JP2013229567A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013229567A5 JP2013229567A5 JP2013024629A JP2013024629A JP2013229567A5 JP 2013229567 A5 JP2013229567 A5 JP 2013229567A5 JP 2013024629 A JP2013024629 A JP 2013024629A JP 2013024629 A JP2013024629 A JP 2013024629A JP 2013229567 A5 JP2013229567 A5 JP 2013229567A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern collapse
- ppm
- acid
- suppressing
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013024629A JP6119285B2 (ja) | 2012-03-27 | 2013-02-12 | 微細構造体のパターン倒壊抑制用処理液及びこれを用いた微細構造体の製造方法 |
| US13/799,522 US8956462B2 (en) | 2012-03-27 | 2013-03-13 | Treatment liquid for inhibiting pattern collapse in microstructure and method of manufacturing microstructure using the same |
| DE102013004848.6A DE102013004848B4 (de) | 2012-03-27 | 2013-03-20 | Behandlungsflüssigkeit zur Hemmung eines Musterzusammenbruchs in einer Mikrostruktur und Verfahren zur Herstellung einer Mikrostruktur, bei der diese eingesetzt wird. |
| TW102110301A TWI571506B (zh) | 2012-03-27 | 2013-03-22 | 抑制微細構造體的圖案崩塌用之處理液及使用該處理液的微細構造體的製造方法 |
| KR1020130032277A KR102002327B1 (ko) | 2012-03-27 | 2013-03-26 | 미세 구조체의 패턴 붕괴 억제용 처리액 및 이것을 이용한 미세 구조체의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012071080 | 2012-03-27 | ||
| JP2012071080 | 2012-03-27 | ||
| JP2013024629A JP6119285B2 (ja) | 2012-03-27 | 2013-02-12 | 微細構造体のパターン倒壊抑制用処理液及びこれを用いた微細構造体の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013229567A JP2013229567A (ja) | 2013-11-07 |
| JP2013229567A5 true JP2013229567A5 (enExample) | 2016-02-25 |
| JP6119285B2 JP6119285B2 (ja) | 2017-04-26 |
Family
ID=49154823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013024629A Active JP6119285B2 (ja) | 2012-03-27 | 2013-02-12 | 微細構造体のパターン倒壊抑制用処理液及びこれを用いた微細構造体の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8956462B2 (enExample) |
| JP (1) | JP6119285B2 (enExample) |
| KR (1) | KR102002327B1 (enExample) |
| DE (1) | DE102013004848B4 (enExample) |
| TW (1) | TWI571506B (enExample) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018063277A1 (en) * | 2016-09-30 | 2018-04-05 | Intel Corporation | Integrated circuit devices with non-collapsed fins and methods of treating the fins to prevent fin collapse |
| US10954480B2 (en) * | 2017-09-29 | 2021-03-23 | Versum Materials Us, Llc | Compositions and methods for preventing collapse of high aspect ratio structures during drying |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4180716B2 (ja) | 1998-12-28 | 2008-11-12 | 富士通株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| JP4045180B2 (ja) | 2002-12-03 | 2008-02-13 | Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 | リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたレジストパターン形成方法 |
| JP4470144B2 (ja) | 2003-03-19 | 2010-06-02 | エルピーダメモリ株式会社 | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| JP4493393B2 (ja) | 2004-04-23 | 2010-06-30 | 東京応化工業株式会社 | リソグラフィー用リンス液 |
| JP4353090B2 (ja) | 2004-12-10 | 2009-10-28 | 三菱電機株式会社 | レジスト用現像液 |
| JP2007335892A (ja) | 2007-08-17 | 2007-12-27 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| JP4655083B2 (ja) | 2007-11-16 | 2011-03-23 | セイコーエプソン株式会社 | 微小電気機械装置 |
| US7838425B2 (en) | 2008-06-16 | 2010-11-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of treating surface of semiconductor substrate |
| JP4743340B1 (ja) | 2009-10-28 | 2011-08-10 | セントラル硝子株式会社 | 保護膜形成用薬液 |
| JP5630385B2 (ja) | 2010-06-30 | 2014-11-26 | セントラル硝子株式会社 | 保護膜形成用薬液及びウェハ表面の洗浄方法 |
| US20130280123A1 (en) * | 2010-08-27 | 2013-10-24 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method for preventing the collapse of high aspect ratio structures during drying |
| JP2013102109A (ja) * | 2011-01-12 | 2013-05-23 | Central Glass Co Ltd | 保護膜形成用薬液 |
-
2013
- 2013-02-12 JP JP2013024629A patent/JP6119285B2/ja active Active
- 2013-03-13 US US13/799,522 patent/US8956462B2/en active Active
- 2013-03-20 DE DE102013004848.6A patent/DE102013004848B4/de active Active
- 2013-03-22 TW TW102110301A patent/TWI571506B/zh active
- 2013-03-26 KR KR1020130032277A patent/KR102002327B1/ko active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5206622B2 (ja) | 金属微細構造体のパターン倒壊抑制用処理液及びこれを用いた金属微細構造体の製造方法 | |
| JP2013136051A5 (ja) | 金属を含む媒体から1つ以上の金属を除去する方法 | |
| JP2016539065A5 (enExample) | ||
| RU2017140036A (ru) | Эффективная система на основе поверхностно-активных веществ для пластмассовых и всех типов изделий | |
| JP2013209371A5 (enExample) | ||
| JP2015503441A5 (enExample) | ||
| JP2013229567A5 (enExample) | ||
| JP2015529560A5 (enExample) | ||
| JP2013177401A5 (enExample) | ||
| JP2018500759A5 (enExample) | ||
| RU2015138773A (ru) | Обработка табака | |
| US20160076120A1 (en) | Method for collecting silver ions and phosphoric acid in waste fluid | |
| JP2013253067A5 (enExample) | ||
| JP5664653B2 (ja) | 微細構造体のパターン倒壊抑制用処理液及びこれを用いた微細構造体の製造方法 | |
| JPH11503066A (ja) | ヒドロフルオロカーボンを含む組成物及び固体表面から水を除去する方法 | |
| RU2017115729A (ru) | Способ обработки клубней с уменьшенным количеством хлорпрофама | |
| KR102025121B1 (ko) | 미세 구조체의 패턴 붕괴 억제용 처리액 및 이를 이용한 미세 구조체의 제조 방법 | |
| JP2018065779A5 (enExample) | ||
| RU2018121632A (ru) | Водный раствор пероксида водорода, содержащий специфический стабилизатор | |
| JP2015012055A5 (enExample) | ||
| RU2470093C1 (ru) | Селективный травитель для снятия оловянно-свинцовых покрытий с медной основы | |
| TWI710544B (zh) | 離子交換樹脂、純化方法及製備離子樹脂的方法 | |
| WO2017144708A3 (en) | Anti-viral drug | |
| JP2016527363A5 (enExample) | ||
| JP2016088865A5 (enExample) |