JP2013225365A - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】データを保持可能なメモリセルが直列接続され、ソース及びドレインを有するストリングを含み、前記ソースで前記ストリングの各々が共通接続されたメモリセルアレイと、前記NANDストリングの各々と、対応する前記ドレインで接続されるビット線と、互いに直列接続された第1トランジスタ(BLX)及び第2トランジスタ(BLC)を含み、前記メモリセルから前記データを読み出す際、これら第1、第2トランジスタが前記ビット線を第1電圧(Vblc)にチャージするセンスアンプ(6)と、前記データの読み出し時において、前記ソースに第2電圧(CELSRC=VDD−Vblc)を供給しつつ、前記第1、2トランジスタのゲートに前記第1電圧及び前記第2電圧の和を供給する電圧発生回路とを具備する。
【選択図】図7
Description
本実施形態に係る半導体記憶装置は、データの読み出し時においてCELSRCに正の電圧を印加し、疑似的にメモリセルMCのゲートに負の電圧を掛けることで、このメモリセルMCの負側の閾値を読み出すものである。なお、CELSRCとは、後述する複数のNANDストリングが共通接続されるソース線SLのノードに相当し、このノードの電位を電圧CELSRCとも表現することがある。
図1を用いて本実施形態に係る半導体記憶装置の全体構成例について説明する。
1.<全体構成例>
図1に示すように本実施形態に係る半導体記憶装置は、メモリセルアレイ1、ロウデータ2、データ入出力回路3、制御部4、センスアンプ6、及び電圧発生回路5を備える。
メモリセルアレイ1は、複数の不揮発性のメモリセルMCを含んだブロックBLK0乃至BLKsを備える(sは自然数)。ブロックBLK0乃至BLKsの各々は、不揮発性のメモリセルMCが直列接続された複数のNANDストリング10を備えている。NANDストリング10の各々は、例えば64個のメモリセルMCと、選択トランジスタST1、ST2とを含んでいる。
図2を用いて上記メモリセルMCの閾値分布について説明する。図2は、横軸に閾値分布(電圧)をとり、縦軸にメモリセルMCの数を示したグラフである。
図1に戻って、周辺回路について説明する。
1−3−1.<ロウデコーダ2>
ロウデコーダ2は、データの書き込み動作時、読み出し動作時、及び消去時において、制御部4から与えられるブロック選択信号をデコードし、その結果に基づいてブロックBLKを選択する。次いで、選択したブロックBLK内の各ワード線WLに対し書き込み電圧、読み出し電圧、及び消去電圧のいずれか電圧を転送する。一例を挙げると、ロウデコーダ2は、例えば読み出し電圧として、読み出し対象のワード線WLに選択読み出し電圧(以下、Vcgr)を転送し、それ以外のワード線WLに非選択読み出し電圧(以下、電圧Vread)を転送する。
データ入出力回路3は、図示せぬI/O端子を介してホスト(host)から供給されたアドレス及びコマンドを制御部4へ出力する。またデータ入出力回路3は、書き込みデータを、データ線Dlineを介してセンスアンプ6へと出力する。データをホストへ出力する際は、制御部4の制御に基づき、センスアンプ6が増幅したデータを、データ線Dlineを介して受け取った後、I/O端子を介してホストへ出力する。
制御部4は、NAND型フラッシュメモリ全体の動作を制御する。すなわち、データ入出力回路3を介して、図示せぬホストから与えられた上記アドレス、及びコマンドに基づいて、データの書き込み動作、読み出し動作、及び消去動作における動作シーケンスを実行する。制御部4はアドレス、及び動作シーケンスに基づき、例えばブロック選択信号/カラム選択信号を生成し、このブロック選択信号をロウデコーダ2に出力する。また、制御部4はカラム選択信号をセンスアンプ6に出力する。カラム選択信号とは、センスアンプ6のカラム方向を選択する信号である。
本実施形態に係る電圧発生回路5は、例えば読み出し電圧Vcgr及び電圧Vreadを生成し、これを上記ロウデコーダ2に供給し、また電圧発生回路5は電圧V1を生成し、これをCELSRCへと供給する。またこの電圧発生回路5は、電圧切替回路5−1を備える。この電圧切替回路5−1は、例えば読み出し時において、所定の大きさの信号BLX、信号BLCを生成し、これをセンスアンプ6に出力する。以下、図3を用いてこの電圧切替回路5−1の構成について説明する。
図3に電圧切替回路5−1の構成を示す。電圧切替回路5−1は、信号BLXと信号BLCの電圧差を調整する機能を有する。図示するように、電圧切替回路5−1は、電流源50、nチャネル型MOSトランジスタ51〜53、抵抗素子54〜57、並びにミラー回路58を備える。
