JP2013230533A - Surface machining method of surface plate for polishing machine, and surface plate for polishing machine - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、研磨機用定盤の表面加工方法および研磨機用定盤に関し、さらに詳細には、被加工物としての研磨機用定盤の表面を所望の精密面に加工する表面加工方法、および当該表面加工方法を用いて表面が加工されて成る研磨機用定盤に関する。 The present invention relates to a surface processing method for a polishing machine surface plate and a surface plate for a polishing machine, and more specifically, a surface processing method for processing the surface of a polishing machine surface plate as a workpiece into a desired precision surface, The present invention also relates to a polishing machine surface plate having a surface processed using the surface processing method.
従来より、シリコンウェーハ等のワークの表面を研磨する研磨機として、ワークを両面同時に研磨する両面研磨機と、ワークを片面ずつ研磨する片面研磨機とが知られている。 Conventionally, as a polishing machine for polishing the surface of a workpiece such as a silicon wafer, a double-side polishing machine that simultaneously polishes both surfaces of a workpiece and a single-side polishing machine that polishes a workpiece one by one are known.
一般的な研磨機として、例えば両面研磨機の場合であれば図5に示すような構成を備えた研磨機20が知られている(特許文献1参照)。この研磨機20は、上面が研磨面とされた下定盤2(2A)と、下定盤2(2A)の上方に上下動自在に支持され、下面が研磨面とされた上定盤2(2B)とを具備する。上下定盤2A、2Bは駆動装置により軸線を中心として互いに反対方向に回転される。すなわち、上定盤2(2B)は、支持フレーム21に配設された駆動装置22によって回転駆動される。なお、上定盤2(2B)は、上下動機構として例えばシリンダ装置23により上下動可能となっている。一方、下定盤2(2A)はモータ24によって回転駆動される。また、下定盤2(2A)は、その下面がリング状の支持ベアリング25によって支持されている。さらに、下定盤2(2A)と上定盤2(2B)との間に、ウェーハ3を保持する透孔を有するキャリア(不図示)が配置される。これによれば、下定盤2(2A)上に供給パイプ26からスラリーを供給しつつ、上下定盤2A、2Bを回転させ、且つキャリアを回転させることにより、ウェーハ3は上下定盤2A、2Bに対して相対移動して、上下定盤2A、2B間に挟まれた当該ウェーハ3の両面を研磨することができる。
As a general polishing machine, for example, in the case of a double-side polishing machine, a
ところで、研磨機による研磨対象物であるシリコンウェーハ等のワークは、表面が高精度に加工されることが要求されるため、当該ワークの加工(研磨)を行うための研磨機用定盤(例えば前述の下定盤、上定盤)の表面(ワークとの接触面)を高精度に仕上げ加工しておくことが必要となる。 By the way, since a workpiece such as a silicon wafer that is an object to be polished by the polishing machine is required to have a surface processed with high accuracy, a surface plate for a polishing machine (for example, a polishing machine) It is necessary to finish the surface (contact surface with the workpiece) of the above-described lower surface plate and upper surface plate with high accuracy.
例えば、研磨機用定盤の表面加工方法として、特許文献2に例示されるように、ワークの研磨に用いられる下定盤(同文献中では、セラミック製ラップ面)の表面を加工するために、当該定盤を修正キャリアと接触させ、砥粒を供給しながら当該定盤と修正キャリアとを回転させて所定の平坦面に仕上げる定盤の表面加工方法が知られている。
For example, as a surface processing method for a surface plate for a polishing machine, as illustrated in
また、研磨機用定盤の表面加工方法の他の例として、図6に示すように、専用の機械(ラップ機30)を用いて、研磨機用定盤2(例えば前述の下定盤2A、上定盤2B)をラップ機30の回転するテーブル31上に固定して、ラップ盤32と接触させ、遊離砥粒を含む切削液を供給しながら当該定盤2とラップ盤32とを回転させて、当該定盤2を所定の平坦面に仕上げる表面加工方法も知られている。
Further, as another example of the surface processing method of the polishing machine surface plate, as shown in FIG. 6, a polishing machine surface plate 2 (for example, the above-described
しかしながら、上記に例示される従来の表面加工方法の場合、被加工物である研磨機用定盤の研磨を行うラップ盤や修正キャリアの最適条件を見出し、設定するまでには経験的要素が多く求められ、非常に時間がかかってしまうという課題があった。加えて、被加工物である研磨機用定盤が研磨される際には、ラップ盤や修正キャリアも摩耗してしまうため最適条件が長時間維持できないという課題があった。これらは、いわゆる職人的技術が要求されるという課題でもあり、その解決が求められていた。 However, in the case of the conventional surface processing method exemplified above, there are many empirical factors to find and set the optimum conditions for the lapping machine and the correction carrier for polishing the polishing machine surface plate that is the workpiece. There was a problem that it was required and would take a long time. In addition, when the surface plate for a polishing machine, which is a workpiece, is polished, there is a problem that the lapping machine and the correction carrier are also worn and the optimum conditions cannot be maintained for a long time. These are also issues that require so-called craftsmanship techniques, and there has been a need to solve them.
