JP2013219073A - 光電変換素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第2半導体層70、第2コンタクト層80および基板90は、受光面とは反対側の量子構造層60の主表面に積層された「積層体200」を構成する。光散乱性反射層100は、光電変換素子10の受光面側とは反対側の積層体200の主表面に2次元配列して設けられている複数の金属ナノ粒子である。第2半導体層70、第2コンタクト層80、基板90の各層の量子構造層60に吸収される波長での光の吸光係数をα1、α2、α3(cm−1)と表し、第2半導体層70、第2コンタクト層80、基板90の各層の量子構造層60の各層の厚さをD1、D2、D3(cm)と表したとき、α1D1+α2D2+α3D3<0.1となっている。
【選択図】図1
Description
図1は、実施の形態1に係る光電変換素子の概略構成を示す断面図である。光電変換素子10は、第1電極20、第1コンタクト層30、窓層40、第1半導体層50、量子構造層60、第2半導体層70、第2コンタクト層80、基板90、光散乱性反射層100および第2電極110を有する。本実施の形態では、光電変換素子10はIII−V族化合物半導体太陽電池である。
本実施の形態では、第1半導体領域および第2半導体領域は真性半導体層からなるが、第1導電型(例えばp型)や第2導電型(例えばn型)を有する不純物をドープしてもよい。
2×1018cm−3である。
図2は、実施の形態2に係る光電変換素子の概略構成を示す断面図である。本実施の形態に係る光電変換素子10の基本的な構成は実施の形態1と同様である。以下、実施の形態2に係る光電変換素子10について実施の形態1と異なる構成を中心に説明する。
図3は、実施の形態3に係る光電変換素子の概略構成を示す断面図である。本実施の形態に係る光電変換素子10の基本的な構成は実施の形態1と同様である。以下、実施の形態2に係る光電変換素子10について実施の形態1と異なる構成を中心に説明する。
図4は、実施の形態4に係る光電変換素子の概略構成を示す断面図である。本実施の形態に係る光電変換素子10の基本的な構成は実施の形態1と同様である。以下、実施の形態2に係る光電変換素子10について実施の形態1と異なる構成を中心に説明する。
(実施例1)
(絶縁性GaAs基板上へのセルの作製)
有機金属気相成長(MOVPE)法を用いて、光電変換素子(量子井戸型太陽電池)を作製した。具体的には、両面が鏡面の350μm厚さの絶縁性GaAs基板(キャリア濃度:1×107cm−3)をMOVPE装置に投入し、温度600℃、圧力10kPaで、トリメチルガリウム、トリメチルインジウム、ターシャリーブチルアルシン、ターシャリーブチルフォスフィンを原料、水素をキャリアガスに用いて結晶成長を行った。まず、第2コンタクト層としてn型のGaAs(キャリア濃度:2×1018cm−3)を1μm形成した。続いて、第2半導体層(ベース層)としてn型のGaAs(キャリア濃度:2×1018cm−3)を2.5μm成膜した。次に光電変換層として、まずi相のGaAsを0.1μm成膜し、その後、量子構造として、井戸層In0.17Ga0.83As(8.54nm)、障壁層GaAs0.78P0.22(18.1nm)からなる層を20層積層した。さらに、i相のGaAsを0.1μm成膜した。この後、第1半導体層(エミッタ層)としてp型のGaAs(キャリア濃度:2×1018cm−3)を0.8μm、窓層としてp型のIn0.49Ga0.51P(キャリア濃度:5×1018cm−3)を0.04μm、第1コンタクト層(表面コンタクト層)としてp型のGaAs(キャリア濃度:1×1019cm−3)を0.04μm、順次成長させた。次に成長させたエピタキシャル層を、量子井戸層部分をマスクして第2半導体層までエッチング除去し、第2電極としてAuGe/Niを蒸着し、窒素中380℃で熱処理を施した。さらに第1コンタクト層に電極パターンの窓明けをしたレジストを形成し、Ag/Auを蒸着後、リフトオフ法にて第1電極(表面電極)を形成し、第1電極をマスクとして電極が形成されていない部分の第1コンタクト層をエッチングにより除去した。
