JP2013206825A - 光電変換素子用多孔質酸化物半導体層及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】金属ナノ粒子が担持された多孔質酸化物半導体膜上に、酸化物半導体からなる薄膜が形成されている、光電変換素子用多孔質酸化物半導体層。当該酸化物半導体層は、例えば、基板上に、酸化チタン及び金属ナノ粒子を含むペースト組成物を塗布して金属ナノ粒子が担持された多孔質酸化物半導体膜を得た後に、酸化物半導体の前駆体を含む溶液中に浸漬することを含む方法により得られる。
【選択図】なし
Description
項1.金属ナノ粒子が担持された多孔質酸化物半導体膜上に、酸化物半導体からなる薄膜が形成されている、光電変換素子用多孔質酸化物半導体層。
項2.さらに、色素が担持されている、項1に記載の光電変換素子用多孔質酸化物半導体層。
項3.前記金属ナノ粒子は、白金ナノ粒子を含む、項1又は2に記載の光電変換素子用多孔質酸化物半導体層。
項4.前記薄膜を構成する酸化物半導体が、酸化チタンを含む、項1〜3のいずれかに記載の光電変換素子用多孔質酸化物半導体層。
項5.前記多孔質酸化物半導体膜を構成する酸化物半導体が、酸化チタンを含む、項1〜4のいずいれかに記載の光電変換素子用多孔質酸化物半導体層。
項6.項1〜5のいずれかに記載の光電変換素子用多孔質酸化物半導体層の製造方法であって、
(1)基板上に、酸化チタン及び金属ナノ粒子を含むペースト組成物を塗布して金属ナノ粒子が担持された多孔質酸化物半導体膜を得る工程、及び
(2)前記工程(1)で得た金属ナノ粒子が担持された多孔質酸化物半導体膜上を、酸化物半導体の前駆体を含む溶液中に浸漬する工程
を備える、製造方法。
項7.さらに、
(3)工程(2)で得た光電変換素子用多孔質酸化物半導体層に、色素を担持させる工程
を備える、項6に記載の製造方法。
項8.前記工程(1)において、金属ナノ粒子を含むペースト組成物中の金属ナノ粒子の含有量が、固形分中0.1〜10重量%である、項6又は7に記載の製造方法。
項9.前記工程(1)において、金属ナノ粒子を含むペースト組成物が、さらに、酸化物半導体を含有する、項6〜8のいずれかに記載の製造方法。
項10.前記工程(2)において、浸漬時間が1〜120分である、項6〜9のいずれかに記載の製造方法。
項11.基板上に、項1〜5のいずれかに記載の光電変換素子用多孔質酸化物半導体層を備える、光電変換素子用負極。
項12.項11に記載の光電変換素子用負極を備える、光電変換素子。
項13.項12に記載の光電変換素子を備える、色素増感太陽電池。
本発明の多孔質酸化物半導体層は、金属ナノ粒子が担持された多孔質酸化物半導体膜上に、酸化物半導体からなる薄膜が形成されている。
多孔質酸化物半導体膜が有する酸化物半導体としては特に制限はないが、通常光電変換素子に使用される酸化チタン等が好適に使用される。
本発明においては、金属ナノ粒子は、必ずしも上記多孔質酸化物半導体膜を被覆している必要はなく、担持(付着)していればよい。
本発明においては、金属ナノ粒子が担持された多孔質酸化物半導体膜上に、酸化物からなる薄膜を形成する。より好ましくは、金属ナノ粒子が担持された多孔質酸化物半導体膜を、酸化物からなる薄膜で被覆する。これにより、金属ナノ粒子を完全に覆わない場合であっても、リーク電流を効果的に抑制し、光電変換効率を向上させることができる。
本発明の多孔質酸化物半導体層の製造方法は、
(1)基板上に、酸化物半導体及び金属ナノ粒子を含むペースト組成物を塗布して金属ナノ粒子が担持された多孔質酸化物半導体膜を得る工程、及び
(2)前記工程(1)で得た金属ナノ粒子が担持された多孔質酸化物半導体膜を、酸化物半導体の前駆体を含む溶液中に浸漬する工程
を備える。
酸化物半導体及び金属ナノ粒子を含むペースト組成物中に含まれる酸化物半導体及び金属ナノ粒子は、上記説明したものである。
工程(1)で得た金属ナノ粒子が担持された多孔質酸化物半導体膜を浸漬させる溶液は、酸化物半導体の前駆体を含む。このような酸化物半導体の前駆体としては、工程(1)で得た金属ナノ粒子が担持された多孔質酸化物半導体膜を浸漬させた後に例えば加熱することにより酸化物半導体を形成できるものであれば特に制限されないが、例えば、水酸化チタン、ハロゲン化チタン(四塩化チタン等)、チタンアルコキシド(テトライソプロポキシチタン、テトラエトキシチタン等)、金属チタン等が挙げられる。これらのなかでも、安価に均一な酸化チタン膜を得られ、ハンドリングしやすい点から、ハロゲン化チタン、特に四塩化チタンが好ましい。
本発明においては、上記工程(2)の後、
(3)工程(2)で得た光電変換素子用多孔質酸化物半導体層に、色素を担持させる工程