また、近年、ワークの大径化・精密化に伴い、当該ワークを加工するための研磨機用定盤の大径化・精密化の要請が高まっている。そのような研磨機用定盤の表面加工を行う際に、上記に例示される従来のラップ機等のような専用の機械を用いる方法によれば、特に大型の専用機を準備しなければならないため、コスト面での負担が過大となり、装置の利用面でも非効率となってしまう課題があった。 In recent years, with the increase in diameter and precision of workpieces, there is an increasing demand for increasing the diameter and precision of a polishing machine surface plate for processing the workpiece. When performing surface processing of such a surface plate for a polishing machine, according to the method using a dedicated machine such as the conventional lapping machine exemplified above, a particularly large dedicated machine must be prepared. For this reason, there is a problem that the burden on the cost becomes excessive and the use of the apparatus becomes inefficient.
さらに、上記に例示される従来の表面加工方法の場合、被加工物である研磨機用定盤の研磨を行う際に遊離砥粒を供給しながら加工を行うため、当該砥粒が被加工物である研磨機用定盤の表面に食い込んだ状態で仕上がることが多い。その結果、表面加工がなされた装置(例えば、ポリシング機等)を設置するクリーンルームの清浄度維持やポリッシング時の異物混入防止の観点から、当該定盤に食い込んだ砥粒の除去が必要となっている。しかしながら、除去には酸洗浄が必要で専用設備が必要となってしまうため、コスト面での負担が過大となってしまう課題があった。 Furthermore, in the case of the conventional surface processing method exemplified above, the abrasive grains are processed while supplying free abrasive grains when polishing the polishing machine surface plate which is the workpiece. In many cases, it is finished in a state where it is cut into the surface of the surface plate for a polishing machine. As a result, it is necessary to remove abrasive grains that have bitten into the surface plate from the viewpoint of maintaining cleanliness of a clean room where a surface-finished apparatus (for example, a polishing machine) is installed and preventing foreign matter from being mixed during polishing. Yes. However, since removal requires acid cleaning and special equipment is required, there is a problem that the cost burden is excessive.
本発明は、上記事情に鑑みてなされ、経験的要素が多く含まれる職人的技術を必要とせず、被加工物である研磨機用定盤が大径の場合であっても専用機を用意することなく、当該定盤の表面を所望の凹凸形状を有する精密面に仕上げ加工することができ、加工後の洗浄も容易となる研磨機用定盤の表面加工方法を提供することを目的とする。 The present invention is made in view of the above circumstances, does not require craftsmanship techniques that include many empirical elements, and prepares a dedicated machine even when the polishing machine surface plate that is a workpiece has a large diameter. It is an object of the present invention to provide a surface processing method for a surface plate for a polishing machine that can finish the surface of the surface plate to a precise surface having a desired concavo-convex shape and that can be easily cleaned after processing. .
一実施形態として、以下に開示するような解決手段により、前記課題を解決する。 As an embodiment, the above-described problem is solved by a solution as disclosed below.
開示する研磨機用定盤の表面加工方法は、回転する砥石が縦横の2軸方向に移動可能な平面研削盤を用いて、前記2軸方向の組み合わせで前記砥石を移動させて回転するテーブルに固定された被加工物としての研磨機用定盤に形状精密加工を行い、前記形状精密加工中の前記砥石の移動量を監視して、前記研磨機用定盤の表面を所望の凹凸形状を有する精密面に仕上げ加工する工程を備えることを特徴とする。これによれば、専用機ではない平面研削盤を用いて被加工物である研磨機用定盤の表面を加工することができる。したがって、従来のラップ機を用いる加工方法と比較して、経験的要素が多く含まれる職人的技術を必要とせず、被加工物である研磨機用定盤が大径の場合にも研削盤に入るサイズであれば加工を行うことが可能となる。また、縦横の2軸方向の組み合わせで砥石を移動させて研削を行うため、曲線加工(曲面加工)が可能となり、所望の凹凸形状を有する面形状に仕上げ加工することが可能となる。さらに、砥石の移動量を監視してフィードバック制御を行うことで、高精度の精密面に仕上げ加工することが可能となる。また、加工時に砥粒を用いないため、当該定盤に食い込んだ砥粒を除去する工程が不要となり、そのための専用設備(洗浄設備)の設置も不要となって、簡易洗浄のみとすることができる。 The surface processing method of the surface plate for polishing machines disclosed is a table that rotates by rotating the grinding wheel in a combination of the two axial directions using a surface grinding machine in which the rotating grinding stone can move in two vertical and horizontal directions. Perform precise shape processing on a polishing machine surface plate as a fixed workpiece, monitor the amount of movement of the grinding wheel during the accurate shape processing, and form the desired uneven shape on the surface of the polishing machine surface plate. It has the process of finishing to the precision surface which has. According to this, the surface of the surface plate for polishing machines which is a workpiece can be processed using a surface grinding machine which is not a dedicated machine. Therefore, compared with the processing method using a conventional lapping machine, it does not require craftsmanship techniques that include many empirical elements, and even if the polishing machine surface plate that is the workpiece has a large diameter, Any size that fits can be processed. In addition, since grinding is performed by moving the grindstone in a combination of vertical and horizontal biaxial directions, curve processing (curved surface processing) is possible, and finishing can be performed into a surface shape having a desired uneven shape. Further, by performing feedback control by monitoring the moving amount of the grindstone, it is possible to finish the surface with high precision. Also, since abrasive grains are not used during processing, there is no need to remove the abrasive grains that have digged into the surface plate, and there is no need to install dedicated equipment (cleaning equipment) for that purpose. it can.
