの条件を同時に満たすことである。すなわち、可視光域で有効な反射防止効果を得るために、波長400〜700nmに置ける表面反射スペクトルの最高反射率が3.5%以下である必要がある。また、反射色が特定の色調を帯びることを防止するために、最低反射率が0.6%以上、2.0%以下で、かつ、最高反射率と最低反射率との差が2.5%以下にすることが必要である。より好ましくは波長500〜700nmに置ける表面反射スペクトルの(1)の条件を満たした上に、さらに(2)最高反射率が2.2%以下、(3)最高反射率と最低反射率との差が1.5%以下という条件を満たすことである。なお、ここでいう反射率の測定方法については、後述で定義したとおりである。   The specific conditions of the minimum reflectance and the maximum reflectance of the optical film referred to here are: (1) the minimum reflectance is 0.6% or more and 2.0% or less in the surface reflection spectrum at a wavelength of 400 to 700 nm. (2) The maximum reflectance is 3.5% or less, and (3) the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance is 2.5% or less. That is, in order to obtain an antireflection effect effective in the visible light region, the maximum reflectance of the surface reflection spectrum that can be placed at a wavelength of 400 to 700 nm needs to be 3.5% or less. In order to prevent the reflected color from having a specific color tone, the minimum reflectance is 0.6% or more and 2.0% or less, and the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance is 2.5. % Or less is necessary. More preferably, in addition to satisfying the condition (1) of the surface reflection spectrum that can be placed at a wavelength of 500 to 700 nm, (2) the maximum reflectance is 2.2% or less, and (3) the maximum reflectance and the minimum reflectance The condition is that the difference is 1.5% or less. The reflectance measuring method here is as defined later.

また、本発明における反射防止層は、PDPの最表面に設置使用されることが多い。その場合、反射防止層の表面に付着した粉塵などを布で拭き取ったりした際に傷がつくと困るため、耐擦傷性が3級以上であることが好ましい。好ましくは4級以上である。耐擦傷性は、反射防止層側表面を#0000のスチールウールに250gの荷重をかけて、ストローク幅10cm、速度30mm/secで10往復摩擦した後、表面を目視で観察し、傷の付き方を次の5段階で評価したものである。
5級:傷が全く付かない。
4級:傷が1本以上5本以下。
3級:傷が6本以上10本以下。
2級:傷が11本以上。
1級:全面に無数の傷。
Further, the antireflection layer in the present invention is often installed and used on the outermost surface of the PDP. In that case, it is preferable that the scratch resistance is grade 3 or higher, since it is difficult to scratch when dust or the like adhering to the surface of the antireflection layer is wiped off with a cloth. Preferably it is quaternary or higher. Scratch resistance is determined by applying a load of 250 g to # 0000 steel wool on the surface of the antireflection layer and rubbing it 10 times at a stroke width of 10 cm and a speed of 30 mm / sec. Is evaluated in the following five stages.
5th grade: No scratches.
Fourth grade: 1 to 5 scratches.
3rd grade: 6 to 10 scratches.
Second grade: 11 or more scratches.
First grade: Countless scratches on the entire surface.

さらに、反射防止層への埃や粉塵の付着を防止するため、本発明の反射防止層側表面の抵抗値は1×1012Ω/□以下であることが好ましく、さらには1×1011Ω/□以下の帯電防止性を有することが好ましい。 Furthermore, in order to prevent dust and dust from adhering to the antireflection layer, the resistance value of the antireflection layer side surface of the present invention is preferably 1 × 10 12 Ω / □ or less, more preferably 1 × 10 11 Ω. It is preferable to have the following antistatic properties.

また、本発明の光学フィルムのヘイズは1.5%以下であることが好ましく、よりクリアな画像を得るためにも0.5%以下であることがさらに好ましい。   Further, the haze of the optical film of the present invention is preferably 1.5% or less, and more preferably 0.5% or less in order to obtain a clearer image.

上記した特性の光学フィルムを得るために、本発明では以下で述べる反射防止層を形成することで達成することができる。   In order to obtain the optical film having the above characteristics, the present invention can be achieved by forming an antireflection layer described below.

本発明の光学フィルムは、A層とB層の少なくとも2層を基材フィルムの少なくとも片面に積層することが必要であり、かつ、B層より屈折率が高いA層を基材フィルムに近い位置に積層することが必要である。積層の順序が異なると、反射防止機能を有さなくなる。   In the optical film of the present invention, it is necessary to laminate at least two layers of the A layer and the B layer on at least one surface of the base film, and the A layer having a higher refractive index than the B layer is close to the base film. It is necessary to laminate them. If the stacking order is different, the antireflection function is not provided.

また、A層と基材フィルムの間、A層とB層の間、B層と表面の間には、反射防止機能を阻害しない範囲で他の層が設けられても良いが、反射色の色調やコストを含めた生産性の点から、基材フィルム上にA層を設け、その上にB層を設ける構成とすることが好ましい。なお、ここでいう屈折率の測定方法については、後述で定義したとおりである。   In addition, another layer may be provided between the A layer and the base film, between the A layer and the B layer, and between the B layer and the surface, as long as the antireflection function is not hindered. From the viewpoint of productivity including color tone and cost, it is preferable that the A layer is provided on the base film and the B layer is provided thereon. The refractive index measurement method here is as defined later.

本発明のA層は、0.3μm以上の膜厚を有し、屈折率が1.62以下で、かつ、B層より高いことが必要である。このA層の屈折率が1.62より高いと、最高反射率が3.5%を超え、特定波長域の反射光が相対的に強くなり、ニュートラルな色調を実現することができない。また、このA層の屈折率がB層より低いと、反射防止能を有さなくなる。また、A層の屈折率は1.48以上であることが、最低反射率の上昇を抑えることから好ましい。   The A layer of the present invention needs to have a thickness of 0.3 μm or more, a refractive index of 1.62 or less, and higher than the B layer. When the refractive index of the A layer is higher than 1.62, the maximum reflectance exceeds 3.5%, the reflected light in a specific wavelength region becomes relatively strong, and a neutral color tone cannot be realized. Further, when the refractive index of the A layer is lower than that of the B layer, it has no antireflection ability. Further, the refractive index of the A layer is preferably 1.48 or more in order to suppress an increase in the minimum reflectance.

なお、このA層の膜厚が0.3μmを下回ると、400〜700nm域での最高反射率と最低反射率の差が大きくなり、ニュートラルな色調を得ることが難しくなる。   If the film thickness of this A layer is less than 0.3 μm, the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance in the 400 to 700 nm region becomes large, and it becomes difficult to obtain a neutral color tone.

このA層の屈折率を1.62以下の層に形成する組成物としては、各種樹脂成分を1成分系または混合して多成分系のいずれの樹脂成分でもよく、また、かかる樹脂成分に染料、顔料、金属酸化物微粒子などの添加剤を任意の割合で混合したものなどいずれの組成でもよいが、本発明の光学フィルムの表面に塵埃が付着するのを防止するため、導電性成分がこのA層中に含まれている組成物であることが好ましい。   As a composition for forming the refractive index of the A layer in a layer having a refractive index of 1.62 or less, various resin components may be one component system or mixed to be any multi-component resin component. Any composition may be used, such as a mixture of pigment, metal oxide fine particles and other additives in an arbitrary ratio. However, in order to prevent dust from adhering to the surface of the optical film of the present invention, the conductive component is added to this composition. A composition contained in the A layer is preferred.

かかるA層を構成する樹脂成分としては、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂、含リン系樹脂、含スルフィド樹脂、含ハロゲン樹脂などの樹脂成分を単体または混合系を用いることが出来るが、特に、硬度と耐久性などの点から、シリコーン系樹脂とアクリル系樹脂を用いるのが好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点から、アクリル系樹脂が好ましく、より好ましくは、活性線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂がよい。特に好ましくは、かかるアクリル系樹脂の中でも、(メタ)アクリレート系樹脂が、活性光線照射によりラジカル重合し易くて、形成される膜の耐溶剤性や硬度を向上させる効果を奏するのでよい。さらに最も好ましくは、(メタ)アクリロイル基が分子内に2個以上の多官能(メタ)アクリレート化合物からなる(メタ)アクリレート系樹脂は、耐溶剤性等が向上するのでよい。例えば、かかる(メタ)アクリレート系樹脂としてはペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートや、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス−(2−ヒドロキシエチル)−イソシアヌル酸エステルトリ(メタ)アクリレート等の3官能(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の4官能以上の(メタ)アクリレート等が挙げられる。   As the resin component constituting the A layer, a resin component such as an acrylic resin, a urethane resin, a melamine resin, an organic silicate compound, a silicone resin, a phosphorus-containing resin, a sulfide-containing resin, or a halogen-containing resin can be used alone or Although a mixed system can be used, it is particularly preferable to use a silicone resin and an acrylic resin from the viewpoints of hardness and durability. Furthermore, from the viewpoint of curability, flexibility, and productivity, an acrylic resin is preferable, and an active ray curable acrylic resin or a thermosetting acrylic resin is more preferable. Particularly preferably, among such acrylic resins, the (meth) acrylate resin is easily radically polymerized by irradiation with actinic rays, and may exhibit the effect of improving the solvent resistance and hardness of the formed film. Most preferably, a (meth) acrylate resin having a (meth) acryloyl group composed of two or more polyfunctional (meth) acrylate compounds in the molecule may improve solvent resistance. For example, as such (meth) acrylate resin, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, ethylene-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris- ( 2-hydroxyethyl) -isocyanuric acid ester tri (meth) acrylate such as tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. Tetrafunctional or higher functional (meth) acrylates may be mentioned.

かかるA層の樹脂成分には、粒子の分散性を向上させるため、カルボキシル基や、リン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有する(メタ)アクリレート化合物(モノマー)を使用することができる。具体的には、酸性官能基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸などの不飽和カルボン酸、モノ(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)アシッドホスフェート、ジフェニル−2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート等のリン酸(メタ)アクリル酸エステル、2−スルホエステル(メタ)アクリレート等が挙げられる。その他、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合などの極性を持った結合を有する(メタ)アクリレート化合物を使用することができる。さらに、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー等の、ウレタン結合を有している樹脂であれば、極性も高く粒子の分散性がよくなるので特に好ましい。   In order to improve the dispersibility of the particles, a (meth) acrylate compound (monomer) having an acidic functional group such as a carboxyl group, a phosphate group, or a sulfonate group can be used for the resin component of the A layer. . Specifically, as the acidic functional group-containing monomer, unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, Examples thereof include phosphoric acid (meth) acrylic acid esters such as mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) acid phosphate and diphenyl-2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, and 2-sulfoester (meth) acrylate. In addition, a (meth) acrylate compound having a polar bond such as an amide bond, a urethane bond, or an ether bond can be used. Furthermore, a resin having a urethane bond, such as a urethane (meth) acrylate oligomer, is particularly preferable because of its high polarity and good particle dispersibility.

本発明でA層を形成する際に、塗布したバインダー成分の硬化を進めるために開始剤を使用してもよい。該開始剤としては、塗布したバインダー成分を、ラジカル反応、アニオン反応、カチオン反応等による重合および/または架橋反応を開始あるいは促進せしめるものであり、従来から公知の各種光重合開始剤が使用可能である。かかる光重合開始剤としては、具体的には、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイド等のサルファイド類や、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体や、ヒドラゾン、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゼンジアゾニウム塩等のジアゾ化合物や、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノン、t−ブチルアントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、2−クロロアントラキノン等の芳香族カルボニル化合物や、p−ジメチルアミノ安息香酸メチル、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、D−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、p−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピル等のジアルキルアミノ安息香酸エステルや、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物や、9−フェニルアクリジン、9−p−メトキシフェニルアクリジン、9−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体や、9,10−ジメチルベンズフェナジン、9−メチルベンズフェナジン、10−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン誘導体や、6,4’,4”−トリメトキシ−2、3−ジフェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体や、2,4,5−トリフェニルイミダゾイル二量体、2−ニトロフルオレン、2,4,6−トリフェニルピリリウム四弗化ホウ素塩、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、3,3’−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等が挙げられる。   In forming the A layer in the present invention, an initiator may be used to advance curing of the applied binder component. As the initiator, the applied binder component initiates or accelerates polymerization and / or crosslinking reaction by radical reaction, anion reaction, cation reaction, etc., and various conventionally known photopolymerization initiators can be used. is there. Specific examples of the photopolymerization initiator include sulfides such as sodium methyldithiocarbamate sulfide, diphenyl monosulfide, dibenzothiazoyl monosulfide and disulfide, thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, Thioxanthone derivatives such as 2,4-diethylthioxanthone, azo compounds such as hydrazone and azobisisobutyronitrile, diazo compounds such as benzenediazonium salt, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzophenone, dimethylaminobenzophenone Michler's ketone, benzylanthraquinone, t-butylanthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, Aromatic carbonyl compounds such as -chloroanthraquinone, dialkylaminobenzoic acid esters such as methyl p-dimethylaminobenzoate, ethyl p-dimethylaminobenzoate, butyl D-dimethylaminobenzoate, isopropyl p-diethylaminobenzoate, Peroxides such as benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, cumene hydroperoxide, 9-phenylacridine, 9-p-methoxyphenylacridine, 9-acetylaminoacridine, benzacridine, etc. Acridine derivatives, phenazine derivatives such as 9,10-dimethylbenzphenazine, 9-methylbenzphenazine, 10-methoxybenzphenazine, and 6,4 ′, 4 ″ -trimethoxy-2,3-diphenylquinoxaline Quinoxaline derivatives, 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer, 2-nitrofluorene, 2,4,6-triphenylpyrylium tetrafluoride boron salt, 2,4,6-tris (trichloromethyl) ) -1,3,5-triazine, 3,3′-carbonylbiscoumarin, thiomichler ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- ( 4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, and the like.

また、本発明でA層を形成する際に、上記開始剤の、酸素阻害による感度の低下を防止するために、光重合開始剤にアミン化合物を共存させてもよい。このようなアミン化合物としては、例えば、脂肪族アミン化合物や、芳香族アミン化合物等の不揮発性のものであれば、特に限定されないが、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等が適切である。   Moreover, when forming A layer by this invention, in order to prevent the fall of the sensitivity of the said initiator by oxygen inhibition, you may coexist an amine compound with a photoinitiator. Such an amine compound is not particularly limited as long as it is a non-volatile compound such as an aliphatic amine compound or an aromatic amine compound. For example, triethanolamine, methyldiethanolamine and the like are suitable.

かかるA層中に含まれるのが好ましい導電性成分としては、導電性酸化物微粒子、無機塩のキレート、有機塩など問題のない範囲で有効に用いられるが、湿度依存性の少なさ、加工条件による変動の少なさの点から、導電性酸化物微粒子を用いるのが好ましい。   The conductive component that is preferably contained in the layer A is effectively used within the range of no problem, such as conductive oxide fine particles, inorganic salt chelates, and organic salts, but has low humidity dependency and processing conditions. It is preferable to use conductive oxide fine particles from the viewpoint of small fluctuation due to the above.

