JP2013209710A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5935628B2 (ja) * 2012-09-24 2016-06-15 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法
JP6594615B2 (ja) 2014-10-06 2019-10-23 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着用マスク及びそれを用いた有機el表示装置の製造方法、並びに、蒸着用マスクの製造方法
KR101968033B1 (ko) 2015-07-17 2019-04-10 도판 인사츠 가부시키가이샤 메탈 마스크용 기재의 제조 방법, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 메탈 마스크용 기재, 및, 증착용 메탈 마스크
KR20220009499A (ko) 2015-07-17 2022-01-24 도판 인사츠 가부시키가이샤 메탈 마스크 기재, 메탈 마스크, 및 메탈 마스크의 제조 방법
WO2017014172A1 (ja) 2015-07-17 2017-01-26 凸版印刷株式会社 蒸着用メタルマスク基材、蒸着用メタルマスク、蒸着用メタルマスク基材の製造方法、および、蒸着用メタルマスクの製造方法
KR102341450B1 (ko) 2015-07-17 2021-12-21 도판 인사츠 가부시키가이샤 메탈 마스크 기재, 메탈 마스크 기재의 관리 방법, 메탈 마스크, 및, 메탈 마스크의 제조 방법
CN105220110A (zh) * 2015-10-20 2016-01-06 昆山允升吉光电科技有限公司 一种蒸镀用复合磁性掩模板的制作方法
CN108884555B (zh) * 2015-12-25 2021-02-09 鸿海精密工业股份有限公司 蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法及有机半导体元件的制造方法
JP6596106B2 (ja) * 2016-01-26 2019-10-23 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 蒸着マスクの製造方法及びその蒸着マスクを使った有機発光ダイオードの製造方法
US11233199B2 (en) 2016-02-10 2022-01-25 Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. Vapor deposition mask manufacturing method, vapor deposition mask, and organic semiconductor element manufacturing method
JP6015874B2 (ja) * 2016-05-09 2016-10-26 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法、及び蒸着マスク
CN113737128A (zh) 2017-01-31 2021-12-03 堺显示器制品株式会社 蒸镀掩模、蒸镀掩模及有机半导体元件的制造方法
JP7267762B2 (ja) 2019-02-01 2023-05-02 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスク
KR20210127810A (ko) 2019-03-15 2021-10-22 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 증착 마스크 및 증착 마스크를 제조하고 사용하는 방법들
US11189516B2 (en) 2019-05-24 2021-11-30 Applied Materials, Inc. Method for mask and substrate alignment
WO2020242611A1 (en) 2019-05-24 2020-12-03 Applied Materials, Inc. System and method for aligning a mask with a substrate
WO2020251696A1 (en) 2019-06-10 2020-12-17 Applied Materials, Inc. Processing system for forming layers
US10916464B1 (en) 2019-07-26 2021-02-09 Applied Materials, Inc. Method of pre aligning carrier, wafer and carrier-wafer combination for throughput efficiency
JP7454934B2 (ja) 2019-11-29 2024-03-25 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスク及びその製造方法
JP7445449B2 (ja) 2020-02-07 2024-03-07 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクの製造方法および製造装置
JP7391719B2 (ja) 2020-03-05 2023-12-05 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクユニットの作製方法
JP2021143358A (ja) 2020-03-10 2021-09-24 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクユニットの作製方法
JP2021143365A (ja) 2020-03-11 2021-09-24 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法
JP2021161509A (ja) 2020-04-01 2021-10-11 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクの作製方法
JP2022080753A (ja) * 2020-11-18 2022-05-30 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクの製造方法
CN112376016B (zh) * 2020-11-24 2022-08-02 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 蒸镀掩膜板组件及其制作方法
JP2023163428A (ja) 2022-04-28 2023-11-10 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスク
JP2024018694A (ja) 2022-07-29 2024-02-08 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスク

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09143677A (ja) * 1995-11-20 1997-06-03 Toppan Printing Co Ltd 透明導電膜の形成方法
JP2004043898A (ja) * 2002-07-12 2004-02-12 Canon Electronics Inc 蒸着用マスク、および有機エレクトロルミネセンス表示装置
JP4104964B2 (ja) * 2002-12-09 2008-06-18 日本フイルコン株式会社 パターニングされたマスク被膜と支持体からなる積層構造の薄膜パターン形成用マスク及びその製造方法
JP2008274373A (ja) * 2007-05-02 2008-11-13 Optnics Precision Co Ltd 蒸着用マスク
JP2009062565A (ja) * 2007-09-05 2009-03-26 Seiko Epson Corp マスク、マスクの製造方法、電気光学装置の製造方法
US7674712B2 (en) * 2007-10-22 2010-03-09 Cok Ronald S Patterning method for light-emitting devices
JP5228586B2 (ja) * 2008-04-09 2013-07-03 株式会社Sumco 蒸着用マスク、ならびにそれを用いる蒸着パターン作製方法、半導体ウェーハ評価用試料の作製方法、半導体ウェーハの評価方法および半導体ウェーハの製造方法
JP2011195876A (ja) * 2010-03-18 2011-10-06 Sumitomo Metal Mining Co Ltd メタルマスクおよびその製造方法
JP3164800U (ja) * 2010-10-05 2010-12-16 Tdk株式会社 マスク

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