また、前記研磨機用定盤は、研磨機に固定される際の状態と同様の状態となる固定治具を用いて前記テーブルに固定されることが好ましい。これによれば、被加工物である研磨機用定盤が研磨機に固定される際の状態と同様の状態でテーブルに固定することが可能となる。すなわち、表面の加工時において、研磨機に固定される際の状態と同様の変形を研磨機用定盤に発生させることができる。これは、使用時(研磨時)と被加工時とで研磨機用定盤の固定位置(支点)を同様にすることができるためである。その状態で当該定盤の表面を加工すれば、研磨機に固定された際に当該定盤に生じる変形と同様の変形を予め生じさせた状態で加工が行われることとなるため、研磨機への固定後の変形によって当該定盤の表面に形状精度の低下が発生することが防止できる。したがって、所望の凹凸形状を高精度に形成することが可能となる。 Moreover, it is preferable that the said surface plate for polishers is fixed to the said table using the fixing jig used as the state at the time of fixing to a polisher. According to this, it becomes possible to fix to a table in the state similar to the state at the time of the surface plate for polishers which is a workpiece being fixed to a polisher. That is, at the time of processing the surface, the same deformation as in the state of being fixed to the polishing machine can be generated on the polishing machine surface plate. This is because the fixing position (fulcrum) of the polishing machine surface plate can be made similar during use (during polishing) and during processing. If the surface of the surface plate is processed in that state, the processing is performed in a state in which the same deformation as that generated on the surface plate is caused in advance when the surface plate is fixed to the polishing machine. It is possible to prevent a decrease in shape accuracy from occurring on the surface of the surface plate due to deformation after fixing. Therefore, a desired uneven shape can be formed with high accuracy.
また、前記研磨機用定盤の表面を加工する工程は、該研磨機用定盤が研磨機に固定された状態で静的精度検査をする際の温度環境と同様の温度環境下で実施することが好ましい。これによれば、被加工物である研磨機用定盤が研磨機に固定された状態で静的精度検査をする際の温度環境と同様の温度環境下で研磨機用定盤の表面を加工することが可能となる。すなわち、被加工物である研磨機用定盤は、研磨機に固定された状態で静的精度検査をする際の温度環境と同様の温度環境下で加工されているため、静的精度検査時と被加工時との温度の相違による変形量の違いに起因して当該定盤の表面に形状精度の低下が発生することが防止できる。したがって、所望の凹凸形状を高精度に形成することが可能となる。 In addition, the step of processing the surface of the polishing machine surface plate is performed under a temperature environment similar to the temperature environment when performing a static accuracy inspection in a state where the polishing machine surface plate is fixed to the polishing machine. It is preferable. According to this, the surface of the polishing machine surface plate is processed in a temperature environment similar to the temperature environment when performing static accuracy inspection with the polishing machine surface plate fixed to the polishing machine. It becomes possible to do. In other words, the polishing machine surface plate that is the workpiece is processed in a temperature environment similar to that used for static accuracy inspection while being fixed to the polishing machine. It is possible to prevent a reduction in shape accuracy from occurring on the surface of the surface plate due to a difference in deformation amount due to a difference in temperature between the workpiece and the workpiece. Therefore, a desired uneven shape can be formed with high accuracy.