本発明でいう導電性粒子とは、金属微粒子、あるいは導電性金属酸化物微粒子をさす。中でも金属酸化物微粒子は透明性が高く好ましい。金属酸化物微粒子としては錫含有酸化アンチモン粒子(ATO)、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子(ITO)、酸化亜鉛/酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等が特に好ましく、より好ましくは錫含有酸化インジウム粒子(ITO)、錫含有酸化アンチモン粒子(ATO)である。   In the present invention, the conductive particles refer to metal fine particles or conductive metal oxide fine particles. Among these, metal oxide fine particles are preferable because of their high transparency. As the metal oxide fine particles, tin-containing antimony oxide particles (ATO), zinc-containing antimony oxide particles, tin-containing indium oxide particles (ITO), zinc oxide / aluminum oxide particles, antimony oxide particles, and the like are particularly preferable, and tin-containing particles are more preferable. Indium oxide particles (ITO) and tin-containing antimony oxide particles (ATO).

かかる導電性を構成する粒子は、平均粒子径(JIS R1626に示されるBET法により測定される球相当径(JIS Z8819−1にて定義))が0.5μm以下の粒子が好適に使用されるが、より好ましくは、0.001〜0.3μm、更に好ましくは0.005〜0.2μmの粒子径のものが用いられる。該平均粒子径が、この範囲を超えると生成される被膜(A層)の透明性を低下させ、この範囲未満では、該粒子が凝集し易く生成被膜(A層)のヘイズ値が増大し、いずれの場合も、所望のヘイズ値を得ることが困難になる。   As the particles constituting the conductivity, particles having an average particle diameter (sphere equivalent diameter measured by the BET method shown in JIS R1626 (defined in JIS Z8819-1)) of 0.5 μm or less are preferably used. However, a particle diameter of 0.001 to 0.3 μm, more preferably 0.005 to 0.2 μm is used. When the average particle diameter exceeds this range, the transparency of the coating film (A layer) is reduced. When the average particle diameter is less than this range, the particles tend to aggregate and the haze value of the generated coating film (A layer) increases. In either case, it becomes difficult to obtain a desired haze value.

本発明において、A層の構成成分は、粒子との質量割合が、50%以下であることが好ましい。粒子が、逆に多過ぎると得られる膜の各種物理的、化学的強度が悪くなり、ヘイズ値が高くなり透明性が低下するため好ましくない。光重合開始剤の量は、バインダー成分(A)100質量部に対して、通常、0.1〜20質量部、好ましくは1.0〜15.0質量部の範囲で添加される。0.1質量部未満では、光重合が遅くなり、硬度及び耐擦過性を満足させるために長時間の光照射を必要とする傾向にあり、時には未硬化となり易い。一方、20質量部を超えて添加すると、塗膜の導電性、耐摩耗性、耐候性等の機能が低下し易い。   In the present invention, the constituent component of the layer A preferably has a mass ratio of 50% or less with respect to the particles. On the other hand, if the number of particles is too large, various physical and chemical strengths of the resulting film are deteriorated, haze value is increased, and transparency is lowered. The quantity of a photoinitiator is 0.1-20 mass parts normally with respect to 100 mass parts of binder components (A), Preferably it is added in 1.0-15.0 mass parts. If it is less than 0.1 parts by mass, photopolymerization is slow, and it tends to require long-time light irradiation in order to satisfy hardness and scratch resistance, and sometimes tends to be uncured. On the other hand, when it exceeds 20 mass parts, functions, such as electroconductivity of a coating film, abrasion resistance, a weather resistance, will fall easily.

本発明のA層の構成成分は、以上説明した樹脂成分、粒子、光重合開始剤を必須構成成分とし、更に必要に応じて、例えば、重合禁止剤や、硬化触媒、酸化防止剤、分散剤等の各種添加剤を含有してもよく、特にA層の上にB層を積層する場合、有機置換基含有アルコキシシラン化合物を含むことが該反射フィルムの表面の耐擦傷性を向上させる点から好ましい。   The constituent components of the A layer of the present invention include the above-described resin components, particles, and photopolymerization initiator as essential constituent components, and further include, for example, a polymerization inhibitor, a curing catalyst, an antioxidant, and a dispersing agent. In the case of laminating the B layer on the A layer, the inclusion of the organic substituent-containing alkoxysilane compound improves the scratch resistance of the surface of the reflective film. preferable.

このような有機置換基含有アルコキシシラン化合物としては、アルキル基、フロロアルキル基、フェニル基、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、アミノ基、ウレイド基、クロロプロピル基、メルカプト基、スルフィド基、イソシアネート基、イソシアヌレート基等を有機置換基とするシランカップリング剤や、これらシランカップリング剤の加水分解物、同種または異種シランカップリング剤が縮合して生成したアルコキシシラン化合物、上述シランカップリング剤からなる有機置換基含有アルコキシシラン化合物と有機置換基を含まないアルコキシシラン化合物を縮合させてなるアルコキシシラン化合物、さらに各種クロロシラン、ヒドロ化シラン、シラザンと反応させた有機置換基含有アルコキシシラン化合物、これらの任意の割合での混合系などが用いられるが好適に用いられるが、特にビニル基、エポキシ基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、アミノ基、ウレイド基、クロロプロピル基、メルカプト基、スルフィド基、イソシアネート基などを含有するアルコキシシラン化合物が反応性などの点から好ましく、動粘度が5mm/s(25℃)以上となるアルコキシシラン化合物が、含有量あたりの反応性が高くさらに好ましい。 Examples of such organic substituent-containing alkoxysilane compounds include alkyl groups, fluoroalkyl groups, phenyl groups, vinyl groups, epoxy groups, styryl groups, methacryloxy groups, acryloxy groups, amino groups, ureido groups, chloropropyl groups, mercapto groups. Silane coupling agents having organic substituents such as sulfide groups, isocyanate groups, isocyanurate groups, etc., hydrolysates of these silane coupling agents, alkoxysilane compounds produced by condensation of the same or different silane coupling agents, Organic substituent-containing alkoxysilane compound obtained by condensing an organic silane-containing alkoxysilane compound comprising the above-mentioned silane coupling agent and an alkoxysilane compound not containing an organic substituent, and further containing an organic substituent reacted with various chlorosilanes, hydrosilanes, and silazanes. Alkoxy Lan compounds, mixed systems of these in any proportion, etc. are used, but are preferably used, but in particular, vinyl group, epoxy group, methacryloxy group, acryloxy group, amino group, ureido group, chloropropyl group, mercapto group, sulfide An alkoxysilane compound containing a group, an isocyanate group or the like is preferable from the viewpoint of reactivity, and an alkoxysilane compound having a kinematic viscosity of 5 mm 2 / s (25 ° C.) or more is more preferable because of high reactivity per content.

含有量としては、A層の樹脂成分100質量部あたり50質量部以下であることが表面抵抗値の上昇を抑える上で好ましく、さらに好ましくは20質量部以下である。   As content, it is preferable that it is 50 mass parts or less per 100 mass parts of resin components of A layer, when suppressing a raise of a surface resistance value, More preferably, it is 20 mass parts or less.

本発明では、このA層の構成成分に、導電性の付与を目的としてポリピロールおよびポリアニリン、ポリチオフェン等の導電性ポリマー、金属アルコレートおよびキレート化合物などの有機金属化合物を、さらに含有させることができる。また、このA層の構成成分に、表面硬度の向上を目的として、アルキルシリケート類およびその加水分解物、コロイダルシリカ、乾式シリカ、湿式シリカ、酸化チタン等の無機粒子、コロイド状に分散したシリカ微粒子等を、さらに含有させることもできる。   In the present invention, the constituents of the A layer can further contain an organic metal compound such as a conductive polymer such as polypyrrole, polyaniline and polythiophene, a metal alcoholate and a chelate compound for the purpose of imparting conductivity. In addition, for the purpose of improving the surface hardness, the constituents of this A layer are alkyl silicates and hydrolysates thereof, colloidal silica, dry silica, wet silica, inorganic particles such as titanium oxide, and colloidally dispersed silica fine particles. Etc. can be further contained.

本発明のA層によって所望水準の帯電防止性が付与されるためには、該A層のJIS K6911に示される方法で測定される表面抵抗率が1×1012Ω/□以下であることが好ましく、更に好ましくは1×1011Ω/□以下である。 In order to provide a desired level of antistatic property by the A layer of the present invention, the surface resistivity of the A layer measured by the method shown in JIS K6911 should be 1 × 10 12 Ω / □ or less. More preferably, it is 1 × 10 11 Ω / □ or less.

本発明におけるA層は、鮮明性、透明性の点から、全光線透過率が好ましくは40%以上、さらに好ましくは60%以上の層である。   The layer A in the present invention is a layer having a total light transmittance of preferably 40% or more, more preferably 60% or more, from the viewpoint of sharpness and transparency.

なお、本発明において「・・・(メタ)アクリ・・・」とは、「・・・アクリ・・・または・・・メタアクリ・・・」を略して表示したものである。   In the present invention, “... (Meta) acrylic ...” is an abbreviation of “... acrylic ... or meta acrylic ...”.

本発明においてB層は、屈折率がA層より低く、かつ、1.42以下であることが必須要件である。すなわち、屈折率がA層より高いと、反射防止層として機能せず、屈折率が1.42より高いと、波長400〜700nmにおける表面反射スペクトルの最高反射率、最低反射率ともに上がり、良好な反射防止性能が得られない。   In the present invention, the B layer has a refractive index lower than that of the A layer and is 1.42 or less. That is, when the refractive index is higher than that of the A layer, it does not function as an antireflection layer, and when the refractive index is higher than 1.42, both the maximum reflectance and the minimum reflectance of the surface reflection spectrum at a wavelength of 400 to 700 nm are increased. Antireflection performance is not obtained.

かかるB層の屈折率を1.42以下である層とするためには、シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とする構成を採用することが、低屈折率化、耐擦傷性の点から好ましく採用される。つまり、本発明の前記波長400〜700nmにおける表面反射スペクトルが次の3条件を全て満たすための最高反射率と最低反射率を満たす構成として、前記A層の条件や構成もさることながら、これに加えて、かかるB層の構成を採用することが、特に好ましい。   In order to make the layer B have a refractive index of 1.42 or less, adopting a constitution mainly composed of a siloxane polymer combined with silica-based fine particles can reduce the refractive index and scratch resistance. From this point, it is preferably adopted. In other words, as the configuration in which the surface reflection spectrum at the wavelength of 400 to 700 nm according to the present invention satisfies the maximum reflectance and the minimum reflectance for satisfying all of the following three conditions, the conditions and configuration of the A layer are also included. In addition, it is particularly preferable to employ such a B layer configuration.

なお、ここで言う「結合」とは、シリカ系微粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化している状態を意味する。   The term “bond” as used herein means a state in which the silica component of the silica-based fine particles and the siloxane polymer in the matrix are reacted and homogenized.

シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ系微粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦のシラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。   A siloxane polymer bonded to silica-based fine particles forms a silanol compound once by a known hydrolysis reaction with a polyfunctional silane compound in a solvent in the presence of the silica-based fine particles using an acid catalyst. It can be obtained by utilizing a condensation reaction.

かかる多官能性シラン化合物としては、多官能性フッ素含有シラン化合物を含むことが低屈折率化、防汚性の点から好ましく、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランなどの3官能性フッ素含有シラン化合物、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシランなどの2官能性フッ素含有シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点から、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランが、より好ましい。   The polyfunctional silane compound preferably includes a polyfunctional fluorine-containing silane compound from the viewpoint of low refractive index and antifouling properties, and includes trifluoromethylmethoxysilane, trifluoromethylethoxysilane, and trifluoropropyltrimethoxy. Trifunctional fluorine-containing silane compounds such as silane, trifluoropropyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, Examples include bifunctional fluorine-containing silane compounds such as heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane, all of which are preferably used. From the viewpoint of surface hardness, trifluoromethylmethoxysilane, trifluoro Chill silane, trifluoropropyl trimethoxy silane, trifluoropropyl triethoxy silane, more preferably.

かかる多官能性フッ素非含有シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−(N,N−ジグリシジル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシシプロピルトリメトキシシランなどの3官能性シラン化合物、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシランなどの2官能性シラン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどの4官能性シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点からビニルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランが、より好ましい。   Examples of such polyfunctional fluorine-free silane compounds include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, and methyltriethoxy. Silane, hexyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxy Trifunctional silanes such as silane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3- (N, N-diglycidyl) aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxysipropyltrimethoxysilane Compound, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, methylvinyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-amino Propylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldiethoxysilane, cyclohexylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyldimethoxy Bifunctional silane compounds such as silane and octadecylmethyldimethoxysilane, tetrafunctional silane compounds such as tetramethoxysilane and tetraethoxysilane, etc. All of these are preferably used. From the viewpoint of surface hardness, vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and phenyltriethoxysilane are preferable. More preferable.

また、上述のシリカ微粒子としては、平均粒子径1nm〜200nmのシリカ系微粒子であることが好ましく、特に好ましくは、平均粒子径1nm〜70nmである。平均粒子径が1nmを下回ると、マトリックス材料との結合が不十分となり、硬度が低下することがある。一方、平均粒子径が200nmを越えると、粒子を多く導入して生じる粒子間の空隙の発生が少なくなり、低屈折率化の効果が十分発現しないことがある。さらに、かかるシリカ系微粒子の中でも、内部に空洞を有する構造のものが、屈折率を低下させるために、特に好ましく使用される。   Further, the silica fine particles are preferably silica-based fine particles having an average particle diameter of 1 nm to 200 nm, and particularly preferably an average particle diameter of 1 nm to 70 nm. When the average particle diameter is less than 1 nm, the bond with the matrix material becomes insufficient and the hardness may be lowered. On the other hand, if the average particle diameter exceeds 200 nm, the generation of voids between particles caused by introducing a large amount of particles is reduced, and the effect of lowering the refractive index may not be sufficiently exhibited. Further, among these silica-based fine particles, those having a structure having a cavity inside are particularly preferably used in order to lower the refractive index.

かかる内部に空洞を有するシリカ系微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ系微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ系微粒子等が挙げられ、いずれも好適に用いられる。このような例としては例えば、特許第3272111号公報に開示されている方法によって製造でき、微粒子内部の空洞の占める体積、すなわち微粒子の空隙率としては、5%以上が好ましく、30%以上がさらに好ましい。また、該微粒子自体の屈折率は、1.20〜1.40であるのが好ましく、1.20〜1.35であるのがより好ましい。かかる屈折率の測定方法は、後述しているが、特開2001−233611公報に開示されている方法によっても測定することができる。このようなシリカ系微粒子としては、例えば特開2001−233611号公報に開示されているものや、特許第3272111号公報等の一般に市販されているものを挙げることができる。   Examples of such silica-based fine particles having cavities therein include silica-based fine particles having a hollow portion surrounded by an outer shell, porous silica-based fine particles having a large number of hollow portions, and the like. As such an example, for example, it can be produced by the method disclosed in Japanese Patent No. 3272111, and the volume occupied by the cavities inside the fine particles, that is, the porosity of the fine particles is preferably 5% or more, more preferably 30% or more. preferable. Further, the refractive index of the fine particles themselves is preferably 1.20 to 1.40, more preferably 1.20 to 1.35. Although a method of measuring the refractive index is described later, it can also be measured by a method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-233611. Examples of such silica-based fine particles include those disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-233611, and those commercially available such as Japanese Patent No. 3272111.