データの読み出し時において、センスアンプ6はビット線BLに定電流を流し、これによってメモリセルMCが流す電流を直接センスする。このため、センスアンプ6は、全ビット線BLに対して一括読み出しが出来る。またメモリセルMCの有するデータによりビット線BLに流れる電流値が決まる。つまり、ビット線BLに接続されたセンスアンプ6による“1”、または“0”の判定はこのメモリセルMCが流す電流の値の相違により決定される。なお、データの書き込み時には、対応するビット線BLに書き込みデータを転送する。以下、センスアンプ6の構成について述べる。
次に、図5を用いて、読み出し時にCELSRCに供給する電圧V1の上限について説明する。図5は、図4のセンスアンプ6であって、このセンスアンプ6を構成するMOSトランジスタの一部を示す。
Vgs≦Vth22 (1)
よって、上記(1)式より、MOSトランジスタ22がオフ状態を維持するための、CELSRCに供給する電圧V1の上限値は、以下(2)式で表される。
CELSRC≦VDD−Vlbc (2)
以上から、CELSRCに供給される電圧V1の上限値は、電圧(VDD−Vblc)となる。
次に、図6を用いて読み出し動作(具体的には、プリチャージ動作)における電圧切替回路5−1及びセンスアンプ6の動作について説明する。なお、ここでは、センスアンプ6の一部構成(MOSトランジスタ21、22、23)を示し、他の構成は省略する。
次に、図7を用いて読み出し動作について説明する。図7は、信号BLX、信号BLC、CELSRC、ビット線BL、ノードSEN、クロックCLK、及び信号XXLの変化を示したタイムチャートである。
第1の実施形態に係る半導体記憶装置によれば、(1)及び(2)の効果を得ることが出来る。
(1)負側に位置するメモリセルの閾値を読み出すことが出来る。
本実施形態に係る半導体記憶装置は、信号BLXの値を信号BLCと同値とすることで、CELSRCの上限値を上げることが出来る。具体的には、上述したように、CELSRCの上限値を、電圧(VDD−Vblc)とすることが出来る。この効果について、比較例を挙げて説明する。なお、同一の構成については、同一の符号を用いて説明する。
本実施形態に係る半導体記憶装置によれば、信号BLX=信号BLCとした場合、MOSトランジスタ22とMOSトランジスタ21とのトランジスタサイズが同じであるため、電流I58が流れる際のチャネル長が、上記比較例で挙げた場合に比べ2倍となってしまう。
(2)の効果で説明したように、本実施形態に係る構成では、ミラー回路58は25個のMOSトランジスタ58−1〜58−25で構成される。このため、これらMOSトランジスタ58−1〜58−25の各々が流す電流値は、上記比較例に上げたミラー回路58を構成するMOSトランジスタの倍の電流値を流す。つまり、信号BLX、及び信号BLCの大きさが比較例に比べ2倍の大きさとされるため、MOSトランジスタ21の閾値が多少ばらついたとしても、これら閾値のばらつきの影響を小さくすることが出来る。
次に、図8及び図9を用いて第2の実施形態に係る半導体記憶装置について説明する。第2の実施形態に係る半導体記憶装置は、ビット線BLをプリチャージする際には、信号BLX>信号BLCとし、またこのビット線BLが充電された後は、信号BLX=信号BLCに切り替えるものである。なお、上記第1の実施形態と同一の構成については、説明を省略する。
1−1.制御部4
本実施形態に係る制御部4は、プリチャージ期間と、センス期間とに分けて、電圧設定回路5−1を構成するMOSトランジスタ51〜53の供給される信号S1〜S3のオン・オフを制御する。
図8を用いて本実施形態に係る電圧切替回路5−1について説明する。本実施形態に係る電圧切替回路5−1は、ミラー回路58を構成するMOSトランジスタの数がn=50とされる。以下、ミラー回路58を構成するMOSトランジスタをMOSトランジスタ58−1〜58−50とすると、これら1つずつのMOSトランジスタに流れる電流は、電流I58/50となる。
次に、図9を用いて第2の実施形態に係る読み出し動作について説明する。なお、上記第1の実施形態と異なる動作について説明し、上記第1の実施形態と同一の動作については説明を省略する。図9は、信号BLX、信号BLC、CELSRC、ビット線BL、ノードSEN、クロックCLK、及び信号XXLの変化を示したタイムチャートである。
第2の実施形態に係る半導体記憶装置によれば、上記(1)の効果に加え、更に下記(3)の効果を得ることが出来る。
(3)CELSRCの上限値を下げることなく、MOSトランジスタ22の閾値ばらつきの影響を低減することが出来る。
上記効果について説明する。本実施形態に係る半導体記憶装置であると、時刻t3まで、すなわちビット線BLの充電期間では、信号BLXの値を信号BLCよりも大きくする。これにより、センスアンプ6毎異なるMOSトランジスタ22の閾値ばらつきを低減することが出来、ビット線BLに供給するプリチャージ電位のばらつきを低減することが出来る。