また、前記研磨機用定盤は、内部に液体通流部を有しており、前記研磨機用定盤の表面を加工する工程は、該研磨機用定盤の前記液体通流部に液体を通流させることによって該研磨機用定盤を所望の温度に調整しながら実施することが好ましい。これによれば、被加工物である研磨機用定盤が研磨機に固定された状態で静的精度検査をする際の当該定盤の温度と、研磨機用定盤の表面を加工する際の当該定盤の温度とを同じにすることが可能となる。その結果、静的精度検査時と被加工時との温度の相違による変形量の違いに起因して当該定盤の表面に形状精度の低下が発生することが防止できる。したがって、所望の凹凸形状を高精度に形成することが可能となる。 In addition, the polishing machine surface plate has a liquid flow part therein, and the step of processing the surface of the polishing machine surface plate includes a liquid in the liquid flow part of the polishing machine surface plate. It is preferable that the polishing machine surface plate is adjusted to a desired temperature by passing it through. According to this, when processing the surface of the surface plate for the polishing machine and the temperature of the surface plate for the polishing machine when performing the static accuracy inspection in a state where the surface plate for the polishing machine being the workpiece is fixed to the polishing machine It is possible to make the temperature of the platen the same. As a result, it is possible to prevent a decrease in shape accuracy from occurring on the surface of the surface plate due to a difference in deformation due to a difference in temperature between the static accuracy inspection and the time of processing. Therefore, a desired uneven shape can be formed with high accuracy.
また、前記研磨機用定盤の表面を加工する工程は、縦軸方向における前記砥石の送り設定値を数μm単位とすることによって複数回に分けて実施することが好ましい。通常の研削工程においては、研削時間を短くするために砥石の送り設定値は可能な限り大きくして、研削回数も少なくすることが一般的である。しかしながら、砥石の送り設定値を数μm単位の小さな値とし、且つ、加工工程を複数回に分けて実施することによって、被加工物である研磨機用定盤の表面の加工時において、当該研磨機用定盤に砥石が押圧されることによって当該定盤に生じる応力を低減することができる。その結果、当該定盤の変形量を小さくすることができるため、変形によって当該定盤の表面に形状精度の低下が発生することが防止できる。したがって、所望の凹凸形状を高精度に形成することが可能となる。 Further, the step of processing the surface of the polishing machine surface plate is preferably carried out in a plurality of times by setting the feed setting value of the grindstone in the vertical axis direction to a unit of several μm. In a normal grinding process, in order to shorten the grinding time, it is common to increase the feed setting value of the grindstone as much as possible and to reduce the number of times of grinding. However, when the grindstone feed setting value is set to a small value of several μm, and the machining process is divided into a plurality of times, the polishing is performed at the time of machining the surface of the polishing machine surface plate that is the workpiece. When the grindstone is pressed against the machine surface plate, the stress generated on the surface plate can be reduced. As a result, since the deformation amount of the surface plate can be reduced, it is possible to prevent the shape accuracy from being lowered on the surface of the surface plate due to the deformation. Therefore, a desired uneven shape can be formed with high accuracy.
開示する研磨機用定盤は、前記の研磨機用定盤の表面加工方法を用いて、表面が所望の凹凸形状を有する精密面に仕上げ加工されていることを特徴とする。これによれば、使用時(研磨時)における表面形状が所望の凹凸形状に高精度に形成された研磨機用定盤が実現できる。 The disclosed polishing machine surface plate is characterized in that the surface is finished into a precision surface having a desired concavo-convex shape by using the surface processing method of the polishing machine surface plate. According to this, it is possible to realize a polishing machine surface plate in which the surface shape at the time of use (during polishing) is formed in a desired uneven shape with high accuracy.
開示する研磨機用定盤の表面加工方法によれば、経験的要素が多く含まれる職人的技術を必要とせず、被加工物である研磨機用定盤が大径の場合であっても専用機を用意することなく、当該定盤の表面を所望の凹凸形状を有する精密面に仕上げ加工することができ、加工後の洗浄も容易となる。 According to the surface processing method of the surface plate for a polishing machine disclosed, it does not require craftsmanship technology that includes many empirical elements, and even if the surface plate for the polishing machine that is the workpiece is a large diameter Without preparing a machine, the surface of the surface plate can be finished to a precise surface having a desired concavo-convex shape, and cleaning after processing becomes easy.
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について詳しく説明する。なお、実施形態を説明するための全図において、同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、装置構成図は概略図であって、各装置構成における実際の寸法(比)を表示するものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that components having the same function are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiments, and the repetitive description thereof may be omitted. Further, the device configuration diagram is a schematic diagram and does not display actual dimensions (ratio) in each device configuration.