加水分解反応に利用される酸触媒としては、蟻酸、蓚酸、塩酸、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、リン酸、ポリリン酸、多価カルボン酸あるいはその無水物、イオン交換樹脂などの酸触媒が挙げられる。特に、透明被膜の硬度を向上する観点から、蟻酸、酢酸を触媒とすることが好ましい。   Acid catalysts used for the hydrolysis reaction include acid catalysts such as formic acid, oxalic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, phosphoric acid, polyphosphoric acid, polyvalent carboxylic acid or anhydrides thereof, and ion exchange resins. It is done. In particular, formic acid and acetic acid are preferably used as catalysts from the viewpoint of improving the hardness of the transparent coating.

好ましい添加量としては、シロキサンポリマー合成時に使用される全シラン化合物含量に対して、好ましくは、0.05質量%〜10質量%特に好ましくは、0.1質量%〜5質量%である。酸触媒の量が、0.05質量%を下回ると、加水分解反応が十分進行しないことがあり。また、10質量%を越えると、加水分解反応が暴走する恐れがある。   A preferable addition amount is preferably 0.05% by mass to 10% by mass, and particularly preferably 0.1% by mass to 5% by mass with respect to the total silane compound content used in the synthesis of the siloxane polymer. If the amount of the acid catalyst is less than 0.05% by mass, the hydrolysis reaction may not proceed sufficiently. Moreover, when it exceeds 10 mass%, there exists a possibility that a hydrolysis reaction may run away.

加水分解反応において、溶剤中で反応を行うことが反応の制御が容易になることから好ましく、使用する溶剤としては、有機溶剤が好ましい。例えば、エタノール、プロパノール、ブタノール、3―メチル―3―メトキシ―1―ブタノールなどのアルコール類;エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチルエーテルなどのエーテル類;メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどのケトン類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類;エチルアセテート、エチルセロソルブアセテート、3―メチル―3―メトキシ―1―ブタノールアセテートなどのアセテート類;トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの芳香族あるいは脂肪族炭化水素のほか、γ―ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシドなどを挙げることができる。溶剤の量は、シロキサンポリマー合成時使用される全シラン化合物含量に対して、50質量%〜500質量%の範囲で添加することが好ましく、特に好ましくは、80質量%〜200質量%の範囲である。50質量%を下回ると、反応が暴走し、ゲル化する場合がある。一方、500質量%を越えると、加水分解が進行しない場合がある。   In the hydrolysis reaction, it is preferable to perform the reaction in a solvent because the control of the reaction is easy, and the solvent used is preferably an organic solvent. For example, alcohols such as ethanol, propanol, butanol, 3-methyl-3-methoxy-1-butanol; glycols such as ethylene glycol, propylene glycol; ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, diethyl Ethers such as ether; ketones such as methyl isobutyl ketone and diisobutyl ketone; amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; acetates such as ethyl acetate, ethyl cellosolve acetate, 3-methyl-3-methoxy-1-butanol acetate ; In addition to aromatic or aliphatic hydrocarbons such as toluene, xylene, hexane, cyclohexane, γ-butyrolactone, N-methyl 2-pyrrolidone, dimethyl sulfoxide and the like. The amount of the solvent is preferably added in the range of 50% by mass to 500% by mass, particularly preferably in the range of 80% by mass to 200% by mass, with respect to the total silane compound content used during the synthesis of the siloxane polymer. is there. If it is less than 50% by mass, the reaction may run away and gel. On the other hand, if it exceeds 500 mass%, hydrolysis may not proceed.

また、加水分解に用いられる水としては、イオン交換水が好ましい。水の量は任意に選択可能であるが、シラン1モルに対して、1.0〜4.0モルの範囲で用いるのが好ましい。   Moreover, as water used for a hydrolysis, ion-exchange water is preferable. The amount of water can be arbitrarily selected, but it is preferably used in the range of 1.0 to 4.0 mol with respect to 1 mol of silane.

加水分解反応は、前記のシラン化合物を、溶剤中、酸触媒及び、水を添加して、室温〜55℃で行うことが好ましい。   The hydrolysis reaction is preferably performed at room temperature to 55 ° C by adding the acid catalyst and water in the solvent to the silane compound.

本発明のシロキサンポリマーを得るための縮合反応の条件としては、加水分解し、シラノール化合物を得た後、そのまま、反応液を、還流下で1〜100時間行なうのが好ましい。そのほかシロキサンポリマーの重合度を上げるために、再加熱もしくは塩基触媒の添加を行なうことも可能である。   As the conditions for the condensation reaction for obtaining the siloxane polymer of the present invention, it is preferable to carry out the reaction under reflux for 1 to 100 hours after hydrolysis to obtain a silanol compound. In addition, in order to increase the degree of polymerization of the siloxane polymer, it is possible to reheat or add a base catalyst.

本発明の光学フィルムは、前記のごとくA層の屈折率、厚さがそれぞれ1.62以下、0.3μm以上の条件下で、B層の屈折率と厚さの積が、対象光線(通常可視光線)の波長の1/4となるようにすることが好ましい。したがって、B層において、各層の厚さdと屈折率nの積の4倍が波長400〜700nmの範囲にあることが好ましく、B層における屈折率nと厚さdの関係は、下記式(1)を満足する範囲内の厚さであることが、波長400〜700nmにおける表面反射スペクトルの最低反射率が0.6%以上2.0%以下、かつ、最高反射率が3.5%以下、かつ、最高反射率と最低反射率の差が2.5%以下とするために好ましい。
n・d=λ/4 ・・・式(1)
(ここで、λは可視光線の波長範囲で、通常380nm≦λ≦780nmの範囲となる。)。
In the optical film of the present invention, as described above, the refractive index and the thickness of the A layer are 1.62 or less and 0.3 μm or more, respectively. It is preferable that the wavelength is 1/4 of the wavelength of visible light. Accordingly, in the B layer, it is preferable that the product of the thickness d and the refractive index n of each layer is four times in the wavelength range of 400 to 700 nm. The relationship between the refractive index n and the thickness d in the B layer is expressed by the following formula ( The minimum reflectance of the surface reflection spectrum at a wavelength of 400 to 700 nm is 0.6% or more and 2.0% or less, and the maximum reflectance is 3.5% or less. In addition, it is preferable for the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance to be 2.5% or less.
n · d = λ / 4 Formula (1)
(Here, λ is the wavelength range of visible light and is usually in the range of 380 nm ≦ λ ≦ 780 nm).

本発明のB層は、耐防汚性、耐擦傷性の点から表面エネルギーを低くすることが好ましく、そのためにはB層の接触角が90度以上が好ましく、さらには接触角は100度以上であることが好ましい。B層の表面エネルギーを低くするためには、B層表面のF元素とSi元素との原子比F/Siが0.5〜5.0であり、さらには0.7〜3.0とすることが耐擦傷性と防汚性の点から好ましい。原子比はElectron Spectroscopy for Chemical Analysis(ESCA分析)により求めることができる。   The layer B of the present invention preferably has a low surface energy from the viewpoint of antifouling properties and scratch resistance. For this purpose, the contact angle of the layer B is preferably 90 ° or more, and further the contact angle is 100 ° or more. It is preferable that In order to reduce the surface energy of the B layer, the atomic ratio F / Si between the F element and the Si element on the surface of the B layer is 0.5 to 5.0, and more preferably 0.7 to 3.0. From the viewpoint of scratch resistance and antifouling property. The atomic ratio can be obtained by Electron Spectroscopy for Chemical Analysis (ESCA analysis).

A層、B層を設ける方法としては、コーティングにより基材フィルム上に直接積層する方法、他の基材に形成した層を転写により基材フィルム上へ積層する方法など、いずれの方法でも差し支えないが、適性膜厚での生産安定性、コストの点からコーティングにより基材フィルム上に直接積層する方法を採用するのが好ましい。   As a method of providing the A layer and the B layer, any method such as a method of directly laminating on a base film by coating or a method of laminating a layer formed on another base material on a base film by transfer may be used. However, it is preferable to employ a method of directly laminating on a base film by coating from the viewpoint of production stability at an appropriate film thickness and cost.

コーティング方法としては、各種の塗布方法、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、バーコート法、ダイコート法、スプレーコート法などが挙げられ、いずれも好適に用いることができるが、B層の形成においては塗工精度の点からリバースコート法、特に小径グラビアロールを用いたリバースコートが好ましい。   Examples of the coating method include various coating methods such as reverse coating method, gravure coating method, rod coating method, bar coating method, die coating method, spray coating method, and the like. In forming the layer, a reverse coating method, particularly a reverse coating using a small-diameter gravure roll is preferable from the viewpoint of coating accuracy.

また、A層、B層を塗布する際、前記成分を溶媒で分散させた塗布液を調整して塗布、乾燥・硬化させることが好ましく、このような溶媒は塗布または印刷作業性を改善するために配合するものであり、樹脂成分を溶解するものであれば、従来から公知の各種有機溶媒を使用することができる。特に、本発明においては、組成物の粘度の安定性、乾燥性の観点から沸点が60〜180℃の有機溶媒が好ましい。かかる有機溶媒としては、具体的には、例えば、メタノールや、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、tert―ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、イソプロピルアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセチルアセトン、アセチルアセトン等が好適に挙げられる。これらは単一で使用してもよく、2種類以上を混合して用いてもよい。   In addition, when applying the A layer and the B layer, it is preferable to prepare a coating solution in which the above components are dispersed in a solvent, and apply, dry and cure, and such a solvent improves coating or printing workability. Conventionally known various organic solvents can be used as long as they are blended in and dissolve the resin component. In particular, in the present invention, an organic solvent having a boiling point of 60 to 180 ° C. is preferable from the viewpoints of viscosity stability and drying property of the composition. Specific examples of such organic solvents include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butanol, tert-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono Preferable examples include ethyl ether, cyclohexanone, butyl acetate, isopropyl acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetyl acetone, acetyl acetone and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

A層形成に用いられる塗布液を調製する際、有機溶媒の量は、塗布手段や、印刷手段に応じ作業性のよい状態の粘度に組成物がなるように任意の量配合すればよいが、通常組成物の固形分濃度が60質量%以下、好ましくは、50質量%以下になる程度が適当である。本発明の光硬化性膜形成用組成物の調製としては、任意の方法が採用可能であるが、通常樹脂成分を有機溶媒で溶解させた溶液中に導電性粒子を添加し、ペイントシェーカーや、ボールミル、サンドミル、三本ロール、アトライター、ホモミキサー等の分散機により分散させ、しかる後、光重合開始剤を添加し、均一に溶解させる方法が適当である。さらに、前記アルコキシシラン化合物などの添加剤を加える場合、塗布直前に加えることが好ましい。   When preparing the coating solution used for forming the A layer, the amount of the organic solvent may be blended in an arbitrary amount so that the composition has a viscosity with good workability according to the coating means and the printing means. Usually, the solid content concentration of the composition is 60% by mass or less, preferably 50% by mass or less. As the preparation of the composition for forming a photocurable film of the present invention, any method can be adopted, but conductive particles are usually added to a solution in which a resin component is dissolved in an organic solvent, a paint shaker, A method of dispersing by a dispersing machine such as a ball mill, sand mill, three rolls, attritor, homomixer, etc., and then adding a photopolymerization initiator and dissolving it uniformly is suitable. Furthermore, when adding additives, such as the said alkoxysilane compound, adding immediately before application | coating is preferable.

本発明で用いられる活性線としては、紫外線、電子線および放射線(α線、β線、γ線など)などアクリル系のビニル基を重合させる電磁波が挙げられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。   Examples of the actinic rays used in the present invention include electromagnetic waves that polymerize acrylic vinyl groups such as ultraviolet rays, electron beams, and radiation (α rays, β rays, γ rays, etc.). It is preferable. As the ultraviolet ray source, an ultraviolet fluorescent lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, or the like can be used. Moreover, when irradiating actinic radiation, if it irradiates under a low oxygen concentration, it can harden | cure efficiently.

本発明のB層形成に用いられる塗布液は、前記シロキサンポリマーを主成分とし、硬化剤などを加えて溶媒で希釈することが好ましく、溶剤の含有量はシロキサンポリマー合成時使用される全シラン化合物含量に対して、1300質量%〜9900質量%の範囲で添加することが好ましく、特に好ましくは、1500質量%〜6000質量%の範囲である。1300質量%を下回る及び、9900質量%を越えると、所定の膜厚の透明被膜を形成することが困難となる。   The coating solution used for forming the B layer of the present invention is preferably composed of the siloxane polymer as a main component, added with a curing agent, etc. and diluted with a solvent, and the content of the solvent is the total silane compound used during the synthesis of the siloxane polymer. It is preferable to add in the range of 1300 mass%-9900 mass% with respect to content, Most preferably, it is the range of 1500 mass%-6000 mass%. If the amount is less than 1300% by mass and exceeds 9900% by mass, it becomes difficult to form a transparent film having a predetermined film thickness.

硬化剤としては、チタニウム系、ジルコニウム系、アルミニウム系および、マグネシウム系が挙げられる。これらの中、低屈屈折率化の目的には、屈折率の低いアルミニウム系および、マグネシウム系の硬化剤が好ましい。これらの硬化剤は、金属アルコキシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得ることができる。キレート化剤の例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタンなどのβ−ジケトン;アセト酢酸エチル、ベンゾイル酢酸エチルなどのβ−ケト酸エステルなどを用いることができる。   Examples of the curing agent include titanium, zirconium, aluminum, and magnesium. Among these, for the purpose of lowering the refractive index, aluminum-based and magnesium-based curing agents having a low refractive index are preferable. These curing agents can be easily obtained by reacting a metal alkoxide with a chelating agent. Examples of chelating agents include β-diketones such as acetylacetone, benzoylacetone, and dibenzoylmethane; β-keto acid esters such as ethyl acetoacetate and ethyl benzoylacetate.