を施してもよい。
上記説明した多孔質酸化物半導体層が形成された基板を、本発明の負極とすることができる。
本発明の光電変換素子は、例えば、本発明の負極上に対向電極(対極)を形成し、これら電極間を電解液で満たすことにより製造することができる。
電解液では、電解質として、ヨウ素と、ヨウ化物とを使用することが好ましい。
FTO膜付きガラス上に、ポリエステル製スクリーン印刷版(225メッシュ)を用いて、市販の酸化チタンペーストである日揮触媒化成(株)製のPST18NRDを、5ミリ角の大きさに膜厚が4μmになるまで繰り返しスクリーン印刷を行った。さらに電気炉に入れて550℃にて1時間焼成を行った。
市販の酸化チタンペーストとして、日揮触媒化成(株)製のPST18NRDを99重量%、市販の白金ペーストとして、SOLALONIX製のT/SPを1重量%、それぞれを混合し攪拌することにより白金担持用ペースト組成物を得た。
市販の酸化チタンペーストとして、日揮触媒化成(株)製のPST18NRDを99重量%、市販の白金ペーストとして、SOLARONIX製のT/SPを1重量%、それぞれを混合し攪拌することにより白金担持用ペースト組成物を得た。
四塩化チタン水溶液に浸漬する時間を10分ではなく30分とすること以外は実施例1と同様に、実施例2の負極及び光電変換阻止を得た。
白金担持用ペースト組成物として、日揮触媒化成(株)製のPST18NRDを99重量%、SOLARONIX製のT/SPを1重量%含むペースト組成物ではなく、日揮触媒化成(株)製のPST18NRDを95重量%、SOLARONIX製のT/SPを5重量%含むペースト組成物を用いたこと以外は比較例2と同様に、比較例3の負極及び光電変換素子を得た。
白金担持用ペースト組成物として、日揮触媒化成(株)製のPST18NRDを99重量%、SOLARONIX製のT/SPを1重量%含むペースト組成物ではなく、日揮触媒化成(株)製のPST18NRDを95重量%、SOLARONIX製のT/SPを5重量%含むペースト組成物を用い、また、白金担持後に酸化チタンペーストをコーティングするコーティングの時間を10分ではなく30分とすること以外は実施例1と同様に、実施例3の負極及び光電変換阻止を得た。
実施例1〜3及び比較例1〜3で作製した光電変換素子に、山下電装(株)製のソーラーシミュレーターでAM1.5(JISC8912Aランク)の条件下の100mW/cm2の強度の光を照射して、光電変換特性を評価した。
Claims (13)
- 金属ナノ粒子が担持された多孔質酸化物半導体膜上に、酸化物半導体からなる薄膜が形成されている、光電変換素子用多孔質酸化物半導体層。
- さらに、色素が担持されている、請求項1に記載の光電変換素子用多孔質酸化物半導体層。
- 前記金属ナノ粒子は、白金ナノ粒子を含む、請求項1又は2に記載の光電変換素子用多孔質酸化物半導体層。
- 前記薄膜を構成する酸化物半導体が、酸化チタンを含む、請求項1〜3のいずれかに記載の光電変換素子用多孔質酸化物半導体層。
- 前記多孔質酸化物半導体膜を構成する酸化物半導体が、酸化チタンを含む、請求項1〜4のいずいれかに記載の光電変換素子用多孔質酸化物半導体層。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の光電変換素子用多孔質酸化物半導体層の製造方法であって、
(1)基板上に、酸化チタン及び金属ナノ粒子を含むペースト組成物を塗布して金属ナノ粒子が担持された多孔質酸化物半導体膜を得る工程、及び
(2)前記工程(1)で得た金属ナノ粒子が担持された多孔質酸化物半導体膜上を、酸化物半導体の前駆体を含む溶液中に浸漬する工程
を備える、製造方法。 - さらに、
(3)工程(2)で得た光電変換素子用多孔質酸化物半導体層に、色素を担持させる工程
を備える、請求項6に記載の製造方法。 - 前記工程(1)において、金属ナノ粒子を含むペースト組成物中の金属ナノ粒子の含有量が、固形分中0.1〜10重量%である、請求項6又は7に記載の製造方法。
- 前記工程(1)において、金属ナノ粒子を含むペースト組成物が、さらに、酸化物半導体を含有する、請求項6〜8のいずれかに記載の製造方法。
- 前記工程(2)において、浸漬時間が1〜120分である、請求項6〜9のいずれかに記載の製造方法。
- 基板上に、請求項1〜5のいずれかに記載の光電変換素子用多孔質酸化物半導体層を備える、光電変換素子用負極。
- 請求項11に記載の光電変換素子用負極を備える、光電変換素子。
- 請求項12に記載の光電変換素子を備える、色素増感太陽電池。
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