先ず、本実施形態に係る研磨機用定盤の表面加工方法における被加工物である研磨機用定盤2の構成例について説明する。研磨機用定盤2は、前述の通り、シリコンウェーハ等のワーク3の表面を研磨する研磨機20(図5参照)において、当該ワーク3の加工(研磨)を行うための定盤(例えば前述の下定盤2A、上定盤2B)である。ここでは、研磨機用定盤2として研磨機20の下定盤2Aを例に挙げて説明する。
First, a configuration example of the polishing
従来の研磨機用定盤(例えば、セラミック定盤)としては直径800[mm]程度以下の構成が主であった。しかし、近年、ワークの大径化に伴い、研磨機用定盤の大径化(一例として直径1200[mm]程度)の要請がある。この点、本実施形態に係る加工方法においては、直径500〜2800[mm]程度の構成を有する研磨機用定盤についても被加工物とすることが可能となっている。特に従来、加工が困難であった直径800[mm]程度以上の構成を有する研磨機用定盤の表面加工を簡易に且つ高精度に行うことができる点で、非常に有効である。 The conventional polishing machine surface plate (for example, ceramic surface plate) mainly has a diameter of about 800 [mm] or less. However, in recent years, with an increase in workpiece diameter, there has been a demand for an increase in the diameter of a surface plate for a polishing machine (for example, a diameter of about 1200 [mm]). In this regard, in the processing method according to the present embodiment, a polishing machine surface plate having a diameter of about 500 to 2800 [mm] can be used as a workpiece. In particular, it is very effective in that the surface processing of a polishing plate having a diameter of 800 [mm] or more, which has been difficult to process, can be performed easily and with high accuracy.
また、研磨機用定盤2を構成する材料の例としては、ステンレス材料、鉄系金属材料、セラミック材料が挙げられる。例えば、アルミナセラミックを用いた定盤の場合、従来のラップ機による表面加工においては、多量のダイヤモンド遊離砥粒を必要とするため、加工コストが上昇してしまうという課題があった。しかし、本実施形態に係る加工方法よれば、その解決が可能となる。
Examples of materials constituting the polishing
次に、本実施形態に係る研磨機用定盤の表面加工方法に用いられる平面研削盤10の構成例について説明する。図1に平面研削盤10の斜視図(概略図)を示す。
Next, the structural example of the
平面研削盤10は、一例として汎用の横軸円テーブル形平面研削盤である。被加工物を固定するための回転するテーブル11を備えている。当該テーブル11は直径1200[mm]程度以上の構成を有する研磨機用定盤2であっても、載置して固定することが可能となっている。なお、回転はインバータ制御されており、安定した回転が実現される。
The
この平面研削盤10を用いて研磨機用定盤2の表面加工を行う場合、当該研磨機用定盤2は、研磨機20に固定される際の状態と同様の状態となる固定治具4を用いてテーブル11に固定される。
一例として、固定治具4は図2に示すように、リング状の部材である。より詳しくは、研磨機用定盤2(ここでは、下定盤2A)は、研磨機20(図5参照)に固定される際に、リング状のベアリング25(一例として、スラスト軸受)の上に載置された状態で固定される。したがって、当該ベアリング25と同一径且つ同一幅(すなわち、同一内径且つ同一外径)の板面を有するリング状部材を固定治具4として用いることが好適である。
When surface processing of the polishing
As an example, the fixing
これによれば、被加工物である研磨機用定盤2が研磨機20に固定される際の状態と同様の状態でテーブル11に固定することが可能となる。すなわち、研磨機用定盤2の表面の加工時において、研磨機20に固定される際の状態と同様の変形を研磨機用定盤2に発生させることができる。これは、使用時(研磨時)と被加工時とで研磨機用定盤2の固定位置(支点)を同様にすることができるためである。その状態で当該定盤2の表面を加工すれば、研磨機20に固定された際に当該定盤2に生じる変形と同様の変形を予め生じさせた状態で加工(研削)が行われることとなるため、研磨機20への固定後の変形によって当該定盤2の表面に形状精度の低下が発生することが防止できる。したがって、研磨機用定盤2の表面加工において、所望の凹凸形状を高精度に形成することが可能となる。
According to this, it becomes possible to fix to the table 11 in the same state as the state when the polishing
また、図2に示すように、平面研削盤10は回転する砥石12が縦横の2軸方向(縦軸方向および横軸方向)に移動可能な構成を備えている。より詳しくは、砥石12は、縦軸方向すなわち縦軸(図2中のZ軸)と平行な方向、および横軸方向すなわち横軸(図2中のY軸)と平行な方向に移動可能である。また、縦軸方向および横軸方向のそれぞれにリニアスケール(不図示)が設けられている。これにより、砥石12の移動量の正確な把握が可能となっている。
As shown in FIG. 2, the
上記の構成によれば、縦横の2軸方向の組み合わせで砥石12を移動させることができる。したがって、被加工物(研磨機用定盤2)の表面を曲線加工(曲面加工)することが可能となり、所望の凹凸形状を有する面形状に仕上げ加工することが可能となる。
According to said structure, the