金属基キレート化合物の好ましい具体的な例としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセテートビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)等のアルミニウムキレート化合物、エチルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートマグネシウムモノソプロピレート、マグネシウムビス(アセチルアセトネート)等のマグネシウムキレート化合物が挙げられる。これらのうち、好ましくは、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、マグネシウムビス(アセチルアセトネート)、マグネシウムビス(エチルアセトアセテート)であり、保存安定性、入手容易さを考慮すると、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)が、特に好ましい。添加される金属キレート化合物の導入量は、シロキサンポリマー合成時使用される全シラン化合物含量に対して、好ましくは0.1質量%〜10質量%であり、特に好ましくは、1質量%〜6質量%である。導入量が、0.1質量%を下回ると、硬化が不十分となり、透明被膜とした場合、硬度が低下する。一方、10質量%を越えると、硬化が十分となり、透明被膜の硬度は向上するが、屈折率の向上も見られ、好ましくない。   Preferable specific examples of the metal group chelate compound include ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate), alkyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum monoacetylacetate bis (ethyl acetoacetate), aluminum tris Aluminum chelate compounds such as (acetylacetonate), magnesium chelate compounds such as ethyl acetoacetate magnesium monoisopropylate, magnesium bis (ethylacetoacetate), alkyl acetoacetate magnesium monosopropylate, magnesium bis (acetylacetonate) It is done. Of these, aluminum tris (acetylacetonate), aluminum tris (ethyl acetoacetate), magnesium bis (acetylacetonate), and magnesium bis (ethyl acetoacetate) are preferable, considering storage stability and availability. Then, aluminum tris (acetylacetonate) and aluminum tris (ethylacetoacetate) are particularly preferable. The amount of the metal chelate compound added is preferably 0.1% by mass to 10% by mass, particularly preferably 1% by mass to 6% by mass, based on the total silane compound content used during the synthesis of the siloxane polymer. %. When the amount introduced is less than 0.1% by mass, curing becomes insufficient, and when a transparent film is formed, the hardness decreases. On the other hand, when it exceeds 10% by mass, the curing becomes sufficient and the hardness of the transparent film is improved, but the refractive index is also improved, which is not preferable.

本発明においては、B層硬化後には反射防止層の傷付きや埃等の付着を防止するために保護フィルムを貼り合わせるのが好ましい。   In the present invention, after the B layer is cured, a protective film is preferably bonded to prevent the antireflection layer from being scratched or adhering to dust or the like.

かかる保護フィルムは特に限定されるものではないが、B層との90度剥離強度が100〜3000mN/25mmの範囲であるものが好ましく、市販の保護フィルムを使用できる。具体的には、サンエー科研製“サニテクト”、日立化成製“ヒダレックス”、東レフィルム加工(株)製“トレテック”などが挙げられる。   Such a protective film is not particularly limited, but a film having a 90-degree peel strength with the B layer in the range of 100 to 3000 mN / 25 mm is preferable, and a commercially available protective film can be used. Specific examples include “Sanitekte” manufactured by Sanae Kaken, “Hidalex” manufactured by Hitachi Chemical, and “Tretech” manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.

本発明の光学フィルムは、基材フィルムの、上記したA層とB層を積層した面と反対側の面にC層を積層してなる。   The optical film of the present invention is formed by laminating a C layer on the surface of the base film opposite to the surface on which the A layer and the B layer are laminated.

本発明のC層は、透明高分子樹脂バインダーに近赤外線吸収能を有する色素を分散した組成物からなる積層膜であり、(4)波長820nmにおける透過率が20%以下、(5)波長850nmにおける透過率が15%以下、(6)波長950nmから1150nmにおける透過率が10%以下、の3条件を全て満たしている。さらに波長820nmにおける透過率は17%以下がより好ましく、波長850nmにおける透過率は11%以下がより好ましく、波長950nmから1150nmにおける透過率は7%以下がより好ましい。   The C layer of the present invention is a laminated film made of a composition in which a pigment having near infrared absorption ability is dispersed in a transparent polymer resin binder. (4) The transmittance at a wavelength of 820 nm is 20% or less, and (5) the wavelength is 850 nm. The following three conditions are satisfied: (1) the transmittance at a wavelength of 950 nm to 1150 nm is 10% or less. Further, the transmittance at a wavelength of 820 nm is more preferably 17% or less, the transmittance at a wavelength of 850 nm is more preferably 11% or less, and the transmittance from a wavelength of 950 nm to 1150 nm is more preferably 7% or less.

かかる近赤外線吸収色素としては、特公昭43−25335号公報に開示されているようなジイモニウム系化合物が好適であり、具体的には、日本化薬(株)製“KAYASORB”を冠称とする“IRG−022”、“IRG−023”、“IRG−050”、“IRG−068”などが挙げられる。   As such a near-infrared absorbing dye, a diimonium compound as disclosed in Japanese Patent Publication No. 43-25335 is preferable, and specifically, “KAYASORB” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. is used as the title. “IRG-022”, “IRG-023”, “IRG-050”, “IRG-068”, and the like.

前記ジイモニウム系化合物は、波長850〜1250nmの近赤外線領域に幅広く有効吸収波長域を有し、波長950nmから1150nmにおける透過率を10%以下とするためにはC層の単位面積当たりの該化合物の含有量を0.1〜0.5g/mとするのが好ましく、さらには0.2〜0.3g/mとするのがより好ましい。含有量がこの範囲を下回ると近赤外線遮蔽能が劣ることとなり、また含有量がこの範囲を越えると可視光の透過率が不足し、画像が暗くなるので好ましくない。 The diimonium-based compound has a wide effective absorption wavelength region in the near infrared region with a wavelength of 850 to 1250 nm, and in order to reduce the transmittance at a wavelength of 950 nm to 1150 nm to 10% or less, the compound per unit area of the C layer The content is preferably 0.1 to 0.5 g / m 2, and more preferably 0.2 to 0.3 g / m 2 . If the content is below this range, the near-infrared shielding ability is inferior, and if the content exceeds this range, the visible light transmittance is insufficient and the image becomes dark.

本発明における近赤外線吸収色素としては、前記ジイモニウム系化合物だけを用いてもかまわないが、単独で波長820nmにおける透過率を20%以下に、波長850nmにおける透過率を15%以下とするためには、含有量を多くする必要があり、可視光透過率が不足する場合もある。そのため本発明では、前記ジイモニウム系化合物とともに波長800nmから900nmの範囲に吸収極大波長を有する近赤外線吸収色素を1種類以上併用することが好ましい。具体的には、1級および/または2級アミノ基、アルコキシ基、フッ素等のハロゲン基の1種以上の置換基を有するフタロシアニン系化合物もしくはナフタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、ジチオールニッケル錯体系化合物などが挙げられる。この中でも耐光性、耐湿熱性の点から含フッ素フタロシアニン系化合物が好適に用いられる。具体的には、日本触媒(株)製“イーエクスカラー”を冠称とする“IR−1”、“IR−10”、“IR−12”、“IR−14”等が挙げられる。   As the near-infrared absorbing dye in the present invention, only the above-mentioned diimonium compound may be used. In order to reduce the transmittance at a wavelength of 820 nm to 20% or less and the transmittance at a wavelength of 850 nm to 15% or less. , The content needs to be increased, and the visible light transmittance may be insufficient. Therefore, in the present invention, it is preferable to use one or more near infrared absorbing dyes having an absorption maximum wavelength in the wavelength range of 800 nm to 900 nm together with the diimonium compound. Specifically, phthalocyanine compounds or naphthalocyanine compounds, cyanine compounds, dithiol nickel complex compounds having one or more substituents of primary and / or secondary amino groups, alkoxy groups, halogen groups such as fluorine Etc. Of these, fluorine-containing phthalocyanine compounds are preferably used from the viewpoint of light resistance and heat and humidity resistance. Specific examples include “IR-1”, “IR-10”, “IR-12”, “IR-14” and the like, which are named “EEX Color” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.

また、シアニン系化合物は耐光性に難点があるが、それを改良した色素として、予めシアニン系化合物とクエンチャー剤をカップリングして一体化した色素が本発明においては好適に用いられる。ここでクエンチャー剤とは近赤外線吸収色素の酸化防止剤をいう。一体化することでシアニン系化合物の耐光性を改良するとともにシアニン系色素の特徴である高い吸光係数が得られることから色素の使用量を減量することができる。ここでクエンチャー剤としてはビス(1,2−ジチオフェノレート)銅テトラ−n−ブチルアンモニウム塩がジイモニウム系化合物の耐光性を損なうことがないので好ましい。かかるシアニン系化合物とクエンチャー剤との一体化色素の具体例としては、住友精化(株)製“SD50−E04N”、“SD50−E05N”や旭電化工業(株)製“TZ−111”、“TZ−114”、“TZ−118”などが挙げられる。   Further, although cyanine compounds have difficulty in light resistance, as an improved dye, a dye obtained by coupling a cyanine compound and a quencher in advance to be integrated is preferably used in the present invention. Here, the quencher agent refers to an antioxidant for a near-infrared absorbing dye. By integrating, the light resistance of the cyanine compound can be improved and a high extinction coefficient characteristic of the cyanine dye can be obtained, so that the amount of the dye used can be reduced. As the quencher, bis (1,2-dithiophenolate) copper tetra-n-butylammonium salt is preferable because it does not impair the light resistance of the diimonium compound. Specific examples of the integrated dye of the cyanine compound and the quencher include “SD50-E04N” and “SD50-E05N” manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd. and “TZ-111” manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. , “TZ-114”, “TZ-118” and the like.

波長800nmから900nmの範囲に吸収極大波長を有する近赤外線吸収色素化合物のC層の単位面積当たりの含有量は、用いる色素の吸光係数やジイモニウム系化合物の含有量に応じて決められるが、波長820nmにおける透過率を20%以下に、波長850nmにおける透過率を15%以下とするためには、含有量は0.01〜0.3g/mとするのが好ましく、特に、シアニン系化合物とクエンチャー剤との一体化色素を用いる場合は0.01〜0.1g/mとするのが好ましい。含有量がこの範囲を下回ると近赤外線遮蔽能が劣ることとなり、また含有量がこの範囲を越えると可視光の透過率が不足し、画像が暗くなるので好ましくない。 The content per unit area of the near-infrared absorbing dye compound having an absorption maximum wavelength in the wavelength range of 800 nm to 900 nm is determined according to the extinction coefficient of the dye used and the content of the diimonium compound, but the wavelength is 820 nm. In order to reduce the transmittance at 20% or less and the transmittance at a wavelength of 850 nm to 15% or less, the content is preferably 0.01 to 0.3 g / m 2. In the case of using an integrated dye with a char agent, it is preferably 0.01 to 0.1 g / m 2 . If the content is below this range, the near-infrared shielding ability is inferior, and if the content exceeds this range, the visible light transmittance is insufficient and the image becomes dark.

本発明で用いる透明な高分子樹脂バインダーは、実質的に可視光線の吸収がなく無色透明であり、ポリエステル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、(メタ)アクリルウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等が好ましく用いられ、中でも(メタ)アクリル系樹脂が好適である。   The transparent polymer resin binder used in the present invention is substantially colorless and transparent with no visible light absorption, such as polyester resin, (meth) acrylic resin, (meth) acrylic urethane resin, polycarbonate resin, etc. Of these, (meth) acrylic resins are preferred.

かかる(メタ)アクリル系樹脂は、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−またはisoプロピル(メタ)アクリレート、n−またはsec−またはtert−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロドデシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸、グリシジル(メタ)アクリレート、含フッ素(メタ)アクリレート、スチレンから選ばれる数種類の不飽和単量体を共重合して得られるものが好適である。さらには近赤外線吸収色素の耐光性を向上させるため、紫外線安定性基であるヒンダードアミンを有する不飽和単量体(例えば旭電化工業(株)製 アデカスタブ LA−82、LA−87等)や、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、トリアジン系等の紫外線吸収基を有する不飽和単量体を共重合したものを用いるか、またはヒンダードアミン系添加剤(例えば三共ライフテック(株)製 サノール LS−765、LS−2626など)や紫外線吸収剤を重合後の樹脂に添加することが好ましい。   Such (meth) acrylic resins are methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n- or isopropyl (meth) acrylate, n- or sec- or tert-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate. , Hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cyclododecyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) ) Acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride, glycidyl (meth) acrylate, fluorine-containing (meth) acrylate, styrene Those obtained by copolymerizing an unsaturated monomer classes are preferred. Furthermore, in order to improve the light resistance of the near-infrared absorbing dye, an unsaturated monomer having a hindered amine which is an ultraviolet light-stable group (for example, Adeka Stub LA-82, LA-87, etc. manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), benzo A copolymer obtained by copolymerizing an unsaturated monomer having an ultraviolet absorbing group such as triazole, benzophenone, or triazine is used, or a hindered amine additive (for example, Sanol LS-765, LS- manufactured by Sankyo Lifetech Co., Ltd.). 2626) or an ultraviolet absorber is preferably added to the polymerized resin.

前記(メタ)アクリル系樹脂は、耐熱性の点からガラス転移点が80℃以上に設計されているものが好ましいが、これに限定されるものではない。また、近赤外線吸収色素への水分の影響を小さくするため、樹脂の吸湿性は2%以下であることが好ましい。   The (meth) acrylic resin preferably has a glass transition point of 80 ° C. or more from the viewpoint of heat resistance, but is not limited thereto. In order to reduce the influence of moisture on the near-infrared absorbing pigment, the hygroscopicity of the resin is preferably 2% or less.

さらに、前記(メタ)アクリル系樹脂は耐溶剤性を向上させるために架橋しても良く、この場合、脂肪族ジイソシアネートや脂環式ジイソシアネート、芳香族ジイソシアネート、メラミン等の架橋剤が好適に用いられる。また、易接着層との接着性を向上させるためにシランカップリング剤を添加してもよい。かかるシランカップリング剤としては不飽和基やエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物が挙げられる。   Furthermore, the (meth) acrylic resin may be crosslinked to improve solvent resistance. In this case, a crosslinking agent such as aliphatic diisocyanate, alicyclic diisocyanate, aromatic diisocyanate, or melamine is preferably used. . Further, a silane coupling agent may be added in order to improve the adhesion with the easy adhesion layer. Examples of such silane coupling agents include alkoxysilane compounds having an unsaturated group or an epoxy group.

前記(メタ)アクリル系樹脂は有機溶剤に可溶であることが好ましく、特にメチルエチルケトン、メチルブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレン等に可溶であるものが好ましく、これらの単体もしくは2種以上の混合溶媒として用いられる。(メタ)アクリル系樹脂の粘度は、近赤外線吸収色素化合物を調合して塗料化する際の作業性を考慮して、50〜5000mPa.sであることが好ましく、(メタ)アクリル系樹脂の固形分濃度は10〜50質量%であることが好ましい。   The (meth) acrylic resin is preferably soluble in an organic solvent, particularly those that are soluble in methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, cyclohexanone, acetone, acetonitrile, ethyl acetate, butyl acetate, toluene, xylene and the like. These are used alone or as a mixed solvent of two or more. The viscosity of the (meth) acrylic resin is 50 to 5000 mPa.s in consideration of workability when preparing a paint by preparing a near infrared absorbing dye compound. It is preferable that it is s, and it is preferable that the solid content density | concentration of (meth) acrylic-type resin is 10-50 mass%.

かかる(メタ)アクリル系樹脂バインダーの具体例としては、三菱レイヨン(株)製 “ダイヤナール BR−80”や日本触媒(株)製“ハルスハイブリッド IR−G205”などが挙げられる。   Specific examples of such (meth) acrylic resin binders include “Dianar BR-80” manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd. and “Hals Hybrid IR-G205” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.