絶縁性GaAs基板の受光面とは反対側に、蒸着法によって金属薄膜としてAg薄膜を40nm成膜した。このAg薄膜に200℃で加熱処理を施し、平均サイズが440nm、平均間隔が670nmの複数のAgナノ粒子を形成し、光散乱性反射層を作製した。
実施例1の光電変換素子のAgナノ粒子上にスパッタ法で透明層としてITO膜を200nm成膜しさらにAg膜を200nm成膜することで反射層を作製した。
(n型GaAs基板上へのセルの作製)
MOVPE法を用いて、光電変換素子を作製した。具体的には、両面が鏡面の350μm厚さのn型GaAs基板(キャリア濃度:2×1018cm−3)をMOVPE装置に投入し、温度600℃、圧力10kPaで、トリメチルガリウム、トリメチルインジウム、ターシャリーブチルアルシン、ターシャリーブチルフォスフィンを原料、水素をキャリアガスに用いて結晶成長を行った。まず、第2コンタクト層としてn型のGaAs(キャリア濃度:2×1018cm−3)を1μm形成した。続いて、第2半導体層(ベース層)としてn型のGaAs(キャリア濃度:2×1018cm−3)を2.5μm成膜した。次に光電変換層として、まずi相のGaAsを0.1μm成膜し、その後、量子構造として、井戸層In0.17Ga0.83As(8.54nm)、障壁層GaAs0.78P0.22(18.1nm)からなる層を20層積層した。さらに、i相のGaAsを0.1μm成膜した。第1半導体層(エミッタ層)としてp型のGaAs(キャリア濃度:2×1018cm−3)を0.8μm、窓層としてp型のIn0.49Ga0.51P(キャリア濃度:5×1018cm−3)を0.04μm、第1コンタクト層(表面コンタクト層)としてp型のGaAs(キャリア濃度:1×1019cm−3)を0.04μm、順次成長させた。さらに基板の受光面とは反対側の表面を鏡面研磨することで基板の厚さを100μmにした。次に、第1コンタクト層に電極パターンの窓明けをしたレジストを形成し、Ag/Auを蒸着後、リフトオフ法にて第1電極(表面電極)を形成し、第1電極をマスクとして電極が形成されていない部分の第1コンタクト層をエッチングにより除去した。さらに、実施例2と同様に透明層および反射層を作製し、反射層を第2電極(裏面電極)とした。
実施例1と同様に、絶縁性GaAs基板上にMOVPE法を用いて、第1電極および第2電極を形成した基板厚さ350μmの光電変換素子を作製した。次に、絶縁性GaAs基板の受光面とは反対側に、蒸着法によってAgを200nm成膜し、光散乱をしない反射層を形成した。
MOVPE法を用いて、光電変換素子を作製した。具体的には、両面が鏡面の350μm厚さのn型GaAs基板(キャリア濃度:2×1018cm−3)をMOVPE装置に投入し、温度600℃、圧力10kPaで、トリメチルガリウム、トリメチルインジウム、ターシャリーブチルアルシン、ターシャリーブチルフォスフィンを原料、水素をキャリアガスに用いて結晶成長を行った。まず、第2コンタクト層としてn型のGaAs(キャリア濃度:2×1018cm−3)を1μm形成した。続いて、第2半導体層(ベース層)としてn型のGaAs(キャリア濃度:2×1018cm−3)を2.5μm成膜した。次に光電変換層として、まずi相のGaAsを0.1μm成膜し、その後、量子構造として、井戸層In0.17Ga0.83As(8.54nm)、障壁層GaAs0.78P0.22(18.1nm)からなる層を20層積層した。さらに、i相のGaAsを0.1μm成膜した。第1半導体層(エミッタ層)としてp型のGaAs(キャリア濃度:2×1018cm−3)を0.8μm、窓層としてp型のIn0.49Ga0.51P(キャリア濃度:5×1018cm−3)を0.04μm、第1コンタクト層(表面コンタクト層)としてp型のGaAs(キャリア濃度:1×1019cm−3)を0.04μm、順次成長させた。次に、第1コンタクト層に電極パターンの窓明けをしたレジストを形成し、Ag/Auを蒸着後、リフトオフ法にて第1電極(表面電極)を形成し、第1電極をマスクとして電極が形成されていない部分の第1コンタクト層をエッチングにより除去した。さらに、実施例2と同様に透明層および反射層を作製し、反射層を第2電極(裏面電極)とした。