なお、平面研削盤10は、加工時に加工液を供給するための加工液供給手段(不図示)を備える構成としてもよい。
The
続いて、本発明の実施形態に係る研磨機用定盤の表面加工方法について図3のフローチャートを用いて説明する。なお、本実施形態に係る研磨機用定盤2の表面加工方法は、前記の平面研削盤10を用いて実施する場合を例として説明する。
Next, a surface processing method for a polishing machine surface plate according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the flowchart of FIG. In addition, the surface processing method of the
先ず、研磨機用定盤2を、平面研削盤10のテーブル11に固定する(ステップS1)。
本実施形態においては、固定に際して、固定治具4を用いる。例えば、研磨機用定盤2(ここでは、下定盤2A)が被加工物である場合、前述のリング状の固定治具4をテーブル11上に配設し、当該固定治具4上に研磨機用定盤2を載置して固定する(図2参照)。
First, the polishing
In the present embodiment, the fixing
次いで、本実施形態においては、研磨機用定盤2が研磨機20に固定された状態で静的精度検査をする際の温度環境と同様の温度環境下とする工程を実施する(ステップS2)。
Next, in the present embodiment, a process is performed in which the polishing
これによれば、被加工物である研磨機用定盤2が研磨機20に固定された状態で静的精度検査をする際の温度環境と同様の温度環境下で研磨機用定盤2の表面を加工することが可能となる。すなわち、被加工物である研磨機用定盤2は、研磨機20に固定された状態で静的精度検査をする際の温度環境と同様の温度環境下で加工されているため、静的精度検査時と被加工時との温度の相違による変形量の違いに起因して当該定盤2の表面に形状精度の低下が発生することが防止できる。したがって、所望の凹凸形状を高精度に形成することが可能となる。
According to this, the polishing
なお、ここで、研磨機用定盤2が内部に液体通流部(不図示)を有する構成を備えている場合には、上記ステップS2と共に、下記のステップS2’を実施してもよい。すなわち、ステップS2’として、研磨機用定盤2の表面を加工する工程は、当該研磨機用定盤2の液体通流部に所定温度の液体を通流させることによって当該研磨機用定盤2を所望の温度分布に調整しながら実施する。
これによれば、被加工物である研磨機用定盤2が研磨機20に固定された状態で静的精度検査をする際の当該定盤2の温度分布と、当該定盤2の表面を加工する際の当該定盤2の温度分布とを同じにすることが可能となる。その結果、静的精度検査時と被加工時との温度分布の相違による変形量の違いに起因して当該定盤2の表面に形状精度の低下が発生することが防止できる。したがって、所望の凹凸形状を高精度に形成することが可能となる。
Here, when the polishing
According to this, the temperature distribution of the
上記ステップS2に次いで、目標形状に基づいて砥石軌跡に対応した座標を入力する(ステップS3)。そして、上記ステップS3に次いで、砥石12を移動させて回転するテーブル11に固定された被加工物としての研磨機用定盤2を研削することにより形状精密加工を行う工程を実施する(ステップS4)。このとき、回転する砥石12が縦横の2軸方向(図2におけるY軸方向、Z軸方向)に移動可能な平面研削盤10を用いて、前記2軸方向の組み合わせで砥石12を移動させる。
これによれば、研磨機用定盤2の表面を所望の凹凸形状を有する精密面に仕上げ加工することが可能となる。ここで言う「精密面」とは、数μm〜数十μmの凹凸を有する凸形状(いわゆる、お椀形)、凹形状(いわゆる、すり鉢形)、W形状、逆W形状、カモメ形状、等(いずれも断面形状に由来する形状名称である)を意味する。
Following step S2, the coordinates corresponding to the grinding wheel trajectory are input based on the target shape (step S3). Then, following the step S3, a step of performing shape precision machining is performed by grinding the polishing
According to this, it is possible to finish the surface of the polishing
なお、ステップS4を実施する際に、平面研削盤10が前述の加工液供給手段(不図示)を備える場合には、加工液の温度を所定温度に調整して供給することが好ましい。その理由として、被加工物である研磨機用定盤2の静的精度検査時と同様の温度分布にして、当該温度分布の変化に起因する当該定盤2の変形を防止することができるからである。
When performing the step S4, when the
また、ステップS4を実施する際に、砥石12の移動量を監視しながら加工(研削)を行う。平面研削盤10はリニアスケールを備えており、砥石12の移動量の正確な把握が可能となる。当該移動量を監視(計測)し、その監視結果(計測結果)に基づいて、制御部(不図示)がフィードバック制御を行う。より詳しくは、縦軸方向(Z軸方向)および横軸方向(Y軸方向)のそれぞれにおいて、リニアスケールにより砥石12の実移動量を監視し、フィードバック制御を行って、砥石12を移動させる。これによって、砥石12の移動量を高精度に制御できるため、研磨機用定盤2の表面を高精度に加工することが可能となる。
Moreover, when performing step S4, it processes (grinds), monitoring the moving amount | distance of the
ここで、形状精密加工中の砥石12の移動量を監視(計測)し、制御部が当該移動量が規定値(予め設定された移動量)に達したか否かを判定する(ステップS5)。判定の結果、当該規定値に達していない場合は砥石12の移動を継続して行い、当該規定値に達した場合は砥石12の移動を停止する。
Here, the amount of movement of the