本発明のC層には、透明高分子樹脂バインダーに近赤外線吸収色素とともにネオンガスの発光に伴う赤色純度を低下させる波長590nm付近の可視光線を選択的に吸収する色素を混ぜ合わせることにより、色調補正機能を持たせることが好ましい。その場合、C層は、波長570〜610nmの範囲に主吸収ピークを有し、かつ主吸収ピークの半値幅が50nm以下である色素を含み、波長590nmにおける透過率が35%以下、より好ましくは32%以下で、かつ全光線透過率が55%以上、より好ましくは60%以上であることが好ましい。波長590nmの透過率は低い方が好ましいが、低くなりすぎると全光線透過率も低くなるため、好ましくは25%以上である。   In the C layer of the present invention, color tone correction is performed by mixing a transparent polymer resin binder with a near-infrared absorbing dye and a dye that selectively absorbs visible light near a wavelength of 590 nm, which reduces the red purity associated with the emission of neon gas. It is preferable to have a function. In that case, the C layer contains a dye having a main absorption peak in the wavelength range of 570 to 610 nm and a half width of the main absorption peak of 50 nm or less, and the transmittance at a wavelength of 590 nm is 35% or less, more preferably It is preferable that it is 32% or less and the total light transmittance is 55% or more, more preferably 60% or more. The transmittance at a wavelength of 590 nm is preferably low, but if it is too low, the total light transmittance is also low, so it is preferably 25% or more.

かかる色調補正に用いる色素は、例えば特開2002−129052号公報に開示されているようなポルフィラジン系化合物(別名テトラアザポルフィリン化合物)が、耐光性、有機溶剤への溶解性、吸光係数の点から好適に用いられる。具体的には山田化学工業(株)製 “TAP−2”等が挙げられる。C層の単位面積当たりのポルフィラジン化合物の含有量は0.03〜0.07g/mとするのが好ましく、さらには0.04〜0.06g/mとするのがより好ましい。含有量がこの範囲を下回ると色調補正能が劣ることとなり、また含有量がこの範囲を越えると可視光の透過率が不足し、画像が暗くなるので好ましくない。 As the dye used for color tone correction, for example, a porphyrazine-based compound (also known as a tetraazaporphyrin compound) as disclosed in JP-A No. 2002-129052 has light resistance, solubility in an organic solvent, and an extinction coefficient. Are preferably used. Specific examples include “TAP-2” manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd. The content of porphyrazine compound per unit area of the C layer is preferably from 0.03~0.07g / m 2, more and more preferably, 0.04~0.06g / m 2. If the content is less than this range, the color tone correcting ability is inferior, and if the content exceeds this range, the visible light transmittance is insufficient and the image becomes dark.

上記した近赤外線吸収色素および色調補正用の色素は染料または顔料のどちらでも使用できるが、透明性や可視光線の透過率を考慮すると染料を用いるのが好ましい。染料を用いる場合は、高分子樹脂バインダーが可溶である有機溶媒に溶解するものが好ましい。かかる有機溶媒としては、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレン等が挙げられる。   The above near-infrared absorbing pigment and color tone correcting pigment can be either dyes or pigments, but it is preferable to use a dye in consideration of transparency and transmittance of visible light. In the case of using a dye, one that dissolves in an organic solvent in which the polymer resin binder is soluble is preferable. Examples of the organic solvent include methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, cyclohexanone, acetone, acetonitrile, ethyl acetate, butyl acetate, toluene, xylene and the like.

近赤外線吸収色素および色調補正用の色素は、上記有機溶媒に溶解後、高分子樹脂バインダー溶液や有機溶媒と混合され塗料化されて用いられる。さらに、塗料には、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、レベリング剤、消泡剤などを配合することも好ましい。   The near-infrared absorbing dye and the color tone correcting dye are used after being dissolved in the organic solvent and then mixed with a polymer resin binder solution or an organic solvent to form a paint. Furthermore, it is also preferable to mix | blend a ultraviolet absorber, a ultraviolet stabilizer, antioxidant, a leveling agent, an antifoamer, etc. with a coating material.

前記塗料は、3本リバースコーターや正転またはリバースグラビアコーター、コンマコーター、ダイコーターなどの既知のコーティング方式により、基材フィルムの易接着層上に塗工され、オーブンで乾燥して成膜し、C層が形成される。   The paint is applied on the easy-adhesion layer of the base film by a known coating method such as three reverse coaters, normal rotation or reverse gravure coater, comma coater, die coater, etc., and dried in an oven to form a film. , C layer is formed.

本発明のC層の厚みは特に限定されるものではないが、3〜30μmが好ましく、さらには4〜15μmが前記(メタ)アクリル系樹脂バインダーのフィルムへの塗工性の点からより好適である。   The thickness of the C layer of the present invention is not particularly limited, but is preferably 3 to 30 μm, and more preferably 4 to 15 μm from the viewpoint of the coating property of the (meth) acrylic resin binder on the film. is there.

本発明の光学フィルムと半強化ガラスや、あるいは電磁波遮蔽フィルムなどの他の光学フィルター要素と貼り合わせるために、C層の上に透明な粘着層が積層され、さらに貼り合わせ工程までの間に他の面との粘着を防ぐために剥離フィルムが積層されているのが好ましい。   In order to bond the optical film of the present invention and other optical filter elements such as semi-tempered glass or electromagnetic wave shielding film, a transparent adhesive layer is laminated on the C layer, and the other until the bonding process. It is preferable that a release film is laminated to prevent adhesion with the surface.

本発明における透明粘着層としては、2つの物体をその粘着作用により接着させるものであれば特に限定されない。透明粘着層を形成する粘着剤としては、ゴム系、ビニル重合系、縮合重合系、熱硬化性樹脂系、シリコーン系などを用いることができる。この中で、ゴム系の粘着剤としては、ブタジエン−スチレン共重合体系(SBR)、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体系(NBR)、クロロプレン重合体系、イソブチレン−イソプレン共重合体系(ブチルゴム)などを挙げることができる。ビニル重合系の粘着剤としては、アクリル樹脂系、スチレン樹脂系、酢酸ビニル−エチレン共重合体系、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体系などを挙げることができる。縮合重合系の粘着剤としては、ポリエステル樹脂系を挙げることができる。熱硬化樹脂系の粘着剤としては、エポキシ樹脂系、ウレタン樹脂系、ホルマリン樹脂系などを挙げることができる。これらの樹脂は単独で使用してもよく、また2種以上混合して使用しても良い。さらに、透明粘着剤は、溶剤型粘着剤と無溶剤型粘着剤のいずれでも使用することができる。   The transparent adhesive layer in the present invention is not particularly limited as long as it can adhere two objects by their adhesive action. As the pressure-sensitive adhesive forming the transparent pressure-sensitive adhesive layer, rubber-based, vinyl polymerization-based, condensation polymerization-based, thermosetting resin-based, silicone-based, and the like can be used. Among these, examples of the rubber-based adhesive include butadiene-styrene copolymer system (SBR), butadiene-acrylonitrile copolymer system (NBR), chloroprene polymer system, and isobutylene-isoprene copolymer system (butyl rubber). it can. Examples of the vinyl polymerization-based pressure-sensitive adhesive include acrylic resin-based, styrene resin-based, vinyl acetate-ethylene copolymer system, and vinyl chloride-vinyl acetate copolymer system. Examples of the condensation polymerization pressure-sensitive adhesive include a polyester resin system. Examples of the thermosetting resin adhesive include epoxy resin, urethane resin, formalin resin, and the like. These resins may be used alone or in combination of two or more. Further, the transparent pressure-sensitive adhesive can be either a solvent-type pressure-sensitive adhesive or a solventless pressure-sensitive adhesive.

透明粘着層の形成は、上記のような粘着剤を用いて、塗布等通常行なわれている技術を用いて実施される。さらに、透明粘着層に着色剤を含有させても良い。これは、粘着剤に、例えば、有機顔料や有機染料などの着色剤を混合して用いることによって容易に達成される。耐久性の点からは有機顔料を用いるのが好ましいが、粘着剤への分散性や発色性は有機染料を用いる方が好ましい。これらの着色剤は光学フィルムの最終的な色合わせのために用いられる。本発明の光学フィルムの透過色は特に限定されるものではないが、好ましくは色度xが0.27〜0.34、yが0.27〜0.34とするのが好ましい。   The formation of the transparent adhesive layer is carried out using a conventional technique such as coating, using the above-mentioned adhesive. Furthermore, you may make a transparent adhesive layer contain a coloring agent. This is easily achieved by mixing and using a colorant such as an organic pigment or organic dye in the adhesive. From the viewpoint of durability, it is preferable to use an organic pigment, but it is preferable to use an organic dye in terms of dispersibility in an adhesive and color development. These colorants are used for final color matching of the optical film. The transmitted color of the optical film of the present invention is not particularly limited, but preferably the chromaticity x is 0.27 to 0.34 and y is preferably 0.27 to 0.34.

本発明における透明粘着層は、ガラス板表面をエタノールを含浸した脱脂綿で拭き乾燥させた後、透明粘着層を積層したフィルムサンプル(25mm幅の短冊)の離型フィルムを剥がしてガラス板に貼り付け、23℃、65%RHの条件で24時間放置し、その後引っ張り試験機にて測定される90度でのフィルム剥離強度が5〜25N/25mmの範囲であるものが好ましく、さらには10〜20N/25mmの範囲が好ましい。これより低いと粘着力が弱く剥がれやすくなり、逆に強いと樹脂が堅くなる傾向にあり好ましくない。透明粘着層の厚みは10〜50μmが好ましく、さらには20〜30μmが好適である。   In the present invention, the transparent adhesive layer is made by wiping and drying the glass plate surface with an absorbent cotton impregnated with ethanol, and then peeling off the release film of the film sample (25 mm width strip) on which the transparent adhesive layer has been laminated. The film peel strength at 90 degrees measured by a tensile tester is preferably in the range of 5 to 25 N / 25 mm after being left for 24 hours under the conditions of 23 ° C. and 65% RH, and more preferably 10 to 20 N. A range of / 25 mm is preferred. If it is lower than this, the adhesive strength is weak and it is easy to peel off. On the contrary, if it is strong, the resin tends to be hard, which is not preferable. The thickness of the transparent adhesive layer is preferably 10 to 50 μm, more preferably 20 to 30 μm.

さらに、透明粘着層は実際に半強化ガラスや電磁波遮蔽フィルムなどと貼り合わされるまでの間、作業性を考慮して離型フィルムと貼り合わされる。離型フィルムとしてはポリエステルなどのフィルム基材にシリコーン等の離型剤がコーティングされたフィルムが好適に用いられる。   Furthermore, the transparent adhesive layer is bonded to the release film in consideration of workability until it is actually bonded to the semi-tempered glass or the electromagnetic wave shielding film. As the release film, a film in which a release agent such as silicone is coated on a film substrate such as polyester is suitably used.

本発明の離型フィルムの透明粘着層との90度における剥離強度は10〜100mN/25mmの範囲であることが好ましく、さらには30〜70mN/25mmの範囲であることが良好な剥離感が得られる。離型フィルムの具体例としては、東レフィルム加工(株)製“セラピール”などが挙げられる。   The peel strength of the release film of the present invention at 90 degrees with the transparent adhesive layer is preferably in the range of 10 to 100 mN / 25 mm, and more preferably in the range of 30 to 70 mN / 25 mm. It is done. Specific examples of the release film include “Therapel” manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.

本発明の透明粘着層は、例えば3本リバースコーターや正転またはリバースグラビアコーター、コンマコーター、ダイコーターなどのコーティング方式により、前記離型フィルムの離型面に塗工され、オーブンで乾燥して成膜した後、光学フィルムのC層とラミネートすることにより積層する方法が好ましいが、本方法に限定されるものではない。   The transparent adhesive layer of the present invention is applied to the release surface of the release film by a coating method such as three reverse coaters, forward rotation or reverse gravure coater, comma coater, die coater, etc., and dried in an oven. After the film formation, a method of laminating by laminating with the C layer of the optical film is preferable, but it is not limited to this method.

本発明の光学フィルムは、表面反射率が低く、表面の耐擦傷性に優れると同時に優れた近赤外線遮蔽能と色調補正能を有することから、電磁波遮蔽フィルムや衝撃吸収層、半強化ガラスなどと組み合わせて、プラズマディスプレイパネル(PDP)の光学フィルターに好適に用いられる。さらにこのように機能統合することで、部品点数および貼り合わせ工程を省略することにより光学フィルターの生産性を向上させ価格低減に寄与することが可能となる。   The optical film of the present invention has low surface reflectance, excellent surface scratch resistance, and at the same time has excellent near-infrared shielding ability and color tone correction ability, so that an electromagnetic shielding film, an impact absorbing layer, semi-tempered glass, etc. In combination, it is suitably used for an optical filter of a plasma display panel (PDP). Furthermore, by integrating the functions in this way, it is possible to improve the productivity of the optical filter and contribute to the cost reduction by omitting the number of parts and the bonding process.

[特性の測定方法および効果の評価方法]
本発明における特性の測定方法および効果の評価方法は、次のとおり定義する。
[Characteristic measurement method and effect evaluation method]
The characteristic measurement method and effect evaluation method in the present invention are defined as follows.

(1)スチールウール硬度(耐擦傷性評価)
耐擦傷性は、反射防止層表面を#0000のスチールウールに250gの荷重をかけて、ストローク幅10cm、速度30mm/secで10往復摩擦した後、表面を目視で観察し、傷の付き方を次の5段階で評価した。
5級:傷が全く付かない。
4級:傷が1本以上5本以下。
3級:傷が6本以上10本以下。
2級:傷が11本以上。
1級:全面に無数の傷。
(1) Steel wool hardness (abrasion resistance evaluation)
Scratch resistance is determined by applying a load of 250 g to # 0000 steel wool on the surface of the antireflection layer, rubbing it 10 times at a stroke width of 10 cm and a speed of 30 mm / sec, and then visually observing the surface to determine how the scratches are attached. Evaluation was made in the following five stages.
5th grade: No scratches.
Fourth grade: 1 to 5 scratches.
3rd grade: 6 to 10 scratches.
Second grade: 11 or more scratches.
First grade: Countless scratches on the entire surface.

(2)ヘイズ
フィルムのヘイズは、JIS K7136に基づき、日本電色工業製 濁度計(NDH2000)を用いて測定を行った。
(2) Haze The haze of the film was measured using a turbidimeter (NDH2000) manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. based on JIS K7136.

(3)表面抵抗値(帯電防止性評価)
フィルムを100mm×100mmの正方形にサンプリングし、反射防止層表面をJIS K6911に示される方法で前処理し、三菱油化(株)製のHIRESTA UP(MCP−HT450:JIS K6911準拠)を用いて表面抵抗値の測定を行なった。
(3) Surface resistance value (antistatic evaluation)
The film was sampled into a square of 100 mm × 100 mm, the antireflection layer surface was pretreated by the method shown in JIS K6911, and the surface was used using HIRESTA UP (MCP-HT450: conforming to JIS K6911) manufactured by Mitsubishi Yuka Co., Ltd. The resistance value was measured.