次に、図10、及び図11を用いて第3の実施形態に係る半導体記憶装置について説明する。第3の実施形態に係る半導体記憶装置は、上記第2の実施形態におけるセンス動作の前後で、電圧設定回路5−1におけるミラー回路58を構成するMOSトランジスタの数nを50=>25と切り替えるものである。以下、上記第1、第2の実施形態と同一の構成については説明を省略し、異なる構成について説明する。
1−1.電圧切替回路5−1
図10を用いて第3の実施形態に係る電圧切替回路5−1について説明する。図10に示すように、電圧切替回路5−1は、MOSトランジスタ59−1、及び59−2、並びに抵抗素子57−1、及び57−2を更に備える。なお、本実施形態においてミラー回路58は、ミラー部58−1、及びミラー部58−2を備えるものとする。以下、構成について説明する。
次に、図11を用いて第3の実施形態に係る読み出し動作について説明する。図11は、スイッチSW<0>、スイッチSW<1>、信号BLX、信号BLC、CELSRC、ビット線BL、ノードSEN、クロックCLK、及び信号XXLの変化を示したタイムチャートである。なお、上記第1、第2の実施形態と異なる動作について説明し、上記第1、及び第2の実施形態と同一の動作については説明を省略する。
図11に示すように、時刻t0において、スイッチSW<0>、及びSW<1>のそれぞれを“H”レベルとする。すなわち、n=50のMOSトランジスタ58−1〜58−50によって、定電流I58を流す。つまり、MOSトランジスタ21に、電流I58/50を流す。
第3の実施形態に係る半導体記憶装置であると、上記(1)〜(3)の効果に加え、更に下記(4)の効果を得ることが出来る。
(4)データの誤読み出しを抑制することが出来る。
第3の実施形態に係る半導体記憶装置によれば、時刻t3において、信号BLX=信号BLCにすると共に、定電流I58を流すMOSトランジスタの数nを50から25に変更する。このため、MOSトランジスタ21を流れる電流I58の値を時刻t3の前後で保存することが出来る。
Claims (5)
- データを保持可能なメモリセルが複数直列接続され、ソース及びドレインを有するNANDストリングを複数含み、前記ソースで前記NANDストリングの各々が共通接続されたメモリセルアレイと、
前記NANDストリングの各々と、対応する前記ドレインで接続されるビット線と、
互いに直列接続された第1トランジスタ及び第2トランジスタを含み、前記メモリセルから前記データを読み出す際、これら第1、第2トランジスタによって前記ビット線を第1電圧にチャージするセンスアンプと、
前記データの読み出し時において、前記ソースに第2電圧を供給しつつ、前記第1トランジスタ、前記第2トランジスタのゲートに前記第1電圧及び前記第2電圧の和を供給する電圧発生回路と
を具備する半導体記憶装置。 - 前記電圧発生回路は、前記第1トランジスタ及び前記第2トランジスタのゲートに前記第1電圧と前記第2電圧との和を供給する電圧切替回路を含み、
前記電圧切替回路は、第1ノードに第1電流を供給する電流源と、
前記第2トランジスタとミラー回路を構成し、前記第1電流を第2ノードに流すトランジスタ群を備え、
前記ミラー回路を構成する前記トランジスタ群の数は、前記第1トランジスタ及び前記第2トランジスタのチャネル長に応じた値である
ことを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。 - 関電圧切替回路は、前記データを読み出す前におけるビット線のプリチャージ時に、前記第1トランジスタのゲートに前記和に第3電圧を足した電圧を供給する
ことを特徴とする請求項2記載の半導体記憶装置。 - 前記ミラー回路を構成し、前記第2ノードに前記第1電流を流す前記トランジスタ群の数を可変とする制御部を更に備え、
前記制御部は、前記プリチャージの後であって、前記データを読み出す際に、前記トランジスタ群の前記値を第1の数から、この第1の数よりも少ない第2の数に切り替える
ことを特徴とする請求項3記載の半導体記憶装置。 - 前記第2ノードは、第3ノードと第4ノードとを含み、
前記ミラー回路を構成する前記トランジスタ群は、前記第1ノードの電流を前記第3ノードに流す第1トランジスタ群と、前記第1ノードの電流を前記第4ノードに流す第2トランジスタ群とを含み、
前記トランジスタ群の数の切替は、前記第3ノード及び前記第4ノードにそれぞれ接続されるスイッチのオン又はオフに応じて行われる
ことを特徴とする請求項4記載の半導体記憶装置。
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