本実施形態においては、図4の説明図に示すように、縦軸方向(Z軸方向)における砥石12の送り設定値aを数μm単位とすることによって、研削工程を複数回(例えば、n回)に分けて実施する構成を特徴とする(これは、必要とされている研削量(Z軸方向の寸法)が、a[μm]×n[回]である場合の例である)。ただし、設定した軌跡でn回に達する前に加工表面が全面加工されたことを確認できれば、手動もしくは自動にて停止してもよい。
In the present embodiment, as shown in the explanatory diagram of FIG. 4, the grinding step is performed a plurality of times (for example, n) by setting the feed set value a of the
ここで、図4中の破線が砥石12の軌跡である。より詳しくは、同図4に示すように研磨機用定盤2を中央が凸の形状に仕上げ加工を行う場合、制御部が砥石12の軌跡(図4中の破線)を算出し、1ストローク毎に設定した送り設定値aで送る制御を行う。これを同図4のように、研磨機用定盤2の半径片側全面が当たる(研削される)まで繰り返す。このとき、研磨機用定盤2はテーブル11に固定されて回転しているので、半径片側の軌跡が折り返し転写した形状で仕上がることとなる。
なお、上記1ストロークの始点は、研磨機用定盤2の中心側もしくは外周側のいずれにも設定することが可能である。
Here, the broken line in FIG. 4 is the locus of the
The starting point of the one stroke can be set on either the center side or the outer peripheral side of the polishing
これによれば、砥石12の送り設定値aを数μm単位の小さな値とし、且つ、加工工程(研削工程)を複数回(ここでは、n回)に分けて実施することによって、被加工物である研磨機用定盤2の表面の加工時において、当該研磨機用定盤2に砥石12が押圧されることによって当該定盤2に生じる応力を低減することができる。その結果、当該定盤2の変形量を小さくすることができるため、変形によって当該定盤2の表面に形状精度の低下が発生することが防止できる。したがって、所望の凹凸形状を高精度に形成することが可能となる。
According to this, by setting the feed set value a of the
具体的な工程としては、砥石12を送る回数が規定回数(ここでは、n回)に達したか否かを制御部が判定する(ステップS6)。判定の結果、当該規定回数に達していない場合は、制御部(不図示)が縦方向における砥石12の送り設定値(予め設定された送り設定値)として設定された距離だけ、砥石12を縦軸方向に送る制御を行い(ステップS7)、次いで、ステップS4〜S6を繰り返して行い、当該規定回数に達した場合は、一連の工程が終了する。
As a specific process, the control unit determines whether or not the number of times of sending the
このようにして、本実施形態に係る研磨機用定盤の表面加工方法が完了する。 In this manner, the surface processing method for the polishing machine surface plate according to the present embodiment is completed.
以上、説明した通り、開示の研磨機用定盤の表面加工方法によれば、専用機ではない平面研削盤を用いて被加工物である研磨機用定盤の表面を加工することができる。したがって、従来のラップ機を用いる加工方法と比較して、ラップ盤の最適条件を見出し、設定するまでには経験的要素が多く求められ、非常に時間がかかってしまうという課題の解決が可能となる。また、被加工物である研磨機用定盤が研磨される際には、ラップ盤や修正キャリア等が摩耗してしまうため最適条件が長時間維持できないという課題の解決が可能となる。すなわち、いわゆる職人的技術が要求されるという課題の解決が可能となる。さらに、被加工物である研磨機用定盤が大径の場合にも加工を行うことが可能となる。 As described above, according to the disclosed surface processing method for a polishing machine surface plate, the surface of the polishing machine surface plate that is a workpiece can be processed using a surface grinding machine that is not a dedicated machine. Therefore, compared with the conventional processing method using a lapping machine, it is possible to solve the problem that much empirical elements are required to find and set the optimum conditions of the lapping machine and it takes a very long time. Become. Further, when the polishing machine surface plate, which is a workpiece, is polished, the lapping machine, the correction carrier, and the like are worn, so that the problem that the optimum condition cannot be maintained for a long time can be solved. That is, it is possible to solve the problem that so-called artisan technology is required. Furthermore, it is possible to perform processing even when the polishing machine surface plate that is a workpiece has a large diameter.