(4)反射率(反射防止性能評価)
測定面(反射防止層を設けた側の面)の反対側表面を60℃光沢度(JIS Z 8741)が10以下になるように320〜400番の耐水サンドペーパーで均一に粗面化した後、可視光線透過率が5%以下となるように黒色塗料を塗布して着色した。測定面を島津製作所製の分光光度計(UV−3150)にて、測定面から5度の入射角で、波長領域380nm〜800nmにおける絶対反射スペクトルを測定し、波長400nmおよび700nmでの反射率および400nm〜700nmの領域での最低の反射率を求めた。なお、測定した反射スペクトルにうねりのある場合は、うねりの山(極大点)と谷(極小点)の中間地点を結んでいった曲線からそれぞれの反射率を求めた。
(4) Reflectance (antireflection performance evaluation)
After the surface opposite to the measurement surface (surface on which the antireflection layer is provided) is uniformly roughened with a 320-400 water resistant sandpaper so that the 60 ° C. gloss (JIS Z 8741) is 10 or less. The black paint was applied and colored so that the visible light transmittance was 5% or less. Using a spectrophotometer (UV-3150) manufactured by Shimadzu Corporation, the absolute reflection spectrum in the wavelength region of 380 nm to 800 nm was measured at an incident angle of 5 degrees from the measurement surface, and the reflectance at wavelengths of 400 nm and 700 nm The minimum reflectance in the region of 400 nm to 700 nm was determined. When the measured reflection spectrum has undulations, the respective reflectances were obtained from curves connecting intermediate points between undulation peaks (maximum points) and valleys (minimum points).

(5)特定波長の透過率(近赤外線遮蔽性能および色調補正性能評価)
島津製作所製の分光光度計(U−3410)にて、波長380〜1200nmの範囲で光学フィルムの透過スペクトルを測定した。その中の特定波長として、590nm、820nm、850nmの透過率、および950〜1150nmの範囲での最高の透過率を求めた。
(5) Transmittance of specific wavelength (near infrared shielding performance and color correction performance evaluation)
The transmission spectrum of the optical film was measured in the wavelength range of 380 to 1200 nm with a spectrophotometer (U-3410) manufactured by Shimadzu Corporation. As specific wavelengths among them, transmittances of 590 nm, 820 nm, and 850 nm and a maximum transmittance in a range of 950 to 1150 nm were obtained.

(6)全光線透過率
光学フィルムの全光線透過率は、JIS K7361−1に基づき、日本電色工業製濁度計(NDH2000)を用いて測定を行った。
(6) Total light transmittance The total light transmittance of the optical film was measured using a turbidimeter manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. (NDH2000) based on JIS K7361-1.

(7)透過色度座標(測色評価)
スガ試験機製のSMカラーコンピューター(SM−6)を用いて、C光源2゜視野で光学フィルムのXYZ刺激値を測定し、透過色度座標(x、y)を求めた。
(7) Transmission chromaticity coordinates (colorimetric evaluation)
Using an SM color computer (SM-6) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., the XYZ stimulation value of the optical film was measured in a C light source 2 ° field of view, and transmission chromaticity coordinates (x, y) were determined.

(8)常態接着性評価
常態下(23℃、相対湿度65%RH)で、C層上に1mm のクロスカットを100個入れ、ニチバン株式会社製セロハンテープをその上に貼り付け、ゴムローラーを、荷重19.6Nで3往復させ、押し付けた後、90度方向に剥離し、C層の残存した個数により4段階評価(A:100、B:80〜99、C:50〜79、D:0〜49)した。(A)と(B)を接着性良好とした。
(8) Normal adhesion evaluation Under normal conditions (23 ° C., relative humidity 65% RH), 100 pieces of 1 mm 2 crosscuts were put on the C layer, and cellophane tape made by Nichiban Co., Ltd. was pasted on the rubber roller. Was reciprocated three times with a load of 19.6 N, pressed, peeled off in the direction of 90 degrees, and evaluated in four stages according to the number of remaining C layers (A: 100, B: 80 to 99, C: 50 to 79, D : 0-49). (A) and (B) were considered to have good adhesion.

(9)耐光性評価
スガ試験機製紫外線フェードメーター(FAL−3)を用いて、63±3℃で24時間、光学フィルムに紫外線を照射した。光学フィルムの透過スペクトルを測定し、(5)で挙げた特定波長の全てが、紫外線照射前後の透過率差が1%未満であるものを合格(○)とし、特定波長のいずれか一つでも1%以上である場合は不合格(×)とした。
(9) Light resistance evaluation Using an ultraviolet fade meter (FAL-3) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., the optical film was irradiated with ultraviolet rays at 63 ± 3 ° C. for 24 hours. Measure the transmission spectrum of the optical film, and pass all the specific wavelengths listed in (5) with a transmittance difference of less than 1% before and after UV irradiation. When it was 1% or more, it was determined as rejected (x).

(10)耐湿熱性評価
60℃、90%RHの条件に合わせた恒温恒湿機に光学フィルムを500時間入れた。光学フィルムの透過スペクトルを測定し、(5)で挙げた全ての特定波長の耐湿熱性評価前後の透過率差が1%未満であるものを合格(○)とし、特定波長のいずれか一つでも1%以上である場合は不合格(×)とした。
(10) Moisture and heat resistance evaluation An optical film was placed in a thermostatic chamber at a temperature of 60 ° C. and 90% RH for 500 hours. The transmission spectrum of the optical film is measured, and the transmittance difference before and after the wet and heat resistance evaluation of all the specific wavelengths listed in (5) is less than 1%. When it was 1% or more, it was determined as rejected (x).

次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。   Next, although this invention is demonstrated based on an Example, this invention is not necessarily limited to these.

(有機置換基含有アルコキシシラン化合物の調製)
メチルトリメトキシシラン138質量部、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン236質量部、イソプロピルアルコール120質量部を攪拌混合し、蟻酸1.7質量部と水72質量部を配合して、30℃±10℃で攪拌しながら30分加水分解し、さらに温度を80℃±5℃に上げて60分攪拌しながら重合し、室温まで冷却後、溶媒を留去してメチル基およびエポキシ基含有アルコキシシラン化合物を得た。動粘度は25℃で45mm/sであった。
(Preparation of organic substituent-containing alkoxysilane compound)
138 parts by mass of methyltrimethoxysilane, 236 parts by mass of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 120 parts by mass of isopropyl alcohol were mixed with stirring, and 1.7 parts by mass of formic acid and 72 parts by mass of water were blended, Hydrolyze with stirring at 10 ° C for 30 minutes, further raise the temperature to 80 ° C ± 5 ° C, polymerize with stirring for 60 minutes, cool to room temperature, and then distill off the solvent to remove methyl group and epoxy group-containing alkoxysilane A compound was obtained. The kinematic viscosity was 45 mm 2 / s at 25 ° C.

(B層塗料−1の調製)
一次粒子径50nmの外殻を有する中空シリカ粒子(空隙率40%)144質量部、イソプロピルアルコール560質量部からなるシリカスラリーを準備し、メチルトリメトキシシラン219質量部、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン158質量部、上述シリカスラリー704質量部、ポリプロピレングリコールモノエチルエーテル713質量部を攪拌混合し、燐酸1質量部と水130質量部を配合して、30℃±10℃で攪拌しながら60分加水分解し、さらに温度を80℃±5℃に上げて60分攪拌しながら重合し、シリカ粒子含有ポリマーを得た。
(Preparation of layer B paint-1)
A silica slurry comprising 144 parts by mass of hollow silica particles having an outer shell with a primary particle diameter of 50 nm (porosity 40%) and 560 parts by mass of isopropyl alcohol was prepared, 219 parts by mass of methyltrimethoxysilane, 3,3,3-tri 158 parts by mass of fluoropropyltrimethoxysilane, 704 parts by mass of the above silica slurry, and 713 parts by mass of polypropylene glycol monoethyl ether are mixed with stirring, 1 part by mass of phosphoric acid and 130 parts by mass of water are mixed, and the mixture is stirred at 30 ° C. ± 10 ° C. Then, the mixture was hydrolyzed for 60 minutes, and the temperature was raised to 80 ° C. ± 5 ° C., followed by polymerization while stirring for 60 minutes to obtain a silica particle-containing polymer.

次に、このシリカ粒子含有ポリマー1200質量部、イソプロピルアルコール5244質量部を攪拌混合した後、硬化触媒としてアセトキシアルミニウムを15質量部添加して再度攪拌混合し、屈折率1.35の塗料を調整した。   Next, 1200 parts by mass of this silica particle-containing polymer and 5244 parts by mass of isopropyl alcohol were stirred and mixed, then 15 parts by mass of acetoxyaluminum as a curing catalyst was added and stirred again to prepare a paint having a refractive index of 1.35. .

(B層塗料−2の調製)
イソプロピルアルコールに分散された粒子径12nmの内部に空洞を有しないシリカ系微粒子のゾル(商品名 IPA−ST、日産化学工業(株)製、固形分30%)483質量部を、一次粒子径50nmの外殻を有する中空シリカ粒子(空隙率40%)144質量部、イソプロピルアルコール560質量部からなるシリカスラリーに変えて使用する事以外は、前記B層塗料−1の調製と同様の方法でシリカ粒子含有ポリマーを得た。
(Preparation of layer B paint-2)
Silica fine particle sol (trade name: IPA-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content: 30%) dispersed in isopropyl alcohol having a particle diameter of 12 nm and having no cavities, has a primary particle diameter of 50 nm. In the same manner as in the preparation of the layer B paint-1, except that the silica slurry is made of 144 parts by mass of hollow silica particles (porosity 40%) and 560 parts by mass of isopropyl alcohol. A particle-containing polymer was obtained.

次に、このシリカ粒子含有ポリマー1200質量部、イソプロピルアルコール5466質量部を攪拌混合した後、硬化触媒としてアセトキシアルミニウムを15質量部添加して再度攪拌混合し、屈折率1.38の塗料を調整した。   Next, after 1200 parts by mass of this silica particle-containing polymer and 5466 parts by mass of isopropyl alcohol were mixed with stirring, 15 parts by mass of acetoxyaluminum was added as a curing catalyst and mixed again with stirring to prepare a paint having a refractive index of 1.38. .

(C層塗料−1の調整)
近赤外線吸収色素として、日本化薬(株)製“KAYASORB IRG−050”を29質量部、日本触媒(株)製“イーエクスカラー IR−10A”を16質量部をメチルエチルケトン2000質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒(株)製“ハルスハイブリッド IR−G205”(固形分濃度29%溶液)2000質量部と攪拌混合して近赤外線遮蔽塗料−1を作製した。
(Adjustment of C layer paint-1)
As a near-infrared absorbing dye, 29 parts by mass of “KAYASORB IRG-050” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., and 16 parts by mass of “eXcolor IR-10A” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. were mixed with 2000 parts by mass of methyl ethyl ketone. And dissolved. This solution was used as a transparent polymer resin binder solution, and was stirred and mixed with 2000 parts by mass of “Hals Hybrid IR-G205” (solid content 29% solution) manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. to prepare a near-infrared shielding coating-1.

(C層塗料−2の調整)
近赤外線吸収色素として、日本化薬(株)製“KAYASORB IRG−023”を29質量部、旭電化工業(株)製“TZ−111”を3質量部、同“TZ−114”を3質量部をメチルエチルケトン2000質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒(株)製“ハルスハイブリッド IR−G205”(固形分濃度29%溶液)2000質量部と攪拌混合して近赤外線遮蔽塗料−2を作製した。
(Adjustment of C layer paint-2)
As a near-infrared absorbing dye, 29 parts by mass of “KAYASORB IRG-023” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 3 parts by mass of “TZ-111” manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., and 3 parts by mass of “TZ-114” Part was stirred and mixed with 2000 parts by mass of methyl ethyl ketone and dissolved. This solution was used as a transparent polymer resin binder solution, and was stirred and mixed with 2000 parts by mass of “Hals Hybrid IR-G205” (solid content 29% solution) manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. to prepare a near-infrared shielding paint-2.

(C層塗料−3の調整)
近赤外線吸収色素として、日本化薬(株)製“KAYASORB IRG−050”を29質量部、日本触媒(株)製“イーエクスカラー IR−10A”を16質量部、さらに色調補正用色素として、山田化学工業(株)製“TAP−2”を5.8質量部をメチルエチルケトン2000質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒(株)製“ハルスハイブリッド IR−G205”(固形分濃度29%溶液)2000質量部と攪拌混合して近赤外線遮蔽塗料−3を作製した。
(Adjustment of C layer paint-3)
As a near-infrared absorbing dye, 29 parts by mass of “KAYASORB IRG-050” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 16 parts by mass of “EEX Color IR-10A” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. “TAP-2” manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd. was dissolved by mixing 5.8 parts by mass with 2000 parts by mass of methyl ethyl ketone. This solution was used as a transparent polymer resin binder solution, and was stirred and mixed with 2000 parts by mass of “Hals Hybrid IR-G205” (solid content concentration 29% solution) manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. to prepare a near infrared shielding coating-3.

(C層塗料−4の調整)
近赤外線吸収色素として、日本化薬(株)製“KAYASORB IRG−050”を29質量部、旭電化工業(株)製“TZ−111”を3質量部、同“TZ−114”を3質量部、さらに色調補正用色素として、山田化学工業(株)製“TAP−2”を5.8質量部をメチルエチルケトン2000質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒(株)製“ハルスハイブリッド IR−G205”(固形分濃度29%溶液)2000質量部と攪拌混合して近赤外線遮蔽塗料−4を作製した。
(Adjustment of C layer paint-4)
As a near-infrared absorbing dye, 29 parts by mass of “KAYASORB IRG-050” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 3 parts by mass of “TZ-111” manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., and 3 mass of “TZ-114” In addition, 5.8 parts by mass of “TAP-2” manufactured by Yamada Chemical Industry Co., Ltd. was mixed and dissolved in 2000 parts by mass of methyl ethyl ketone as a color correction pigment. This solution was used as a transparent polymer resin binder solution, and was stirred and mixed with 2000 parts by mass of “Hals Hybrid IR-G205” (solid content 29% solution) manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. to prepare a near-infrared shielding paint-4.