実施例1と同様に、絶縁性GaAs基板上にMOVPE法を用いて、第1電極および第2電極を形成した基板厚さ350μmの光電変換素子を作製した。
絶縁性GaAs基板の受光面とは反対側に、ラインパターンの窓明けをしたレジストを形成し、硫酸溶液中でエッチングを行うことで、絶縁性GaAs基板の受光面とは反対側に間隔が8μm、深さが250nmのグルーブ構造を形成した。
実施例4の光電変換素子のグルーブ構造上に、さらに蒸着法によってAg膜を200nm成膜することで光散乱性反射層を作製した。
実施例3と同様に、n型GaAs基板上にMOVPE法を用いて、基板厚さが100μmで第1電極を形成した光電変換素子を作製した。次に、実施例4と同様にn型GaAs基板の受光面とは反対側に、基板自体にグルーブ構造を形成した後、さらに蒸着法によってAu膜を200nm成膜することで光散乱性反射層を作製し、反射層を第2電極とした。
比較例2と同様に、n型GaAs基板上にMOVPE法を用いて、第1電極を形成した基板厚さ350μmの光電変換素子を作製した。次に実施例6と同様に光散乱性反射層を作製し、反射層を第2電極とした。
実施例1と同様に、絶縁性GaAs基板上にMOVPE法を用いて、第1電極および第2電極を形成した基板厚さ350μmの光電変換素子を作製した。
絶縁性GaAs基板の受光面とは反対側に、直径800nmのSiO2ビーズからなる単層膜を形成し、CHF3/O2混合ガスによるエッチングによってSiO2ビーズの大きさを600nmにした。その後、SiO2ビーズをマスクとしてGaAs基板の受光面とは反対側に、Agを1μm堆積し、光散乱性反射層を作製した。
実施例3と同様に、n型GaAs基板上にMOVPE法を用いて、基板厚さが100μmで第1電極を形成した光電変換素子を作製した。
n型GaAs基板の受光面とは反対側に、直径800nmのSiO2ビーズからなる単層膜を形成し、CHF3/O2混合ガスによるエッチングによってSiO2ビーズの大きさを600nmにした。その後、SiO2ビーズをマスクとしてGaAs基板の受光面とは反対側に、Auを1μm堆積し、光散乱性反射層を兼ねる第2電極を作製した。
比較例2と同様に、n型GaAs基板上にMOVPE法を用いて、第1電極を形成した基板厚さ350μmの光電変換素子を作製した。次に、実施例8と同様に光散乱性反射層を兼ねる第2電極を作製した。
MOVPE法を用いて、光電変換素子を作製した。具体的には、両面が鏡面の350μm厚さの絶縁性GaAs基板(キャリア濃度:1×107cm−3)をMOVPE装置に投入し、温度600℃、圧力10kPaで、トリメチルガリウム、トリメチルインジウム、ターシャリーブチルアルシン、ターシャリーブチルフォスフィンを原料、水素をキャリアガスに用いて結晶成長を行った。まず、第2コンタクト層としてn型のGaAs(キャリア濃度:2×1018cm−3)を1μm形成した。続いて、第2半導体層(ベース層)としてn型のGaAs(キャリア濃度:2×1018cm−3)を2.5μm成膜した。次に光電変換層として、まずi相のGaAsを0.1μm成膜し、その後、量子構造として、井戸層In0.17Ga0.83As(8.54nm)、障壁層GaAs0.78P0.22(18.1nm)からなる層を10層積層した。さらに、i相のGaAsを0.1μm成膜した。第1半導体層(エミッタ層)としてp型のGaAs(キャリア濃度:2×1018cm−3)を0.8μm、窓層としてp型のIn0.49Ga0.51P(キャリア濃度:5×1018cm−3)を0.04μm、第1コンタクト層(表面コンタクト層)としてp型のGaAs(キャリア濃度:1×1019cm−3)を0.04μm、順次成長させた。次に成長させたエピタキシャル層を、量子井戸層部分をマスクして第2半導体層までエッチング除去し、第2電極としてAuGe/Niを蒸着し、窒素中380℃で熱処理を施した。さらに第1コンタクト層に電極パターンの窓明けをしたレジストを形成し、Ag/Auを蒸着後、リフトオフ法にて第1電極(表面電極)を形成し、第1電極をマスクとして電極が形成されていない部分の第1コンタクト層をエッチングにより除去した。次に、実施例7と同様に光散乱性反射層を作製した。