また、縦横の2軸方向の組み合わせで砥石を移動させて研削を行うため、曲線加工(曲面加工)が可能となり、所望の凹凸形状を有する面形状に仕上げ加工することが可能となる。さらに、砥石の移動量を監視してフィードバック制御を行うことで、高精度の精密面に仕上げ加工することが可能となる。また、加工時に砥粒を用いないため、当該定盤に食い込んだ砥粒を除去する工程が不要となり、そのための専用設備(洗浄設備)の設置も不要となる。
さらに、被加工物(研磨機用定盤)の材質が変わっても、それに適した砥石に変えるだけで対応することができる。
In addition, since grinding is performed by moving the grindstone in a combination of vertical and horizontal biaxial directions, curve processing (curved surface processing) is possible, and finishing can be performed into a surface shape having a desired uneven shape. Further, by performing feedback control by monitoring the moving amount of the grindstone, it is possible to finish the surface with high precision. In addition, since no abrasive grains are used during processing, a process for removing the abrasive grains that have bitten into the surface plate is not required, and installation of dedicated equipment (cleaning equipment) for that purpose is also unnecessary.
Furthermore, even if the material of the workpiece (the surface plate for the polishing machine) changes, it can be dealt with by changing to a grindstone suitable for it.
開示の研磨機用定盤の表面加工方法を用いれば、所望の凹凸形状を有する精密面、すなわち、数μm〜数十μmの凹凸を有する凸形状(いわゆる、お椀形)、凹形状(いわゆる、すり鉢形)、W形状、逆W形状、カモメ形状等に形成された研磨機用定盤2を実現することが可能となる。
If the surface processing method of the surface plate for polishing machines disclosed is used, a precise surface having a desired concavo-convex shape, that is, a convex shape (so-called bowl shape) having a concavo-convex shape of several μm to several tens of μm, a concave shape (so-called It is possible to realize a polishing
なお、本発明は、以上説明した実施例に限定されることなく、本発明を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは言うまでもない。特に、被加工物である研磨機用定盤として両面研磨機の下定盤を例に挙げて説明したが、これに限定されるものではない。 Needless to say, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the present invention. In particular, the lower platen of the double-sided polishing machine has been described as an example of the polishing machine platen that is a workpiece, but the present invention is not limited to this.
2 研磨機用定盤
2A 研磨機用定盤(下定盤)
2B 研磨機用定盤(上定盤)
3 ワーク
4 固定治具
10 平面研削盤
11 テーブル
12 砥石
20 研磨機
30 ラップ機
31 テーブル
32 ラップ盤
2 Polishing
2B Polishing machine surface plate (upper surface plate)
3
Claims (6)
を特徴とする研磨機用定盤の表面加工方法。 A surface plate for a polishing machine as a workpiece fixed to a rotating table by moving the grindstone in a combination of the two axial directions using a surface grinder capable of moving the rotating grindstone in two vertical and horizontal directions. And a step of finishing the surface of the surface plate for the polishing machine into a precision surface having a desired concavo-convex shape by performing shape precision processing on the surface, monitoring the movement amount of the grindstone during the shape precision processing. The surface processing method of the surface plate for polishing machines.
を特徴とする請求項1記載の研磨機用定盤の表面加工方法。 2. The polishing machine surface plate according to claim 1, wherein the polishing machine surface plate is fixed to the table using a fixing jig that is in a state similar to a state when being fixed to the polishing machine. Surface processing method.
を特徴とする請求項1または請求項2記載の研磨機用定盤の表面加工方法。 The step of processing the surface of the polishing machine surface plate is carried out in a temperature environment similar to the temperature environment when performing a static accuracy inspection in a state where the polishing machine surface plate is fixed to the polishing machine. The surface processing method of the surface plate for polishers of Claim 1 or Claim 2 characterized by the above-mentioned.
前記研磨機用定盤の表面を加工する工程は、該研磨機用定盤の前記液体通流部に液体を通流させることによって該研磨機用定盤を所望の温度分布に調整しながら実施すること
を特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載の研磨機用定盤の表面加工方法。 The polishing machine surface plate has a liquid flow part inside,
The step of processing the surface of the polishing machine surface plate is carried out while adjusting the polishing machine surface plate to a desired temperature distribution by flowing liquid through the liquid flow part of the polishing machine surface plate. The surface processing method of the surface plate for grinders as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載の研磨機用定盤の表面加工方法。 The step of processing the surface of the surface plate for a polishing machine is carried out in a plurality of times by setting the feed setting value of the grindstone in the vertical axis direction to a unit of several μm. The surface processing method of the surface plate for polishing machines as described in any one of Claims.
を特徴とする研磨機用定盤。 A polishing machine surface characterized in that the surface is finished into a precision surface having a desired concavo-convex shape by using the surface processing method for a polishing machine surface plate according to claim 1. Board.
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