(実施例1)
市販の光学用易接着ポリエステルフィルム(東レ製 ルミラー(登録商標)QT77、厚み100μm)のポリエステル系樹脂からなる易接着面側に、平均粒径約10nmのアンチモン含有酸化錫微粒子25質量%および多官能アクリレートを含む塗料(大日精化(株)製 セイカビーム PET−AS−41:屈折率1.53)と前記有機置換基含有アルコキシシラン化合物を質量比33:1で混合し、攪拌した塗布液を小径グラビアコーターで塗工し、90℃で乾燥後、紫外線400mJ/cmを照射して硬化させ、厚み約3μmのA層を形成した。次に、このA層上に、前記B層塗料−1を小径グラビアコーターで塗工し、130℃で乾燥、硬化して、厚さ約0.1μmのB層を形成して反射防止層を積層した。この段階でのフィルム(いわゆる反射防止フィルム)の耐擦傷性、ヘイズ、表面抵抗値の評価結果を表1に示す。耐擦傷性は4級であり、ヘイズは0.3%と透明性が高く、帯電防止性も良好であった。また、波長400〜700nmおよび500〜700nmでの最高反射率、最低反射率、最高反射率と最低反射率の差を表2に示す。最低反射率は1.0%と低く、反射率差も2.5%以下であることから、色目がニュートラルな反射防止層であった。次に、反射防止層と反対面側(QT77のアクリル系樹脂からなる易接着面側)に、ダイコーターを用いてC層塗料−1を塗工し、120℃で乾燥して、厚み10μmのC層を積層した。得られた光学フィルムの特性を表3に示す。820nm、850nm、950〜1150nmにおける透過率は良好であり、常態下接着性、耐光性、耐湿熱性ともに優れていた。
Example 1
An antimony-containing tin oxide fine particle having an average particle diameter of about 10 nm and 25% by mass on the easy-adhesion surface side made of a polyester resin of a commercially available optically-adhesive polyester film (Lumirror (registered trademark) QT77 manufactured by Toray Industries Inc., thickness 100 μm) and multifunctional A coating solution containing acrylate (Seika Beam PET-AS-41: refractive index 1.53 manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd.) and the organic substituent-containing alkoxysilane compound are mixed at a mass ratio of 33: 1 and the stirred coating solution is reduced in diameter. After coating with a gravure coater and drying at 90 ° C., it was cured by irradiation with ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2 to form an A layer having a thickness of about 3 μm. Next, on the A layer, the B layer paint-1 is applied with a small diameter gravure coater, dried and cured at 130 ° C. to form a B layer having a thickness of about 0.1 μm, and an antireflection layer is formed. Laminated. Table 1 shows the evaluation results of the scratch resistance, haze, and surface resistance of the film (so-called antireflection film) at this stage. The scratch resistance was grade 4, the haze was as high as 0.3%, and the antistatic property was also good. Table 2 shows the maximum reflectance, the minimum reflectance, and the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance at wavelengths of 400 to 700 nm and 500 to 700 nm. Since the minimum reflectance was as low as 1.0% and the reflectance difference was 2.5% or less, the antireflection layer was neutral in color. Next, C layer paint-1 was applied using a die coater on the side opposite to the antireflection layer (the easy adhesion surface side made of an acrylic resin of QT77), dried at 120 ° C., and a thickness of 10 μm. C layer was laminated. Table 3 shows the properties of the obtained optical film. The transmittance at 820 nm, 850 nm, and 950 to 1150 nm was good, and the adhesion under normal conditions, light resistance, and heat and humidity resistance were excellent.

(実施例2)
B層に関して、含フッ素系共重合体(フルオロオレフィン/ビニルエーテル共重合体)を含む塗料(JSR(株)製、JN−7215:屈折率1.42)を使用し、150℃で乾燥、硬化させること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止層を積層した。得られた反射防止フィルムの評価結果を表1(耐擦傷性、ヘイズ、表面抵抗値)と表2(波長400〜700nmおよび500〜700nmでの最高反射率、最低反射率、最高反射率と最低反射率の差)に示す。最低反射率は1.6%と低く、また反射率差も2.5%以下であることから、色目がニュートラルな反射防止層であった。次に、反射防止層と反対面側(QT77のアクリル系樹脂からなる易接着面側)に、ダイコーターを用いてC層塗料−1を塗工し、120℃で乾燥して、厚み10μmのC層を積層した。得られた光学フィルムの特性を表3に示す。820nm、850nm、950〜1150nmにおける透過率は良好であり、常態下接着性、耐光性、耐湿熱性ともに優れていた。
(Example 2)
For layer B, use a paint containing a fluorine-containing copolymer (fluoroolefin / vinyl ether copolymer) (manufactured by JSR Corporation, JN-7215: refractive index 1.42), and dry and cure at 150 ° C. Except for this, an antireflection layer was laminated in the same manner as in Example 1. The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 1 (scratch resistance, haze, surface resistance value) and Table 2 (maximum reflectance, minimum reflectance, maximum reflectance and minimum reflectance at wavelengths of 400 to 700 nm and 500 to 700 nm). Reflectance difference). Since the minimum reflectance was as low as 1.6% and the reflectance difference was 2.5% or less, the antireflection layer was neutral in color. Next, C layer paint-1 was applied using a die coater on the side opposite to the antireflection layer (the easy adhesion surface side made of an acrylic resin of QT77), dried at 120 ° C., and a thickness of 10 μm. C layer was laminated. Table 3 shows the properties of the obtained optical film. The transmittance at 820 nm, 850 nm, and 950 to 1150 nm was good, and the adhesion under normal conditions, light resistance, and heat and humidity resistance were excellent.

(実施例3)
B層に関して、前記B層塗料−2を使用すること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止層を積層した。
(Example 3)
Regarding the B layer, an antireflection layer was laminated in the same manner as in Example 1 except that the B layer paint-2 was used.

得られた反射防止フィルムの評価結果を表1(耐擦傷性、ヘイズ、表面抵抗値)と表2(波長400〜700nmおよび500〜700nmでの最高反射率、最低反射率、最高反射率と最低反射率の差)に示す。最低反射率は1.3%と低く、また反射率差も2.5%以下であることから、色目がニュートラルな反射防止層であった。次に、反射防止層と反対面側(QT77のアクリル系樹脂からなる易接着面側)に、ダイコーターを用いてC層塗料−1を塗工し、120℃で乾燥して、厚み10μmのC層を積層した。得られた光学フィルムの特性を表3に示す。820nm、850nm、950〜1150nmにおける透過率は良好であり、常態下接着性、耐光性、耐湿熱性ともに優れていた。   The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 1 (scratch resistance, haze, surface resistance value) and Table 2 (maximum reflectance, minimum reflectance, maximum reflectance and minimum reflectance at wavelengths of 400 to 700 nm and 500 to 700 nm). Reflectance difference). Since the minimum reflectance was as low as 1.3% and the difference in reflectance was 2.5% or less, the antireflection layer was neutral in color. Next, C layer paint-1 was applied to the opposite side of the antireflection layer (the easy-adhesion side of the QT77 acrylic resin) using a die coater, dried at 120 ° C., and a thickness of 10 μm. C layer was laminated. Table 3 shows the properties of the obtained optical film. The transmittance at 820 nm, 850 nm, and 950 to 1150 nm was good, and the adhesion under normal conditions, light resistance, and heat and humidity resistance were excellent.

(実施例4)
A層に関して、多官能アクリレートを含む塗料(JSR製 デソライトZ7528:屈折率1.50)と前記有機置換基含有アルコキシシラン化合物を質量比20:1で混合し、攪拌した塗布液を用い、小径グラビアコーターで塗工して80℃で乾燥後、紫外線400mJ/cmを照射して硬化させ、厚み約3μmのA層を設けること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止層を積層した。
Example 4
For layer A, a paint containing polyfunctional acrylate (Desolite Z7528 manufactured by JSR: refractive index 1.50) and the organic substituent-containing alkoxysilane compound were mixed at a mass ratio of 20: 1, and a small-diameter gravure was used using a stirred coating solution. After coating with a coater and drying at 80 ° C., an antireflection layer was laminated in the same manner as in Example 1 except that an ultraviolet ray of 400 mJ / cm 2 was applied and cured to provide an A layer having a thickness of about 3 μm. .

得られた反射防止フィルムの評価結果を表1(耐擦傷性、ヘイズ、表面抵抗値)と表2(波長400〜700nmおよび500〜700nmでの最高反射率、最低反射率、最高反射率と最低反射率の差)に示す。最低反射率は1.1%と低く、また反射率差も2.5%以下であることから、色目がニュートラルな反射防止層であった。次に、反射防止層と反対面側(QT77のアクリル系樹脂からなる易接着面側)に、ダイコーターを用いてC層塗料−2を塗工し、120℃で乾燥して、厚み10μmのC層を積層した。得られた光学フィルムの特性を表3に示す。820nm、850nm、950〜1150nmにおける透過率は良好であり、常態下接着性、耐光性、耐湿熱性ともに優れていた。   The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 1 (scratch resistance, haze, surface resistance value) and Table 2 (maximum reflectance, minimum reflectance, maximum reflectance and minimum reflectance at wavelengths of 400 to 700 nm and 500 to 700 nm). Reflectance difference). Since the minimum reflectance was as low as 1.1% and the reflectance difference was 2.5% or less, the antireflection layer was neutral in color. Next, on the side opposite to the antireflection layer (the easy adhesion surface side made of an acrylic resin of QT77), the C-layer paint-2 was applied using a die coater, dried at 120 ° C., and a thickness of 10 μm. C layer was laminated. Table 3 shows the properties of the obtained optical film. The transmittance at 820 nm, 850 nm, and 950 to 1150 nm was good, and the adhesion under normal conditions, light resistance, and heat and humidity resistance were excellent.

(実施例5)
A層に関して、1次粒径30nmのアンチモン含有酸化錫微粒子20質量%および多官能アクリレートを含む塗料(日本化薬(株)製 KAS―565M−30A:屈折率1.53)を用いること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止層を積層した。
(Example 5)
For layer A, except that 20% by mass of antimony-containing tin oxide fine particles with a primary particle size of 30 nm and a paint containing polyfunctional acrylate (KAS-565M-30A: refractive index 1.53 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) are used. The antireflection layer was laminated in the same manner as in Example 1.

得られた反射防止フィルムの評価結果を表1(耐擦傷性、ヘイズ、表面抵抗値)と表2(波長400〜700nmおよび500〜700nmでの最高反射率、最低反射率、最高反射率と最低反射率の差)に示す。最低反射率は1.0%と低く、また反射率差も2.5%以下であることから、色目がニュートラルな反射防止層であった。次に、反射防止層と反対面側(QT77のアクリル系樹脂からなる易接着面側)に、ダイコーターを用いてC層塗料−2を塗工し、120℃で乾燥して、厚み10μmのC層を積層した。得られた光学フィルムの特性を表3に示す。820nm、850nm、950〜1150nmにおける透過率は良好であり、常態下接着性、耐光性、耐湿熱性ともに優れていた。   The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 1 (scratch resistance, haze, surface resistance value) and Table 2 (maximum reflectance, minimum reflectance, maximum reflectance and minimum reflectance at wavelengths of 400 to 700 nm and 500 to 700 nm). Reflectance difference). Since the minimum reflectance was as low as 1.0% and the reflectance difference was 2.5% or less, the antireflection layer was neutral in color. Next, on the side opposite to the antireflection layer (the easy adhesion surface side made of an acrylic resin of QT77), the C-layer paint-2 was applied using a die coater, dried at 120 ° C., and a thickness of 10 μm. C layer was laminated. Table 3 shows the properties of the obtained optical film. The transmittance at 820 nm, 850 nm, and 950 to 1150 nm was good, and the adhesion under normal conditions, light resistance, and heat and humidity resistance were excellent.

(実施例6)
A層塗布液を調合する際、有機置換基含有アルコキシシラン化合物を加えないこと以外は、実施例1と同様の方法で反射防止層を積層した。
(Example 6)
When preparing the layer A coating solution, an antireflection layer was laminated in the same manner as in Example 1 except that the organic substituent-containing alkoxysilane compound was not added.

得られた反射防止フィルムの評価結果を表1(耐擦傷性、ヘイズ、表面抵抗値)と表2(波長400〜700nmおよび500〜700nmでの最高反射率、最低反射率、最高反射率と最低反射率の差)に示す。最低反射率は1.0%と低く、また反射率差も2.5%以下であることから、色目がニュートラルな反射防止層であった。次に、反射防止層と反対面側(QT77のアクリル系樹脂からなる易接着面側)に、ダイコーターを用いてC層塗料−2を塗工し、120℃で乾燥して、厚み10μmのC層を積層した。得られた光学フィルムの特性を表3に示す。820nm、850nm、950〜1150nmにおける透過率は良好であり、常態下接着性、耐光性、耐湿熱性ともに優れていた。   The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 1 (scratch resistance, haze, surface resistance value) and Table 2 (maximum reflectance, minimum reflectance, maximum reflectance and minimum reflectance at wavelengths of 400 to 700 nm and 500 to 700 nm). Reflectance difference). Since the minimum reflectance was as low as 1.0% and the reflectance difference was 2.5% or less, the antireflection layer was neutral in color. Next, on the side opposite to the antireflection layer (the easy adhesion surface side made of an acrylic resin of QT77), the C-layer paint-2 was applied using a die coater, dried at 120 ° C., and a thickness of 10 μm. C layer was laminated. Table 3 shows the properties of the obtained optical film. The transmittance at 820 nm, 850 nm, and 950 to 1150 nm was good, and the adhesion under normal conditions, light resistance, and heat and humidity resistance were excellent.

(実施例7)
実施例1において、C層の塗料を前記C層塗料−2に変更する以外は実施例1と同様の方法にて厚み10μmのC層を積層した。得られた光学フィルムの特性を表3に示す。820nm、850nm、950〜1150nmにおける透過率は良好であり、常態下接着性、耐光性、耐湿熱性ともに優れていた。
(Example 7)
In Example 1, a C layer having a thickness of 10 μm was laminated in the same manner as in Example 1 except that the C layer paint was changed to the C layer paint-2. Table 3 shows the properties of the obtained optical film. The transmittance at 820 nm, 850 nm, and 950 to 1150 nm was good, and the adhesion under normal conditions, light resistance, and heat and humidity resistance were excellent.

(実施例8)
実施例1において、C層の塗料を前記C層塗料−3に変更する以外は実施例1と同様の方法にて厚み10μmのC層を積層した。得られた光学フィルムの特性を表3に示す。820nm、850nm、950〜1150nmにおける透過率は良好であり、また、590nmの透過率が30%で全光線透過率も60.4%と良好であった。さらに常態下接着性、耐光性、耐湿熱性ともに優れていた。
(Example 8)
In Example 1, a C layer having a thickness of 10 μm was laminated in the same manner as in Example 1 except that the C layer paint was changed to the C layer paint-3. Table 3 shows the properties of the obtained optical film. The transmittance at 820 nm, 850 nm, and 950 to 1150 nm was good, the transmittance at 590 nm was 30%, and the total light transmittance was also 60.4%. Furthermore, it was excellent in adhesion under normal conditions, light resistance, and heat and humidity resistance.

(実施例9)
実施例1において、C層の塗料を前記C層塗料−4に変更する以外は実施例1と同様の方法にて厚み10μmのC層を積層した。得られた光学フィルムの特性を表3に示す。820nm、850nm、950〜1150nmにおける透過率は良好であり、また、590nmの透過率が30%で全光線透過率も62.7%と良好であった。さらに常態下接着性、耐光性、耐湿熱性ともに優れていた。
Example 9
In Example 1, a C layer having a thickness of 10 μm was laminated in the same manner as in Example 1 except that the C layer paint was changed to the C layer paint-4. Table 3 shows the properties of the obtained optical film. The transmittance at 820 nm, 850 nm, and 950 to 1150 nm was good, the transmittance at 590 nm was 30%, and the total light transmittance was also good at 62.7%. Furthermore, it was excellent in adhesion under normal conditions, light resistance, and heat and humidity resistance.