分光光度計を用いて基板および基板上に各層を成膜したサンプルの光透過率と入射角5度の絶対反射率から基板および各層の吸光度を算出した。より具体的には、作製した量子井戸構造のバンドギャップである1000nmの光の、GaAsの吸光係数を算出したところ、キャリア濃度が2×1018cm−3のn型GaAs(基板、ベース層、コンタクト層)は6.58cm−1、キャリア濃度1×107cm−3の絶縁性GaAs(基板)は1.11cm−1であった。
それぞれの光電変換素子について分光感度測定を行った。分光感度測定装置はキセノンランプとハロゲンランプの二灯式で、モノクロメーターで分光した300〜1100nmの単色光を太陽電池に照射しACモードで行い、それぞれの波長の照射光子数と光電流値から量子収率を算出した。図5に、実施例1および比較例1の光電変換素子の量子収率と受光する光の波長との関係を示す。得られた分光感度と太陽光スペクトルから、890〜1100nmの光照射で発電する電流を算出した。得られた結果を表1に示す。
Claims (9)
- 受光面側に位置する第1の半導体層と、
前記第1の半導体層の導電型と反対の導電型の第2の半導体層と、
前記第1の半導体層と前記第2の半導体層との間に設けられており、
前記第1の半導体層および前記第2の半導体層のバンドギャップ以上のバンドギャップを有する1以上の第1の半導体領域と、前記第1の半導体層および前記第2の半導体層のバンドギャップ以下のバンドギャップを有する1以上の第2の半導体領域と、を有する量子構造層と、
受光面とは反対側の前記量子構造層の主表面に積層され、前記第2の半導体層を含む複数の層からなる積層体と、
受光面とは反対側の前記積層体の主表面に設けられている光散乱性反射層と、
を備え、
前記積層体の各層について、前記量子構造層に吸収される光の波長での光の吸光係数をαicm−1、各層の厚さをDicmとしたとき(i=2〜n:nは積層体における層の数)、
ΣαiDi<0.1
という関係を満たす光電変換素子。 - 前記光散乱性反射層は、受光面とは反対側の前記積層体の主表面に2次元配置された複数の金属ナノ粒子である請求項1に記載の光電変換素子。
- 前記光散乱性反射層を被覆する透明層と、
前記透明層に積層された反射層と、
をさらに備える請求項2に記載の光電変換素子。 - 前記積層体、前記透明層および前記反射層が導電性を有し、前記反射層が電極を兼ねる請求項3に記載の光電変換素子。
- 前記光散乱性反射層は、受光面とは反対側の前記積層体の主表面に2次元配置された複数の金属ナノホールを有する請求項1に記載の光電変換素子。
- 前記積層体が導電性を有し、前記光散乱性反射層が電極を兼ねる請求項5に記載の光電変換素子。
- 受光面側に位置する第1の半導体層と、
前記第1の半導体層の導電型と反対の導電型の第2の半導体層と、
前記第1の半導体層と前記第2の半導体層との間に設けられており、
前記第1の半導体層および前記第2の半導体層のバンドギャップ以上のバンドギャップを有する1以上の第1の半導体領域と、前記第1の半導体層および前記第2の半導体層のバンドギャップ以下のバンドギャップを有する1以上の第2の半導体領域と、を有する量子構造層と、
受光面とは反対側の前記量子構造層の主表面に積層され、前記受光面とは反対側に光散乱性反射構造の反射面を有する基板、および前記第2の半導体層を含む複数の層からなる積層体と、
を備え、
前記積層体の各層について、前記量子構造層に吸収される光の波長での光の吸光係数をαicm−1、各層の厚さをDicmとしたとき(i=2〜n:nは積層体における層の数)、
ΣαiDi<0.1
という関係を満たす光電変換素子。 - 前記積層体および前記基板が導電性を有し、前記基板が電極を兼ねる請求項7に記載の光電変換素子。
- 前記第1の半導体層、前記第2の半導体層および前記量子構造層がIII−V族化合物半導体で形成されている請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光電変換素子。
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