(比較例1)
A層に関して、膜厚を約0.1μmにすること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止層を積層した。
(Comparative Example 1)
Regarding the A layer, an antireflection layer was laminated in the same manner as in Example 1 except that the film thickness was about 0.1 μm.

得られた反射防止フィルムの評価結果を表1(耐擦傷性、ヘイズ、表面抵抗値)と表2(波長400〜700nmおよび500〜700nmでの最高反射率、最低反射率、最高反射率と最低反射率の差)に示す。最低反射率が2%を越え、反射防止性が不十分であった。また、耐擦傷性も1級と低いものであった。次に、反射防止層と反対面側(QT77のアクリル系樹脂からなる易接着面側)に、ダイコーターを用いてC層塗料−1を塗工し、120℃で乾燥して、厚み8μmのC層を積層した。得られた光学フィルムの特性を表3に示す。820nm、850nmにおける透過率はいずれも高く、近赤外線遮蔽性が十分でない。   The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 1 (scratch resistance, haze, surface resistance value) and Table 2 (maximum reflectance, minimum reflectance, maximum reflectance and minimum reflectance at wavelengths of 400 to 700 nm and 500 to 700 nm). Reflectance difference). The minimum reflectance exceeded 2%, and the antireflection property was insufficient. Also, the scratch resistance was as low as first grade. Next, C layer paint-1 was applied to the surface opposite to the antireflection layer (the easy adhesion surface side made of an acrylic resin of QT77) using a die coater, dried at 120 ° C., and a thickness of 8 μm. C layer was laminated. Table 3 shows the properties of the obtained optical film. The transmittances at 820 nm and 850 nm are both high, and the near-infrared shielding property is not sufficient.

(比較例2)
B層に関して、シリコーン系ハードコート剤(東レ・ダウコーニングシリコーン(株)製 AY−150:屈折率1.44)を塗料として用い、80℃で乾燥後、紫外線400mJ/cmを照射して硬化させ、厚み約0.1μmのB層を設けること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止層を積層した。
(Comparative Example 2)
For layer B, a silicone-based hard coat agent (AY-150 manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd .: refractive index 1.44) is used as a paint, dried at 80 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays 400 mJ / cm 2 to be cured. The antireflection layer was laminated in the same manner as in Example 1 except that a B layer having a thickness of about 0.1 μm was provided.

得られた反射防止フィルムの評価結果を表1(耐擦傷性、ヘイズ、表面抵抗値)と表2(波長400〜700nmおよび500〜700nmでの最高反射率、最低反射率、最高反射率と最低反射率の差)に示す。最低反射率が2%を越え、また最高反射率も3.5%を越え、反射防止性が不十分であった。次に、反射防止層と反対面側(QT77のアクリル系樹脂からなる易接着面側)に、ダイコーターを用いてC層塗料−1を塗工し、120℃で乾燥して、厚み5μmのC層を積層した。得られた光学フィルムの特性を表3に示す。820nm、850nm、950〜1150nmにおける透過率はいずれも高く、近赤外線遮蔽性が十分でない。   The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 1 (scratch resistance, haze, surface resistance value) and Table 2 (maximum reflectance, minimum reflectance, maximum reflectance and minimum reflectance at wavelengths of 400 to 700 nm and 500 to 700 nm). Reflectance difference). The minimum reflectance exceeded 2%, the maximum reflectance exceeded 3.5%, and the antireflection property was insufficient. Next, C layer paint-1 was applied to the opposite side of the antireflection layer (the easy adhesion surface side made of an acrylic resin of QT77) using a die coater, dried at 120 ° C., and a thickness of 5 μm. C layer was laminated. Table 3 shows the properties of the obtained optical film. The transmittances at 820 nm, 850 nm, and 950 to 1150 nm are all high, and the near infrared shielding property is not sufficient.

(比較例3)
A層に関して、錫含有酸化インジウム粒子(ITO)を含む塗料(多官能ウレタン(メタ)アクリレート/ITO粒子(平均一次粒径30nm)=18/82)(大日本塗料(株)製、EI−3:屈折率1.65)を用いること以外は、実施例1と同様の方法で反射防止層を積層した。
(Comparative Example 3)
For layer A, paint containing tin-containing indium oxide particles (ITO) (polyfunctional urethane (meth) acrylate / ITO particles (average primary particle size 30 nm) = 18/82) (Dainippon Paint Co., Ltd., EI-3 : An antireflection layer was laminated in the same manner as in Example 1 except that a refractive index of 1.65) was used.

得られた反射防止フィルムの評価結果を表1(耐擦傷性、ヘイズ、表面抵抗値)と表2(波長400〜700nmおよび500〜700nmでの最高反射率、最低反射率、最高反射率と最低反射率の差)に示す。ヘイズが1.8%と高く、透明性が悪いものであった。次に、反射防止層と反対面側(QT77のアクリル系樹脂からなる易接着面側)に、ダイコーターを用いてC層塗料−2を塗工し、120℃で乾燥して、厚み8μmのC層を積層した。得られた光学フィルムの特性を表3に示す。820nmにおける透過率が高く、近赤外線遮蔽性が十分でない。   The evaluation results of the obtained antireflection film are shown in Table 1 (scratch resistance, haze, surface resistance value) and Table 2 (maximum reflectance, minimum reflectance, maximum reflectance and minimum reflectance at wavelengths of 400 to 700 nm and 500 to 700 nm). Reflectance difference). The haze was as high as 1.8% and the transparency was poor. Next, on the side opposite to the antireflection layer (the easy adhesion surface side made of an acrylic resin of QT77), C layer paint-2 was applied using a die coater, dried at 120 ° C., and a thickness of 8 μm. C layer was laminated. Table 3 shows the properties of the obtained optical film. The transmittance at 820 nm is high and the near infrared shielding property is not sufficient.

(実施例10)
綜研化学(株)製“SKダイン−1310”1000質量部と硬化剤“M5A”33質量部、イソプロピルアルコール300質量部から調整した粘着剤に、着色剤として日本化薬(株)製“Kayaset red”“Kayaset violet”“ Kayaset blue”を配合して、厚さ75μmの離型フィルム(東レフィルム加工(株)製“セラピール”)の離型面にダイコーターで塗工し、100℃で乾燥した後、実施例8で得られた光学フィルムのC層面とラミネートした。得られたフィルムの透過色度はxが0.292、yが0.294であった。また、得られたフィルムを25mm幅の短冊に切り、粘着層とガラス板を貼り合わせて90度剥離試験を実施した。ガラス板との粘着力は15N/25mmであった。
(Example 10)
“Kayset red” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. as a colorant is added to an adhesive prepared from 1000 parts by weight of “SK Dyne-1310” manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., 33 parts by weight of curing agent “M5A” and 300 parts by weight of isopropyl alcohol. "Kayase violet" and "Kayase blue" were blended and applied to the release surface of a 75 μm thick release film (“Therapel” manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.) with a die coater and dried at 100 ° C. Then, it laminated with the C layer surface of the optical film obtained in Example 8. As for the transmission chromaticity of the obtained film, x was 0.292 and y was 0.294. Moreover, the obtained film was cut into a 25 mm width strip, the adhesive layer and the glass plate were bonded together, and a 90 degree peel test was performed. The adhesive strength with the glass plate was 15 N / 25 mm.

(実施例11)
市販の電磁波吸収フィルム(日本フィルコン(株)製 粘着剤付きメッシュタイプ)を半強化ガラスと貼り合わせ、その上に実施例10で作製した光学フィルムを貼り合わせ、PDP用光学フィルターを作製した。反射が少なく、かつ反射色がニュートラルな色調の光学フィルターが得られた。
(Example 11)
A commercially available electromagnetic wave absorbing film (manufactured by Nippon Filcon Co., Ltd., pressure sensitive adhesive mesh type) was bonded to semi-tempered glass, and the optical film prepared in Example 10 was bonded thereon to prepare an optical filter for PDP. An optical filter having a color tone with little reflection and neutral reflection color was obtained.

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本発明の光学フィルムは、表面反射率が低く、色目がニュートラルで、表面の耐擦傷性に優れ、さらに、近赤外線遮蔽能と色調補正能に優れたフィルムであり、電磁波遮蔽能を付与されたガラス板に貼り合わせてPDP用光学フィルターとして好適に用いられる。あるいは、本発明の光学フィルムを電磁波遮蔽フィルムと貼り合わせた後、直接PDPの前面板に衝撃吸収粘着層を介して貼り合わせて使用することができる。   The optical film of the present invention has a low surface reflectance, a neutral color, excellent surface scratch resistance, and excellent near-infrared shielding ability and color tone correction ability, and is imparted with electromagnetic shielding ability. It is suitably used as an optical filter for PDP by being bonded to a glass plate. Alternatively, after the optical film of the present invention is bonded to the electromagnetic wave shielding film, it can be directly bonded to the front plate of the PDP via an impact absorbing adhesive layer.

本発明の反射防止フィルムの一例を示す断面を模式的に表した図である。It is the figure which represented typically the cross section which shows an example of the antireflection film of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1:B層
2:A層
3:基材フィルム
4:C層
5:反射防止層
1: B layer 2: A layer 3: Base film 4: C layer 5: Antireflection layer

Claims (16)

基材フィルムの一方の面に、0.3μm以上の膜厚を有し屈折率が1.62以下であるA層、および屈折率がA層より低く、かつ1.42以下であるB層の少なくとも2層が、B層よりA層の方が基材フィルムに近い位置で積層されてなり、該基材フィルムの他方の面に、近赤外線吸収能を有する色素を透明な高分子樹脂中に分散してなるC層が積層されてなる光学フィルムにおいて、該B層の波長400〜700nmにおける表面反射スペクトルが次の3条件を全て満たし;
(1)最低反射率が0.6%以上、2.0%以下。
(2)最高反射率が3.5%以下。
(3)最高反射率と最低反射率の差が2.5%以下。
かつ、該C層が次の3条件を全て満たす光学フィルム。
(4)波長820nmにおける透過率が20%以下。
(5)波長850nmにおける透過率が15%以下。
(6)波長950nmから1150nmにおける透過率が10%以下。
A layer having a film thickness of 0.3 μm or more and a refractive index of 1.62 or less, and a B layer having a refractive index lower than that of the A layer and 1.42 or less on one surface of the base film At least two layers are laminated so that the A layer is closer to the base film than the B layer, and a dye having a near infrared absorbing ability is placed in a transparent polymer resin on the other surface of the base film. In the optical film in which the dispersed C layer is laminated, the surface reflection spectrum of the B layer at a wavelength of 400 to 700 nm satisfies all the following three conditions;
(1) The minimum reflectance is 0.6% or more and 2.0% or less.
(2) Maximum reflectance is 3.5% or less.
(3) The difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance is 2.5% or less.
An optical film in which the C layer satisfies all of the following three conditions.
(4) The transmittance at a wavelength of 820 nm is 20% or less.
(5) The transmittance at a wavelength of 850 nm is 15% or less.
(6) The transmittance at wavelengths from 950 nm to 1150 nm is 10% or less.
前記C層が次の3条件を全て満たす請求項1に記載の光学フィルム。
(7)波長570〜610nmの範囲に主吸収ピークを有し、かつ、主吸収ピークの半値幅が50nm以下である色素を含む。
(8)波長590nmにおける透過率が35%以下。
(9)全光線透過率が55%以上。
The optical film according to claim 1, wherein the C layer satisfies all of the following three conditions.
(7) A dye having a main absorption peak in the wavelength range of 570 to 610 nm and a half width of the main absorption peak of 50 nm or less is included.
(8) The transmittance at a wavelength of 590 nm is 35% or less.
(9) Total light transmittance is 55% or more.
ヘイズが1.5%以下である請求項1または2に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1 or 2, wherein the haze is 1.5% or less. 前記B層が、シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とするものである請求項1〜3のいずれかに記載の光学フィルム。   The optical film according to any one of claims 1 to 3, wherein the B layer is mainly composed of a siloxane polymer formed by bonding with silica-based fine particles. 前記シリカ系微粒子が、内部に空洞を有するものである請求項4に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 4, wherein the silica-based fine particles have a cavity inside. 前記シロキサンポリマーが、多官能性フッ素含有シラン化合物を含む請求項4または5に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 4, wherein the siloxane polymer contains a polyfunctional fluorine-containing silane compound. 前記A層の屈折率が1.48以上1.62以下である請求項1〜6のいずれかに記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the refractive index of the A layer is 1.48 or more and 1.62 or less. 前記A層が、導電性金属酸化物微粒子を含有し、かつ、該導電性金属酸化物微粒子の含有量がA層に対して50質量%以下である請求項1〜7のいずれかに記載の光学フィルム。   The said A layer contains electroconductive metal oxide microparticles | fine-particles, and content of this electroconductive metal oxide microparticles | fine-particles is 50 mass% or less with respect to A layer. Optical film. 前記A層の上に前記B層が積層されている請求項1〜8のいずれかに記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the B layer is laminated on the A layer. 前記A層が、有機置換基含有アルコキシシラン化合物を含む請求項1〜9のいずれかに記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the layer A contains an organic substituent-containing alkoxysilane compound. 前記有機置換基含有アルコキシシラン化合物が、ビニル基、エポキシ基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、アミノ基、ウレイド基、クロロプロピル基、メルカプト基、スルフィド基、およびイソシアネート基からなる群より選ばれる少なくとも1種類を含む請求項10に記載の光学フィルム。   The organic substituent-containing alkoxysilane compound is at least one selected from the group consisting of vinyl group, epoxy group, methacryloxy group, acryloxy group, amino group, ureido group, chloropropyl group, mercapto group, sulfide group, and isocyanate group. The optical film according to claim 10. 前記有機置換基含有アルコキシシラン化合物が、動粘度が5mm/s(25℃)以上の縮合体である請求項10または11に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 10, wherein the organic substituent-containing alkoxysilane compound is a condensate having a kinematic viscosity of 5 mm 2 / s (25 ° C.) or more. 前記B層表面の耐擦傷性が3級以上(本文で定義)である請求項1〜12のいずれかに記載の光学フィルム。   The optical film according to any one of claims 1 to 12, wherein the scratch resistance of the surface of the B layer is 3 or more (defined in the text). 前記B層の表面抵抗値が1×1012Ω以下である請求項1〜13のいずれかに記載の光学フィルム。 14. The optical film according to claim 1, wherein the B layer has a surface resistance value of 1 × 10 12 Ω or less. 前記基材フィルムが、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂およびアクリル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種からなる請求項1〜14のいずれかに記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the base film is made of at least one selected from the group consisting of a polyester resin, an acetate resin, and an acrylic resin. 請求項1〜15のいずれかに記載の光学フィルムが貼り合わされてなるプラズマディスプレイパネル用光学フィルター。   The optical filter for plasma display panels formed by bonding the optical film in any one of Claims 1-15.
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